JP2001513779A - 疎水性デンプン誘導体を含有する化粧品組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 式（１）（式中、ＳＴはデンプンベース物質であり、Ｒはジメチレン基であり、そしてＲ’は炭素数１０〜１６の炭化水素置換基である）を有する有効審美的増強量のカルシウム塩デンプン誘導体を含有するスキンケアに有用な化粧品組成物が提供される。

Description

【発明の詳細な説明】 疎水性デンプン誘導体を含有する化粧品組成物 発明の背景 本発明は、スキンケアに用いられ、そして審美的増強剤および減摩性粉末とし て選択された疎水性デンプンを含む化粧品組成物に関する。 デンプン誘導体、特に疎水性デンプン誘導体の調製は、米国特許第２，６６１ ，３４９号（１９５３年１２月１日発行）（C．Caldwell等）に、そして「Starc h:Chemistry and Technology」第２版、R.L.Whistler等編、（1984）第341〜343 頁ならびに「Modified Starches:Properties and Uses」O．Wurzhurg編、（1986 ）Chapter ９、第131〜147頁に記載されているように周知である。さらに変性デ ンプンの易流動性疎水性金属塩は、米国特許第２，６１３，２０６号（１９５２ 年１０月７日発行）（C.Caldwell等）に開示されている。 長年、デンプンオクテニルスクシネート誘導体は、それらの有益な特性、特に エマルションを安定化する能力のために、種々の産業、食品、薬品および化粧品 用途に用いられてきた。良好な易流動性および撥水性を有する疎水性デンプンで あるアルミニウムデンプンオクテニルスクシネート（ＯＳＡ）は、多数の異なる 用途に用いられてきた。アルミニウムデンプンオクテニルスクシネートを示す例 示的開示は、デンプン変性アルミニウム塩がハンドローションまたはボディロー ションのような皮膚製剤に用いられる米国特許第５，０１３，７６３号（１９９ １年５月７日発行）（D.Tubesing等）に、そしてそれが石油ゼリー化粧品組成物 に用いられる米国特許第５ ，４０７，６７８号（１９９５年４月１８日発行）（W.Ross等）に見出される。 デンプンＯＳＡのアルミニウム塩のさらなる開示は、それがペトロラタムを含有 する局所組成物中に見出される米国特許第３，８５２，４７５号（１９７４年１ ２月３日発行）（E.Tarangul）、それがプレス成形化粧品組成物中に見出される 米国特許第４，９９４，２６４号（１９９１年２月１９日発行）（D.Verdon等） およびそれがサンスクリーン製剤中に見出される米国特許第４，８９４，２２２ 号（１９９０年１月１６日発行）（P.Matravers）に見られる。 前記のようなデンプン変性ＯＳＡのアルミニウム塩の様々なそして重要な使用 にもかかわらず、いくつかの用途におけるアルミニウム金属の特性および作用に ついての最近の関心は、それに代わる交替物または代用物を見つけだす努力に帰 着した。種々の代用物のオクテニルスクシネート（ＯＳＡ）デンプンおよびその 塩、特にカルシウム塩には、易流動性および疎水性といった１つ又はそれ以上の 所望の特性の欠陥が見出されている。 発明の要約 選択されたカルシウム塩デンプン誘導体は良好な易流動性および疎水性特性を 提供し、そして高度の耐熱性も示し化粧品スキンケア組成物中でそれらを有用に する、ということが予想外に見出された。 