JP2001522283A

JP2001522283A - シェービングシステム及びホイル

Info

Publication number: JP2001522283A
Application number: JP54661598A
Authority: JP
Inventors: パックハム，チャールズ，シー．; クリクトン，トレヴァー，ジョン
Original assignee: ブラウンゲーエムベーハー
Priority date: 1997-04-30
Filing date: 1998-04-30
Publication date: 2001-11-13
Also published as: EP0983131B1; US20010027609A1; ATE197928T1; DE69800422D1; WO1998048983A1; EP0983131A1; CN1254304A; CN1116966C; HK1027778A1; DE69800422T2

Abstract

(57)【要約】シェービングカッター（１１１）は、凸状の楕円領域（１１６ａ）及び双曲線領域（１１６ｂ）を有する皮膚係合表面（１１６）を含む。楕円領域は、放物線の移行領域（１１７）に沿って、双曲線領域に結合する。好適には、表面領域のうちの少なくとも１つは、穿孔されている。加えて、凹状の放物線裾部領域（１１４）は双曲線領域から垂れ下がってもよく、一方、凸状の放物線裾部領域（１１５）は楕円領域から垂れ下がってもよい。シェービングカッターを製造する方法もまた、記載されている。

Description

【発明の詳細な説明】シェービングシステム及びホイル技術分野本発明は、シェービングカッター例えばホイル、シェービングシステム、及びシェービングカッターを電気鋳造する方法に関する。背景技術「数学のＶＮＲコンサイス百科事典」の第２版（ＩＳＢＮ０−４４２−２０５９０−２）５６８及び５６９頁において説明されているように、点Ｐでの曲面のガウス（Ｇａｕｓｓｉａｎ）曲率が値ｋ（Ｐ）を有するならば、次の３つのケースは区別される：すなわち、１．ｋ（Ｐ）＞０、点Ｐが楕円と呼ばれるとき；２．ｋ（Ｐ）＜０、点Ｐが双曲線と呼ばれるとき；及び３．ｋ（Ｐ）＝０、点Ｐが放物線と呼ばれるときである。この形式的な分類は、表面形状に近接した連結部を有する。例えば、円環面上で内側に向かう点は双曲線であり、外側に向かう点は楕円である。これら２組の点は、放物線の点から成る２つの円によって互いに分離される。楕円体は楕円の点だけを有し、鞍部表面は双曲線の点だけを有し、環状の円筒は放物線の点だけを有する。この明細書において、便宜的に、楕円の点を含んでいる表面領域を楕円表面領域と呼び、双曲線の点だけを含んでいる表面領域を双曲線表面領域と呼び、放物線の点だけを含んでいる表面領域を放物線表面領域と呼ぶ。振動ドライシェーバーのための従来のシェービングホイルは、ほとんど必ず放物線表面だけを提供する。例外は、楕円表面を有するホイルを記述するＪＰ−Ａ −７−６４６（日本国特許出願第５−１４３０９３号）である。ベース部材は、レジストを金属の平らなシートに塗布し、レジストをパターニングした後に金属シートを延伸プロセスにより金属シートを変形することにより形成される。この方法は、初めの平らなシートが過度に変形され、レジスト層にクラッキングが生じるという事実によって制限される。本出願人自身の出願によるＷＯ９３／１９８８７は、シェーバーのために孔あきホイルを製造する方法が記述され、可撓性電気絶縁基体上に支持された薄い金属ホイルは、パターニングされた後、電着又は無電界法により厚さを付与される。記述された金属ホイルをパターニングする１つの方法は、電気シェーバーホイルのパターンの写真アートワークを使用し、ホトレジストを露光、現像する前に、電気泳動によりフィルムをコーティングすることを伴う。ホトレジストの現像後に露出される金属は、硫酸及び過酸化水素の溶液内でにおいて除去される。次いで残っているフォトレジストは除去され、金属パターンが形成された可撓性絶縁基体が残る。本明細書は、この技術を複雑な三次元形状の電鋳に適用する提案は含まない。本明細書において、「シェービングカッター」の表現は、ホイルと見なすのに十分薄いか否かに関わらず、ホイルのようなカッターを示すために使用される。いつも剃られる人体の表面領域は一般に曲がっていて平坦でないが、既知のシェービングシステムは曲がった表面のために最適化されていない。本発明の目的は、シェービングカッター例えばホイル、及び人体の湾曲部位を剃るのにより適合したシェービングシステムを提供することである。発明の開示本発明の第一の局面によれば、凸状の楕円領域及び双曲線領域を有する皮膚に係合する表面を含むシェービングカッターが提供される。好適には、楕円領域は、滑らかに双曲線領域と結合する。１つの実施形態において、凹状放物線の裾部領域は双曲線領域から垂れ下がり、凸状放物線の裾部領域は楕円領域から垂れ下がる。好適には、凹状及び凸状の裾部領域は、同心である。カッターはさらに、楕円領域及び双曲線領域で滑らかに結合する一対の凸状楕円端部の頬部を備えていてもよい。本発明の第二の局面によれば、放物線又は楕円である凸状の第一の領域、放物線又は双曲線である第二の領域及び第一及び第二の領域が滑らかに結合する第一及び第二の凸状楕円端部ゾーンを提供する皮膚係合表面を有するシェービングカッターが提供される。