JP2001512243A - 光学装置および融着シール - Google Patents

光学装置および融着シール

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JP2001512243A JP2000505532A JP2000505532A JP2001512243A JP 2001512243 A JP2001512243 A JP 2001512243A JP 2000505532 A JP2000505532 A JP 2000505532A JP 2000505532 A JP2000505532 A JP 2000505532A JP 2001512243 A JP2001512243 A JP 2001512243A
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Abstract

(57)【要約】 光学装置(20)とこの装置(20)の製造方法が開示されている。装置(20)は、基板(22)と、この基板の空所内に形成されかつ係止されたガラスフリット融着シール(30)によって基板に付着された光導波路部品(24)とを備え、ガラスフリット融着シールは低融点ガラスフリットの溶融された製品である。基板内の空所は、光導波路部品(24)を受け入れる領域と、ガラスフリット融着シール(30)の配設を確実にする交差領域とを備えている。光導波路部品(24)は温度によって変わる上記部品の光学的特性を調節するために、基板に付着されている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】 発明の技術分野 本発明は、負またはゼロに近い熱膨脹係数を有する基板と、この基板に融着シ
ールでシールされた光学部品とを備えた光学装置に関するものである。
【0002】 発明の背景 複数の構成部品を結合して複合物品を形成する手段として、融着シールが一般
に用いられている。従来、融着シールは電球、陰極線管およびその他の表示装置
のような物品に用いられてきた。
【0003】 これら物品の製造において主として考慮されたのは熱膨張係数(CTE)整合
であった。理想的なシールは、シールされる部品のCTEに整合した適度に近い
CTEを備えていることが要求されてきた。例えば陰極線管では、ガラス部品は
慣習的に95〜105×10/℃の範囲のCTEを有する。
【0004】 本発明は、プレーナ型導波路、導波路格子、カプラ、フィルタのような光学物
品または光学装置に関するものである。かかる物品においては、ゼロに近い、ま
たはむしろ相対的に負のCTEを有する基板に光ファイバが取り付けられる。こ
の目的のためには、融着シールは基板とファイバとの双方にしっかりと接着され
なければならない。この接着力は、フリットシール、すなわち基板とファイバと
の間のシールを横切る応力の伝達が可能なように、十分大きくなければならない
。シリカとゲルマニア・シリカとからなる光ファイバにおいては、紫外光によっ
て屈折率変化が生じる。このように屈折率が変化したファイバは、フィルタおよ
びチャンネル追加/削除装置のような複合狭帯域光学部品の製造に有用である。
このような装置は、多波長遠隔通信システムの重要な部分となり得る。屈折格子
(またはブラッグ格子)は狭い波長帯域に亘る光を反射させる感光装置である。
典型的に、これら装置はナノメートルで測定されるチャンネル占有域を有する。
【0005】 波長選択濾波のためのブラッグ効果を利用した光学フィルタの種々の構成が知
られている。フィルタの作成方法の1つには、光ファイバのコアに少なくとも1
個の周期格子を形成することが含まれる。コアは、クラッドを通して2本の紫外
線ビームの干渉パターンにさらされる。その結果、ファイバの軸線に垂直な方向
を指向する反射格子が生じる。
【0006】 シリカとゲルマニア・シリカとからなる光ファイバの反射格子においては、中
心波長の変化は、温度による屈折率の変化に支配される。ファイバ格子によって
反射された光の周波数は、格子領域の温度によって変化する。したがって、かか
るフィルタは、反射光の周波数が温度とは無関係でなければならないような用途
には使用できない。
【0007】 温度変化に反応しないシステムの案出が要望されていることは明らかである。
1996年1月16日に出願された米国仮特許出願第60/010,058 号に
は、負のCTEを有する基板の上面の2つの離れた場所に、正のCTEを有する
感熱性部品が付着された非感熱性装置が記載されている。リチア・アルミノ珪酸
塩ガラスセラミック、すなわちベータ・ユークリプタイト(beta-eucryptite )
をこのような装置に用いることが提唱されている。また、上記基板に付着されれ
る光ファイバのような部材を、有機ポリマーセメント、無機フリット又は金属に
よって取り付け得ることも教示されている。
【0008】 本発明の目的は、ゼロに近いかまたは負のCTEを有する基板に組み合わせら
れた正のCTEを有する光学部品を備えた光学装置を提供することにある。さら
なる目的は、上記光学部品が融着シールによって上記基板に付着された物品を提
供することにある。他の目的は、低いCTEを有し、かつ上記光学部品と上記基
板との間に接着性シールを形成する良好なシール特性を備えたシール材料を提供
することにある。さらに他の目的は、融着シールを実施したかかる光学装置を生
産する方法を提供することにある。
【0009】 発明の概要 本発明の物品は、ゼロに近いかまたは負のCTEを有する基板と、融着シール
で上記基板に付着された光学部品とを備えた光学装置であり、上記シールは、正
のCTEを有する低融点ガラスフリットと、負のCTEを有するガラスセラミッ
クのミル添加物とからなる溶融された製品である。
【0010】 本発明はさらに、かかる光学装置の製造方法に関し、この方法は、正のCTE
を有する低融点ガラスフリットと、負のCTEを有するガラスセラミックのミル
添加物とを調合して、調合されたシール用ペーストを形成し、このペーストを基
板の表面に施し、光学部品を上記ペースト上に配置し、このペーストを、ある時
間に亘りある温度まで加熱して上記部品と上記基板との間にシールを形成する各
工程を含む。
