JP2001521808A - 複合ポリアミド膜の性能向上処理 - Google Patents
複合ポリアミド膜の性能向上処理Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 高められたフラックスと低下した塩通過をもつ逆浸透膜を提供する。
【解決手段】 複合ポリアミド逆浸透膜を２００−１０，０００ｐｐｍ濃度の水性塩素化剤で、フラックスを改良し、塩通過を低下させ、塩基に対する安定性を増大するに足る時間処理する。好ましい態様では塩素処理の前に膜を４０−１００℃の温度で加熱水で処理する。
Description
【０００１】
本発明は複合ポリアミド逆浸透膜の処理に関する。より具体的には、本発明は
塩水の精製に用いられるポリアミド膜の膜を通る水のフラックスを高め且つ塩通
過を低下させるための処理に関する。また本発明の膜処理は塩基にさらした際の
それらの抵抗性を改善する。
塩水の精製に用いられるポリアミド膜の膜を通る水のフラックスを高め且つ塩通
過を低下させるための処理に関する。また本発明の膜処理は塩基にさらした際の
それらの抵抗性を改善する。
【０００２】
逆浸透膜の使用は分離すべき混合物のある種の成分の選択的通過を可能にする
これら膜の能力に基いている。海水等の塩水の精製では、水を加圧下に逆浸透膜
の一方の表面と接触させて供給溶液中の塩の通過を最小限に抑えて膜を通しての
水の効果的な透過を行う。 塩水逆浸透膜の効能は、主に水の高フラックスと低い塩通過の組合せで決まる
が、水に含まれている不純物や添加物による化学的攻撃に対する抵抗性にも依存
する。塩素に長期間さらすと膜の分解が起こり、その結果それを用いた水精製プ
ロセスにおける膜が使用不能になることはよく知られている。膜に対する塩素の
影響が膜の化学構造に依存することもよく知られている。これは塩素がポリマー
と反応する多くの異なる反応部位をもつポリアミド膜では特に真実である。
これら膜の能力に基いている。海水等の塩水の精製では、水を加圧下に逆浸透膜
の一方の表面と接触させて供給溶液中の塩の通過を最小限に抑えて膜を通しての
水の効果的な透過を行う。 塩水逆浸透膜の効能は、主に水の高フラックスと低い塩通過の組合せで決まる
が、水に含まれている不純物や添加物による化学的攻撃に対する抵抗性にも依存
する。塩素に長期間さらすと膜の分解が起こり、その結果それを用いた水精製プ
ロセスにおける膜が使用不能になることはよく知られている。膜に対する塩素の
影響が膜の化学構造に依存することもよく知られている。これは塩素がポリマー
と反応する多くの異なる反応部位をもつポリアミド膜では特に真実である。
【０００３】 水の精製に用いる膜はまた広範な酸及び塩基条件、即ちｐＨ、のもとで操作さ
れまたさらに過酷な条件下で周期的な洗浄に供される。これらの洗浄は微生物の
付着物を除きまた他のコロイド状物質及び粒状物質を除くために高いｐＨで行わ
れる。長期間の塩基安定性も非常に望ましい特性である。超純水系等の多くの用
途においてできるだけ高いｐＨで操作することが望ましいが、それは高いｐＨで
は、溶解しているホウ素及びシリカ含有化合物もしくは錯体及び有機炭素含有化
合物等の水中の他の溶質の透過が顕著に低いからである。
れまたさらに過酷な条件下で周期的な洗浄に供される。これらの洗浄は微生物の
付着物を除きまた他のコロイド状物質及び粒状物質を除くために高いｐＨで行わ
れる。長期間の塩基安定性も非常に望ましい特性である。超純水系等の多くの用
途においてできるだけ高いｐＨで操作することが望ましいが、それは高いｐＨで
は、溶解しているホウ素及びシリカ含有化合物もしくは錯体及び有機炭素含有化
合物等の水中の他の溶質の透過が顕著に低いからである。
【０００４】 ポリアミド膜は逆浸透法に広く用いられている。米国特許第４，２７７，３４
４号には多孔質支持体上にポリアミド弁別層をもつ種々の膜が開示されており、
その開示を参考としてここに組み込む。これらの膜はメタフェニレンジアミン等