それぞれの裾部領域は、第一及び第二の領域の各々から垂れ下がってもよい。上記実施形態の何においても、第一及び第二の領域は、好適には穿孔されている。裾部領域が提供される所で、これらはまた穿孔されていてもよい。所望により、裾部領域は、細長い髪捕獲スロットを備えていてもよい。本発明の第３の局面によれば、シェービングカッターは、第一の曲がった皮膚係合表面領域と、第二の曲がった皮膚係合表面領域とを備え、第二の表面領域は第一の表面領域と継ぎ目なく結合するシェービングカッターが提供され、第一の表面領域が第一の曲率半径で凹部を形成する第一の曲線に沿って第一の表面領域を横切り、かつ、第二の表面領域が第一の曲率半径より大きい第二の曲率半径で凸部を形成する第二の曲線に沿って第二の表面領域を横切る断面が存在する。本発明の第４の局面によれば、シェービングカッターは、２つの直交する湾曲平面を有し１つの平面で凹部を形成する第一の表面領域と、２つの直交する湾曲平面を有し両平面で凸部を形成する第二の表面領域とを備え、第一の表面領域は第二の表面領域と継ぎ目なく結合している。本発明の第５の局面によれば、前記第一、第二、第三、第四の局面によるアウターカッターと、アウターカッターに適合しアウターカッターの下で振動するように取り付けられたアンダーカッターと、前記振動運動をアンダーカッターに与える駆動手段を備える。本発明の第６の面によれば、電気鋳造によるシェービングカッターの製造方法が提供され、ａ）電気泳動フォトレジストのコーティングを、非ゼロガウス曲面を有し導電性を有する基体に電流を印加することによりこの基体に施す工程と、ｂ）基体の形状にほぼ従うマスクを通して、フォトレジストが適当な電磁放射線源に露光される工程と、ｃ）フォトレジストが現像される工程と、及びｄ）フォトレジストで覆われていない基体の導電性表面領域に金属層が電着される工程とを含む。図面の簡単な説明発明をより理解するために、添付の図面を参照して、本発明をさらに詳細に説明する。図１は、複数のディメンションに曲がったシェーバーホイルを示す概略等大図である。図２は、図１のシェーバーホイルを示す平面図である。図３は、図１及び２のシェーバーホイルを示す側面図である。図４は、Ｚ−Ｚ線に沿った断面図である。図５は、ホイルの曲がった各側面にトリマーが設けられたシェーバーホイルの平面図を示す。図６は、図５のシェーバーホイルの側面図を示す。図７は、図５のシェーバーホイルの側面図を示す。図８は、図１〜３のシェーバーホイルの曲面を組み入れたシェーバーヘッドを示す等大分解図である。図９は、アンダーカッターの動きを示す図８のシェーバーヘッドの底面図である。図１０は、曲がった端部側面を有する直線状シェーバーホイルを示す。図１１は、図１０のＡ−Ａ線に沿った縦方向の断面図である。図１２は、図１１のＢ−Ｂ線に沿った断面図である。図１３は、シェーバーユニットの各々が直線状である３つのヘッドを備えたシェーバーヘッドデザインを示す。図１４は、図１３のＹ−Ｙ線に沿った縦方向の断面図である。図１５は、図１４のＺ−Ｚ線に沿った断面図である。図１６は、３つのシェーバーユニットを有し、そのうち１つは曲がったヘッドであるシェーバーヘッドを示す。図１７は、図１６のシェーバーヘッドを示す側面図である。図１８は、図１７のＺ−Ｚ線に沿った断面図である。図１９は、３つのシェーバーユニットを有し、そのうち２つは曲がったヘッドであるシェーバーヘッドをさらに示す。図２０は、図１９のシェーバーヘッドの側面図である。図２１は、図２０のＺ−Ｚ線に沿った断面図である。図２２は、本発明の他の実施形態によるシェーバーホイルの分解図を示す。図２３は、図２２のシェーバーホイルの組立てられた等大図を示す。図２４〜２６は、ホイルマスク製造プロセスにおける３つのステップ（工程）を示し、図２４は形づくられたマンドレルを示し、図２５は図２４のマンドレル上に必要なホイルパターンのエッチングを示し、図２６はマンドレル上にマスクを電気鋳造するステップを示す。図２７は、図２６に示されるように形成されたホイルマスクの透視図を示す。図２８は、図１及び２のシェーバーホイルを形成するために使用するマンドレルの等大図を示す。図２９は、電気鋳造された部材を有する図２８のマンドレルの等大図を示す。図３０は、図２８のマンドレルをフォトレジストでコーティングする装置を示す。図３１は、マスクを通してフォトレジストを露光する装置を概略的に示す。図３２は、フォトレジストを現像する装置を示す。図３３は、マンドレルの露出部分に金属層を電着させる装置の概略図である。発明を実施するための最良の形態曲がった「バナナ形」にシェーバーホイルを製造することは、特に人体の曲がった部位におけるシェービング効果を増大することが今や認められた。「バナナ形」の利点は、シェーバーホイルが人体、特にわきの下や足の領域の異なる輪郭を剃るために使用できる凹面及び凸面を有すると同様に、その長さ方向に沿って曲がっていることである。より正確には、形状は、平らな、凹状の及び凸状のシェービング表面を提供する連続的に変化する表面湾曲の輪郭を提供する。従って、特にわきの下、足、首、顎骨及び上唇のような難しい領域において、人体の輪郭に適合する改良された能力を提供し、改良されたシェービング性能を与える。数学的に言えば、ホイルは、表面の点が楕円である第一の領域及び表面の点が双曲線である第二の領域を有する。