JP2001525886A - 高光沢と高衝撃強さを共に持つ双峰hipsを現場製造する方法 - Google Patents

高光沢と高衝撃強さを共に持つ双峰hipsを現場製造する方法

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JP2001525886A JP55035098A JP55035098A JP2001525886A JP 2001525886 A JP2001525886 A JP 2001525886A JP 55035098 A JP55035098 A JP 55035098A JP 55035098 A JP55035098 A JP 55035098A JP 2001525886 A JP2001525886 A JP 2001525886A
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Abstract

(57)【要約】 平均粒度0.2〜0.6ミクロンのカプセル粒子と平均粒度1.2〜8.0ミクロンのセル状粒子を含有する、双峰粒度分布を有する衝撃強さが大きい高光沢ポリスチレン系樹脂を製造する連続塊状重合法。この方法は直列に配置された3つの反応ゾーンを含み、その第一反応ゾーンにスチレンとスチレン−ブタジエン共重合体が供給され、ここでその第一反応ゾーンは前(pre)−転相条件に維持され、粒子が形成されないようになっている。カプセル粒子は後(post)−転相条件に維持されている第二反応ゾーンで生成する。ポリブタジエンは、同様に後−転相条件に維持されている第三反応ゾーンに導入される。セル状形態の粒子は第三反応ゾーンで生成する。得られる双峰粒度の重合体混合物は第三反応ゾーンの後で脱揮発性成分処理に付してもよいし、或いはこの混合物を重合前に1つまたは2つ以上の仕上げ反応器中でさらに重合させることもできる。

Description

【発明の詳細な説明】 高光沢と高衝撃強さを共に持つ双峰HIPSを現場製造する方法 発明の分野 本発明は、高光沢と高衝撃強さを持つポリスチレン樹脂を連続現場プロセスで 製造する方法およびそのような組成物に関する。 発明の背景 単独重合体としてのポリスチレン樹脂は、一般に、衝撃強さに乏しい、かなり 脆い樹脂である。ポリスチレンの衝撃強さがそのポリスチレン樹脂全体にゴム状 粒子を添加、分散させることにより著しく改善できることは、以前から知られて いる。ゴム状粒子の添加で達成された、改善された強さを持つポリスチレンは、 高衝撃強さポリスチレン(high impact strength polystyrene:HIPS)と称され ることが多い。HIPS樹脂の衝撃強さには、HIPS樹脂内に分散されたゴム状粒子の 大きさとその濃度が影響を及ぼすと考えられている。 HIPSを形成するためにPSにゴム状粒子を加えると、そのポリスチレン樹脂お よびその樹脂から造られる製品の光沢が低下する傾向が出てくる。普通のHIPS樹 脂が光沢を欠いていることは、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン(ABS )樹脂のような物質に対して、ABSは一般に衝撃強さと光沢が共に高いので、欠 点となることが多い。多くの消費者用製品には、光沢と衝撃強さの両方がバラン スしていることが求められる。このような製品の例に、電話機、コンピューター 、その他の消費者用電子製品がある。 これら製品に対する衝撃強さおよび光沢以外の他の必要条件は、低コストと大 量入手性である。特に、ポリスチレン樹脂のコストは(ABSのような)代替樹脂 と競争できるものでなければならない。また、この樹脂は商業的に大量で入手で きなければならず、従って大規模製造法が実行可能でなければならない。 常用のHIPS樹脂の光沢は、粒度が大きい粒子とは対照的に、粒度が比較的小さ いゴム、即ちエラストマー粒子を用いることで改善されていた。さらに、小さい エラストマー粒子と大きなエラストマー粒子の両者を双峰粒度分布で含む樹脂は 、 良好な光沢と大きな衝撃強さを共に有することが見いだされている。