の２官能性芳香族アミンとトリメソイルクロリド及び１，３，５−シクロヘキサ
ントリカルボニルクロリド等の３官能性芳香族アシルハライドと所望により２官
能性アシルハライドとの界面重合によって好ましく製造される。これらの膜は米
国特許第４，５２０，０４４号及び同４，６０６，９４３号にも開示されており
、それらの開示もここに参考として組み込む。
４号には多孔質支持体上にポリアミド弁別層をもつ種々の膜が開示されており、
その開示を参考としてここに組み込む。これらの膜はメタフェニレンジアミン等
の２官能性芳香族アミンとトリメソイルクロリド及び１，３，５−シクロヘキサ
ントリカルボニルクロリド等の３官能性芳香族アシルハライドと所望により２官
能性アシルハライドとの界面重合によって好ましく製造される。これらの膜は米
国特許第４，５２０，０４４号及び同４，６０６，９４３号にも開示されており
、それらの開示もここに参考として組み込む。
【０００５】 膜の性能を高めるための処理も多くの特許に開示されている。即ち上記の米国
特許第４，２７７，３４４号には、膜の性能を高めるために用いた次亜塩素酸塩
の濃度に基き、ｐＨ８−９にて、次亜塩素酸塩等の塩素放出剤の溶液でポリアミ
ド膜を後処理する方法が開示されている。米国特許第５，０５１，１７８号には
塩排除と水フラックスの改良のためにアミンと特定のトリアミンの混合物を縮合
して得たポリアミドに基くある種の薄層ポリアミド複合膜をｐＨ６−１３にて塩
素又は塩素発生化剤で処理する方法が開示されている。米国特許第４，７６１，
２３４号には１のモノマーとしてトリアミノベンゼンを用いた薄層ポリアミド複
合膜を、塩排除を犠牲にして膜のフラックスを改良するために、ｐＨ１０．３に
て残留塩素含有水溶液で処理する方法が開示されている。
特許第４，２７７，３４４号には、膜の性能を高めるために用いた次亜塩素酸塩
の濃度に基き、ｐＨ８−９にて、次亜塩素酸塩等の塩素放出剤の溶液でポリアミ
ド膜を後処理する方法が開示されている。米国特許第５，０５１，１７８号には
塩排除と水フラックスの改良のためにアミンと特定のトリアミンの混合物を縮合
して得たポリアミドに基くある種の薄層ポリアミド複合膜をｐＨ６−１３にて塩
素又は塩素発生化剤で処理する方法が開示されている。米国特許第４，７６１，
２３４号には１のモノマーとしてトリアミノベンゼンを用いた薄層ポリアミド複
合膜を、塩排除を犠牲にして膜のフラックスを改良するために、ｐＨ１０．３に
て残留塩素含有水溶液で処理する方法が開示されている。
【０００６】
上記の従来技術では、酸化剤、特に塩素放出剤での膜の処理でポリアミド膜の
フラックスは改良されるが、膜のある種の性能特性を通常犠牲にすることがわか
る。生成膜の塩基に対する安定性を含むポリアミド複合膜の性能特性に対する塩
素処理のｐＨ又は塩基度の重要性を示した従来例はない。 それ故、フラックスと塩排除（ｒｅｊｅｃｔｉｏｎ）の両者の改良をもたらす
ポリアミド膜の処理方法の開発が望ましい。 本発明の更なる目的は塩通過の増加を伴うことなく極めて高い塩基性条件下に
操作可能な逆浸透膜を提供することにある。 本発明の更なる目的は水中の塩以外の不純物に関し優れた性能を示す膜を提供
することにある。
フラックスは改良されるが、膜のある種の性能特性を通常犠牲にすることがわか
る。生成膜の塩基に対する安定性を含むポリアミド複合膜の性能特性に対する塩
素処理のｐＨ又は塩基度の重要性を示した従来例はない。 それ故、フラックスと塩排除（ｒｅｊｅｃｔｉｏｎ）の両者の改良をもたらす
ポリアミド膜の処理方法の開発が望ましい。 本発明の更なる目的は塩通過の増加を伴うことなく極めて高い塩基性条件下に
操作可能な逆浸透膜を提供することにある。 本発明の更なる目的は水中の塩以外の不純物に関し優れた性能を示す膜を提供
することにある。
【０００７】
本発明によれば、制御された、高いｐＨ、時間及び濃度の条件下に、使用前の
ポリアミド膜を塩素含有溶液で処理することによって、改良されたフラックス、
