JP2001357515A - 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、そのガラス基板および情報記録装置 - Google Patents

情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、そのガラス基板および情報記録装置

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 フロートガラスの一面のみをデータ記録面と
して利用することにより、ガラス基板の加工工程数を減
らし、製造コストを引き下げ、かつ、安定的に供給し
て、情報化社会の進展に貢献する。 【解決手段】 仕上げ研磨工程においてフロートガラス
の一面を５μｍ以上研磨し、仕上げ研磨工程以外の工程
において前記一面を加工治具と実質的に非接触にする情
報記録媒体用ガラス基板の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、フロートガラス
を情報記録媒体用ガラス基板に加工する製造方法に関す
る。さらには、フロートガラスを薄皮研磨した情報記録
媒体用ガラス基板およびそれを組み込んだ情報記録装置
に関する。
【０００２】
【従来の技術】情報デジタル化の進展に伴い、ハードデ
ィスクに代表される情報記録装置には、記録容量の増大
が要求され続けている。情報記録装置の記録容量を増加
させるためには、情報記録媒体の記録密度を高め、か
つ、記録面積を増やす必要がある。そこで、従来情報記
録媒体には、表面平滑性の高いガラス製の基板が好ま
れ、その両面がデータ記録面として利用されてきた。ガ
ラス基板の製造方法には、フロート法による板状ガラス
（フロートガラス）を円盤状に切り出す方法、または熔
融ガラスを型に流し込んで円盤状に成形する方法があ
る。現在では、均質のガラスを一度に大量に製造できる
ことから、ガラス基板には、主にフロートガラスが利用
されている。
【０００３】ここで、フロートガラスの製造方法につい
て簡単に説明する。まず、珪砂などのガラス原料を熔融
炉で融かし、その熔融ガラスを熔融スズ(Sn)の槽に連続
的に排出する。熔融ガラスは、スズよりも比重が小さい
ため、熔融スズ中に浮く。この熔融スズ中に浮いた熔融
ガラスを冷却ライン方向から一定の速度で引っ張ること
で、熔融ガラスは板状に成形される。したがって、フロ
ートガラスの下面（ボトム面）には、熔融スズが接触し
４０μｍ程度浸透する。一方、フロートガラスの上面
（トップ面）には、熔融スズは直接接触しないが、雰囲
気中に気化したスズが浸透するため、トップ面にも数μ
ｍ程度のスズ浸透層が形成される。熔融スズの槽から引
き出された板状ガラスは、冷却ラインに送られ、ボトム
面が搬送ローラーと接する。そして、十分に冷却された
後、適当な大きさに切断され、パレットに積載される。
【０００４】フロートガラスは、つぎの各処理工程を経
て情報記録媒体用ガラス基板（以下、単に「ガラス基
板」とする）に加工される。
【０００５】１．素板切断工程 フロートガラスを所望寸法のディスクが採取できるサイ
ズに切断する。 ２．円盤加工工程 ガラスカッターで円形のカッター線（クラック）を入
れ、クラックを進展させてガラスディスクを切り出す。 ３．面取り加工工程 ガラスディスクの外周面および内周面のエッジを面取り
する。 ４．エッジ研磨加工工程 ガラスディスクの外周面および内周面のエッジを所望の
形状に成形する。 ５．粗研磨加工工程 データ記録面を粒度の荒い研磨剤で所望の厚さまで研磨
する。 ６．仕上げ研磨加工工程 データ記録面に残る研磨傷や異物を取り除き、鏡面に仕
上げる。 ７．洗浄工程 ガラスディスクに付着する異物などを取り除く。
【０００６】このようにして製造されたガラス基板は、
厚さが規格内に収まっているか、また傷や異物の付着が
ないかを検査される。この厚さの許容範囲は大変狭く、
品種によって多少の差はあるが、±８μｍ程度である。
フロートガラスは、表面平滑性は極めて高いが、厚さの
ばらつきがマイクロメートルオーダーと大きいため、上
記５．粗研磨加工工程なしにガラス基板として利用する
ことはできない。
【０００７】一方で、現在では情報記録装置の用途や要
求品質が多様化しており、情報記録容量の大きさよりも
コスト面が重要視される場合もある。このような場合、
従来のように記録容量の大きさだけではなく、製造コス
トを如何に抑制するかを検討する必要がある。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】上述のように、ガラス
基板の厚さを調整するために、５．粗研磨加工工程が設
けられている。この粗研磨加工工程では、研磨パッドを
ガラスディスクに押圧しつつ回転させ、そこに研磨剤を
注入してガラスディスクの表面を徐々に研削する。その
ため、研磨面に研磨傷（微小クラック）が発生する。研
磨傷の大きさはマイクロメートルオーダーであり、デー
タ記録面においては、研磨傷が情報記録密度を低下させ
る要因となる。データ記録面に要求される表面平滑性は
ナノメートルオーダーあり、そのために６．仕上げ研磨
加工工程が設けられている。
【０００９】フロートガラスは、本来表面平滑性が極め
て高いので、成形後その表面に傷が発生しなければ、厚
さの問題を除けば、そのままガラス基板として利用でき
るものである。このように厚さが問題となるのは、情報
記録媒体用ガラス基板の両面をデータ記録面として利用
するためである。たとえば、その一面だけをデータ記録
面とするのであれば、厚さの許容範囲が拡がり、厚さ不
良が発生し難くなり、結果としてガラス基板の製造コス
トが低下する。
【００１０】この発明は、上記従来の技術に存在する問
題点に着目してなされたものである。その目的とすると
ころは、フロートガラスの一面のみをデータ記録面とし
て利用することにより、ガラス基板の加工工程数を減ら
し、製造コストを引き下げ、かつ、安定的に供給して、
情報化社会の進展に貢献することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項１に記載の発明のガラス基板の製造方法は、
仕上げ研磨工程においてフロートガラスの一面を５μｍ
以上研磨し、仕上げ研磨工程以外の工程において前記一
面を加工治具と実質的に非接触にするものである。
【００１２】請求項２に記載の発明のガラス基板の製造
方法は、請求項１に記載の発明において、仕上げ研磨工
程でフロートガラスの一面を５〜４０μｍ研磨するもの
である。
【００１３】請求項３に記載の発明のガラス基板の製造
方法は、請求項１または２に記載の発明において、仕上
げ研磨工程以外の工程で加工治具と非接触にされたフロ
ートガラスの一面がトップ面であるものである。
【００１４】請求項４に記載の発明のガラス基板は、請
求項１〜３のいずれか１項の方法で製造されたものであ
って、仕上げ研磨工程以外の工程において加工治具と実
質的に非接触であったフロートガラスの一面がデータ記
録面として利用されるものである。
【００１５】請求項５に記載の発明の情報記録装置は、
請求項４に記載のガラス基板が組み込まれたものであ
る。
【００１６】
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態につ
いて、詳細に説明する。
【００１７】フロートガラスの製造ラインにおいては、
ボトム面が搬送ローラーと接触するため、その接触部分
にマイクロメートルオーダーの傷が発生し易い。一方、
トップ面はフロートガラスの運搬時に吸盤と接触し、ま
たパレット中で合紙と接触する。そのため、ボトム面ほ
どではないがトップ面にも若干の傷が発生する。したが
って、ボトム面またはトップ面のどちらをデータ記録面
とする場合でも、傷を除去するための研磨は必要であ
る。トップ面の傷はボトム面より浅いため、トップ面を
データ記録面とすることが好ましい。本発明者らの数多
くの実験によれば、ガラスディスクの一面を５μｍ以上
研磨すれば、トップ面の傷はほぼ完全に除去されること
が明らかとなった。
【００１８】一方、フロートガラスのボトム面には４０
μｍ程度のスズ浸透層が形成されているため、ガラスデ
ィスクの一面の研磨厚さが５μｍであると、スズ浸透層
はトップ面では除去されるが、ボトム面に残存すること
になる。そのため、ガラス基板が薄くまた剛性の低い場
合は、反りが発生する場合がある。そこで、ボトム面の
スズ浸透層も除去するため、ガラスディスクの一面を３
５〜４０μｍ研磨することが好ましい。また、上記５．
粗研磨加工工程で発生する研磨傷の深さは１０μｍ程度
であり、これを取り除くためには、６．仕上げ研磨加工
工程での研磨厚さが２〜３倍必要といわれている。この
点に鑑みれば、ガラスディスクの一面の研磨厚さが４０
μｍ以下であってもガラス基板として利用できるのは、
この発明特有の効果である。したがって、ガラスディス
クの一面の研磨厚さは、５μｍ以上である必要があり、
４０μｍ以下さらには３５μｍ以下であることが好まし
い。
【００１９】フロートガラスをガラス基板に加工するに
は、上述の１．素板切断工程〜７．洗浄工程の各処理を
行う必要があるが、５．粗研磨加工工程は不要である。
粗研磨加工工程が不要なのは、フロートガラスの高い均
質性と表面平滑性とに由来する。フロートガラス以外の
ガラスは、熔融状態からの冷却速度が早く部分的な温度
のばらつきが大きいため、表面層と内部層で組成や密度
が異なるなど均質性に欠ける。とくに表面層は、組成が
部分的にばらつくなど均質性が低い。そのため、表面層
を研磨しても、ガラスディスクの表面平滑性は高くなら
ず却って反りが発生する場合もある。そこで、表面層を
除去し、均質な内部層を露出させるため、ガラスディス
クの表面を１００μｍ以上研磨する必要があった。この
発明では、フロートガラスを使用することにより、５．
粗研磨加工工程が不要となり、ガラス基板の加工工程を
短縮することができる。また、研磨傷が発生しないこと
から、６．仕上げ研磨加工工程における研磨厚さを４０
μｍ以下にすることもできる。さらには、ガラス基板の
一面だけをデータ記録面として使用することから、５．
粗研磨加工工程を省略しても、フロートガラスの厚さの
ばらつきに由来する問題が生じることはない。
【００２０】このように、ガラス基板の加工工程は、従
来の加工工程を一部省略するものであるから、その加工
装置には、従来のものがそのまま利用可能である。
【００２１】ガラス基板の加工工程では、予めフロート
ガラスの一面をデータ記録面として特定し、その一面と
加工治具とが６．仕上げ研磨加工工程以外で実質的に接
触しないようにする。ここで、実質的に接触しないと
は、データ記録面の主要部分に傷を発生させないことを
いう。具体的には、３．面取り加工工程や４．エッジ研
磨加工工程において、ガラスディスクの内周から２〜
２．５mm以内をチャックで固定することが例示される。
このチャックで固定される部分（以下、「チャック部」
という）は、情報記録装置に組み込まれるとスペーサで
覆われる部分である。そのため、データ記録部すなわち
データ記録面の主要部となることができず、傷の有無が
問題とならない部分である。
【００２２】６．仕上げ研磨工程以外の各加工工程にお
いて、フロートガラスの一面を加工治具と実質的に非接
触にするには、つぎの方法によれば実現できる。 １．素板切断工程においては、フロートガラスを切断テ
ーブルに載せ、ガラスカッターでカッター線（クラッ
ク）を入れ、クラックを進展させて所定寸法に切断す
る。このとき、切断テーブルと接触していない面（以
下、「非接触面」という）をデータ記録面にする。その
ため、切断テーブルに載せる前に、トップ面を確認して
おくことが好ましい。切断後フロートガラスは、エッジ
または／および切断テーブルと接触した面（以下、「接
触面」という）でのみ接触するケースに入れられるか、
あるいは１枚ずつ個別につぎの加工工程に送られる。こ
のとき、フロートガラスの非接触面と接触面を区別する
ためにマークをつけてもよい。非接触面にマーキングす
る場合は、ガラス用のマーキングペンを使用することが
好ましい。
【００２３】２．円盤加工工程においては、接触面を全
面チャックで固定し、円形にガラスカッターでクラック
を入れる。つぎにガラスディスクを切り出すため、外周
部および内周部をバーナーで加熱して、熱膨張によりク
ラックを進展させる。切り出されたガラスディスクは、
上記同様にして非接触面に傷がつかないようにしてつぎ
の加工工程に運ばれる。
【００２４】３．面取り加工工程においては、接触面を
全面チャックで、また非接触面のチャック部に回し板を
当てることで面取り装置に固定する。ガラスディスクを
固定した状態で、砥石車をガラスディスクの外周面と内
周面に接触させ、面取りを行う。加工処理後、つぎの加
工工程への移動は、上記同様にして行う。
【００２５】４．エッジ研磨加工工程においては、１枚
ずつ個別に加工する枚葉式、あるいは複数枚を一度に加
工するバッチ式のどちらでも加工処理できる。枚葉式の
場合は、上記３．面取り加工工程と同様にして、ガラス
ディスクを固定する。一方、バッチ式の場合は、ガラス
ディスクのチャック部にのみ当接する回し板を介在させ
ることで、１本の回転軸に複数のガラスディスクを固定
できる。加工処理後、つぎの加工工程への移動は、上記
同様にして行う。
【００２６】５．粗研磨加工工程は省略される。
【００２７】６．仕上げ研磨加工工程においては、たと
えば特開２０００−１０５９２２公報に記載の枚葉式ま
たはバッチ式の研磨装置を用いて、ガラスディスクの非
接触面を５μｍ以上研磨する。この際、接触面と非接触
面は、基本的には同じ厚さ研磨されるが、研磨パッドの
硬度や形状を変えると、それらの研磨厚さを個別に代え
ることができる。加工処理後、つぎの加工工程への移動
は、上記同様にして行う。
【００２８】７．洗浄工程においては、ガラスディスク
を１枚ずつ個別に、その内周面に爪を引っかけて、フッ
酸水溶液槽、アルカリ水溶液槽、純水槽、イソプロピル
アルコール（ＩＰＡ）槽およびＩＰＡ蒸気乾燥槽に順次
浸漬する。
【００２９】上記の方法は、この発明を実施する一例に
過ぎず、これに限定するものではない。たとえば、１．
素板切断工程においては、ガラスカッターでカッター線
を入れる前に、非接触面に表面コーティング膜を塗布し
ておいてもよい。これにより、非接触面がさらに傷つき
難くなる。
【００３０】また、２．円盤加工工程においては、ガラ
スカッターに代えてレーザを使用してもよい。この場合
は、レーザを照射することによりフロートガラスの表面
に熱膨張部分を形成させ、それをフッ酸溶液のような侵
食性の強い溶液中に浸漬する。酸溶液中では、熱膨張に
より密度の小さくなった部分が酸の侵食によって選択的
に溶出するため、ガラスディスクが切り出される。さら
に、ガラスディスクのエッジが酸で侵食され滑らかにな
るため、３．面取り加工が不要になる。
【００３１】６．仕上げ研磨加工工程では、研磨パッド
と研磨剤を使用せずに、ガラスディスクを酸溶液とアル
カリ溶液に交互に浸漬することにより、その一面を５μ
ｍ以上研削してもよい。この場合は、エッチングによる
研削であるため、研磨傷が全く発生せず、非接触面がト
ップ面であればデータ記録面に傷が残存する可能性が極
めて小さくなる。
【００３２】このようにして製造されたガラス基板は、
定法にしたがい、アルミニウム／クロム／クロムモリブ
デン合金からなる下地膜、コバルト・白金・クロム合金
／クロムモリブデン／コバルト・白金・クロム合金から
なる磁性膜、水素添加炭素からなる保護膜などをスパッ
タ装置で順次形成され、情報記録媒体を構成する。さら
に、この情報記録媒体は、定法にしたがい情報記録装置
に組み込まれる。
【００３３】
【実施例】以下、実施例および比較例により、この発明
をさらに具体的に説明する。
【００３４】（ガラス基板の製造）素板には、板厚１．
１５mmのアルミノシリケート組成からなるフロートガラ
スを使用した。この素板のトップ面には、パレット積み
込み時の吸盤とパレット内での合紙以外は接触していな
いことを確認した。このフロートガラスに対して、つぎ
の加工処理を行いガラス基板を製造した。
【００３５】１．素板切断工程 フロートガラスのトップ面が非接触面となるよう上にし
て、切断テーブルに乗せた。この非接触面にガラスカッ
ターでクラックを入れ、８０×８０mmに切断した。この
ガラスの非接触面にマーキングペンでマークを入れた
後、このガラスをそのコーナー部が貫入するスリットを
備えた樹脂ケースに入れ、つぎの加工工程に運搬した。
【００３６】２．円盤加工工程 マーキングのない面を全面チャックに接触させて、上記
ガラスをカッター装置に固定した。カッター線を非接触
面に入れ、つづいて外周のカッター線にバーナー火炎を
当てて、熱膨張により外周部のクラックを進展させた。
内周部も同様にして、外径６５．０mm、内径２０．０mm
のガラスディスクを切り出した。そして、このガラスデ
ィスクをエッジで保持する樹脂ケースに入れ、つぎの加
工工程に運搬した。
【００３７】３．面取り加工工程 ガラスディスクの接触面を全面チャックに接触させ、非
接触面のチャック部に回し板を当てて、ガラスディスク
を面取り装置に固定した。このガラスディスクのエッジ
に砥石車を当接して、面取りを行った。面取り後、ガラ
スディスクと接触面でのみ接触する樹脂ケースに入れ、
つぎの加工工程に運搬した。
【００３８】４．エッジ研磨加工工程 チャック部でのみ当接する回し板をガラスディスクの間
に介在させて、１本の回転軸に数十枚のガラスディスク
を固定した。この回転軸を回転させながら、反対方向に
回転するロールブラシを接近させ、ロールブラシとガラ
スディスクのエッジが接触するようにした。この状態
で、酸化セリウムの懸濁液を塗布し、エッジ研磨した。
エッジ研磨後、ガラスディスクとその接触面でのみ接触
する樹脂ケースに入れ、つぎの加工工程に運搬した。
【００３９】５．粗研磨加工工程 粗研磨加工工程は、省略した。
【００４０】６．仕上げ研磨加工工程 図１の装置を用いて、一度に９枚の仕上げ研磨を行っ
た。砥粒には、酸化セリウム（平均粒径：約１．０μ
ｍ）を使用し、ＦＲＰ製のキャリア２３内に設置したガ
ラスディスク１の両面を研磨した。研磨パッド３１に
は、スウェードパッド（第一レース社製 商品名シーガ
ル１９００）を用いた。仕上げ研磨後、ガラスディスク
とその接触面でのみ接触する樹脂ケースに入れ、つぎの
加工工程に運搬した。
【００４１】７．洗浄工程 ガラスディスクを１枚ずつ個別にステンレス製の爪に引
っかけ、その内周面でのみ接触するようにして、フッ酸
水溶液(０．１重量％)槽、アルカリ水溶液(０．１重量
％)槽、純水槽、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）槽
およびＩＰＡ蒸気乾燥槽に順次各２分間浸漬してガラス
基板を得た。
【００４２】このようにして得たガラス基板に対して、
非接触面すなわちデータ記録面に傷や異物が付着してい
ないか目視で検査した。目視検査では、検査ライト（Ca
bin社製 スライド映写機）を光源として非接触面に投
光し、反射光の散乱を観察することにより、傷または異
物の有無を判断した。
【００４３】（実施例１）上記６．仕上げ研磨加工工程
において、ガラスディスクを２０／１０μｍ（両面／非
接触面）研磨した。研磨時間は１０分であった。９枚の
ガラス基板の内、目視検査で良品と判断されたものは、
８枚であった。
【００４４】（実施例２）上記６．仕上げ研磨加工工程
において、ガラスディスクを４０／２０μｍ（両面／非
接触面）研磨した。研磨時間は２０分であった。９枚の
ガラス基板の内、目視検査で良品と判断されたものは、
８枚であった。
【００４５】（実施例３）上記６．仕上げ研磨加工工程
において、ガラスディスクを６０／３０μｍ（両面／非
接触面）研磨した。研磨時間は３０分であった。９枚の
ガラス基板の内、目視検査で良品と判断されたものは、
９枚であった。
【００４６】（実施例４）上記６．仕上げ研磨加工工程
において、ガラスディスクを８０／４０μｍ（両面／非
接触面）研磨した。研磨時間は４０分であった。９枚の
ガラス基板の内、目視検査で良品と判断されたものは、
８枚であった。
【００４７】（比較例１）６．仕上げ研磨加工工程にお
いて、ガラスディスクの研磨を行わなかった以外は実施
例１と同様にして、ガラス基板を製造した。目視検査の
結果、良品と判断されたものはなかった。
【００４８】（比較例２）１．素板切断工程〜７．洗浄
工程において、データ記録面が非接触面とならないよう
にした。具体的には、２．円盤加工工程および３．面取
り加工工程においてデータ記録面のチャック部以外の部
分に回し板を当て、また各工程間の運搬にはガラス基板
の両面と接触する樹脂ケースを使用した。それ以外は、
比較例１と同様にして、ガラス基板を製造した。このガ
ラス基板を１０枚サンプリングしたところ、目視検査で
データ記録面が良品と判断されたものはなかった。
【００４９】（比較例３）比較例２と同様にデータ記録
面が非接触面とならないようにした以外は、実施例１と
同様にして１０枚のガラス基板を製造した。目視検査の
結果、データ記録面が良品と判断されたものはなかっ
た。
【００５０】（比較例４）比較例２と同様にデータ記録
面が非接触面とならないようにした以外は、実施例２と
同様にして１０枚のガラス基板を製造した。目視検査の
結果、データ記録面が良品と判断されたものは２枚であ
った。
【００５１】（比較例５）比較例２と同様にデータ記録
面が非接触面とならないようにした以外は、実施例３と
同様にして１０枚のガラス基板を製造した。目視検査の
結果、良品と判断されたものは６枚であった。
【００５２】（比較例６）比較例２と同様にデータ記録
面が非接触面とならないようにした以外は、実施例４と
同様にして１０枚のガラス基板を製造した。目視検査の
結果、良品と判断されたものは１０枚であった。
【００５３】上記実施例および比較例の結果を、下記
「表１」に示す。
【表１】
【００５４】実施例および比較例を対比することによ
り、以下のことが判る。実施例１と比較例１とを対比す
ることにより、トップ面が非接触面であっても、６．仕
上げ研磨加工で５μｍ以上研磨しなければ、データ記録
面として使用できないことが判る。
【００５５】実施例１〜４と比較例６とを対比すること
により、これらの傷歩留まりが同等であることから、デ
ータ記録面を非接触面とすることにより、６．仕上げ研
磨加工工程における研磨厚さが大きく低減されることが
判る。
【００５６】
【発明の効果】この発明は、以上のように構成されてい
るため、つぎのような効果を奏する。請求項１に記載の
発明によれば、６．仕上げ研磨工程においてフロートガ
ラスの一面を５μｍ以上研磨し、それ以外の工程におい
て前記一面を加工治具と実質的に非接触にするので、ガ
ラス基板の傷歩留まりを下げることなく、データ記録面
の研磨厚さを低減することができる。
【００５７】請求項２に記載の発明によれば、請求項１
の発明の効果に加えて、６．仕上げ研磨工程においてフ
ロートガラスの一面を５〜４０μｍ研磨するので、デー
タ記録面の研磨厚さが低減され、かつ、反りのないガラ
ス基板が確実に得られる。
【００５８】請求項３に記載の発明によれば、請求項１
または２の発明の効果に加えて、非接触面がトップ面で
あるので、データ記録面の研磨厚さが最小となる。
【００５９】請求項４に記載の発明によれば、請求項１
〜３の方法で製造され、非接触面がデータ記録面として
利用されるので、傷歩留まりが高く、加工コストの低い
ガラス基板が得られる。
【００６０】請求項５に記載の発明によれば、請求項４
のガラス基板が組み込まれるので、製造コストが低く、
かつ、データ記録の信頼性の高い情報記録装置が確実に
得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】仕上げ研磨加工工程で用いた装置の要部模式図
【符号の説明】
１ ガラスディスク ２１ 内側治具 ２２ 外側治具 ２３ キャリア ２５ 酸化セリウムを含む研磨スラリー ２６ 回転軸 ３１ 研磨パッド ３２ 研磨パッドを接着した定盤

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 仕上げ研磨工程においてフロートガラス
    の一面を５μｍ以上研磨し、仕上げ研磨工程以外の工程
    において前記一面を加工治具と実質的に非接触にする情
    報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
  2. 【請求項２】 上記仕上げ研磨工程において、フロート
    ガラスの一面を５〜４０μｍ研磨する請求項１に記載の
    情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
  3. 【請求項３】 上記仕上げ研磨工程以外の工程におい
    て、加工治具と非接触にされたフロートガラスの一面が
    トップ面である請求項１または２に記載の情報記録媒体
    用ガラス基板の製造方法。
  4. 【請求項４】 請求項１〜３のいずれか１項に記載の方
    法で製造されたものであって、 上記仕上げ研磨工程以外の工程において加工治具と実質
    的に非接触であったフロートガラスの一面がデータ記録
    面として利用される情報記録媒体用ガラス基板。
  5. 【請求項５】 請求項４に記載の情報記録媒体用ガラス
    基板が組み込まれた情報記録装置。
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