JP2001325724A - 磁気転写方法および磁気記録媒体 - Google Patents
磁気転写方法および磁気記録媒体Info
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/86—Re-recording, i.e. transcribing information from one magnetisable record carrier on to one or more similar or dissimilar record carriers
- G11B5/865—Re-recording, i.e. transcribing information from one magnetisable record carrier on to one or more similar or dissimilar record carriers by contact "printing"
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- G11B5/48—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed
- G11B5/58—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed with provision for moving the head for the purpose of maintaining alignment of the head relative to the record carrier during transducing operation, e.g. to compensate for surface irregularities of the latter or for track following
- G11B5/596—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed with provision for moving the head for the purpose of maintaining alignment of the head relative to the record carrier during transducing operation, e.g. to compensate for surface irregularities of the latter or for track following for track following on disks
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B2220/00—Record carriers by type
- G11B2220/20—Disc-shaped record carriers
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 スレーブ媒体の両面に品位の高い転写パター
ンを磁気転写によって転写する。 【解決手段】 磁気転写用マスター担体とスレーブ媒体
を密着させて転写用磁界を印加して磁気記録媒体に片面
ずつ磁気転写法を行う方法において、スレーブ媒体の先
に磁気転写される面への磁気転写に使用される磁気転写
用マスター担体の磁性層の飽和磁化（Ｍｓ１）と膜厚
（δ１）の積（Ｍｓ１δ１）と、スレーブ媒体の後から
転写される面への転写に使用するマスター担体磁性層の
飽和磁化（Ｍｓ２）と膜厚（δ２）の積（Ｍｓ２δ２）
が、１．５＜（Ｍｓ２δ２）／（Ｍｓ１δ１）＜１０の
関係にあり、先に磁気転写される面への転写磁界（Ｈｄ
ｕ１）と後から転写される媒体面の転写磁界（Ｈｄｕ
２）が０．２≦Ｈｄｕ２／Ｈｄｕ１≦０．９の関係にあ
る磁気転写方法。
ンを磁気転写によって転写する。 【解決手段】 磁気転写用マスター担体とスレーブ媒体
を密着させて転写用磁界を印加して磁気記録媒体に片面
ずつ磁気転写法を行う方法において、スレーブ媒体の先
に磁気転写される面への磁気転写に使用される磁気転写
用マスター担体の磁性層の飽和磁化（Ｍｓ１）と膜厚
（δ１）の積（Ｍｓ１δ１）と、スレーブ媒体の後から
転写される面への転写に使用するマスター担体磁性層の
飽和磁化（Ｍｓ２）と膜厚（δ２）の積（Ｍｓ２δ２）
が、１．５＜（Ｍｓ２δ２）／（Ｍｓ１δ１）＜１０の
関係にあり、先に磁気転写される面への転写磁界（Ｈｄ
ｕ１）と後から転写される媒体面の転写磁界（Ｈｄｕ
２）が０．２≦Ｈｄｕ２／Ｈｄｕ１≦０．９の関係にあ
る磁気転写方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気記録媒体に多
くの情報を一度に記録する方法に関し、とくに大容量、
高記録密度の磁気記録媒体への記録情報の転写方法に関
する。
くの情報を一度に記録する方法に関し、とくに大容量、
高記録密度の磁気記録媒体への記録情報の転写方法に関
する。
【０００２】
【従来の技術】デジタル画像の利用の進展等で、パソコ
ン等で取り扱う情報量が飛躍的に増加している。情報量
の増加によって、情報を記録する大容量で安価で、しか
も記録、読み出し時間の短い磁気記録媒体が求められて
いる。ハードディスク等の高密度記録媒体や、ＺＩＰ
（アイオメガ社）に代表される高密度のフロッピー（登
録商標）ディスク型の磁気記録媒体では、一般のフロッ
ピーディスクに比べて情報記録領域は狭トラックで構成
されており、狭いトラック幅を正確に磁気ヘッドを走査
し、信号の記録と再生を高Ｓ／Ｎ比で行うためには、ト
ラッキングサーボ技術を用いて正確な走査を行うことが
必要である。
ン等で取り扱う情報量が飛躍的に増加している。情報量
の増加によって、情報を記録する大容量で安価で、しか
も記録、読み出し時間の短い磁気記録媒体が求められて
いる。ハードディスク等の高密度記録媒体や、ＺＩＰ
（アイオメガ社）に代表される高密度のフロッピー（登
録商標）ディスク型の磁気記録媒体では、一般のフロッ
ピーディスクに比べて情報記録領域は狭トラックで構成
されており、狭いトラック幅を正確に磁気ヘッドを走査
し、信号の記録と再生を高Ｓ／Ｎ比で行うためには、ト
ラッキングサーボ技術を用いて正確な走査を行うことが
必要である。
【０００３】そこで、ハードディスク、リムーバル型の
磁気記録媒体のような大容量の磁気記録媒体では、ディ
スクの１周のなかである間隔でトラッキング用のサーボ
信号やアドレス情報信号、再生クロック信号等が記録さ
れた、いわゆるプリフォーマットがなされている。磁気
ヘッドはこのプリフォーマットの信号を読みとって自分