特に、本発明は、次式： （式中、ＳＴはデンプンベース物質であり、Ｒはジメチレン基であ り、そしてＲ’は炭素数１０〜１６の炭化水素置換基である） を有する有効な審美的増強量のカルシウム塩デンプン誘導体を含有する化粧品組 成物に関する。 発明の詳細な説明 本発明による化粧品スキンケア組成物中の選択カルシウム塩デンプン誘導体の 使用は、良好な易流動性および疎水性、ならびに熱安定性増大を示すアルミニウ ム含有しないデンプン生成物を提供する。さらに、デンプン誘導体は、良好な審 美特性ならびに触感（油っぽくない）を有する化粧品組成物を提供するのに役立 つ。 本発明のデンプン誘導体は、前記の式Ｉ（式中、ＳＴはデンプンベース物質で あり、Ｒはジメチレンであり、そしてＲ’は炭素数１０〜１６、好ましくは１２ 〜１４の炭化水素基である）を有する。炭化水素または疎水性置換基Ｒ’は、ア ルキル、アルケニル、アリール、アラルキルまたはアラルケニル、好ましくはア ルキルまたはアルケニル、さらに好ましくはアルケニルである。デンプンに結合 される誘導体基、即ち： の量は、乾燥デンプンの重量を基礎にして約３〜２５重量％、好ましくは約３． ５〜１０重量％、さらに好ましくは約４〜６重量％である。 本明細書中で用いられるベースデンプン物質は、天然または転化されたいずれ かのいくつかのデンプンであり得る。このようなデンプンとしては、あらゆる植 物供給源、例えばトウモロコシ、ジャガイモ、コムギ、コメ、サゴヤシ、タピオ カ、ワキシーデンプン、例 えばワキシートウモロコシ、ワキシージャガイモおよびワキシーコメ、モロコシ および高アミロースデンプン、例えば高アミローストウモロコシ、即ち少なくと も４０重量％、特に少なくとも６５重量％のアミロース含量を有するデンプンか ら得られるものが挙げられる。デンプン粉末も用い得る。前者のベース物質、例 えば酸および／または熱の加水分解作用により調製されるデキストリン、酵素転 化または軽度酸加水分解により調製される流動性または低粘性沸騰デンプンそし て次亜塩素酸ナトリウムのような酸化剤による処理により調製される酸化デンプ ンのいずれかから得られる転化物質も含まれる。誘導化デンプン、例えばヒドロ キシアルキル化またはエーテル化デンプン、例えばヒドロキシプロピル、エステ ル化デンプン、例えばアセチル化デンプン、陽イオンおよび陰イオン性デンプン 、ならびに架橋デンプン、例えばエピクロロヒドリンおよびオキシ塩化リンで架 橋されるものもベースデンプンに含まれる。 前記のように疎水性誘導体を含めたデンプン誘導体の調製は長年実行されてき たが、しかし本発明のもののような長鎖生成物を提供する能力は容易でなかった 。いくつかの場合には、特に水性系においては、デンプンと試薬は、水中での限 定された溶解度のために、反応しない。本発明の疎水性誘導体の調製方法の改良 された方法は、米国特許出願第０８／５２４，２８１号（１９９５年９月６日提 出）に開示されており、この場合、デンプンおよび無水物試薬は、反応条件に曝 される前に予め分散されるかまたは低酸性ｐＨで混合されることにより密接に接 触される。特にこの方法は、水性系中でデンプンを有機酸無水物と反応させるこ とを包含する方法であって、 ａ）デンプンを水中で７．０未満の酸性ｐＨでスラリー化し、 ｂ）所望のＲおよびＲ’置換基（前記の式Ｉと同様）を有する有 機酸無水物をスラリーに添加し、 ｃ）デンプンおよび無水物試薬を混合することにより密接に接触させて安定分 散液を形成し、 ｄ）アルカリ物質をデンプン分散液に添加してｐＨを７．