JP3835120B2 - 感放射線性樹脂組成物並びに層間絶縁膜およびマイクロレンズ - Google Patents

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1501167A (zh) * 2002-10-24 2004-06-02 住友化学工业株式会社 感放射线性树脂组成物
TWI281095B (en) * 2002-11-01 2007-05-11 Sumitomo Chemical Co Radiation sensitive resin composition
TW200502682A (en) 2003-03-25 2005-01-16 Sumitomo Chemical Co Process for forming hardened resin pattern
JP4175221B2 (ja) * 2003-09-09 2008-11-05 Jsr株式会社 感光性絶縁樹脂組成物およびその硬化物
JP2005330481A (ja) * 2004-04-23 2005-12-02 Sumitomo Chemical Co Ltd 高分子化合物およびその製造方法
JP2006048017A (ja) * 2004-06-30 2006-02-16 Sumitomo Chemical Co Ltd 感放射線性樹脂組成物
JP4646582B2 (ja) * 2004-09-15 2011-03-09 ダイセル化学工業株式会社 フォトレジスト用共重合体の製造法
JP4802731B2 (ja) * 2005-02-03 2011-10-26 Jsr株式会社 マレイミド系共重合体、その製造方法、重合体組成物および成形体
JP2006282889A (ja) 2005-04-01 2006-10-19 Jsr Corp 感放射線性樹脂組成物、それから形成された突起およびスペーサー、ならびにそれらを具備する液晶表示素子
JP4581810B2 (ja) * 2005-04-21 2010-11-17 Jsr株式会社 層間絶縁膜形成用感放射線性樹脂組成物およびマイクロレンズ形成用感放射線性組成物
JP4835041B2 (ja) * 2005-05-24 2011-12-14 東ソー株式会社 フマル酸ジエステル重合体の製造方法
JP4677871B2 (ja) * 2005-10-03 2011-04-27 Jsr株式会社 感放射線性樹脂組成物ならびに層間絶縁膜およびマイクロレンズの形成
JP4581952B2 (ja) * 2005-10-03 2010-11-17 Jsr株式会社 感放射線性樹脂組成物ならびに層間絶縁膜およびマイクロレンズの形成
JP4835835B2 (ja) * 2006-03-13 2011-12-14 Jsr株式会社 側鎖不飽和重合体、感放射線性樹脂組成物および液晶表示素子用スペーサー
JP4710703B2 (ja) 2006-04-21 2011-06-29 Jsr株式会社 着色層形成用感放射線性組成物、カラーフィルタおよびカラー液晶表示素子
JP2008144124A (ja) * 2006-11-14 2008-06-26 Jsr Corp 熱硬化性樹脂組成物、カラーフィルタの保護膜の形成方法およびカラーフィルタの保護膜
JP4849251B2 (ja) * 2007-01-18 2012-01-11 Jsr株式会社 感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズ、ならびにそれらの製造方法
TWI425315B (zh) 2007-01-18 2014-02-01 Jsr Corp Sensitive radiation linear resin composition, interlayer insulating film and microlens, and the like
JP4766268B2 (ja) * 2007-03-01 2011-09-07 Jsr株式会社 感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズ、ならびにそれらの製造方法
US7592119B2 (en) 2007-02-09 2009-09-22 Sony Corporation Photosensitive polyimide resin composition
JP5105073B2 (ja) * 2008-03-24 2012-12-19 Jsr株式会社 感放射線性樹脂組成物、ならびに層間絶縁膜およびマイクロレンズの製造方法
JP5676179B2 (ja) 2010-08-20 2015-02-25 富士フイルム株式会社 ポジ型感光性樹脂組成物、硬化膜の形成方法、硬化膜、有機el表示装置、及び、液晶表示装置
TWI550338B (zh) 2010-08-30 2016-09-21 富士軟片股份有限公司 感光性樹脂組成物、肟基磺酸酯化合物、硬化膜之形成方法、硬化膜、有機el顯示裝置、及液晶顯示裝置
EP2447773B1 (en) 2010-11-02 2013-07-10 Fujifilm Corporation Method for producing a pattern, method for producing a MEMS structure, use of a cured film of a photosensitive composition as a sacrificial layer or as a component of a MEMS structure
JP5635449B2 (ja) 2011-03-11 2014-12-03 富士フイルム株式会社 樹脂パターン及びその製造方法、mems構造体の製造方法、半導体素子の製造方法、並びに、メッキパターン製造方法
JP6284849B2 (ja) 2013-08-23 2018-02-28 富士フイルム株式会社 積層体
JP6167016B2 (ja) 2013-10-31 2017-07-19 富士フイルム株式会社 積層体、有機半導体製造用キットおよび有機半導体製造用レジスト組成物
KR102537349B1 (ko) 2015-02-02 2023-05-26 바스프 에스이 잠재성 산 및 그의 용도
TW201821280A (zh) 2016-09-30 2018-06-16 日商富士軟片股份有限公司 積層體以及半導體元件的製造方法
TW202209548A (zh) 2020-08-27 2022-03-01 日商富士軟片股份有限公司 經加工的基材的製造方法、半導體元件的製造方法、及暫時黏合劑層形成用組成物
WO2022050313A1 (ja) 2020-09-04 2022-03-10 富士フイルム株式会社 有機層パターンの製造方法、及び、半導体デバイスの製造方法

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