JP2001293513A - 多段対向流カスケード洗浄装置の運転方法及び装置 - Google Patents

多段対向流カスケード洗浄装置の運転方法及び装置

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明は、処理対象の高い洗浄度若しくは高
い純度を有する改良された洗浄技術を可能にする対向流
カスケード洗浄装置の運転方法及び装置を提供すること
である。 【解決手段】 本発明の課題は、対向流カスケード洗浄
装置の運転方法であって、対向流カスケード洗浄装置
は、湿潤化学的表面処理のために金属ストリップの処理
装置の後処理部分に後続されており、その際各洗浄段は
中央の新鮮水量供給部に接続している他、洗浄水循環シ
ステムを有する前記方法において、各洗浄段の1つに所
属する洗浄水循環システムから部分流がバイパス流とし
て分岐しかつそれぞれ先行する洗浄段に供給されること
を特徴とする前記方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】対向流カスケード洗浄装置の運転
方法であって、対向流カスケード洗浄装置は、湿潤化学
的表面処理のために、プロセス部分又は金属ストリップ
の処理装置の後処理部分に後続されており、その際各洗
浄段は中央の新鮮水量供給部に接続している他、洗浄水
循環システムを有する前記方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】そのような洗浄プロセスは、湿潤化学的
表面処理では非常に重要である。そのようなプロセス
は、先行する化学反応を中止させるのみならず製品表面
の洗浄を達成し、かつ後続のプロセス浴中への電解性異
物の引き込みを阻止する。そのような対向流カスケード
洗浄装置は、通常の方法でストリップ加熱のようなスト
リップ処理装置のプロセス部分に後続され、しかし対向
流カスケード洗浄装置は、洗浄部分、処理部分の後の他
の処理装置における洗浄プロセスのために及び後処理の
ためにも適用される。その際連続的に走行するストリッ
プは、化学薬品若しくは異物残滓を洗い流される。中央
の供給装置を介して供給される新鮮水は、処理方向の最
後の洗浄段に集められかつ材料走行に対する対向流とし
て個々の洗浄段を超えて互いに分離した防御仕切りから
第1洗浄段に流れる。
【0003】新鮮水量流 (カスケード流)は、通常の方
法で表面装入量(表面積)に依存して調整され、その際
最小のカスケード流が、洗浄段の運転のために常に必要
である。洗浄によって、表面に付着している液体フィル
ムが常に水で薄められる。洗浄は洗浄基準と称される希
釈率が高ければ高いほど、良好になり、その際希釈率は
プロセス浴中の濃度及び最後の洗浄浴中の濃度によって
決定され、このことは最終的に処理された部分若しくは
ストリップの純度にとって重要である。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は冒頭に記載さ
れた形式の方法及び装置で高い洗浄度若しくは処理材料
に大きな純度が得られるような改良された洗浄技術を可
能にすることである。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明による方法によれ
ば、1つの各洗浄段に属する洗浄水循環システムから、
部分流がバイパス流として分岐しかつそれぞれ先行する
洗浄段に供給されることによって解決される。n+1洗
浄段の循環システムのバイパス流の分岐及びこの流動を
先行するn洗浄段へ供給することによって、n洗浄段に
おけるストリップ若しくは処理材料が、n+1洗浄段か
ら僅かに補足された洗浄水によって追加の洗浄を受ける
ことが達成される。
【0006】洗浄の効果は、本発明による提案によれば
分岐された部分流がそれぞれ先行する洗浄段の端で分割
されかつストリップの上方及び下方に供給される場合に
高められる。ストリップ若しくは処理材料は、それによ
って一括して洗浄される。
【0007】方法を実施するための装置では、本発明に
よれば、1つの各洗浄段に付設された洗浄水循環システ
ムに別々のバイパス導管が内蔵され、バイパス導管はそ
れぞれ先行する各洗浄段の端で好ましくはバイパス導管
の注口端でストリップの上方及び下方に配設されたノズ
ル管によって各洗浄段に注がれる。バイパス流を介して
それぞれ後続する洗浄段から先行する洗浄段の端に洗浄
段を運転するために、最小のカスケード流の維持によっ
て、多くの利点が即ち、洗浄段の数が同一では必要な新
鮮水の減少若しくは洗浄段数及び必要新鮮水量が同一で
は高い表面装入量(表面積)が達成される。結局洗浄プ
ロセスによって、さもなければ生じる装置停止従って表
面欠陥(酸化水素形成)を伴うストリップ長さが減少さ
れる。
【0008】本発明の他の詳細及び利点は、本発明の請
求項及び図示の実施例の次の記載から明らかにされる。
【0009】
【実施例】処理部分2、例えば矢印3によるストリップ
走行方向に連続的に走行する金属ストリップ4の処理の
ための腐食部に続く、実施例に表された対向流カスケー
ド洗浄装置(洗浄段)1は、前洗浄段5、及びこれに続
く洗浄段n並びにn+1,n+2及びn+3から成る。
対向流カスケード洗浄装置1に、新鮮水が図示しない供
給源から新鮮水量供給部6を介して最後の洗浄段若しく
は洗浄段n+3に集められる。個々の洗浄段若しくは予
備洗浄段5若しくはn〜n+3は,防御仕切り7(図2
参照)によって互いに分離されている。洗浄段5を含め
て各洗浄段n,n+1,n+2の1つに洗浄水循環シス
テムI 〜I V が付設しており、洗浄水循環システムI 〜
I V を介して個々の洗浄段が必要な洗浄水を供給され、
洗浄水はそれぞれストリップ4の上方又は下方を経過す
るノズル管を有する。
【0010】図2中矢印8によって明らかな材料流動に
対する対向流方向のカスケード流の維持は、防御仕切り
を超える溢流ではなく、バイパス流の分岐による各洗浄
水循環システムI 〜I V によって行われる。この目的で
各洗浄水循環システムI 〜IVには、別個のバイパス流の
分岐によって、1つの別個の分岐バイパス導管1が内蔵
され、別個のバイパス管によって部分流に分割され、か
つストリップ走行方向に後続する洗浄段が、 それぞれ先
行する洗浄段の端に、即ち、例えば洗浄段n+1からn
に戻される。バイパス導管の注口端は、ノズル配列11
によって形成され、ノズル配列は、ストリップ4の上方
及び下方にノズル管11a,11b(図2参照;図1に
対して洗浄段配列を勿論鏡面対称で示す)を有する。
【0011】ストリップ4は、それによって先行する洗
浄段の各々に次の洗浄段n+1若しくはn+2若しくは
n+3から僅かに補足された洗浄水による追加の洗浄が
行われる。対向流カスケード洗浄装置1の運転のために
常に必要な最小のカスケード流は、それによって防御仕
切りの溢流、従って最後の洗浄段から最前の洗浄段への
化学薬品若しくは異物残滓の引き込みなしに維持され
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は、ストリップ処理部分に後続した対向流
カスケード洗浄装置のレイアウトを示す図である。
【図2】図2は、対向流カスケード洗浄装置の処理部分
に続く流入側部分の簡単化されかつ図1に比して拡大さ
れた図である。
【符号の説明】
1 対向流カスケード洗浄装置 2 処理部分 3 矢印 4 金属ストリップ 5 予備洗浄段 6 新鮮水量供給部 7 防御仕切り 8 矢印 9 ノズル配列 10 バイパス 11 ノズル配列 11a ノズル管 11b ノズル管

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 対向流カスケード洗浄装置の運転方法で
    あって、対抗流カスケード洗浄装置は、湿潤化学的表面
    処理のためにプロセス部分に又は金属ストリップの処理
    装置の後処理部分に後続されており、その際各洗浄段は
    中央の新鮮水量供給部に接続している他、洗浄水循環シ
    ステムを有する前記方法において、 1つの各洗浄段に所属する洗浄水循環システムから部分
    流がバイパス流として分岐しかつそれぞれ先行する洗浄
    段に供給されることを特徴とする前記方法。
  2. 【請求項2】分岐した部分流がそれぞれ先行する洗浄段
    の端で分割されストリップの上方又は下方に供給される
    ことを特徴とする請求項1に記載の方法。
  3. 【請求項3】 対向流カスケード洗浄装置の運転装置で
    あって、対向流カスケード洗浄装置は、湿潤化学的表面
    処理のために、プロセス部分又は金属ストリップの処理
    装置の後処理部分に後続されており、その際各洗浄段は
    中央の新鮮水量供給部に接続している他、洗浄水循環シ
    ステムを有する、特に請求項1の方法を実施するための
    前記装置において、 各洗浄段に付設された洗浄水循環システム(I〜IV)
    に、別々のバイパス導管(10)が内蔵されており、バ
    イパス導管は、それぞれ先行する各洗浄段(n,n+
    1,n+2)の端でこれらに連通していることを特徴と
    する前記装置。
  4. 【請求項4】 バイパス導管(10)の注口端が、スト
    リップ(4)の上方及び下方に配設されたノズル管(1
    1a、11b)によって形成されていることを特徴とす
    る請求項3に記載の装置。
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