０より大きいアルカ リ性ｐＨに調整して反応を開始させ、そしてアルカリ性物質をさらに添加して反 応が完了するまでそのｐＨを保持し、そして ｅ）カルシウム塩を乾燥形態または水性溶液で添加する 工程から成る方法である。 本発明の疎水性デンプン誘導体を調製するこの方法は、前記の出願第０８／５ ２４，２８１号に記載されている（この記載内容は、参照により本明細書中に含 まれる）。あらゆるカルシウム塩、例えば塩化カルシウム、硫酸カルシウム、酢 酸カルシウムおよび水酸化カルシウムを用いてカルシウム金属、好ましくは塩化 カルシウムまたは硫酸カルシウムを提供し得る。その塩は、あらゆる形態で、好 ましくは水性溶液で、７．０未満のｐＨで添加し得る。用いられる塩の量は、少 なくとも化学量論的量であり、特に乾燥デンプンの重量に基づいて約２．５〜５ 重量％である。 前記のデンプン誘導体は、それらが易流動性および疎水性を提供し、熱安定性 およびその他の流動学的および審美的特性を有する種々の化粧品組成物、例えば スキンケア組成物中に用い得る。本発明の化粧品スキンケア組成物は種々の媒質 または系を包含し得るし、そして組成物に適した化粧品ビヒクルまたは基剤を含 む。このビヒクルは、エマルション、水性系、溶媒系または水性および溶媒系、 ならびに無水および粉末系の組合せであり得る。 エマルションは本発明の化粧品組成物のための好ましいビヒクルまたは基剤で あり、この種の製品としては、スキンケアクリームお よびローションが挙げられる。水ベースおよび油ベースの相を包含するこれらの エマルションは、分散相としての油および連続相としての水を有する水中油型エ マルションであり得るし、あるいはそれらは連続相である油中に分散された水を 有する油中水型エマルションであり得る。組成物の約１０〜９０重量％を構成す る油相は、典型的には、この相に可溶性である化粧品的に許容可能なまたは従来 の油性物質、例えば油、蝋および乳化剤から成る。油相中に含まれ得る化合物は 、典型的には鉱物、動物および植物の油および脂肪、合成エステル、脂肪酸、脂 肪族アルコール、高級脂肪アルコール、アルキルアミン、蝋、いわゆる鉱物性脂 および油、例えばパラフィン油、石油、セレシン、シリコーン油およびシリコー ン脂である。 水相は組成物の約１０〜９０重量％を構成し得る。そしてこれは、水および水 溶性成分、例えばアルカリ、アルカノールアミン、多価アルコールおよび防腐剤 を含む。これらのエマルションは、通常は油相に含有されるが、しかしいくつか の場合には、種類によって、水相に含まれ得る１つ又はそれ以上の乳化剤を含有 する。用い得る乳化剤は、イオン性または非イオン性であり得るし、周知であり 、そして従来および市販の製品の大きな群を構成する。それらはしばしば、その 親水親油バランス（ＨＬＢ）により特性化される。水中油（Ｏ／Ｗ）型乳化剤は 、典型的には６．０より大きいＨＬＢを有し、連続相が親水性であるエマルショ ンを生じ、このようなエマルションは一般に水に分散性である。この種の乳化剤 としては、ジステアリン酸ＰＥＧ３００、モノラウリン酸ソルビタンおよびステ アリン酸トリエタノールアミンが挙げられる。油中水（Ｗ／Ｏ）型エマルション は、通常は６．０未満、好ましくは５より小さいＨＬＢを有し、そして連続相が 親油性であるエマルションを生じる。このような乳化剤としては、ラノリンアル コール、モノステアリン酸 エチレングリコール、モノオレイン酸ソルビタンおよびジラウリン酸ＰＥＧ２０ ０が挙げられる。５〜７のＨＬＢを有するエマルションは、それらが用いられる 方法によって、Ｗ／ＯまたはＯ／Ｗ型エマルションとして機能し得る。 