表面の凹部及び凸部は、顔の特別な領域に部分的に最適化されるホイル開口形状を可能にする。ホイルはまた、曲がった「バナナ形」の有無に関わらず、「包み込む」端部頬部を備えても良く、これによりシェービングの快適さを提供する。ここで、図１〜３を参照すると、バナナ形状のホイル１１１は、閉じた凸状の楕円端部頬部１１２及び１１３を有して示されている。図１に示すように、ホイル１１１は頂部表面１１６を含み、これは第一の領域１１６ａ及び第二の領域１１６ｂにライン１１７によって想像上で分割される。第一の領域１１６ａにおける全ての点は楕円であるのに対し、第二の領域１１６ｂにおける全ての点は双曲線である。２つの領域１１６ａ及び１１６ｂは、ライン１１７で一致する放物線の点のラインに沿って、滑らかに継ぎ目なく一緒に結合する。凸状の第一の側裾部１１５は、第一の領域１１６ａから垂れ下がり滑らかに継ぎ目なく結合するのに対し、凹状の第二の側裾部１１４は第二の領域１１６ｂから垂れ下がり滑らかに継ぎ目なく結合する。第一及び第二の側裾部の点は、放物線状である。放物線状の端裾部１１８及び１１９は、それぞれの端頬部１１２及び１１３に滑らかに継ぎ目なく結合し、従って互いに結合する側裾部１１４及び１１５にも滑らかに継ぎ目なく結合する。頂部表面１１６は、細長でない開口を有し、開口の寸法は慣用のシェーバーホイルでは、例えば４００〜８００ｍｍの直径を有する。同心の凹状及び凸状の側面裾部１１４及び１１５はまた、従来のサイズの髪を受容する開口を備えていてもよい。しかしこれらは、より長い髪の改良された捕獲のために、細長い髪の捕獲スロットを備えていてもよい。そのような細長いスロットは、代表的には２０００ｍｍ（最大値）×２００ｍｍ（最小値）の寸法を有してもよい。ホイルは、１片の部材から電鋳によって製造され、そのベースは開口している。その形状のために、ホイルは長さ方向に弓形のバナナのような中心線（センターライン）を有し、ホイルはドーナツ状の一部であってもよい。ドーナツ状の一部が使用される所で、環状の中心線は５０ｍｍの半径を有してもよい。トロイドの本体は、単一のホイルデバイスについて、便宜的に約１２ｍｍの直径を有してもよい。これらの寸法は、５６ｍｍのトロイドの外径を与える。この外径は、約２０ｍｍ未満であってはならない。図４は、ホイルを通した断面図を示し、曲がったアンダーカッター４１を可能とし、その駆動手段４２が見られる。これらの部材は、図８及び図９に関して更に詳細に記述される。図５は、曲がったホイル１１１がその凸状側面裾部に曲がったトリマー５１がどのように設けられるか、さらに、凹状の側面裾部に曲がったトリマがどのように設けられるかについて示す。凹状の裾部上のトリマ５２は、図６の側面図でより明らかに見える。図７を参照すると、ホイル、アンダーカッター４１及び２つのトリマ５１及び５２を通した断面図が示される。図７に概略的に示すように、トリマ５１及び５２は本質的に既知の方法において伸張性があり、かつ矢印７１の方向に格納できる。図８は、図１〜４において示されるシェーバーヘッドの部品の分解等大図を示す。ホイル１１１は、直立した側壁８２を有するベースプレート８１に受容され支持される。ホイル内には、それぞれコイルスプリング８５及び８６によってアンダーカットベースプレート８４上に取り付けられた弓形のアンダーカッター８３を備えている。各ベースプレート８１及び８４は、アンダーカッター８３に係合して必要な振動運動をする駆動ピンが延びて貫通する中央開口を有する。駆動運動が実現される方法は、図９により良好に示されている。図９は、図８のシェーバーヘッド８０を通る断面図を示す。図示するように、曲がったアンダーカッター８３はベースプレート８３１に取り付けられた羽根８３２を有し、駆動スロット９１はベースプレート８３１を横断して延びる。カム駆動ピン９２は、駆動スロットに係合し、矢印９３で示すように回転し、従って、キャリア８３１及びアンダーカッターは矢印９４及び９５の方向に往復運動する。図１０〜１２は、放物線状のシェービング表面及び閉じた楕円状の端部頬部１０１、１０２を有する直線状シェービングホイル１００を含む、本発明の改良された実施形態を示す。図１１は、図１０のＡ−Ａ線に沿った長さ方向の断面図を示す。図１１は、実質的に従来の方法で構成されたアンダーカッター１１８を示す。図１２は、図１１のＢ−Ｂ線に沿った断面図である。図１３〜１５は、３つのシェービングユニット１３１、１３２及び１３３を有するシェービングヘッドを示す。より小さい直径を除いて、各シェービングユニット１３１、１３２は、図１０〜１２に示すデザインによって構成され、一方、中央シェービングユニット１３３は既知のデザインによるロングヘアーカッターである。シェービングユニット１３１及び１３２は、通常短い髪を剃るために構成される。図１６〜１８は、３つのシェービングユニット１６１、１６２及び１６３を含む他のシェービングシステムを示す。シェービングユニット１６１は、図１０〜１２のデザインに従って構成され、一方、シェービングユニット１６２は、図１、４、８及び９のデザインに従って構成される。各シェービングユニット１６１及び１６２は、比較的短い髪を剃るために設計される。しかし、中央のシェービングユニット１６３は、より長い髪を切断するために設計される。曲がったショートヘアーユニット１６２の形状に従うために、ユニット外側のカッターの羽根が各端部に向かって延長されている点で、カッター１６３はより長い髪用の既知のカッターと異なる。しかし、アンダーカッターは、直線的に往復運動するために駆動される。図１９〜２１は、３つのシェービングユニットを含む他の実施形態を示し、２つの外側のユニット１９１及び１９２は各々図１〜４、８及び９に示すデザインに従って構成され、長い髪を剃る中央のユニット１９３は２つのショートヘアーカッター1９１及び１９２に適合するために採用されるアウターカッターの形状を有する。再び、ユニット１９３のアンダーカッターは直線的に往復運動するために駆動される。しかし、弓形のアンダーカッター及び弓形の経路上の動きも可能である。図２２及び２３は、図１〜４のホイルの変形例を表すホイル２８１を示し、端面頬部１１２及び１１３は省略され、ホイル２８１は端部が解放されている。これにより、幾分構造的な堅牢性は減少する。従って、ホイル２８１の側面裾部に開口２８５、２８６を結合するために、側面の突起２８３、２８４を有する合成プラスチック材料のフレーム２８２に、ホイルが取り付けられる。上述のホイルは別個な側面裾部１１４、１１５、頂部領域１１６及び（どこかに提供される）端部領域１１２、１１３で示されているが、側面裾部１１４、１１５が頂部領域１１６とは別であることは重要でない点に留意する必要がある。ホイルが中心線の長さ方向に垂直な断面の半円であることも、等しく可能である。図１〜２３に示す整形されたホイルは、図２４〜３３に示す電気鋳造方法を使用して構成してもよい。電気鋳造されたシェービングホイルは、次のステップによって調製される：（ａ）図３０の装置を使用して通電し、非ゼロＧａｕｓｓｉａｎ曲面の導電性表面を有する図２８のマンドレル２６１のような整形された基体に、電気泳動フオトレジストのコーティングを施す。（ｂ）図２７により詳細に示されマンドレルの形状に近い形状のマスク２４２を介し、例えば図３１の装置を使用して、フォトレジストは適当な電磁放射源に露光される。（ｃ）続いて、例えば図３２の装置を使用して、フォトレジストは現像される。及び（ｄ）例えば図３３の装置を使用して、マンドレルのフォトレジストがコーティングされていない導電性表面領域に、金属層が電着される。写真画像マスクを介してフォトレジストを露光するフォトリソグラフィを使用する試みが成されてきたが、非ゼロＧａｕｓｓｉａｎ曲面を有する複雑な表面を電気鋳造することは、以前は困難であった。しかし、従来のフォトレジストは、通常液体として適用され、従って、フォトレジストの局部的な連続性は、ほとんど又は全く制御されない。これは二次元の平らな表面では満足できるかもしれないが、フォトレジストが複雑な三次元形状に適用される場合には、困難を引き起こす。現在のドライフィルムフォトレジストは、複雑な形状表面上への適用には適していない。この問題は、電気泳動のフォトレジストの使用によって取り扱うことができる。そのようなレジストは、電流を流すことによってマンドレルに適用することができる。また、フォトレジストは基体に堅固に付着するだけでなく、均一な厚さも実現する。フォトレジストは非電導性であるので、厚さは自己制御式である。したがって、必要な厚さが達成されるとき、通電は終了し、堆積プロセスは制止される。それにもかかわらず厚さは、溶液温度、電流密度、電圧及び堆積時間の調整によって、制御されてもよい。従ってこのようなフォトレジストは、マンドレルの形状にかかわりなくマンドレル全体を均一な厚さのフィルムでコーティングする利点を有する。電気泳動のフォトレジストは、フォトレジスト溶液に浸漬される２つの電極間に電流を流すことによって、基体に施される。電極の１つは、コーティングされる基体であり、陽極でも陰極でもよい。フォトレジストフィルムの厚さ及び連続性は、適用される時間の長さ及び電圧に影響を受ける。時間が長すぎると、ガスの気泡の発生により膜は多孔質となり、時間が短すぎると、膜は完全に形成されず再び多孔質となる。しかし、フォトレジストが正しく堆積するならば、従来のフォトレジストより改良された接着性を持つ均一な厚さの細孔のないコーティングが提供される。更により詳細に図面を参照すると、図３０は導電性のロッド２で支持された三次元のマンドレル２６１を示す。図３１は、マンドレル２６1、マスク２４２及び透明キャップ４を示す。三次元のマンドレル２６１は、ステンレス鋼から２次元又は３次元に曲がった所望の形状に機械加工される。電気鋳造により堆積される表面は、欠陥を除去するために研磨される。黄銅又は適当な他の材料は、マンドレルの代わりに使用できる。また、導電性表面被覆例えば薄い銀コーティングを備えたプラスチック材料で作られていてもよい。マスク２４２は、銅又は他の適当な成形し易い金属例えば銀から製造されてもよい。あるいは、マスクは適当なマンドレル上に真空成型によってポリエステル層を形成してもよい。好適にはパースペックスであるキャップ４は、後述する露光工程において、マスクを受容するマンドレル２６１の形状に正確に適合する内部キャビティを有する。電気鋳造されるホイルを製造する１つのプロセスは、図３０〜３３を参照して概説される。陽極及び陰極電気泳動のフォトレジストは、共に入手できる。ここで、成形された表面のマンドレル２６１を、電気泳動のフォトレジスト、例えばＬＶＨコーティング社（Ｃｏｌｅｓｈｉｌｌ、バーミンガム、英国）によって製造されるＤＶ−１９１（商標名）で陰極的にコーティングされる。