の位置を修正することで正確にトラック上を走行するこ
とが可能となっている。現在のプリフォーマットはディ
スクを専用のサーボ記録装置を用いて、１枚ずつ、１ト
ラックずつ記録して作製される。サーボ記録装置は高価
であること、プリフォーマット作製に長時間を要するた
めに製造に長時間を要し、製造コストにも影響を及ぼす
という問題があった。
磁気記録媒体のような大容量の磁気記録媒体では、ディ
スクの１周のなかである間隔でトラッキング用のサーボ
信号やアドレス情報信号、再生クロック信号等が記録さ
れた、いわゆるプリフォーマットがなされている。磁気
ヘッドはこのプリフォーマットの信号を読みとって自分
の位置を修正することで正確にトラック上を走行するこ
とが可能となっている。現在のプリフォーマットはディ
スクを専用のサーボ記録装置を用いて、１枚ずつ、１ト
ラックずつ記録して作製される。サーボ記録装置は高価
であること、プリフォーマット作製に長時間を要するた
めに製造に長時間を要し、製造コストにも影響を及ぼす
という問題があった。
【０００４】そこで、１トラックずつプリフォーマット
を行わずに磁気転写で行う方式も提案されている。例え
ば、特開昭６３−１８３６２３号公報、特開平１０−４
０５４４号公報、および特開平１０−２６９５６６号公
報に転写技術が紹介されている。しかしながら、磁気転
写方法において転写時に印加する磁界の条件およびその
磁界を発生するための具体的な手段をはじめとして、実
際に即した提案は行われてこなかった。
を行わずに磁気転写で行う方式も提案されている。例え
ば、特開昭６３−１８３６２３号公報、特開平１０−４
０５４４号公報、および特開平１０−２６９５６６号公
報に転写技術が紹介されている。しかしながら、磁気転
写方法において転写時に印加する磁界の条件およびその
磁界を発生するための具体的な手段をはじめとして、実
際に即した提案は行われてこなかった。
【０００５】また、こうした従来の問題点を解決する記
録方法として、特開昭６３−１８３６２３号公報や特開
平１０−４０５４４号公報において、基体の表面に情報
信号に対応する凹凸形状が形成され、凹凸形状の少なく
とも凸部表面に強磁性薄膜が形成された磁気転写用マス
ター担体の表面を、強磁性薄膜あるいは強磁性粉塗布層
が形成されたシート状もしくはディスク状磁気記録媒体
の表面に接触、あるいはさらに交流バイアス磁界、ある
いは直流磁界を印加して凸部表面を構成する強磁性材料
を励磁することによって、凹凸形状に対応する磁化パタ
ーンを磁気記録媒体に記録する方法が提案されている。
録方法として、特開昭６３−１８３６２３号公報や特開
平１０−４０５４４号公報において、基体の表面に情報
信号に対応する凹凸形状が形成され、凹凸形状の少なく
とも凸部表面に強磁性薄膜が形成された磁気転写用マス
ター担体の表面を、強磁性薄膜あるいは強磁性粉塗布層
が形成されたシート状もしくはディスク状磁気記録媒体
の表面に接触、あるいはさらに交流バイアス磁界、ある
いは直流磁界を印加して凸部表面を構成する強磁性材料
を励磁することによって、凹凸形状に対応する磁化パタ
ーンを磁気記録媒体に記録する方法が提案されている。
【０００６】この方法では、磁気転写用マスター担体の
凸部表面をプリフォーマットすべき磁気記録媒体、すな
わちスレーブ媒体に密着させて同時に凸部を構成する強
磁性材料を励磁することにより、スレーブ媒体に所定の
フォーマットを形成する転写による方法であり、磁気転
写用マスター担体とスレーブ媒体との相対的な位置を変
化させることなく静的に記録を行うことができ、正確な
プリフォーマット記録が可能であるという特徴を有して
いる。しかも記録に要する時間も極めて短時間であると
いう特徴を有している。すなわち、前述した磁気ヘッド
から記録する方法では、通常数分から数十分は必要であ
り、且つ記録容量に比例して転写に要する時間はさらに
長くなるという問題があったが、この磁気転写法である
と、記録容量や記録密度に関係なく１秒以下で転写を完
了させることができると言う特徴を有している。
凸部表面をプリフォーマットすべき磁気記録媒体、すな
わちスレーブ媒体に密着させて同時に凸部を構成する強
磁性材料を励磁することにより、スレーブ媒体に所定の
フォーマットを形成する転写による方法であり、磁気転
写用マスター担体とスレーブ媒体との相対的な位置を変
化させることなく静的に記録を行うことができ、正確な
プリフォーマット記録が可能であるという特徴を有して
いる。しかも記録に要する時間も極めて短時間であると
いう特徴を有している。すなわち、前述した磁気ヘッド
から記録する方法では、通常数分から数十分は必要であ
り、且つ記録容量に比例して転写に要する時間はさらに
長くなるという問題があったが、この磁気転写法である
と、記録容量や記録密度に関係なく１秒以下で転写を完
了させることができると言う特徴を有している。
【０００７】また、この方法では、磁気転写用マスター
担体の凸部表面をプリフォーマットするべき磁気記録媒
体、すなわちスレーブ媒体に密着させて同時に凸部を構
成する強磁性材料を励磁することにより、スレーブ媒体
に所定のフォーマットを形成する転写方法であり、磁気
転写用マスター担体とスレーブ媒体との相対的な位置を
変化させることなく静的に記録を行うことができ、正確
なプリフォーマット記録が可能であり、しかも記録に要
する時間も極めて短時間であるという特徴を有してい
る。
担体の凸部表面をプリフォーマットするべき磁気記録媒
体、すなわちスレーブ媒体に密着させて同時に凸部を構
成する強磁性材料を励磁することにより、スレーブ媒体
に所定のフォーマットを形成する転写方法であり、磁気
転写用マスター担体とスレーブ媒体との相対的な位置を
変化させることなく静的に記録を行うことができ、正確
なプリフォーマット記録が可能であり、しかも記録に要
する時間も極めて短時間であるという特徴を有してい
る。
【０００８】ところが、スレーブ媒体に使用する基板に
は数μｍ程度の反りが生じることは避けられなかった。
そのため両面同時に磁気転写を行うためには、スレーブ
媒体の両面から磁気転写用マスター担体を接触させ、ス
レーブ媒体との密着性を確保するために、大きな力で圧
縮する必要がある。その結果、繰り返し磁気転写を行う
と磁気転写用マスター担体とスレーブ媒体の密着工程で
磁気転写用マスター担体が破損する場合もあった。そこ
で磁気転写用マスター担体の耐久性を向上させるため
に、片面ずつ磁気転写をすることが行われている。とこ
ろが、片面ずつ磁気転写を行う場合、スレーブ媒体の先
に磁気転写を行った面の反対側の面に磁界を印加して磁
気転写を行うと、先に記録した磁気記録信号が消去、あ
るいは欠落する場合があった。
は数μｍ程度の反りが生じることは避けられなかった。
そのため両面同時に磁気転写を行うためには、スレーブ
媒体の両面から磁気転写用マスター担体を接触させ、ス
レーブ媒体との密着性を確保するために、大きな力で圧
縮する必要がある。その結果、繰り返し磁気転写を行う
と磁気転写用マスター担体とスレーブ媒体の密着工程で
磁気転写用マスター担体が破損する場合もあった。そこ
で磁気転写用マスター担体の耐久性を向上させるため
に、片面ずつ磁気転写をすることが行われている。とこ
ろが、片面ずつ磁気転写を行う場合、スレーブ媒体の先
に磁気転写を行った面の反対側の面に磁界を印加して磁
気転写を行うと、先に記録した磁気記録信号が消去、あ
るいは欠落する場合があった。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、磁気転写用
マスター担体とスレーブ媒体とを片面ずつ密着させて、
外部磁界を印加してプリフォーマットパターンの転写に
よって作製したスレーブ媒体のサーボ動作が不正確とな
ることを防止し安定な転写方法を提供することを課題と
するものである。
マスター担体とスレーブ媒体とを片面ずつ密着させて、
外部磁界を印加してプリフォーマットパターンの転写に
よって作製したスレーブ媒体のサーボ動作が不正確とな
ることを防止し安定な転写方法を提供することを課題と
するものである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明の課題は、磁気転
写用マスター担体とスレーブ媒体を密着させて転写用磁
界を印加して磁気記録媒体に片面ずつ磁気転写法を行う
方法において、スレーブ媒体の先に磁気転写される面へ
の磁気転写に使用される磁気転写用マスター担体の磁性
層の飽和磁化（Ｍｓ１）と膜厚（δ１）との積（Ｍｓ１
δ１）と、スレーブ媒体の後から転写される面への転写
に使用する磁気転写用マスター担体の磁性層の飽和磁化
（Ｍｓ２）と膜厚（δ２）との積（Ｍｓ２δ２）が、
１．５＜（Ｍｓ２δ２）／（Ｍｓ１δ１）＜１０の関係
にあり、先に磁気転写される面への転写磁界（Ｈｄｕ
１）と後から転写されるスレーブ媒体面の転写磁界（Ｈ
ｄｕ２）が０．２≦Ｈｄｕ２／Ｈｄｕ１≦０．９の関係
にある磁気転写方法によって解決することができる。ま
た、磁気転写が、基板の表面の情報信号に対応する部分
に磁性層が形成された磁気転写用マスター担体と転写を
受けるスレーブである磁気記録媒体を使用し、予めスレ
ーブ媒体の磁化をトラック方向に初期直流磁化した後、
磁気転写用マスタ担体と初期直流磁化したスレーブ媒体
とを密着させスレーブ面の初期直流磁化方向と逆向きの
方向に転写用磁界を印加し磁気転写を行う前記の磁気転
写方法である。サーボ信号を記録した磁気記録媒体にお
いて、サーボ信号を前記の方法によって記録した磁気記
録媒体である。
写用マスター担体とスレーブ媒体を密着させて転写用磁
界を印加して磁気記録媒体に片面ずつ磁気転写法を行う
方法において、スレーブ媒体の先に磁気転写される面へ
の磁気転写に使用される磁気転写用マスター担体の磁性
層の飽和磁化（Ｍｓ１）と膜厚（δ１）との積（Ｍｓ１
δ１）と、スレーブ媒体の後から転写される面への転写
に使用する磁気転写用マスター担体の磁性層の飽和磁化
（Ｍｓ２）と膜厚（δ２）との積（Ｍｓ２δ２）が、
１．５＜（Ｍｓ２δ２）／（Ｍｓ１δ１）＜１０の関係
にあり、先に磁気転写される面への転写磁界（Ｈｄｕ
１）と後から転写されるスレーブ媒体面の転写磁界（Ｈ
ｄｕ２）が０．２≦Ｈｄｕ２／Ｈｄｕ１≦０．９の関係
にある磁気転写方法によって解決することができる。ま
た、磁気転写が、基板の表面の情報信号に対応する部分
に磁性層が形成された磁気転写用マスター担体と転写を
受けるスレーブである磁気記録媒体を使用し、予めスレ
ーブ媒体の磁化をトラック方向に初期直流磁化した後、
磁気転写用マスタ担体と初期直流磁化したスレーブ媒体
とを密着させスレーブ面の初期直流磁化方向と逆向きの
方向に転写用磁界を印加し磁気転写を行う前記の磁気転
写方法である。サーボ信号を記録した磁気記録媒体にお
いて、サーボ信号を前記の方法によって記録した磁気記
録媒体である。
【００１１】
【発明の実施の形態】本発明者らは、磁気転写用マスタ
ー担体とスレーブ媒体とを片面ずつ密着させて外部より
転写用磁界を印加することによって、スレーブ媒体への
両面にサーボ信号等を記録した際に、信号品位が低下し
た部分が生じるのは、先に磁気転写を行った面への磁気
転写に使用する磁気転写用マスター担体と後で磁気転写
に使用する磁気転写用マスター担体の飽和磁化、その厚
み、転写時に印加する磁界が適切でないために、後で磁
気転写を行った際に先に記録した信号が消去、あるいは
欠落することが原因であることを見いだし本発明を想到
したものである。
ー担体とスレーブ媒体とを片面ずつ密着させて外部より
転写用磁界を印加することによって、スレーブ媒体への
両面にサーボ信号等を記録した際に、信号品位が低下し
た部分が生じるのは、先に磁気転写を行った面への磁気
転写に使用する磁気転写用マスター担体と後で磁気転写
に使用する磁気転写用マスター担体の飽和磁化、その厚
み、転写時に印加する磁界が適切でないために、後で磁
気転写を行った際に先に記録した信号が消去、あるいは
欠落することが原因であることを見いだし本発明を想到
したものである。
【００１２】すなわち、磁気転写用マスター担体とスレ
ーブ媒体を密着させて転写用磁界を印加して磁気記録媒
体に片面ずつ磁気転写法を行う方法において、スレーブ
媒体の先に磁気転写される面への磁気転写に使用される
磁気転写用マスター担体の磁性層の飽和磁化（Ｍｓ１）
と膜厚（δ１）との積（Ｍｓ１δ１）と、スレーブ媒体
の後から転写される面への転写に使用する磁気転写用マ
スター担体の磁性層の飽和磁化（Ｍｓ２）と膜厚（δ
２）との積（Ｍｓ２δ２）が、１．５＜（Ｍｓ２δ２）
／（Ｍｓ１δ１）＜１０の関係にあり、先に磁気転写さ
れる面への転写磁界（Ｈｄｕ１）と後から転写される媒
体面の転写磁界（Ｈｄｕ２）が０．２≦Ｈｄｕ２／Ｈｄ
ｕ１≦０．９の関係にある磁気転写方法である。
ーブ媒体を密着させて転写用磁界を印加して磁気記録媒
体に片面ずつ磁気転写法を行う方法において、スレーブ
媒体の先に磁気転写される面への磁気転写に使用される
磁気転写用マスター担体の磁性層の飽和磁化（Ｍｓ１）
と膜厚（δ１）との積（Ｍｓ１δ１）と、スレーブ媒体
の後から転写される面への転写に使用する磁気転写用マ
スター担体の磁性層の飽和磁化（Ｍｓ２）と膜厚（δ
２）との積（Ｍｓ２δ２）が、１．５＜（Ｍｓ２δ２）
／（Ｍｓ１δ１）＜１０の関係にあり、先に磁気転写さ
れる面への転写磁界（Ｈｄｕ１）と後から転写される媒
体面の転写磁界（Ｈｄｕ２）が０．２≦Ｈｄｕ２／Ｈｄ
ｕ１≦０．９の関係にある磁気転写方法である。
【００１３】スレーブ媒体に使用する基板は、一般には
合成樹脂製の材料によって作製されているため、数μｍ
の反りが生じることは避けることができなかった。その
ためスレーブ媒体面に両面同時に磁気転写用マスター担
体を密着して磁気転写を行うと、両面に接触した磁気転
写用マスター担体とスレーブ媒体の密着性を確保するた
めに、強い力で圧縮する必要がある。ところが、繰り返
し磁気転写を行うと磁気転写用マスター担体とスレーブ
媒体の密着工程で磁気転写用マスター担体が破損する場
合もあった。そこで磁気転写用マスター媒体の耐久性を
向上させるために、片面ずつ磁気転写を行わざるを得な
かった。片面ずつ磁気転写を行うと、先に磁気転写を行
ったスレーブ媒体面と反対側のスレーブ媒体面に転写を
行う際に印加した磁界により、先に記録した磁気記録信
号が消去、あるいは欠落する場合があった。
合成樹脂製の材料によって作製されているため、数μｍ
の反りが生じることは避けることができなかった。その
ためスレーブ媒体面に両面同時に磁気転写用マスター担
体を密着して磁気転写を行うと、両面に接触した磁気転
写用マスター担体とスレーブ媒体の密着性を確保するた
めに、強い力で圧縮する必要がある。ところが、繰り返
し磁気転写を行うと磁気転写用マスター担体とスレーブ
媒体の密着工程で磁気転写用マスター担体が破損する場
合もあった。そこで磁気転写用マスター媒体の耐久性を
向上させるために、片面ずつ磁気転写を行わざるを得な
かった。片面ずつ磁気転写を行うと、先に磁気転写を行
ったスレーブ媒体面と反対側のスレーブ媒体面に転写を
行う際に印加した磁界により、先に記録した磁気記録信
号が消去、あるいは欠落する場合があった。
【００１４】一方、転写磁界の強度を小さくすると、高
品質な記録信号の転写が不可能となるが、転写信号の大
きさと磁気転写用マスター担体の磁性層の特性および大
きさの調整によって、先に転写された記録信号の消去あ
るいは欠落を生じさせることなく、高品質な信号の記録
が可能であることを見出したものである。磁気転写用マ
スター担体とスレーブ媒体を密着して転写用磁界を印加
した場合に、磁性層の飽和磁化（Ｍｓ）と膜厚（δ）の
積（Ｍｓδ）を所定の大きさとすることによって、転写
信号の品質、転写磁界幅が向上する。これは磁性層の飽
和磁化（Ｍｓ１）と膜厚（δ１）の積（Ｍｓ１δ１）を
調整することで、転写磁界を調整できることを意味して
いる。すなわち、磁気転写用マスター担体の磁性層のＭ
ｓδを大きくすると転写磁界が小さくても転写が可能で
あることを示す。
品質な記録信号の転写が不可能となるが、転写信号の大
きさと磁気転写用マスター担体の磁性層の特性および大
きさの調整によって、先に転写された記録信号の消去あ
るいは欠落を生じさせることなく、高品質な信号の記録
が可能であることを見出したものである。磁気転写用マ
スター担体とスレーブ媒体を密着して転写用磁界を印加
した場合に、磁性層の飽和磁化（Ｍｓ）と膜厚（δ）の
積（Ｍｓδ）を所定の大きさとすることによって、転写
信号の品質、転写磁界幅が向上する。これは磁性層の飽
和磁化（Ｍｓ１）と膜厚（δ１）の積（Ｍｓ１δ１）を
調整することで、転写磁界を調整できることを意味して
いる。すなわち、磁気転写用マスター担体の磁性層のＭ
ｓδを大きくすると転写磁界が小さくても転写が可能で
あることを示す。
【００１５】したがって、片面ずつ磁気転写を行う場
合、一方の面の磁気記録信号の転写が終わった磁気記録
媒体の他方の面に磁気転写を行う場合に、磁気転写用マ
スター担体の磁性層のＭｓδを大きくすることで転写磁
界を小さくし、転写磁界の大きさをスレーブ媒体の保磁
力よりも低い値にすることにより、既に転写された磁気
転写面の信号品位の低下を防止するものである。（Ｍｓ
２δ２）／（Ｍｓ１δ１）が１．５より小さい場合に
は、転写に必要な磁気転写磁界は先磁気転写面と同じ、
あるいは大きいために、先に磁気転写面の信号劣化が起
こる。
合、一方の面の磁気記録信号の転写が終わった磁気記録
媒体の他方の面に磁気転写を行う場合に、磁気転写用マ
スター担体の磁性層のＭｓδを大きくすることで転写磁
界を小さくし、転写磁界の大きさをスレーブ媒体の保磁
力よりも低い値にすることにより、既に転写された磁気
転写面の信号品位の低下を防止するものである。（Ｍｓ
２δ２）／（Ｍｓ１δ１）が１．５より小さい場合に
は、転写に必要な磁気転写磁界は先磁気転写面と同じ、
あるいは大きいために、先に磁気転写面の信号劣化が起
こる。
【００１６】一方、（Ｍｓ２δ２）／（Ｍｓ１δ１）が
１０よりも大きい場合、磁気転写後に磁気転写用マスタ
ー担体とスレーブ媒体とを引き離す際に磁界印加に使用
する電磁石などの残留磁界により転写が起こるものとみ
られ、後で磁気転写した面の信号品位の低下が起こるこ
とがわかった。そこで、（Ｍｓ２δ２）／（Ｍｓ１δ
１）の関係を満たした上で先に磁気転写を行った面と、
後で磁気転写を行った面の転写磁界強度の関係を調べた
結果、先に磁気転写を行った面の転写磁界（Ｈｄｕ１）
と反対側の媒体面の転写磁界（Ｈｄｕ２）が０．２≦Ｈ
ｄｕ２／Ｈｄｕ１≦０．９の関係に保つことで両面の磁
気転写信号品位を確保できることがわかった。Ｈｄｕ２
／Ｈｄｕ１＜０．２では、後磁気転写面に十分な転写が
起こらず信号品位が実用上問題のないレベルに保てな
い。また、Ｈｄｕ２／Ｈｄｕ１＞０．９では、先磁気転
写面の記録信号が乱れ、信号品位が低下することがわか
った。
１０よりも大きい場合、磁気転写後に磁気転写用マスタ
ー担体とスレーブ媒体とを引き離す際に磁界印加に使用
する電磁石などの残留磁界により転写が起こるものとみ
られ、後で磁気転写した面の信号品位の低下が起こるこ
とがわかった。そこで、（Ｍｓ２δ２）／（Ｍｓ１δ
１）の関係を満たした上で先に磁気転写を行った面と、
後で磁気転写を行った面の転写磁界強度の関係を調べた
結果、先に磁気転写を行った面の転写磁界（Ｈｄｕ１）
と反対側の媒体面の転写磁界（Ｈｄｕ２）が０．２≦Ｈ
ｄｕ２／Ｈｄｕ１≦０．９の関係に保つことで両面の磁
気転写信号品位を確保できることがわかった。Ｈｄｕ２
／Ｈｄｕ１＜０．２では、後磁気転写面に十分な転写が
起こらず信号品位が実用上問題のないレベルに保てな
い。また、Ｈｄｕ２／Ｈｄｕ１＞０．９では、先磁気転
写面の記録信号が乱れ、信号品位が低下することがわか
った。
【００１７】よって磁気転写面に使用するマスター担体
の磁性層の飽和磁化（Ｍｓ１）と膜厚（δ１）の積（Ｍ
ｓ１δ１）と反対の媒体面に転写に使用する磁気転写用
マスター担体の磁性層の飽和磁化（Ｍｓ２）と膜厚（δ
２）との積（Ｍｓ２δ２）を１．５＜（Ｍｓ２δ２）／
（Ｍｓ１δ１）＜１０の範囲に設定し、先に転写する磁
気転写面に印加する転写磁界（Ｈｄｕ１）とスレーブ媒
体の反対面への転写磁界（Ｈｄｕ２）が０．２≦Ｈｄｕ
２／Ｈｄｕ１≦０．９の関係を満足するすることで、片
面ずつの磁気転写における信号品位低下を防止する磁気
転写方法である。
の磁性層の飽和磁化（Ｍｓ１）と膜厚（δ１）の積（Ｍ
ｓ１δ１）と反対の媒体面に転写に使用する磁気転写用
マスター担体の磁性層の飽和磁化（Ｍｓ２）と膜厚（δ
２）との積（Ｍｓ２δ２）を１．５＜（Ｍｓ２δ２）／
（Ｍｓ１δ１）＜１０の範囲に設定し、先に転写する磁
気転写面に印加する転写磁界（Ｈｄｕ１）とスレーブ媒
体の反対面への転写磁界（Ｈｄｕ２）が０．２≦Ｈｄｕ
２／Ｈｄｕ１≦０．９の関係を満足するすることで、片
面ずつの磁気転写における信号品位低下を防止する磁気
転写方法である。
【００１８】本発明の磁気転写に使用する磁気転写用マ
スター担体の製造方法について説明する。基板はシリコ
ン、アルミニウム、ガラス、高分子材料等が可能である
が、表面が平滑であることが必要である。基板上にフォ
トレジストを塗布し、マスクを用いて一括露光、又は直
接けがきによりパターニングする。一括露光の場合は反
応性エッチング、またはアルゴン等による物理的エッチ
ング、またはエッチング液により基板をエッチングす
る。
スター担体の製造方法について説明する。基板はシリコ
ン、アルミニウム、ガラス、高分子材料等が可能である
が、表面が平滑であることが必要である。基板上にフォ
トレジストを塗布し、マスクを用いて一括露光、又は直
接けがきによりパターニングする。一括露光の場合は反
応性エッチング、またはアルゴン等による物理的エッチ
ング、またはエッチング液により基板をエッチングす
る。
【００１９】次いで、スパッタリングにより磁性層をエ
ッチングされた厚み、あるいは所望の厚さに成膜する。
また、フォトレジストをリフトオフで除去する。また、
磁性層のみの凸をフォトファブリケーションによって作
製しても良い。微細加工を行う方法としてスタンパーに
よる作製方法、射出成形による方法等を用いてもよい。
バリがある場合はバーニシュまたはポリッシュにより除
去する。
ッチングされた厚み、あるいは所望の厚さに成膜する。
また、フォトレジストをリフトオフで除去する。また、
磁性層のみの凸をフォトファブリケーションによって作
製しても良い。微細加工を行う方法としてスタンパーに
よる作製方法、射出成形による方法等を用いてもよい。
バリがある場合はバーニシュまたはポリッシュにより除
去する。
【００２０】磁性材料としては、磁束密度が大きく、ス
レーブ媒体と同じ方向（面内記録なら面内方向、垂直な
ら垂直方向）の磁気異方性を有していることが明瞭な転
写が行えるため好ましい。具体的には、Ｃｏ、Ｃｏ合金
（ＣｏＮｉ、ＣｏＮｉＺｒ、ＣｏＮｂＴａＺｒ等）、Ｆ
ｅ、Ｆｅ合金（ＦｅＣｏ、ＦｅＣｏＮｉ、ＦｅＮｉＭ
ｏ、ＦｅＡｌＳｉ、ＦｅＡｌ、ＦｅＴａＮ）、Ｎｉ、Ｎ
ｉ合金（ＮｉＦｅ）等が用いることができる。これらの
なかでも特に好ましくはＦｅＣｏ、ＦｅＣｏＮｉであ
る。
レーブ媒体と同じ方向（面内記録なら面内方向、垂直な
ら垂直方向）の磁気異方性を有していることが明瞭な転
写が行えるため好ましい。具体的には、Ｃｏ、Ｃｏ合金
（ＣｏＮｉ、ＣｏＮｉＺｒ、ＣｏＮｂＴａＺｒ等）、Ｆ
ｅ、Ｆｅ合金（ＦｅＣｏ、ＦｅＣｏＮｉ、ＦｅＮｉＭ
ｏ、ＦｅＡｌＳｉ、ＦｅＡｌ、ＦｅＴａＮ）、Ｎｉ、Ｎ
ｉ合金（ＮｉＦｅ）等が用いることができる。これらの
なかでも特に好ましくはＦｅＣｏ、ＦｅＣｏＮｉであ
る。
【００２１】また、磁性材料の下層、すなわち基板側に
所望の磁気異方性を形成するために非磁性の下地層を設
けることが好ましく、結晶構造と格子常数を磁性層のそ
れに合致させることが必要である。Ｃｒ、ＣｒＴｉ、Ｃ
ｏＣｒ、ＣｒＴａ、ＣｒＭｏ、ＮｉＡｌ、Ｒｕ等を用い
る。
所望の磁気異方性を形成するために非磁性の下地層を設
けることが好ましく、結晶構造と格子常数を磁性層のそ
れに合致させることが必要である。Ｃｒ、ＣｒＴｉ、Ｃ
ｏＣｒ、ＣｒＴａ、ＣｒＭｏ、ＮｉＡｌ、Ｒｕ等を用い
る。
【００２２】磁性層の上にダイヤモンド状炭素等の保護
膜を設けても良い。潤滑剤を設けても良い。保護膜とし
て５〜３０ｎｍのダイヤモンド状炭素膜と潤滑剤が存在
することが更に好ましい。潤滑剤が設けられていると、
スレーブ媒体との接触過程で生じるずれを補正する際に
摩擦が生じ、潤滑剤層が形成されていない場合には、耐
傷性、耐久性が不足するためである。
膜を設けても良い。潤滑剤を設けても良い。保護膜とし
て５〜３０ｎｍのダイヤモンド状炭素膜と潤滑剤が存在
することが更に好ましい。潤滑剤が設けられていると、
スレーブ媒体との接触過程で生じるずれを補正する際に
摩擦が生じ、潤滑剤層が形成されていない場合には、耐
傷性、耐久性が不足するためである。
【００２３】磁気転写面に密着して磁気転写を行うマス
ター担体磁性層の飽和磁化（Ｍｓ１）と膜厚（δ１）の
積（Ｍｓ１δ１）は、そのスレーブ媒体面に転写に使用
するマスター担体磁性層の飽和磁化（Ｍｓ２）と膜厚
（δ２）の積（Ｍｓ２δ２）が１．５＜（Ｍｓ２δ２）
／（Ｍｓ１δ１）＜１０の範囲にあることが好ましい。
更に好ましくは、２．５＜（Ｍｓ２δ２）／（Ｍｓ１δ
１）＜７の範囲である。
ター担体磁性層の飽和磁化（Ｍｓ１）と膜厚（δ１）の
積（Ｍｓ１δ１）は、そのスレーブ媒体面に転写に使用
するマスター担体磁性層の飽和磁化（Ｍｓ２）と膜厚
（δ２）の積（Ｍｓ２δ２）が１．５＜（Ｍｓ２δ２）
／（Ｍｓ１δ１）＜１０の範囲にあることが好ましい。
更に好ましくは、２．５＜（Ｍｓ２δ２）／（Ｍｓ１δ
１）＜７の範囲である。
【００２４】また、先に磁気転写面に適用する使用する
マスター担体磁性層の飽和磁化（Ｍｓ１）と膜厚（δ
１）の積（Ｍｓ１δ１）が０．０２５Ｔ・μｍ（２０Ｇ
・μｍ）以上、２．３Ｔ・μｍ（１８３０Ｇ・μｍ）以
下であることが望ましい。これは先に転写する磁気転写
面の信号品位を確保するためである。
マスター担体磁性層の飽和磁化（Ｍｓ１）と膜厚（δ
１）の積（Ｍｓ１δ１）が０．０２５Ｔ・μｍ（２０Ｇ
・μｍ）以上、２．３Ｔ・μｍ（１８３０Ｇ・μｍ）以
下であることが望ましい。これは先に転写する磁気転写
面の信号品位を確保するためである。
【００２５】磁気転写用マスター磁性層のＭｓ・δの調
整は磁性層材料、磁性層厚、作製温度、スパッタリング
時間、スパッタリング時の雰囲気で使用する気体の種類
の調整等によって行う。
整は磁性層材料、磁性層厚、作製温度、スパッタリング
時間、スパッタリング時の雰囲気で使用する気体の種類
の調整等によって行う。
【００２６】また、Ｃｒ、Ｔｉ等の非磁性元素の添加量
を変えることによりＭｓを調整したり、作成温度を調整
することで、磁気転写用マスター担体の磁性層の均一性
を調整し、Ｍｓを調整しても良い。また、ＦｅＣｏ（６
５：３５原子比）等においては作製温度を室温〜２００
℃の間に設定することで、２．０〜２．３Ｔの範囲でＭ
ｓを調整することができた。
を変えることによりＭｓを調整したり、作成温度を調整
することで、磁気転写用マスター担体の磁性層の均一性
を調整し、Ｍｓを調整しても良い。また、ＦｅＣｏ（６
５：３５原子比）等においては作製温度を室温〜２００
℃の間に設定することで、２．０〜２．３Ｔの範囲でＭ
ｓを調整することができた。
【００２７】また、磁性層をアルゴンと酸素、窒素など
の混合雰囲気中で作製することにより磁性層を酸化、窒
化させて、磁性層のＭｓを調整することも可能である。
Ｍｓの大きさは酸素、および窒素の分圧で調整すること
ができる。磁気転写用マスター担体の好ましい磁性層厚
さは５０ｎｍ以上、８００ｎｍ以下、更に好ましくは１
００ｎｍ以上、５００ｎｍ以下である。
の混合雰囲気中で作製することにより磁性層を酸化、窒
化させて、磁性層のＭｓを調整することも可能である。
Ｍｓの大きさは酸素、および窒素の分圧で調整すること
ができる。磁気転写用マスター担体の好ましい磁性層厚
さは５０ｎｍ以上、８００ｎｍ以下、更に好ましくは１
００ｎｍ以上、５００ｎｍ以下である。
【００２８】スレーブ媒体としては塗布型磁気記録媒
体、あるいは金属薄膜型磁気記録媒体を用いることがで
きる。塗布型磁気記録媒体としては、Ｚｉｐ（アイオメ
ガ社）用のＺｉｐ１００、Ｚｉｐ２５０等や、ＨｉＦＤ
などのフロッピーディスク状の磁気記録媒体が挙げられ
る。金属薄膜型磁気記録媒体としては、磁性材料として
はＣｏ、Ｃｏ合金（ＣｏＰｔＣｒ、ＣｏＣｒ、ＣｏＰｔ
ＣｒＴａ、ＣｏＰｔＣｒＮｂＴａ、ＣｏＣｒＢ、ＣｏＮ
ｉ等）、Ｆｅ、Ｆｅ合金（ＦｅＣｏ，ＦｅＰｔ，ＦｅＣ
ｏＮｉ）を用いることができる。
体、あるいは金属薄膜型磁気記録媒体を用いることがで
きる。塗布型磁気記録媒体としては、Ｚｉｐ（アイオメ
ガ社）用のＺｉｐ１００、Ｚｉｐ２５０等や、ＨｉＦＤ
などのフロッピーディスク状の磁気記録媒体が挙げられ
る。金属薄膜型磁気記録媒体としては、磁性材料として
はＣｏ、Ｃｏ合金（ＣｏＰｔＣｒ、ＣｏＣｒ、ＣｏＰｔ
ＣｒＴａ、ＣｏＰｔＣｒＮｂＴａ、ＣｏＣｒＢ、ＣｏＮ
ｉ等）、Ｆｅ、Ｆｅ合金（ＦｅＣｏ，ＦｅＰｔ，ＦｅＣ
ｏＮｉ）を用いることができる。
【００２９】スレーブ媒体としては、磁束密度が大きい
こと、スレーブ媒体と同じ方向（面内記録なら面内方
向、垂直なら垂直方向）の磁気異方性を有していること
が明瞭な転写が行えるため好ましい。このために、磁性
層の下層、すなわち基板側に所望の磁気異方性を形成す
るために非磁性の下地層を設けることが好ましい。ま
た、結晶構造と格子常数を磁性層に合致させることが必
要であり、Ｃｒ、ＣｒＴｉ、ＣｏＣｒ、ＣｒＴａ、Ｃｒ
Ｍｏ、ＮｉＡｌ、Ｒｕ等によって層形成することが好ま
しい。
こと、スレーブ媒体と同じ方向（面内記録なら面内方
向、垂直なら垂直方向）の磁気異方性を有していること
が明瞭な転写が行えるため好ましい。このために、磁性
層の下層、すなわち基板側に所望の磁気異方性を形成す
るために非磁性の下地層を設けることが好ましい。ま
た、結晶構造と格子常数を磁性層に合致させることが必
要であり、Ｃｒ、ＣｒＴｉ、ＣｏＣｒ、ＣｒＴａ、Ｃｒ
Ｍｏ、ＮｉＡｌ、Ｒｕ等によって層形成することが好ま
しい。
【００３０】また、先に磁気転写する面の転写磁界（Ｈ
ｄｕ１）と反対側のスレーブ媒体面の転写磁界（Ｈｄｕ
２）が０．２≦Ｈｄｕ２／Ｈｄｕ１≦０．９の関係にあ
ることが望ましい。特に望ましくは０．３＜Ｈｄｕ２／
Ｈｄｕ１＜０．７の範囲である。スレーブ媒体の保磁力
Ｈｃは７９．８ｋＡ／ｍ（１０００Ｏｅ）以上、３９８
ｋＡ／ｍ（５０００Ｏｅ）以下が好ましい。さらに好ま
しくは１１９ｋＡ／ｍ（１５００Ｏｅ）以上、３５８ｋ
Ａ／ｍ（４５００Ｏｅ）以下の範囲である。また、先に
磁気転写する面の転写磁界（Ｈｄｕ１）とスレーブＨｃ
との関係は０．４＜（Ｈｄｕ１／Ｈｃ）＜２．０の範囲
にあることが望ましい。さらに望ましくは０．７＜（Ｈ
ｄｕ１／Ｈｃ）＜１．７である。
ｄｕ１）と反対側のスレーブ媒体面の転写磁界（Ｈｄｕ
２）が０．２≦Ｈｄｕ２／Ｈｄｕ１≦０．９の関係にあ
ることが望ましい。特に望ましくは０．３＜Ｈｄｕ２／
Ｈｄｕ１＜０．７の範囲である。スレーブ媒体の保磁力
Ｈｃは７９．８ｋＡ／ｍ（１０００Ｏｅ）以上、３９８
ｋＡ／ｍ（５０００Ｏｅ）以下が好ましい。さらに好ま
しくは１１９ｋＡ／ｍ（１５００Ｏｅ）以上、３５８ｋ
Ａ／ｍ（４５００Ｏｅ）以下の範囲である。また、先に
磁気転写する面の転写磁界（Ｈｄｕ１）とスレーブＨｃ
との関係は０．４＜（Ｈｄｕ１／Ｈｃ）＜２．０の範囲
にあることが望ましい。さらに望ましくは０．７＜（Ｈ
ｄｕ１／Ｈｃ）＜１．７である。
【００３１】
【実施例】以下に実施例を示し、本発明を説明する。 実施例１ 先に転写する３．５型磁気転写用マスター担体には、シ
リコンウエハー円盤を基板としＦｅＣｏ（原子比Ｆｅ：
Ｃｏ＝５０：５０）からなる厚さ１５０ｎｍの磁性層を
形成した。パターンは円盤中心から半径方向２０ｍｍ〜
４０ｍｍの位置まで幅１．５μｍの等間隔の放射状ライ
ンを形成した。ライン間隔は半径方向２０ｍｍの最内周
位置で１．５μｍ間隔とした。また、後からの転写に使
用する３．５型磁気転写用マスター担体には、シリコン
ウエハー円盤を基板としＦｅＣｏ（原子比Ｆｅ：Ｃｏ＝
５０：５０）からなる厚さ３００ｎｍの磁性層を形成
し、先に転写に使用する磁気転写用マスター担体の磁性
層と同様にパターンを形成した。
リコンウエハー円盤を基板としＦｅＣｏ（原子比Ｆｅ：
Ｃｏ＝５０：５０）からなる厚さ１５０ｎｍの磁性層を
形成した。パターンは円盤中心から半径方向２０ｍｍ〜
４０ｍｍの位置まで幅１．５μｍの等間隔の放射状ライ
ンを形成した。ライン間隔は半径方向２０ｍｍの最内周
位置で１．５μｍ間隔とした。また、後からの転写に使
用する３．５型磁気転写用マスター担体には、シリコン
ウエハー円盤を基板としＦｅＣｏ（原子比Ｆｅ：Ｃｏ＝
５０：５０）からなる厚さ３００ｎｍの磁性層を形成
し、先に転写に使用する磁気転写用マスター担体の磁性
層と同様にパターンを形成した。
【００３２】いずれの磁気転写用マスター担体の磁性層
も、スパッタリング装置（アネルバ社製７３０Ｈスパッ
タリング装置）で直流スパッタリング法によって、形成
温度は２５℃、圧力１．０×１０-3Ｐａ（０．７２ｍＴ
ｏｒｒ）、投入電力２．８０Ｗ／ｃｍ2 とした。膜厚の
調整は、マーキングを施したシリコン基板上に磁性材料
を１０分間成膜する。この試料をアセトンで洗浄し、マ
ーキング部を除去する。この部分に発生した膜厚段差を
接触式段差計で膜厚を測定し、膜厚とスパッタリング時
間の関係からスパッタリング速度を算出する。次いで、
目標膜厚に必要な時間をスパッタリング速度から計算
し、必要時間成膜する。
も、スパッタリング装置（アネルバ社製７３０Ｈスパッ
タリング装置）で直流スパッタリング法によって、形成
温度は２５℃、圧力１．０×１０-3Ｐａ（０．７２ｍＴ
ｏｒｒ）、投入電力２．８０Ｗ／ｃｍ2 とした。膜厚の
調整は、マーキングを施したシリコン基板上に磁性材料
を１０分間成膜する。この試料をアセトンで洗浄し、マ
ーキング部を除去する。この部分に発生した膜厚段差を
接触式段差計で膜厚を測定し、膜厚とスパッタリング時
間の関係からスパッタリング速度を算出する。次いで、
目標膜厚に必要な時間をスパッタリング速度から計算
し、必要時間成膜する。
【００３３】スレーブ媒体には、市販のアイオメガ社Ｚ
ｉｐ２５０用塗布型磁気記録媒体（富士写真フイルム
製）を使用した。スレーブ媒体の保磁力Ｈｃは１９９ｋ
Ａ／ｍ（２５０００ｅ）であった。ピーク磁界強度が３
９８ｋＡ／ｍ（５０００Ｏｅ）、すなわち、スレーブ媒
体の保磁力Ｈｃの２倍となるように電磁石装置を用い
て、スレーブ媒体の初期直流磁化を行い、次に初期直流
磁化したスレーブ媒体と先の磁気転写用マスター担体と
を密着させ、電磁石装置を用いて１９９ｋＡ／ｍ（２５
００Ｏｅ）の磁界を印加することにより磁気転写を行っ
た。
ｉｐ２５０用塗布型磁気記録媒体（富士写真フイルム
製）を使用した。スレーブ媒体の保磁力Ｈｃは１９９ｋ
Ａ／ｍ（２５０００ｅ）であった。ピーク磁界強度が３
９８ｋＡ／ｍ（５０００Ｏｅ）、すなわち、スレーブ媒
体の保磁力Ｈｃの２倍となるように電磁石装置を用い
て、スレーブ媒体の初期直流磁化を行い、次に初期直流
磁化したスレーブ媒体と先の磁気転写用マスター担体と
を密着させ、電磁石装置を用いて１９９ｋＡ／ｍ（２５
００Ｏｅ）の磁界を印加することにより磁気転写を行っ
た。
【００３４】次いで、一方の磁気記録媒体面への転写完
了後、磁気転写面からマスター担体を取り除き、後から
の転写に使用する磁気転写用マスター担体を、スレーブ
媒体面の先に転写した面とは逆側に磁気転写面にマスタ
ー担体を密着させ、電磁石装置を用いて先に磁気転写を
行った方向と同方向に９９．５ｋＡ／ｍ（１２５０Ｏ
ｅ）の磁界を印加して転写を行った。得られたスレーブ
媒体を以下の評価方法によって、磁気転写情報の評価を
行い、その結果を表１に示す。
了後、磁気転写面からマスター担体を取り除き、後から
の転写に使用する磁気転写用マスター担体を、スレーブ
媒体面の先に転写した面とは逆側に磁気転写面にマスタ
ー担体を密着させ、電磁石装置を用いて先に磁気転写を
行った方向と同方向に９９．５ｋＡ／ｍ（１２５０Ｏ
ｅ）の磁界を印加して転写を行った。得られたスレーブ
媒体を以下の評価方法によって、磁気転写情報の評価を
行い、その結果を表１に示す。
【００３５】実施例２ 実施例１記載の後からの磁気転写の転写磁界の強度を３
９．８ｋＡ／ｍ（５００Ｏｅ）とした点を除き実施例１
と同様にして磁気転写を行って、磁気転写したスレーブ
媒体を作製した後、実施例１と同様に評価を行いその結
果を表１に示す。
９．８ｋＡ／ｍ（５００Ｏｅ）とした点を除き実施例１
と同様にして磁気転写を行って、磁気転写したスレーブ
媒体を作製した後、実施例１と同様に評価を行いその結
果を表１に示す。
【００３６】実施例３ 実施例１記載の後からの磁気転写の転写磁界の強度を１
５９ｋＡ／ｍ（２０００Ｏｅ）とした点を除き実施例１
と同様にして磁気転写を行い、磁気転写したスレーブ媒
体を作製した後、実施例１と同様に評価を行いその結果
を表１に示す。
５９ｋＡ／ｍ（２０００Ｏｅ）とした点を除き実施例１
と同様にして磁気転写を行い、磁気転写したスレーブ媒
体を作製した後、実施例１と同様に評価を行いその結果
を表１に示す。
【００３７】実施例４ 実施例１記載の先の磁気転写に使用する磁気転写用マス
ター担体の磁性層をアルゴン：酸素＝２．０×１０-3Ｐ
ａ（１．４４ｍＴｏｒｒ）：３．０×ｌ０-3Ｐａ（２．
１６ｍＴｏｒｒ）の条件で作製した点を除き実施例１と
同様にして磁気転写を行い、磁気転写したスレーブ媒体
を作製した後、実施例１と同様に評価を行いその結果を
表１に示す。
ター担体の磁性層をアルゴン：酸素＝２．０×１０-3Ｐ
ａ（１．４４ｍＴｏｒｒ）：３．０×ｌ０-3Ｐａ（２．
１６ｍＴｏｒｒ）の条件で作製した点を除き実施例１と
同様にして磁気転写を行い、磁気転写したスレーブ媒体
を作製した後、実施例１と同様に評価を行いその結果を
表１に示す。
【００３８】実施例５ 実施例４に記載の、後の磁気転写用マスター担体の磁性
層の厚みを８００ｎｍに変更した点を除き、実施例４と
同様に磁気転写を行い、磁気転写したスレーブ媒体を作
製し、実施例１と同様に評価を行いその結果を表１に示
す。
層の厚みを８００ｎｍに変更した点を除き、実施例４と
同様に磁気転写を行い、磁気転写したスレーブ媒体を作
製し、実施例１と同様に評価を行いその結果を表１に示
す。
【００３９】比較例１ 実施例１記載の後からの磁気転写の転写磁界の強度を１
９９ｋＡ／ｍ（２５００Ｏｅ）にした点を除き実施例１
と同様にして磁気転写を行い、磁気転写したスレーブ媒
体を作製した後、実施例１と同様に評価を行いその結果
を表１に示す。
９９ｋＡ／ｍ（２５００Ｏｅ）にした点を除き実施例１
と同様にして磁気転写を行い、磁気転写したスレーブ媒
体を作製した後、実施例１と同様に評価を行いその結果
を表１に示す。
【００４０】比較例２ 実施例１記載の後からの磁気転写強度を１９９ｋＡ／ｍ
（２５００Ｏｅ）にした点を除き実施例１と同様にして
磁気転写を行い、磁気転写したスレーブ媒体を作製した
後、実施例１と同様に評価を行いその結果を表１に示
す。
（２５００Ｏｅ）にした点を除き実施例１と同様にして
磁気転写を行い、磁気転写したスレーブ媒体を作製した
後、実施例１と同様に評価を行いその結果を表１に示
す。
【００４１】比較例３ 実施例１記載の先の磁気転写用マスター担体と、後の磁
気転写用マスター担体とを交換した点を除き実施例１と
同様にして磁気転写を行い、磁気転写したスレーブ媒体
を作製した後、実施例１と同様に評価を行いその結果を
表１に示す。
気転写用マスター担体とを交換した点を除き実施例１と
同様にして磁気転写を行い、磁気転写したスレーブ媒体
を作製した後、実施例１と同様に評価を行いその結果を
表１に示す。
【００４２】比較例４ 実施例１記載の先の磁気転写強度と後の磁気転写強度を
交換した点を除き実施例１と同様にして磁気転写を行
い、実施例１と同様に評価を行いその結果を表１に示
す。
交換した点を除き実施例１と同様にして磁気転写を行
い、実施例１と同様に評価を行いその結果を表１に示
す。
【００４３】比較例５ 実施例１記載の後の磁気転写用マスター担体をＦｅ：Ｃ
ｏ＝７０：３０（原子比）、膜厚１５００ｎｍに変更し
た点を除き実施例１と同様にして磁気転写を行い、実施
例１と同様に評価を行いその結果を表１に示す。
ｏ＝７０：３０（原子比）、膜厚１５００ｎｍに変更し
た点を除き実施例１と同様にして磁気転写を行い、実施
例１と同様に評価を行いその結果を表１に示す。
【００４４】（評価方法）１．飽和磁化の測定とＭｓ・
δの演算 磁性層の飽和磁化（Ｍｓ）は試料振動型磁力計（ＶＳ
Ｍ）により測定を行う。また、試料を８ｍｍ×６ｍｍの
大きさに切り出し、この面積とスパッタリング速度から
計算した磁性層厚（δ）から体積、飽和磁化を算出す
る。上記方法により求めたＭｓおよびδの積からＭｓ１
δ１およびＭｓ２δ２を算出した。 ２．信号品位の評価方法 スレーブ媒体の信号品位の評価には電磁特性測定装置
（協同電子製：ＳＳ−６０）を使用し、転写後のスレー
ブ媒体を、ヘッドギャップ０．４０μｍ、トラック幅
３．９μｍであるインダクティブヘッドにより信号を再
生する。先磁気転写面の転写直後の再生出力（ＴＡＳ）
を観測する。その後、後磁気転写面の磁気転写を行い信
号を記録する。 （ａ）先磁気転写面信号品位評価方法 先磁気転写面に記録した信号と同位置で、再度信号出力
を測定してＴＡＦとした。ＴＡＦのＴＡＳに対する比を
％表示し、９４％以上であれば優秀、８０〜９４％であ
れば良好、８０％以下であれば不良とした。 （ｂ）後磁気転写面信号品位評価方法 両面磁気転写後、後面の再生出力を再度測定してＴＦＦ
とした。ＴＡＦのＴＡＳに対する比を％表示し、９４％
以上であれば優秀、８０〜９４％であれば良好、８０％
以下であれば不良とした。
δの演算 磁性層の飽和磁化（Ｍｓ）は試料振動型磁力計（ＶＳ
Ｍ）により測定を行う。また、試料を８ｍｍ×６ｍｍの
大きさに切り出し、この面積とスパッタリング速度から
計算した磁性層厚（δ）から体積、飽和磁化を算出す
る。上記方法により求めたＭｓおよびδの積からＭｓ１
δ１およびＭｓ２δ２を算出した。 ２．信号品位の評価方法 スレーブ媒体の信号品位の評価には電磁特性測定装置
（協同電子製：ＳＳ−６０）を使用し、転写後のスレー
ブ媒体を、ヘッドギャップ０．４０μｍ、トラック幅
３．９μｍであるインダクティブヘッドにより信号を再
生する。先磁気転写面の転写直後の再生出力（ＴＡＳ）
を観測する。その後、後磁気転写面の磁気転写を行い信
号を記録する。 （ａ）先磁気転写面信号品位評価方法 先磁気転写面に記録した信号と同位置で、再度信号出力
を測定してＴＡＦとした。ＴＡＦのＴＡＳに対する比を
％表示し、９４％以上であれば優秀、８０〜９４％であ
れば良好、８０％以下であれば不良とした。 （ｂ）後磁気転写面信号品位評価方法 両面磁気転写後、後面の再生出力を再度測定してＴＦＦ
とした。ＴＡＦのＴＡＳに対する比を％表示し、９４％
以上であれば優秀、８０〜９４％であれば良好、８０％
以下であれば不良とした。
【００４５】
【表１】 信号品位 (Ms2δ2) Hdu2/Hdu1 先磁気転写直後 先磁気 後磁気 ／(Ms1δ1) 再生出力(ｍＶ) 転写面(%) 転写面(%) 実施例１ ２．０ ０．５ ０．８２５ ９８(優秀) ９６(優秀) 実施例２ ２．０ ０．２ ０．７８６ ９９(優秀) ９４(優秀) 実施例３ ２．０ ０．８ ０．９８１ ９６(優秀) ９８(優秀) 実施例４ ４．１ ０．５ ０．６９９ ９７(優秀) ９６(優秀)実施例５ ８．９ ０．５ ０．７１５ ９５(優秀) ９７(優秀) 比較例１ ２．０ １．０ ０．７５２ ６２(不良) ９８(優秀) 比較例２ ２．０ ０．１ ０．７６２ ９７(優秀) ４２(不良) 比較例３ ０．５ ０．５ ０．９０１ ８６(良好) ３７(不良) 比較例４ ２．０ ２．０ ０．８４１ ６９(不良) ８７(良好) 比較例５ １２．２ ０．５ ０．９６４ ９１(良好) ７９(不良)
【００４６】
【発明の効果】磁気転写用マスター担体から、スレーブ
媒体への磁気転写において、スレーブ媒体の片面に先に
磁気転写するために使用する磁気転写用マスター担体の
磁性層と、残された片面に後から磁気転写するために使
用する磁気転写用マスター担体の磁性層および、転写磁
界強度を調整することによっていずれの面にも高品位の
転写パターンを有するスレーブ媒体を得ることができ
る。
媒体への磁気転写において、スレーブ媒体の片面に先に
磁気転写するために使用する磁気転写用マスター担体の
磁性層と、残された片面に後から磁気転写するために使
用する磁気転写用マスター担体の磁性層および、転写磁
界強度を調整することによっていずれの面にも高品位の
転写パターンを有するスレーブ媒体を得ることができ
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０１Ｆ 41/18 Ｈ０１Ｆ 41/18
Claims (3)
- 【請求項１】 磁気転写用マスター担体とスレーブ媒体
を密着させて転写用磁界を印加してスレーブ媒体に片面
ずつ磁気転写を行う方法において、スレーブ媒体の先に
磁気転写される面への磁気転写に使用される磁気転写用
マスター担体の磁性層の飽和磁化（Ｍｓ１）と膜厚（δ
１）の積（Ｍｓ１δ１）と、スレーブ媒体の後から転写
される面への転写に使用する磁気転写用マスター担体の
磁性層の飽和磁化（Ｍｓ２）と膜厚（δ２）の積（Ｍｓ
２δ２）が、１．５＜（Ｍｓ２δ２）／（Ｍｓ１δ１）
＜１０の関係にあり、先に磁気転写される面への転写磁
界（Ｈｄｕ１）と後から転写されるスレーブ媒体面の転
写磁界（Ｈｄｕ２）が０．２≦Ｈｄｕ２／Ｈｄｕ１≦
０．９の関係にあることを特徴とする磁気転写方法。 - 【請求項２】 磁気転写が、基板の表面の情報信号に対
応する部分に磁性層が形成された磁気転写用マスター担
体と転写を受けるスレーブである磁気記録媒体を使用
し、予めスレーブ媒体の磁化をトラック方向に初期直流
磁化した後、磁気転写用マスター担体と初期直流磁化し
たスレーブ媒体とを密着させスレーブ面の初期直流磁化
方向と逆向きの方向に転写用磁界を印加し磁気転写を行
うことを特徴とする請求項１記載の磁気転写方法。 - 【請求項３】 サーボ信号を記録した磁気記録媒体にお
いて、サーボ信号を請求項２または３記載の方法によっ
て記録したことを特徴とする磁気記録媒体。
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