JP2001286733A - 塩素化有機化合物の分解方法および燃焼排ガスの処理方法 - Google Patents
塩素化有機化合物の分解方法および燃焼排ガスの処理方法Info
- Publication number
- JP2001286733A JP2001286733A JP2000104903A JP2000104903A JP2001286733A JP 2001286733 A JP2001286733 A JP 2001286733A JP 2000104903 A JP2000104903 A JP 2000104903A JP 2000104903 A JP2000104903 A JP 2000104903A JP 2001286733 A JP2001286733 A JP 2001286733A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- catalyst
- chlorinated organic
- tio
- organic compound
- exhaust gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 title claims abstract description 67
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 50
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 title claims description 28
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 193
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 47
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N titanium dioxide Inorganic materials O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 69
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 62
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 53
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 51
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 49
- RAHZWNYVWXNFOC-UHFFFAOYSA-N Sulphur dioxide Chemical class O=S=O RAHZWNYVWXNFOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 48
- MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N Nitric oxide Chemical class O=[N] MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 45
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 claims description 30
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 claims description 21
- 239000004480 active ingredient Substances 0.000 claims description 17
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims description 14
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 12
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 11
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 claims description 10
- 239000011218 binary composite Substances 0.000 claims description 10
- 239000003546 flue gas Substances 0.000 claims description 10
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 claims description 5
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 4
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 230000000593 degrading effect Effects 0.000 claims description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 2
- LLZRNZOLAXHGLL-UHFFFAOYSA-J titanic acid Chemical compound O[Ti](O)(O)O LLZRNZOLAXHGLL-UHFFFAOYSA-J 0.000 claims description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000003658 tungsten compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000003672 processing method Methods 0.000 claims 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 claims 1
- 150000002013 dioxins Chemical class 0.000 abstract description 9
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract description 7
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 abstract description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 23
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 15
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 10
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 10
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 8
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 8
- HGUFODBRKLSHSI-UHFFFAOYSA-N 2,3,7,8-tetrachloro-dibenzo-p-dioxin Chemical compound O1C2=CC(Cl)=C(Cl)C=C2OC2=C1C=C(Cl)C(Cl)=C2 HGUFODBRKLSHSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N ammonium sulfate Chemical compound N.N.OS(O)(=O)=O BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 7
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 6
- XAYGUHUYDMLJJV-UHFFFAOYSA-Z decaazanium;dioxido(dioxo)tungsten;hydron;trioxotungsten Chemical compound [H+].[H+].[NH4+].[NH4+].[NH4+].[NH4+].[NH4+].[NH4+].[NH4+].[NH4+].[NH4+].[NH4+].O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.[O-][W]([O-])(=O)=O.[O-][W]([O-])(=O)=O.[O-][W]([O-])(=O)=O.[O-][W]([O-])(=O)=O.[O-][W]([O-])(=O)=O.[O-][W]([O-])(=O)=O XAYGUHUYDMLJJV-UHFFFAOYSA-Z 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 239000010813 municipal solid waste Substances 0.000 description 6
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 6
- XHCLAFWTIXFWPH-UHFFFAOYSA-N [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[V+5].[V+5] Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[V+5].[V+5] XHCLAFWTIXFWPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- UNTBPXHCXVWYOI-UHFFFAOYSA-O azanium;oxido(dioxo)vanadium Chemical compound [NH4+].[O-][V](=O)=O UNTBPXHCXVWYOI-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 5
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 5
- GNTDGMZSJNCJKK-UHFFFAOYSA-N divanadium pentaoxide Chemical compound O=[V](=O)O[V](=O)=O GNTDGMZSJNCJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 5
- 229910001935 vanadium oxide Inorganic materials 0.000 description 5
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ISPYQTSUDJAMAB-UHFFFAOYSA-N 2-chlorophenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1Cl ISPYQTSUDJAMAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BIGPRXCJEDHCLP-UHFFFAOYSA-N ammonium bisulfate Chemical compound [NH4+].OS([O-])(=O)=O BIGPRXCJEDHCLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 3
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 3
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 239000002440 industrial waste Substances 0.000 description 3
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 3
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 3
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 3
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052921 ammonium sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000011130 ammonium sulphate Nutrition 0.000 description 2
- -1 aromatic chlorine compound Chemical class 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L calcium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ca+2] AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000000920 calcium hydroxide Substances 0.000 description 2