マンドレルにフォトレジストの良好な接着性を確保するために、適当な前処理ステップが使用され、例えば酸洗浄剤及び水洗試薬が使用される。次いで、フォトレジストは、図３０の装置を使用して適用される。カソードとして結合されたマンドレル２６１及び２つのアノード２１は、ウォーターバス２４中に保持されたタンク２３内の電気泳動フォトレジスト２２中に浸漬される。フォトレジストは光に敏感なので、フォトレジストの貯蔵及びフォトレジスト基体に施す全ての操作は、和らげられた照明の中で実行されなければならないと認められる。次いで、コーティングされたマンドレルは、水洗試薬で完全に水洗され乾燥される。フォトレジストが乾燥され冷却された後、キャップ４内で保持されている予め成形された銅又はポリエステルマスク２４２は、図３１に示すように、マンドレル２６１上に配置される。組立は、適当な放射線、例えばライトボックス３２内の光源３１からの紫外光を、フォトレジストが完全に露光されるように照射することによって処理される。ライトボックス及びマンドレルが所望領域全体を同時に露光される設計となっていない場合は、マンドレルをひっくり返して再露光することが必要である。照射ステップの後、マスク及びキャップはマンドレルから取り外される。次いでフォトレジストは、図３２に示すように現像され、三次元のマンドレル上にマスクの詳細な負のフォトレジスト像が生成される。現像の後、マンドレルは再びすすぎ洗いされ、次いで高い温度で処理される。処理はまた、適当な電磁放射線源に照射することによって達成される。フォトレジストの現像に続く全操作は、通常の照明下で実施できる。フォトレジストの現像層が施されたマンドレルは、電気鋳造する前に前処理をしなければならず、引き続いて堆積されたニッケル層が良好で、ニッケルがフォトレジストによって与えられたパターンに十分に従い、マンドレルから容易に分離されることを確実にする。開放の容易さは、例えば重クロム酸塩又は他の酸化剤を使用して表面不動態化処理を施し、又は浸漬し、又は電気分解の前処理を行うことにより達成される。前処理に続いて、金属層は、図３３に示すような適当な電解液５１を使用して、マンドレル上に電気鋳造される。ホイルマスクの製造は、図２４、２５及び２６に示されるステップに関して記述される。最終的な電気鋳造における所定寸法の開口例えばシェーバーホイルの髪捕獲開口を形成するのが望ましい場合、マスク内の対応する開口は、必要な最終寸法より幾分大きくしなければならない。１００μｍの厚さのシェービングホイルを作る場合、マスク開口は最終製造物の所望寸法より約２００μｍ大きくすべきであることが分かる。例えば、直径６００μｍのシェービングホイル開口を形成するためには、８００μｍのマスク開口直径が必要である。ホイルにおける開口に関しては、そのサイズは多くのファクターに依存し、このファクターは、開口の目的(すなわちシェービング又はロングヘアトリミング) ；ひげ剃りにいくつのシェービングヘッド（ホイル）が存在するか；ホイルの形状、サイズ及び厚さ；及び皮膚に貫通するのを制限し動いているアンダーカッターの刃が接触するのを防ぐ付加的な保護部材が使用できるかを含む。開口サイズの選択は、妥協によって行われ、穴が大きくなればなるほど、髪（望ましい）及び皮膚（望ましくない）を『捕らえる』ことは困難となる。残念なことに、大きいが必然的により少し穴は、切断動作が起こる開口バーの数が減少するため、切断効率は劣る結果となる傾向にある。従って開口は、予期される最も長い髪を収容するために大きくなければならないが(例えば２４時間の髪の成長は４００〜６００ミクロン)、特にホイルが薄いか又はすり切れているとき、より過大な皮膚貫通に終わるか、各カッター動作の間に利用できる切断動作を著しく減少するので、開口は余りに大きくてはならない。より現実的には、最大及び最小の開口寸法、例えば２．０×０．２ｍｍは、不規則なシェービング開口パターンであるため不合理な限界ではなく、直径０．６ｍｍに向かう傾向がより均一な形状となる。より過大な皮膚の貫通を防ぐために『保護された』ロングヘアカッティング開口のために、サイズを制限する必要は、決定的なものではない。おそらく、主要な考察は、開口幅（カッターの動き方向）を確保することであり、この開口幅は、カッター刃に関連して、カッティング動作を提供する利用できる開口バーの数を著しく減少するほど大きくはない。したがって、最小開口寸法は普通のシェービング開口と同様であるが、外見上の長さは２．０ｍｍを上回る。図２４を参照すると、マスクマンドレル２２２は、ステンレス鋼又はプラスチック原料のような適当な材料から作られる。ステンレス鋼でできているとき、表面は電気泳動のフォトレジストを適用するので、高度に反射する欠陥−自由表面を与えるために研磨すべきである。次に、６つの軸テーブルを備えたエキシマレーザは、フォトレジストに必要なマスクのパターン２３１を除去するために使用され(図２５)、銅マスクが電気鋳造される、露光されたステンレス鋼を含む必要なマスクパターンが得られる。マスクがプラスチック材料である時、それはフラッシュ銀コーティングを備えている。必要なパターンは、必要なマスクと同様に、銀から負のパターンを除去することによって作製され、導電性の銀のパターンを残す。一旦パターンがエッチングされると、図２６に示すように、マンドレルがベースプレート２４１に支持され、マンドレルのエッチングされた表面上に必要なマスク２４２が電気鋳造される。