低い塩通過及び塩基に対する増大した安定性をもつ逆浸透ポリアミド複合膜が得
られる。さらに具体的には本発明の上記目的は、ｍ−フェニレンジアミン（ＭＰ
Ｄ）とトリメソイルクロリド（ＴＭＣ）を界面重合して得たポリアミドからなる
逆浸透複合膜を１０．５以上のｐＨにて２００−１０，０００ｐｐｍの次亜塩素
酸塩イオン溶液で室温にてフラックスの増大と塩通過の低下の両方を達するに足
る時間、通常１０分−５時間の範囲の時間、処理することによって達成される。
驚くべきことに、１０．５以上のｐＨで処理した膜はそれより低いｐＨで処理し
た膜に比し塩基に対しずっと長期間の安定性を示し、未処理膜に比し優れたフラ
ックスと塩通過特性を十分に維持することが判明した。
ポリアミド膜を塩素含有溶液で処理することによって、改良されたフラックス、
低い塩通過及び塩基に対する増大した安定性をもつ逆浸透ポリアミド複合膜が得
られる。さらに具体的には本発明の上記目的は、ｍ−フェニレンジアミン（ＭＰ
Ｄ）とトリメソイルクロリド（ＴＭＣ）を界面重合して得たポリアミドからなる
逆浸透複合膜を１０．５以上のｐＨにて２００−１０，０００ｐｐｍの次亜塩素
酸塩イオン溶液で室温にてフラックスの増大と塩通過の低下の両方を達するに足
る時間、通常１０分−５時間の範囲の時間、処理することによって達成される。
驚くべきことに、１０．５以上のｐＨで処理した膜はそれより低いｐＨで処理し
た膜に比し塩基に対しずっと長期間の安定性を示し、未処理膜に比し優れたフラ
ックスと塩通過特性を十分に維持することが判明した。
【０００８】 フィルムテック社からＦＴ−３０膜又はエレメントの商品名で市販されている
ような、ＭＰＤとＴＭＣの界面重合によって得られる逆浸透膜の性能特性が次亜
塩素酸イオンの形の塩素に制御された暴露をすることによって有利に変化するこ
とが判明した。特に未処理膜に比し、増大したフラックスと低下した塩通過をも
つ膜を製造することができる。
ような、ＭＰＤとＴＭＣの界面重合によって得られる逆浸透膜の性能特性が次亜
塩素酸イオンの形の塩素に制御された暴露をすることによって有利に変化するこ
とが判明した。特に未処理膜に比し、増大したフラックスと低下した塩通過をも
つ膜を製造することができる。
【０００９】 これは平坦シート形状や素子（エレメント）形状の、支持体上に形成させた膜
を少なくとも１０．５のｐＨにて次亜塩素酸塩溶液と接触させることによって達
成できる。最適の暴露時間は用いた温度と次亜塩素酸塩の濃度に依存する。室温
で上記目的を達成する条件は、通常１０分−５時間及び塩素として測定した次亜
塩素酸塩濃度２００−１０，０００ｐｐｍである。好ましい次亜塩素酸塩濃度は
５００−７，０００ｐｐｍであり、好ましい暴露時間は３０分−３時間である。
を少なくとも１０．５のｐＨにて次亜塩素酸塩溶液と接触させることによって達
成できる。最適の暴露時間は用いた温度と次亜塩素酸塩の濃度に依存する。室温
で上記目的を達成する条件は、通常１０分−５時間及び塩素として測定した次亜
塩素酸塩濃度２００−１０，０００ｐｐｍである。好ましい次亜塩素酸塩濃度は
５００−７，０００ｐｐｍであり、好ましい暴露時間は３０分−３時間である。
【００１０】 上記の処理でもたらされる性能特性（フラックス、塩通過、塩基安定性）は主
にｐｐｍ−時間、処理時間と濃度の積に依存する。しかし、処理中に起こる多重
競争反応により、時間と濃度は、膜の性能に対するそれらの効果に関し単純には
交換できず、最適な組合せは実験によって得る必要がある。これは処理条件依存
性のより大きい塩基安定性の改良ではより真実である。
にｐｐｍ−時間、処理時間と濃度の積に依存する。しかし、処理中に起こる多重
競争反応により、時間と濃度は、膜の性能に対するそれらの効果に関し単純には
交換できず、最適な組合せは実験によって得る必要がある。これは処理条件依存
性のより大きい塩基安定性の改良ではより真実である。
【００１１】 本発明の好ましい態様において、膜は本発明の塩素処理前に熱処理に供される
