JP2001358208A - ウェハ処理装置、そのウェハ位置ずれ検出装置およびウェハ位置ずれ検出方法 - Google Patents
ウェハ処理装置、そのウェハ位置ずれ検出装置およびウェハ位置ずれ検出方法Info
- Publication number
- JP2001358208A JP2001358208A JP2000180182A JP2000180182A JP2001358208A JP 2001358208 A JP2001358208 A JP 2001358208A JP 2000180182 A JP2000180182 A JP 2000180182A JP 2000180182 A JP2000180182 A JP 2000180182A JP 2001358208 A JP2001358208 A JP 2001358208A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- optical sensor
- state
- robot arm
- light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Manipulator (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
ても確実に位置ずれを検出でき、少数の光学的センサを
用いて検出できるウェハ位置ずれ検出装置およびウェハ
位置ずれ検出方法を提供する。 【解決手段】 ウェハ処理装置においてベースに対する
位置が不変の第1と第2の光センサ13,14を備え、
第1と第2の光センサは、アーム機構部が最縮状態であ
るとき第1光センサがウェハ17で遮光状態となりかつ
第2光センサが受光状態となり、またアーム機構部が最
縮状態以外の状態にあるとき第1光センサが受光状態と
なりかつ第2光センサが遮光状態となるような位置関係
で配置される。第1回目のウェハ検出で第1光センサが
受光状態かつ第2光センサが遮光状態となり、第2回目
のウェハ検出で第1光センサが遮光状態かつ第2光セン
サが受光状態となるときにウェハは正常位置にあると判
定され、それ外の場合には位置ずれが生じたと判定され
る。
Description
そのウェハ位置ずれ検出装置およびウェハ位置ずれ検出
方法に関し、特に、ウェハ処理装置内に設けられたウェ
ハ搬送装置においていかなる方向にウェハ位置ずれが生
じてもできるだけ少ない数のセンサで確実に検出し得る
装置および方法に関する。
面処理装置」という)としてエッチング装置、CVD装
置、PVD装置が知られている。これらの装置は、基本
構成として、ウェハの表面処理が行われる所要の減圧状
態の空間を形作る真空容器(処理チャンバ)と、真空容
器内を所要の減圧状態にする排気機構と、真空容器内に
プロセスガスを供給するガス供給機構と、真空容器内に
電力を供給する電力供給機構と、処理すべきウェハを設
置するステージと、真空容器内の当該ステージにウェハ
を搬入して搭載しかつ搬出して取除くウェハ搬送装置を
備えている。ウェハの表面処理を行う真空容器と、ウェ
ハ搬送装置が備えられる容器とは隣接して設けられ、そ
の間にはゲートバルブが設けられている。ウェハ搬送装
置が備えられた容器は、通常、セパレーションチャンバ
(または搬送チャンバ)と呼ばれ、その周囲に複数のウ
ェハ処理用の真空容器が設けられている。
表面処理のための動作が次のように行われる。まず最初
に、外部から処理を受ける1枚のウェハがウェハ搬送装
置が設けられた容器内に搬入され、その後にウェハはウ
ェハ搬送装置によってゲートバルブを経由して真空容器
内へ搬入され、ステージの上に搭載される。その後、ゲ
ートバルブは閉じられ、真空容器は密閉される。この状
態で真空容器の内部を排気機構によって所定の減圧状態
に排気した後、真空容器内にガス導入機構によってプロ
セスガスが導入される。当該プロセスガスの導入量は、
真空容器内に設定される減圧状態との関係で、適当な流
量に設定され、維持される。その後、電力供給機構によ
り電力がプロセスガスに供給され、この電力でプラズマ
が生成され、当該プラズマの作用でステージ上のウェハ
の表面処理が行われる。ウェハの表面処理が終了する
と、ウェハ搬送装置によってウェハの交換が行われる。
ウェハの交換は、ウェハ搬送装置によって表面処理が終
了したウェハをステージから取除き、真空容器から取出
し、表面処理装置の外部へ搬出し、その後、次に表面処
理すべきウェハを前述と同様に真空容器内に搬入するよ
うに、行われる。上記のごとくしてウェハの交換を行っ
た後に前述と同様な動作を繰返す。
ェハを搬入しまたは当該真空容器からウェハを搬出する
ウェハ搬送装置について、従来の一例を、図11〜図1
3を参照して説明する。
示し、図12はその動作の一例を示す。この従来のウェ
ハ搬送装置は、出願人による表面処理装置において従来
より専ら利用されてきた装置である。このウェハ搬送装
置はロボットアーム101と、ロボットアーム101の
先部に設けられた爪付き把持プレート102を備えてい
る。
材)103を中心に全体が回転する構成を有する。10
3aが回転の中心となるベース中心部である。ベース1
03の下側にはモータ(図示せず)等の駆動装置が設置
され、モータの駆動軸の位置はベース中心部103aの
位置と一致している。ロボットアーム101は、中間連
結部104を有し、ベース103と中間連結部104の
間に設けられる平行リンク対105と、中間連結部10
4と把持プレート取付け部106の間に設けられる平行
リンク対107とから構成される。平行リンク対10
5,107の各リンクの両端は、ベース103と中間連
結部104と把持プレート取付け部106のそれぞれに
回転可能に連結されている。このように連結部分(関節
部)を回転させることによって、平行リンク対105と
ベース103と中間連結部104で平行四辺形リンク装
置が形成され、平行リンク対107と中間連結部104