マンドレルが銀コーティングを備えたプラスチック材料の部位で、電気鋳造物がパターン化された銀層上に堆積されると認められる。マンドレルが電気泳動のフォトレジストで覆われたステンレス鋼である部位で、マスクパターンはステンレス鋼表面の露光された部分の上に堆積される。図２６もまた、２４３で切断されたマスクの一端が示されており、マンドレルの表面上にマスク材料積み重ねられていることを示す。マンドレルがステンレス鋼である場合、次のステップによってマスクを電気鋳造により調製できる：１．１「Ｓｔｕｒｃａｌ」(商標名)チョークで軽く擦りむく；１．２脱イオン水ですすぐ；１．３冷酸クリーナーに３０秒間浸ける；１．４脱イオン水で３０秒間すすぐ；１．５冷アルカリクリーナーに３０秒〜３分間浸ける；１．６脱イオン水で３０秒間すすぐ；１．７冷酸クリーナーに６０秒間浸ける；１．８脱イオン水で３０秒間すすぐ。マンドレルが銀スプレーされたプラスチック材料である場合、「Ｓｔｕｒｃａｌ」(商標名)で擦りむくことは行わない。これは、擦りむくことが除去されたパターンの完全性を崩壊させるかもしれないためである。柔らかいクリーニングだけが可能であるので、銀コーティングはできるだけ汚染物がないように保つことを確実にすることに注意しなければならない。これは、次のステップによって達成できる：２．１マンドレルを冷アルカリクリーナーに３０秒〜２分間浸ける；２．２マンドレルを脱イオン水で３０秒間すすぐ；２．３マンドレルを冷酸クリーナーに２０秒間浸ける；２．４マンドレルを脱イオン水で３０秒間すすぐ。両方の場合において、マンドレルを５％の重クロム酸カリウム溶液に浸すことによって、利益が得られる。この処理は、マンドレルから電気鋳造が分離するのを容易にする不動態化層を提供する。次いで、マスク２４２は、以下のように電気鋳造できる。マンドレル上の良好な金属分布を確実にするために、電気鋳造時にマンドレルを鉛直軸の周りに回転することが有益であることに注意されたい。電気鋳造は、次のステップによって実行される：３．１弱い酸電気鍍金溶液から、銅のパターンを電気鋳造し、酸電気メッキ溶液は硫酸銅（ＩＩ）２００ｇ／ｌ、塩化銅（ＩＩ）１０ｇ／ｌ、硫酸（ＳＧ１．８４）３０ｍｌ／ｌを含み、室温で陰極電流密度５５ｍＡ／ｃｍ²で４０分間電気鋳造する；３．２電気鋳造物を脱イオン水中で３０秒間すすぐ；３．３マンドレルから電気鋳造物を剥離する。マスク２４２の調製に続いて、第２の磨かれたマンドレル２６１が、図３０の装置を使用して電気泳動フォトレジストを適用することにより、以下に記載するステップのように調製される：４．１「Ｓｔｕｒｃａｌ」(商標名)研摩剤チョークのスラリーで擦ることによって、マンドレル２６１を清浄にする；４．２脱イオン水で３０秒間すすぐ；４．３２０〜６５°で６０〜１８０秒間、好適には６０°で２分間マンドレルを熱アルカリクリーナー（例えば「Ｎｅｕｔｒａｃｌｅａｎ」(商標名)）に浸ける；４．４マンドレルを３０秒間すすぐ；４．５２０〜３０℃で１５〜１８０秒間、好適には２０℃で１分間マンドレルを冷酸クリーナーに浸ける；４．６マンドレルを３０秒間すすぐ；４．７２５〜４０℃で６０〜１８０秒間、好適には２８℃で１分間マンドレルを「ＲｉｎｓｅＡｉｄ」(商標名)に浸ける；４．８２５〜４０℃で６０〜１８０秒間、好適には２８℃で１分間マンドレルを「ＰｅｒｍｅａｔｅＲｉｎｓｅ」(商標名)に浸ける；４．９２０〜６０℃、好適には２５℃で６０秒間マンドレルを「ＤＶ−１９１」(商標名)電気泳動フォトレジスト２２に浸す；４．１０アノード２１とカソードとしてのマンドレル２６１との間に、３０Ｖの電圧で３０Ａを４５秒間印加する；(この処理の間、電流は約０．０〜０．２Ａまで減少することに注意されたい。）４．１１２５〜４０℃で５〜１８０秒、好適には２８℃で１０秒間コーティングされたマンドレル２６１を「ＰｅｒｍｅａｔｅＲｉｎｓｅ」(商標名)に浸ける；４．１２２５〜４０℃で５〜１８０秒間、好適には２５℃で１０秒間マンドレルを「ＲｉｎｓｅＡｉｄ」(商標名)に浸ける；４．１３脱イオン水でマンドレルを３０秒間すすぐ；４．１４６０〜１４０℃で１０〜３０分間、好適には１３０℃で２０分間オーブンで乾燥する；４．１５マンドレルを放冷する。図３１に示すように、図２４〜２６に記載された方法によって製造されたマスク２４２は、次にＰｅｒｓｐｅｘキャップ４に取り付けられ、フォトレジストに紫外線照射により完全に露光するのに十分な時間、ライトボックス３２〜の光源３１から紫外光を全体に露光する前に、フォトレジストでコーティングされたマンドレル２６１に適用される。次いで、露光されたフォトレジストは、現像される。このプロセスは、次のステップに従って実行される：５．１コーティングされたマンドレル２６１は、１３５０ｍＪ／ｃｍ²を達成するのに十分な時間、マスク２４２を介して紫外線が３６５ｎｍで露光される；５．２図３２に示すように、２０〜５０℃、好適には２６℃でマンドレルパターンを「Ｄｅｖｅｌｏｐｅｒ」(商標名)４１内で開口パターンがちょうど見えるまで現像する；要した時間を記録し、同じ時間浸漬を続ける；５．３マンドレル及びフォトレジストを脱イオン水で完全にすすぐ；５．４１６０〜２００℃で２０〜３０分間、好適には１８０℃で２５分間フォトレジストを硬化する；５．５放冷する；５．６ステップ５．４及び５．