。膜を水中にて４０−１００℃にて３０秒−２４時間加熱する。この熱処理によ
り塩通過がさらに低くなりまた塩素処理の有利な結果を妨害しうる膜中に含まれ
る不純物が除去される。使用意図に応じ、上記２つの処理条件は、いずれか１方
の処理をこえてフラックスを改良するか又は維持しながら塩通過を改良するよう
に、上記範囲内で調節される。膜の熱処理を塩素処理と同時か又はそれより後に
行うと、膜の熱処理を最初に行いその後に塩素処理を行うことによって得られる
改良効果は得られない点で、２つの処理を行う順序は重要である。
。膜を水中にて４０−１００℃にて３０秒−２４時間加熱する。この熱処理によ
り塩通過がさらに低くなりまた塩素処理の有利な結果を妨害しうる膜中に含まれ
る不純物が除去される。使用意図に応じ、上記２つの処理条件は、いずれか１方
の処理をこえてフラックスを改良するか又は維持しながら塩通過を改良するよう
に、上記範囲内で調節される。膜の熱処理を塩素処理と同時か又はそれより後に
行うと、膜の熱処理を最初に行いその後に塩素処理を行うことによって得られる
改良効果は得られない点で、２つの処理を行う順序は重要である。
【００１２】 本発明で用いるポリアミド膜はＭＰＤとＴＭＣの界面重合で得られる膜である
。ＭＰＤとＴＭＣは基本成分であり、追加のジアミンやジ酸ハライドを用いうる
。これらのジアミン及びジ酸ハライドは米国特許第４，２７７，３７７号に開示
されており、その内容を参考としてここに加える。通常、追加のジアミン及びジ
酸ハライドはポリアミドのジアミン及び酸成分それぞれの４０％以下、好ましく
は、１０％以下を構成する。
。ＭＰＤとＴＭＣは基本成分であり、追加のジアミンやジ酸ハライドを用いうる
。これらのジアミン及びジ酸ハライドは米国特許第４，２７７，３７７号に開示
されており、その内容を参考としてここに加える。通常、追加のジアミン及びジ
酸ハライドはポリアミドのジアミン及び酸成分それぞれの４０％以下、好ましく
は、１０％以下を構成する。
【００１３】 本発明を制限する意図はないが、本発明の改良効果は、塩素とポリマーとの競
争反応及び塩素化が起こった塩素化ポリマー鎖の更なる反応の結果であると思わ
れる。塩素化機構は公知文献（たとえばＧｌａｔｅｒ等の「Ｄｅｓａｌｉｎａｔ
ｉｏｎ」９５（１９９４）３２４−３４５及びそこに引用されている文献参照）
に記載されているので、ここでは省略する。従って上記のフラックス及び塩通過
及び塩基安定性の所望の改良を達成する上でポリアミドの構造は重要である。
争反応及び塩素化が起こった塩素化ポリマー鎖の更なる反応の結果であると思わ
れる。塩素化機構は公知文献（たとえばＧｌａｔｅｒ等の「Ｄｅｓａｌｉｎａｔ
ｉｏｎ」９５（１９９４）３２４−３４５及びそこに引用されている文献参照）
に記載されているので、ここでは省略する。従って上記のフラックス及び塩通過
及び塩基安定性の所望の改良を達成する上でポリアミドの構造は重要である。
【００１４】
【実施例】 次に本発明を実施例で例証するが、これらは本発明を制限するものではない。 例１： １平方ｍ当り約６０ｇの水を含有するポリスルホン支持体を２．５重量％のＭ
ＰＤ中に浸漬し、米国特許第４，２７７，３４４号に記載されているように、約
０．１重量％のＴＭＣと界面重合によって反応させた。次いでこの膜を３．５重
量％のグリセリン浴に浸漬し、１対のローラを通して過剰の流体を除き、８５℃
の温度で約５分間オーブン乾燥した（同じ膜は「Ｆｉｌｍ Ｔｅｃ」８０７２０
素子としても市販されている）。得られた支持体つき逆浸透膜から複数の小片を
切りとり、１０００ｐｐｍの次亜塩素酸ナトリウムを含有する水溶液に室温で２
時間種々のｐＨレベルで浸漬した。この次亜塩素酸塩への暴露は膜を逆浸透に用
いる前に行った。この暴露した小片を純水ですすぎ、次いで室温及び２２５ｐｓ
ｉの加圧下に２０００ｐｐｍの塩（塩化ナトリウム）を含有する水溶液を用いて
、塩通過とフラックスのテストを行った。水に浸漬し、次亜塩素酸塩溶液では処