例えば、米 国特許第4,282,334号、同第4,493,922号および同第5,03 9,714号明細書を参照されたい。米国特許第5,294,656号明細書に も双峰樹脂組成物が開示されている。この'656号明細書の樹脂は、平均粒度 が0.1〜0.4ミクロンであるコア/シェル構造を有する粒度の小さい粒子と 、平均粒度が0.8〜2.0ミクロンであるセル構造を有する粒度の大きい粒子 を含むスチレンマトリックスから成る。 ブルメンシュタイン(Blumenstein)等に付与された米国特許第5,334, 658号明細書には、75〜97重量%のポリスチレンと3〜25重量%の粒状 エラストマー(共)重合体から成る双峰型HIPS樹脂組成物が開示されている。こ こで、カプセル粒子の形を取る上記粒状エラストマー(共)重合体の40〜98 重量%は、平均粒度が0.1〜0.6ミクロンであり;そして残りの(共)重合 体の1〜60重量%は、粒度が0.200〜1.200ミクロンであり、かつセ ル形態を有し;また残りの(共)重合体の40〜99重量%は、平均粒度が1. 2〜8.0ミクロンで、これもセル形態を有する。ブルメンシュタイン等の組成 物は、溶融物を押出機中で混合することにより製造された。 シュレーダー(Schrader)等に付与された米国特許第5,428,106号明 細書には、90〜約55重量%のポリスチレンと10〜約45重量%のグラフト された吸蔵ジエン系ゴム粒子から成るHIPS組成物が開示されている。そのゴム粒 子は、次の: 体積平均粒度が0.1〜0.4ミクロンである、カプセル形態を有するゴム粒 子25〜約80重量%;および 体積平均粒度が0.25〜1ミクロンである、絡み合い形態を有するゴム粒子 75〜約20重量% から構成される。この米国特許の実施例には、特許請求される樹脂を連続式の直 線配置・三−攪拌機付き管型反応器系(linear three stirred tube reactor sy stem)で製造することが開示されている。 同様にシュレーダー等に付与された米国特許第5,491,195号は、上記 の米国特許第5,428,106号としての同じ親出願の分割出願である。この '195号明細書には、'106号特許で特許請求される樹脂の製造法が開示され ている。この'195号明細書には、直列に接続された三−攪拌機付き管型重合 反応器の使用が開示される。'195号明細書には、また、90〜55重量パー セントのポリスチレンと10〜約45重量パーセントのジエン系ゴム粒子をポリ スチレンマトリックス内に分散して含む組成物も開示されている。そのゴム粒子 は、次の: 体積平均粒度が0.1〜0.4ミクロンである、カプセル形態を有するゴム粒 子25〜約80重量%; 絡み合い粒子75〜約20重量%;および 体積平均粒度が約0.6〜約1.2ミクロンである、セル状形態を有するゴム 粒子1〜25重量% から構成される。 ブルメンシュタイン等の米国特許第5,334,658号明細書には、双峰HI PSの現場製造法は開示されていない。 シュレーダー等の米国特許第5,428,106号明細書には、高光沢、高衝 撃強さのスチレン樹脂の現場製造法は開示されるが、このシュレーダー等の米国 特許第5,428,106号明細書にも、また米国特許第5,491,195号 明細書にも双峰樹脂を製造するためにそのような方法を使用することは開示され ない。シュレーダー等の特許明細書に開示される樹脂の組成物は、共に、大量( 75〜約20重量パーセント)の絡み合いタイプの粒子を含んで成るものである 。シュレーダー等の'195号明細書には、その組成物中にセルタイプの粒子が 存在することも開示されるが、そのセル状粒子は体積平均粒度が約0.6〜約1 .2ミクロンのものである。 デュプレ(Dupre)に付与された米国特許第4,146,589号明細書には 、双峰HIPSを塊状重合法で製造する方法が開示されている。デュプレ特許の方法 では、第一反応ゾーンで平均直径が約0.5〜1.0ミクロンであるゴム粒子を 含有する第一の一部重合溶液が形成される。平均直径が約2〜3ミクロンである ゴム粒子を含有する第二の一部重合溶液が並行して第二の反応ゾーンで形成され る。