【0011】 発明の詳細な説明 本発明は、光ファイバを、より低いCTEを有する基板に付着させる効果的な
手段を作成することに関するものである。したがって、本発明は、このような物
品およびその開発に関して記載される。しかしながら、本発明はそれに限定され
るものではなく、一般的に光学装置における融着シールに適用されることが明ら
かである。
【0012】 融着形式のシールの作成においては、シール面を濡らしかつ接着性接合を形成
するのに十分な程度に軟化する温度にシール材料が加熱されなければならない。
多くの目的に対しては、シール温度をできるだけ低く保つことが望ましい。した
がって、500℃よりも低い温度で、好ましくは400〜500℃でシールを形
成するガラスフリットが、低融点シール用ガラスまたは中間温度シール用ガラス
として引合いに出されることが多い。
【0013】 融着シールの作成に用いられるガラス質材料は、慣習的に粉末の形態で用いら
れ、ガラスフリットと呼ばれる。シール用ガラスフリットは、一般にアミルアセ
テートのような有機ビヒクルと混合されて流動性または押出し可能なペーストを
形成する。このペースト状混合物は、シール面に、この場合は光学装置の基板に
施される。シールされる部品のCTEとガラスフリットのCTEとの間には差が
あることが多い。フリットと部品との間の膨脹を整合させるため、ミル添加物を
加えるのがよい。
【0014】 流動性および膨脹融和性に加えて、シール用ガラスフリットは、その他の多く
の好ましい特性を備えていることが望ましい。これらの特性には、シールされる
部品に対する良好な湿潤性と、有機ビヒクルとの相溶性がある。特に、このフリ
ットは、ニトロセルロースおよびアミルアセテートからなる慣習的なビヒクルお
よびバインダと相溶性でなければならない。
【0015】 結晶化または非結晶化鉛・硼酸塩からなるシール用ガラスが長い間融着ガラス
の生産に商業的に用いられてきた。一般に、このガラス族は、68〜82%のP
bOと、8〜16%のZnOと、6〜12%のBと、必要に応じての5%
までのSiO、BaOおよびAl とから実質的になる。このようなガ ラスは、シール温度が430〜500℃の範囲のため一般的に有用である。
【0016】 近来、鉛を含まない錫・亜鉛・燐酸塩からなるシール用ガラスが開発された。
このようなガラスは、米国特許第5,246,890号(Aitken他)および米国特
許第5,281,560号(Francis他)に詳細に開示されている。これら特許に 開示されたガラスは、鉛を含まず、シール温度はいくらか低い400〜450℃
の範囲である。
【0017】 上記米国特許第5,246,890号に開示されたガラスは、酸化錫の含有量が
比較的少ないために、陰極線管のガラス容器におけるシールの形成に用いるのに
特に適している。鉛を含まないことに加えて、これらのガラスは、25〜50モ
ル%のPおよびSnOとZnOとをSnO:ZnOのモル比が1:1ない
し5:1の範囲で含む組成を有する。これらのガラス組成物は、さらに5モル%
までのSiO と、20モル%までのBと、5モル%までのAl とを含む20モル%までの改質用酸化物を含む。これらのガラス組成物はまた、
1ないし5モル%のジルコンおよび/または酸化ジルコニウムと、1〜15モル
%のRO とから選ばれた一種類またはそれ以上の結晶化促進剤を含む。さら にこれらの組成物は、5モル%までのWO、5モル%までのMoO、0.1
0モル%までのAg金属および混合物から選ばれたシール接着促進剤を含む。
【0018】 米国特許第5,281,560号に開示されたガラスは、モル比で5:1よりも
大きいSnOとZnOを用いている。これらのガラスは、その組成中に、25%
までのRO と、20%までのBと、5%までのAlと、5%ま での SiOと、5%までのWOとからなる群から選ばれた少なくとも一種類の安
定化用酸化物を含む。
【0019】 本発明の目的のために、シール用ガラスフリットは、適当な組成を有するガラ
スバッチを溶かすことによって調製することができる。このガラス溶融物は冷却
され、好ましくは冷硬によって割れた小片とされ、次いで粉砕されてガラス粉末
(フリット)を形成する。このガラスフリットは、本発明によりミル添加物と調
合される。この調合により、ビヒクルおよびバインダと混合されて、シール面に
施すのに適した粘度を有するペーストが形成される。
【0020】 陰極線管をシールするのに用いられて来た古典的なビヒクルおよびバインダは
、ニトロセルロースとアミルアセテートとの混合物である。近年、有機化合物の
蒸発を回避したビヒクルが開発されている。このビヒクル、セルロースポリマー
の水溶液は、米国仮特許出願第 60/012,330号に開示されている。この
出願は1996年2月27日付けで出願され、本発明と同じ譲受人に譲渡された
ものであり、引用することによって本発明に組み入れられる。他の適当なビヒク
ルと同様に、本発明の実施に際しては、どちらのビヒクルも採用することができ
る。
【0021】 本発明は、ゼロに近いまたは負の膨脹係数を有する基板に接着された、格子の
ような導波路の用途に用いるために開発された。ゼロに近いとは、CTEの値が
、0〜300℃の温度範囲に亘って±10×10−7/℃であることを意味する
。典型的な材料はシリカである。負のCTEとは、膨脹が負の勾配を有すること
を意味する。
【0022】 この基板は、ベータ・ユークリプタイト・ガラスセラミックから作成すること
もできる。その場合、用いられるミル添加物は少なくともピロ燐酸塩が主成分で
ある。適当なピロ燐酸塩は、一般式2(Co,Mg)O/Pを有する。こ
の結晶は、70〜300℃の温度範囲で転相を生じる。正確な温度はCoのレベ
ルに依存する。
【0023】 この材料は、転相がなければ0〜300℃の温度範囲で正のCTEを有する。
しかしながら、転相の結果、容積が変化する。このことは、その系のCTEを負
の方向に深く変化させるという正味の効果を奏する。本発明者等がベータ・ユー
クリプタイト基板とともに採用した特徴ある材料は、28陽イオン%のCoOを
含んでいる。
【0024】 これに代わり、基板は溶融シリカであってもよい。その場合、シール用ガラス