本発明のエマルション中に用いられる乳化剤の量は、系によって変化し得るも ので、そして典型的には有効乳化量である。特に、乳化剤の量は、組成物の重量 の約０．１重量％から２０重量％まで変わり得る。好ましくは約０．２〜１０重 量％である。 その他の種々の成分および添加剤は、前記の化粧品スキンケアエマルション中 の油および水相の一方または両方に含入され得る。この例としては、エモリエン ト剤、保湿剤、増粘剤、ＵＶ線防止剤、防腐剤、顔料、染料、着色剤、アルファ ヒドロキシ酸、審美的増強剤、例えば香料および芳香剤、皮膜形成剤（耐水剤） 、制汗剤、消臭剤、消毒剤、抗真菌剤、殺菌剤およびその他の薬剤および溶媒が 挙げられる。有効量の１以上のこれらおよびその他の活性および機能性成分が一 般に用いられ、これは合計で組成物の約０．１〜２５重量％、特に０．１〜１５ 重量％である。デンプン誘導体は、エマルション系組成物の約０．１〜２０重量 ％、好ましくは０．２〜１０重量％を構成する。 本発明の選択されたデンプン誘導体を用いるその他の化粧品組成物は、添加成 分がその中で可溶性または分散性である水性または溶媒系を包含する。水性系は 、選択されたデンプン誘導体、添加剤ならびに活性および機能性成分、任意に噴 射剤およびバランス水を包含する。一般に、水性系は約１０〜９９．８重量％、 好ましくは５０〜８０重量％の水、約０．１〜２０重量％、好ましくは０．２〜 １０重量％のデンプン誘導体、約０．１〜約２５重量％、好ましくは０．１〜１ ５重量％の添加剤および成分、約０〜５０重量％、好 ましくは０〜３０重量％の噴射剤を包含する。この種の組成物としては、芳香剤 および抗菌剤を含有する局所噴霧剤および製品が挙げられる。 局所噴霧剤としては、噴射剤を含有するエアゾール噴霧剤または製品が挙げら れる。既知のあらゆる噴射剤を本発明の組成物中に用い得るが、しかし好ましい 噴射剤としては、非ハロゲン化炭化水素、特に低沸点炭化水素、例えばＣ₃〜Ｃ₆ の直鎖および分枝鎖炭化水素、即ちプロパン、ブタン、イソブタンおよびそれら の混合物が挙げられる。その他の好ましい噴射剤としては、エーテル、例えばジ メチルエーテル、フッ化炭化水素および圧縮ガス、例えばＮ₂およびＣＯ₂が挙げ られる。 ビヒクルまたは基剤のような溶媒系の使用は、選択されたデンプン誘導体を含 有するその他の化粧品組成物を包含する。溶媒系は、選択デンプン誘導体、添加 剤、ならびに活性および機能性成分、任意に噴射剤およびバランス溶媒を包含す る。溶媒は、スキンケア組成物の成分を溶解または分散し得るあらゆる既知の有 機溶媒、特に脂肪族アルコール、エステル、エーテル、ケトン、アミンおよび炭 化水素、例えば芳香族、ニトロ化および塩素化炭化水素であり得る。特に好まし い有機溶媒は、低級脂肪族アルコール、例えばＣ₁₃のアルコール、特にエタノー ルである。一般に、溶媒系は約２５〜９９．８重量％、好ましくは５０〜８０重 量％の溶媒、約０．１〜２０重量％、好ましくは０．２〜１０重量％のデンプン 誘導体、約０．１〜２５重量％、好ましくは約０．１〜１５重量％の添加剤、そ して約０〜７５重量％、好ましくは０〜３５重量％の噴射剤を包含する。 水性系および溶媒ベースの系に含入され得る添加剤およびその他の成分は、エ マルション系および油ベースの系に関して前記された ものと同一である。溶媒系に含入され得る噴射剤は、水性系に関して前記された ものと同一である。さらに、水性系と溶媒系の混合物を用いることができ、そこ で、水と溶媒、特にアルコールを成分、即ちデンプン誘導体、添加剤および噴射 剤とともに組合わせる。