それら第一および第二・一部重合溶液は第三反応ゾーンで一緒に混合される 。こ のデュプレの方法では2つの並列された反応器列が必要とされ、それらの反応器 列でそれらのゴム粒子がそれら2つの流れを合流させる前に形成される。デュプ レの並列反応器法では、本発明の方法より少なくとも1つの追加の反応工程が必 要である。 発明の概要 本発明によれば、非常に高い光沢と大きい衝撃強さを共に有する高衝撃強さポ リスチレンHIPS樹脂を製造する方法が提供される。本発明は、高光沢、高衝撃強 さのHIPS樹脂の製造を、異なるゴム粒度を有する2種の樹脂を製造し、次いでそ の粒度の異なる2種の樹脂をブレンドする別々の工程を用いずに可能にする「現 場」法を提供するものである。本発明は、また、連続式で大規模に容易に実施す ることもできる。本発明の条件を用いると、特定の粒度範囲と形態のタイプに関 してエラストマー粒子の双峰分布が達成されること、および得られる樹脂に高光 沢と高衝撃強さが共に達成されることが見いだされた。 本発明の方法では、衝撃強さの大きい高光沢製品を形成するのに適した、0. 2〜0.6ミクロンのカプセル粒子と1.2〜8.0ミクロンのセル状粒子(ce llular particles)を含有する樹脂が製造される。本発明の方法は、次の: a.第一スチレン単量体供給原料とスチレン−ブタジエン共重合体供給原料と を第一反応ゾーンで重合反応条件下において接触させて第一混合物を形成し; b.上記第一反応ゾーンの反応条件を、転相とカプセル粒子の形成が起こらな いように制御し; c.上記第一混合物を第二反応ゾーンで反応させてカプセル粒子を実質的な量 で形成させ、かつ第二混合物を形成し;そして d.上記第二混合物を第三反応ゾーンでポリブタジエンと反応条件下で接触さ せてセル状粒子を実質的な量で形成する 工程を含んで成る。 本発明の1つの利点は、大量製造法の多くのポリスチレン製造施設で容易に利 用可能な、連続式攪拌機付きタンク型反応器(Continuous Stirred Tank Reacto r:CSTR)、攪拌機付きタワー型反応器(Stirred Tower Reactor)、軸方向分離 型水平反応器(Axially Segregated Horizontal Reactor)および静的ミ キサー(Static Mixer)付きパイプ型反応器(Pipe Reactor)を使用できること である。CSTR反応器が本発明の方法の特に好ましい反応器である。 本発明方法のさらにもう1つの利点は、この方法では工程が最小限の数で使用 され、従って卓越した光沢と衝撃強さを有する双峰HIPS樹脂を製造するのに必要 とされる反応器と主要設備の数が最小限に抑えられることである。本発明の方法 は、高光沢、高衝撃強さを持つそのHIPS樹脂を製造するのに、極く少数の新しい 設備を用いて実施することができる。 本発明の樹脂の光沢と衝撃強さに良好なバランスを達成するには、第三反応ゾ ーンに供給されるポリブタジエンの量を、第一反応ゾーンに供給されるスチレン −ブタジエン共重合体に対して3〜30重量%とするのが好ましく、そして5〜 20重量%とするのがさらに好ましいことが見いだされた。 上記で述べた本発明の利点は、高衝撃強さと高光沢を持つHIPS樹脂を、従来の 方法によるよりもはるかに経済的に製造できるようにするものである。このより 低い製造コストは、本発明の双峰HIPS樹脂をして他の高光沢、高衝撃強さの樹脂 と競争できるコストにする。 本発明は、とりわけ、主として0.2〜0.6ミクロンのカプセル粒子と1. 2〜8.0ミクロンのセル粒子を含有する高光沢、高衝撃強さのHIPS樹脂は、連 続現場法で製造することができると言う本発明者の知見に基づく。 本発明者は、本発明の樹脂は、これを可塑剤と併用すると、特に良好な耐衝撃 特性を有する樹脂がもたらされることを見いだした。本発明において特に有用な 可塑剤は鉱油とポリブテン類である。 本発明者は、カプセル粒子の体積がエラストマー粒子の総体積の好ましくは5 0〜90%であり、かつ本発明樹脂中のセル状粒子の体積量が樹脂中の粒子の総 体積の好ましくは5〜30%、さらに好ましくは5〜20%であるとき、特に有 利な樹脂が本発明の方法により得られることを見いだした。