と把持プレート取付け部106で他の平行四辺形リンク
装置が形成される。平行リンク対105は第1アームを
形成し、平行リンク対107は第2アームを形成する。
把持プレート102は把持プレート取付け部106の先
端に固定されている。把持プレート102は、図11や
図12で破線によって示されるように、円形のウェハ1
08を搭載する二股部102aを有し、かつ搭載状態の
ウェハ108を周囲4箇所で押える4つの爪109を備
えている。正常の搬送状態では、ウェハ108は把持プ
レート102の上であって4つの爪109の内側に配置
されるように把持される。なお図11および図12で
は、ロボットアーム101の構成を明確に示すために、
把持プレート102に搭載されたウェハ108は破線で
示されている。
よるウェハ搬送の動作の一例を説明する。この動作は、
最も縮んだ位置(左側後退位置)に存在するロボットア
ーム101がアーム機構部の位置関係を変えながら右側
へアーム機構部全体を伸ばす状態を6段階(A〜F)で
示している。この動作によって破線で示されたウェハ1
08は図において左側から右側へ位置が移される。この
動作において、当然のことながらベース103の位置は
変わらず、このベース103に対して平行リンク対10
5を時計回りに回転させかつ平行リンク対107を中間
連結部104に対して反時計周りに回転させることによ
り、すなわちアーム角度を変化させることにより上記動
作が生じる。上記のロボットアーム101の動作は、通
常、ウェハ処理のためのウェハを真空容器内に搬入する
ときに行われる。また動作を逆にすることによって、ロ
ボットアーム101を後退させることもできる。こうし
てロボットアーム101の伸縮動作によって把持プレー
ト102すなわちウェハ108の前進と後退を行うこと
が可能となり、これによりウェハ処理用真空容器に対す
るウェハの搬入(導入)・搬出(取出し)を行う。
101によってウェハ108を搬送するとき、ウェハ1
08が把持プレート102の上で正しい位置(正常位
置)に配置されているときには問題がないが、場合に応
じて、把持プレート102の上で位置ずれが生じて、ず
れる場合も起きる。このようなときには、ウェハ108
は一部が爪109の上に乗り上げ、傾きを生じた状態に
なる。なお把持プレート102上でウェハ108が正常
位置にあるとは、ウェハ108が4つの爪109に囲ま
れ、ウェハ108の中心と、4つの爪109で決まる中
心110(図12のAに示す)とが一致して配置された
状態のことをいう。従ってロボットアーム101でウェ
ハを搬送するときには常にウェハ108が本来の正常位
置にあり、位置ずれの不具合が生じていないか否かを監
視する必要がある。かかる監視を行うため、図11等で
示したウェハ搬送装置にはウェハの位置ずれを検出する
装置が設けられている。
は1つの透過型光センサ111を利用して形成されてい
る。透過型光センサ111を図13に拡大して示す。こ
の透過型光センサ111は、箱状容器112の手前の一
面に上下の位置でパイプ部113,114を設け、この
箱状容器112に2本の光ファイバ115を導いて、当
該光ファイバ115の先端をパイプ部113,114の
先から突き出させている。2本の光ファイバ115の先
端位置115aは上下の位置関係にて一致している。例
えば上側の光ファイバ115の先端115aには投光部
が設けられ、下側の光ファイバ115の先端115aに
は受光部が設けられている。光ファイバ115に導かれ
て投光部から出た光116(細いビーム状光線)は、受
光部で受光される。従って上側の光ファイバ115の投
光部と下側の光ファイバ115の受光部の間にウェハの
ような遮光物が入ると、光116は遮ぎられる。このウ
ェハ位置ずれ検出装置では、ウェハの一部が投光部と受
光部の間に存在するか否かで、ウェハの有無を検出し、
それによってロボットアーム101の把持プレート10
2に搭載されたウェハの位置ずれの有無を検出するよう
にしていた。以上の構成を有する透過型光センサ111
はベース103の所定の箇所に取りつけられている。こ
れによればロボットアーム101が最も縮んだ状態にあ
るときのウェハ108が検出されるようになっている。
ロボットアーム101の最縮時の状態は図12のAで示
した状態である。
上記の従来例では、1つの透過型光センサ111を用い
て把持プレート102上のウェハ108の位置ずれをロ
ボットアーム101の最縮時の状態で検出するようにし
ていた。
について説明する。ウェハ位置ずれ検出機構の文献とし
て、例えば特開平7−201952号公報、特開平10
−223732号公報、特開平10−247681号公
報、特開平10−64971号公報、特開平6−242
84号公報等を挙げることができる。
造装置に関するもので、ドライエッチング装置等の処理
容器内のステージにウェハを置く際のウェハの位置ずれ
を検出し、これを防止する装置が備えられている。ウェ
ハ位置ずれ検出装置は、ステージのウェハ載置面の縁に
沿って3つの反射型センサを設け、ステージの上に載置
されるウェハの最外周の3箇所を検出する構成となって
いる。3つの反射型センサのいずれかが反射光を検出で
きないときには、位置ずれが生じたと判定される。
ハの位置を効率よく正確に検出し、ウェハ移載動作を適
切に補正する位置ずれ検出装置および方法を開示する。
この位置ずれ検出では透過型または反射型の2つの光学
センサを所定位置に配置し、当該2つの光学センサでウ
ェハの円周の2箇所を検出して、円形ウェハの弦の長さ
を求め、この弦の長さとウェハの既知の半径と直角三角
形の3辺の関係を利用してウェハの中心の位置を求め、
これによりウェハの位置ずれの有無を検出している。2
つの光学センサによるウェハの円周部の2ヶ所の検出は
同時に1回のみ行われる。
テージの上に基板を搭載するとき、基板の搬送前後の位
置ずれを検出し、基板ステージ上の所望の位置に基板を
搭載する位置ずれ検出装置を開示している。基板搬送装
置で基板を基板ステージの上に搬送して配置する場合に
