JP2001330953A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2001330953A5
JP2001330953A5 JP2000150080A JP2000150080A JP2001330953A5 JP 2001330953 A5 JP2001330953 A5 JP 2001330953A5 JP 2000150080 A JP2000150080 A JP 2000150080A JP 2000150080 A JP2000150080 A JP 2000150080A JP 2001330953 A5 JP2001330953 A5 JP 2001330953A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sulfonic acid
naphthoquinonediazide
acid ester
oxetane
weight
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2000150080A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP3835120B2 (ja
JP2001330953A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2000150080A priority Critical patent/JP3835120B2/ja
Priority claimed from JP2000150080A external-priority patent/JP3835120B2/ja
Publication of JP2001330953A publication Critical patent/JP2001330953A/ja
Publication of JP2001330953A5 publication Critical patent/JP2001330953A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3835120B2 publication Critical patent/JP3835120B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

JP2000150080A 2000-05-22 2000-05-22 感放射線性樹脂組成物並びに層間絶縁膜およびマイクロレンズ Expired - Lifetime JP3835120B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000150080A JP3835120B2 (ja) 2000-05-22 2000-05-22 感放射線性樹脂組成物並びに層間絶縁膜およびマイクロレンズ

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000150080A JP3835120B2 (ja) 2000-05-22 2000-05-22 感放射線性樹脂組成物並びに層間絶縁膜およびマイクロレンズ

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2001330953A JP2001330953A (ja) 2001-11-30
JP2001330953A5 true JP2001330953A5 (https=) 2004-10-28
JP3835120B2 JP3835120B2 (ja) 2006-10-18

Family

ID=18655849

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000150080A Expired - Lifetime JP3835120B2 (ja) 2000-05-22 2000-05-22 感放射線性樹脂組成物並びに層間絶縁膜およびマイクロレンズ

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3835120B2 (https=)

Families Citing this family (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1501167A (zh) * 2002-10-24 2004-06-02 住友化学工业株式会社 感放射线性树脂组成物
TWI281095B (en) * 2002-11-01 2007-05-11 Sumitomo Chemical Co Radiation sensitive resin composition
TW200502682A (en) 2003-03-25 2005-01-16 Sumitomo Chemical Co Process for forming hardened resin pattern
JP4175221B2 (ja) * 2003-09-09 2008-11-05 Ｊｓｒ株式会社 感光性絶縁樹脂組成物およびその硬化物
JP2005330481A (ja) * 2004-04-23 2005-12-02 Sumitomo Chemical Co Ltd 高分子化合物およびその製造方法
JP2006048017A (ja) * 2004-06-30 2006-02-16 Sumitomo Chemical Co Ltd 感放射線性樹脂組成物
JP4646582B2 (ja) * 2004-09-15 2011-03-09 ダイセル化学工業株式会社 フォトレジスト用共重合体の製造法
JP4802731B2 (ja) * 2005-02-03 2011-10-26 Ｊｓｒ株式会社 マレイミド系共重合体、その製造方法、重合体組成物および成形体
JP2006282889A (ja) 2005-04-01 2006-10-19 Jsr Corp 感放射線性樹脂組成物、それから形成された突起およびスペーサー、ならびにそれらを具備する液晶表示素子
JP4581810B2 (ja) * 2005-04-21 2010-11-17 Ｊｓｒ株式会社 層間絶縁膜形成用感放射線性樹脂組成物およびマイクロレンズ形成用感放射線性組成物
JP4835041B2 (ja) * 2005-05-24 2011-12-14 東ソー株式会社 フマル酸ジエステル重合体の製造方法
JP4677871B2 (ja) * 2005-10-03 2011-04-27 Ｊｓｒ株式会社 感放射線性樹脂組成物ならびに層間絶縁膜およびマイクロレンズの形成
JP4581952B2 (ja) * 2005-10-03 2010-11-17 Ｊｓｒ株式会社 感放射線性樹脂組成物ならびに層間絶縁膜およびマイクロレンズの形成
JP4835835B2 (ja) * 2006-03-13 2011-12-14 Ｊｓｒ株式会社 側鎖不飽和重合体、感放射線性樹脂組成物および液晶表示素子用スペーサー
JP4710703B2 (ja) 2006-04-21 2011-06-29 Ｊｓｒ株式会社 着色層形成用感放射線性組成物、カラーフィルタおよびカラー液晶表示素子
JP2008144124A (ja) * 2006-11-14 2008-06-26 Jsr Corp 熱硬化性樹脂組成物、カラーフィルタの保護膜の形成方法およびカラーフィルタの保護膜
JP4849251B2 (ja) * 2007-01-18 2012-01-11 Ｊｓｒ株式会社 感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズ、ならびにそれらの製造方法
TWI425315B (zh) 2007-01-18 2014-02-01 Jsr Corp Sensitive radiation linear resin composition, interlayer insulating film and microlens, and the like
JP4766268B2 (ja) * 2007-03-01 2011-09-07 Ｊｓｒ株式会社 感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズ、ならびにそれらの製造方法
US7592119B2 (en) 2007-02-09 2009-09-22 Sony Corporation Photosensitive polyimide resin composition
JP5105073B2 (ja) * 2008-03-24 2012-12-19 Ｊｓｒ株式会社 感放射線性樹脂組成物、ならびに層間絶縁膜およびマイクロレンズの製造方法
JP5676179B2 (ja) 2010-08-20 2015-02-25 富士フイルム株式会社 ポジ型感光性樹脂組成物、硬化膜の形成方法、硬化膜、有機ｅｌ表示装置、及び、液晶表示装置
TWI550338B (zh) 2010-08-30 2016-09-21 富士軟片股份有限公司 感光性樹脂組成物、肟基磺酸酯化合物、硬化膜之形成方法、硬化膜、有機ｅｌ顯示裝置、及液晶顯示裝置
EP2447773B1 (en) 2010-11-02 2013-07-10 Fujifilm Corporation Method for producing a pattern, method for producing a MEMS structure, use of a cured film of a photosensitive composition as a sacrificial layer or as a component of a MEMS structure
JP5635449B2 (ja) 2011-03-11 2014-12-03 富士フイルム株式会社 樹脂パターン及びその製造方法、ｍｅｍｓ構造体の製造方法、半導体素子の製造方法、並びに、メッキパターン製造方法
JP6284849B2 (ja) 2013-08-23 2018-02-28 富士フイルム株式会社 積層体
JP6167016B2 (ja) 2013-10-31 2017-07-19 富士フイルム株式会社 積層体、有機半導体製造用キットおよび有機半導体製造用レジスト組成物
KR102537349B1 (ko) 2015-02-02 2023-05-26 바스프 에스이 잠재성 산 및 그의 용도
TW201821280A (zh) 2016-09-30 2018-06-16 日商富士軟片股份有限公司 積層體以及半導體元件的製造方法
TW202209548A (zh) 2020-08-27 2022-03-01 日商富士軟片股份有限公司 經加工的基材的製造方法、半導體元件的製造方法、及暫時黏合劑層形成用組成物
WO2022050313A1 (ja) 2020-09-04 2022-03-10 富士フイルム株式会社 有機層パターンの製造方法、及び、半導体デバイスの製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3835120B2 (ja) 感放射線性樹脂組成物並びに層間絶縁膜およびマイクロレンズ
JP3965868B2 (ja) 層間絶縁膜およびマイクロレンズ
JP2001330953A5 (https=)
KR100663818B1 (ko) 감방사선성 수지 조성물 및 층간 절연막에서의 그의 용도
JP4207604B2 (ja) 感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズ、ならびにそれらの形成方法
JP2001354822A5 (https=)
JP4168443B2 (ja) 感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズ、ならびにそれらの製造方法
JP4905700B2 (ja) 感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズならびにそれらの形成方法
KR101538804B1 (ko) 감방사선성 수지 조성물, 및 층간 절연막과 그의 제조 방법
KR101421299B1 (ko) 감방사선성 수지 조성물, 층간 절연막 및 마이크로렌즈, 및이들의 제조 방법
JP4524944B2 (ja) 感放射線性樹脂組成物、その層間絶縁膜およびマイクロレンズの形成への使用、ならびに層間絶縁膜およびマイクロレンズ
JP3783512B2 (ja) 感放射線性樹脂組成物およびそれから形成された層間絶縁膜
TWI430026B (zh) Sensitive linear resin composition, interlayer insulating film and microlens, and the like
JP2008225162A (ja) 感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズ、ならびにそれらの製造方法
JP2000327877A (ja) 感放射線性樹脂組成物、その層間絶縁膜およびマイクロレンズへの使用、並びに層間絶縁膜およびマイクロレンズ
JP4127150B2 (ja) 感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズ、ならびにそれらの製造方法
JP4677871B2 (ja) 感放射線性樹脂組成物ならびに層間絶縁膜およびマイクロレンズの形成
JP2000327875A (ja) カラーフィルター保護膜またはｔｆｔ層間絶縁膜と一体となったスペーサー用感放射線性樹脂組成物
JP4650639B2 (ja) 感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズ、ならびにそれらの製造方法
JP3642048B2 (ja) 光拡散反射膜形成用組成物、光拡散反射膜および液晶表示素子
JP4581810B2 (ja) 層間絶縁膜形成用感放射線性樹脂組成物およびマイクロレンズ形成用感放射線性組成物
JP2008175889A (ja) 感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズ、ならびにそれらの製造方法
JP2000250208A (ja) 感放射線性樹脂組成物
JP3733946B2 (ja) 層間絶縁膜形成用およびマイクロレンズ形成用の感放射線性樹脂組成物
JP2009204865A (ja) 感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズ、ならびにそれらの製造方法