本発明の1つのさら に好ましい態様によれば、カプセル粒子の量はエラストマー粒子の総体積の好ま しくは75〜90%であり、またセル粒子の量は樹脂中のエラストマー粒子の総 体積の好ましくは5〜15%である。本発明の樹脂中における絡み合いタイプの 粒子(entanglement type particles)の量は、エラストマー粒子の総体積に対 して20%未満、好ましくは15%未満、さらに好ましくは10%未満、なおも さらに好ましくは5%未満、最も好ましくは2%未満である。本発明者は、また 、本発明の樹脂中におけるエラストマーの総量は、好ましくは5〜20重量%、 さらに好ましくは10〜15重量%、最も好ましくは12〜14重量%であるこ とも見いだした。 発明の詳細な説明 本発明の方法は、高衝撃強さと高光沢を有する双峰HIPS組成物を形成する、ス チレンとエラストマー粒子形成性物質の連続現場重合法である。 本発明、特に第一反応ゾーンで使用するのに好ましいエラストマー形成性物質 に、スチレン−ブタジエン共重合体のようなスチレン−ジエン共重合体がある。 このスチレンとジエンとは、これらを重合させてランダム共重合体を形成するこ とができる。このスチレン−ジエン共重合体は、いわゆる「スチレンブロック共 重合体」であることができる。スチレンブロック共重合体(即ち、スチレン−ジ エンブロック共重合体)とは、ポリスチレンとポリジエンとが実質的に単独重合 体から構成されるブロック、即ちセグメントの形態で存在しているものである。 それら単独重合体セグメントは、一緒に化学的に結合されて2つ以上の単独重合 体セグメントを含む単一の重合体鎖を形成している。単独重合体セグメント間に は、単独重合体ではなく、実質的にランダム配置の両共重合体より成る領域が存 在していてもよい。この領域は「テーパー(taper)」と呼ばれるものである。 本発明の方法では、スチレン−ブタジエンジブロック共重合体が第一反応ゾーン への供給原料として使用されるのが好ましい。 本発明において、特に第二反応ゾーンへの供給原料として有用であることが見 いだされているエラストマーのもう1つの形態は、ポリブタジエンのような単な るジエン系ゴムである。前記ポリスチレンは使用前にある程度ポリジエンゴムに グラフトさせてもよいし、或いは単にその単独重合体形態で使用することもでき る。本発明で有用なゴムの1つの好ましい形態は、主としてシス配置となってい るポリブタジエンである。本発明において有用な他のポリジエンゴムにポリイソ プレンがある。 本発明の1つの好ましい方法は、3つの反応器ゾーンを直列で含み、重合度が 第一反応器から第三反応器へと増加する連続塊状重合法である。この方法に適し た反応器には、ポリスチレンの塊状重合法で典型的に使用されている多数の反応 器デザインのものがある。適した反応器の例に、連続式攪拌機付きタンク型反応 器(CSTR)、攪拌機付きタワー型反応器、軸方向分離型水平反応器および静的ミ キサー付きパイプ型反応器がある。本発明の方法に適したこれら反応器の重要な 特長として、温度制御要素、混合要素、および所定の反応器における滞留時間の 制御能が挙げられる。 本発明の方法に好ましい反応器のタイプはCSTRである。CSTRは、所定の反応器 中のレベルを調整することにより所定の反応器における滞留時間を精密に、独立 に制御することができるので有利である。かくして、重合体混合物の滞留時間は 、直列配置の反応器のそれぞれにおいて独立に調整可能かつ最適化可能である。 本発明の好ましい方法では、スチレン単量体と、エラストマー物質、好ましく はスチレン−ブタジエン共重合体が第一反応器ゾーンに供給される。重合は熱的 にまたは化学的に開始される。本発明において有用な多くの化学的開始剤が入手 可能である。本発明で有用であることが見いだされている開始剤の例に、tert− ブチルペルオキシベンゾエートおよびtert−ブチルペルアセテートがある。その 重合条件は、第一反応器ゾーンにおいて転相または個々別々のゴム粒子の形成を 妨げるように維持される。