JP2001316365A5 - - Google Patents
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Description
【特許請求の範囲】
【請求項1】
次式IaまたはIIa
【化1】
〔式中、Yは基
【化2】
【化3】
(式中、R1は水素原子、−COOH、−COO(炭素原子数1ないし4のアルキル)基
、−COO−フェニル基、−COOベンジル基、炭素原子数1ないし8のアルコキシ基、炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数2ないし4のアルケニル基、OH、−COOH、−COO(炭素原子数1ないし4の)アルキル基により置換された炭素原子数
1ないし18のアルキル基または炭素原子数2ないし4のアルケニル基、酸素原子の1個またはそれより多くにより中断されてよい炭素原子数2ないし18のアルキル基、未置換のシクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキセニル基、フェニル基またはナフチル基、あるいは炭素原子数1ないし4のアルキル基、−COOHまたは−COO−(炭素原子数1ないし4のアルキル)基により置換されたシクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキセニル基、フェニル基またはナフチル基を表し、R2は水素原子、炭素原子
数1ないし18のアルキル基を表すか、あるいはR1およびR2は窒素原子と一緒になって5員環を形成し、該環は不飽和結合を有していてもよく、またはベンゼン環に縮合されていてもよく、R3は水素原子または炭素原子数1ないし18のアルキル基を表す。)を表
し、そして、Xは、−(炭素原子数5ないし12の)−3−シクロアルケニル基、−CH2−フェニル基、CH3CH−フェニル基、(CH3)2C−フェニル基、(炭素原子数5ないし6のシクロアルキル)2CCN、(CH3)2CCN、−CH2CH=CH2、CH3CH−CH=CH2、(炭素原子数1ないし4のアルキル)CR20−C(O)−フェニル基、
(炭素原子数1ないし4の)アルキル−CR20−C(O)−(炭素原子数1ないし4の)アルコキシ基、(炭素原子数1ないし4の)アルキル−CR20−C(O)−(炭素原子数1ないし4の)アルキル基、(炭素原子数1ないし4の)アルキル−CR20−C(O)−N−ジ(炭素原子数1ないし4の)アルキル基、(炭素原子数1ないし4の)アルキル−CR20−C(O)−NH(炭素原子数1ないし4の)アルキル基、(炭素原子数1ないし4の)アルキル−CR20−C(O)−NH2(式中、R20は水素原子または(炭素原子数
1ないし4の)アルキル基を表す。)からなる群から選択される。〕で表される化合物(ただし安息香酸2,6−ジエチル−2,3,6−トリメチル−1−(1−フェニル−エトキシ)ピペリジン−4−イルエステルは除外される。)。
【請求項2】
a]エチレン系不飽和モノマーまたはオリゴマーの少なくとも一種、およびb]次式I
aまたはIIa
【化4】
〔式中、Yは基
【化5】
(式中、R1は水素原子、−COOH、−COO(炭素原子数1ないし4のアルキル)基
、−COO−フェニル基、−COOベンジル基、炭素原子数1ないし8のアルコキシ基、炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数2ないし4のアルケニル基、OH、−COOH、−COO(炭素原子数1ないし4の)アルキル基により置換された炭素原子数1ないし18のアルキル基または炭素原子数2ないし4のアルケニル基、酸素原子の1個またはそれより多くにより中断されてよい炭素原子数2ないし18のアルキル基、未置換のシクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキセニル基、フェニル基またはナフチル基、あるいは炭素原子数1ないし4のアルキル基、−COOHまたは−COO−(炭素
原子数1ないし4のアルキル)基により置換されたシクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキセニル基、フェニル基またはナフチル基を表し、R2は水素原子、炭素原子
数1ないし18のアルキル基を表すか、あるいはR1およびR2は窒素原子と一緒になって5員環を形成し、該環は不飽和結合を有していてもよく、またはベンゼン環に縮合されていてもよく、R3は水素原子または炭素原子数1ないし18のアルキル基を表す。)を表