調合は、ミル添加物としてピロ燐酸塩を、極めて低い、または負の膨脹係数を有
する材料とともに用いることができる。この材料は、シール内において基板に対
する不整合が小さいかまたはゼロに近い実効CTEを有する例えばベータ・ユー
クリプタイト、ベータ・スポーデュミーン(beta-spodumene)またはベータ石英
である。これら材料は、通常の添加物感覚で実効CTEを低くする。ベータ・ユ
ークリプタイトは好ましい添加物であり、混合物の大部分を占める。この材料は
、適当なガラスを1250〜1350℃の温度範囲で4時間焼成することによっ
て生成される。測定されたCTEは、−50〜−70×10−7/℃の範囲であ
る。
【0025】 双方のミル添加物はガラスセラミックである。これらはガラスとして、伝統的
なガラス溶融手法によって溶融され、結晶化され、ボールミルによって20〜2
5ミクロンの粉末に挽かれる。ボールミルで挽かれた後、大きな粒子は空気選別
により、または400メッシュの篩でふるうことによって除かれる。
【0026】 本目的のためには、鉛・亜鉛・硼酸塩フリットまたは錫・亜鉛・燐酸塩フリッ
トのいずれか、あるいはその他の低融点ガラス、例えば硼酸鉛ガラスを用いるこ
とができる。しかしながら、多くの用途においてシール目的のためのペーストの
レーザー加熱が必要である。その場合、鉛を含まない錫・亜鉛・燐酸塩フリット
を含む調合物がより良好に機能し、好ましいフリットである。
【0027】 錫・亜鉛・燐酸塩ガラス族は、前述の米国特許第5,246,890号および第
5,281,560号に記載されている。これらの特許の教示内容はそれらの全体
に及んでいる。本目的のためには、オルト燐酸塩の理論量とピロ燐酸塩の理論量
の間の値を有するガラス組成物、すなわち、25〜33モル%のPと、0
〜15モル%のZnOと、0〜5モル%の、SiO,Al,B を含む随意的な酸化物と、SnO:ZnOのモル比が1〜10:1であることが
好ましい残りのSnOとを含むガラス組成物を本発明者等は好む。
【0028】 本発明者等の開発作業においては、オルト燐酸塩に近い主成分を有するガラス
を用いた。このガラス組成物は、実質的に28.5%のPと、1%のBと、0.5%のAlとを含み、SnO:ZnOのモル比は10:1で
ある。このガラスを950℃で溶かし、ロール作業により冷却し、次いでボール
ミルで平均粒径が20〜〜25ミクロンの粉末にした。
【0029】 計量した粉末をロールミルで乾式混合して種々の主成分ガラスおよび充填剤の
調合物を調製した。これら調合物を荒い篩でふるってさらなる混合を行なった。
ハンドプレスで6グラムの円筒状の流動性テストペレットを作成し、このペレッ
トを顕微鏡のスライド上に置き、所望の温度サイクルで焼成して流動性を評価し
た。アミルアセテートおよびニトロセルロースを含むガラスフリット調合物のペ
ーストから不整合サンプルを作成することによって熱膨張特性を測定した。この
ペーストを、2枚の溶融シリカ基板とともに逆サンドイッチを用意するのに用い
た。この不整合サンプルを所望の熱サイクルで焼成した。基板内の膨脹不整合応
力を旋光計で測定した。
【0030】 下記の表は、数種類のフリット調合物のデータを示す。また、張力または圧縮
力の代わりに、溶融シリカとの逆サンドイッチ内の各調合物で観察された室温不
整合も示してある。熱サイクルは425℃を1時間保つものを用いた。各調合物
の組成は重量%で表されている。フリット調合物1および3は、溶融シリカに対
し中立もしくは極めて穏やかな張力を示している。このサンプルで用いられるシ
ール温度425℃における調合物1および3の流動性は極めて良好である。これ
らの調合物は溶融シリカ基板のシールに有用と見受けられる。
【0031】 フリット調合物5および6は、溶融シリカサンドイッチシール内に極めて高い
圧縮力を発生する。これらの調合物は、より低い膨脹特性を有するベータ・ユー
クリプタイト基板のシールに有用である。
【0032】 これらフリットを用いて格子装置を調製した。フリット6を用いてある長さの
ファイバを450℃でベータ・ユークリプタイト基板にシールした。導波路ファ
イバを旋光計で測定した。この測定により、フリット6がベータ・ユークリプタ
イト基板に良好に接着されて、不整合応力を負の膨脹特性を有する基板から正の
膨脹特性を有するファイバへ移すことが判明した。
【0033】
【表1】 添付図面中の図1は、本発明による、熱の影響を受けない光ファイバ格子装置
20の概略図である。装置20は、ベータ・ユークリプタイトのような負の膨脹
係数を有する材料の平らなブロックから形成された基板22を備えている。紫外
線で誘起された少なくとも1つの格子26が書き込まれた光ファイバ24は、基
板22の表面28上に取り付けられている。ファイバ24は、表面28の両端部
の点30および32において表面28に取り付けられている。点30および32
におけるファイバ24の取付けは、本発明によるシール用ガラス材料の小さいボ
タンによって行なわれている。
【0034】 図示された格子装置においては、ファイバ24が常に一直線で、かつ負の膨脹
特性から生じる圧縮力を受けないことが重要である。したがって、ファイバ24
は常時張力を受けた状態で取り付けられている。取付け前にファイバ24は、概
略的に示されているように、重り34により調節された張力がかけられた状態で
配置される。張力が適性に選択されると、予想されたすべての温度においてファ
イバが圧縮力を受けないことが保証される。
【0035】 本発明による装置の他の用途は光波用光学回路である。これは、いくつかの光
学的機能を備えた、溶融シリカ基板を有する装置である。各機能は、電気コネク
タが集積回路で要求されるのと同様の態様で、独立した外部ファイバとの接続を
提供しなければならない。各接続用ファイバは、少量の本発明によるシール材料
によってシールされ、かつ整列状態に保たれなければならない。表の調合物1お
よび3はこの用途に使用できるであろう。
【0036】 このような光学装置における融着シールは極めて小さくなる傾向がある。した
がって。従来のバーナの炎よりも、レーザーのような調節可能な熱源を用いる方
が望ましいことが多い。そこで、レーザービームは焦点が外される。すなわち目