第一反応ゾーンにおける重合度(重合体に転化された 単量体の量)は3〜25%、好ましくは5〜20%、さらに好ましくは5〜15 %、最も好ましくは5〜12%である。第一反応ゾーンの重要な機能は、エラス トマーに対してスチレン単量体がグラフトする機会を与えることである。 場合によっては、第一反応ゾーン(或いは、別法として、後の反応ゾーン)に 連鎖移動剤を加えて遊離ラジカルの移動を促進するようにしてもよい。この技術 分野では、多くの連鎖移動剤が周知になっている。本発明で有用な好ましい連鎖 移動剤は、エチルベンゼン、α−メチルスチレンおよびドデシルメルカプタンで ある。本発明者は、本発明で有用な特に好ましい連鎖移動剤はテルピノレンとし て一般に知られる4−(1−メチル−1−エチリデン)−1−メチル−1−シク ロヘキセンであることを見いだした。連鎖移動剤を適切に添加すると、次の工程 で造られるカプセル粒子の大きさを制御するのを助けることができる。 第一反応ゾーンに供給されるスチレン−ブタジエン共重合体のスチレン含量は 重量で25〜50%であるのが好ましく、25〜40%がさらに好ましく、30 〜40%がそれ以上に好ましい。スチレン−ブタジエン共重合体はスチレン−ブ タジエンブロック共重合体であるのが好ましく、スチレン−ブタジエンジブロッ ク共重合体であるのがさらに好ましい。スチレン−ブタジエンジブロック共重合 体は、主として2つのブロックを含む重合体鎖を形成するために、ポリブタジエ ンのブロックとそれに化学的にグラフトされたポリスチレンのブロックより本質 的に成っている。 第一反応ゾーンからの流出液は第二反応ゾーンに流入せしめられる。第二反応 ゾーンは転相が起こる余地のないように維持される。第二反応ゾーンでは、平均 の大きさが0.2〜0.6ミクロンであるカプセル粒子が形成される。第二反応 ゾーンではカプセル粒子が実質的な量で形成される。本発明の方法で形成される カプセル粒子の少なくとも90%、好ましくは少なくとも95%、さらに好まし くは少なくとも98%、最も好ましくは少なくとも99%が、第二反応ゾーンで 形成される。カプセル粒子の粒度は、第二反応ゾーンにおける温度、攪拌速度お よび滞留時間を調節することにより制御される。第二反応ゾーンにおける重合度 は20〜55%、好ましくは25〜50%、さらに好ましくは30〜40%であ る。 第二反応ゾーンからの流出液は第三反応ゾーンに流入せしめられる。第二供給 原料流も第三反応ゾーンに供給される。第二供給原料流はエラストマーの第二供 給源となるものである。第二供給原料流はスチレン単量体中のジエン系ゴムであ るのが好ましい。第二供給原料流はポリブタジエンゴムを含んでいるのがさらに 好ましい。第二供給原料流は、(ハイ−シスポリブタジエンとしても知られる) 主としてシス配置のポリブタジエンゴムを含んでいるのが最も好ましい。本発明 の方法で形成されるセル状粒子は、第三反応ゾーンにおいて実質的な量で形成さ れる。本発明の方法で形成されるセル粒子の少なくとも85%、好ましくは少な くとも90%、さらに好ましくは少なくとも95%、最も好ましくは少なくとも 98%が第三反応ゾーンで形成される。第三反応ゾーンの条件は、形成されるゴ ム粒子が主としてセル形態のもので、1.2〜8.0ミクロンの平均粒度を有す るように制御される。第三反応ゾーンにおける重合度は40〜85%、好ましく は50〜80%、さらに好ましくは55〜70%である。 本発明者は、第一反応ゾーンへのスチレン−ブタジエン共重合体の添加速度に 対する第三反応ゾーンへのポリブタジエンの添加速度が、得られる樹脂の光沢と 衝撃強さとのバランスに著しい影響を及ぼすことを見いだした。ポリブタジエン の添加速度は、スチレン−ブタジエン共重合体の添加速度の1〜30重量%、好 ましくは3〜30重量%、さらに好ましくは5〜20重量%であるべきである。 ポリブタジエン/SB共重合体の比が大きすぎると、得られる樹脂の光沢が少な くなり、衝撃強ささえも非常に大きな割合で低下する。その比が小さすぎると、 セル粒子の欠如に起因して、得られる樹脂の衝撃強さが低下する。 第三反応ゾーンからの流出液は、これに常用の方法で脱揮発性成分処理を施し て未反応のスチレン単量体を除去するようにしてもよい。 