- 235000011116 calcium hydroxide Nutrition 0.000 description 2
- 229910001861 calcium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004523 catalytic cracking Methods 0.000 description 2
- 238000003421 catalytic decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 230000036541 health Effects 0.000 description 2
- 229910001385 heavy metal Inorganic materials 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000003071 polychlorinated biphenyls Chemical class 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- XTQHKBHJIVJGKJ-UHFFFAOYSA-N sulfur monoxide Chemical class S=O XTQHKBHJIVJGKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052815 sulfur oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 231100000419 toxicity Toxicity 0.000 description 2
- 230000001988 toxicity Effects 0.000 description 2
- RELMFMZEBKVZJC-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-trichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC(Cl)=C1Cl RELMFMZEBKVZJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGVRPFIJEJYOFN-UHFFFAOYSA-N 2,3,4,6-tetrachlorophenol Chemical class OC1=C(Cl)C=C(Cl)C(Cl)=C1Cl VGVRPFIJEJYOFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OGBQILNBLMPPDP-UHFFFAOYSA-N 2,3,4,7,8-Pentachlorodibenzofuran Chemical compound O1C2=C(Cl)C(Cl)=C(Cl)C=C2C2=C1C=C(Cl)C(Cl)=C2 OGBQILNBLMPPDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSQFVBWFPBKHEB-UHFFFAOYSA-N 2,3,4-trichlorophenol Chemical compound OC1=CC=C(Cl)C(Cl)=C1Cl HSQFVBWFPBKHEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDRNNORFRGCNGA-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-1-benzofuran Chemical compound C1=CC=C2OC(Cl)=CC2=C1 GDRNNORFRGCNGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- REHONNLQRWTIFF-UHFFFAOYSA-N 3,3',4,4',5-pentachlorobiphenyl Chemical group C1=C(Cl)C(Cl)=CC=C1C1=CC(Cl)=C(Cl)C(Cl)=C1 REHONNLQRWTIFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100301076 Canis lupus familiaris RBM47 gene Proteins 0.000 description 1
- 102100033040 Carbonic anhydrase 12 Human genes 0.000 description 1
- 102100033041 Carbonic anhydrase 13 Human genes 0.000 description 1
- 102100032566 Carbonic anhydrase-related protein 10 Human genes 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005751 Copper oxide Substances 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100321669 Fagopyrum esculentum FA02 gene Proteins 0.000 description 1
- 101000867855 Homo sapiens Carbonic anhydrase 12 Proteins 0.000 description 1
- 101000867860 Homo sapiens Carbonic anhydrase 13 Proteins 0.000 description 1
- 101000867836 Homo sapiens Carbonic anhydrase-related protein 10 Proteins 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100025490 Slit homolog 1 protein Human genes 0.000 description 1
- 101710123186 Slit homolog 1 protein Proteins 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008422 chlorobenzenes Chemical class 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 229910000431 copper oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- XTVVROIMIGLXTD-UHFFFAOYSA-N copper(II) nitrate Chemical compound [Cu+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O XTVVROIMIGLXTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 231100000676 disease causative agent Toxicity 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 238000002290 gas chromatography-mass spectrometry Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000010422 internal standard material Substances 0.000 description 1
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- DCKVFVYPWDKYDN-UHFFFAOYSA-L oxygen(2-);titanium(4+);sulfate Chemical compound [O-2].[Ti+4].[O-]S([O-])(=O)=O DCKVFVYPWDKYDN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N palladium Substances [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000001637 plasma atomic emission spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 1
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 1
- 230000001568 sexual effect Effects 0.000 description 1
- 239000010944 silver (metal) Substances 0.000 description 1
- 239000011206 ternary composite Substances 0.000 description 1
- 229910000348 titanium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- HDUMBHAAKGUHAR-UHFFFAOYSA-J titanium(4+);disulfate Chemical compound [Ti+4].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O HDUMBHAAKGUHAR-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 238000004448 titration Methods 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000002912 waste gas Substances 0.000 description 1
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】
【課題】ダイオキシン類の再合成の問題や触媒層の加熱
源であるスチームの使用量の削減の観点から要求される
２５０℃以下（好ましくは２００℃以下）の反応温度を
採用し得る、塩素化有機化合物の分解方法を提供する。 【解決手段】塩素化有機化合物含有ガスを触媒と接触さ
せる塩素化有機化合物の分解方法であって、ＷＯ3−Ｔ
ｉＯ2２元系複合酸化物担体に活性成分が担持された触
媒であって且つ触媒全量に対する担体の割合が７０重量
％以上である触媒を使用する。
源であるスチームの使用量の削減の観点から要求される
２５０℃以下（好ましくは２００℃以下）の反応温度を
採用し得る、塩素化有機化合物の分解方法を提供する。 【解決手段】塩素化有機化合物含有ガスを触媒と接触さ
せる塩素化有機化合物の分解方法であって、ＷＯ3−Ｔ
ｉＯ2２元系複合酸化物担体に活性成分が担持された触
媒であって且つ触媒全量に対する担体の割合が７０重量
％以上である触媒を使用する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、塩素化有機化合物
の分解方法および燃焼排ガスの処理方法に関するもので
あり、詳しくは、低温度でダイオキシン等の塩素化有機
化合物を高効率で分解することが出来る塩素化有機化合
物の分解方法および当該分解方法を特定条件下に利用す
る燃焼排ガスの処理方法に関するものである。
の分解方法および燃焼排ガスの処理方法に関するもので
あり、詳しくは、低温度でダイオキシン等の塩素化有機
化合物を高効率で分解することが出来る塩素化有機化合
物の分解方法および当該分解方法を特定条件下に利用す
る燃焼排ガスの処理方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】都市ゴミや産業廃棄物を処理する焼却炉
などから排出される燃焼排ガスは、各種の有害成分を含
有しているが、毒性の強いダイオキシンとその前駆体で
ある芳香族塩素化合物などの塩素化有機化合物および光
化学スモッグの原因物質である窒素酸化物の除去は、特
に重要である。
などから排出される燃焼排ガスは、各種の有害成分を含
有しているが、毒性の強いダイオキシンとその前駆体で
ある芳香族塩素化合物などの塩素化有機化合物および光
化学スモッグの原因物質である窒素酸化物の除去は、特
に重要である。
【０００３】燃焼排ガス中の塩素化有機化合物の除去方
法としては、各種の方法が知られているが、特に接触分
解法は、５００℃以下の条件で塩素化有機化合物を分解
する優れた方法である。ところで、塩素化有機化合物の
接触分解は、３００℃以上の分解温度では一旦分解され
たダイオキシン等が再生成するため、２５０℃以下の温
度で行うことが要求されている。
法としては、各種の方法が知られているが、特に接触分
解法は、５００℃以下の条件で塩素化有機化合物を分解
する優れた方法である。ところで、塩素化有機化合物の
接触分解は、３００℃以上の分解温度では一旦分解され
たダイオキシン等が再生成するため、２５０℃以下の温
