JP2001300917A - 陶磁器製造装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 成形品及び石膏型の乾燥時間を製品の種類に
応じて最適に設定し、比較的小型の装置で良品を能率よ
く製造する。 【解決手段】 循環機構１の型コンベア１３を間欠回転
し、偶数個の石膏型Ｍを循環する。坏土Ｒを供給機２か
ら前回未使用の石膏型Ｍに供給し、成形機３で製品形状
に成形する。成形品Ｗと前回使用した空の石膏型Ｍとを
一次乾燥室４に送り、循環機構１と同じ領域で乾燥す
る。一次乾燥後の成形品Ｗを脱型機構５により石膏型Ｍ
から取り出し、コンベア１８で二次乾燥室６に送り、循
環機構１と異なる領域で再び乾燥する。二次乾燥後の成
形品Ｗを移載機構７で仕上機８に送り、仕上後の製品Ｐ
を取出機構９で搬出コンベア１０に取り出す。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、多数個の石膏型を
循環させて陶磁器を製造する装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、特許２９６１３５２号公報には、
奇数個の石膏型をコンベアで循環させ、前回未使用の石
膏型に坏土を供給し、これに隣接する前回使用済みの石
膏型は空のままにし、坏土を成形機で成形したのち、成
形品と空の石膏型とを乾燥室に送って乾燥し、乾燥後の
成形品を石膏型から取り出して、陶磁器製品を製造する
装置が開示されている。この従来装置によれば、一つの
乾燥室で成形品と石膏型とを乾燥するため、石膏型の使
用個数を削減でき、装置を小型に構成できる利点があ
る。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】ところが、従来装置に
よると、一つの乾燥室において成形品と石膏型とを同等
の時間で乾燥するため、石膏型を基準に乾燥時間を設定
すると、成形品が乾燥不足となるおそれがあり、逆に、
成形品を基準に乾燥時間を設定すると、石膏型を加熱し
過ぎるおそれがあり、製品の種類によっては歩留まりが
低下するという問題点があった。

【０００４】そこで、本発明の課題は、成形品及び石膏
型の乾燥時間を製品の種類に応じて最適に設定し、比較
的小型の装置で良品を能率よく製造できる陶磁器製造装
置を提供することにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、本発明の陶磁器製造装置は、多数個の石膏型を循
環させる循環機構と、前回未使用の石膏型に坏土を供給
する坏土供給機と、坏土を製品形状に成形する成形機
と、成形機から送られた成形品と前回使用した空の石膏
型とを循環機構と同じ領域で乾燥する一次乾燥室と、一
次乾燥室の出口で成形品を石膏型から取り出す脱型機構
と、取り出した成形品を循環機構と異なる領域で乾燥す
る二次乾燥室とから構成される。

【０００６】ここで、好ましくは、循環機構に長円形の
型コンベアを設け、型コンベアに偶数個の石膏型を支持
するとよい。また、二次乾燥室の近傍に仕上機を設置す
るとよい。

【０００７】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて説明する。図１に示すように、この実施形態
の陶磁器製造装置は、循環機構１、坏土供給機２、成形
機３、一次乾燥室４、脱型機構５、二次乾燥室６、移載
機構７、仕上機８、取出機構９、搬出コンベア１０及び
制御盤１１から構成されている。そして、原材料である
坏土Ｒの供給から製品Ｐの搬出までの全ての工程が自動
化されている。

【０００８】循環機構１には長円形の型コンベア１３が
設けられ、このコンベア１３に３６個の石膏型Ｍが支持
されている。各石膏型Ｍは型コンベア１３の間欠回転に
伴って循環され、この循環経路の一端部近傍に坏土供給
機２と成形機３とが並設されている。坏土供給機２は搬
入部１４と切断部１５とを備え、所要分量の坏土Ｒを前
回未使用の石膏型Ｍに供給する。成形機３は型コンベア
１３に対し進退可能に設けられ、型回転モータと成形鏝
（図示略）とを備え、前進位置で石膏型Ｍを回転させた
状態で坏土Ｒを製品形状に成形する。

【０００９】一次乾燥室４は内部に２８個の石膏型Ｍを
収容可能な大きさで型コンベア１３の大半部分を覆うよ
うに形成され、出入口と反対側に熱風発生機１６を備
え、成形機３から送られた成形品Ｗと前回使用した空の
石膏型Ｍとを循環機構１と同じ領域で乾燥する。脱型機
構５は坏土供給機２の手前側に設置され、真空吸着具と
その往復駆動手段（図示略）とを備え、一次乾燥室４の
出口で成形品Ｗを石膏型Ｍから取り出して二次乾燥室６
の入口に搬入する。

【００１０】二次乾燥室６は循環機構１と隣接する領域
に一次乾燥室４と平行に設置され、出入口と反対側に熱
風発生機１７を備えている。二次乾燥室６の内部には長
円形のコンベア１８が設置され、コンベア１８に多数個
のトレー１９が設けられている。そして、一次乾燥後の
成形品Ｗをトレー１９に載置し、コンベア１８により二
次乾燥室６の内部に送り、循環機構１と異なる領域で二
次的に乾燥するように構成されている。