し、そして、Xは、−(炭素原子数5ないし12の)−3−シクロアルケニル基、−CH2−フェニル基、CH3CH−フェニル基、(CH3)2C−フェニル基、(炭素原子数5ないし6のシクロアルキル)2CCN、(CH3)2CCN、−CH2CH=CH2、CH3CH−CH=CH2、(炭素原子数1ないし4のアルキル)CR20−C(O)−フェニル基、
(炭素原子数1ないし4の)アルキル−CR20−C(O)−(炭素原子数1ないし4の)アルコキシ基、(炭素原子数1ないし4の)アルキル−CR20−C(O)−(炭素原子数1ないし4の)アルキル基、(炭素原子数1ないし4の)アルキル−CR20−C(O)−N−ジ(炭素原子数1ないし4の)アルキル基、(炭素原子数1ないし4の)アルキル−CR20−C(O)−NH(炭素原子数1ないし4の)アルキル基、(炭素原子数1ないし4の)アルキル−CR20−C(O)−NH2(式中、R20は水素原子または(炭素原子数
1ないし4の)アルキル基を表す。)からなる群から選択される。〕で表される化合物(ただし安息香酸2,6−ジエチル−2,3,6−トリメチル−1−(1−フェニル−エトキシ)ピペリジン−4−イルエステルは除外される。)からなるポリマー性組成物。
【請求項3】
エチレン系不飽和モノマーまたはオリゴマーの少なくとも一種の遊離ラジカル重合によるオリゴマー、コオリゴマー、ポリマーまたはコポリマー(ブロックまたはランダム)の製造方法であって、式IaまたはIIaで表される開始剤化合物の存在下、O−C結合の開裂をもたらして2個の遊離ラジカル(ラジカル・Xは重合を開始することが可能である。)を形成することが可能である反応条件下で、該モノマーまたはモノマー/オリゴマーを(共)重合することからなる方法。
【請求項4】
開始基−Xの少なくとも一個および請求項1記載の式IaまたはIIaで表されるオキシアミン基の少なくとも一個が結合したポリマーまたはオリゴマー。
【請求項5】
次式IIIaおよびIVa
【化6】
〔式中、Yは基
【化7】
(式中、R1は水素原子、−COOH、−COO(炭素原子数1ないし4のアルキル)基
、−COO−フェニル基、−COOベンジル基、炭素原子数1ないし8のアルコキシ基、炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数2ないし4のアルケニル基、OH、−
COOH、−COO(炭素原子数1ないし4の)アルキル基により置換された炭素原子数1ないし18のアルキル基または炭素原子数2ないし4のアルケニル基、酸素原子の1個またはそれより多くにより中断されてよい炭素原子数2ないし18のアルキル基、未置換のシクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキセニル基、フェニル基またはナフチル基、あるいは炭素原子数1ないし4のアルキル基、−COOHまたは−COO−(炭素原子数1ないし4のアルキル)基により置換されたシクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキセニル基、フェニル基またはナフチル基を表し、R2は水素原子、炭素原子
数1ないし18のアルキル基を表すか、あるいはR1およびR2は窒素原子と一緒になって5員環を形成し、該環は不飽和結合を有していてもよく、またはベンゼン環に縮合されていてもよく、R3は水素原子または炭素原子数1ないし18のアルキル基を表す。)を表
す。〕で表される化合物(ただし2,6−ジエチル−2,3,6−トリメチル−4−ラウロイルオキシピペリジン−1−オキシル、2,6−ジエチル−2,3,6−トリメチル−4−ステアロイルオキシピペリジン−1−オキシル、2,2−ジメチル−6,6−ジエチル−4−ラウロイルオキシピペリジン−1−オキシルおよび2,2−ジメチル−6,6−ジエチル−4−ステアロイルオキシピペリジン−1−オキシルは除外される。)。
【請求項6】
a]エチレン系不飽和モノマーまたはオリゴマーの少なくとも一種、およびb]式IIIaまたはIVaで表される化合物、およびc]エチレン系不飽和モノマーの重合を開始することが可能である遊離ラジカル源からなる重合性組成物。
【請求項7】
エチレン系不飽和モノマー/オリゴマーの少なくとも一種の遊離ラジカル重合によるオリゴマー、コオリゴマー、ポリマーまたはコポリマー(ブロックまたはランダム)の製造方法であって、請求項6記載の組成物に熱または化学線放射を受けさせることからなる方法。
【請求項1】
次式IaまたはIIa
【化1】
〔式中、Yは基
【化2】
【化3】
(式中、R1は水素原子、−COOH、−COO(炭素原子数1ないし4のアルキル)基
、−COO−フェニル基、−COOベンジル基、炭素原子数1ないし8のアルコキシ基、炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数2ないし4のアルケニル基、OH、−COOH、−COO(炭素原子数1ないし4の)アルキル基により置換された炭素原子数
1ないし18のアルキル基または炭素原子数2ないし4のアルケニル基、酸素原子の1個またはそれより多くにより中断されてよい炭素原子数2ないし18のアルキル基、未置換のシクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキセニル基、フェニル基またはナフチル基、あるいは炭素原子数1ないし4のアルキル基、−COOHまたは−COO−(炭素原子数1ないし4のアルキル)基により置換されたシクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキセニル基、フェニル基またはナフチル基を表し、R2は水素原子、炭素原子
数1ないし18のアルキル基を表すか、あるいはR1およびR2は窒素原子と一緒になって5員環を形成し、該環は不飽和結合を有していてもよく、またはベンゼン環に縮合されていてもよく、R3は水素原子または炭素原子数1ないし18のアルキル基を表す。)を表
し、そして、Xは、−(炭素原子数5ないし12の)−3−シクロアルケニル基、−CH2−フェニル基、CH3CH−フェニル基、(CH3)2C−フェニル基、(炭素原子数5ないし6のシクロアルキル)2CCN、(CH3)2CCN、−CH2CH=CH2、CH3CH−CH=CH2、(炭素原子数1ないし4のアルキル)CR20−C(O)−フェニル基、
(炭素原子数1ないし4の)アルキル−CR20−C(O)−(炭素原子数1ないし4の)アルコキシ基、(炭素原子数1ないし4の)アルキル−CR20−C(O)−(炭素原子数1ないし4の)アルキル基、(炭素原子数1ないし4の)アルキル−CR20−C(O)−N−ジ(炭素原子数1ないし4の)アルキル基、(炭素原子数1ないし4の)アルキル−CR20−C(O)−NH(炭素原子数1ないし4の)アルキル基、(炭素原子数1ないし4の)アルキル−CR20−C(O)−NH2(式中、R20は水素原子または(炭素原子数
1ないし4の)アルキル基を表す。)からなる群から選択される。〕で表される化合物(ただし安息香酸2,6−ジエチル−2,3,6−トリメチル−1−(1−フェニル−エトキシ)ピペリジン−4−イルエステルは除外される。)。
【請求項2】
a]エチレン系不飽和モノマーまたはオリゴマーの少なくとも一種、およびb]次式I
aまたはIIa
【化4】
〔式中、Yは基
【化5】
(式中、R1は水素原子、−COOH、−COO(炭素原子数1ないし4のアルキル)基
、−COO−フェニル基、−COOベンジル基、炭素原子数1ないし8のアルコキシ基、炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数2ないし4のアルケニル基、OH、−COOH、−COO(炭素原子数1ないし4の)アルキル基により置換された炭素原子数1ないし18のアルキル基または炭素原子数2ないし4のアルケニル基、酸素原子の1個またはそれより多くにより中断されてよい炭素原子数2ないし18のアルキル基、未置換のシクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキセニル基、フェニル基またはナフチル基、あるいは炭素原子数1ないし4のアルキル基、−COOHまたは−COO−(炭素
原子数1ないし4のアルキル)基により置換されたシクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキセニル基、フェニル基またはナフチル基を表し、R2は水素原子、炭素原子
数1ないし18のアルキル基を表すか、あるいはR1およびR2は窒素原子と一緒になって5員環を形成し、該環は不飽和結合を有していてもよく、またはベンゼン環に縮合されていてもよく、R3は水素原子または炭素原子数1ないし18のアルキル基を表す。)を表
し、そして、Xは、−(炭素原子数5ないし12の)−3−シクロアルケニル基、−CH2−フェニル基、CH3CH−フェニル基、(CH3)2C−フェニル基、(炭素原子数5ないし6のシクロアルキル)2CCN、(CH3)2CCN、−CH2CH=CH2、CH3CH−CH=CH2、(炭素原子数1ないし4のアルキル)CR20−C(O)−フェニル基、
(炭素原子数1ないし4の)アルキル−CR20−C(O)−(炭素原子数1ないし4の)アルコキシ基、(炭素原子数1ないし4の)アルキル−CR20−C(O)−(炭素原子数1ないし4の)アルキル基、(炭素原子数1ないし4の)アルキル−CR20−C(O)−N−ジ(炭素原子数1ないし4の)アルキル基、(炭素原子数1ないし4の)アルキル−CR20−C(O)−NH(炭素原子数1ないし4の)アルキル基、(炭素原子数1ないし4の)アルキル−CR20−C(O)−NH2(式中、R20は水素原子または(炭素原子数
1ないし4の)アルキル基を表す。)からなる群から選択される。〕で表される化合物(ただし安息香酸2,6−ジエチル−2,3,6−トリメチル−1−(1−フェニル−エトキシ)ピペリジン−4−イルエステルは除外される。)からなるポリマー性組成物。
【請求項3】
エチレン系不飽和モノマーまたはオリゴマーの少なくとも一種の遊離ラジカル重合によるオリゴマー、コオリゴマー、ポリマーまたはコポリマー(ブロックまたはランダム)の製造方法であって、式IaまたはIIaで表される開始剤化合物の存在下、O−C結合の開裂をもたらして2個の遊離ラジカル(ラジカル・Xは重合を開始することが可能である。)を形成することが可能である反応条件下で、該モノマーまたはモノマー/オリゴマーを(共)重合することからなる方法。
【請求項4】
開始基−Xの少なくとも一個および請求項1記載の式IaまたはIIaで表されるオキシアミン基の少なくとも一個が結合したポリマーまたはオリゴマー。
【請求項5】
次式IIIaおよびIVa
【化6】
〔式中、Yは基
【化7】
(式中、R1は水素原子、−COOH、−COO(炭素原子数1ないし4のアルキル)基
、−COO−フェニル基、−COOベンジル基、炭素原子数1ないし8のアルコキシ基、炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数2ないし4のアルケニル基、OH、−
COOH、−COO(炭素原子数1ないし4の)アルキル基により置換された炭素原子数1ないし18のアルキル基または炭素原子数2ないし4のアルケニル基、酸素原子の1個またはそれより多くにより中断されてよい炭素原子数2ないし18のアルキル基、未置換のシクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキセニル基、フェニル基またはナフチル基、あるいは炭素原子数1ないし4のアルキル基、−COOHまたは−COO−(炭素原子数1ないし4のアルキル)基により置換されたシクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキセニル基、フェニル基またはナフチル基を表し、R2は水素原子、炭素原子
数1ないし18のアルキル基を表すか、あるいはR1およびR2は窒素原子と一緒になって5員環を形成し、該環は不飽和結合を有していてもよく、またはベンゼン環に縮合されていてもよく、R3は水素原子または炭素原子数1ないし18のアルキル基を表す。)を表
す。〕で表される化合物(ただし2,6−ジエチル−2,3,6−トリメチル−4−ラウロイルオキシピペリジン−1−オキシル、2,6−ジエチル−2,3,6−トリメチル−4−ステアロイルオキシピペリジン−1−オキシル、2,2−ジメチル−6,6−ジエチル−4−ラウロイルオキシピペリジン−1−オキシルおよび2,2−ジメチル−6,6−ジエチル−4−ステアロイルオキシピペリジン−1−オキシルは除外される。)。
【請求項6】
a]エチレン系不飽和モノマーまたはオリゴマーの少なくとも一種、およびb]式IIIaまたはIVaで表される化合物、およびc]エチレン系不飽和モノマーの重合を開始することが可能である遊離ラジカル源からなる重合性組成物。
【請求項7】
エチレン系不飽和モノマー/オリゴマーの少なくとも一種の遊離ラジカル重合によるオリゴマー、コオリゴマー、ポリマーまたはコポリマー(ブロックまたはランダム)の製造方法であって、請求項6記載の組成物に熱または化学線放射を受けさせることからなる方法。
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