このような組成物は、前記のような成分とともに、２５ 〜９９．８重量％、好ましくは５０〜８０重量％の水と溶媒の組合せを包含する 。 本発明のデンプン誘導体を混入するのに無水系および粉末化系も用い得る。無 水系は、基剤として、鉱油、蝋、エステル、揮発性溶媒などのような物質を包含 し、そして選択されたデンプン誘導体、添加剤ならびに活性および機能性成分も 含有する。粉末化系は、粉末物質、例えばタルク、コーンスターチおよびマイカ 、充填剤、例えばクレー、そしてその他の添加剤ならびに活性および機能性成分 を含む。一般に、無水系は１０〜９９．８重量％、好ましくは１０〜９０重量％ の基剤物質、約０．１〜６５重量％、好ましくは０．５〜４０重量％のデンプン 誘導体、そして約０．１〜約２５重量％、好ましくは０．１〜１５重量％の添加 剤を包含する。粉末化系は、０〜９９．８重量％、好ましくは１〜９０重量％の 粉末物質、約０．１〜９９重量％、好ましくは０．５〜９０重量％のデンプン誘 導体、および約０．１〜約２５重量％、好ましくは０．１〜１５重量％の添加剤 を包含する。 本発明の化粧品組成物中に用いられるカルシウム塩デンプン誘導体（Ｉ）は、 有効審美的増強添加量を包含する。これは、用途によって広範に変わり得る。特 に、カルシウム塩デンプン誘導体は、組成物の重量に基づいて約０．１〜９９重 量％、好ましくは約０．２〜９０重量％を構成する。前記のように、エマルショ ン、水性および溶媒系を用いる場合、カルシウム塩デンプン誘導体の量は、組成 物の重量に基づいて約０．１〜２０重量％、好ましくは約０．２〜１０重量％を 構成する。無水系を用いる場合、デンプン誘導体の量は、約０．１〜６５重量％ 、好ましくは０．５〜４０重量％を構成する。粉末化系を用いる場合、デンプン 誘導体の量は、約０．１〜９９重量％、好ましくは約０．５〜９０重量％を構成 する。 化粧品エマルション組成物の調製は、典型的には１つの容器中の油溶性成分を 添加し、例えば７５〜８０℃に加熱して、別の容器中の水溶性成分を組合わせ、 例えば７５〜８０℃に加熱することを包含する。調製されているエマルションが Ｏ／Ｗ型かＷ／Ｏ型かに依存して、次に攪拌しながら加温内部相を徐々に外部相 に添加する。 以下の実施例で本発明の実施態様をさらに説明する。実施例においては、別記 しない限り、部およびパーセンテージは重量で、そして温度はすべて摂氏で示す 。 実施例Ｉ 総量１ｋｇのワキシートウモロコシデンプンを４リットル配合機に入れ、２リ ットルの水を添加した。スラリーを均質になるまで低速で混合し、塩酸を添加し てｐＨを２〜３に調整した。総量１００ｇの適切な無水コハク酸（下記の表参照 ）を、十分攪拌しながらスラリーに添加した。次にスラリーを、３５℃に設定し 、頭上モーターおよび攪拌櫂、３％水性水酸化ナトリウムの自動添加用のｐＨ電 極および浸漬管を装備した恒温浴中のステンレススチールビーカーに入れた。自 動ｐＨ制御器を８．５に設定して、苛性アルカリの消費が停止するまで（即ち１ 時間当たり５ｇ未満の苛性アルカリ溶液）反応させた。反応ｐＨをＨＣｌで５． ５に調整して、濾過した。その結果生じたケーキを２リットルの水で洗浄し、２ Ｌの新鮮な水に再懸濁させた後、約２５ｇのＣａＣｌ₂を添加して、１時間攪拌 した。スラリーを濾過し、洗浄（３ｘ２Ｌ）して、風乾させた。結果を表１に示 す。 表１ ¹試薬はすべて置換無水コハク酸であった。 実施例ＩＩ 実施例Ｉに記載したデンプン誘導体＋同様の方法で調整した他のものを、以下 の成分を有する化粧ローションに処方した。 Ａ相 重量部 セチルアルコール １．