５に代わりに、フォトレジストはそれ以上の硬化を達成するために、十分なエネルギー密度を達成するのに十分な時間、紫外線を露光することができる；図２７は、ホイル開口パターン２４３を有するマスク２４２を示す。図２８は、フォトレジストがコーティングされ研磨され、マスク２４２を受容する準備ができたマンドレル２６１を示す。現像されたフォトレジスト層を有するマンドレル２６１は、続いて以下のように電気鋳造される：６．１研摩剤チョーク（例えば「Ｓｔｕｒｃａｌ」(商標名)）のスラリーで擦ることによって、マンドレルを清浄にする；６．２マンドレルを脱イオン水中で３０秒間すすぐ；６．３ステップ４．５の場合のように、マンドレルを冷酸クリーナー中に浸す；６．４脱イオン水中でマンドレルを３０秒間すすぐ；６．５ステップ１．５の場合のように、マンドレルをアルカリクリーナー中に浸す；６．６マンドレルを脱イオン水中で３０秒間すすぐ；６．７ステップ４．５の場合のように、マンドレルを冷酸クリーナー中に浸す；６．８マンドレルを脱イオン水中で３０秒間すすぐ。次に、電気鋳造操作は、図３３の装置を使用して実行される。図３３は、導電体ロッド２上のカソードとしてのマンドレル２６１、アノード５２、ヒーター５３及び攪拌機５４を示し、これらは全てタンク５５内に収容されている電解液５１中に保持されている。最終的な電気鋳造物のマンドレルからの分離は、電気鋳造操作の前に浸漬ステップを含めることによって容易となる。浸漬ステップは、可溶性の重クロム酸塩又は他の適当な酸化性溶液中の化学薬品かあるいは電気化学薬品でもよい。ヘッドの電気鋳造は、６０℃のスルファミド酸ニッケル浴中、カソード電流密度３０ −６０ｍＡ／ｃｍ²で９０〜１８０分間実施される。電気鋳造操作に続いて、図２９に示されるように、シェービングホイル２７１がマンドレル上で家伊勢される。次いで、電気鋳造物はマンドレルから取り外されてアンダーカッターアッセンブリに取り付けられ、上述したシェービングシステムが形成される。不動態化前処理プロセスは、マンドレルからホイルを取りはずす操作を容易にする。電気鋳造金属の膨張係数と異なる膨張係数を有するマンドレルを使用することは、有益である。一旦電気鋳造物が生成すると、異なる膨張又は収縮率を有する電気鋳造物及びマンドレルは、そのままで加熱又は冷却されことにより、マンドレルから電気鋳造物が離れるのが助けられ、分離が容易となる。厚さの分布は、所望により、電気鋳造時に電流密度分布を均一にするために、研磨の使用により変更又は改善することができる。代わりに、適当なマスクによりマンドレルをスクリーンして、電気鋳造時に電流分布を均一にすることもできる。三次元の電気鋳造物の成功は、適当なマンドレルを製造すること及び適当なマスクの製造に依存する。マスクは、バーの幅が最終生産物のそれより小さい。さらに、マスクはマンドレルから容易に取り外し可能でなければならない。比較的単純な三次元の形状のために、従来の写真アートワークがマスクとして使用できたが、形状が複雑である場合、必要な形状のためにこのアートワークを折り畳む又は曲げることは不可能である。このような場合に、マスクは成形し易い金属、好適には銅、銀、金、白金、パラジウム、ビスマス、カドミウム、インジウム、鉛、タリウム、スズ又は亜鉛で形成してもよく、次いで、曲げられ、引き出され又は他の機械的な成形によって、所望の形状に調製される。正確で紫外線に影響されないマスクが開発されることができるならば、他のタイプのマスク例えばペイント又はインキも使用することができ、又はポリエステルマスクはマンドレル上に真空成形によって製造できる。上記の方法に使用するために、次の原料は、示される供給元から入手してもよい：原料供給元１）Neutradean（商標名） Shipley社２）RinseAid（商標名） LVHCoatings社３）PermeateRinse（商標名） LVHCoatings社４）DV−１９１（商標名） LVHCoatings社５）現像剤 LVHCoatings社６）Sturcal（商標名） RhonePoulenc社Ｎｅｕｔｒａｃｌｅａｎ（商標名）は、本質的にナトリウムメタ重亜硫酸塩水溶液の商標品名である。Ｒｉｎｓｅ（商標名）は、乳酸を含んだエマルジョン安定化剤のための商標名である。ＤＶ−１９１（商標名）は、１−メトキシ−２−プロパノールエチレングリコールｎ−ヘキシルエーテル、アセトン及び乳酸を含んだ電気泳動フォトレジストの商標名である。「現像剤」は、ＤＶ−１９１（商標名）の製造業者によって供給される現像剤であり、フォトレジストと共に使用される。Ｓｔｕｒｃａｌ（商標名）は、超微細な沈降炭酸カルシウムの商標名である。上述の議論に基づいて、当業者は上述のデバイス及び方法の種々の変形や代替を当然に案出するであろう。次の請求の範囲の範囲内での全て変形や代替は、本明細書の主題である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＣＮ，ＪＰ，ＵＳ

Claims