度で行うことが要求されている。
【０００４】更に近年、都市ゴミ焼却設備では、ゴミ焼
却時に発生した熱を回収する目的で得たスチームで発電
し、都市ゴミ焼却設備に電力供給すると共に余剰電力の
売電が行なわれている。ところで、塩素化有機化合物分
解用触媒層の反応温度の維持に上記のスチームが利用さ
れている場合、反応温度が高い程に多量のスチームが消
費される不利益がある。従って、斯かる観点からも可及
的に低い反応温度、具体的には２００℃以下の反応温度
での運転が要求されている。
却時に発生した熱を回収する目的で得たスチームで発電
し、都市ゴミ焼却設備に電力供給すると共に余剰電力の
売電が行なわれている。ところで、塩素化有機化合物分
解用触媒層の反応温度の維持に上記のスチームが利用さ
れている場合、反応温度が高い程に多量のスチームが消
費される不利益がある。従って、斯かる観点からも可及
的に低い反応温度、具体的には２００℃以下の反応温度
での運転が要求されている。
【０００５】一方、塩素化有機化合物の接触分解は、酸
化反応と考えられ、反応温度が低下すると反応速度が必
然的に低下する。従って、より低い温度で接触分解を行
って所定の分解率を得ようとした場合は、触媒量の増加
や単位時間当たりの処理ガス量の低下が必要となる。し
かしながら、都市ゴミ焼却設備では、処理ガス量の低下
が困難なため、処理装置が巨大化するという問題があ
る。
化反応と考えられ、反応温度が低下すると反応速度が必
然的に低下する。従って、より低い温度で接触分解を行
って所定の分解率を得ようとした場合は、触媒量の増加
や単位時間当たりの処理ガス量の低下が必要となる。し
かしながら、都市ゴミ焼却設備では、処理ガス量の低下
が困難なため、処理装置が巨大化するという問題があ
る。
【０００６】一方、触媒の担体としては、一般的に、Ｔ
ｉＯ2、ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＺｒＯ 2等が使用できる
が、塩素化有機化合物分解用触媒の場合は、燃焼排ガス
中にＳＯ2が含有されている場合が多いため、ＳＯ2に耐
性を有するＴｉＯ2が一般的に使用される。例えば、特
許第２６３３３１６号公報においてはＴｉＯ2担体に活
性成分Ｖ2Ｏ5とＷＯ3を担持した触媒が使用され、特許
第２９１６２５９号公報においては、担体として、Ｔ
ｉ、Ｓｉ、Ｚｒの２元または３元複合酸化物を使用する
ことにより活性成分の分散性を向上させて触媒性能の向
上を図っている。
ｉＯ2、ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＺｒＯ 2等が使用できる
が、塩素化有機化合物分解用触媒の場合は、燃焼排ガス
中にＳＯ2が含有されている場合が多いため、ＳＯ2に耐
性を有するＴｉＯ2が一般的に使用される。例えば、特
許第２６３３３１６号公報においてはＴｉＯ2担体に活
性成分Ｖ2Ｏ5とＷＯ3を担持した触媒が使用され、特許
第２９１６２５９号公報においては、担体として、Ｔ
ｉ、Ｓｉ、Ｚｒの２元または３元複合酸化物を使用する
ことにより活性成分の分散性を向上させて触媒性能の向
上を図っている。
【０００７】そして、特許第２６３３３１６号公報にお
いては、２７０〜２９０℃の反応温度が採用されている
が、斯かる温度は十分に低温とは言い難く、また、特許
第２９１６２５９号公報においては、温度が２００℃で
ＳＶが２０００ｈｒ-1の反応条件が採用されており、多
量の触媒を使用する必要がある。
いては、２７０〜２９０℃の反応温度が採用されている
が、斯かる温度は十分に低温とは言い難く、また、特許
第２９１６２５９号公報においては、温度が２００℃で
ＳＶが２０００ｈｒ-1の反応条件が採用されており、多
量の触媒を使用する必要がある。
【０００８】上述の様に、従来の塩素化有機化合物分解
用触媒は、何れも、低温条件で且つコンパクトな処理装
置で使用するには十分に満足し得る性能ではない。
用触媒は、何れも、低温条件で且つコンパクトな処理装
置で使用するには十分に満足し得る性能ではない。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記実情に
鑑みなされたものであり、その目的は、ダイオキシン類
の再合成の問題や触媒層の加熱源であるスチームの使用
量の削減の観点から要求される２５０℃以下（好ましく
は２００℃以下）の反応温度を採用し得る、塩素化有機
化合物の分解方法を提供することにある。
鑑みなされたものであり、その目的は、ダイオキシン類
の再合成の問題や触媒層の加熱源であるスチームの使用
量の削減の観点から要求される２５０℃以下（好ましく
は２００℃以下）の反応温度を採用し得る、塩素化有機
化合物の分解方法を提供することにある。
【００１０】また、本発明の他の目的は、上記の塩素化
有機化合物の分解方法を特定条件下に利用した燃焼排ガ
スの処理方法であって、しかも、窒素酸化物の分解のた
めに排ガス中に導入されたアンモニアと排ガス中の二酸
化イオウとによって生成する酸性硫酸アンモニウムの触
媒表面への析出を防止し得る様に改良された燃焼排ガス
の処理方法を提供することにある。
有機化合物の分解方法を特定条件下に利用した燃焼排ガ
スの処理方法であって、しかも、窒素酸化物の分解のた
めに排ガス中に導入されたアンモニアと排ガス中の二酸
化イオウとによって生成する酸性硫酸アンモニウムの触
媒表面への析出を防止し得る様に改良された燃焼排ガス
の処理方法を提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明者は、種々検討を
重ねた結果、次の様な種々の知見を得た。すなわち、Ｗ
Ｏ3が結晶格子内に高分散している、ＷＯ3−ＴｉＯ2２
元系複合酸化物担体に活性成分が担持された触媒は、純
粋なＴｉＯ2担体に活性成分としてＷＯ3が担持された触
媒に比し、塩素化有機化合物の分解性能が高い。また、
担体として、ＷＯ3−ＴｉＯ2２元系複合酸化物を使用す
ることにより、耐熱性が向上し、例えば触媒製造の焼成
工程で必然的に起こる比表面積の低下に起因する触媒性
能の低下が抑制され、相対的に触媒性能が向上するとの
知見を得た。更に、特定性能の２種類の触媒を特定条件
下に使用するならば、酸性硫酸アンモニウムの触媒表面
への析出を防止し得る。
重ねた結果、次の様な種々の知見を得た。すなわち、Ｗ
Ｏ3が結晶格子内に高分散している、ＷＯ3−ＴｉＯ2２
元系複合酸化物担体に活性成分が担持された触媒は、純
粋なＴｉＯ2担体に活性成分としてＷＯ3が担持された触
媒に比し、塩素化有機化合物の分解性能が高い。また、
担体として、ＷＯ3−ＴｉＯ2２元系複合酸化物を使用す
ることにより、耐熱性が向上し、例えば触媒製造の焼成
工程で必然的に起こる比表面積の低下に起因する触媒性
能の低下が抑制され、相対的に触媒性能が向上するとの
知見を得た。更に、特定性能の２種類の触媒を特定条件
下に使用するならば、酸性硫酸アンモニウムの触媒表面
への析出を防止し得る。
【００１２】本発明は、上記の知見に基づき完成された
ものであり、その第１の要旨は、塩素化有機化合物含有
ガスを触媒と接触させる塩素化有機化合物の分解方法で
あって、ＷＯ3−ＴｉＯ2２元系複合酸化物担体に活性成
分が担持された触媒であって且つ触媒全量に対する担体
の割合が７０重量％以上である触媒を使用することを特
徴とする塩素化有機化合物の分解方法に存する。
ものであり、その第１の要旨は、塩素化有機化合物含有
ガスを触媒と接触させる塩素化有機化合物の分解方法で
あって、ＷＯ3−ＴｉＯ2２元系複合酸化物担体に活性成
分が担持された触媒であって且つ触媒全量に対する担体
の割合が７０重量％以上である触媒を使用することを特
徴とする塩素化有機化合物の分解方法に存する。
【００１３】そして、本発明の第２の要旨は、塩素化有
機化合物、二酸化イオウ及び窒素酸化物を含有する燃焼
排ガスの処理方法であって、次の（ａ）〜（ｄ）の条件
を満足することを特徴とする燃焼排ガスの処理方法に存
する。
機化合物、二酸化イオウ及び窒素酸化物を含有する燃焼
排ガスの処理方法であって、次の（ａ）〜（ｄ）の条件
を満足することを特徴とする燃焼排ガスの処理方法に存
する。
【００１４】（ａ）触媒として、塩素化有機化合物分解
能とアンモニア存在下における窒素酸化物分解能とを有
し且つ以下に規定する二酸化イオウの酸化転化率が１．
３%以下の低酸化性能触媒（Ｘ）と、ＷＯ3−ＴｉＯ2２
元系複合酸化物担体に活性成分が担持された触媒であっ
て且つ触媒全量に対する担体の割合が７０重量％以上で
あり、しかも、塩素化有機化合物分解能を有し且つ以下
に規定する二酸化イオウの酸化転化率が３．０%以上の
高酸化性能触媒（Ｙ）との２種類を使用する。
能とアンモニア存在下における窒素酸化物分解能とを有
し且つ以下に規定する二酸化イオウの酸化転化率が１．
３%以下の低酸化性能触媒（Ｘ）と、ＷＯ3−ＴｉＯ2２
元系複合酸化物担体に活性成分が担持された触媒であっ
て且つ触媒全量に対する担体の割合が７０重量％以上で
あり、しかも、塩素化有機化合物分解能を有し且つ以下
に規定する二酸化イオウの酸化転化率が３．０%以上の
高酸化性能触媒（Ｙ）との２種類を使用する。
【００１５】＜二酸化イオウの酸化転化率＞圧力：常
圧、温度：２５０℃、ＳＶ（空間速度）：１８５０Ｈｒ
-1、触媒量：４５０ｍｌの条件下、Ｏ2１０乾体積%，Ｓ
Ｏ2５００ｐｐｍ，Ｈ2Ｏ：１０体積%，Ｎ2バランス量の
組成のガスを触媒が充填された反応管に供給し、反応管
出口のＳＯ3濃度とトータルＳＯXの濃度を求め、次式に
より二酸化イオウの酸化転化率（%）を算出する。
圧、温度：２５０℃、ＳＶ（空間速度）：１８５０Ｈｒ
-1、触媒量：４５０ｍｌの条件下、Ｏ2１０乾体積%，Ｓ
Ｏ2５００ｐｐｍ，Ｈ2Ｏ：１０体積%，Ｎ2バランス量の
組成のガスを触媒が充填された反応管に供給し、反応管
出口のＳＯ3濃度とトータルＳＯXの濃度を求め、次式に
より二酸化イオウの酸化転化率（%）を算出する。
【００１６】
【数２】 （出口ＳＯ3濃度／出口トータルＳＯX）×１００
【００１７】（ｂ）燃焼排ガスと低酸化性能触媒および
高酸化性能触媒との各接触工程を任意の順序で且つ１０
０〜２５０℃の温度範囲で行う。
高酸化性能触媒との各接触工程を任意の順序で且つ１０
０〜２５０℃の温度範囲で行う。
【００１８】（ｃ）低酸化性能触媒との接触工程を先行
させる場合、低酸化性能触媒との接触工程に流入する燃
焼排ガス中にアンモニアを導入するが、その量は当該工
程から流出する燃焼排ガス中のアンモニア濃度が２０ｐ
ｐｍ以下となる量に調節する。
させる場合、低酸化性能触媒との接触工程に流入する燃
焼排ガス中にアンモニアを導入するが、その量は当該工
程から流出する燃焼排ガス中のアンモニア濃度が２０ｐ
ｐｍ以下となる量に調節する。
【００１９】（ｄ）高酸化性能触媒との接触工程を先行
させる場合、低酸化性能触媒との接触工程に流入する燃
焼排ガス中にアンモニアを導入する。
させる場合、低酸化性能触媒との接触工程に流入する燃
焼排ガス中にアンモニアを導入する。
【００２０】
【発明の実施の形態】先ず、本発明に係る塩素化有機化
合物の分解方法について説明する。この発明において
は、塩素化有機化合物分解用触媒として、ＷＯ3−Ｔｉ
Ｏ2２元系複合酸化物担体に活性成分が担持された触媒
であって且つ触媒全量に対する担体の割合が７０重量％
以上である触媒を使用する。
合物の分解方法について説明する。この発明において
は、塩素化有機化合物分解用触媒として、ＷＯ3−Ｔｉ
Ｏ2２元系複合酸化物担体に活性成分が担持された触媒
であって且つ触媒全量に対する担体の割合が７０重量％
以上である触媒を使用する。
【００２１】ＷＯ3−ＴｉＯ2２元系複合酸化物担体は、
ＴｉＯ2含量が２０〜５０重量％の含水チタン酸（Ｔｉ
Ｏ2の水和物）に可溶性タングステン化合物を加えて脱
水した後に焼成して得ることが出来る。ＷＯ3−ＴｉＯ2
２元系複合酸化物担体は、ＴｉＯ2にＷＯ3が高分散して
存在した構造を有し、加熱による結晶化やルチル型Ｔｉ
Ｏ2の転移が抑制された性質を有する。斯かる特徴は次
の様な著しい利点をもたらす。
ＴｉＯ2含量が２０〜５０重量％の含水チタン酸（Ｔｉ
Ｏ2の水和物）に可溶性タングステン化合物を加えて脱
水した後に焼成して得ることが出来る。ＷＯ3−ＴｉＯ2
２元系複合酸化物担体は、ＴｉＯ2にＷＯ3が高分散して
存在した構造を有し、加熱による結晶化やルチル型Ｔｉ
Ｏ2の転移が抑制された性質を有する。斯かる特徴は次
の様な著しい利点をもたらす。
【００２２】すなわち、触媒の製造においては、担体に
対して活性成分を高分散させるため、原料として水溶性
の塩を使用するが、最終的に安定した酸化物とするた
め、必ず焼成処理する。更に、成形体とする場合は、そ
の強度向上のために焼成処理する。しかも、触媒の使用
時（接触反応時）は常時加熱処理する。この様に、触媒
にとっては加熱処理は避けられず、それにより、担体の
結晶化が進行する。そして、担体の結晶化が進行した場
合は、活性成分の凝縮が起こり、その分散状態が悪化
し、触媒性能の低下が惹起される。ところが、ＷＯ3−
ＴｉＯ2２元系複合酸化物担体は、上記の様に、加熱に
よる結晶化、すなわち、触媒性能の低下が抑制される。
換言すれば、触媒性能が相対的に向上する。斯かる効果
は、特に接触反応の温度が低い場合に顕著である。
対して活性成分を高分散させるため、原料として水溶性
の塩を使用するが、最終的に安定した酸化物とするた
め、必ず焼成処理する。更に、成形体とする場合は、そ
の強度向上のために焼成処理する。しかも、触媒の使用
時（接触反応時）は常時加熱処理する。この様に、触媒
にとっては加熱処理は避けられず、それにより、担体の
結晶化が進行する。そして、担体の結晶化が進行した場
