JP2001288156A - ニトリル化合物の精製方法 - Google Patents
ニトリル化合物の精製方法Info
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Abstract
トリル化合物の精製方法の提供。 【構成】アルカリ水溶液処理において、混合時のニトリ
ル化合物の分散性の改良、相分離の際の分離性の改良
等、従来に比べより効率化された操作により、ニトリル
化合物の重合や副生物の殆ど無い、ニトリル化合物の精
製方法を提供し得る。
Description
を含むニトリル化合物の精製方法に関する。とりわけ、
本法はニトリルのアミドへの変換酵素であるニトリルヒ
ドラターゼの基質となるニトリル化合物の精製に好適で
ある。
維、ポリマー原料等として工業的に有用な物質である
が、特に、ニトリルヒドラターゼ酵素の作用によりアミ
ド化合物を製造する原料として用いる場合には、反応触
媒としてのニトリルヒドラターゼ酵素の活性に、ニトリ
ル化合物中の青酸が大きな影響を与えることが知られて
いる。この為、原料ニトリル化合物中からの青酸除去が
重要となる。ニトリル化合物中から青酸を除去する方法
はこれまで種々検討されており、例えば、ニトリル化合
物中の青酸を金属錯体とする方法、イオン交換樹脂を用
いる方法、及びアルカリ水溶液を用いて青酸を除去する
方法等が挙げられる。
にバナジュウム、クロム、マンガン、鉛、銅、銀、亜
鉛、コバルト、ニッケル等、青酸と反応して金属シアン
化物錯体を形成する金属を硝酸塩、塩化物、硫酸塩、カ
ルボン酸塩等の金属塩として添加することにより、青酸
を金属シアノ錯体とする方法である(特開平7−228
563号)。また、金属塩の代わりに金属アルコキシド
を用いる方法も提案されている(USP5,519,1
62号)。しかし、これらの方法においては、ニトリル
ヒドラターゼ酵素活性への金属イオンや金属シアノ錯体
の影響を避け、十分な効果を期待するためには、活性炭
や活性アルミナ等の吸着剤の使用や蒸留操作によって金
属イオンや金属シアノ錯体を除く必要があり、高品質な
アミド化合物の製造原料を得るための精製方法としての
工業的利用には、操作性、経済性を考えれば決して有利
な方法ではなかった。
脂を用いる方法(USP2,579,580号)では、
ニトリル化合物の変性や副生成物の生成を伴い易い上
に、長時間使用しているとニトリル化合物やその変性物
がイオン交換樹脂の表面や内部で重合するなど、この方
法も工業的な精製方法として満足し得るものではなかっ
た。一方、アルカリ水溶液を用いて青酸を除去する方法
は、水溶液側に青酸を抽出させたり、ニトリル化合物が
不飽和ニトリルである場合には、該ニトリル化合物に青
酸を付加させる方法である。この方法は、吸着剤やイオ
ン交換樹脂の使用、蒸留操作が不要であるなど、上記方
法に比べ有利であるが、やはり、ニトリル化合物の変性
・重合防止面で解決すべき問題が残されていた。
有するこの様な問題点に鑑み、アルカリ処理によるニト
リル化合物の重合や副成物の生成の殆ど無い、とりわけ
ニトリルヒドラターゼ酵素の基質として適したニトリル
化合物の効率的な精製方法を提供することを目的とす
る。
酸の除去は、通常、アルカリ水溶液とニトリル化合物を
混合し、しかる後にその混合系をニトリル化合物相と水
相に分離して水相を除去することにより行われるが、こ
の操作について詳細に検討・解析した結果、混合時のニ
トリル化合物に対する水のモル比、及び分離水相中のア
ルカリ濃度を特定することが、操作全体を短時間で行う
ことを可能とし、結果として、ニトリル化合物の重合や
副成物の生成を抑制し得ることを見い出し、本発明に到
った。
含むニトリル化合物とアルカリ水溶液とを混合し、次い
で、該混合系をニトリル化合物相と水相に分離して水相
を除去する該ニトリル化合物の精製方法において、混合
時の水に対するニトリル化合物のモル比を0.01〜
0.5とし、且つ分離水相中のアルカリ濃度を1質量%
以下とすることを特徴とするニトリル化合物の精製方
法、である。この方法は、ニトリル化合物がニトリルヒ
ドラターゼ酵素の作用により対応するアミド化合物を製
造する際の基質である場合に好適である。
比を0.01〜0.5とすることは混合時のニトリル化
合物の分散性を向上させ、青酸の抽出速度を増加させる
ことに有効であり、分離水相中のアルカリ濃度を1質量
%以下とすることは相分離の際の界面形成を容易にする
ことに有効であるが、このような効果は全く予想し得な
かったものである。
る。ニトリル化合物、例えば、アクリロニトリルはプロ
ピレンのアンモ酸化法により工業的に生産されており、
青酸は他の副生物と共に反応後の蒸留精製による除去操