理していない小片についても比較のためにテストしたところ３３．７ｇｆｄ（ガ
ロン／平方フィート／日）のフラックス及び１．６４％の塩通過を示した。表Ｉ
から明らかなように、ｐＨ９以上で処理した膜は最初の未処理膜よりも改良され
たフラックス及び低い塩基通過を示し、またより低いｐＨで処理した膜よりも優
れたフラックスを示した。
ＰＤ中に浸漬し、米国特許第４，２７７，３４４号に記載されているように、約
０．１重量％のＴＭＣと界面重合によって反応させた。次いでこの膜を３．５重
量％のグリセリン浴に浸漬し、１対のローラを通して過剰の流体を除き、８５℃
の温度で約５分間オーブン乾燥した（同じ膜は「Ｆｉｌｍ Ｔｅｃ」８０７２０
素子としても市販されている）。得られた支持体つき逆浸透膜から複数の小片を
切りとり、１０００ｐｐｍの次亜塩素酸ナトリウムを含有する水溶液に室温で２
時間種々のｐＨレベルで浸漬した。この次亜塩素酸塩への暴露は膜を逆浸透に用
いる前に行った。この暴露した小片を純水ですすぎ、次いで室温及び２２５ｐｓ
ｉの加圧下に２０００ｐｐｍの塩（塩化ナトリウム）を含有する水溶液を用いて
、塩通過とフラックスのテストを行った。水に浸漬し、次亜塩素酸塩溶液では処
理していない小片についても比較のためにテストしたところ３３．７ｇｆｄ（ガ
ロン／平方フィート／日）のフラックス及び１．６４％の塩通過を示した。表Ｉ
から明らかなように、ｐＨ９以上で処理した膜は最初の未処理膜よりも改良され
たフラックス及び低い塩基通過を示し、またより低いｐＨで処理した膜よりも優
れたフラックスを示した。
【００１５】
【表１】
【００１６】 例２： 例１の最初の逆浸透膜の小片を１０００ｐｐｍの次亜塩素酸塩の溶液にｐＨ１
２にて１時間浸漬して、未処理膜と比較した。すべての小片をよくすすぎ、１．
５モルの塩化水素、０．１モルの水酸化ナトリウム又はｐＨ７の水のいずれかに
１．５時間浸漬した。次いで得られた小片を２２５ｐｓｉの加圧下に２０００ｐ
ｐｍの塩溶液を用いてフラックスと塩通過のテストをした。水に浸した膜は３０
．４ｇｆｄのフラックス及び１．６１％の塩通過を示した。次亜塩素酸塩処理し
た膜は３６．５ｇｆｄのフラックスと０．７５％の塩通過を示した。次の表ＩＩ
から明らかなように、次亜塩素酸塩処理膜は酸及び塩基暴露してさえその改良さ
れたフラックス及び塩通過性能を維持した。
２にて１時間浸漬して、未処理膜と比較した。すべての小片をよくすすぎ、１．
５モルの塩化水素、０．１モルの水酸化ナトリウム又はｐＨ７の水のいずれかに
１．５時間浸漬した。次いで得られた小片を２２５ｐｓｉの加圧下に２０００ｐ
ｐｍの塩溶液を用いてフラックスと塩通過のテストをした。水に浸した膜は３０
．４ｇｆｄのフラックス及び１．６１％の塩通過を示した。次亜塩素酸塩処理し
た膜は３６．５ｇｆｄのフラックスと０．７５％の塩通過を示した。次の表ＩＩ
から明らかなように、次亜塩素酸塩処理膜は酸及び塩基暴露してさえその改良さ
れたフラックス及び塩通過性能を維持した。
【００１７】
【表２】
【００１８】 例３： 例１の最初の逆浸透膜の小片を１０００ｐｐｍの次亜塩素酸塩の溶液に１時間
７−１３のｐＨ値にて浸漬した。次いでこれらの小片を０．１Ｍ水酸化ナトリウ
ムに１６時間さらした。これら小片をすすぎ、５時間水中に置いた後、２０００
ｐｐｍの塩溶液を用いて２２５ｐｓｉの加圧下にテストした。次の表ＩＩＩから
明らかなように、１０．５以上のｐＨで処理した膜だけが未処理膜に比し、改良
されたフラックスと低い塩通過を維持した。
７−１３のｐＨ値にて浸漬した。次いでこれらの小片を０．１Ｍ水酸化ナトリウ
ムに１６時間さらした。これら小片をすすぎ、５時間水中に置いた後、２０００
ｐｐｍの塩溶液を用いて２２５ｐｓｉの加圧下にテストした。次の表ＩＩＩから
明らかなように、１０．５以上のｐＨで処理した膜だけが未処理膜に比し、改良
されたフラックスと低い塩通過を維持した。
【００１９】
【表３】
【００２０】 例４： 市販の「Ｆｉｌｍ Ｔｅｃ」水道水逆浸透素子を１０００ｐｐｍの次亜塩素酸