合は、活性成分の凝縮が起こり、その分散状態が悪化
し、触媒性能の低下が惹起される。ところが、ＷＯ3−
ＴｉＯ2２元系複合酸化物担体は、上記の様に、加熱に
よる結晶化、すなわち、触媒性能の低下が抑制される。
換言すれば、触媒性能が相対的に向上する。斯かる効果
は、特に接触反応の温度が低い場合に顕著である。
【００２３】ＴｉＯ2にＷＯ3が高分散しているか否かの
確認は、以下に説明する様にＸ線回折によって行なうこ
とが出来る。
確認は、以下に説明する様にＸ線回折によって行なうこ
とが出来る。
【００２４】Ｘ線回折スペクトルにおいて、ピーク強度
はＷＯ3の含有量によって変化するが、ＷＯ3結晶が存在
する場合は２θ＝２３．５°の位置にピークが出現す
る。逆に、ＷＯ3が多量に存在する場合でもＷＯ3単独と
してではなく、ＴｉＯ2に高分散したＷＯ3として存在す
る場合は、２θ＝２３．５°の位置にピークは出現せ
ず、試薬特級アナターゼ型ＴｉＯ2と同じ位置にのみピ
ークが出現する。従って、Ｘ線回折スペクトルにおい
て、ＷＯ3のピークである２θ＝２３．５°のピーク強
度が、アナターゼ型ＴｉＯ2のピークである２θ＝２
５．３°のピーク強度に対し、１／１００以下の値であ
れば、高分散していると十分に判断することが出来る。
はＷＯ3の含有量によって変化するが、ＷＯ3結晶が存在
する場合は２θ＝２３．５°の位置にピークが出現す
る。逆に、ＷＯ3が多量に存在する場合でもＷＯ3単独と
してではなく、ＴｉＯ2に高分散したＷＯ3として存在す
る場合は、２θ＝２３．５°の位置にピークは出現せ
ず、試薬特級アナターゼ型ＴｉＯ2と同じ位置にのみピ
ークが出現する。従って、Ｘ線回折スペクトルにおい
て、ＷＯ3のピークである２θ＝２３．５°のピーク強
度が、アナターゼ型ＴｉＯ2のピークである２θ＝２
５．３°のピーク強度に対し、１／１００以下の値であ
れば、高分散していると十分に判断することが出来る。
【００２５】また、ＷＯ3が結晶格子の空間に入ること
によりＴｉＯ2の結晶格子はある方向に広がる。すなわ
ち、ＷＯ3−ＴｉＯ2２元系複合酸化物担体は、純粋なア
ナターゼ型ＴｉＯ2と実質的同一のＸ線回折スペクトル
を示し且つ格子面間隔がアナターゼ型ＴｉＯ2より２θ
で０．０５°以上大きくなり、（２，０，０）面と
（２，１，１）面とが広がっている。
によりＴｉＯ2の結晶格子はある方向に広がる。すなわ
ち、ＷＯ3−ＴｉＯ2２元系複合酸化物担体は、純粋なア
ナターゼ型ＴｉＯ2と実質的同一のＸ線回折スペクトル
を示し且つ格子面間隔がアナターゼ型ＴｉＯ2より２θ
で０．０５°以上大きくなり、（２，０，０）面と
（２，１，１）面とが広がっている。
【００２６】ＷＯ3−ＴｉＯ2２元系複合酸化物担体にお
けるＷＯ3の割合は、通常１〜２０重量％、好ましくは
５〜１５重量％である。ＷＯ3の割合が１重量％より少
ない場合は、ＷＯ3の高分散による前述の効果が発現さ
れず、２０重量％を超える場合は、ＷＯ3の高分散が困
難となる。
けるＷＯ3の割合は、通常１〜２０重量％、好ましくは
５〜１５重量％である。ＷＯ3の割合が１重量％より少
ない場合は、ＷＯ3の高分散による前述の効果が発現さ
れず、２０重量％を超える場合は、ＷＯ3の高分散が困
難となる。
【００２７】本発明において、塩素化有機化合物分解触
媒の活性成分は、通常、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｍｎ、Ｆｅ、
Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｐｄ、Ｙ、Ｃｅ、Ｎｄ、Ｗ、
Ｉｎ及びＩｒの群から選ばれる少なくとも１種の金属お
よび／またはその酸化物である。これらの中では、バナ
ジウム（Ｖ）酸化物が安価であり且つ塩素化有機化合物
の分解率が高いために好適に使用される。
媒の活性成分は、通常、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｍｎ、Ｆｅ、
Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｐｄ、Ｙ、Ｃｅ、Ｎｄ、Ｗ、
Ｉｎ及びＩｒの群から選ばれる少なくとも１種の金属お
よび／またはその酸化物である。これらの中では、バナ
ジウム（Ｖ）酸化物が安価であり且つ塩素化有機化合物
の分解率が高いために好適に使用される。
【００２８】上記のバナジウム酸化物の原料としては、
特に制限されないが、五酸化バナジウム（Ｖ2Ｏ5）又は
メタバナジン酸アンモニウム（ＮＨ4ＶＯ3）が好適に使
用される。これらの原料は、通常、シュウ酸水溶液また
はモノエタノールアミン水溶液に溶解して原料液として
使用される。塩素化有機化合物分解触媒中のバナジウム
酸化物の含有量は、活性成分として単独使用する他、触
媒の使用方法などによって異なるが、通常０．１〜３０
重量％、好ましくは０．１〜２０重量％である。
特に制限されないが、五酸化バナジウム（Ｖ2Ｏ5）又は
メタバナジン酸アンモニウム（ＮＨ4ＶＯ3）が好適に使
用される。これらの原料は、通常、シュウ酸水溶液また
はモノエタノールアミン水溶液に溶解して原料液として
使用される。塩素化有機化合物分解触媒中のバナジウム
酸化物の含有量は、活性成分として単独使用する他、触
媒の使用方法などによって異なるが、通常０．１〜３０
重量％、好ましくは０．１〜２０重量％である。
【００２９】上記の金属活性成分を使用する場合、活性
成分の水溶液と担体とをよく混合して成形した後に焼成
するか、成形した担体基材に活性成分の水溶液を含浸さ
せた後に焼成する方法により、触媒を調製する。そし
て、例えば銅を使用する場合は、硝酸銅を水に溶解して
活性成分の水溶液を調製する。
成分の水溶液と担体とをよく混合して成形した後に焼成
するか、成形した担体基材に活性成分の水溶液を含浸さ
せた後に焼成する方法により、触媒を調製する。そし
て、例えば銅を使用する場合は、硝酸銅を水に溶解して
活性成分の水溶液を調製する。
【００３０】また、触媒の形状および大きさは、塩素化
有機化合物含有ガス中におけるダストの有無、処理ガス
量、反応器の大きさ等により、適宜選択される。触媒の
形状としては、ハニカム状、円柱状、球状、板状などが
挙げられる。
有機化合物含有ガス中におけるダストの有無、処理ガス
量、反応器の大きさ等により、適宜選択される。触媒の
形状としては、ハニカム状、円柱状、球状、板状などが
挙げられる。
【００３１】担体に活性成分が担持されたハニカム形状
の触媒を製造する方法として、（ａ）担体成分と活性成
分またはその原料を成形助材と共に混練した後に、押出
成形法など によりハニカム状の形状に賦形する方法、
（ｂ）ハニカム形状の基材上に担体成分および活性成分
を含浸・担持する方法を挙げることが出来る。上述の製
造方法（ａ）の１例として、以下の方法が例示される。
の触媒を製造する方法として、（ａ）担体成分と活性成
分またはその原料を成形助材と共に混練した後に、押出
成形法など によりハニカム状の形状に賦形する方法、
（ｂ）ハニカム形状の基材上に担体成分および活性成分
を含浸・担持する方法を挙げることが出来る。上述の製
造方法（ａ）の１例として、以下の方法が例示される。
【００３２】（１）メタバナジン酸アンモニウムを約１
０重量％モノエタノールアミン水溶液に溶解する。 （２）硫酸チタン溶液を熱加水分解してメタチタン酸ス
ラリーを得る。 （３）メタチタン酸スラリーに１５重量％アンモニア水
を加えてｐＨ調整した後、リフラックス処理を１時間以
上行なう。 （４）パラタングステン酸アンモニウムを加え、更に、
リフラックス処理を１時間以上行なう。 （５）得られたスラリーを濾過し、得られたケーキを５
０〜１５０℃の温度で３〜５０時間乾燥した後、４００
〜６５０℃の温度で焼成し、冷却後に粉砕する。 （６）得られた粉末状のＷＯ3−ＴｉＯ2２元系複合酸化
物担体と上記の（１）で調製した水溶液とをニーダーで
混練する。
０重量％モノエタノールアミン水溶液に溶解する。 （２）硫酸チタン溶液を熱加水分解してメタチタン酸ス
ラリーを得る。 （３）メタチタン酸スラリーに１５重量％アンモニア水
を加えてｐＨ調整した後、リフラックス処理を１時間以
上行なう。 （４）パラタングステン酸アンモニウムを加え、更に、
リフラックス処理を１時間以上行なう。 （５）得られたスラリーを濾過し、得られたケーキを５
０〜１５０℃の温度で３〜５０時間乾燥した後、４００
〜６５０℃の温度で焼成し、冷却後に粉砕する。 （６）得られた粉末状のＷＯ3−ＴｉＯ2２元系複合酸化
物担体と上記の（１）で調製した水溶液とをニーダーで
混練する。
【００３３】（７）（ｉ）更に成形助材を加えて混練し
た混練物を押出成形し、５０〜１５０℃の温度で３〜５
０時間乾燥した後、ＳＶ１００〜２０００Ｈｒ-1の空気
気流中、４５０〜６５０℃の温度で焼成する、または
（ ii ）混練物を５０〜１５０℃の温度で３〜５０時間
乾燥し、４５０〜６５０℃の温度で焼成した後、成形助
材を加えて成形する。
た混練物を押出成形し、５０〜１５０℃の温度で３〜５
０時間乾燥した後、ＳＶ１００〜２０００Ｈｒ-1の空気
気流中、４５０〜６５０℃の温度で焼成する、または
（ ii ）混練物を５０〜１５０℃の温度で３〜５０時間
乾燥し、４５０〜６５０℃の温度で焼成した後、成形助
材を加えて成形する。
【００３４】また、上述の製造方法（ｂ）の１例とし
て、次の方法が例示される。すなわち、円柱状、球状、
ハニカム状、板状など 、所望の形状の基材上に上記の
（２）〜（５）で調製した担体成分をコーティングし、
上記の（１）で調製した水溶液を塗布して活性成分を含
浸させ、５０〜１５０℃で３〜５０時間乾燥した後、４
５０〜６５０℃の温度で焼成する。
て、次の方法が例示される。すなわち、円柱状、球状、
ハニカム状、板状など 、所望の形状の基材上に上記の
（２）〜（５）で調製した担体成分をコーティングし、
上記の（１）で調製した水溶液を塗布して活性成分を含
浸させ、５０〜１５０℃で３〜５０時間乾燥した後、４
５０〜６５０℃の温度で焼成する。
【００３５】基材上に形成された触媒の場合、基材とし
ては、ＴｉＯ2にＳｉＯ2やＡｌ2Ｏ3等を単独で又は併用
して使用する。ＷＯ3−ＴｉＯ2２元系複合酸化物（担体
成分）の量は、担体成分と活性成分との合計量に対し、
通常７０〜９９重量％である。また、担体成分と活性成
分との合計量は、基材、担体成分および活性成分の総量
に対し、通常５〜７０重量％、好ましくは１０〜５０重
量％である。
ては、ＴｉＯ2にＳｉＯ2やＡｌ2Ｏ3等を単独で又は併用
して使用する。ＷＯ3−ＴｉＯ2２元系複合酸化物（担体
成分）の量は、担体成分と活性成分との合計量に対し、
通常７０〜９９重量％である。また、担体成分と活性成
分との合計量は、基材、担体成分および活性成分の総量
に対し、通常５〜７０重量％、好ましくは１０〜５０重
量％である。
【００３６】混練・成形方法の様に添加した原料が全て
活性成分となる場合は、それぞれの金属塩など の原料
成分が対応する金属酸化物に変化したものとして、触媒
組成は添加量から推算する。また、含浸方法で製造され
た場合は、触媒をフッ化水素酸で処理した後、硫酸アン
モニウムで融解してプラズマ発光分析法（ＩＣＰ−ＡＥ
Ｓ分析法）により触媒組成を測定する。
活性成分となる場合は、それぞれの金属塩など の原料
成分が対応する金属酸化物に変化したものとして、触媒
組成は添加量から推算する。また、含浸方法で製造され
た場合は、触媒をフッ化水素酸で処理した後、硫酸アン
モニウムで融解してプラズマ発光分析法（ＩＣＰ−ＡＥ
Ｓ分析法）により触媒組成を測定する。
【００３７】本発明に係る塩素化有機化合物の分解方法
は、塩素化有機化合物含有ガスを上記の触媒と接触させ
る。塩素化有機化合物含有ガスとしては、例えば、２，
３，７，８−テトラクロロジベンゾダイオキシン及び
２，３，４，７，８−ペンタクロロジベンゾフランで代
表されるダイオキシン類や３，３’，４，４’，５−ペ
ンタクロロビフェニルで代表されるコプラナーＰＣＢ類
が約０．１〜２００ｎｇ／ｍ3（Ｎ．Ｔ．Ｐ）（毒性等
価換算値）含有され、更に、ダイオキシン類の前駆体物
質である、モノクロロベンゼン、トリクロロベンゼン等
のクロロベンゼン類、Ｏ−クロロフェノール、トリクロ
ロフェノール等のクロロフェノール類、クロロベンゾフ
ラン等が含有されたガス、具体的には、後述する燃焼排
ガスの処理方法における都市ごみや産業廃棄物などを燃
焼した際の排ガス等が挙げられる。斯かる塩素化有機化
合物含有ガスは、水分と共に酸素を含有し、その含有量
は、通常０．５〜２５ｖｏｌ％、好ましく１〜２１ｖｏ
ｌ％である。
は、塩素化有機化合物含有ガスを上記の触媒と接触させ
る。塩素化有機化合物含有ガスとしては、例えば、２，
３，７，８−テトラクロロジベンゾダイオキシン及び
２，３，４，７，８−ペンタクロロジベンゾフランで代
表されるダイオキシン類や３，３’，４，４’，５−ペ
ンタクロロビフェニルで代表されるコプラナーＰＣＢ類
が約０．１〜２００ｎｇ／ｍ3（Ｎ．Ｔ．Ｐ）（毒性等
価換算値）含有され、更に、ダイオキシン類の前駆体物
質である、モノクロロベンゼン、トリクロロベンゼン等
のクロロベンゼン類、Ｏ−クロロフェノール、トリクロ
ロフェノール等のクロロフェノール類、クロロベンゾフ
ラン等が含有されたガス、具体的には、後述する燃焼排
ガスの処理方法における都市ごみや産業廃棄物などを燃
焼した際の排ガス等が挙げられる。斯かる塩素化有機化
合物含有ガスは、水分と共に酸素を含有し、その含有量
は、通常０．５〜２５ｖｏｌ％、好ましく１〜２１ｖｏ
ｌ％である。
【００３８】上記の様な塩素化有機化合物含有ガスは、
通常、バッグフィルターに通じて粉塵や重金属などを除
去した後に接触工程に導入される。また、必要に応じ、