０ セテス−２０ １．０ ステアリン酸グリセリル １．０ ステアリン酸Ｔ．Ｐ． ２．０ 安息香酸Ｃ_12-15アルキル ５．０ パルミチン酸オクチル ５．０ ジメチコーンコポリオール １．０ Ｂ相 脱イオン水 ７５．１ カルボマー ０．２ トリエタノールアミン（９９％） ０．７ Ｃ相 プロピレングリコール ３．０ 実験デンプン ４．０ Ｄ相 ゲルマベンGermabenＩＩ Ｅ １．０ Ｂ相のカルボマーを脱イオン水中に分散させて、８０℃に加熱後、トリエタノ ールアミンを添加した。Ａ相の成分を組合わせ、８０℃に加熱した。Ａ相を８０ ℃の温度でＢ相に添加し、１０分間混合した。Ｃ相の実験デンプンをプロピレン グリコール中でスラリー化して、Ａ／Ｂ相の冷却下向組合わせ物（４０、６０ま たは７０℃）に添加した。組合わせ相を４０℃に冷却後、Ｄ相を添加し、その後 十分に混合した。Sutton Laboratoriesの製品であるゲルマベンGermabenＩＩ Ｅは、プロピレングリコール、ジアゾリジニルウレア、メチルパラベンおよびプ ロピルパラベンの組合せ物である。処方物を室温に冷却させて、熱安定性に関し て評価した。デンプンの疎水性は、デンプンを水中に分散させる試みにより確定 した。分散しないものは疎水性と考えられ、分散するものは疎水性でないと考え られた。結果を以下の表に示す。 表２ 顕微鏡評価⁵ 1試料説明 対照−２％オクテニルスクシネート＋２％硫酸アルミニウム ＤＳＡ−デセニル無水コハク酸 ＤＤＳＡ−ドデセニル無水コハク酸 ＴＤＳＡ−テトラデセニル無水コハク酸 ＯＳＡ−オクテニル無水コハク酸² ４０℃で混入したデンプン試料を用いた顕微鏡評価³ ６０℃で混入したデンプン試料を用いた顕微鏡評価⁴ ７０℃で混入したデンプン試料を用いた顕微鏡評価⁵ 結果表示 ＋ ＝１ヶ月安定後に存在する複屈折 ＋／− ＝存在する部分複屈折 − ＝複屈折非存在 実施例ＩＩＩ 実施例Ｉに記載したカルシウム塩デンプン誘導体（ドデセニル）を含有するハ ンドローションとボディローションを処方したが、それらは以下の成分を有した ：Ａ相 重量部 パルミチン酸イソプロピル ３．００ 水素化ポリソルブテン ２．００ ステアリン酸Ｔ．Ｐ． ２．００ セチルアルコール １．００ ステアリン酸グリセリル １．５０ コムギ胚芽油 ０．７５ ヒマワリ種子油 ０．７５ ホホバ油 ０．７５ スクアラン ０．７５ ジメチコーン ０．２５ Ｂ相 脱イオン水 ７０．１０ トリエタノールアミン ０．５０ ジャガイモデンプン（改質） ２．００ アロエゲル１：１ ５．００ ラウレス硫酸ナトリウム ０．１５ Ｃ相 グリセリン ４．００ 実験デンプン ４．００ 酢酸トコフェロール ０．２５ パルミチン酸レチニル ０．２５ ゲルマベンＩＩ Ｅ １．００ １００．００ Ｂ相成分をジャガイモデンプンおよびトリエタノールアミンを脱イオン水に添 加することにより組合わせ、８０℃に加熱して２０分間保持し、その後、攪拌し ながらアロエゲルとラウレス硫酸ナトリウムを添加した。Ａ相の成分を組合わせ 、８０℃に加熱し、８０℃でＢ相に添加して、１５〜３０分間混合した。４０℃ に冷却後、実験デンプン試料を他のＣ相成分と組合わせ、ＡおよびＢ相に４０℃ で混合しながら添加して、その後室温に冷却した。この実施例は、ローション型 組成物中の有効な添加剤としてのカルシウム塩デンプン誘導体の使用を示す。 実施例ＩＶ 実施例Ｉに記載したようなデンプン誘導体（ドデセニル）を含有するトリート メントボディクリームを処方したが、これは以下の成分を有した： Ａ相 重量部 カプリル酸／カプリン酸トリグリセリド ６．