【特許請求の範囲】１．凸状の楕円領域（１１６ａ）及び双曲線領域（１１６ｂ）を有する皮膚係合表面（１１６）を含むシェービングカッター(１１１)。２．前記楕円領域は、前記双曲線領域と滑らかに結合する請求項１に記載のシェービングカッター。３．前記楕円領域は、放物線移行領域（１１７）に沿って前記双曲線領域と結合する請求項２に記載のシェービングカッター。４．表面領域の少なくとも１つが穿孔されている前記請求項のいずれか１項に記載のシェービングカッター。５．凹状の放物線裾部領域（１１４）は、双曲線領域から垂れ下がる前記請求項のいずれか１項に記載のシェービングカッター。６．凸状の放物線裾部領域（１１５）は、楕円領域から垂れ下がる前記請求項のいずれか１項に記載のシェービングカッター。７．凹状及び凸状の裾部領域は、同心である請求項５又は６に記載のシェービングカッター。８．前記又は各裾部領域は、穿孔されている請求項５〜７のいずれか１項に記載のシェービングカッター。９．前記又は少なくとも１つの裾部領域は、細長い髪捕獲スロットを備えている請求項８に記載のシェービングカッター。１０．楕円及び双曲線領域とそれぞれ滑らかに結合する一対の凸状楕円端部頬部（１１２、１１３）をさらに含む前記請求項のいずれか１項に記載のシェービングカッター。１１．放物線又は楕円である凸状の第一領域、放物線又は双曲線である第二領域、及び前記第一領域及び第二領域に滑らかに結合する第二の凸状楕円ゾーンを有する皮膚係合表面を含むシェービングカッター。１２．裾部領域は、第一及び第二の領域の少なくとも１つから垂れ下がる請求項１１に記載のシェービングカッター。１３．前記表面領域の少なくとも１つは、穿孔されている請求項１１に記載のシェービングカッター。１４．前記又は少なくとも１つの裾部領域は、穿孔されている請求項１３に記載のシェービングカッター。１５．前記又は各穿孔された裾部領域は、細長い髪捕獲スロットを有する請求項１４に記載のシェービングカッター。１６．第一の曲がった皮膚係合表面領域と、第二の曲がった皮膚係合表面領域と、前記第一の表面領域と継ぎ目なく結合する第二の表面領域とを含み、前記第一の表面領域が第一の曲率半径で凹部を形成する第一の曲線に沿って前記第一の表面領域を横切り、かつ、前記第二の表面領域が第一の曲率半径より大きい第二の曲率半径で凸部を形成する第二の曲線に沿って前記第二の表面領域を横切る断面が存在するシェービングカッター。１７．２つの直交する湾曲平面を有し１つの平面で凹部を形成する第一の表面領域と、２つの直交する湾曲平面を有し両平面で凸部を形成する第二の表面領域とを含み、第一の表面領域は第二の表面領域と継ぎ目なく結合するシェービングカッター。１８．前記アウターカッターに適合しアウターカッターの下で振動するように取り付けられたアンダーカッターと、前記振動運動をアンダーカッターに与える駆動手段とを含む前記請求項のいずれか１項に記載のシェービングシステム。１９．前記アウターカッターは弓形の長さ方向の中心線を有し、前記アンダーカッターはこれに対応した弓形である請求項１８に記載のシェービングシステム。２０．少なくとも第一及び第二のシェービングユニットを備え、その少なくとも１つは、請求項１〜１７のいずれか１項に記載のアウターカッター及びこれに対応するアンダーカッターを含む請求項１８又は１９に記載のシェービングシステム。２１．前記シェービングユニットの少なくとも２つは、請求項１〜１７のいずれか１項に記載のアウターカッター及びこれに対応するアンダーカッターを含む請求項２０に記載のシェービングシステム。２２．電気鋳造によるシェービングカッターの製造方法であって、ａ）電気泳動フォトレジストのコーティングを、非ゼロガウス曲面を有し導電性を有する基体に電流を印加することによりこの基体に施す工程と、ｂ）基体の形状にほぼ従うマスクを通して、フォトレジストが適当な電磁放射線源に露光される工程と、ｃ）フォトレジストが現像される工程と、及びｄ）フォトレジストで覆われていない基体の導電性表面領域に金属層が電着される工程とを含む方法。２３．前記基体は、ステンレス鋼である請求項２２に記載の方法。２４．前記基体は、導電性表面コーティングを有するプラスチック材料部材である請求項２２に記載の方法。２５．前記マスクは、延長されていない複数の開口を備える請求項２２〜２４のいずれか１項に記載の方法。２６．前記開口は、それぞれ６００〜８００ミクロンの直径を有する請求項２５に記載の方法。２７．前記マスタは、延長された複数の開口を備える請求項２２〜２６のいずれか１項に記載の方法。２８．前記開口は、長さ４００〜２２００μｍ及び幅４００〜８００μｍを有する請求項２７に記載の方法。２９．金属層は、変化するリリーフパターンを有する請求項２２〜２８のいずれか１項に記載の方法。３０．前記マスクは、延性のある金属例えば銅である請求項２２〜２９のいずれか１項に記載の方法。３１．前記金属層は、基体の剥離又は分解により基体から分離される請求項２２〜３０のいずれか１項に記載の方法。３２．請求項２２〜３１のいずれか１項に記載の方法を使用する三次元電気鋳造マスクの製造方法であって、レーザーを使用するエッチングにより導電性表面パターンを形成する工程を含む方法。３３.前記導電性表面パターンは、フォトレジストを導電性基体コーティングし、レーザーを使用してフォトレジストの部分を選択的に除去することにより形成する請求項３２に記載の方法。３４．前記導電性表面パターンは、導電層を電気的絶縁基体にコーティングし、レーザーを使用して導電層の部分を選択的に除去することにより形成する請求項３２に記載の方法。３５．前記コーティングは、電気鋳造により所望厚さで施される請求項３４に記載の方法。３６．前記エッチング工程は、電気鋳造を使用する厚膜化工程の後に行われる請求項３４又は３５に記載の方法。３７．前記コーティングは、前記基体から除去される請求項３４、３５又は３６に記載の方法。