本発明のもう1つ別の好ましい態様では、第三反応ゾーンからの流出液は、脱 揮発性成分処理前に1つまたは2つ以上の仕上げ反応器に流される。仕上げ反応 器は、重合を進行させてさらに完了に近づくように運転される。この別態様の仕 上げ反応器での重合度は70〜90%、好ましくは75〜85%である。 さらにもう1つ別の態様は、少なくとも2つの仕上げ反応器を有する態様であ る。少なくとも2つの仕上げ反応器の最後の反応器における重合度は、75〜9 0%、好ましくは82〜90%である。 本発明のもう1つの態様は可塑剤を使用するものである。本発明の方法におけ る可塑剤の使用は、得られる重合体の衝撃強さを改善するのを助ける。可塑剤は 、それが重合体と確実、十分に混合されるようにこの方法のいかなる点において も加えることができる。本発明に好ましい可塑剤に、鉱油、ポリブテン類または 鉱油とポリブテン類の両者の組み合わせがある。本発明で有用な可塑剤の量は、 製造される重合体の総重量基準で10%未満、好ましくは1〜8%、さらに好ま しくは1〜5%、最も好ましくは2〜4%である。 本発明において、平均粒度は透過電子顕微鏡法(TEM)を用いて測定される。T EMは、一部はこれら樹脂の粒度を測定するさらに一貫性のある正確な方法である ことが見いだされた。それは、レーザー光散乱法のような他の分析法は溶媒の 使用を採用するからである。溶媒はゴム粒子を膨潤させる可能性があり、或いは スチレンブロック共重合体を溶解しさえする可能性があって、それらの測定を不 正確なものにすることが見いだされている。平均粒度は当該材料の超極薄スライ ス片の透過電子顕微鏡写真を用いて求められる。粒子タイプのものの平均粒度は 別々に測定される。従って、セル粒子と単一の吸蔵粒子は全て独立に取り扱われ る。これら粒子タイプのものは、TEM画像で認め得るはっきり異なった外観を有 している。 本出願で言及される粒度の測定値は、以下において概説される測定法で求めら れる平均粒度である。本出願で議論される粒子の体積は、以下に与えられるもの のようなこの技術分野で周知の方法を用いて測定される。以下においても言及さ れる別の測定法は、本発明に示される測定には使用されなかったが、球形粒子に は効果上は同等である。 粒度の測定は、(1)当該樹脂のTEM写真上に真っ直ぐな複数本の線が入っ ている透明画(transparency)を重ね合わせ、(2)所定タイプの粒子の内部に 含まれる線分の総長さを測定し、そして(3)交差した粒子の数を数えることに より達成される。このプロセスを、合理的に良好な統計的な平均を与えるのに要 するだけの、多数の線について繰り返す。次いで、次式: を用いて平均粒度を計算する。この方法は球形でない粒子についてもその平均粒 度を与える。 平均粒径を測定する別法は、上記の方法と同様であるが、粒子が球形であると 仮定するものである。この方法は、所定の粒子タイプの粒子500個について、 その粒子分布を超極薄試験片の透過電子顕微鏡写真(1枚または複数枚)から測 定することを含む。粒度のヒストグラムを作り、次いで次式: (式中、niは大きさDiを有する軟質粒子の数である。) を用いて平均粒径を計算する。 これらの測定法についての文献は、テクブックス社(Techbooks)、1968 年刊行のR.T.デホッフ(R.T.Dehoff)およびF.N.ラインズ(F.N.Rh ines)著・定量的顕微鏡法(Quantitative Microscopy)である。 材料を特徴付ける追加のパラメーターは、セル粒子の形を取るエラストマーの 百分率としての体積(または体積分率)(VCell)と、カプセルの形を取るエラ ストマーの百分率としての体積(VCap)である。これらの値は、体積分率=面積 分率=線分率=点分率という立体解析学の原理を用いて、TEM画像の画像分析に より最も便利に測定される。かくして、当該試料中のセルの体積分率(VCell,T )およびカプセルの体積分率(VCap,T)が各々独立に得ることができる。