作が行われているが、この操作で除去出来ない青酸が市
販の製品中に通常0.5〜5ppm含まれている。その
中には、製品中に残留したシアンヒドリンがその後、分
解して生じたものも含まれていると考えられ、この様な
極微量の青酸であっても酵素失活に大きな影響を与える
場合がある。
は、上記アクリルニトリルをはじめ、特に限定されな
い。例えば、アセトニトリル、プロピオニトリル、サク
シノニトリル、アジポニトリルの様な脂肪族飽和ニトリ
ル、アクリロニトリル、メタクリロニトリルのような脂
肪族不飽和ニトリル、ベンゾニトリル、フタロジニトリ
ルの様な芳香族ニトリル、及びニコチノニトリルのよう
な複素環式ニトリルが挙げられ、代表的なものはアセト
ニトリル、プロピオニトリル、アクリロニトリル、メタ
クリロニトリル、n−ブチロニトリル、イソクチロニト
リル等のC2〜C 4のニトリル化合物であり、特にアク
リロニトリルが好適である。
は、先ず、アルカリ水溶液とニトリル化合物を混合し、
次いで、その混合系をニトリル化合物相と水相に分離し
て水相側に青酸を抽出することにより行う。アルカリ水
溶液とニトリル化合物の混合に当たっては、ニトリル化
合物の重合や副成物の生成を防止する為、短時間で青酸
の抽出を行うことが重要である。通常、アルカリ水溶液
とニトリル化合物の相溶性が比較的小さいことから、混
合器を使用して分散相の表面積を大きくする。かかる目
的で使用する混合機としては攪拌翼を備えた混合槽やラ
インミキサー、或いはスタティックミキサー、ホモジナ
イザーなどを使用する事が出来る。混合時の水に対する
ニトリル化合物のモル比は、0.01〜0.5、望まし
くは、0.05〜0.5である。モル比が0.5を上回
るとニトリル化合物の分散性が悪くなり抽出速度も著し
く低下するはかりでなく、二層分離時の界面形成も難し
くなる。抽出後分離される水相中のアルカリ濃度は1質
量%以下、望ましくは0.05〜0.5質量%となるよ
うに添加するアルカリの量を調整する。水相中のアルカ
リ濃度が1質量%を越えると水相中に溶解しているニト
リル化合物の重合が促進され二層分離時の界面の汚れや
配管の詰まりの原因となる。
こなうことができる。上記操作により、ニトリル化合物
の重合や副成物の生成を伴うことなく、ニトリル化合物
中の青酸の濃度を所定の値以下にすることができる。
る。
ppmを含むアクリロニトリルを1800(g/
h)、循環を3800(g/h)供給し、内容積10
0(cc)の分離槽に8質量% NaOH水溶液を
1(g/h)、補給水78(g/h)加えながら、分
離槽内の二層分離界面の位置が一定になるように廃液
の量を調整し4時間連続運転を実施した。混合機に
供給される液中の水に対するアクリロニトリルのモル比
は、0.16であった。3時間目に分離槽からオーバ
ーフローしてくる処理済みアクリロニトリルをサンプ
リングしその中の青酸濃度を測定したところ0.4pp
mであった。また、分離槽の水相中のアルカリ濃度は
0.4質量%であった。
とした以外は実施例1と同じ条件で処理したところ、混
合機に供給される液中の水に対するアクリロニトリル
のモル比は、0.6であった。3時間後の分離槽から
オーバーフローしてくる処理済みアクリロニトリルを
サンプリングしその中の青酸濃度の測定値は2.3pp
mであった。また、分離槽の水相中のアルカリ濃度は
0.4質量%であった。
%とした以外は実施例1と同じ条件で処理したところ、
分離槽の水相中のアルカリ濃度は1.4質量%であっ
た。3時間後に分離槽からオーバーフローしてくる処
理済みアクリロニトリルをサンプリングしたが、その
中の青酸濃度の測定値は1.2ppmであった。また、
分離槽内の水相側は黄褐色に着色し、処理終了後、水
相を別の容器に移したところ、ポリマー状の不溶解物が
確認された為、IR分析を実施したところポリアクリロ
ニトリルであることが判明した。
て、混合時のニトリル化合物の分散性の改良、相分離の
際の分離性の改良等、従来に比べより効率化された操作
により、ニトリル化合物の重合や副生物の殆ど無い、ニ
トリル化合物の精製方法を提供し得る。
Claims (2)
- 【請求項1】不純物として青酸を含むニトリル化合物と
アルカリ水溶液とを混合し、次いで、該混合系をニトリ
ル化合物相と水相に分離して水相を除去する該ニトリル
化合物の精製方法において、混合時の水に対するニトリ
ル化合物のモル比を0.01〜0.5とし、且つ分離水
相中のアルカリ濃度を1質量%以下とすることを特徴と
するニトリル化合物の精製方法。 - 【請求項2】ニトリル化合物がニトリルヒドラターゼの
作用により対応するアミド化合物を製造する際の基質で
ある請求項1記載のニトリル化合物の精製方法。
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Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008067626A (ja) * | 2006-09-13 | 2008-03-27 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 4−ハロ−3−ヒドロキシブチルアミドの製造方法 |
JP2008148637A (ja) * | 2006-12-19 | 2008-07-03 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 4−ハロ−3−ヒドロキシブチルアミドの製造方法 |
JP2009000097A (ja) * | 2007-05-23 | 2009-01-08 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 4−ハロ−3−ヒドロキシブチルアミドおよびその誘導体の製造方法 |
JP2009142199A (ja) * | 2007-12-13 | 2009-07-02 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 光学活性4−ハロ−3−ヒドロキシブチルアミド及び光学活性4−ハロ−3−ヒドロキシブチロニトリル、並びに光学活性カルニチンアミドの製造方法 |
WO2011138966A1 (ja) * | 2010-05-06 | 2011-11-10 | ダイヤニトリックス株式会社 | 微生物触媒を用いたアクリルアミドの製造方法 |
WO2014129144A1 (ja) * | 2013-02-19 | 2014-08-28 | 三菱レイヨン株式会社 | アミド化合物の製造方法 |
WO2022172880A1 (ja) | 2021-02-10 | 2022-08-18 | 三菱ケミカル株式会社 | アルデヒドによるニトリルヒドラターゼの反応性向上 |
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Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008067626A (ja) * | 2006-09-13 | 2008-03-27 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 4−ハロ−3−ヒドロキシブチルアミドの製造方法 |
JP2008148637A (ja) * | 2006-12-19 | 2008-07-03 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 4−ハロ−3−ヒドロキシブチルアミドの製造方法 |
JP2009000097A (ja) * | 2007-05-23 | 2009-01-08 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 4−ハロ−3−ヒドロキシブチルアミドおよびその誘導体の製造方法 |
JP2009142199A (ja) * | 2007-12-13 | 2009-07-02 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 光学活性4−ハロ−3−ヒドロキシブチルアミド及び光学活性4−ハロ−3−ヒドロキシブチロニトリル、並びに光学活性カルニチンアミドの製造方法 |
WO2011138966A1 (ja) * | 2010-05-06 | 2011-11-10 | ダイヤニトリックス株式会社 | 微生物触媒を用いたアクリルアミドの製造方法 |
JPWO2011138966A1 (ja) * | 2010-05-06 | 2013-07-22 | ダイヤニトリックス株式会社 | 微生物触媒を用いたアクリルアミドの製造方法 |
WO2014129144A1 (ja) * | 2013-02-19 | 2014-08-28 | 三菱レイヨン株式会社 | アミド化合物の製造方法 |
US9382560B2 (en) | 2013-02-19 | 2016-07-05 | Mitsubishi Rayon Co., Ltd. | Method for producing amide compound |
JP6070696B2 (ja) * | 2013-02-19 | 2017-02-01 | 三菱レイヨン株式会社 | アミド化合物の製造方法 |
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