バッグフィルターで処理する前に消石灰反応塔で処理し
て酸性ガスを除去してもよい。
通常、バッグフィルターに通じて粉塵や重金属などを除
去した後に接触工程に導入される。また、必要に応じ、
バッグフィルターで処理する前に消石灰反応塔で処理し
て酸性ガスを除去してもよい。
【００３９】塩素化有機化合物含有ガスと触媒との接触
温度は、通常１００〜２５０℃、好ましくは１００〜２
００℃である。接触温度が２５０℃を超える場合は、塩
素化有機化合物の分解率も増加するが、分解されたダイ
オキシン類が再合成する問題と共に触媒層加熱用スチー
ムの節約の観点からも不利である。接触温度が１００℃
未満の場合は、運転上支障を来す結露が惹起される。触
媒層の圧力は、ゲージ圧として、通常−０．０５〜０．
９ＭＰａ、好ましくは−０．０１〜０．５ＭＰａであ
る。また、空間速度（ＳＶ）は、通常１００〜５０００
０Ｈｒ-1、好ましくは１０００〜２００００Ｈｒ-1であ
る。
温度は、通常１００〜２５０℃、好ましくは１００〜２
００℃である。接触温度が２５０℃を超える場合は、塩
素化有機化合物の分解率も増加するが、分解されたダイ
オキシン類が再合成する問題と共に触媒層加熱用スチー
ムの節約の観点からも不利である。接触温度が１００℃
未満の場合は、運転上支障を来す結露が惹起される。触
媒層の圧力は、ゲージ圧として、通常−０．０５〜０．
９ＭＰａ、好ましくは−０．０１〜０．５ＭＰａであ
る。また、空間速度（ＳＶ）は、通常１００〜５０００
０Ｈｒ-1、好ましくは１０００〜２００００Ｈｒ-1であ
る。
【００４０】次に、本発明に係る燃焼排ガスの処理方法
について説明する。この発明においては、触媒として、
塩素化有機化合物分解能とアンモニア存在下における窒
素酸化物分解能とを有し且つ以下に規定する二酸化イオ
ウの酸化転化率が１．３%以下の低酸化性能触媒（Ｘ）
と、ＷＯ3−ＴｉＯ2２元系複合酸化物担体に活性成分が
担持された触媒であって且つ触媒全量に対する担体の割
合が７０重量％以上であり、しかも、塩素化有機化合物
分解能を有し且つ以下に規定する二酸化イオウの酸化転
化率が３．０%以上の高酸化性能触媒（Ｙ）との２種類
を使用する。
について説明する。この発明においては、触媒として、
塩素化有機化合物分解能とアンモニア存在下における窒
素酸化物分解能とを有し且つ以下に規定する二酸化イオ
ウの酸化転化率が１．３%以下の低酸化性能触媒（Ｘ）
と、ＷＯ3−ＴｉＯ2２元系複合酸化物担体に活性成分が
担持された触媒であって且つ触媒全量に対する担体の割
合が７０重量％以上であり、しかも、塩素化有機化合物
分解能を有し且つ以下に規定する二酸化イオウの酸化転
化率が３．０%以上の高酸化性能触媒（Ｙ）との２種類
を使用する。
【００４１】＜二酸化イオウの酸化転化率＞圧力：常
圧、温度：２５０℃、ＳＶ（空間速度）：１８５０Ｈｒ
-1、触媒量：４５０ｍｌの条件下、Ｏ2１０乾体積%，Ｓ
Ｏ2５００ｐｐｍ，Ｈ2Ｏ：１０体積%，Ｎ2バランス量の
組成のガスを触媒が充填された反応管に供給し、反応管
出口のＳＯ3濃度とトータルＳＯXの濃度を求め、次式に
より二酸化イオウの酸化転化率（%）を算出する。
圧、温度：２５０℃、ＳＶ（空間速度）：１８５０Ｈｒ
-1、触媒量：４５０ｍｌの条件下、Ｏ2１０乾体積%，Ｓ
Ｏ2５００ｐｐｍ，Ｈ2Ｏ：１０体積%，Ｎ2バランス量の
組成のガスを触媒が充填された反応管に供給し、反応管
出口のＳＯ3濃度とトータルＳＯXの濃度を求め、次式に
より二酸化イオウの酸化転化率（%）を算出する。
【００４２】
【数３】 （出口ＳＯ3濃度／出口トータルＳＯX）×１００
【００４３】上記の様に規定された低酸化性能触媒
（Ｘ）は、排ガス中にアンモニアと二酸化イオウ（実際
は硫黄酸化物ＳＯXとＨ2Ｏ）が存在する場合において、
ＳＯ2やＳＯ3が物理的に吸着することはあっても、酸性
硫酸アンモニウムを殆ど生成しない特徴を有する。とこ
ろで、通常、二酸化イオウの酸化転化率が低い触媒は、
塩素化有機化合物の分解性能が低い。従って、低酸化性
能触媒（Ｘ）のみを使用した場合は、大量の触媒が塩素
化有機化合物の高い除去率のために必要となり、効率が
悪くなる。
（Ｘ）は、排ガス中にアンモニアと二酸化イオウ（実際
は硫黄酸化物ＳＯXとＨ2Ｏ）が存在する場合において、
ＳＯ2やＳＯ3が物理的に吸着することはあっても、酸性
硫酸アンモニウムを殆ど生成しない特徴を有する。とこ
ろで、通常、二酸化イオウの酸化転化率が低い触媒は、
塩素化有機化合物の分解性能が低い。従って、低酸化性
能触媒（Ｘ）のみを使用した場合は、大量の触媒が塩素
化有機化合物の高い除去率のために必要となり、効率が
悪くなる。
【００４４】そこで、本発明においては、上記の様に規
定された高酸化性能触媒（Ｙ）、すなわち、塩素化有機
化合物の分解性能が高い触媒を使用することにより、換
言すれば、本発明に係る塩素化有機化合物の分解方法を
特定条件下に利用する（本発明に係る塩素化有機化合物
分解用触媒を二酸化イオウの酸化転化率３．０%以上に
修飾して利用する）ことにより、トータルとして比較的
少量の触媒量で塩素化有機化合物の高い除去率を達成し
ている。そして、高酸化性能触媒（Ｙ）の場合は、排ガ
ス中にアンモニアと二酸化イオウが存在すると、１００
〜２５０℃の温度において、酸性硫酸アンモニウムが生
成して触媒表面に付着して性能低下を惹起する。従っ
て、高酸化性能触媒（Ｙ）は、後述する通り、燃焼排ガ
ス中のアンモニア濃度が２０ｐｐｍ以下の条件で使用さ
れる。
定された高酸化性能触媒（Ｙ）、すなわち、塩素化有機
化合物の分解性能が高い触媒を使用することにより、換
言すれば、本発明に係る塩素化有機化合物の分解方法を
特定条件下に利用する（本発明に係る塩素化有機化合物
分解用触媒を二酸化イオウの酸化転化率３．０%以上に
修飾して利用する）ことにより、トータルとして比較的
少量の触媒量で塩素化有機化合物の高い除去率を達成し
ている。そして、高酸化性能触媒（Ｙ）の場合は、排ガ
ス中にアンモニアと二酸化イオウが存在すると、１００
〜２５０℃の温度において、酸性硫酸アンモニウムが生
成して触媒表面に付着して性能低下を惹起する。従っ
て、高酸化性能触媒（Ｙ）は、後述する通り、燃焼排ガ
ス中のアンモニア濃度が２０ｐｐｍ以下の条件で使用さ
れる。
【００４５】低酸化性能触媒（Ｘ）の二酸化イオウの酸
化転化率は、酸性硫酸アンモニウムの生成を一層確実に
防止する観点から０．８%以下が好ましく、高酸化性能
触媒（Ｙ）の二酸化イオウの酸化転化率は、塩素化有機
化合物の除去率を一層高める観点から、５%以上が好ま
しく、６%以上が更に好ましい。
化転化率は、酸性硫酸アンモニウムの生成を一層確実に
防止する観点から０．８%以下が好ましく、高酸化性能
触媒（Ｙ）の二酸化イオウの酸化転化率は、塩素化有機
化合物の除去率を一層高める観点から、５%以上が好ま
しく、６%以上が更に好ましい。
【００４６】上記の二酸化イオウの異なる酸化転化率
は、組成や種類の異なる触媒を使用すること等により達
成することが出来る。例えば、銅酸化物（ＣｕＯ）含有
量が５．０％以下の場合は低酸化性能触媒（Ｘ）、８．
５％以上の場合は高酸化性能触媒（Ｙ）が得られる。ま
た、Ｖ2Ｏ5含有量が２．５重量%以下の場合は低酸化性
能触媒（Ｘ）、３．５重量%以上の場合は高酸化性能触
媒（Ｙ）が得られる。
は、組成や種類の異なる触媒を使用すること等により達
成することが出来る。例えば、銅酸化物（ＣｕＯ）含有
量が５．０％以下の場合は低酸化性能触媒（Ｘ）、８．
５％以上の場合は高酸化性能触媒（Ｙ）が得られる。ま
た、Ｖ2Ｏ5含有量が２．５重量%以下の場合は低酸化性
能触媒（Ｘ）、３．５重量%以上の場合は高酸化性能触
媒（Ｙ）が得られる。
【００４７】先ず、低酸化性能触媒（Ｘ）について説明
する。この触媒は、通常、担体に活性成分を担持して形
成される。担体としては、特に制限されないが、ＳＯX
含有燃焼排ガスを処理する観点から、耐酸性に優れるＴ
ｉＯ2が好適に使用される。ＴｉＯ2は、ＴｉＯ2−Ｓｉ
Ｏ2、ＴｉＯ2−ＳｉＯ2−ＺｒＯ2、ＴｉＯ2−ＷＯ3−Ｓ
ｉＯ2等の複合酸化物であってもよい。
する。この触媒は、通常、担体に活性成分を担持して形
成される。担体としては、特に制限されないが、ＳＯX
含有燃焼排ガスを処理する観点から、耐酸性に優れるＴ
ｉＯ2が好適に使用される。ＴｉＯ2は、ＴｉＯ2−Ｓｉ
Ｏ2、ＴｉＯ2−ＳｉＯ2−ＺｒＯ2、ＴｉＯ2−ＷＯ3−Ｓ
ｉＯ2等の複合酸化物であってもよい。
【００４８】触媒の活性成分としては、前述の塩素化有
機化合物の分解方法におけるのと同様の成分、例えば、
Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｕ等の遷移金属の酸化物の
他、貴金属、ゼオライト等が挙げられる。これらの内、
バナジウム酸化物、銅酸化物、鉄酸化物および金が好ま
しい。更に、バナジウム酸化物を含有する触媒は、安価
であり、塩素化有機化合物の分解率が高く、しかも、ア
ンモニアの存在下に窒素酸化物が分解できるため、特に
好ましい。バナジウム酸化物の担持量は、上記と同様
に、通常は０．１〜３０重量%、好ましくは０．１〜２
０重量%である。
機化合物の分解方法におけるのと同様の成分、例えば、
Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｕ等の遷移金属の酸化物の
他、貴金属、ゼオライト等が挙げられる。これらの内、
バナジウム酸化物、銅酸化物、鉄酸化物および金が好ま
しい。更に、バナジウム酸化物を含有する触媒は、安価
であり、塩素化有機化合物の分解率が高く、しかも、ア
ンモニアの存在下に窒素酸化物が分解できるため、特に
好ましい。バナジウム酸化物の担持量は、上記と同様
に、通常は０．１〜３０重量%、好ましくは０．１〜２
０重量%である。
【００４９】また、低酸化性能触媒（Ｘ）としては、上
記の二酸化イオウの酸化転化率の条件を満足する限り、
前記の塩素化有機化合物分解用触媒と同様の触媒を使用
することも出来る。触媒の形状および大きさ、触媒の調
製方法などは、前記の塩素化有機化合物分解用触媒の場
合と同様である。
記の二酸化イオウの酸化転化率の条件を満足する限り、
前記の塩素化有機化合物分解用触媒と同様の触媒を使用
することも出来る。触媒の形状および大きさ、触媒の調
製方法などは、前記の塩素化有機化合物分解用触媒の場
合と同様である。
【００５０】次に、高酸化性能触媒（Ｙ）について説明
する。この触媒は、既に述べた様に、前記の塩素化有機
化合物分解用触媒を二酸化イオウの酸化転化率３．０%
以上に修飾したものである。
する。この触媒は、既に述べた様に、前記の塩素化有機
化合物分解用触媒を二酸化イオウの酸化転化率３．０%
以上に修飾したものである。
【００５１】次に、本発明の燃焼排ガスの処理方法につ
いて説明する。本発明においては、燃焼排ガスと低酸化
性能触媒および高酸化性能触媒との各接触工程を任意の
順序で且つ１００〜２５０℃の温度範囲で行う。接触温
度２５０℃以下の条件は、前述の様に分解されたダイオ
キシン等の再生成を防止する観点から規定された条件で
あり、接触温度１００℃以上の条件は、装置の運転に支
障を来す結露を確実に防止する観点から規定された条件
である。接触処理中の圧力は、ゲージ圧で通常−０．０
５〜０．９ＭＰａ、好ましくは−０．０１〜０．５ＭＰ
ａである。また、ＳＶは、通常１００〜５００００Ｈｒ
-1、好ましくは１０００〜２００００Ｈｒ-1である。
いて説明する。本発明においては、燃焼排ガスと低酸化
性能触媒および高酸化性能触媒との各接触工程を任意の
順序で且つ１００〜２５０℃の温度範囲で行う。接触温
度２５０℃以下の条件は、前述の様に分解されたダイオ
キシン等の再生成を防止する観点から規定された条件で
あり、接触温度１００℃以上の条件は、装置の運転に支
障を来す結露を確実に防止する観点から規定された条件
である。接触処理中の圧力は、ゲージ圧で通常−０．０
５〜０．９ＭＰａ、好ましくは−０．０１〜０．５ＭＰ
ａである。また、ＳＶは、通常１００〜５００００Ｈｒ
-1、好ましくは１０００〜２００００Ｈｒ-1である。
【００５２】本発明の処理方法が対象とする燃焼排ガス
としては、塩素化有機化合物、通常０．１ｐｐｍ以上の
ＮＯx、通常０．１ｐｐｍ以上のＳＯxを含有する排ガ
ス、例えば都市ごみや産業廃棄物などを燃焼した際の排
ガス等が挙げられる。この様な燃焼排ガスには、水分お
よび酸素と共に、前記のダイオキシン類およびコプラナ
ーＰＣＢ類が０．１〜２００ｎｇ／ｍ3（Ｎ．Ｔ．Ｐ）
（毒性等価換算値）含まれている。更に、前述の通り、
ダイオキシン類の前駆体である種々の塩素化有機化合物
も含まれている。
としては、塩素化有機化合物、通常０．１ｐｐｍ以上の
ＮＯx、通常０．１ｐｐｍ以上のＳＯxを含有する排ガ
ス、例えば都市ごみや産業廃棄物などを燃焼した際の排
ガス等が挙げられる。この様な燃焼排ガスには、水分お
よび酸素と共に、前記のダイオキシン類およびコプラナ
ーＰＣＢ類が０．１〜２００ｎｇ／ｍ3（Ｎ．Ｔ．Ｐ）
（毒性等価換算値）含まれている。更に、前述の通り、
ダイオキシン類の前駆体である種々の塩素化有機化合物
も含まれている。
【００５３】上記の燃焼排ガスは、通常、バッグフィル
ターに通じて粉塵や重金属などを除去した後に接触工程
に導入される。また、必要に応じ、バッグフィルターで
処理する前に消石灰反応塔で処理して酸性ガスを除去し
てもよい。
ターに通じて粉塵や重金属などを除去した後に接触工程
に導入される。また、必要に応じ、バッグフィルターで
処理する前に消石灰反応塔で処理して酸性ガスを除去し
てもよい。
【００５４】本発明において、低酸化性能触媒との接触
工程を先行させる場合、低酸化性能触媒との接触工程に
流入する燃焼排ガス中にアンモニアを導入するが、その
量は当該工程から流出する燃焼排ガス中のアンモニア濃
度が２０ｐｐｍ以下となる量に調節する。
工程を先行させる場合、低酸化性能触媒との接触工程に
流入する燃焼排ガス中にアンモニアを導入するが、その
量は当該工程から流出する燃焼排ガス中のアンモニア濃
度が２０ｐｐｍ以下となる量に調節する。
【００５５】すなわち、上記の場合、第１工程である低
酸化性能触媒との接触工程は、窒素酸化物の分解のた
め、アンモニアの存在下に行う。この際、酸性硫酸アン
モニウムは、触媒が低酸化性であるため、殆ど生成しな
い。従って、窒素酸化物の分解と同時に、塩素化有機化
合物は、低酸化性能触媒の能力に応じた高い水準で分解
される。燃焼排ガス中へのアンモニアの導入量は、上記
の条件下、窒素酸化物を高分解し得る様に決定される。
なお、燃焼排ガス中でのアンモニアの消費量は、燃焼排
ガスの温度および処理量、触媒の使用量およびガス接触
面積などで決定される。上記の第１工程から流出する燃
焼排ガス中に残存する塩素化有機化合物は、第２工程で
ある高酸化性能触媒との接触工程によって分解される。
この際、酸性硫酸アンモニウムは、燃焼排ガス中のアン
モニア濃度が２０ｐｐｍ以下に抑えられているため、殆
ど生成しない。
酸化性能触媒との接触工程は、窒素酸化物の分解のた
め、アンモニアの存在下に行う。この際、酸性硫酸アン
モニウムは、触媒が低酸化性であるため、殆ど生成しな
い。従って、窒素酸化物の分解と同時に、塩素化有機化
合物は、低酸化性能触媒の能力に応じた高い水準で分解
される。燃焼排ガス中へのアンモニアの導入量は、上記
の条件下、窒素酸化物を高分解し得る様に決定される。
なお、燃焼排ガス中でのアンモニアの消費量は、燃焼排
ガスの温度および処理量、触媒の使用量およびガス接触
面積などで決定される。上記の第１工程から流出する燃
焼排ガス中に残存する塩素化有機化合物は、第２工程で
ある高酸化性能触媒との接触工程によって分解される。
この際、酸性硫酸アンモニウムは、燃焼排ガス中のアン
モニア濃度が２０ｐｐｍ以下に抑えられているため、殆
ど生成しない。
【００５６】一方、本発明に係る燃焼排ガスの処理方法
において、高酸化性能触媒との接触工程を先行させる場
合、低酸化性能触媒との接触工程に流入する燃焼排ガス
中にアンモニアを導入する。
において、高酸化性能触媒との接触工程を先行させる場
合、低酸化性能触媒との接触工程に流入する燃焼排ガス
中にアンモニアを導入する。
【００５７】すなわち、上記の場合、第１工程である高
酸化性能触媒との接触工程は、塩素化有機化合物の分解
を行い、実質的に窒素酸化物の分解を行わないためアン
モニアの不存在下に行う。なお、窒素酸化物の一部分解
のため焼却炉内にアンモニアを導入している場合は、燃
焼排ガス中のアンモニア濃度が２０ｐｐｍ以下となる様
に焼却炉内に導入するアンモニア量を調節する。上記の
第１工程から流出する燃焼排ガス中の窒素酸化物は、第
２工程である低酸化性能触媒との接触工程によって分解
される。この際、酸性硫酸アンモニウムは、触媒が低酸
化性であるため、殆ど生成しない。従って、低酸化性能
触媒との接触工程に流入する燃焼排ガス（上記の第１工
程からの流出ガス）中に導入されるアンモニアの量は、
窒素酸化物を高分解し得る様に任意に決定される。
酸化性能触媒との接触工程は、塩素化有機化合物の分解
を行い、実質的に窒素酸化物の分解を行わないためアン
モニアの不存在下に行う。なお、窒素酸化物の一部分解
のため焼却炉内にアンモニアを導入している場合は、燃
焼排ガス中のアンモニア濃度が２０ｐｐｍ以下となる様
に焼却炉内に導入するアンモニア量を調節する。上記の
第１工程から流出する燃焼排ガス中の窒素酸化物は、第
２工程である低酸化性能触媒との接触工程によって分解
される。この際、酸性硫酸アンモニウムは、触媒が低酸
化性であるため、殆ど生成しない。従って、低酸化性能
触媒との接触工程に流入する燃焼排ガス（上記の第１工
程からの流出ガス）中に導入されるアンモニアの量は、
窒素酸化物を高分解し得る様に任意に決定される。
【００５８】上記の各接触工程における反応器の大きさ
及び形状は、本発明の目的を逸脱しない限り、任意に選
択することが出来る。また、各触媒は、別々の反応器に
充填しても、同一の反応器に異なる層として充填しても
よい。
及び形状は、本発明の目的を逸脱しない限り、任意に選
択することが出来る。また、各触媒は、別々の反応器に
充填しても、同一の反応器に異なる層として充填しても
よい。
【００５９】
【実施例】以下、本発明を実施例により詳細に説明する
が、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例に
より限定されるものではない。なお、以下の諸例で使用
した触媒（Ａ）〜（Ｈ）は次の様に調製した。
が、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例に
より限定されるものではない。なお、以下の諸例で使用
した触媒（Ａ）〜（Ｈ）は次の様に調製した。
【００６０】＜ＷＯ3−ＴｉＯ2２元系複合酸化物の調製
＞硫酸法による酸化チタンの製造工程より得られる硫酸
チタン溶液を熱加水分解してメタチタン酸を得、これを
酸化チタンとして７５５０ｇ取り出し、還流器付撹拌槽
に仕込み、これに１５重量％アンモニア水４７００ｇを
加えてｐＨを９．５に調整した後、９５℃にて１時間に
亘り十分な撹拌を行いつつ加熱熟成した。次いで、パラ
タングステン酸アンモニウム１０７０ｇを添加し、更
に、上記と同一条件の加熱熟成を１時間行なった。その
後、冷却してスラリーを取り出し、濾過脱水し、得られ
たケーキを１００℃で２０時間乾燥した後、６００℃ま
で７５℃／Ｈｒの速度で昇温し、同温度で５時間保持し
た。そして、冷却後、適当な粒度に粉砕した。
＞硫酸法による酸化チタンの製造工程より得られる硫酸
チタン溶液を熱加水分解してメタチタン酸を得、これを
酸化チタンとして７５５０ｇ取り出し、還流器付撹拌槽
に仕込み、これに１５重量％アンモニア水４７００ｇを
加えてｐＨを９．５に調整した後、９５℃にて１時間に
亘り十分な撹拌を行いつつ加熱熟成した。次いで、パラ
タングステン酸アンモニウム１０７０ｇを添加し、更
に、上記と同一条件の加熱熟成を１時間行なった。その
後、冷却してスラリーを取り出し、濾過脱水し、得られ
たケーキを１００℃で２０時間乾燥した後、６００℃ま
で７５℃／Ｈｒの速度で昇温し、同温度で５時間保持し
た。そして、冷却後、適当な粒度に粉砕した。
【００６１】＜触媒の調製＞ 触媒（Ａ）の調製：メタバナジン酸アンモニウム６４３
ｇを８０℃に加温した１０重量％モノエタノールアミン
水溶液６０００ｇに溶解して原料液（１）を調製した。
原料液（１）と、上記のＷＯ3−ＴｉＯ2２元系複合酸化
物粉末８５００ｇと成形助材１０００ｇとを双腕型ニー
ダーで２時間混練し、得られた混練物を押出機により口
径５ｍｍのハニカム構造に成形した。得られた成形物を
１３０℃の温度で２４時間乾燥し、次いでＳＶ１００Ｈ
ｒ-1、温度５００℃の条件下で３時間焼成し、表１に示
す触媒（Ａ）を得た。
ｇを８０℃に加温した１０重量％モノエタノールアミン
水溶液６０００ｇに溶解して原料液（１）を調製した。
原料液（１）と、上記のＷＯ3−ＴｉＯ2２元系複合酸化
物粉末８５００ｇと成形助材１０００ｇとを双腕型ニー
ダーで２時間混練し、得られた混練物を押出機により口
径５ｍｍのハニカム構造に成形した。得られた成形物を
１３０℃の温度で２４時間乾燥し、次いでＳＶ１００Ｈ
ｒ-1、温度５００℃の条件下で３時間焼成し、表１に示
す触媒（Ａ）を得た。
【００６２】触媒（Ｂ）の調製：上記の触媒（Ａ）の調
製において、焼成温度を６００℃に変更した以外は、触
媒（Ａ）の調製と同様にして表１に示す触媒（Ｂ）を得
た。
製において、焼成温度を６００℃に変更した以外は、触
媒（Ａ）の調製と同様にして表１に示す触媒（Ｂ）を得
た。
【００６３】触媒（Ｃ）の調製：上記の触媒（Ａ）の調
製において、焼成温度を７００℃に変更した以外は、触
媒（Ａ）の調製と同様にして表１に示す触媒（Ｃ）を得
た。
製において、焼成温度を７００℃に変更した以外は、触
媒（Ａ）の調製と同様にして表１に示す触媒（Ｃ）を得
た。
【００６４】触媒（Ｄ）の調製：上記の触媒（Ａ）の調
製において、メタバナジン酸アンモニウムの使用量を１
２９ｇ、前記のＷＯ3−ＴｉＯ2２元系複合酸化物粉末の
使用量を８９００ｇに変更した以外は、触媒（Ａ）の調
製と同様にして表１に示す触媒（Ｄ）を得た。
製において、メタバナジン酸アンモニウムの使用量を１
２９ｇ、前記のＷＯ3−ＴｉＯ2２元系複合酸化物粉末の
使用量を８９００ｇに変更した以外は、触媒（Ａ）の調
製と同様にして表１に示す触媒（Ｄ）を得た。
【００６５】触媒（Ｅ）の調製：上記の触媒（Ａ）の調
製において、原料液（１）にパラタングステン酸アンモ
ニウム１０７０ｇを加え、これと市販のＴｉＯ2粉末７
５５０ｇと成形助材１０００ｇとを混合して成形した以
外は、触媒（Ａ）の調製と同様にして表１に示す触媒
（Ｅ）を得た。
製において、原料液（１）にパラタングステン酸アンモ
ニウム１０７０ｇを加え、これと市販のＴｉＯ2粉末７
５５０ｇと成形助材１０００ｇとを混合して成形した以
外は、触媒（Ａ）の調製と同様にして表１に示す触媒
（Ｅ）を得た。
【００６６】触媒（Ｆ）の調製：上記の触媒（Ａ）の調
製において、原料液（１）にパラタングステン酸アンモ
ニウム１０７０ｇを加え、これと市販のＴｉＯ2粉末７
５５０ｇと成形助材１０００ｇとを混合して成形し、そ
して、焼成温度を６００℃に変更した以外は、触媒
（Ａ）の調製と同様にして表１に示す触媒（Ｆ）を得
た。
製において、原料液（１）にパラタングステン酸アンモ
ニウム１０７０ｇを加え、これと市販のＴｉＯ2粉末７
５５０ｇと成形助材１０００ｇとを混合して成形し、そ
して、焼成温度を６００℃に変更した以外は、触媒
（Ａ）の調製と同様にして表１に示す触媒（Ｆ）を得
た。
【００６７】触媒（Ｇ）の調製：上記の触媒（Ａ）の調
製において、原料液（１）にパラタングステン酸アンモ
ニウム１０７０ｇを加え、これと市販のＴｉＯ2粉末７
５５０ｇと成形助材１０００ｇとを混合して成形し、そ
して、焼成温度を７００℃に変更した以外は、触媒
（Ａ）の調製と同様にして表１に示す触媒（Ｇ）を得
た。
製において、原料液（１）にパラタングステン酸アンモ
ニウム１０７０ｇを加え、これと市販のＴｉＯ2粉末７
５５０ｇと成形助材１０００ｇとを混合して成形し、そ
して、焼成温度を７００℃に変更した以外は、触媒
（Ａ）の調製と同様にして表１に示す触媒（Ｇ）を得
た。
【００６８】触媒（Ｈ）の調製：メタバナジン酸アンモ
ニウム５１６ｇを８０℃に加温した１０重量％モノエタ
ノールアミン水溶液６０００ｇに溶解して原料液（２）
を調製した。原料液（２）にパラタングステン酸アンモ
ニウム１０７０ｇを加え、これと市販のＴｉＯ2粉末７
６５０ｇと成形助材１０００ｇとを混合し双腕型ニーダ
ーで２時間混練し、得られた混練物を押出機により口径
５ｍｍのハニカム構造に成形した。得られた成形物を１
３０℃の温度で２４時間乾燥し、次いでＳＶ１００Ｈｒ
-1、温度５００℃の条件下で３時間焼成し、表１に示す
触媒（Ｈ）を得た。
ニウム５１６ｇを８０℃に加温した１０重量％モノエタ
ノールアミン水溶液６０００ｇに溶解して原料液（２）
を調製した。原料液（２）にパラタングステン酸アンモ
ニウム１０７０ｇを加え、これと市販のＴｉＯ2粉末７
６５０ｇと成形助材１０００ｇとを混合し双腕型ニーダ
ーで２時間混練し、得られた混練物を押出機により口径
５ｍｍのハニカム構造に成形した。得られた成形物を１
３０℃の温度で２４時間乾燥し、次いでＳＶ１００Ｈｒ
-1、温度５００℃の条件下で３時間焼成し、表１に示す
触媒（Ｈ）を得た。
【００６９】＜二酸化イオウ酸化転化率の測定＞前記の
触媒の内、（Ａ）、（Ｄ）及び（Ｈ）をそれぞれ４５０
ｍｌ（縦および横方向に夫々６個の孔を有し且つ高さが
５００ｍｍのハニカム構造）のサンプルに加工して石英
ガラス製の反応管に充填した。次いで、管状型電気炉に
反応管を入れ、窒素ガスと酸素ガスを所定量流通させな
がら触媒の温度を２５０℃に保持した。次いで、所定濃
度となる様にＨ2ＯとＳＯ2ガスを添加した。ガス組成
は、Ｏ2１０乾体積%，ＳＯ2５００ｐｐｍ，Ｈ2Ｏ１０体
積%，Ｎ2バランス量であり、ガス調製量（速度）は８３
５Ｌ／Ｈｒ（ａｔ ０℃，１０１．３２５ＫＰａ）とし
た。
触媒の内、（Ａ）、（Ｄ）及び（Ｈ）をそれぞれ４５０
ｍｌ（縦および横方向に夫々６個の孔を有し且つ高さが
５００ｍｍのハニカム構造）のサンプルに加工して石英
ガラス製の反応管に充填した。次いで、管状型電気炉に
反応管を入れ、窒素ガスと酸素ガスを所定量流通させな
がら触媒の温度を２５０℃に保持した。次いで、所定濃
度となる様にＨ2ＯとＳＯ2ガスを添加した。ガス組成
は、Ｏ2１０乾体積%，ＳＯ2５００ｐｐｍ，Ｈ2Ｏ１０体
積%，Ｎ2バランス量であり、ガス調製量（速度）は８３
５Ｌ／Ｈｒ（ａｔ ０℃，１０１．３２５ＫＰａ）とし
た。
【００７０】前記の反応管に上記のガスを７０時間通過
させ、その後、反応管の出口のガスをサンプリングしＳ
Ｏ3濃度を測定した。次いで、再度、反応管の出口のガ
スをサンプリングしトータルＳＯX濃度を測定した。Ｓ
Ｏ3のサンプリングはスパイラル管式捕集管を使用して
ＳＯXの内ＳＯ3のみを捕集することによって行った。そ
して、捕集したＳＯ3は、水で洗い採り、ＪＩＳ Ｋ
０１０３の沈殿滴定法にて分析した。トータルＳＯXの
サンプリング及び分析は、ＪＩＳ Ｋ ０１０３の方法
によって行った。二酸化イオウの酸化転化率は次式によ
り求めた。
させ、その後、反応管の出口のガスをサンプリングしＳ
Ｏ3濃度を測定した。次いで、再度、反応管の出口のガ
スをサンプリングしトータルＳＯX濃度を測定した。Ｓ
Ｏ3のサンプリングはスパイラル管式捕集管を使用して
ＳＯXの内ＳＯ3のみを捕集することによって行った。そ
して、捕集したＳＯ3は、水で洗い採り、ＪＩＳ Ｋ
０１０３の沈殿滴定法にて分析した。トータルＳＯXの
サンプリング及び分析は、ＪＩＳ Ｋ ０１０３の方法
によって行った。二酸化イオウの酸化転化率は次式によ
り求めた。
【００７１】
【数４】 （出口ＳＯ3濃度／出口トータルＳＯX）×１００
【００７２】
【表１】
【００７３】＜Ｘ線回折＞触媒（Ａ）について測定を行
なった。Ｘ線回折装置としては理学電機社製「ＲＩＮＴ
１５００」を使用した。測定条件は、Ｃｕ管球、電圧４
０ＫＶ、電流２５０ｍＡ、サンプリング幅０．０２０
°、走査速度４．０００°／ｍｉｎ．発光スリット１
°、散乱スリット２°、受光スリット１°とした。Ｘ線
回折の測定結果を図１に示す。
なった。Ｘ線回折装置としては理学電機社製「ＲＩＮＴ
１５００」を使用した。測定条件は、Ｃｕ管球、電圧４
０ＫＶ、電流２５０ｍＡ、サンプリング幅０．０２０
°、走査速度４．０００°／ｍｉｎ．発光スリット１
°、散乱スリット２°、受光スリット１°とした。Ｘ線
回折の測定結果を図１に示す。
【００７４】＜面間隔測定＞触媒（Ａ）について測定を
行なった。粉砕後の試料２．５ｇにシリコン０．５ｇを
混合して成形し測定試料とした。Ｘ線回折装置としては
理学電機社製「ＲＩＮＴ１５００」を使用した。測定条
件は、測定範囲５２〜５８°、走査速度０．２°／ｍｉ
ｎ．とし、他の条件は上記と同一とした。混合したシリ
コンを内部標準物質とし、シリコンの測定値とＪＣＰＤ
Ｓファイル値のズレを「Ｘ線回折装置により発生したズ
レ」とし、その値をＴｉＯ2の測定値と文献値の差から
差し引いて装置による測定誤差を解消した。結果を表２
に示す。
行なった。粉砕後の試料２．５ｇにシリコン０．５ｇを
混合して成形し測定試料とした。Ｘ線回折装置としては
理学電機社製「ＲＩＮＴ１５００」を使用した。測定条
件は、測定範囲５２〜５８°、走査速度０．２°／ｍｉ
ｎ．とし、他の条件は上記と同一とした。混合したシリ
コンを内部標準物質とし、シリコンの測定値とＪＣＰＤ
Ｓファイル値のズレを「Ｘ線回折装置により発生したズ
レ」とし、その値をＴｉＯ2の測定値と文献値の差から
差し引いて装置による測定誤差を解消した。結果を表２
に示す。
【００７５】
【表２】
【００７６】＜触媒（Ａ）の特性＞触媒（Ａ）は、９．
５重量％のＷＯ3を含有し、そして、図１において、２
θ＝２３．５°の位置にピークが認められず、更に、表
２に示す様に、アナターゼ型ＴｉＯ2のＪＣＰＤＳデー
タより、（２，０，０）面で０．０９°、（２，１，
１）面で０．０８°ピークが低角側に移動し、２θが小
さくなっている。すなわち、面間隔が広くなっている。
これらのことから、触媒（Ａ）は、９．５重量％のＷＯ
3が高分散したＴｉＯ2を担体とする触媒であることが確
認できた。
５重量％のＷＯ3を含有し、そして、図１において、２
θ＝２３．５°の位置にピークが認められず、更に、表
２に示す様に、アナターゼ型ＴｉＯ2のＪＣＰＤＳデー
タより、（２，０，０）面で０．０９°、（２，１，
１）面で０．０８°ピークが低角側に移動し、２θが小
さくなっている。すなわち、面間隔が広くなっている。
これらのことから、触媒（Ａ）は、９．５重量％のＷＯ
3が高分散したＴｉＯ2を担体とする触媒であることが確
認できた。
【００７７】＜活性試験＞ガラス製反応器に上記の各触
媒を３０ｍｌ充填し、常圧固定床流通反応装置で活性試
験を行なった。触媒固定床の寸法は、縦２８ｍｍ、横２
８ｍｍ、高さ３８ｍｍであった。原料ガス組成は、ｏ−
クロルフェノール（ＯＣＰ）１００ｐｐｍ、Ｏ2１０ｖ
ｏｌ％、Ｈ2Ｏ１０ｖｏｌ％、Ｎ2バランス量の組成であ
った。原料ガスのＳＶは５０００Ｈｒ-1であった。１６
０℃、１８０℃、２００℃の各温度で５時間保持した
後、反応装置通過ガスをマイクロシリンジでサンプリン
グし、ガスクロマトグラフィーで分析した。分析は絶対
検量線法で行なった。
媒を３０ｍｌ充填し、常圧固定床流通反応装置で活性試
験を行なった。触媒固定床の寸法は、縦２８ｍｍ、横２
８ｍｍ、高さ３８ｍｍであった。原料ガス組成は、ｏ−
クロルフェノール（ＯＣＰ）１００ｐｐｍ、Ｏ2１０ｖ
ｏｌ％、Ｈ2Ｏ１０ｖｏｌ％、Ｎ2バランス量の組成であ
った。原料ガスのＳＶは５０００Ｈｒ-1であった。１６
０℃、１８０℃、２００℃の各温度で５時間保持した
後、反応装置通過ガスをマイクロシリンジでサンプリン
グし、ガスクロマトグラフィーで分析した。分析は絶対
検量線法で行なった。
【００７８】実施例１〜３ 触媒（Ａ）〜（Ｃ）を使用して活性試験を行なった。そ
の結果を表３に示す。
の結果を表３に示す。
【００７９】比較例１〜３ 触媒（Ｅ）〜（Ｇ）を使用して活性試験を行なった。そ
の結果を表３に示す。
の結果を表３に示す。
【００８０】
【表３】
【００８１】表３から明らかな様に、ＷＯ3−ＴｉＯ2２
元系複合酸化物担体を使用した実施例の触媒は、純粋な
ＴｉＯ2担体を使用した同一組成の触媒より、塩素化有
機化合物の分解能が高い。斯かる分解性能の差は、触媒
調製時の焼成温度が高かった実施例３（触媒（Ｃ）：焼
成温度７００℃）と比較例３（触媒（Ｇ）：焼成温度７
００℃）の比較において顕著であり、触媒の耐熱性の差
異が明確である。また、ＷＯ3−ＴｉＯ2２元系複合酸化
物担体を使用した実施例の触媒は、反応温度が低い１６
０℃においても塩素化有機化合物の分解能が高い。
元系複合酸化物担体を使用した実施例の触媒は、純粋な
ＴｉＯ2担体を使用した同一組成の触媒より、塩素化有
機化合物の分解能が高い。斯かる分解性能の差は、触媒
調製時の焼成温度が高かった実施例３（触媒（Ｃ）：焼
成温度７００℃）と比較例３（触媒（Ｇ）：焼成温度７
００℃）の比較において顕著であり、触媒の耐熱性の差
異が明確である。また、ＷＯ3−ＴｉＯ2２元系複合酸化
物担体を使用した実施例の触媒は、反応温度が低い１６
０℃においても塩素化有機化合物の分解能が高い。
【００８２】実施例４ ３ｃｍ×３ｃｍ×５０ｃｍのハニカム構造の触媒を充填
した内径５ｃｍ、長さ６０ｃｍのガラス製反応器を３本
直列に接続し、縦内径８０ｃｍ、横内径８０ｃｍ、高さ
１．５ｍの恒温槽内に設置した。前２本の反応器に触媒
（Ｄ）、後１本の反応器に触媒（Ａ）を充填して常圧固
定床流通反応装置を組み立てた。そして、この装置を使
用し、都市ゴミ焼却炉のモデル排ガスの処理試験を次の
要領で行った。
した内径５ｃｍ、長さ６０ｃｍのガラス製反応器を３本
直列に接続し、縦内径８０ｃｍ、横内径８０ｃｍ、高さ
１．５ｍの恒温槽内に設置した。前２本の反応器に触媒
（Ｄ）、後１本の反応器に触媒（Ａ）を充填して常圧固
定床流通反応装置を組み立てた。そして、この装置を使
用し、都市ゴミ焼却炉のモデル排ガスの処理試験を次の
要領で行った。
【００８３】温度２００℃、ＳＶ５０００Ｈｒ-1の条件
下、平均濃度８０ｐｐｍのアンモニアを添加しながら、
上記の装置に、平均濃度１ｎｇ−ＴＥＱ／ｍ3（Ｎ．
Ｔ．Ｐ）のダイオキシン類と平均濃度３０ｐｐｍのＳＯ
2と平均濃度８５ｐｐｍのＮＯxを含有するガスを通過さ
せた。アンモニアの添加量は、触媒（Ａ）の直前（前２
本の反応器の直後）のアンモニア濃度を測定し、その値
が２０ｐｐｍ以下となる様に調節した。
下、平均濃度８０ｐｐｍのアンモニアを添加しながら、
上記の装置に、平均濃度１ｎｇ−ＴＥＱ／ｍ3（Ｎ．
Ｔ．Ｐ）のダイオキシン類と平均濃度３０ｐｐｍのＳＯ
2と平均濃度８５ｐｐｍのＮＯxを含有するガスを通過さ
せた。アンモニアの添加量は、触媒（Ａ）の直前（前２
本の反応器の直後）のアンモニア濃度を測定し、その値
が２０ｐｐｍ以下となる様に調節した。
【００８４】処理後の排ガスの分析は、ガスクロマトグ
ラフィー質量分析法で「廃棄物処理におけるダイオキシ
ン類標準測定分析マニュアル」（厚生省生活衛生局水道
環境部環境整備課（平成９年２月））に準じて行った。
分析は通ガス後２週間後と４ヶ月後に行った。評価結果
を表４に示す。
ラフィー質量分析法で「廃棄物処理におけるダイオキシ
ン類標準測定分析マニュアル」（厚生省生活衛生局水道
環境部環境整備課（平成９年２月））に準じて行った。
分析は通ガス後２週間後と４ヶ月後に行った。評価結果
を表４に示す。
【００８５】実施例５ 実施例４において、常圧固定床流通反応装置を組み立て
る際、前１本に触媒（Ａ）、後２本に触媒（Ｄ）を充填
した。そして、アンモニアの添加位置を触媒（Ｄ）の直
前（前１本の直後）とし、アンモニア添加量を平均ＮＯ
ｘ濃度に対し、モル比（ＮＯｘ／ＮＨ3）で１とした以
外は、実施例４と同様にして都市ゴミ焼却炉のモデル排
ガスの処理試験を行った。評価結果を表５に示す。
る際、前１本に触媒（Ａ）、後２本に触媒（Ｄ）を充填
した。そして、アンモニアの添加位置を触媒（Ｄ）の直
前（前１本の直後）とし、アンモニア添加量を平均ＮＯ
ｘ濃度に対し、モル比（ＮＯｘ／ＮＨ3）で１とした以
外は、実施例４と同様にして都市ゴミ焼却炉のモデル排
ガスの処理試験を行った。評価結果を表５に示す。
【００８６】比較例４ 実施例４において、全３本に触媒（Ｈ）を使用して組み
立てた常圧固定床流通反応装置を使用し、前２本直後の
アンモニア濃度の測定結果に基づくアンモニア添加量の
調節を行なわなかったこと以外は、実施例４と同様な方
法でモデル排ガスの処理試験を行なった。評価結果を表
６に示す。
立てた常圧固定床流通反応装置を使用し、前２本直後の
アンモニア濃度の測定結果に基づくアンモニア添加量の
調節を行なわなかったこと以外は、実施例４と同様な方
法でモデル排ガスの処理試験を行なった。評価結果を表
６に示す。
【００８７】
【表４】
【００８８】
【表５】
【００８９】
【表６】
【００９０】
【発明の効果】以上説明した本発明によれば、、ＷＯ3
−ＴｉＯ2２元系複合酸化物担体を使用した触媒によ
り、より低温度でダイオキシン等の塩素化有機化合物を
高効率で分解することが出来る。また、本発明によれ
ば、一旦分解されたダイオキシン等が再生成することが
ない。更に、本発明によれば、硫黄酸化物から生成する
酸性硫酸アンモニウムを極力少なくすることにより、触
媒の経時的性能劣化が抑制されるため、燃焼排ガス中の
ダイオキシン等の塩素化有機化合物および窒素酸化物を
高効率で除去することが出来る。
−ＴｉＯ2２元系複合酸化物担体を使用した触媒によ
り、より低温度でダイオキシン等の塩素化有機化合物を
高効率で分解することが出来る。また、本発明によれ
ば、一旦分解されたダイオキシン等が再生成することが
ない。更に、本発明によれば、硫黄酸化物から生成する
酸性硫酸アンモニウムを極力少なくすることにより、触
媒の経時的性能劣化が抑制されるため、燃焼排ガス中の
ダイオキシン等の塩素化有機化合物および窒素酸化物を
高効率で除去することが出来る。
【図１】本発明に係る触媒（Ａ）のＸ線回折チャート
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 清野 健一 三重県四日市市東邦町１番地 三菱化学株 式会社四日市事業所内 (72)発明者 内田 雅昭 福岡県北九州市若松区北湊町13番２号 触 媒化成工業株式会社若松工場内 (72)発明者 足立 健太郎 福岡県北九州市若松区北湊町13番２号 触 媒化成工業株式会社若松工場内 (72)発明者 西井 一博 東京都港区芝五丁目34番６号 三菱化学エ ンジニアリング株式会社内 Ｆターム(参考） 4D048 AA02 AA06 AA11 AB02 AB03 AB05 AC04 BA07X BA07Y BA17Y BA18Y BA19Y BA23X BA23Y BA24Y BA25Y BA26Y BA27X BA27Y BA28Y BA31Y BA33Y BA34Y BA35Y BA36Y BA38Y BA41Y BA42X BA42Y BB02 CC46 4G069 AA03 AA08 BA04A BA04B BB04A BB06A BB06B BC18A BC31A BC32A BC33A BC40A BC41A BC43A BC54A BC54B BC58A BC59A BC60A BC60B BC62A BC66A BC68A BC72A BC74A CA02 CA08 CA10 CA12 CA13 CA19 DA06 EA19 EC22X EE09 FA02 FB05 FB15 FB67 FC08 4H006 AA05 AC13 AC26 BA05 BA08 BA09 BA10 BA12 BA14 BA16 BA19 BA21 BA22 BA25 BA30 BA55 BB61 BB62 BC10 BC18 BC19 BE30
Claims (8)
- 【請求項１】 塩素化有機化合物含有ガスを触媒と接触
させる塩素化有機化合物の分解方法であって、ＷＯ3−
ＴｉＯ2２元系複合酸化物担体に活性成分が担持された
触媒であって且つ触媒全量に対する担体の割合が７０重
量％以上である触媒を使用することを特徴とする塩素化
有機化合物の分解方法。 - 【請求項２】 ＷＯ3−ＴｉＯ2２元系複合酸化物担体
が、ＴｉＯ2含量が２０〜５０重量％の含水チタン酸に
可溶性タングステン化合物を加えて脱水した後に焼成し
て得られたものである請求項１に記載の分解方法。 - 【請求項３】 Ｘ線回折スペクトルにおいて、ＷＯ3の
ピークである２θ＝２３．５°のピーク強度が、アナタ
ーゼ型ＴｉＯ2のピークである２θ＝２５．３°のピー
ク強度に対し、１／１００以下の値である触媒を使用す
る請求項１又は２に記載の分解方法。 - 【請求項４】 アナターゼ型ＴｉＯ2と実質的同一のＸ
線回折スペクトルを示し且つアナターゼ型ＴｉＯ2より
２θで０．０５°以上低角度側に移動しているピークを
有し、面間隔が広がった格子面を有する触媒を使用する
請求項１〜３の何れかに記載の分解方法。 - 【請求項５】 ＷＯ3−ＴｉＯ2２元系複合酸化物担体に
おけるＷＯ3割合が１〜２０重量％である請求項１〜４
の何れかに記載の分解方法。 - 【請求項６】 触媒の活性成分が、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｍ
ｎ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｐｄ、Ｙ、Ｃｅ、
Ｎｄ、Ｗ、Ｉｎ及びＩｒの群から選ばれる少なくとも１
種の金属および／またはその酸化物である請求項１〜５
の何れかに記載の分解方法。 - 【請求項７】 塩素化有機化合物含有ガスと触媒との接
触温度が１００〜２５０℃である請求項１〜６の何れか
に記載の分解方法。 - 【請求項８】 塩素化有機化合物、二酸化イオウ及び窒
素酸化物を含有する燃焼排ガスの処理方法であって、次
の（ａ）〜（ｄ）の条件を満足することを特徴とする燃
焼排ガスの処理方法。 （ａ）触媒として、塩素化有機化合物分解能とアンモニ
ア存在下における窒素酸化物分解能とを有し且つ以下に
規定する二酸化イオウの酸化転化率が１．３%以下の低
酸化性能触媒（Ｘ）と、ＷＯ3−ＴｉＯ2２元系複合酸化
物担体に活性成分が担持された触媒であって且つ触媒全
量に対する担体の割合が７０重量％以上であり、しか
も、塩素化有機化合物分解能を有し且つ以下に規定する
二酸化イオウの酸化転化率が３．０%以上の高酸化性能
触媒（Ｙ）との２種類を使用する。 ＜二酸化イオウの酸化転化率＞圧力：常圧、温度：２５
０℃、ＳＶ（空間速度）：１８５０Ｈｒ-1、触媒量：４
５０ｍｌの条件下、Ｏ2１０乾体積%，ＳＯ2５００ｐｐ
ｍ，Ｈ2Ｏ：１０体積%，Ｎ2バランス量の組成のガスを
触媒が充填された反応管に供給し、反応管出口のＳＯ3
濃度とトータルＳＯXの濃度を求め、次式により二酸化
イオウの酸化転化率（%）を算出する。 【数１】 （出口ＳＯ3濃度／出口トータルＳＯX）×１００ （ｂ）燃焼排ガスと低酸化性能触媒および高酸化性能触
媒との各接触工程を任意の順序で且つ１００〜２５０℃
の温度範囲で行う。 （ｃ）低酸化性能触媒との接触工程を先行させる場合、
低酸化性能触媒との接触工程に流入する燃焼排ガス中に
アンモニアを導入するが、その量は当該工程から流出す
る燃焼排ガス中のアンモニア濃度が２０ｐｐｍ以下とな
る量に調節する。 （ｄ）高酸化性能触媒との接触工程を先行させる場合、
低酸化性能触媒との接触工程に流入する燃焼排ガス中に
アンモニアを導入する。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000104903A JP3868705B2 (ja) | 2000-04-06 | 2000-04-06 | 燃焼排ガスの処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000104903A JP3868705B2 (ja) | 2000-04-06 | 2000-04-06 | 燃焼排ガスの処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001286733A true JP2001286733A (ja) | 2001-10-16 |
| JP3868705B2 JP3868705B2 (ja) | 2007-01-17 |
Family
ID=18618365
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000104903A Expired - Lifetime JP3868705B2 (ja) | 2000-04-06 | 2000-04-06 | 燃焼排ガスの処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3868705B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20110089268A (ko) * | 2008-11-12 | 2011-08-05 | 라이온델 케미칼 테크놀로지, 엘.피. | 지지된 팔라듐-금 촉매 및 이를 이용한 아세트산비닐의 제조 |
| CN101676019B (zh) * | 2008-09-17 | 2012-05-23 | 河北晶锐瓷业有限公司 | 一种氨气选择性催化还原(scr)电厂烟气低温脱硝的催化剂及其制备方法 |
| US8273682B2 (en) | 2009-12-16 | 2012-09-25 | Lyondell Chemical Technology, L.P. | Preparation of palladium-gold catalyst |
| US8329611B2 (en) | 2009-12-16 | 2012-12-11 | Lyondell Chemical Technology, L,P. | Titania-containing extrudate |
| US8507720B2 (en) | 2010-01-29 | 2013-08-13 | Lyondell Chemical Technology, L.P. | Titania-alumina supported palladium catalyst |
| CN110586073A (zh) * | 2019-10-23 | 2019-12-20 | 中国科学院兰州化学物理研究所 | 一种用于催化氧化消除窑炉烟气中二噁英的催化剂及其制备方法 |
-
2000
- 2000-04-06 JP JP2000104903A patent/JP3868705B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101676019B (zh) * | 2008-09-17 | 2012-05-23 | 河北晶锐瓷业有限公司 | 一种氨气选择性催化还原(scr)电厂烟气低温脱硝的催化剂及其制备方法 |
| KR20110089268A (ko) * | 2008-11-12 | 2011-08-05 | 라이온델 케미칼 테크놀로지, 엘.피. | 지지된 팔라듐-금 촉매 및 이를 이용한 아세트산비닐의 제조 |
| CN102245296A (zh) * | 2008-11-12 | 2011-11-16 | 莱昂德尔化学技术公司 | 负载型钯-金催化剂及乙酸乙烯酯的制备 |
| KR101699559B1 (ko) * | 2008-11-12 | 2017-01-24 | 라이온델 케미칼 테크놀로지, 엘.피. | 지지된 팔라듐-금 촉매 및 이를 이용한 아세트산비닐의 제조 |
| US8273682B2 (en) | 2009-12-16 | 2012-09-25 | Lyondell Chemical Technology, L.P. | Preparation of palladium-gold catalyst |
| US8329611B2 (en) | 2009-12-16 | 2012-12-11 | Lyondell Chemical Technology, L,P. | Titania-containing extrudate |
| US8507720B2 (en) | 2010-01-29 | 2013-08-13 | Lyondell Chemical Technology, L.P. | Titania-alumina supported palladium catalyst |
| CN110586073A (zh) * | 2019-10-23 | 2019-12-20 | 中国科学院兰州化学物理研究所 | 一种用于催化氧化消除窑炉烟气中二噁英的催化剂及其制备方法 |
| CN110586073B (zh) * | 2019-10-23 | 2022-03-25 | 中国科学院兰州化学物理研究所 | 一种用于催化氧化消除窑炉烟气中二噁英的催化剂及其制备方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3868705B2 (ja) | 2007-01-17 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100418225B1 (ko) | 유기 할로겐화합물 제거용 촉매 및 유기 할로겐화합물의제거방법 | |
| JP4113090B2 (ja) | 排ガス処理方法 | |
| JP4098703B2 (ja) | 窒素酸化物除去用触媒および窒素酸化物除去方法 | |
| KR100456748B1 (ko) | 배기가스 처리용 촉매, 그 제조방법 및 배기가스 처리방법 | |
| EP1112772B1 (en) | Process for disposing of exhaust gases | |
| JP3860707B2 (ja) | 燃焼排ガスの処理方法 | |
| JP2001286733A (ja) | 塩素化有機化合物の分解方法および燃焼排ガスの処理方法 | |
| JP2006320803A (ja) | 排ガス処理触媒および排ガス処理方法 | |
| JP3860708B2 (ja) | 燃焼排ガスの処理方法 | |
| KR100382050B1 (ko) | 배가스 내의 다이옥신 및 질소산화물 제거용 저온 촉매 및이를 이용한 연소배가스의 처리방법 | |
| JP3785310B2 (ja) | 有機ハロゲン化合物分解触媒、その製造方法、および用途 | |
| JP4098698B2 (ja) | 排ガス処理方法 | |
| JP3860706B2 (ja) | 燃焼排ガスの処理方法 | |
| JP4182697B2 (ja) | 塩素化有機化合物分解用触媒およびその製造法 | |
| JP2006116537A (ja) | 排ガスの処理方法 | |
| JP3860734B2 (ja) | 排ガス処理用触媒、および排ガス処理方法 | |
| JP4348912B2 (ja) | 塩素化有機化合物分解用触媒および塩素化有機化合物の分解方法 | |
| JP6016572B2 (ja) | 排ガス処理触媒および排ガス処理方法 | |
| JP2004130179A (ja) | 塩素化有機化合物分解用触媒および塩素化有機化合物の分解方法 | |
| JP4283092B2 (ja) | 排ガス処理用触媒および排ガス処理方法 | |
| JP3739032B2 (ja) | 有機ハロゲン化合物の除去用触媒、その製造方法および有機ハロゲン化合物の除去方法 | |
| JP4173707B2 (ja) | 有機ハロゲン化合物除去用触媒および有機ハロゲン化合物除去方法 | |
| JP2005021780A (ja) | 排ガス処理触媒の製造方法 | |
| JP2000042409A (ja) | 塩素化有機化合物分解用触媒および燃焼排ガスの処理方法 | |
| JP2004113850A (ja) | 塩素化有機化合物分解用触媒および塩素化有機化合物の分解方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20050425 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060425 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060608 |
|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20060703 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20060704 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060801 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060907 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060908 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20061003 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20061011 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 3868705 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101020 Year of fee payment: 4 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111020 Year of fee payment: 5 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121020 Year of fee payment: 6 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131020 Year of fee payment: 7 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |