JP2001300927A

JP2001300927A - 陶磁器製造装置

Info

Publication number: JP2001300927A
Application number: JP2000124759A
Authority: JP
Inventors: Takeo Iwatsuki; 武夫岩附
Original assignee: SHINEI KIKO KK
Current assignee: SHINEI KIKO KK
Priority date: 2000-04-25
Filing date: 2000-04-25
Publication date: 2001-10-30

Abstract

(57)【要約】【課題】一つの乾燥室で成形品と石膏型とをそれぞれ
異なる時間で乾燥し、比較的小型の装置で良品を能率よ
く製造する。【解決手段】第１コンベア１を間欠回転し、偶数個の
石膏型Ｍを循環する。坏土Ｒを供給機２から前回未使用
の石膏型Ｍに供給し、成形機３で製品形状に成形する。
成形品Ｗと前回使用した空の石膏型Ｍとを乾燥室４に送
り、第１コンベア１と同じ領域で乾燥する。トランスフ
ァー機構６は成形品Ｗを石膏型Ｍから取り出し、第１コ
ンベア１から第２コンベア５に移載する。第２コンベア
５は第１コンベア１の内側で間欠回転し、成形品Ｗを乾
燥室４内で循環させる。乾燥後の成形品Ｗをトランスフ
ァー機構６で第２コンベア５から仕上機７に送り、仕上
後の製品Ｐを取出機構８で搬出コンベア９に取り出す。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、多数個の石膏型を
循環させて陶磁器を製造する装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、特許２９６１３５２号公報には、
奇数個の石膏型をコンベアで循環させ、前回未使用の石
膏型に坏土を供給し、これに隣接する前回使用済みの石
膏型は空のままにし、坏土を成形機で成形したのち、成
形品と空の石膏型とを乾燥室に送って乾燥し、乾燥後の
成形品を石膏型から取り出して、陶磁器製品を製造する
装置が開示されている。この従来装置によれば、一つの
乾燥室で成形品と石膏型とを乾燥するため、石膏型の使
用個数を削減でき、装置を小型に構成できる利点があ
る。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】ところが、従来装置に
よると、一つの乾燥室において成形品と石膏型とを同等
の時間で乾燥するため、石膏型を基準に乾燥時間を設定
すると、成形品が乾燥不足になるおそれがあり、逆に、
成形品を基準に乾燥時間を設定すると、石膏型を加熱し
過ぎるおそれがあり、製品の種類によっては歩留まりが
低下するという問題点があった。

【０００４】そこで、本発明の課題は、一つの乾燥室で
成形品と石膏型とをそれぞれ異なる時間で乾燥し、比較
的小型の装置で良品を能率よく製造できる陶磁器製造装
置を提供することにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、本発明の陶磁器製造装置は、多数個の石膏型を循
環させる第１コンベアと、前回未使用の石膏型に坏土を
供給する坏土供給機と、坏土を製品形状に成形する成形
機と、成形機から送られた成形品と前回使用した空の石
膏型とを第１コンベアと同じ領域で乾燥する乾燥室と、
乾燥室の内部において第１コンベアの内側に設けられた
第２コンベアと、成形品を第１コンベアから第２コンベ
アに移載しかつ第２コンベアから第１コンベアの外部に
取り出すトランスファー機構とから構成される。

【０００６】ここで、好ましくは、第１コンベアに偶数
個の石膏型を支持するとよい。また、第１コンベアの外
部に仕上機を設置するとよい。

【０００７】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて説明する。図１に示すように、この実施形態
の陶磁器製造装置は、第１コンベア１、坏土供給機２、
成形機３、乾燥室４、第２コンベア５、トランスファー
機構６、仕上機７、取出機構８、搬出コンベア９及び制
御盤１０から構成されている。そして、原材料である坏
土Ｒの供給から製品Ｐの搬出までの全ての工程が自動化
されている。

【０００８】第１コンベア１は長円形に形成され、３６
個の石膏型Ｍを支持している。各石膏型Ｍは第１コンベ
ア１の間欠回転に伴って循環され、この循環経路の一端
部近傍に坏土供給機２と成形機３とが並設されている。
坏土供給機２は搬入部１３と切断部１４とを備え、所要
分量の坏土Ｒを前回未使用の石膏型Ｍに供給する。成形
機３は第１コンベア１に対し進退可能に設けられ、型回
転モータと成形鏝（図示略）とを備え、前進位置で石膏
型Ｍを回転させた状態で坏土Ｒを製品形状に成形する。