おいて、搬送前の段階で切欠き部を含む3箇所の基板外
縁部を3つのセンサで検出し、搬送後の段階で切欠き部
を含む2箇所の基板外縁部をを2つのセンサで検出し、
基板搬送前後の検出結果を比較することにより、基板の
搬送前後の位置ずれを算出するように構成されている。
位置の誤り検出を行う装置が開示される。ウェハ移送装
置はウェハを運ぶのに適したブレードを有し、このブレ
ードの上にウェハが搭載される。このブレードはスロッ
トを有し、ブレードの上でウェハの位置ずれが生じてい
ないか否かは、処理チャンバの入り口近くに1つの光検
出センサを設け、光検出センサはスロットを通して光を
反射器へ向け監視することによって行われる。ブレード
のスロットの端とウェハの端の間隔を測定し、この間隔
によってブレードに対するウェハの位置を計測し、ウェ
ハの位置ずれを検出する。
ャンバの周囲に複数の処理チャンバを備え、移送チャン
バ内にR−θロボットを設け、このロボットでウェハを
各処理チャンバへ搬入しまたは搬出する。ウェハを処理
チャンバに搬入するとき、ウェハを選択された目的位置
に正確に位置決めするために、目的位置に対するウェハ
等の相対的な位置を検出するセンサアレイ(複数の光学
的センサ)が移送チャンバの上面壁と下面壁の各外側に
位置合せして配置されている。
して説明した従来の位置ずれ検出機構によれば、1つの
透過型光センサ111を用いており、ウェハ108の外
縁の一部が当該光センサにおいて遮光状態を作ることに
より位置ずれを検出するため、構成上、搬送途中にウェ
ハの位置ずれが発生してもウェハの一部が透過型光セン
サの光を遮る限り、ウェハが正常な位置にあると判断さ
れるおそれがあった。つまり、1つの透過型光センサで
ウェハの外縁の一点のみを検出する構成であったため、
把持プレート102の上でウェハ108の位置ずれが生
じても、ずれが生じる方向によっては位置の変化がな
く、光センサ111で検出され、正常と判断されること
もある。その結果、把持プレート102の上のウェハは
位置ずれを生じたまま搬送され、ウェハが破損する可能
性も高くなる。1つの光センサ111を利用してウェハ
の位置ずれを検出する場合には、上記のような不具合が
生じるのは宿命的なことであると考えられる。
たウェハの位置ずれ検出の構成は、1つの光センサを利
用するものでは前述と同様な問題が起き、また3つ以上
の光センサを利用するものでは、光センサの並べ方によ
っては当然のことながら基本的にあらゆる方向のウェハ
の位置ずれを検出することが可能となる。しかし、3つ
以上の複数の光センサを利用するものでは、コスト的に
できる限り安価に装置を作製したいという要望に沿うも
のではない。そこで、以上のことから、ウェハ位置ずれ
の検出性能を高め、あらゆる方向のウェハ位置ずれを確
実に検出し、かつ光センサの数をできるだけ少なくして
製作コストを低減したいという要望が高まってきてい
る。
上記要望に応えるものであり、ウェハ処理装置において
正常位置に対してどの方向に位置ずれが生じても確実に
位置ずれを検出でき、さらに少数の光学的センサを用い
て検出できるウェハ位置ずれ検出装置およびウェハ位置
ずれ検出方法、およびかかるウェハ位置ずれ検出装置を
備えたウェハ処理装置を提供することにある。
ウェハ処理装置、そのウェハ位置ずれ検出装置は、上記
目的を達成するために次のように構成される。
処理が行われる真空容器に対してウェハを搬入しまたは
搬出するロボットアームを備えている。このロボットア
ームは回転自在なベース(基礎部材)とこのベース上に
設けられ直径方向に伸びと縮みの動作を行うアーム機構
部とこのアーム機構部の先部に取り付けられた爪付き把
持プレートとから構成されている。このアーム機構部
は、代表的には、実施形態で説明されるごとく第1の平
行リンク対と第2の平行リンク対と中間連結部等で構成
される。しかしながら、これに限定されるものではな
い。処理対象であってロボットアームで搬送されるウェ
ハは上記の爪付き把持プレートの上に搭載される。上記
のウェハ処理装置において、ベースに対する位置が不変
の第1と第2の光センサを有し、第1光センサと第2光
センサによる2回の検出動作の組合せでウェハの位置ず
れの有無を判定するウェハ位置ずれ検出装置が備えられ
る。上記の構成において、好ましくは、第1と第2の光
センサは共にウェハが入り込む開口部を持つコ字型形態
を有し、第1光センサは上記ロボットアームの伸縮方向
に向かって上記開口部を向けて配置され、第2光センサ
は伸縮方向に直交する方向に向かって上記開口部を向け
て配置される。
ずれ検出装置は、前述したウェハ処理装置であってウェ
ハ位置ずれ検出装置以外の基本的構成を有する部分に適
用され、付設されるものである。このウェハ位置ずれ検
出装置は、ベースに対する位置が不変の第1と第2の光
センサを備え、第1光センサと第2光センサによる2回
の検出動作の組合せでウェハの位置ずれの有無を判定す
るように構成されている。上記の構成において、好まし
くは、第1と第2の光センサは、アーム機構部が最縮状
態にあるとき第1光センサがウェハで遮光状態となりか
つ第2光センサが受光状態となり、アーム機構部が最縮
状態以外の特定状態にあるとき第1光センサが受光状態
となりかつ第2光センサが遮光状態となるように、配置
されている。そして特定状態における第1回目のウェハ
検出で第1光センサが受光状態かつ第2光センサが遮光
状態となり、最縮状態における第2回目のウェハ検出で
第1光センサが遮光状態かつ第2光センサが受光状態と
なるときにウェハは正常位置にあると判定され、それ外
の場合には位置ずれが生じたと判定される。上記の構成
において、さらに好ましくは、第1と第2の光センサは
共に開口部を持つコ字型形態を有し、第1光センサはロ
ボットアームの伸縮方向に向かって開口部を向けて配置
され、第2光センサは伸縮方向に直交する方向に向かっ
て開口部を向けて配置されている。
は、上記目的を達成するために次のような工程により構
成される。
の処理が行われる真空容器に対してウェハを搬入しまた
は搬出するロボットアームを備え、このロボットアーム
は回転自在なベースとこのベース上に設けられ直径方向
に伸び動作と縮み動作を行うアーム機構部とこのアーム
機構部の先部に取り付けられた爪付き把持プレートとを
含んでなり、把持プレートの上にウェハが搭載されるウ
ェハ処理装置に適用される。そして、当該ウェハの位置
ずれ検出方法は、第1と第2の2つの光センサを用いる
工程と、アーム機構部が最縮状態にあるとき第1光セン
サがウェハで遮光状態となりかつ第2光センサが受光状
態となり、アーム機構部が最縮状態以外の他の特定状態
にあるとき第1光センサが受光状態となりかつ第2光セ
ンサが遮光状態となることを条件にして、ウェハは正常
位置であると判定する工程と、条件が満たされないとき
にはウェハは位置ずれが生じたと判定する工程を含んで
いる。
を添付図面に基づいて説明する。
び本発明に係るウェハ位置ずれ検出装置が設けられたウ
ェハ処理装置の内部構成を示す平面図であり、図2は図
1の要部の縦断面図である。図2ではウェハ位置ずれ検
出装置の図示は省略されている。図1と図2によれば、
マルチチャンバ形式によるウェハ処理装置10において
ウェハ搬送のためのセパレーションチャンバ(ウェハ搬
送チャンバ)11が示されている。セパレーションチャ
ンバ11の内部にはウェハ搬送装置が設けられ、ウェハ
搬送装置はロボットアーム12によって構成されてい
る。図1と図2によればロボットアーム12の平面図と
側面図が示される。このロボットアーム12に対して本
発明に係るウェハ位置ずれ検出装置が付設される。ロボ
ットアーム12自体の構成は、従来技術の箇所で説明さ
れたロボットアーム101と基本的には同じである。こ
のロボットアーム12に付設されるウェハ位置ずれ検出
装置の構成に本発明の特徴があり、このウェハ位置ずれ
検出装置は所定位置関係にて配置された2つの光センサ
13,14(図1に示す)によって特徴付けられる。光
センサ13,14は例えば透過型の光センサであり、投
光部と受光部を備えている。
ェハ位置ずれ検出装置と関連するウェハ処理装置の概略
構成を説明する。ロボットアーム12が設けられたセパ
レーションチャンバ11は例えばほぼ正五角形の平面形
状を有し、その4つの側面に二点鎖線で示されるように
処理チャンバ(真空容器)15A〜15Dが付設されて
いる。各処理チャンバ15A〜15Dはウェハステージ
16を備えている。処理対象のウェハ17は各処理チャ
ンバにおいて当該ウェハステージ16の上に搭載され
る。ここでは各処理チャンバで行われるウェハの表面処
理の内容については発明の要部との関係が薄いので説明
を省略する。処理チャンバ15A〜15Dの各々とセパ
レーションチャンバ11の間には各チャンバを隔離し、
それぞれの密閉性を維持するためのゲートバルブ18が
設けられている。なお処理チャンバ15A〜15Dは真
空容器として形成されており、ウェハステージ16に搭
載されたウェハ17の表面を処理するためには処理チャ
ンバの内部は所要の真空状態(減圧状態)にされ、かつ
プロセスガスと導入すると共に電力を投入することによ
りプラズマを発生させ、当該ウェハ17の表面を処理す
る。そのため、各処理チャンバには排気装置、ガス導入
装置、電力供給装置等が付設されているが、これらは良
く知られたものであるので、図1等では説明の便宜上省
略されている。またセパレーションチャンバ11の残り
の一側面には、セパレーションチャンバ11の内部空間
につながる部屋19が形成され、2つのウェハ台20が
並べて配置されている。このウェハ台20は中間的なウ
ェハ配置台である。ウェハ台20は、図2に示されるよ
うに、昇降装置21により必要に応じて昇降するように
設けられている。
屋20の外側には外部からセパレーションチャンバ11
内へウェハ17を導入するための外部ロボットアーム2
2が設けられている。外部ロボットアーム22で導入さ
れたウェハ17は、上昇状態にあるウェハ台20の上に
搭載される。なお図1と図2において、移動で位置が変
化した部材には原番号にダッシュが付されて示されてい
る。
1と、図3および図4を参照して説明する。図3は、ロ
ボットアーム12に基づくウェハ搬送動作状態を示す斜
視図であり、図3のAはロボットアーム12が縮んだ状
態を示し、図3のBはロボットアーム12が伸びた状態
を示している。図4はロボットアーム12の部分の拡大
平面図である。図3のAは図4とほぼ一致している。基
本的構成は前述の通りロボットアーム101と同じであ
る。すなわち、セパレーションチャンバ11の下壁11
aにベース31を設け、ベース31は、下壁11aの下
側に設けられた駆動装置32によってその中心軸の周り
に自在に回転するように設けられている。ベース31に
は第1の平行リンク対33が取りつけられ、平行リンク
対33の外端には中間連結部34が連結され、中間連結
部34には第2の平行リンク対35も取りつけられ、第
2の平行リンク対35の外端には把持プレート取付け部
36が設けられている。中間連結部34において、平行
リンク対33は下側位置で、平行リンク対35は上側位
置で取り付けられている。把持プレート取付け部36の
先端には把持プレート37が固定される。駆動装置32
によってロボットアーム12の全体が時計回りまたは反
時計周りに回転する。また平行リンク対33とベース3
1と中間連結部34で第1の平行四辺形リンク装置が形
成され、平行リンク対35と中間連結部34と把持プレ
ート取付け部36で第2の平行四辺形リンク装置が形成
される。平行リンク対33は第1アームを形成し、平行
リンク対35は第2アームを形成している。ベース31
に内蔵されるモータと中間連結部34に内蔵されるモー
タを動作させることにより各連結部分(関節部)を回転
させる。このように連結部分を回転させることによっ
て、平行リンク対(第1アーム)33と平行リンク対
(第2アーム)35が回転し、ロボットアーム12のア
ーム機構部が全体として把持プレート37の長さ方向
(軸方向38)へ伸縮動作する。駆動装置32に基づく
ロボットアーム12の回転動作で把持プレート37の進
退する向きが定められ、平行リンク対33,35の回転
動作に基づき図3のAまたはBに示すごとくロボットア
ーム12の伸縮動作が行われ、把持プレート37の進退
動作を行わせる。
に基づいて、中間に位置するウェハ台20に置かれた未
処理のウェハ17を、処理チャンバ15A〜15Dのい
ずれかに搬入し、あるいは処理チャンバ15A〜15D
のいずれかで処理されたウェハ17を搬出してウェハ台
20に置くように作動する。処理チャンバに対してウェ
ハを搬入するときにはロボットアーム12は処理チャン
バに向かってアーム部分を伸ばし、処理チャンバからウ
ェハを搬出するときにはアーム機構部を縮める。ロボッ
トアーム12の伸縮動作によってウェハの搬入(導入)
と搬出(取出し)が行われる。以上のごときロボットア
ーム12に基づくウェハの搬送動作においては、ウェハ
17は把持プレート37で正常の位置にあることが必要
である。すなわち、把持プレート37における4つの爪
39の間に置かれることが必要である。把持プレート3
7においてウェハが正常位置あるか、または位置ずれが
生じているか否かについての判定は、付設された位置ず
れ検出装置によって行われる。ウェハの位置ずれとは、
ウェハの一部が爪39の上に乗り上げることをいう。
図4では特にウェハ位置ずれ検出装置の平面図を併せて
示しており、さらに図5はウェハ位置ずれ検出装置の側
面図を示している。前述の図3と、さらに図4と図5と
を参照して、ウェハ位置ずれ検出装置を説明する。なお
ウェハ位置ずれ検出装置は上記のベース31に固定され
ているが、図2では図が細かくなるので、ウェハ位置ず
れ検出装置の図示は省略されている。搬送時に生じるウ
ェハ17の位置ずれを検出する位置ずれ検出装置は、本
実施形態の場合、2つの光センサ13,14を用いて構
成されている。位置ずれ検出装置は、ベース31に固定
される取付けプレート51と、取付けプレート51の上
で所定の位置関係で固定される2つの光センサ13,1
4とからなる。取付けプレート51は水平に保持され、
その面は搬送されるウェハ17の面と平行になってい
る。またロボットアーム12が伸縮動作を行うと、把持
プレート37はその軸方向38に移動するが、取付けプ
レート51は、その長手方向が当該軸方向38に向けて
延設された形態を有している。上記取付けプレート51
に対して光センサ13は軸方向38に関して後側に設け
られ、光センサ14は軸方向38に関して前側に設けら
れている。光センサ13,14の設置位置は、ロボット
アーム12が最も縮んだ状態になった時(最縮時)にお
いてウェハ17と光センサ13,14とが所定の位置関
係になるように定められている。位置関係に関して満た
すべき条件はウェハ17の位置に対応した光センサ1
3,14の動作状態に基づいて与えられ、その詳細は後
述される。
あり、図3〜図6に示すコ字型フレームの中に光ファイ
バ52を配線し、コ字型フレームの先端部において例え
ば上側先端に投光部を設け、下側先端に受光部を設ける
ように形成される。光センサ13,14のコ字型フレー
ムにおいて先端部の投光部と受光部の間にウェハが通過
するための開口部が形成されている。コ字型フレームの
先端部の間には光ビーム53が通っている。この光ビー
ム53を遮ると遮光状態になり、そうでない場合には受
光状態になる。コ字型フレームの光センサ13,14の
後側から引き出された光ファイバ52は取付けプレート
51の下側へ引き出され、カプラー54を経由してさら
に支柱プレート55に沿って下方へ延設される。図5に
おいて56は搬送されるウェハの高さ位置を示してい
る。
直径200mmのものを想定しており、かかるウェハ1
7を検出するために取付けプレート51の寸法や取付け
プレート51における光センサ13,14の配置位置が
設定されている。またコ字型フレームを有してなる光セ
ンサ13,14の配置状態は、図4および図5に示され
るごとく、後側光センサ13はコ字型フレームが軸方向
(ロボットアームの伸縮方向)38に平行になるように
配置されかつ前方(図4中右側)に向かって開いており
(開口部が軸方向38に向く)、前側光センサ14はコ
字型フレームが軸方向38に直交するように配置されか
つ図4中上側に向かって開いている(開口部が軸方向3
8の直交方向に向く)。
の動作を説明すると共に、併せて本発明に係るウェハ位
置ずれの検出方法を説明する。この説明では、前述の各
図と共に、図7〜図10を参照する。図7は、把持プレ
ート37の上にウェハ17が搭載された状態で、ロボッ
トアーム12が矢印57のごとき搬送動作を行ってウェ
ハ17を搬送する過渡的な状態を示している。矢印57
の方向は前述の軸方向38の方向と一致している。また
ウェハ17は把持プレート37の形状を明確に示すため
に破線で示されている。ロボットアーム12が最も伸び
た状態(例えば図12のFの状態)では、把持プレート
37とこれに搭載されるウェハ17は処理チャンバの内
部に進入した状態になる。ロボットアーム12が最も縮
んだ状態ではウェハ17の外縁が2つの透過型光センサ
13,14と係わり合うことになる。図8と図9は、ロ
ボットアーム12が軸方向38にて収縮し、把持プレー
ト37およびウェハ17が後退した2つの状態を示して
いる。図8に示す位置関係は1回目のウェハ17の検出
状態に関する位置関係を示している。このとき後側光セ
ンサ13は受光状態となり、前側光センサ14は遮光状
態となっている。図9に示す位置関係は2回目のウェハ
17の検出状態に関する位置関係を示している。このと
き後側光センサ13は遮光状態となり、前側光センサ1
4は受光状態となる。図9に示された位置関係はロボッ
トアーム12の最縮状態で作られた位置関係であり、図
8に示された位置関係はロボットアーム12の最縮状態
から少し伸びた状態で作られた位置関係である。図9に
示された後側光センサ13が遮光状態(これをオンとす
る)、前側光センサ14が受光状態(これをオフとす
る)となる状態を作る位置関係を基準位置と呼ぶことに
する。
(すなわちウェハ搬送装置)の動作によって生じるウェ
ハ17と2つの透過型光センサ13,14との位置関係
は、ロボットアーム12の動作を制御装置で制御するこ
とにより作られる。制御装置としてはコンピュータが使
用され、よく知られるものであるので、ここでは図示し
ない。本実施形態によるウェハ17の位置ずれ検出は、
2つの光センサ13,14を利用してかつ図8と図9で
示された2つの状態を作り出すことによって行われる。
である。処理チャンバ15A〜15Dのいずれかで表面
処理が終了したウェハ17を取出すときには、ロボット
アーム12は伸びた状態でその把持プレート37でウェ
ハ17を受け取り、収縮動作を行う。このときにおい
て、ウェハ17が把持プレート37の上において正常な
位置にあるか、または位置ずれが生じている否かが問題
である。そこで、位置ずれの有無について検出を行う。
把持プレート37にウェハ17を搭載した状態で、ロボ
ットアーム12は収縮動作を行い、ウェハ17を図7で
左側方向へ移送させる。そして前述した図8に示される
位置でロボットアーム12の動作を一旦停止させる。こ
のとき、ウェハ17が把持プレート37に対して位置ず
れを生じることなく正常な位置にあれば、後側の透過型
光センサ13が受光状態、前側の透過型光センサ14が
遮光状態になる。図8に示した位置関係でウェハ17の
1回目の位置検出を行い、把持プレート37の上でウェ
ハ17が正常位置、すなわち爪39に乗り上げることな
く4つの爪の間の箇所に配置されていることが確認され
る。
に収縮動作を行わせ、ウェハ17を基準位置まで移動さ
せる。この位置においては、図9に示すごとく、ウェハ
17が正常な位置にあれば、後側の透過型光センサ13
が遮光状態になり、前側の透過型光センサ14が受光状
態になる。こうして図9に示された位置関係でウェハ1
7の2回目の位置検出が行われ、正常位置であるか否か
が確認される。
ずれ検出の仕方では、2つの透過型光センサ13,14
を用いてかつ図8と図9に示されるごとく2回に分けて
ウェハ17の位置確認を行うようにしている。これによ
って、把持プレート37に搭載されるウェハ17が把持
プレート37に対してどの程度正常位置から外れている
かを検出することが可能となる。またどの方向に位置ず
れが生じたとしても、2つの光センサを利用してすべて
検出することが可能となる。
可能性のあるウェハ17の位置ずれの方向と、それぞれ
の方向の位置ずれに対する従来方式と本発明による(本
実施形態による)方式との検出性能の比較である。位置
ずれ発生方向としては、図10において上下方向、水平
方向、およびそれらの間の中間に位置する方向の8方向
が示されている。従来方式は、図11で示した光センサ
を1つ用いて構成された位置ずれ検出装置である。図1
0で明らかなように、従来の方式によればウェハのずれ
方向として、図10中の左方向、左上方向、下方向、右
下方向、左下方向の位置ずれを検出することができない
が、これに対して本実施形態の方式ではすべての方向の
位置ずれを検出できることが実証された。また最小限で
ある2つの光センサ13,14を用いてすべての方向の
ウェハ位置ずれを検出できるという利点を有している。
3,14の取付け位置を変えることにより、許容できる
ウェハずれ量を調整することができ、さらにウェハの寸
法の変化に対応させることができる。また前述の実施形
態では光センサを透過型として構成したが、反射型とし
て構成できるのは勿論である。さらに光センサは光ファ
イバを利用したものに限定されない。発光素子や受光素
子を利用することも可能である。また位置ずれの検出対
象となるウェハとしてはシリコン基板が好ましく、透明
基板は対象としていない。さらに位置ずれ検出方法に関
しては、特にフローチャート等を用いてその工程を示し
ていないが、前述の装置の構成および動作の説明で明ら
かであり、課題を解決するための手段の欄でその要約説
明が行われている。
れば、2つの少ない光センサを用いてかつその配置関係
を前述した所定位置関係を満たし、2回の検出動作にお
ける遮光状態と受光状態の組合せでウェハの把持プレー
トにおける搭載状態が正常位置あるかまたは位置ずれが
生じているか否かを判定するようにしたので、あらゆる
方向方の位置ずれをすべて確実に検出することができ、
さらに光センサに要するコストも安価にして実現するこ
とができる。
れるウェハ処理装置の内部構成を示す平面図である。
れるウェハ処理装置の内部構成を示す縦断側面図であ
る。
動作状態を示す斜視図であり、Aはロボットアームが縮
んだ状態を示し、Bはロボットアーム12が伸びた状態
を示している。
成を示す部分側面図である。
示す平面図である。
1回目の検出状態を示す平面図である。
2回目の検出状態(基準位置)を示す平面図である。
性を解説するための図である。
面図である。
である。
Claims (6)
- 【請求項1】 ウェハの処理が行われる真空容器に対し
て前記ウェハを搬入しまたは搬出するロボットアームを
備え、前記ロボットアームは回転自在なベースとこのベ
ース上に設けられた伸びと縮みの動作を行うアーム機構
部とこのアーム機構部の先部に取り付けられた爪付き把
持プレートとを含み、前記把持プレートの上に前記ウェ
ハが搭載されるウェハ処理装置において、 前記ベースに対する位置が不変の第1と第2の光センサ
を設け、前記第1光センサと前記第2光センサによる2
回の検出動作の組合せで前記ウェハの位置ずれの有無を
判定するウェハ位置ずれ検出装置を備えたことを特徴と
するウェハ処理装置。 - 【請求項2】 前記の第1と第2の光センサは共に開口
部を持つコ字型形態を有し、前記第1光センサは前記ロ
ボットアームの伸縮方向に向かって前記開口部を向けて
配置され、前記第2光センサは前記伸縮方向に直交する
方向に向かって前記開口部を向けて配置されることを特
徴とする請求項1記載のウェハ処理装置。 - 【請求項3】 ウェハの処理が行われる真空容器に対し
て前記ウェハを搬入しまたは搬出するロボットアームを
備え、前記ロボットアームは回転自在なベースとこのベ
ース上に設けられた伸びと縮みの動作を行うアーム機構
部とこのアーム機構部の先部に取り付けられた爪付き把
持プレートとを含み、前記把持プレートの上に前記ウェ
ハが搭載されるウェハ処理装置において、 前記ベースに対する位置が不変の第1と第2の光センサ
を備え、 前記第1光センサと前記第2光センサによる2回の検出
動作の組合せで前記ウェハの位置ずれの有無を判定する
ことを特徴とするウェハ処理装置のウェハ位置ずれ検出
装置。 - 【請求項4】 前記の第1と第2の光センサは、前記ア
ーム機構部が最縮状態にあるとき前記第1光センサが前
記ウェハで遮光状態となりかつ前記第2光センサが受光
状態となり、前記アーム機構部が前記最縮状態以外の特
定状態にあるとき前記第1光センサが受光状態となりか
つ前記第2光センサが遮光状態となるように、配置され
ており、 前記特定状態における第1回目のウェハ検出で前記第1
光センサが受光状態かつ前記第2光センサが遮光状態と
なり、前記最縮状態における第2回目のウェハ検出で前
記第1光センサが遮光状態かつ前記第2光センサが受光
状態となるときに前記ウェハは正常位置にあると判定さ
れ、それ外の場合には位置ずれが生じたと判定されるこ
とを特徴とするウェハ処理装置のウェハ位置ずれ検出装
置。 - 【請求項5】 前記の第1と第2の光センサは共に開口
部を持つコ字型形態を有し、前記第1光センサは前記ロ
ボットアームの伸縮方向に向かって前記開口部を向けて
配置され、前記第2光センサは前記伸縮方向に直交する
方向に向かって前記開口部を向けて配置されることを特
徴とする請求項4記載のウェハ処理装置のウェハ位置ず
れ検出装置。 - 【請求項6】 ウェハの処理が行われる真空容器に対し
て前記ウェハを搬入しまたは搬出するロボットアームを
備え、前記ロボットアームは回転自在なベースとこのベ
ース上に設けられた伸びと縮みの動作を行うアーム機構
部とこのアーム機構部の先部に取り付けられた爪付き把
持プレートとを含み、前記把持プレートの上に前記ウェ
ハが搭載されるウェハ処理装置に適用される前記ウェハ
の位置ずれ検出方法であり、 第1と第2の2つの光センサを用い、 前記アーム機構部が最縮状態にあるとき前記第1光セン
サが前記ウェハで遮光状態となりかつ前記第2光センサ
が受光状態となり、前記アーム機構部が前記最縮状態以
外の特定状態にあるとき前記第1光センサが受光状態と
なりかつ前記第2光センサが遮光状態となることを条件
にして、前記ウェハは正常位置であると判定し、 前記条件が満たされないときには前記ウェハは位置ずれ
が生じたと判定する、 ことを特徴とするウェハ処理装置のウェハ位置ずれ検出
方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000180182A JP4422300B2 (ja) | 2000-06-15 | 2000-06-15 | ウェハ処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000180182A JP4422300B2 (ja) | 2000-06-15 | 2000-06-15 | ウェハ処理装置 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007192099A Division JP4422745B2 (ja) | 2007-07-24 | 2007-07-24 | ウェハ位置ずれ検出装置およびウェハ位置ずれ検出方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001358208A true JP2001358208A (ja) | 2001-12-26 |
JP2001358208A5 JP2001358208A5 (ja) | 2007-09-06 |
JP4422300B2 JP4422300B2 (ja) | 2010-02-24 |
Family
ID=18681331
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000180182A Expired - Lifetime JP4422300B2 (ja) | 2000-06-15 | 2000-06-15 | ウェハ処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4422300B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007188997A (ja) * | 2006-01-12 | 2007-07-26 | Shinko Electric Co Ltd | 基板搬送装置、および基板位置検出方法 |
JP2007227781A (ja) * | 2006-02-24 | 2007-09-06 | Tokyo Electron Ltd | 基板の位置ずれ検査機構,処理システム及び基板の位置ずれ検査方法 |
JP2010032242A (ja) * | 2008-07-25 | 2010-02-12 | Yamatake Corp | 基板検出装置 |
WO2023023444A1 (en) * | 2021-08-17 | 2023-02-23 | Tokyo Electron Limited | Optical sensors for measuring properties of consumable parts in a semiconductor plasma processing chamber |
-
2000
- 2000-06-15 JP JP2000180182A patent/JP4422300B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007188997A (ja) * | 2006-01-12 | 2007-07-26 | Shinko Electric Co Ltd | 基板搬送装置、および基板位置検出方法 |
JP4650273B2 (ja) * | 2006-01-12 | 2011-03-16 | シンフォニアテクノロジー株式会社 | 基板搬送装置、および基板位置検出方法 |
JP2007227781A (ja) * | 2006-02-24 | 2007-09-06 | Tokyo Electron Ltd | 基板の位置ずれ検査機構,処理システム及び基板の位置ずれ検査方法 |
JP2010032242A (ja) * | 2008-07-25 | 2010-02-12 | Yamatake Corp | 基板検出装置 |
WO2023023444A1 (en) * | 2021-08-17 | 2023-02-23 | Tokyo Electron Limited | Optical sensors for measuring properties of consumable parts in a semiconductor plasma processing chamber |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4422300B2 (ja) | 2010-02-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4697192B2 (ja) | 位置ずれ検出装置及びこれを用いた処理システム | |
KR100753290B1 (ko) | 로봇을 사용하여 기판을 정렬시키는 장치 및 방법 | |
KR100870816B1 (ko) | 진공 처리 시스템 | |
JP4402811B2 (ja) | 被処理体の搬送システムおよび被処理体の位置ずれ量の検出方法 | |
JP4389305B2 (ja) | 処理装置 | |
US7353076B2 (en) | Vacuum processing method and vacuum processing apparatus | |
JP4422745B2 (ja) | ウェハ位置ずれ検出装置およびウェハ位置ずれ検出方法 | |
US20080138176A1 (en) | Apparatus for manufacturing semiconductor device | |
JP2001148411A (ja) | 基板のクランプを検出するためのシステム | |
WO2014077379A1 (ja) | 基板処理装置及び基板搬送方法 | |
KR101585622B1 (ko) | 반송 로봇의 제어 방법 | |
JP2002246447A (ja) | 被処理体の位置ずれ検出装置、処理システム及び位置ずれ検出方法 | |
WO2005091355A1 (ja) | 搬送機構の搬送ズレを割り出す方法及び半導体処理装置 | |
JP4837642B2 (ja) | 基板搬送位置の位置合わせ方法、基板処理システムおよびコンピュータ読み取り可能な記憶媒体 | |
JP2002043394A (ja) | 位置ずれ検出装置及び処理システム | |
JP3936030B2 (ja) | 被処理体の回収方法 | |
JP5557516B2 (ja) | 真空処理装置 | |
JP2001358208A (ja) | ウェハ処理装置、そのウェハ位置ずれ検出装置およびウェハ位置ずれ検出方法 | |
JPH07201952A (ja) | 半導体製造装置 | |
JP4976811B2 (ja) | 基板処理システム、基板搬送装置、基板搬送方法、および記録媒体 | |
JP2004241484A (ja) | 基板の搬送装置及び搬送装置の位置ずれ検出方法 | |
JP2002164416A (ja) | 被検出体の検出装置とこれを用いた処理システム | |
JP5937809B2 (ja) | 基板搬送システム | |
JP3953259B2 (ja) | 基板取り出し機構および基板取り出し方法 | |
JPH11160031A (ja) | 膜厚測定装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070329 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070724 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090724 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A132 Effective date: 20090804 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20090907 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090918 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20090918 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20091201 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20091204 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121211 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4422300 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131211 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |