JP2001332967A - 半導体集積回路装置 - Google Patents

半導体集積回路装置

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JP2001332967A
JP2001332967A JP2000149174A JP2000149174A JP2001332967A JP 2001332967 A JP2001332967 A JP 2001332967A JP 2000149174 A JP2000149174 A JP 2000149174A JP 2000149174 A JP2000149174 A JP 2000149174A JP 2001332967 A JP2001332967 A JP 2001332967A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 低電圧においても出力信号の振幅を安定化さ
せた入力回路を備えた半導体集積回路装置を提供する。 【解決手段】 制御入力端子に入力信号が供給された第
1トランジスタと制御入力端子に参照電圧が供給された
第2トランジスタとを差動形態として動作電流を形成す
る抵抗手段を設け、上記第1トランジスタ又は第2トラ
ンジスタの出力ノードの電圧が制御端子に供給された可
変抵抗手段を上記抵抗手段に直列形態とし、第1トラン
ジスタがオン状態にされたときの上記可変抵抗手段の抵
抗値が上記入力信号に対応して上記第2トランジスタが
オン状態にされたときの上記可変抵抗手段の抵抗値に比
べて相対的に大きくなるように設定して上記入力信号の
変化に対する上記抵抗手段に流れる電流の変化を小さく
することにより、出力信号振幅及び直流レベルを入力信
号の変化に対してほぼ均等にする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は半導体集積回路装
置に関し、例えば、参照電圧を用いて入力信号を取り込
む入力回路を備えたものに利用して特に有効な技術に関
する。
【0002】
【従来の技術】HSTLやGTLのような小振幅のイン
ターフェイスに適合した入力回路として、図8に示すよ
うな回路が考えられる。この回路では、MOSFET
(以下、単にトランジスタという)M4のゲートに入力
信号INが供給され、それと差動形態で動作するトラン
ジスタM5のゲートに入力信号INのハイレベルとロウ
レベルの中間電圧に対応した参照電圧VREFが供給さ
れる。上記トランジスタM4とM5のソースと回路の接
地電位との間には、動作電流を形成するトランジスタM
8が設けられる。上記トランジスタM4とM5の各々の
ドレインには、負荷抵抗としてのトランジスタM2、M
3が設けられる。これらのトランジスタM2とM3と電
源電圧との間にレベルシフト用のトランジスタM1が設
けられる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】半導体集積回路装置の
低消費電力化や高速化等のために電源電圧が低電圧化さ
れる傾向にある。このような電源電圧の低下によって上
記トランジスタM8はもはや理想的な定電流源としての
動作ができない。つまり、トランジスタM8は、上記低
電圧化でも差動トランジスタM4,M5に負荷駆動のた
めに必要な電流が流れるように比較的小さな抵抗値に設
定される。このようにトランジスタM8が抵抗素子と見
做されるとき、入力信号INが参照電圧VREFに対し
てハイレベル(VH)にあるとき、上記トランジスタM
8に印加される電圧は、VH−Vth(トランジスタの
しきい値電圧)となり、入力信号INが参照電圧VRE
Fに対してロウレベルにあるとき、上記参照電圧VRE
F−Vthとなる。
【0004】上記トランジスタM8に印加される電圧に
上記入力信号INがハイレベルのときのロウレベルのと
きとで、VH−VREFのような電圧差が生じ、それに
対応して動作電流も異なるものとなる。この結果、図9
の波形図に示すように、入力信号INのハイレベルのと
きに形成される大きな動作電流によって出力信号I1と
I2の電圧差(信号振幅)が大きくなってロウレベル側
にシフトし、入力信号INのロウレベルのときに形成さ
れる小さな動作電流によって出力信号I1とI2の電圧
差(信号振幅)も小さくなってハイレベル側にシフトす
るものとなる。このように信号振幅及び直流レベルがア
ンバランスにされた差動信号を受ける後段回路において
は、その動作安定性あるいは遅延時間のバラツキが大き
くなるという問題が生じる。
【0005】この発明の目的は、低電圧においても出力
信号の振幅を安定化させた入力回路を備えた半導体集積
回路装置を提供することにある。この発明の前記ならび
にその他の目的と新規な特徴は、この明細書の記述及び
添付図面から明らかになるであろう。
【0006】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば、次
の通りである。すなわち、制御入力端子に入力信号が供
給された第1トランジスタと制御入力端子に参照電圧が