【０００９】乾燥室４は、内部に２８個の石膏型Ｍを収
容可能な大きさで第１コンベア１の大半部分を覆うよう
に形成され、出入口と反対側に熱風発生機１５を備え、
成形機３から送られた成形品Ｗと前回使用した空の石膏
型Ｍとを第１コンベア１と同じ領域で乾燥する。第２コ
ンベア５は、乾燥室４の内部において第１コンベア１の
内側に間欠回転可能に設けられ、成形品Ｗが載る３６個
のトレー１６を備え、成形品Ｗのみを乾燥室４内で再度
循環させるように構成されている。

【００１０】トランスファー機構６は、乾燥室４の出口
と坏土供給機２との間に設置され、真空吸着具とその往
復駆動手段（図示略）とを備え、成形品Ｗを石膏型Ｍか
ら取り出し、第１コンベア１から第２コンベア５に移載
し、かつ第２コンベア５から第１コンベア１の外部に取
り出す。仕上機７は第１コンベア１の外部に設置され、
成形品Ｗが載る８個のトレー１７と、研磨具等の周知の
仕上手段とを装備している。そして、取出機構８は仕上
後の製品Ｐを仕上機７から搬出コンベア９に取り出すよ
うに構成されている。なお、制御盤１０は第１コンベア
１の近傍に設置されている。

【００１１】上記構成の装置を用いて陶磁器を製造する
際には、３６個の石膏型Ｍが第１コンベア１により間欠
的に送られ、坏土Ｒが供給機２により一つおきの石膏型
Ｍに供給され、成形品Ｗが成形機３により２つに１個の
石膏型Ｍに成形される。そして、成形品Ｗと空の石膏型
Ｍとが乾燥室４に送られ、第１コンベア１と同じ領域で
乾燥される。

【００１２】その後、成形品Ｗはトランスファー機構６
により石膏型Ｍから取り出され、第１コンベア１から第
２コンベア５に移載され、乾燥室４で二次的に乾燥さ
れ、一方、空になった石膏型Ｍは坏土供給機２に戻され
る。なお、石膏型Ｍの個数が偶数であるため、坏土供給
機２及び成形機３は、第１コンベア１が１回転する毎に
動作タイミングを変更し、直前に空になった石膏型Ｍを
キャンセルし、これに隣接する前回未使用の石膏型Ｍに
坏土Ｒを供給したのち成形するように制御される。

【００１３】二次乾燥後の成形品Ｗはトランスファー機
構６により第２コンベア５から仕上機７に送られ、ここ
で製品Ｐに仕上げられ、製品Ｐは取出機構８により搬出
コンベア９に取り出されたのち、製造ラインの外部に搬
出される。従って、この実施形態の陶磁器製造装置によ
れば、１サイクルにつき、一つの乾燥室４内で石膏型Ｍ
を１周させ、成形品Ｗを２周させて、それぞれ異なる時
間で効率よく乾燥でき、石膏型Ｍの過加熱を防止できる
とともに、成形品Ｗを完全に乾燥できて、比較的小型の
装置で良品を能率よく製造することが可能である。

【００１４】なお、本発明は上記実施形態に限定される
ものではなく、石膏型Ｍや第２コンベア５のトレー１６
の個数を増減するなど、本発明の趣旨を逸脱しない範囲
で各部の形状並びに構成を適宜に変更して実施すること
も可能である。

【００１５】

【発明の効果】以上詳述したように、本発明の陶磁器製
造装置によれば、一つの乾燥室いおいて成形品と石膏型
とをそれぞれ異なる時間で乾燥し、比較的小型の装置で
良品を能率よく製造できるという優れた効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施形態を示す陶磁器製造装置の平
面配置図である。

【符号の説明】

１・・第１コンベア、２・・坏土供給機、３・・成形
機、４・・乾燥室、５・・第２コンベア、６・・トラン
スファー機構、７・・仕上機、８・・取出機構、９・・
搬出コンベア、Ｒ・・坏土、Ｍ・・石膏型、Ｗ・・成形
品、Ｐ・・製品。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】多数個の石膏型を循環させる第１コンベ
アと、前回未使用の石膏型に坏土を供給する坏土供給機
と、坏土を製品形状に成形する成形機と、成形機から送
られた成形品と前回使用した空の石膏型とを第１コンベ
アと同じ領域で乾燥する乾燥室と、乾燥室の内部におい
て第１コンベアの内側に設けられた第２コンベアと、成
形品を第１コンベアから第２コンベアに移載しかつ第２
コンベアから第１コンベアの外部に取り出すトランスフ
ァー機構とからなる陶磁器製造装置。
【請求項２】第１コンベアに偶数個の石膏型を支持し
た請求項１記載の陶磁器製造装置。
【請求項３】第１コンベアの外部に仕上機を設置した
請求項１記載の陶磁器製造装置。