TEM画 像からこれらの量(VCell,TおよびVCap,T)を得る方法の詳細は、例えばデホッ フおよびラインズの立体解析学に関する標準的な教科書に記載されている。ここ で、 VCell,T=V'Cell/VTおよびV'Cap,T=V'Cap/VT である。但し、上記の式において、 V'Cellは試料におけるセル粒子の実際の体積であり、 V'Capは試料におけるカプセル粒子の実際の体積であり、そして VTは試料の全体積である。 このとき、セル粒子対カプセル粒子の体積比(R)はVCell,T/VCap,Tとなり、 これはV'Cell/V'Capと同じである。従って、 R=VCell,T/VCap,T=V'Cell/V'Cap である。エラストマーは実際上全てセル粒子とカプセル粒子を製造する際に使い 果たされたから、エラストマーの総体積はV'Cell+V'Capである。セル粒子の形を 取るエラストマーの体積分率は、従って; VCell=V'Cell/(V'Cell+V'Cap)=R/(1+R) である。これに対応して、カプセル粒子の形を取るエラストマーの体積分率は: VCap=V'Cap/(V'Cell+V'Cap)=1/(1+R) である。 実施例 実施例1 40/60スチレン−ブタジエン共重合体を11.7重量%の濃度でスチレン 単量体中に溶解、含有する溶液を、攪拌機付きタンク型反応器に連続供給した。 その反応器に入る流れとその反応器から出る流れは等しく、そしてそのレベルは 平均滞留時間が1.5時間となるように保たれた。第一CSTRへの供給原料に連鎖 移動剤を加えた。反応器の温度は120℃に保たれた。第一CSTRからの、得られ た、まだ転相を起こしていない流出溶液を第二CSTRに連続供給して、133℃の 温度および平均滞留時間1.5時間において転相させた。次に、第二CSTRからの 流出液を、140℃で運転され、平均滞留時間が1.3時間である第三CSTRに供 給した。この第三CSTRに、スチレン単量体に15重量%の濃度で溶解されたポリ ブタジエンゴムから成るもう1つの供給原料流れを加えた。添加速度は、第三CS TR中に加えられるポリブタジエン供給原料が、第一CSTR中に加えられたポリブタ ジエンの24%となるような速度であった。重合は第四CSTR中で85〜90%ま で続けられた。この第四CSTR中に鉱油を、最終HIPS中で3.5重量%となる量で 加えた。残留単量体を常用の方法を用いて除去した。 得られたHIPS樹脂の性質を表1に示す。 実施例2 実施例1を繰り返したが、第三CSTRに加えられる第二供給原料流れの添加速度 を、第三反応器中に加えられるポリブタジエンが第一CSTR中に加えられたポリブ タジエンの48%となるように増加させた。 得られたHIPS樹脂の性質を表1に示す。 表1 性質 実施例1 実施例2 ブタジエン (重量%) 8.7 10.0 鉱油 (重量%) 3.5 3.5 メルトフロー g/10分 4.3 3.9 アイゾット衝撃強さ フィート-ポンド/インチ 2.0 2.4 光沢 % 101 99 反射曇り度 % 56 76 平均粒度 カプセル粒子 ミクロン 0.4 0.4 セル粒子 ミクロン 1.5 1.9
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE, DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,IT,L U,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ,CF ,CG,CI,CM,GA,GN,ML,MR,NE, SN,TD,TG),AP(GH,GM,KE,LS,M W,SD,SZ,UG,ZW),EA(AM,AZ,BY ,KG,KZ,MD,RU,TJ,TM),AL,AM ,AT,AU,AZ,BA,BB,BG,BR,BY, CA,CH,CN,CU,CZ,DE,DK,EE,E S,FI,GB,GE,GH,HU,ID,IL,IS ,JP,KE,KG,KP,KR,KZ,LC,LK, LR,LS,LT,LU,LV,MD,MG,MK,M N,MW,MX,NO,NZ,PL,PT,RO,RU ,SD,SE,SG,SI,SK,SL,TJ,TM, TR,TT,UA,UG,UZ,VN,YU,ZW

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1. 衝撃強さの大きい高光沢製品を形成するのに適した、0.2〜0.6ミク ロンのカプセル粒子と1.2〜8.0ミクロンのセル状粒子を含有する樹脂を製 造する方法にして、次の: a.第一スチレン単量体供給原料とスチレン−ブタジエン共重合体供給原料と を第一反応ゾーンで重合反応条件下において接触させて第一混合物を形成し; b.該第一反応ゾーンの反応条件を、転相とカプセル粒子の形成が起こらない ように制御し; c.該第一混合物を第二反応ゾーンで反応させてカプセル粒子を実質的な量で 形成し、かつ第二混合物を形成し;そして d.該第二混合物を第三反応ゾーンでポリブタジエンと反応条件下で接触させ てセル状粒子を実質的な量で形成する 工程を含んで成る、上記の方法。 2. 前記ポリブタジエンを第三反応ゾーンに前記スチレン−ブタジエン共重合 体が第一反応ゾーンに供給される速度の1〜30重量%で供給する、請求の範囲 第1項に記載の方法。 3. 前記の第一、第二および第二反応ゾーンが連続式攪拌機付きタンク型反応 器から成る、請求の範囲第1項に記載の方法。 4. 前記セル状粒子が前記樹脂中の総粒子体積に対して5〜30体積%を占め る、請求の範囲第1項に記載の方法。 5. 前記カプセル粒子が前記樹脂中の総粒子体積に対して50〜90体積%を 占める、請求の範囲第1項に記載の方法。 6. 前記樹脂が総重量基準で80〜90%のポリスチレンを含んでいる、請求 の範囲第1項に記載の方法。 7. 第三反応ゾーンからの流出液を重合条件下で第四反応ゾーンに供給する、 請求の範囲第1項に記載の方法。 8. 第四反応ゾーンからの流出液を重合条件下で第五反応ゾーンに供給する、 請求の範囲第7項に記載の方法。 9. 第四反応ゾーンからの流出液が25重量%未満の未反応スチレン単量体を 含んでいる、請求の範囲第7項に記載の方法。 10.第五反応ゾーンからの流出液が20重量%未満の未反応スチレン単量体を 含んでいる、請求の範囲第8項に記載の方法。 11.前記樹脂が総重量基準で1〜5%のポリブテン類を含んでいる、請求の範 囲第6項に記載の方法。 12.前記樹脂が総重量基準で1〜5%の鉱油を含んでいる、請求の範囲第6項 に記載の方法。 13.前記スチレン−ブタジエン共重合体がスチレン−ブタジエンブロック共重 合体である、請求の範囲第1項に記載の方法。 14.前記スチレン−ブタジエン共重合体がスチレン−ブタジエンジブロック共 重合体である、請求の範囲第13項に記載の方法。 15.前記樹脂が20体積%未満の絡み合い粒子をさらに含んでいる、請求の範 囲第4項に記載の方法。 16.前記樹脂が5体積%未満の絡み合い粒子をさらに含んでいる、請求の範囲 第4項に記載の方法。 17.衝撃強さの大きい高光沢製品を形成するのに適した、0.2〜0.6ミク ロンのカプセル粒子と1.2〜8.0ミクロンのセル状粒子を含有する樹脂にし て、次の: a.第一スチレン単量体供給原料とスチレン−ブタジエン共重合体供給原料と を第一反応ゾーンで重合反応条件下において接触させて第一混合物を形成し; b.該第一反応ゾーンの反応条件を、転相とカプセル粒子の形成が起こらない ように制御し; c.該第一混合物を第二反応ゾーンで反応させてカプセル粒子を実質的な量で 形成し、かつ第二混合物を形成し;そして d.該第二混合物を第三反応ゾーンでポリブタジエンと反応条件下で接触させ てセル状粒子を実質的な量で形成する 工程で製造される、上記の樹脂。 18.前記セル状粒子が粒子の総体積の5〜30%を構成する、請求の範囲第1 7項に記載の樹脂。 19.前記樹脂が15体積%未満の絡み合い粒子をさらに含んでいる、請求の範 囲第18項に記載の方法。 20.前記ポリブタジエンを第三反応ゾーンに、前記スチレン−ブタジエン共重 合体が第一反応ゾーンに供給される速度の5〜20重量%で供給する、請求の範 囲第1項に記載の方法。
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