標から、あるいは目標の正面から僅かの距離離れた点に焦点が合わされる。これ
により、点焦点がもたらす過熱を避けることができる。
【0037】 本発明者等はまた、多くの用途に関して間接過熱が望ましいことを発見した。
例えば、ファイバを基板に付着させる際に、1滴またはそれ以上のシール用ペー
ストを基板の上面に施す。次にファイバを、例えば図1に示されているように取
り付ける。
【0038】 次に、バーナの炎またはレーザービームからなる熱源を、基板の裏面、すなわ
ち反対側の面に当てる。この方法で、シール用ペーストは、直接過熱でなく、基
板を通過した熱によって軟化する。これにより、シール工程の制御性が改良され
、かつ装置を損傷させる危険性がより少なくなる。レーザーを用いる場合、基板
の損傷を避けるために焦点を外すのがよい。
【0039】 図2は、溶融シリカとサンドイッチシールの作成に2種類の異なる調合物を用
いた場合に起こる不整合を示す。温度は横軸にプロットされ、ppmで表される
基板に対する不整合は縦軸にプロットされている。フリット調合物の不整合値は
、基板の不整合値と同様に絶対値であるが、符号が正から負に変わっている。図
2における正の値は、基板については張力、フリット調合物については圧縮力を
示している。
【0040】 曲線Aは、種々の温度で測定した調合物1と溶融シリカとの間のシールの不整
合値を示す。曲線Bは、調合物6と溶融シリカとの間で測定した甚だしい不整合
を示し、ここではフリットが高い圧縮力を受けている状態である。調合物6は、
溶融シリカよりもずっと低い熱膨張係数(CTE)を有する基板に用いるように
意図したものである。この調合物は、ほぼ−50×10−7/℃のCTEを有す
るベータ・ユークリプタイト基板に用いられる。
【0041】 本発明はさらに、関連技術の制約と欠点による1つまたはそれ以上の問題点を
を実質的に除去した、光学装置とこのような光学装置の製造方法に関するもので
ある。
【0042】 本発明のさらなる特徴と効果は本明細書で説明され、一部はその記載から明ら
かであり、または本発明の実施の形態によって分かれるであろう。本発明の目的
およびその他の効果は、添付図面は勿論、この記載および特許請求の範囲で特に
指摘された機器、装置、構造および方法によって具現化され、達成される。
【0043】 本発明の目的に従ってこれらおよびその他の効果を達成するために、実施の形
態で示され、かつ広く記述されているように、本発明は、格子を包含する光導波
路ファイバを備えた光学装置を含み、このファイバは、温度とともに変化する格
子を包含するファイバの、温度とともに変化する光学的特性を調節するために基
板に付着されている。上記基板は第1の長手方向チャンネルを画成している。こ
の基板はさらに、上記第1の長手方向チャンネルとともに第1の空所交差部を形
成する第1の横断空所を備えている。格子を包含する光導波路ファイバは上記第
1の長手方向のチャンネルに沿って配置され、上記第1の空所交差部において基
板に付着されている。
【0044】 他の態様においては、本発明は、光導波路ファイバ格子および基板を備えた光
学装置の製造方法を含み、上記基板は、光導波路ファイバ格子の温度によって変
化する特性を調節する。この方法は、基板を提供する工程を含む。次の工程は、
基板に空所を形成して、長手方向領域と、少なくとも1個の横断領域とを備えた
空所が画成されるようにすることである。次の工程は、上記光導波路ファイバを
、基板の空所の長手方向領域に沿って配置することである。さらに次の工程は、
流動性を備えた、好ましくは液状の接着剤を上記空所の長手方向領域および横断
領域に流すことであり、そこで流動性接着剤が凝固して、配置されている光導波
路ファイバを上記空所の横断領域と長手方向領域との直ぐ近くに付着させる固体
状接着剤になる。
【0045】 他の態様では、本発明は、低融点ガラスからなることが好ましいガラスフリッ
ト融着シールで基板に付着された光導波路を備えた光学装置を含む。
【0046】 他の態様では、本発明は光導波路ファイバ格子を備えた光学装置を含み、この
光導波路ファイバ格子は、温度で変化する光導波路ファイバ格子の特性を調節す
るために基板が上記ファイバに力を加えるように基板に取り付けられ、この光導
波路ファイバ格子は接着剤で基板に付着され、基板は接着剤を受け入れるための
空所を画成し、この空所は、中央領域と、この中央領域から延びる指状領域とを
備え、液状の上記接着剤が上記中央領域および指状領域に流れ、そこで凝固して
固体状接着剤となって、前記空所に物理的に固着される。
【0047】 他の態様では、本発明は光導波路ファイバ格子を備えた光学装置を含み、この
光導波路ファイバ格子は、温度で変化する光導波路ファイバ格子の特性を調節す
るために基板が上記ファイバに力を加えるように基板に取り付けられ、この光導
波路ファイバ格子はガラスフリット融着シールで基板に付着される。
【0048】 前述した概略的な記載と、後述する詳細な記載とは、例示的および説明的であ
って、特許請求の範囲に示された本発明のさらなる説明を提供するものであるこ
とを理解されたい。
【0049】 添付図面は、本発明のさらなる理解のために用意されたもので、本明細書に組
み入れられ、かつ本明細書の一部をなし、本発明の実施例を示し、記載内容とと
もに本発明の精神の説明に資するものである。
【0050】 本発明の光学装置は、格子を包含する光導波路ファイバを備え、この光導波路
ファイバは、温度で変化する光導波路ファイバ格子の光学的特性を調節するため
に基板にに付着されている。この装置は、第1の長手方向チャンネルと、第1の
横断空所とを有する基板を備え、上記横断空所は、上記第1の長手方向のチャン
ネルとともに第1の空所交差部を形成している。光導波路ファイバは、上記第1
の長手方向チャンネルに添わされ、上記第1の空所交差部において基板に付着さ
れている。この基板は、長さと、幅と、高さと、上面となる第1に表面と、底面
になる第2の表面とを備えている。基板は、幅および高さよりも長さが長い細長
い形状を有しているのが好ましい。上記第1の長手方向チャンネルは、一直線で
基板の長手方向に沿っているのが好ましい。上記第1の長手方向チャンネルは、
基板の上記第1の表面に画成されているのが好ましい。上記第1の横断空所は、
基板の上記第1の表面において、上記第1の長手方向チャンネルを横切る横断空
所チャンネルであることが好ましい。
【0051】 この光学装置は、好ましくは基板の上記第1の表面に、上記第1の長手方向チ
ャンネルとともに第2の空所交差部を形成する第2の横断空所をさらに備えてお
り、この第2の空所交差部において上記光導波路ファイバが基板に付着されてい
る。この第2の空所交差部を形成する第2の横断空所は、第1の横断空所の好ま
しい構造と同様の構造を有することが好ましい。
【0052】 基板の2つの横断空所チャンネルは第1の長手方向チャンネルに対して実質的
に垂直であることが好ましい。第1の長手方向チャンネルを画成している基板の
第1の表面は、上記第1の横断空所を、上記第1の長手方向チャンネルに対して
実質的に垂直な第2のチャンネルとして画成しているのが好ましい。
【0053】 この光学装置は、上記光導波路ファイバを上記構成物に付着させための接着剤
をさらに備えており、この付着用接着剤は、凝固する流動性接着剤からなること
が好ましい。この光学装置は、シール用低融点ガラスから形成されているガラス
フリット融着シールを備えていることがより好ましく、このガラスフリット融着
シールは、上記第1の空所交差部を実質的に満たし、かつ上記第1の横断空所内
に延出し、上記光導波路ファイバが上記第1の空所交差部において上記ガラスフ
リット融着シールにより基板に付着されている。このガラスフリット融着シール
は、上記第1の長手方向チャンネル内に延出しているのが好ましい。
【0054】 本発明における上記横断空所は、鳩尾形状または円錐形のような、テーパーリ
ーマーで形成されたテーパー状断面を有するのが好ましい。
【0055】 上記基板は、単一の構造と組成とを有する単一材料からなることが好ましい。
この単一材料は、微小亀裂の入ったリチア・アルミノ珪酸塩・ベータユークリプ
タイト・ガラスセラミックに見られるような、自然に、かつ本来的に負の膨脹特
性を有することが好ましい。
【0056】 また、上記基板は、少なくとも2種類の異なる材料からなる複合基板であって
もよい。2種類の異なる材料は、異なる熱膨脹係数を有し、かつ一体に連結され
て、材料の不同性と連結とにより負の実効熱膨脹係数を有する複合基板を形成す
る。
【0057】 上記第1の長手方向チャンネルは、第1の端部と、この第1の端部から離れた
第2の端部とを備えており、第1の長手方向チャンネルとともに上記第1の空所
交差部を形成する上記第1の横断空所は、上記第1および第2の端部の内側にあ
る。さらに、第1の長手方向のチャンネルとともに上記第2の空所交差部を形成
する上記第2の横断空所は、上記第1および第2の端部の内側にあり、かつ上記
第1の空所交差部から離れていることが好ましい。
【0058】 添付図面に示されている具体例を参照して、本発明の好ましい実施の形態につ
いて詳細に説明する。本発明による光学装置の一つの実施の形態が図3および図
4に符号50によって示されている。ここに示されているように、光学装置50
は、屈折率の周期的変化からなるのが好ましい、すなわちブラッグ格子であるこ
とが好ましい格子54を包含する光導波路ファイバ52を備えている。光導波路
ファイバ52は基板56に付着されている。第1の横断空所60は、第1の長手
方向チャンネル58とともに第1の空所交差部62を形成し、光導波路ファイバ
52は、第1の長手方向チャンネル58に添わされて、第1の空所交差部62に
おいて基板56に付着されている。第2の横断空所64は第1の長手方向チャン
ネル58とともに第2の空所交差部66を形成し、ファイバ52は第2の空所交
差部66に付着されている。基板の第1の表面68には、第1の長手方向チャン
ネル58と第1および第2の横断空所60,64が画成され、チャンネル状をな
す第1および第2の横断空所60,64は、第1の長手方向チャンネル58と実
質的に直交している。光導波路ファイバ52を基板56に付着させる手段70は
接着剤であることが好ましく、ガラスフリット融着シール72であることが最も
好ましく、このガラスフリット融着シール72は、空所交差部62,66を満た
し、かつこれら空所交差部の近傍の横断空所領域74内に延出し、さらに空所交
差部の近傍の長手方向チャンネル領域76にも延出している。
【0059】 図5は、本発明における好ましい基板56を示し、負の熱膨脹係数を有する単
一かつ一体の材料からなる。
【0060】 図6は、基板56に形成された横断空所60および64がテーパー状断面形状
を有する本発明の実施の形態を示す。鳩尾状のようなテーパー状断面は、空所交
差部62および66に施された接着剤がここに結合されて、基板に対する相対移
動が不可能になることが保証される。さらに、長手方向チャンネル58がテーパ
ー状断面を有するようにしてもよい。このようなテーパー状断面は、空所交差部
62および66に形成されたガラス質融着シールが基板56に対して結合状態を
保つことを確実にする。図7に示されているように、横断凹穴88は円錐形にな
るようにテーパーリーマによって形成されたテーパー状断面形状78を有する。
【0061】 図5に示されているように、第1の長手方向チャンネル58は、第1の端部8
0と第2の端部(末端部)82とを備え、これら第1および第2の端部80,8
2の内側に、第1の横断空所60と、第1の空所交差部62と、第2の横断空所
64と、第2の空所交差部66とを備えている。
【0062】 本発明はさらに、光導波路ファイバ格子と、この光導波路ファイバ格子の温度
による変化を調節する基板とを備えた光学装置の製造方法を含み、この方法は、
基板を提供する工程と、長手方向空所領域と少なくとも1つの横断領域とを有す
る空所が形成されるように基板に空所を形成する工程とを含む。この方法はさら
に、形成された空所の長手方向空所領域に沿って光導波路ファイバを配置する工
程と、液状の接着剤を、それが上記空所の長手方向領域および横断領域に流れる
ように施して、長手方向領域および横断領域の底面を実質的に覆い、そこで流動
性の接着剤を固体状の接着剤に凝固させて、上記空所の横断領域と長手方向領域
との交差部の直ぐ近くで光導波路ファイバを基板に付着させる工程とを含む。上
記接着剤は、上記交差部から交差部の直ぐ近くの空所領域に延出するように施す
のが好ましい。
【0063】 格子を備えた光導波路ファイバからなる光学装置50の作成方法において、基
板56を提供する工程は、単一材料からなる基板56を提供する工程を含む。こ
の基板56は、ゼロに近いかまたは負の熱膨張係数を有することが好ましい。こ
の方法は、異なる熱膨張係数を有する少なくとも2種類の異なる材料からなる複
合基板である基板56を提供する工程を含んでもよい。
【0064】 基板56に空所84を形成する工程は、基板にスロットを刻設して空所84の
長手方向領域58を形成することを含むのが好ましい。空所84を形成する工程
はさらに、長手方向領域58と実質的に垂直なスロットを刻設して横断領域60
および64を形成することを含む。空所84の形成は、テーパー状空所を形成す
ることを含むのが好ましい。
【0065】 長手方向領域58と横断領域60および64とを有する空所84を形成する工
程は、テーパー状横断領域78が形成されるように、好ましくはテーパリーマー
を用いて基板56に穴開けを行なう工程を含んでもよい。
【0066】 光導波路ファイバ52を空所84の長手方向領域58に沿って配置する工程は
、ファイバ52を空所84の内部に配置することを含むことが好ましく、さらに
、ファイバ52に張力を加えることを含んでもよい。
【0067】 液状の接着剤を、それが空所84の長手方向領域58および横断領域60に流
れるように施す工程はさらに、好ましくは約500℃よりも低い溶融/シール温
度を有するシール用低融点ガラスからなることが好ましいガラスフリットを空所
84内および直ぐ近くの光導波路ファイバ52に配置し、上記ガラスフリットを
溶融させて液状にし、この液状ガラスフリットを冷やして、光導波路ファイバ5
2を基板56に付着させるガラスフリット融着シール72を上記長手方向領域5
8および横断領域60ならびにそれらの交差部に形成することを含む。
【0068】 本発明のさらなる実施の形態は、ガラスフリット融着シールで基板に付着され
た光導波路を備えた光学装置を含む。ガラスフリット融着シールはシール用低融
点ガラスからなることが好ましい。好ましいガラスフリット融着シールは錫・亜
鉛・硼酸塩を含む。これに代わる好ましいガラスフリット融着シールは鉛・亜鉛
・硼酸塩を含む。ガラスフリット融着シールはガラス質または失透されたもので
よい。光学装置50は、ガラスフリット融着シール72で基板56に付着された
光導波路52を備え、温度で変化する光導波路の光学的特性を基板56が調節す
ることが好ましい。光導波路52は光導波路ファイバからなることが好ましい。
光導波路ファイバは格子を備えていることが好ましい。光導波路52は、横断チ
ャンネル60,64とこれに交差するチャンネル58とを有する空所84内にお
いてガラスフリット融着シール72で基板56の付着されているのが好ましい。
基板56は、ゼロに近いかまたは負の熱膨脹係数を有する、そして好ましくは単
一材料からなることが好ましい。異なる熱膨張係数を有する少なくとも2種類の
異なる材料からなる複合基板であってもよい。
【0069】 本発明のさらなる実施の形態は、光ファイバ格子52および54の、温度で変
化する光学的特性を調節するために基板がファイバに力を加えるように、基板5
6に付着された光ファイバ格子52および54を備えた光学装置50を含み、上
記光ファイバ格子52および54は接着剤で基板56に付着され、この基板56
は、上記接着剤を受け入れるための空所84を画成し、この空所84は、中央の
交差領域62および66と、これら中央の交差領域から延出する指状領域74お
よび76を有し、上記接着剤は、中央の交差領域62および66ならびに指状領
域74および76に流入してそこで固体状接着体70に凝固し、この固体状接着
体70が上記空所内に物理的に結合される。この空所内の物理的結合は、前記固
体状接着体がくさびを形成するように、テーパー状断面78により得てもよい。
【0070】 本発明のさらなる実施の形態は、温度で変化する光ファイバ格子の光学的特性
を制御するために基板がファイバに力を加えるように、基板に付着された光ファ
イバ格子を備えた光学装置を含み、上記光ファイバ格子はガラスフリット融着シ
ールで基板に付着される。
【0071】 図8は、本発明のさらなる実施の形態を示し、長手方向チャンネル58と交差
してそれを横切る第1の横断空所60および第2の横断空所64が、穴開けによ
って形成された穴からなる。
【0072】 図7および図9は、基板56が、その長手方向に沿って内部に延びる孔98を
備えた細長い管体86からなる。横断孔88は管体86を貫通して長手方向孔9
8を横断し、交差部62および66を形成し、これら交差部62および66を実
質的に満たし、かつ交差部62および66から横断孔88および長手方向孔98
内に延出する接着剤70によって、ファイバ52が管体86および長手方向孔9
8に付着されている。
【0073】 光学装置50は、負の熱膨張係数を有する、細かい亀裂の入ったリチアアルミ
ノ珪酸塩・ベータユークリプタイト・ガラスセラミックからなる単一材料基板5
6を用いて作成した。この基板は、長さ約52mm、幅約4mm、高さ(垂直方向の
厚さ)約2mmの細長い四角形の板部材であった。幅1/32インチ(0.8mm)
の薄いダイヤモンド研削ホイールを用いて、図3および図4に示されているよう
に、板状基板56の上面に、深さ約0.040インチ(1mm)のチャンネル58
,60,64および中央横断チャンネル90を切った。ブラッグ格子54を備え
た光導波路ファイバ52を、長手方向チャンネル58の底面から僅か上方に配設
し、約10Kpsi(6.9Mpa)の張力を加えた。ニューヨーク州所在のコーニ
ング社から市販されているのテレビジョンバルブシール用のガラスフリットペー
スト(コーニング7580番)を空所交差部62および66に配設し、空所交差
部62および66の直ぐ近くの光ファイバ52を囲み、かつ覆った。
【0074】 CO レーザーを用いてシール用ガラスフリットを溶かして可流動状態にし 、次いで、可流動状態のシール用ガラスフリットが固体状接着性ガラスフリット
融着シールに凝固するようにレーザーを取り除いた。ガラスフリット融着シール
72は、機械的および物理的に基板56と結合し、ファイバ52を基板56にシ
ールした。この構造および作成方法により、機械的および物理的に基板に結合さ
れた光導波路ファイバが提供され、ガラスフリット融着シールは基板および凹チ
ャンネル内に閉じ込められた。中央横断チャンネル90内におけるファイバおよ
び格子の光学的応力測定により、ファイバが14等級の張力に保たれていること
が示された。光学装置50の取扱い時に、ファイバとガラスフリット融着シール
との境界に明らかなエッジがあると、ファイバ52がガラスフリット融着シール
72に対し相対的に移動したときに歪みを受けたり破壊されたりするために、エ
ポキシ樹脂92を用いて3点接続歪み開放手段を構成した。さらに、光ファイバ
52の保護被覆にエポキシ樹脂92が接着され、かつ、ファイバ52の保護被覆
を剥がされた領域にガラスフリット融着シールが接着されるように、装置の形成
時に、ファイバの内方の長さ部分とエポキシ樹脂に触れる領域間の光ファイバ5
2の保護被覆を剥がした。ダウ・コーニングの誘電体フルオロゲルブランドのQ
−36679タイプゲルのような保護ゲルを用いてチャンネル58を満たしてフ
ァイバ52を囲み、ファイバ52を汚染およびその他の危害から保護した。この
光学装置は特に頑強な構造を備え、ガラスフリット融着シールは滑動または移動
が不可能で、その自らの物理的形状によって適切に付着された。固体状ガラスフ
リット融着シールは基板に物理的に結合された。横断チャンネルと長手方向チャ
ンネルとの交差部はガラスフリット融着シール体を制止して、これらシール体の
光導波路ファイバの長さ方向に沿った移動および滑動を阻止した。
【0075】 本発明の精神や範囲から逸脱することなく本発明に幾多の修正および変更を加
え得ることは当業者に明らかである。よって、本発明の修正および変更が添付の
請求の範囲およびそれらの同等物の範囲内で、本発明がこれらの修正および変更
に及ぶことが意図されている。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明を実施した典型的な光学装置を示す側面図
【図2】 シールに生じる不整合を示すグラフ
【図3】 本発明を実施した装置の斜視図
【図4】 図3に示された装置の平面図
【図5】 本発明を実施した装置の斜視図
【図6】 本発明を実施した装置の斜視図
【図7】 本発明を実施した装置の斜視図
【図8】 本発明を実施した装置の斜視図
【図9】 本発明を実施した装置の側面図
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY, DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I T,LU,MC,NL,PT,SE),AL,AM,A T,AU,AZ,BA,BB,BG,BR,BY,CA ,CH,CN,CU,CZ,DE,DK,EE,ES, FI,GB,GE,GH,HU,IL,IS,JP,K E,KG,KP,KR,KZ,LC,LK,LR,LS ,LT,LU,LV,MD,MG,MK,MN,MW, MX,NO,NZ,PL,PT,RO,RU,SD,S E,SG,SI,SK,SL,TJ,TM,TR,TT ,UA,UG,UZ,VN,YU,ZW (72)発明者 ディマーティノ,スティーヴン アメリカ合衆国 ニューヨーク州 14802 エルミラ コールマン アヴェニュー 64 (72)発明者 フランシス,ゲイロード アメリカ合衆国 ニューヨーク州 14870 ペインテッド ポスト オーヴァーブル ック ロード 33 (72)発明者 グレースマン,スコット アメリカ合衆国 ニューヨーク州 14830 コーニング ジョン ヒル ロード 1039 (72)発明者 モレナ,ロバート アメリカ合衆国 ニューヨーク州 14858 リンリー ブラウンタウン ロード 438 (72)発明者 ウェディング,ブレント アメリカ合衆国 ニューヨーク州 14830 コーニング イースト サード ストリ ート 3 Fターム(参考) 2H038 BA25 CA52

Claims (34)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 格子を包含する光導波路ファイバを備え、該格子を包含する
    光導波路ファイバの、温度とともに変化する光学的特性を調節するために、該光
    導波路ファイバが基板に付着されてなる光学装置において、 第1の長手方向チャンネルを画成した基板と、 該基板において前記第1の長手方向チャンネルとともに第1の空所交差部を形
    成する第1の横断空所とを備え、 前記光導波路ファイバが前記第1の長手方向チャンネルに沿って配設され、か
    つ前記第1の空所交差部において前記基板に付着されていることを特徴とする光
    学装置。
  2. 【請求項2】 前記第1の長手方向チャンネルとともに第2の空所交差部を
    形成する第2の横断空所を備え、前記光導波路ファイバが前記第2の空所交差部
    において前記基板に付着されていることを特徴とする請求項1記載の光学装置。
  3. 【請求項3】 前記基板が、前記第1の長手方向チャンネルを画成した第1
    の表面を備え、前記第1の横断空所が、前記基板の第1の表面における第2のチ
    ャンネルを構成し、該第2のチャンネルが前記第1の長手方向チャンネルと実質
    的に垂直であることを特徴とする請求項1記載の光学装置。
  4. 【請求項4】 ガラスフリット融着シールをさらに備え、該ガラスフリット
    融着シールが前記第1の空所交差部を実質的に満たし、かつ前記第1の横断空所
    内に延出し、前記光導波路ファイバが、前記第1の空所交差部において前記ガラ
    スフリット融着シールにより前記基板に付着されていることを特徴とする請求項
    1記載の光学装置。
  5. 【請求項5】 前記第1の横断空所がテーパー状断面を有することを特徴と
    する請求項1記載の光学装置。
  6. 【請求項6】 前記基板が単一材料からなることを特徴とする請求項1記載
    の光学装置。
  7. 【請求項7】 前記基板が、少なくとも二種類の異なる材料からなる複合基
    板であることを特徴とする請求項1記載の光学装置。
  8. 【請求項8】 前記第1の長手方向チャンネルが第1の端部と第2の遠方側
    端部とを備え、前記第1の横断空所が、前記第1の端部と前記第2の端部との内
    側で前記第1の長手方向チャンネルとともに第1の空所交差部を形成しているこ
    とを特徴とする請求項1記載の光学装置。
  9. 【請求項9】 前記第1の長手方向チャンネルが第1の端部と第2の遠方側
    端部とを備え、前記第1および第2の空所交差部が、前記第1の端部と前記第2
    の端部との内側にあることを特徴とする請求項2記載の光学装置。
  10. 【請求項10】 格子を包含する光導波路ファイバと基板とを備え、該基板
    が、前記格子を包含する光導波路ファイバの、温度とともに変化する光学的特性
    を調節するように構成された光学装置の作成方法であって、 基板を提供し、 該基板に、長手方向領域と少なくとも1つの横断領域とを有する空所を形成し
    、 該空所の前記長手方向領域に沿って光導波路ファイバを配置し、 前記長手方向領域および横断領域内に流入する接着剤を提供し、該接着剤が固
    体に凝固して前記光導波路ファイバを、前記空所の前記横断領域および前記長手
    方向領域の直ぐ近くで前記基板に付着させる、 各工程を含むことを特徴とする光学装置の作成方法
  11. 【請求項11】 前記基板を提供する工程が、単一材料からなる基板を提供
    する工程をさらに含むことを特徴とする請求項10記載の方法。
  12. 【請求項12】 前記単一材料からなる基板を提供する工程が、ゼロに近い
    かまたは負の熱膨張係数を有する単一材料からなる基板を提供する工程をさらに
    含むことを特徴とする請求項11記載の方法。
  13. 【請求項13】 前記基板を提供する工程が、異なる熱膨張係数を有する少
    なくとも二種類の異なる材料からなる複合基板を提供する工程をさらに含むこと
    を特徴とする請求項10記載の方法。
  14. 【請求項14】 長手方向領域と少なくとも1つの横断領域とを備えた空所
    を前記基板に形成する工程が、前記基板にスロットを切って前記空所の前記長手
    方向領域を形成する工程をさらに含むことを特徴とする請求項10記載の方法。
  15. 【請求項15】 前記基板に空所を形成する工程が、テーパー状空所を形成
    する工程をさらに含むことを特徴とする請求項10記載の方法。
  16. 【請求項16】 長手方向領域と少なくとも1つの横断領域とを備えた空所
    を前記基板に形成する工程が、前記長手方向領域に対し実質的に垂直なスロット
    を前記基板に切って前記横断領域を形成する工程をさらに含むことを特徴とする
    請求項10記載の方法。
  17. 【請求項17】 前記基板に空所を形成する工程が、前記基板に穴を開ける
    工程をさらに含むことを特徴とする請求項10記載の方法。
  18. 【請求項18】 前記基板に穴を開ける工程が、テーパーリーマで前記基板
    に穴を開ける工程をさらに含むことを特徴とする請求項17記載の方法。
  19. 【請求項19】 前記長手方向領域に沿って光導波路ファイバを配置する工
    程が、前記ファイバを前記空所内に配置する工程をさらに含むことを特徴とする
    請求項10記載の方法。
  20. 【請求項20】 光導波路ファイバに張力を加える工程をさらに含むことを
    特徴とする請求項10記載の方法。
  21. 【請求項21】 前記空所の前記長手方向領域および横断領域内に流入する
    接着剤を提供する工程が、前記空所と前記光導波路ファイバの直ぐ近くとにガラ
    スフリットを配置し、該ガラスフリットを溶融させ、かつ該ガラスフリットを冷
    却して、前記光導波路ファイバを前記基板に機械的に付着させるガラスフリット
    融着シールを前記長手方向領域および横断領域内に形成する工程をさらに含むこ
    とを特徴とする請求項10記載の方法。
  22. 【請求項22】 ガラスフリット融着シールで基板に付着された光導波路を
    備えていることを特徴とする光学装置。
  23. 【請求項23】 前記ガラスフリット融着シールがシール用低融点ガラスを
    含むことを特徴とする請求項22記載の光学装置。
  24. 【請求項24】 前記基板が、温度とともに変化する前記光導波路の光学的
    特性を調節することを特徴とする請求項22記載の光学装置。
  25. 【請求項25】 前記光導波路が、前記基板に形成された空所内にガラスフ
    リット融着シールで付着され、前記空所が交差チャンネルを備えていることを特
    徴とする請求項22記載の光学装置。
  26. 【請求項26】 前記ガラスフリット融着シールが錫・亜鉛・燐酸塩を含む
    ことを特徴とする請求項22記載の光学装置。
  27. 【請求項27】 前記ガラスフリット融着シールが鉛・亜鉛・燐酸塩を含む
    ことを特徴とする請求項22記載の光学装置。
  28. 【請求項28】 前記ガラスフリット融着シールがガラス質であることを特
    徴とする請求項22記載の光学装置。
  29. 【請求項29】 前記ガラスフリット融着シールが失透されていることを特
    徴とする請求項22記載の光学装置。
  30. 【請求項30】 前記光導波路が光導波路ファイバを含むことを特徴とする
    請求項22記載の光学装置。
  31. 【請求項31】 前記光導波路ファイバが格子を備えていることを特徴とす
    る請求項30記載の光学装置。
  32. 【請求項32】 前記基板がゼロに近いかまたは負の熱膨張係数を有するこ
    とを特徴とする請求項22記載の光学装置。
  33. 【請求項33】 前記基板が単一材料からなることを特徴とする請求項32
    記載の光学装置。
  34. 【請求項34】 前記基板が、異なる熱膨張係数を有する少なくとも二種類
    の異なる材料からなる複合基板であることを特徴とする請求項32記載の光学装
    置。
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