【００１１】仕上機８は二次乾燥室６の近傍に設置さ
れ、成形品Ｗが載る８個のトレー２０と、研磨具等の周
知の仕上手段とを装備している。そして、移載機構７が
二次乾燥後の成形品Ｗをコンベア１８から仕上機８に移
載し、取出機構９が仕上後の製品Ｐを仕上機８から搬出
コンベア１０に取り出すようになっている。なお、制御
盤１１は循環機構１の近傍に設置されている。

【００１２】上記構成の装置を用いて陶磁器を製造する
際には、３６個の石膏型Ｍが循環機構１の型コンベア１
３により間欠的に送られ、図示例の場合は、坏土Ｒが供
給機２により一つおきの石膏型Ｍに供給され、成形品Ｗ
が成形機３により２つに１個の石膏型Ｍに成形される。
そして、成形品Ｗと空の石膏型Ｍとが一次乾燥室４に送
られ、循環機構１と同じ領域で乾燥され、乾燥後の成形
品Ｗが脱型機構５により石膏型Ｍから取り出される。こ
の場合、石膏型Ｍを従来の陶磁器製造自動ラインと比較
し長い時間で乾燥して、石膏型Ｍの水分を十分に減少さ
せることができる。

【００１３】また、成形品Ｗを一つおきに成形すると、
石膏型Ｍの乾燥時間が成形品Ｗと同一となり、石膏型Ｍ
を必要以上に乾燥し加熱し過ぎるおそれがある場合に
は、成形品Ｗを３つに１個の石膏型Ｍに成形して一次乾
燥室４内を２周させたり、４つに１個の石膏型Ｍに成形
して一次乾燥室４内を３周させたりするなど、製品Ｐの
種類に応じて、成形品Ｗ及び石膏型Ｍの乾燥時間比率を
最適に設定することができる。

【００１４】一方、空になった石膏型Ｍは坏土供給機２
側に戻される。このとき、石膏型Ｍの個数が偶数である
ため、坏土供給機２及び成形機３は、型コンベア１３が
１回転する毎に動作タイミングを変更し、直前に空にな
った石膏型Ｍをキャンセルし、これに隣接する前回未使
用の石膏型Ｍに坏土Ｒを供給したのち成形するように制
御される。

【００１５】石膏型Ｍから取り出された成形品Ｗはコン
ベア１８により二次乾燥室６に送られ、循環機構１と異
なる領域で再び乾燥される。この場合、成形品Ｗは一次
乾燥室４で予め乾燥されているため、二次乾燥を短時間
に完了できるとともに、コンベア１８の速度を加減する
などして、二次乾燥時間を製品Ｐの種類に応じて変更す
ることも容易で、もって、完全に乾燥した成形品Ｗを能
率よく仕上工程に送り出すことができる。そして、二次
乾燥後の成形品Ｗは仕上機８で仕上げられ、製品Ｐが搬
出コンベア１０によって製造ラインの外部に搬出され
る。従って、比較的小型の装置によって、短時間に多数
個の良品を能率よく製造することができる。

【００１６】なお、本発明は上記実施形態に限定される
ものではなく、例えば、二次乾燥室を一次乾燥室の上又
は下に設置し、一台の熱風発生機を共用して、より小型
の装置で安価に製造できるように構成するなど、本発明
の趣旨を逸脱しない範囲で各部の形状並びに構成を適宜
に変更して実施することも可能である。

【００１７】

【発明の効果】以上詳述したように、本発明の陶磁器製
造装置によれば、成形品及び石膏型の乾燥時間を製品の
種類に応じて最適に設定し、比較的小型の装置で良品を
能率よく製造できるという優れた効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施形態を示す陶磁器製造装置の平
面配置図である。

【符号の説明】

１・・循環機構、２・・坏土供給機、３・・成形機、４
・・一次乾燥室、５・・脱型機構、６・・二次乾燥室、
７・・移載機構、８・・仕上機、９・・取出機構、１０
・・搬出コンベア、１３・・型コンベア、Ｒ・・坏土、
Ｍ・・石膏型、Ｗ・・成形品、Ｐ・・製品。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 多数個の石膏型を循環させる循環機構
   と、前回未使用の石膏型に坏土を供給する坏土供給機
   と、坏土を製品形状に成形する成形機と、成形機から送
   られた成形品と前回使用した空の石膏型とを循環機構と
   同じ領域で乾燥する一次乾燥室と、一次乾燥室の出口で
   成形品を石膏型から取り出す脱型機構と、取り出した成
   形品を循環機構と異なる領域で乾燥する二次乾燥室とか
   らなる陶磁器製造装置。
2. 【請求項２】 循環機構に長円形の型コンベアを設け、
   型コンベアに偶数個の石膏型を支持した請求項１記載の
   陶磁器製造装置。
3. 【請求項３】 二次乾燥室の近傍に仕上機を設置した請
   求項１記載の陶磁器製造装置。