供給された第2トランジスタとを差動形態として動作電
流を形成する抵抗手段を設け、上記第1トランジスタ又
は第2トランジスタの出力ノードの電圧が制御端子に供
給された可変抵抗手段を上記抵抗手段に直列形態とし、
第1トランジスタがオン状態にされたときの上記可変抵
抗手段の抵抗値が上記入力信号に対応して上記第2トラ
ンジスタがオン状態にされたときの上記可変抵抗手段の
抵抗値に比べて相対的に大きくなるように設定し、上記
入力信号の変化に対する上記抵抗手段に流れる電流の変
化を小さくする。
【0007】
【発明の実施の形態】図7には、この発明が適用された
スタティック型RAM(半導体記憶装置)の一実施例の
ブロック図が示されている。同図をもとに、この実施例
のスタティック型RAMの構成及び動作の概要について
説明する。なお、図7の各ブロックを構成する回路素子
は、特に制限されないが、公知のMOSFET(金属酸
化物半導体型電界効果トランジスタ。この明細書では、
MOSFETをして絶縁ゲート型電界効果トランジスタ
の総称とする)集積回路の製造技術により、単結晶シリ
コンのような1個の半導体基板面上に形成される。
【0008】この実施例のスタティック型RAMは、メ
モリアレイMARYをその基本構成要素とする。メモリ
アレイMARYは、図の水平方向に平行して配置される
所定数のワード線と、図の垂直方向に平行して配置され
る所定数組の相補ビット線とを含む。これらのワード線
及び相補ビット線の交点には、例えば一対のCMOS
(相補型MOS)インバータが交差結合されてなるラッ
チを含む多数のスタティック型メモリセルが格子状に配
置される。
【0009】メモリアレイMARYを構成するワード線
は、その左方においてロウアドレスデコーダRDに結合
され、択一的に選択レベルとされる。ロウアドレスデコ
ーダRDには、ロウアドレスバッファRBからi+1ビ
ットの内部Xアドレス信号x0〜xiが供給されるとと
もに、イネーブルパルス発生回路PGからイネーブルパ
ルスENPが供給され、さらにインバータV11からそ
の出力信号たる内部制御信号CSが供給される。ロウア
ドレスバッファRBには、アドレス入力端子AX0〜A
Xiを介してXアドレス信号AX0〜AXiが供給され
る。
【0010】一方、遷移検出回路TDには、ロウアドレ
スバッファRBから内部Xアドレス信号x0〜xiが供
給されるとともに、後述するカラムアドレスバッファC
Bからj+1ビットの内部Yアドレス信号y0〜yjが
供給され、さらに図示されない起動制御信号バッファを
介してチップ選択信号CSB及びライトイネーブル信号
WEBが供給される。遷移検出回路TDの出力信号つま
り遷移検出信号TDSは、イネーブルパルス発生回路P
Gに供給される。このイネーブルパルス発生回路PGに
は、パワーオンリセット回路PORからパワーオンリセ
ット信号PORSが供給される。上記パルス発生回路P
Gの出力信号は、イネーブルパルスENPとしてロウア
ドレスデコーダRD及びカラムアドレスデコーダCDに
供給される。
【0011】ロウアドレスバッファRBは、スタティッ
ク型RAMが選択状態とされるとき外部のアクセス装置
からアドレス入力端子AX0〜AXiを介して供給され
るXアドレス信号AX0〜AXiを取り込み、保持する
とともに、これらのXアドレス信号をもとにそれぞれが
非反転及び反転信号からなる内部Xアドレス信号x0〜
xiを形成し、ロウアドレスデコーダRD及び遷移検出
回路TDに供給する。また、遷移検出回路TDは、チッ
プ選択信号CSB,ライトイネーブル信号WEB,内部
Xアドレス信号x0〜xiつまりXアドレス信号AX0
〜AXi,ならびに内部Yアドレス信号y0〜yjつま
りYアドレス信号AY0〜AYjのレベル遷移を検出し
て、その出力信号たる遷移検出信号TDSを選択的に有
効レベルつまりハイレベルとする。上記パワーオンリセ
ット回路PORは、スタティック型RAMの電源投入
時、動作電源となる電源電圧VDDの電位が所定値に達
するまでの間、パワーオンリセット信号PORSをハイ
レベルとする。
【0012】イネーブルパルス発生回路PGは、遷移検
出回路TDの出力信号たる遷移検出信号TDSが有効レ
ベルとされ、又は電源投入時にパワーオンリセット回路
PORの出力信号たるパワーオンリセット信号PORS
の電位が所定値に達したことを受けて、所定のパルス幅
を有するイネーブルパルスENPを生成し、ロウアドレ
スデコーダRD及びカラムアドレスデコーダCDに供給
する。
【0013】ロウアドレスデコーダRDは、イネーブル
パルスENP及び内部制御信号CSがともにハイレベル
とされることで選択的に動作状態となり、ロウアドレス
バッファRBから供給される内部Xアドレス信号x0〜
xiをデコードして、メモリアレイMARYの対応する
ワード線を択一的に選択レベルとする。
【0014】メモリアレイMARYを構成する相補ビッ
ト線は、その下方においてカラムスイッチCSに結合さ
れ、これを介して実質8組ずつ選択的にライトアンプW
A又はリードアンプRAに接続される。カラムスイッチ
CSには、カラムアドレスデコーダCDから所定ビット
のビット線選択信号が供給される。また、カラムアドレ
スデコーダCDには、カラムアドレスバッファCBから
j+1ビットの内部Yアドレス信号y0〜yjが供給さ
れるとともに、イネーブルパルス発生回路PGから前記
イネーブルパルスENPが供給され、さらにインバータ
V11の出力信号たる内部制御信号CSが供給される。
【0015】ライトアンプWA及びリードアンプRA
は、それぞれ実質8個の単位回路を備える。このうち、
ライトアンプWAの各単位回路の入力端子は、ライトデ
ータバスWDB0〜WDB7ならびにデータ入力制御回
路ICを介してデータ入力バッファIBの各単位回路の
出力端子に結合され、リードアンプRAの各単位回路の
出力端子は、リードデータバスRDB0〜RDB7を介
してデータ出力バッファOBの各単位回路の入力端子に
結合される。データ入力バッファIBの各単位回路の入
力端子及びデータ出力バッファOBの各単位回路の出力
端子は、対応するデータ入出力端子IO0〜IO7にそ
れぞれ共通結合される。データ入力バッファIBの各単
位回路には、ノア(NOR)ゲートG11の出力信号つ
まり内部制御信号DICが供給され、データ出力バッフ
ァOBの各単位回路には、ノアゲートG12の出力信号
つまり内部制御信号DOCが供給される。
【0016】ノアゲートG11の第1の入力端子(ここ
で、各論理ゲートの入力端子については、図の上方から
順に第1ないし第4の入力端子等と称す。以下同様)に
は、チップ選択信号の反転信号つまりチップ選択信号C
SBそのものが供給され、その第2の入力端子には、ラ
イトイネーブル信号の反転信号つまりライトイネーブル
信号WEBそのものが供給される。また、ノアゲートG
12の第1及び第3の入力端子には、チップ選択信号C
SB及び出力イネーブル信号OEBそのものがそれぞれ
供給され、その第2の入力端子には、ライトイネーブル
信号の非反転信号つまりライトイネーブル信号WEBの
反転信号が供給される。
【0017】これにより、ノアゲートG11の出力信号
たる内部制御信号DICは、チップ選択信号CSB及び
ライトイネーブル信号WEBがともに有効レベルつまり
ロウレベルとされることで選択的に有効レベルつまりハ
イレベルとされる。また、ノアゲートG12の出力信号
たる内部制御信号DOCは、チップ選択信号CSB及び
出力イネーブル信号OEBがともに有効レベルつまりハ
イレベルとされ、かつライトイネーブル信号WEBが無
効レベルつまりハイレベルとされることで選択的に有効
レベルつまりハイレベルとされる。
【0018】カラムアドレスバッファCBは、スタティ
ック型RAMが選択状態とされるとき、外部のアクセス
装置からアドレス入力端子AY0〜AYjを介して入力
されるYアドレス信号AY0〜AYjを取り込み、保持
するとともに、これらのYアドレス信号をもとにそれぞ
れが非反転及び反転信号からなる内部Yアドレス信号y
0〜yjを形成し、カラムアドレスデコーダCD及び前
記遷移検出回路TDに供給する。カラムアドレスデコー
ダCDは、イネーブルパルスENP及び内部制御信号C
Eがともにハイレベルとされることで選択的に動作状態
となり、内部Yアドレス信号y0〜yjをデコードし
て、カラムスイッチCSに対するビット線選択信号の対
応するビットを択一的にハイレベルとする。このとき、
カラムスイッチCSは、ハイレベルのビット線選択信号
に対応するメモリアレイMARYの8組の相補ビット線
とライトアンプWAの各単位回路の出力端子又はリード
アンプRAの各単位回路の入力端子との間を選択的に接
続状態とする。
【0019】データ入力バッファIBの各単位回路は、
スタティック型RAMが書き込みモードで選択状態とさ
れるとき、内部制御信号DICのハイレベルを受けて選
択的に動作状態となり、外部のアクセス装置からデータ
入力端子つまりデータ入出力端子IO0〜IO7を介し
て供給される書き込みデータを取り込み、データ入力制
御回路ICからライトデータバスWDB0〜WDB7を
介してライトアンプWAの各単位回路に伝達する。この
とき、ライトアンプWAの各単位回路は、図示されない
内部制御信号WCに従って選択的に動作状態となり、ラ
イトデータバスWDB0〜WDB7を介して入力される
書き込みデータを所定の相補書き込み信号として、メモ
リアレイMARYの8個の選択メモリセルに書き込む。
【0020】リードアンプRAの各単位回路は、スタテ
ィック型RAMが読み出しモードで選択状態とされると
き、メモリアレイMARYの8個の選択メモリセルから
対応する相補ビット線を介して出力される読み出し信号
を増幅した後、リードデータバスRDB0〜RDB7を
介してデータ出力バッファOBの対応する単位回路に伝
達する。このとき、データ出力バッファOBの各単位回
路は、内部制御信号DOCのハイレベルを受けて選択的
に動作状態となり、リードアンプRAからリードデータ
バスRDB0〜RDB7を介して伝達される読み出しデ
ータをデータ入出力端子IO0〜IO7から外部のCP
U等のアクセス装置に出力する。
【0021】図1には、この発明に係る入力回路の一実
施例の回路図が示されている。この実施例の入力回路
は、特に制限されないが、前記図7に示したようなスタ
ティック型RAMのアドレスバッファRB,CB及び入
力回路IB等として用いられる。同図において、Nチャ
ンネル型トランジスタとPチャンネル型トランジスタか
らなるCMOS回路により構成され、Pチャンネル型ト
ランジスタは、M1〜M3のようにチャネル部分に矢印
が付加されることによって、M4〜M8のようなNチャ
ンネル型トランジスタと区別される。このことは、他の
回路図においても同様である。
【0022】Nチャンネル型のトランジスタM4のゲー
トは、入力信号INが供給される。このトランジスタM
4と差動形態に設けられたNチャンネル型のトランジス
タM5のゲートには、上記入力信号INのハイレベルと
ロウレベルの中間電位に設定された参照電圧VREFが
供給される。上記トランジスタM4,M5のドレインに
は、ゲートに回路の接地電位が定常的に供給されること
によって抵抗素子として動作するPチャンネル型のトラ
ンジスタM2,M3が設けられる。そして、上記トラン
ジスタM2とM3の電源側ノード(ソース)は、共通化
されてダイオード形態に接続されてレベルシフト動作を
行なうPチャンネル型トランジスタM1を介して電源端
子に接続される。
【0023】上記トランジスタM4とM5の共通化され
たソース側は、この発明において付加された並列形態に
接続されたNチャンネル型のトランジスタM6とM7の
一端に接続される。これら並列形態のトランジスタM
6,M7の他端と回路の接地電位との間には、ON/O
FF(オン/オフ)信号によってスイッチ制御されるN
チャンネル型のトランジスタM8が設けられる。上記O
N/OFF(オン/オフ)信号は、この実施例の入力回
路を活性化するときにハイレベルにされて、トランジス
タM8をオン状態にして差動トランジスタM4,M5に
流れる動作電流を形成する。
【0024】この発明において付加されたトランジスタ
M6ゲートには、上記トランジスタM4のドレイン出力
I1が供給され、トランジスタM7ゲートには、上記ト
ランジスタM5のドレイン出力I2が供給される。これ
らのトランジスタM6とM7は、そのゲートに供給され
る信号I1とI2の電圧に応じて抵抗値が変化するとい
う可変抵抗素子として動作して、出力信号I1とI2の
電圧差及び直流レベルが入力信号INの変化によるアン
バランスを低減させ、理想的には一定にするような役割
を果たす。
【0025】上記のような入力信号INが参照電圧VR
EFに対しハイレベルの時と、ロウレベルの時との信号
振幅がほぼ一定にするようにするためには、トランジス
タM6の抵抗値をトランジスタM7の抵抗値よりも相対
的に小さく設定される。例えば、トランジスタM6とM
7のチャネル長が一定にされ、そのチャネル幅をトラン
ジスタM6をトランジスタM7にくらべて大きく形成さ
れる。
【0026】図2には、この発明に係る入力回路の動作
を説明するための波形図が示されている。入力信号IN
が参照電圧VREFよりハイレベルにあるとき、トラン
ジスタM4がオン状態に、トランジスタM5がオフ状態
にされる。この場合、上記トランジスタM6,M7が設
けられない図8の回路では、図9の波形図のように出力
信号I1とI2の差(信号振幅)が大きく、上記のよう
なレベルシフト用のトランジスタM1によるレベルシフ
ト量も大きくなって全体的にロウレベル側にシフトして
しまう。このような電圧がトランジスタM6とM7のゲ
ートに印加されて、その合成抵抗値を大きくするように
負帰還がかかり、動作電流の増加を抑制して出力信号I
1とI2の差電圧の拡大と、レベルシフト量の増大を防
止する。
【0027】逆に、入力信号INが参照電圧VREFよ
りロウレベルにあるとき、トランジスタM4がオフ状態
に、トランジスタM5がオン状態にされる。この場合、
上記トランジスタM6,M7が設けられない図8の回路
では、図9の波形図のように出力信号I1とI2の差
(信号振幅)が小さく、上記のようなレベルシフト用の
トランジスタM1によるレベルシフト量も小さくなって
全体的にハイレベル側にシフトしてしまう。このような
電圧がトランジスタM6とM7のゲートに印加されて、
その合成抵抗値を小さくするように負帰還がかかり、動
作電流の減少を抑制して出力信号I1とI2の差電圧の
減少と、レベルシフト量の減少を防止する。
【0028】この結果、図2の波形図に示すように、理
想的には入力信号INが参照電圧VREFより高いとき
の信号振幅1と、入力信号INが参照電圧VREFより
低いときの信号振幅2とが等しく、かつ、そのレベルシ
フト量もほぼ同一になるものである。上記のようにトラ
ンジスタM6とM7の抵抗値に差を持たせたのは、図9
のように、出力信号I1とI2の信号レベルの変化に差
があるので、大きく変化する出力信号I1に対応したト
ランジスタM6のサイズを大きく形成して、かかるトラ
ンジスタM6の抵抗変化を支配的にして、上記のような
入力信号INが参照電圧VREFより高いときの信号振
幅1と、入力信号INが参照電圧VREFに対して高い
ときと低いときとで合成抵抗値の変化を行なわせるよう
にするものである。
【0029】したがって、基本的には1つのトランジス
タM6又はM7のうらのいずれか一方を用い、それに上
記出力信号I1又はI2の一方を供給して上記入力信号
INの参照電圧VREFに対する変化による動作電流を
変動を抑えるように動作させることができるものであ
る。このように一方の出力信号I1又はI2のみを用い
た場合には、回路素子が少なくなる反面、一方の信号電
圧により動作電流が設定されてしまうので、差動の出力
信号I1とI2の電位差が信号振幅となる回路では、上
記2つの出力信号I1とI2の両方を用いる方が回路の
安定化の点で優れている。したがって、いずれを採用す
るかは、その入力回路に要求される機能に合わせて選べ
ばよい。
【0030】図3には、この発明に係る入力回路の一実
施例の具体的回路図が示されている。この実施例では、
前記図1に示したトランジスタM1〜M8からなる入力
回路に対して、トランジスタM10〜M14からなる同
様な差動回路が設けられる。この後段の差動回路は、前
記入力回路とは異なり差動の出力信号I1とI2を受け
て動作するので、上記入力回路の出力信号が図2のよう
な出力信号I1とI2が良好にバランスされたものであ
るなら、バランス補正用のトランジスタM12とM13
を省略することができる。上記初段増幅回路と次段増幅
回路に動作電流を流すトランジスタM8とM14のゲー
トには活性化信号ZZB(ON/OFF信号)が供給さ
れ、かかる信号ZZBがハイレベルのときに上記MOS
FETM8とM14がオン状態となり、前記のような動
作電流源としての動作を行なうものである。
【0031】この実施例では、上記入力回路による出力
信号I1とI2が多少アンバランスが残っているとき、
後段の差動増幅回路でも上記トランジスタM12とM1
3を設けて、その補正を行なようにするものである。ま
た、後段の差動回路は、信号振幅をあるいは信号電流を
増幅させるために設けられる。したがって、図1の入力
回路において、例えば動作電流を大きくして必要な出力
信号振幅あるいは出力電流を得るようにした場合には、
上記後段側の差動増幅回路を省略することができるもの
である。
【0032】特に制限されないが、後段の差動回路は、
上記信号のアンバランス補正及び増幅動作の他に、クロ
ック信号CLKBに同期した入力信号の取り込み動作を
行なう役割がもたせられる。つまり、前記のようなスタ
ティック型RAMにおいて、CPU等のホストシステム
からのクロック信号に同期して、制御信号及びアドレス
信号や書き込みデータ等の入力信号を入力し、読み出し
信号を出力させるようにしたクロック同期動作を行なう
場合に、上記後段の差動回路とその出力信号を保持する
ラッチ回路が設けられる。
【0033】上記のようなクロック動作のために、上記
差動トランジスタM10とM11のドレインに設けられ
る負荷抵抗としてのトランジスタM15とM17との間
には、クロック信号CLKBで動作するPチャンネル型
のトランジスタM16とM18が設けられる。また、そ
の出力信号A1とA2は、上記クロック信号CLKBを
受けるインバータ回路IV1の出力信号CLKT1によ
りスイッチ制御させられるPチャンネル型トランジスタ
M19とM20が設けられる。
【0034】ラッチ回路は、Pチャンネル型トランジス
タM21と、Nチャンネル型トランジスタM22からな
るCMOSインバータ回路と、Pチャンネル型トランジ
スタM23と、Nチャンネル型トランジスタM24から
なるCMOSインバータ回路との入力と出力とが交差接
続されてラッチ形態とされる。上記Nチャンネル型トラ
ンジスタM22とM24のソースと回路の接地電位との
間にNチャンネル型のスイッチトランジスタM25が設
けられ、そのゲートに上記クロック信号CLKT1によ
り動作制御が行なわれる。上記ラッチ回路の一対の入出
力ノードB1とB2と電源電圧との間には上記クロック
信号CLKT1により動作させられるPチャンネル型ト
ランジスタM26とM27が設けられる。上記入出力ノ
ードB1とB2の信号は、インバータ回路IN2とIN
3を介して出力信号B1OとB2Oとして出力される。
【0035】クロック信号CLKBがロウレベルのと
き、Pチャンネル型トランジスタM16とM18がオン
状態にされる。したがって、後段の差動増幅回路は出力
A1とA2は、入力信号INに対応したハイレベルとロ
ウレベルにされる。このとき、クロック信号CLKT1
はハイレベルであるので、上記出力信号A1とA2を伝
えるトランジスタM19とM20はオフ状態になってい
る。このとき、Nチャンネル型トランジスタM25がオ
ン状態であるので、ラッチ回路は動作状態でありクロッ
ク信号CLKBの1サイクル前に取り込んだ入力信号を
保持している。
【0036】クロック信号CLKBがロウレベルからハ
イレベルに変化すると、Pチャンネル型トランジスタM
16とM18がオフ状態にされる。クロック信号CLK
T1のロウレベルによりトランジスタM19とM20が
オン状態にされ、ラッチ回路を動作させるトランジスタ
M25がオフ状態に、出力のプルアップトランジスタM
26とM27がオン状態にされる。したがって、後段の
差動増幅回路は出力A1とA2は、上記トランジスタM
19とM20を通し、上記プルアップトランジスタM2
6とM27を負荷としてラッチ回路の一対の入出力ノー
ドB1とB2に増幅信号を伝える。
【0037】クロック信号CLKBがハイレベルからロ
ウレベルに変化すると、Pチャンネル型トランジスタM
16とM18がオン状態にされる。クロック信号CLK
T1のハイレベルにより上記スイッチトランジスタM1
9と20がオフ状態にされ、Nチャンネル型トランジス
タM25がオン状態になり、上記プルアップトランジス
タM26とM27がオフ状態になるので、上記入出力ノ
ードB1とB2に伝えられた増幅信号を保持する。つま
り、クロック信号CLKBの1サイクル前に取り込んだ
入力信号を保持するものである。このように保持された
ラッチ回路の入出力ノードB1とB2の信号は、インバ
ータ回路IN2とIN3を介して出力信号B1OとB2
Oとして、前記のようなスタティック型RAMでは、ア
ドレスデコーダ回路等に伝えられる。
【0038】図4には、この発明に係る入力回路の他の
一実施例の具体的回路図が示されている。この実施例で
は、前記図31に示したトランジスタM1が省略され
る。つまり、入力回路を構成する差動形態のトランジス
タM4とM5のドレインに設けられる負荷トランジスタ
M2とM3のソースは、直接に電源電圧が供給されるも
のである。他の構成は、前記図3の実施例と同様である
ので、その説明を省略する。この実施例では、上記レベ
ルシスト用トランジスタM1が省略されているため、そ
のゲート,ソース間のしきい値電圧に対応した直流電圧
のレベルシフトがない。つまり、出力信号I1とI2の
ハイレベルは、ほぼ電源電圧に対応した大きなレベルに
される。
【0039】図5には、この発明に係る入力回路の他の
一実施例の具体的回路図が示されている。この実施例で
は、後段の差動増幅回路とラッチ回路とが一体化された
回路で構成される。つまり、上記レベル補正機能を持つ
入力段回路の出力信号I1とI2は、前記のような差動
トランジスタM10とM11のゲートに供給される。こ
れらの差動トランジスタM10とM11のソースには、
それぞれクロック信号でスイッチ制御されるNチャンネ
ル型のトランジスタM28とM29を介して動作電流を
形成するトランジスタM14に接続される。上記差動ト
ランジスタM10とM11のソース間には、Nチャンネ
ル型のトランジスタM30が短絡スイッチとして設けら
れる。上記差動トランジスタM10とM11のドレイン
は、CMOSラッチ回路の一対の入出力ノードに接続さ
れる。ラッチ回路を構成するトランジスタM21〜M2
5及びプルアップトランジスタM26とM27は、実施
例と同様である。
【0040】クロック信号CLKがロウレベルのとき、
インバータ回路IN4の出力信号がハイレベルになる。
このハイレベルのクロック信号によりPチャンネル型ト
ランジスタM26とM27がオフ状態にされ、Nチャン
ネル型トランジスタM25がオン状態にされる。したが
って、ラッチ回路は動作状態でありクロック信号CLK
B1サイクル前に取り込んだ入力信号を保持している。
差動増幅回路は、インバータ回路IN1の出力信号がロ
ウレベルであるので、トランジスタM28、M29及び
M30がオフ状態にされ、実質的な差動増幅動作は行な
われない。
【0041】クロック信号CLKがロウレベルからハイ
レベルに変化すると、ラッチ回路を動作させているトラ
ンジスタM25がオフ状態となり、ラッチ回路の出力プ
ルアップを行なうPチャンネル型トランジスタM26と
M27がオン状態となって、上記保持情報をリセットさ
せる。これとともに、Nチャンネル型のトランジスタM
28〜M30がオン状態になるので、差動トランジスタ
M10とM11は、上記プルアップ動作を行なうトラン
ジスタM26とM27を負荷とする増幅動作を行なう。
これより、上記非動作状態に置かれるラッチ回路の一対
の入出力ノードの電位は、上記差動トランジスタM10
とM11のドレイン増幅出力に対応したものとされる。
【0042】クロック信号CLKがロウレベルからハイ
レベルに変化すると、Pチャンネル型トランジスタM2
6とM27がオフ状態にされ、Nチャンネル型のトラン
ジスタM28〜M30がオフ状態にされ、ラッチ回路に
動作電流を流すNチャンネル型のトランジスタM25が
オン状態となって、上記一対の入出力ノードに伝えられ
た増幅信号を保持する。つまり、クロック信号CLKの
1サイクル前に取り込んだ入力信号を保持するものであ
る。このように保持されたラッチ回路の入出力ノードの
信号は、インバータ回路IN2とIN3を介して出力信
号B1OとB2Oとして、前記のようなスタティック型
RAMでは、アドレスデコーダ回路等に伝えられる。
【0043】図6には、この発明に係る入力回路の更に
他の一実施例の具体的回路図が示されている。この実施
例では、前記図5の実施例の変形例であり、トランジス
タの導電型が前記図5の実施例と逆にされる。つまり、
Pチャンネル型トランジスタM2,M3等をNチャンネ
ル型トランジスタに置き換え、Nチャンネル型トランジ
スタM4〜M8等をPチャンネル型トランジスタに置き
換えたものである。このようにトランジスタの導電型を
逆にしても前記図5の回路と同様な動作を行なうものと
なる。
【0044】以上の実施例から得られる作用効果は、下
記の通りである。すなわち、 (1) 制御入力端子に入力信号が供給された第1トラ
ンジスタと制御入力端子に参照電圧が供給された第2ト
ランジスタとを差動形態として動作電流を形成する抵抗
手段を設け、上記第1トランジスタ又は第2トランジス
タの出力ノードの電圧が制御端子に供給された可変抵抗
手段を上記抵抗手段に直列形態とし、第1トランジスタ
がオン状態にされたときの上記可変抵抗手段の抵抗値が
上記入力信号に対応して上記第2トランジスタがオン状
態にされたときの上記可変抵抗手段の抵抗値に比べて相
対的に大きくなるように設定して上記入力信号の変化に
対する上記抵抗手段に流れる電流の変化を小さくするこ
とにより、出力信号振幅及び直流レベルを入力信号の変
化に対してほぼ均等にすることができるという効果が得
られる。
【0045】(2) 上記に加えて、可変抵抗手段を上
記第1トランジスタ及び第2トランジスタの各々の出力
ノードの電圧が制御端子に供給された第1と第2可変抵
抗手段を並列形態に接続したものとし、上記入力信号に
対応して第1トランジスタがオン状態にされたときの上
記第1と第2の可変抵抗手段の合成抵抗値が上記入力信
号に対応して上記第2トランジスタがオン状態にされた
ときの上記第1と第2の可変抵抗手段の合成抵抗値に比
べて相対的に大きくなるように設定することにより、出
力信号振幅及び直流レベルを入力信号の変化に対して安
定的に一定にすることができるという効果が得られる。
【0046】(3) 上記に加えて、上記第1及び第2
トランジスタを第1及び第2MOSFETとし、上記抵
抗手段を上記入力回路の活性化信号がゲートに印加され
た第3MOSFETとし、上記負荷手段をゲートに所定
の電圧が印加された第4及び第5MOSFETで含むの
とし、上記第1及び第2可変抵抗手段は第6及び第7M
OSFETで構成することにより、半導体集積回路に好
適な入力回路を得ることができるという効果が得られ
る。
【0047】(4) 上記に加えて、上記第6MOSF
ETと第7MOSFETはゲート長が同じで、第6MO
SFETのゲート幅が第7MOSFETのゲート幅に比
べて大きく形成することにより、出力信号振幅及び直流
レベルを入力信号の変化に対して安定的に設定すること
が容易にできるという効果が得られる。
【0048】(5) 上記に加えて、上記第6MOSF
ETと第7MOSFETの上記ゲート幅の差を上記第3
MOSFETに流れる電流をほぼ一定になるような設定
することにより、出力信号振幅及び直流レベルを入力信
号の変化に対して一定にできるという効果が得られる。
【0049】以上、本発明者によってなされた発明を実
施例に基づき具体的に説明したが、この発明は、上記実
施例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない
範囲で種々変更可能であることは言うまでもない。例え
ば、図7において、メモリアレイMARYは、任意数の
冗長素子を含むことができるし、その周辺回路を含めて
任意数のメモリマット又はサブアレイに分割することが
できる。また、スタティック型RAMは、例えば×16
ビット又は×32ビット等、任意のビット構成を採りう
るし、そのブロック構成や起動制御信号及びアドレス信
号の名称及び組み合わせならびに有効レベル等は、種々
の実施形態を採りうる。
【0050】入力回路は、上記のようなスタティック型
RAMの他、参照電圧を用いて小振幅の入力信号を取り
込む半導体集積回路装置に広く利用することができる。
差動トランジスタは、MOSFETの他にバイポーラ型
トランジスタを用いるものであってよい。つまり、差動
トランジスタをバイポーラ型トランジスタで構成し、負
荷や可変抵抗素子をMOSFETで構成するバイポーラ
−CMOS構造の半導体集積回路装置にも同様に適用で
きるものである。
【0051】
【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記の通りである。制御入力端子に入力信号が供給された
第1トランジスタと制御入力端子に参照電圧が供給され
た第2トランジスタとを差動形態として動作電流を形成
する抵抗手段を設け、上記第1トランジスタ又は第2ト
ランジスタの出力ノードの電圧が制御端子に供給された
可変抵抗手段を上記抵抗手段に直列形態とし、第1トラ
ンジスタがオン状態にされたときの上記可変抵抗手段の
抵抗値が上記入力信号に対応して上記第2トランジスタ
がオン状態にされたときの上記可変抵抗手段の抵抗値に
比べて相対的に大きくなるように設定して上記入力信号
の変化に対する上記抵抗手段に流れる電流の変化を小さ
くすることにより、出力信号振幅及び直流レベルを入力
信号の変化に対してほぼ均等にすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明に係る入力回路の一実施例を示す回路
図である。
【図2】この発明に係る入力回路の動作を説明するため
の波形図である。
【図3】この発明に係る入力回路の一実施例を示す具体
的回路図である。
【図4】この発明に係る入力回路の他の一実施例を示す
具体的回路図である。
【図5】この発明に係る入力回路の他の一実施例を示す
具体的回路図である。
【図6】この発明に係る入力回路の更に他の一実施例を
示す具体的回路図である。
【図7】この発明が適用されたスタティック型RAMの
一実施例を示すブロック図である。
【図8】この発明に先立って検討された入力回路の一例
を示す回路図である。
【図9】図8の入力回路の動作を説明するための波形図
である。
【符号の説明】
M1〜M30……MOSFET、IN1〜IN4…イン
バータ回路、MARY……メモリアレイ、RD……ロウ
アドレスデコーダ、RB……ロウアドレスバッファ、C
S……カラムスイッチ、WA……ライトアンプ、RA…
…リードアンプ、CD……カラムアドレスデコーダ、C
B……カラムアドレスバッファ、IB……データ入力バ
ッファ、IC……データ入力制御回路、OB……データ
出力バッファ、TD……遷移検出回路、POR……パワ
ーオンリセット回路、PG……イネーブルパルス発生回
路。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 5B015 JJ11 KB32 KB42 KB50 KB91 5J039 DA09 DB11 DC01 KK18 MM16 NN06 5J056 AA01 BB18 CC21 DD13 FF06 FF07 FF08 GG10 HH01 HH02 KK01

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 入力信号が制御入力端子に供給された第
    1トランジスタと、 上記第1トランジスタと差動形態に接続され、制御入力
    端子に参照電圧が供給された第2トランジスタと、 上記第1トランジスタと第2トランジスタに流す動作電
    流を形成する抵抗手段と、 上記第1トランジスタと第2トランジスタの各々の出力
    ノードに設けられた第1及び第2負荷手段と、 上記第1トランジスタ又は第2トランジスタの出力ノー
    ドの電圧が制御端子に供給され、上記抵抗手段と直列形
    態に設けられた可変抵抗手段含む入力回路を備え、 上記入力信号に対応して第1トランジスタがオン状態に
    されたときの上記可変抵抗手段の抵抗値が上記入力信号
    に対応して上記第2トランジスタがオン状態にされたと
    きの上記可変抵抗手段の抵抗値に比べて相対的に大きく
    なるように設定し、上記入力信号の変化に対する上記抵
    抗手段に流れる電流の変化を小さくしてなることを特徴
    とする半導体集積回路装置。
  2. 【請求項2】 請求項1において、 上記可変抵抗手段は、上記第1トランジスタ及び第2ト
    ランジスタの各々の出力ノードの電圧が制御端子に供給
    された第1と第2可変抵抗手段からなり、 かかる第1と第2の可変抵抗手段は並列形態に接続さ
    れ、上記入力信号に対応して第1トランジスタがオン状
    態にされたときの上記第1と第2の可変抵抗手段の合成
    抵抗値が上記入力信号に対応して上記第2トランジスタ
    がオン状態にされたときの上記第1と第2の可変抵抗手
    段の合成抵抗値に比べて相対的に大きくなるように設定
    されることを特徴とする半導体集積回路装置。
  3. 【請求項3】 請求項2において、 上記第1及び第2トランジスタは第1及び第2MOSF
    ETからなり、 上記抵抗手段は上記入力回路の活性化信号がゲートに印
    加された第3MOSFETからなり、 上記負荷手段は、ゲートに所定の電圧が印加された第4
    及び第5MOSFETを含み、 上記第1及び第2可変抵抗手段は第6及び第7MOSF
    ETからなることを特徴とする半導体集積回路装置。
  4. 【請求項4】 請求項3において、 上記第6MOSFETと第7MOSFETはゲート長が
    同じで、第6MOSFETのゲート幅が第7MOSFE
    Tのゲート幅に比べて大きく形成されてなることを特徴
    とする半導体集積回路装置。
  5. 【請求項5】 請求項4において、 上記第6MOSFETと第7MOSFETの上記ゲート
    幅の差は、上記第3MOSFETに流れる電流がほぼ一
    定になるように設定されるものであることを特徴とする
    半導体集積回路装置。
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WO2014148372A1 (ja) * 2013-03-21 2014-09-25 ピーエスフォー ルクスコ エスエイアールエル 半導体装置

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