００ 安息香酸Ｃ_12-13アルキル ４．００ ステアリン酸イソセチル／イソセチルアルコール ２．００ セテアリルアルコール ２．００ ステアリン酸Ｔ．Ｐ． １．００ ステアリン酸グリセリル ＳＥ １．５０ ジメチコーン ０．５０ 酢酸セチル／アセチル化ラノリンアルコール １．００ ククイナッツ（kukui nut）油 １．５０ マカダミアナッツ油 １．００ Ｂ相 脱イオン水 ６６．３５ トリエタノールアミン ０．３０ ジャガイモデンプン（改質） ２．００ メチルパラベン ０．２０ プロピルパラベン ０．１５ Ｎａ₃ＥＤＴＡ ０．０５ ブチル化ヒドロキシアニソール ０．０５ Ｃ相 プロピレングリコール ４．００ 実験デンプン ４．００ 酢酸トコフェロール ０．３０ ブチレングリコール／水／ホップ抽出物 ０．５０ ブチレングリコール／水／セイヨウトチノキの実の抽出物 ０．７５ ブチレングリコール／水／キウィ抽出物 ０．５０ Ｄ相 イミダゾリジニルウレア ０．３５ １００．００ Ｂ相成分を組合わせ、８０℃に加熱して２０分間保持した。Ａ相成分を組合わ せ、８０℃に加熱した後、８０℃でＢ相に添加し、１０分間混合した。４０℃に 冷却後、Ａ／Ｂ組合わせ物をＣ相に添加し、混合した後、Ｄ相を添加し、混合し て、室温に冷却した。この実施例は、皮膚に良好な審美的および触感特性を提供 するクリーム型組成物中のデンプン誘導体の使用を示す。 実施例Ｖ 実施例Ｉに記載したデンプン誘導体（ドデセニル）を含有するク リーム〜粉末アイシャドー組成物を処方したが、これは以下の成分を有した： Ａ相 重量部 オクチルドデカノール １３．００ アクリレート／オクチルアクリルアミドコポリマー １．００ Ｂ相 微晶質蝋 ０．３０ シクロメチコーン／クォートミウム−１８ヘクトライト／プロピリンカーボ ネート ３０．００ Ｃ相 カプリル酸／カプリン酸トリグリセリド ３．００ ステアリン酸オクチルドデシル ０．５０ ジイソステアリン酸トリグリセロール ４．００ 酢酸トコフェロール ０．１０ Ｃ_11-12のイソパラフィン ７．４０ シリカシリレート ０．５０ マイカ／酸化鉄／二酸化チタン １０．００ 実験デンプン ３０．００ フェノキシエタノール ０．２０ １００．００ Ａ相の成分を徐々に組合わせ、混合しながら８０℃に加熱した。Ｂ相を添加し 、次にＣ相をよく混合しながら添加した後、室温に冷却した。この実施例は、本 発明のデンプン誘導体の無水型処方物への添加を示す。 実施例ＶＩ 実施例Ｉに記載したデンプン誘導体（ドデセニル）を含有する半 透明プレスフェイスパウダーを処方したが、これは以下の成分を有した： Ａ相 重量部 実験デンプン ７９．７８ コーンスターチ ７．７０ 硫酸バリウム ０．３０ プロピルパラベン ０．１０ メチルパラベン ０．１０ 二酸化チタン ６．５０ マイカ ２．００ 褐色酸化鉄 ０．７５ 赤色酸化鉄 ０．２５ 透明黄色酸化鉄 ０．０２ Ｂ相 イソエイコサン ２．５０ １００．００ Ａ相成分を均一になるまで一緒に混合した。Ｂ相をＡ相上に噴霧し、均一にな るまで一緒に配合した後、プレスした。 実施例ＶＩＩ 実施例Ｉに記載したカルシウム塩デンプン誘導体（ドデセニル）を含有する局 所噴霧粉末を処方したが、これは以下の成分を有した 成分 重量部 無水エタノール ４２．００ アミノメチルプロパノール９５％ ０．３８ アクリレート／オクチルアクリルアミドコポリマー ２．００ 実験デンプン １０．００ イソブタン噴射剤 ４５．６２ １００．