塩に、ｐＨ１２にて、次表に示す異なる時間さらした。すべての素子を処理前と
後につき、２０００ｐｐｍ塩溶液を用いて２２５ｐｓｉの加圧下にテストした。
平均で、これら素子は処理前に３２２ガロン／日（ｇｐｄ）のフラックスと０．
５％の塩通過を示した。未処理膜を再テストしたところフラックスのわずかな増
加が観察された。すべての場合において、処理の結果として塩通過はわずかに増
大した。次表に示すように、処理時間の増加につれてフラックスが顕著に増加し
た。
塩に、ｐＨ１２にて、次表に示す異なる時間さらした。すべての素子を処理前と
後につき、２０００ｐｐｍ塩溶液を用いて２２５ｐｓｉの加圧下にテストした。
平均で、これら素子は処理前に３２２ガロン／日（ｇｐｄ）のフラックスと０．
５％の塩通過を示した。未処理膜を再テストしたところフラックスのわずかな増
加が観察された。すべての場合において、処理の結果として塩通過はわずかに増
大した。次表に示すように、処理時間の増加につれてフラックスが顕著に増加し
た。
【００２１】
【表４】
【００２２】 例５： ＴＭＣとＭＰＤを多孔質ポリスルホン支持体上で界面重合して得た「Ｆｉｌｍ Ｔｅｃ」９９７５５素子の膜として市販されている逆浸透膜の小片を６０℃に
て１時間水に浸漬した。次いでこれら小片のいくつかを１０００ｐｐｍ次亜塩素
酸塩溶液にｐＨ１２にて１時間浸漬した。未処理の小片を、熱処理だけ、次亜塩
素酸塩処理だけ、及び両方の処理に供し、２０００ｐｐｍ塩溶液を用いて２２５
ｐｐｍの加圧下にテストしてそれらのフラックス及び塩通過を比較した。次の表
Ｖから明らかなように、熱処理と次亜塩素酸塩処理を組合せると、各処理単独に
比しフラックスを増大させ、塩通過を低下させた。
て１時間水に浸漬した。次いでこれら小片のいくつかを１０００ｐｐｍ次亜塩素
酸塩溶液にｐＨ１２にて１時間浸漬した。未処理の小片を、熱処理だけ、次亜塩
素酸塩処理だけ、及び両方の処理に供し、２０００ｐｐｍ塩溶液を用いて２２５
ｐｐｍの加圧下にテストしてそれらのフラックス及び塩通過を比較した。次の表
Ｖから明らかなように、熱処理と次亜塩素酸塩処理を組合せると、各処理単独に
比しフラックスを増大させ、塩通過を低下させた。
【００２３】
【表５】
【００２４】 例６： 例５の逆浸透膜の小片を室温にて次亜塩素酸塩でｐＨ１２にて次表に示す時間
と濃度で処理した。次いで小片のいくつかを０．１Ｍ水酸化ナトリウムで６２時
間処理した。次いですべての小片を２０００ｐｐｍの塩溶液を用い２２５ｐｓｉ
の加圧下にテストした。塩基にさらしていない小片のデータから明らかなように
同じｐｐｍ−時間ではいずれも同様のフラックスと塩通過を示した。塩基にさら
した小片はフラックスと塩通過の両方が増加した。
と濃度で処理した。次いで小片のいくつかを０．１Ｍ水酸化ナトリウムで６２時
間処理した。次いですべての小片を２０００ｐｐｍの塩溶液を用い２２５ｐｓｉ
の加圧下にテストした。塩基にさらしていない小片のデータから明らかなように
同じｐｐｍ−時間ではいずれも同様のフラックスと塩通過を示した。塩基にさら
した小片はフラックスと塩通過の両方が増加した。
【００２５】
【表６】
【００２６】 本発明の膜は含塩水からの携帯用水の製造及び超純水製造用の水の精製に特に
有用である。本発明の処理膜の更なる効果としては高いｐＨでの安定性があり、
それにより使用中の膜の繰返し洗浄が可能となる。
有用である。本発明の処理膜の更なる効果としては高いｐＨでの安定性があり、
それにより使用中の膜の繰返し洗浄が可能となる。
【手続補正書】特許協力条約第３４条補正の翻訳文提出書
【提出日】平成１２年１月１２日（２０００．１．１２）
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 フェリット，マイケル エス アメリカ合衆国 ミシガン州 48640 ミ ドランド ジェフリー 3004 (72)発明者 ミコルス，ウィリアム イー アメリカ合衆国 ミネソタ州 55317 チ ャンハッセン レーク スーザン ヒル ドライブ 760 Ｆターム(参考） 4D006 GA03 KE15R KE16R MA06 MB02 MB06 MC54X MC62X NA41 NA45 NA54 PB03 PC02 PC51
Claims (9)
- 【請求項１】 （ａ）メタフェニレンジアミンとトリメソイルクロリドとを
多孔質支持体上での界面重合によって反応させて複合膜を形成させる工程及び（
ｂ）該複合膜を２００−１００００ｐｐｍの次亜塩素酸塩イオンを含有する溶液
に少なくとも１０．５のｐＨにて同じ未処理膜に比し改善されたフラックスと低
い塩通過の両者をもつ膜を得るに十分な時間さらす工程からなることを特徴とす
る多孔質支持体上に複合膜を生成させる方法。 - 【請求項２】 塩素含有溶液が次亜塩素酸ナトリウムの溶液である請求項１
の方法。 - 【請求項３】 膜を塩素含有溶液と接触させる前に膜を４０−１００℃の温
度で水に浸漬することによって熱処理する請求項１の方法。 - 【請求項４】 処理を１０．５−１３のｐＨにて行い、塩素濃度が５００−
７０００ｐｐｍでありそして塩素含有溶液への暴露時間が３０分−３時間である
請求項１の方法。 - 【請求項５】 膜が単独モノマーとしてのメタフェニレンジアミンとトリメ
ソイルクロリドの界面重合によって得られる請求項１の方法。 - 【請求項６】 請求項１の膜。
- 【請求項７】 ポリアミドがメタフェニレンジアミンとトリメソイルクロリ
ドの界面反応生成物から本質的になる請求項６の膜。 - 【請求項８】 複合ポリアミドが５００−７０００ｐｐｍの次亜塩素酸塩イ
オンを含有する溶液に室温にて未処理膜に比し改善されたフラックスと低い塩通
過をもたらすに十分な時間さらしたものである請求項５の膜。 - 【請求項９】 請求項３の膜。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US08/964,441 US5876602A (en) | 1997-11-04 | 1997-11-04 | Treatment of composite polyamide membranes to improve performance |
| US08/964,441 | 1997-11-04 | ||
| PCT/US1998/022128 WO1999022836A2 (en) | 1997-11-04 | 1998-10-19 | Treatment of composite polyamide membranes with hypochlorite to improve performance |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001521808A true JP2001521808A (ja) | 2001-11-13 |
Family
ID=25508544
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000518760A Pending JP2001521808A (ja) | 1997-11-04 | 1998-10-19 | 複合ポリアミド膜の性能向上処理 |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5876602A (ja) |
| EP (1) | EP1053052A2 (ja) |
| JP (1) | JP2001521808A (ja) |
| KR (1) | KR20010031737A (ja) |
| AU (1) | AU1103799A (ja) |
| CA (1) | CA2309149A1 (ja) |
| TW (1) | TW483910B (ja) |
| WO (1) | WO1999022836A2 (ja) |
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