００ アミノメチルプロパノールをエタノール中に溶解し、十分な攪拌を保持しなが ら、アクリレート／オクチルアクリルアミドコポリマーを徐々に添加した。溶液 添加が完了したら、デンプン試料を添加し、均質になるまで十分混合した。本実 施例は、スプレーパウダー型処方物中の本発明のデンプン誘導体の適切な添加を 示す。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ソーラーレック，ダニエル ビー. アメリカ合衆国，ニュージャージー 08502，ベルミード，バークシャー コー ト １ 79 (72)発明者 トルキンスキー，マリア アメリカ合衆国，ニュージャージー 08854，ピスカタウェイ，ファームランド コート ６ (72)発明者 ロンコ，ドナ エル. アメリカ合衆国，ニュージャージー 07863，オックスフォード，ヘンリー ス トリート 78 (72)発明者 パサペイン，ジョセフ アメリカ合衆国，ニュージャージー 07960，モリスタウン，ヒルクレスト ア ベニュ 39

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．化粧品ビヒクルおよび次式： （式中、ＳＴはデンプンであり、Ｒはジメチレンであり、Ｒ’は炭素数１０〜１ ６の炭化水素基である） を有する有効審美的増強量のカルシウム塩デンプン誘導体を包含する化粧用スキ ンケア組成物。 ２．化粧品組成物の重量に基づいて約０．１〜９９重量％のデンプン誘導体が 用いられる請求項１の組成物。 ３．Ｒ’がアルキル、アルケニル、アリール、アラルキルまたはアラルケニル 基である請求項２の組成物。 ４．乾燥デンプンの重量に基づいて約３〜２５重量％の 基がデンプンに結合される請求項３の組成物。 ５．Ｒ’が１２〜１４個の炭素原子を含有する請求項４の組成物。 ６．Ｒ’がアルケニル基である請求項５の組成物。 ７．約３．５〜１０重量％の前記結合基を含有する請求項６の組成物。 ８．化粧品ビヒクルがエマルション、水性系、溶媒系、水性および溶媒系の混 合物、無水系または粉末化系である請求項１の組成物。 ９．化粧品組成物の重量に基づいて約０．１〜９９重量％のデンプン誘導体が 用いられる請求項８の組成物。 １０．Ｒ’がアルキル、アルケニル、アリール、アラルキルまたはアラルケニ ル基である請求項９の組成物。 １１．乾燥デンプンの重量に基づいて約３〜２５重量％の 基がデンプンに結合される請求項１０の組成物。 １２．Ｒ’が１２〜１４個の炭素原子を含有する請求項１１の組成物。 １３．Ｒ’がアルケニル基である請求項１２の組成物。 １４．約３．５〜１０重量％の前記結合基を含有する請求項１３の組成物。 １５．化粧品組成物の重量に基づいて約０．１〜２０重量％のデンプン誘導体 が用いられる請求項１１の組成物。 １６．Ｒ’が炭素数１２〜１４のアルケニル基であり、そして約３．５〜１０ 重量％の前記結合基が存在する請求項１５の組成物。 １７．化粧品ビヒクルがエマルションであり、化粧品組成物の重量に基づいて 約０．１〜２０重量％のデンプン誘導体が用いられる請求項１の組成物を有する クリームまたはローション組成物。 １８．Ｒ’が炭素数１２〜１４のアルケニル基である請求項１７の組成物。 １９．乾燥デンプンの重量に基づいて約０．１〜１０重量％のデンプン誘導体 が用いられ、そして約３〜１０重量％のデンプンに結合した 基が存在する請求項１８の組成物。 ２０．デンプンがワキシートウモロコシであり、そして乾燥デンプンの重量に 基づいて約４〜６重量％の前記結合基を含有する請求項１９の組成物。