JP2001270708A - 希ガスの回収方法 - Google Patents
希ガスの回収方法Info
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- JP2001270708A JP2001270708A JP2000090834A JP2000090834A JP2001270708A JP 2001270708 A JP2001270708 A JP 2001270708A JP 2000090834 A JP2000090834 A JP 2000090834A JP 2000090834 A JP2000090834 A JP 2000090834A JP 2001270708 A JP2001270708 A JP 2001270708A
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- Y02C—CAPTURE, STORAGE, SEQUESTRATION OR DISPOSAL OF GREENHOUSE GASES [GHG]
- Y02C20/00—Capture or disposal of greenhouse gases
- Y02C20/40—Capture or disposal of greenhouse gases of CO2
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/151—Reduction of greenhouse gas [GHG] emissions, e.g. CO2
Landscapes
- Separation Of Gases By Adsorption (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 簡単なプロセスで放射性排気ガスから少量の
吸着剤により効率よく高純度のキセノンを回収するとと
もに、クリプトンを高濃度に濃縮する方法を提供するこ
と 【解決手段】 キセノンおよびクリプトンを含有する放
射性排気ガスを、先ずNOx除去塔2、水分除去塔3、炭酸
ガス除去塔4で水分、炭酸ガス、NOxを除去する。そし
て、キセノン濃縮塔5に導入してキセノン濃縮ガスとな
し、触媒塔7、除去塔8に導入して炭化水素類を除去す
る。一方、キセノン濃縮塔5をスルーしたガスをクリプ
トン濃縮塔13に導入し、クリプトン濃縮ガスとなし、触
媒塔15、除去塔16に導入して炭化水素類を除去する。炭
化水素類を除去したキセノン濃縮ガスおよびクリプトン
濃縮ガスを、キセノン精製塔9、10、11およびクリプト
ン精製塔17、19で精製および濃縮する。
吸着剤により効率よく高純度のキセノンを回収するとと
もに、クリプトンを高濃度に濃縮する方法を提供するこ
と 【解決手段】 キセノンおよびクリプトンを含有する放
射性排気ガスを、先ずNOx除去塔2、水分除去塔3、炭酸
ガス除去塔4で水分、炭酸ガス、NOxを除去する。そし
て、キセノン濃縮塔5に導入してキセノン濃縮ガスとな
し、触媒塔7、除去塔8に導入して炭化水素類を除去す
る。一方、キセノン濃縮塔5をスルーしたガスをクリプ
トン濃縮塔13に導入し、クリプトン濃縮ガスとなし、触
媒塔15、除去塔16に導入して炭化水素類を除去する。炭
化水素類を除去したキセノン濃縮ガスおよびクリプトン
濃縮ガスを、キセノン精製塔9、10、11およびクリプト
ン精製塔17、19で精製および濃縮する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、キセノンおよび
クリプトンを含有する放射性排気ガスから吸着法を主体
としてキセノンおよびクリプトンを濃縮させることを繰
り返し、高純度のキセノンおよびクリプトンを回収する
方法に関する。特に、原子力発電の燃料再処理プラント
から排気されるガス中に含まれ、産業上有用なキセノン
を効率よく分離回収するとともに、人体に重大な危険性
のある放射性核種85Krを含有するKrをその貯蔵に必要な
濃度まで濃縮する方法に関する。
クリプトンを含有する放射性排気ガスから吸着法を主体
としてキセノンおよびクリプトンを濃縮させることを繰
り返し、高純度のキセノンおよびクリプトンを回収する
方法に関する。特に、原子力発電の燃料再処理プラント
から排気されるガス中に含まれ、産業上有用なキセノン
を効率よく分離回収するとともに、人体に重大な危険性
のある放射性核種85Krを含有するKrをその貯蔵に必要な
濃度まで濃縮する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】原子力発電の燃料再処理プラントは、使
用済み核燃料からプルトニウムや残存ウランを取出し、
核分裂生成物質を分離処理することを目的としたプラン
トである。原子力発電に使われる核燃料棒は、金属で被
覆されているが、使用済み核燃料棒の中にはウランが核
分裂を起こした際に生成するキセノンやクリプトンが閉
じ込められている。
用済み核燃料からプルトニウムや残存ウランを取出し、
核分裂生成物質を分離処理することを目的としたプラン
トである。原子力発電に使われる核燃料棒は、金属で被
覆されているが、使用済み核燃料棒の中にはウランが核
分裂を起こした際に生成するキセノンやクリプトンが閉
じ込められている。
【0003】燃料再処理プラントでは、燃料棒を切断したの
ち、硝酸溶液で溶解する。燃料棒の切断工程では、空気
を吹き込み、溶解工程では発生するNOxを抑制する目的
で酸素ガスが吹き込まれる。したがって、核燃料再処理
プラントからの排気ガスの主成分は、窒素と酸素であ
る。また、切断工程や溶解工程では、キセノンやクリプ
トンが雰囲気ガス中に放出されるので、再処理プラント
からの排気ガス中にはキセノンやクリプトンが含まれ
る。
ち、硝酸溶液で溶解する。燃料棒の切断工程では、空気
を吹き込み、溶解工程では発生するNOxを抑制する目的
で酸素ガスが吹き込まれる。したがって、核燃料再処理
プラントからの排気ガスの主成分は、窒素と酸素であ
る。また、切断工程や溶解工程では、キセノンやクリプ
トンが雰囲気ガス中に放出されるので、再処理プラント
からの排気ガス中にはキセノンやクリプトンが含まれ
る。
【0004】キセノンやクリプトンの半減期は、キセノンに
ついては133Xeが5.27日であるのに対し、クリプトンに
おいては85Krが10.76年と長い。このうち、キセノン
は、空気中に約0.1ppmと極めて微量しか存在していない
貴重なガスであり、ランプ用封入ガス、医療用吸入ガ
ス、宇宙ロケットの姿勢制御用燃料等に使用されている
有用な物質である。核燃料再処理プラントの排気ガスか
らキセノンを回収した際、クリプトンが不純物として含
まれることは避けられないが、キセノンを産業に利用す
る場合には、85Krの含有率を極力下げて自然界に存在す
る放射能量以下にする必要がある。
ついては133Xeが5.27日であるのに対し、クリプトンに
おいては85Krが10.76年と長い。このうち、キセノン
は、空気中に約0.1ppmと極めて微量しか存在していない
貴重なガスであり、ランプ用封入ガス、医療用吸入ガ
ス、宇宙ロケットの姿勢制御用燃料等に使用されている
有用な物質である。核燃料再処理プラントの排気ガスか
らキセノンを回収した際、クリプトンが不純物として含
まれることは避けられないが、キセノンを産業に利用す
る場合には、85Krの含有率を極力下げて自然界に存在す
る放射能量以下にする必要がある。
【0005】一方、環境や人体への安全上の観点からは、放
射性物質である85Krをできるだけ大気に放出しないこと
が望まれているが、実際には85Krのみを濃縮することは
困難であるため、他の核種を全て含むKrを対象としてそ
の濃縮に関する技術開発が進められている。
射性物質である85Krをできるだけ大気に放出しないこと
が望まれているが、実際には85Krのみを濃縮することは
困難であるため、他の核種を全て含むKrを対象としてそ
の濃縮に関する技術開発が進められている。
【0006】原子力発電の核燃料再処理プラントから排出さ
れるガス中の希ガスを回収する方法としては、主として
液化蒸留法と吸着法の二つの方法が提案されている。
れるガス中の希ガスを回収する方法としては、主として
液化蒸留法と吸着法の二つの方法が提案されている。
【0007】液化蒸留法としては、空気中に放射性のクリプ
トンとキセノンを含有する混合物から、先ず酸素および
炭化水素、NOx、炭酸ガス、水蒸気を除去し、アルゴン
を加えたのち、液化混合物から蒸留によつて軽質ガス類
と大部分の窒素とを除去して液体アルゴン中でキセノン
およびクリプトンの溶液を濃縮し、次いでアルゴンを低
温蒸留で除去した後、キセノンとクリプトンを低温蒸留
で分離する方法(特公昭58-53320号公報)が提案されてい
る。
トンとキセノンを含有する混合物から、先ず酸素および
炭化水素、NOx、炭酸ガス、水蒸気を除去し、アルゴン
を加えたのち、液化混合物から蒸留によつて軽質ガス類
と大部分の窒素とを除去して液体アルゴン中でキセノン
およびクリプトンの溶液を濃縮し、次いでアルゴンを低
温蒸留で除去した後、キセノンとクリプトンを低温蒸留
で分離する方法(特公昭58-53320号公報)が提案されてい
る。
【0008】また、吸着法としては、キセノンとクリプトン
を含有する核物質処理工程の廃ガス流から、気相におい
てキセノンをほぼ外気温および大気圧付近に維持した銀
交換処理されたモルデナイトに選択的に吸着させて除去
する方法、酸素と窒素とクリプトンを含有する核物質処
理工程の廃ガス流から、気相においてクリプトンをほぼ
外気温および大気圧付近に維持した銀交換処理されたモ
ルデナイトに選択的に吸着させて除去する方法、クリプ
トンと窒素を含有する核物質処理工程の廃ガス流から、
気相においてクリプトンを約−140〜−160℃に維持した
銀交換処理されたモルデナイトに選択的に吸着させて濃
縮する方法、さらに、キセノンを除去するに先だって、
a)NOx除去カラム内を通過させてNO2を水と反応させ、NO
と硝酸を生成させる工程、b)水素型合成モルデナイト触
媒上で還元用ガスとしてアンモニアを用いてNOと他のNO
x成分を分解する工程、c)銀交換処理と還元処理を行っ
た合成モルデナイト触媒上にヨウ素を吸着させる工程、
d)過剰の水分を約35℃に冷却することにより除去し、次
いで3A型ゼオライトに通過させることにより残りの水を
選択的に除去する工程、e)4A型ゼオライトに通過させる
ことにより二酸化炭素を選択的に除去する工程、を含む
ことからなる方法(特表昭56-500976号公報)が提案され
ている。
を含有する核物質処理工程の廃ガス流から、気相におい
てキセノンをほぼ外気温および大気圧付近に維持した銀
交換処理されたモルデナイトに選択的に吸着させて除去
する方法、酸素と窒素とクリプトンを含有する核物質処
理工程の廃ガス流から、気相においてクリプトンをほぼ
外気温および大気圧付近に維持した銀交換処理されたモ
ルデナイトに選択的に吸着させて除去する方法、クリプ
トンと窒素を含有する核物質処理工程の廃ガス流から、
気相においてクリプトンを約−140〜−160℃に維持した
銀交換処理されたモルデナイトに選択的に吸着させて濃
縮する方法、さらに、キセノンを除去するに先だって、
a)NOx除去カラム内を通過させてNO2を水と反応させ、NO
と硝酸を生成させる工程、b)水素型合成モルデナイト触
媒上で還元用ガスとしてアンモニアを用いてNOと他のNO
x成分を分解する工程、c)銀交換処理と還元処理を行っ
た合成モルデナイト触媒上にヨウ素を吸着させる工程、
d)過剰の水分を約35℃に冷却することにより除去し、次
いで3A型ゼオライトに通過させることにより残りの水を
選択的に除去する工程、e)4A型ゼオライトに通過させる
ことにより二酸化炭素を選択的に除去する工程、を含む
ことからなる方法(特表昭56-500976号公報)が提案され
ている。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】上記特公昭58-53320号
公報に開示の液化蒸留法は、高圧設備が必要であるばか
りでなく、蒸留の際に加えたアルゴンや窒素が混合して
いるため、プロセスが複雑になるだけでなく、処理量が
多くなるので設備が大型になるという欠点を有してい
る。
公報に開示の液化蒸留法は、高圧設備が必要であるばか
りでなく、蒸留の際に加えたアルゴンや窒素が混合して
いるため、プロセスが複雑になるだけでなく、処理量が
多くなるので設備が大型になるという欠点を有してい
る。
【0010】また、特表昭56-500976号公報に開示の吸着を
主体とするキセノンの除去方法は、キセノンの選択的な
吸着剤として銀交換処理されたモルデナイトを用い、ほ
ぼ外気温で大気圧に維持した吸着床でキセノンを吸着さ
せ、約150〜200℃に昇温して脱着させる方法であるが、
吸着剤の単位重量当たりのキセノン吸着量が少ないた
め、吸着剤の重量を多くする必要があり、吸着床の容積
を大きくしなければならないという問題がある。
主体とするキセノンの除去方法は、キセノンの選択的な
吸着剤として銀交換処理されたモルデナイトを用い、ほ
ぼ外気温で大気圧に維持した吸着床でキセノンを吸着さ
せ、約150〜200℃に昇温して脱着させる方法であるが、
吸着剤の単位重量当たりのキセノン吸着量が少ないた
め、吸着剤の重量を多くする必要があり、吸着床の容積
を大きくしなければならないという問題がある。
【0011】また、特表昭56-500976号公報に開示の方法で
は、酸素と窒素とクリプトンを含有する廃ガス流からク
リプトンを除去する方法や、クリプトンと窒素を含有す
る廃ガス流からクリプトンを濃縮する方法にも、銀交換
処理されたモルデナイトが用いられているが、上記と同
様に吸着剤の単位重量当たりのクリプトン吸着量が少な
いため、吸着剤の重量を多くする必要があり、吸着床の
容積を大きくしなければならないという問題がある。
は、酸素と窒素とクリプトンを含有する廃ガス流からク
リプトンを除去する方法や、クリプトンと窒素を含有す
る廃ガス流からクリプトンを濃縮する方法にも、銀交換
処理されたモルデナイトが用いられているが、上記と同
様に吸着剤の単位重量当たりのクリプトン吸着量が少な
いため、吸着剤の重量を多くする必要があり、吸着床の
容積を大きくしなければならないという問題がある。
【0012】この発明の目的は、上記従来技術の問題点を解
消し、簡単なプロセスで放射性排気ガスから少量の吸着
剤により効率よく高純度のキセノンを回収するととも
に、クリプトンを高濃度に濃縮する方法を提供すること
にある。
消し、簡単なプロセスで放射性排気ガスから少量の吸着
剤により効率よく高純度のキセノンを回収するととも
に、クリプトンを高濃度に濃縮する方法を提供すること
にある。
【0013】
【課題を解決するための手段】この発明のキセノンを含
有する放射性排気ガスから高純度のキセノンを回収する
方法は、a)放射性排気ガスから水分、炭酸ガス、NOxを
除去する工程、b)酸素の液化温度より高い温度で、シリ
カゲル、Ca-X型ゼオライトまたはNa-Y型ゼオライトを充
填した吸着塔に導入し、キセノンが破過するまで流して
キセノンを選択的に吸着させる工程、c)吸着されたキセ
ノンを脱着させて、脱着ガス中の炭化水素類を触媒で燃
焼除去する工程、d)酸素の液化温度より高い温度で、シ
リカゲル、Ca-X型ゼオライト、またはNa-Y型ゼオライ
ト、または活性炭を充填した吸着塔に導入し、キセノン
が破過するまで流してキセノンを選択的に吸着させる工
程を繰り返し、キセノン中のクリプトンによる放射能量
が自然界に存在する放射能量以下になるまで、キセノン
を順次濃縮する工程からなる。
有する放射性排気ガスから高純度のキセノンを回収する
方法は、a)放射性排気ガスから水分、炭酸ガス、NOxを
除去する工程、b)酸素の液化温度より高い温度で、シリ
カゲル、Ca-X型ゼオライトまたはNa-Y型ゼオライトを充
填した吸着塔に導入し、キセノンが破過するまで流して
キセノンを選択的に吸着させる工程、c)吸着されたキセ
ノンを脱着させて、脱着ガス中の炭化水素類を触媒で燃
焼除去する工程、d)酸素の液化温度より高い温度で、シ
リカゲル、Ca-X型ゼオライト、またはNa-Y型ゼオライ
ト、または活性炭を充填した吸着塔に導入し、キセノン
が破過するまで流してキセノンを選択的に吸着させる工
程を繰り返し、キセノン中のクリプトンによる放射能量
が自然界に存在する放射能量以下になるまで、キセノン
を順次濃縮する工程からなる。
【0014】また、この発明のキセノンおよびクリプトンを
含有する放射性排気ガスからクリプトンを高濃度に濃縮
する方法は、e)前記キセノンを吸着させる工程において
吸着塔からスルーしてきたクリプトンを含むガスを、酸
素の液化温度より高い温度に冷却し、活性炭、Ca-X型ゼ
オライトまたはNa-Y型ゼオライトを充填した吸着塔に導
入し、クリプトンが破過するまで流すクリプトン濃縮工
程、f)上記吸着剤に吸着されたクリプトンが濃縮された
ガス中の炭化水素類を触媒で燃焼除去する工程、g)上記
炭化水素類が除去されたガスを酸素の液化温度より高い
温度に冷却し、活性炭、Ca-X型ゼオライトまたはNa-Y型
ゼオライトを充填した複数の吸着塔に導入し、クリプト
ンが破過するまで流してクリプトンを選択的に吸着させ
る工程を繰り返し、クリプトンの濃度が90%以上となる
までクリプトンを順次濃縮する工程からなる。
含有する放射性排気ガスからクリプトンを高濃度に濃縮
する方法は、e)前記キセノンを吸着させる工程において
吸着塔からスルーしてきたクリプトンを含むガスを、酸
素の液化温度より高い温度に冷却し、活性炭、Ca-X型ゼ
オライトまたはNa-Y型ゼオライトを充填した吸着塔に導
入し、クリプトンが破過するまで流すクリプトン濃縮工
程、f)上記吸着剤に吸着されたクリプトンが濃縮された
ガス中の炭化水素類を触媒で燃焼除去する工程、g)上記
炭化水素類が除去されたガスを酸素の液化温度より高い
温度に冷却し、活性炭、Ca-X型ゼオライトまたはNa-Y型
ゼオライトを充填した複数の吸着塔に導入し、クリプト
ンが破過するまで流してクリプトンを選択的に吸着させ
る工程を繰り返し、クリプトンの濃度が90%以上となる
までクリプトンを順次濃縮する工程からなる。
【0015】この発明における吸着工程の有利な点は、回収
の対象となるキセノンやクリプトンが微量であることか
ら、キセノンやクリプトンを吸着によつて回収できるた
め、装置の規模が、例えば、液化蒸留法に比較して小さ
くできることである。また、吸着剤の種類とその運転条
件が適正なものを採用したため、従来の吸着剤の種類と
その運転条件に比較しても目的物質の吸着量を多くする
ことができ、装置の規模を小さくできる。
の対象となるキセノンやクリプトンが微量であることか
ら、キセノンやクリプトンを吸着によつて回収できるた
め、装置の規模が、例えば、液化蒸留法に比較して小さ
くできることである。また、吸着剤の種類とその運転条
件が適正なものを採用したため、従来の吸着剤の種類と
その運転条件に比較しても目的物質の吸着量を多くする
ことができ、装置の規模を小さくできる。
【0016】
【発明の実施の形態】図1に示すように、放射性排気ガ
ス1を低温吸着法によって処理するに際しては、放射性
排気ガス1中に含まれる水分、炭酸ガス、NOxはキセノン
やクリプトンに比較して吸着剤との親和力が強いため、
予め除去する必要がある。このため、放射性排気ガス1
は、先ずNOx除去塔2に導入してNOxを除去する。NOxを除
去する方法としては、水素化改質されたモルデナイト型
天然ゼオライト上でNOxを硝酸に変換して除去する方法
(原子力学会誌、34[10]、967(1992))や、公知のアンモ
ニア選択還元法で分解する方法(特表昭56-500976号公
報)を用いることができる。
ス1を低温吸着法によって処理するに際しては、放射性
排気ガス1中に含まれる水分、炭酸ガス、NOxはキセノン
やクリプトンに比較して吸着剤との親和力が強いため、
予め除去する必要がある。このため、放射性排気ガス1
は、先ずNOx除去塔2に導入してNOxを除去する。NOxを除
去する方法としては、水素化改質されたモルデナイト型
天然ゼオライト上でNOxを硝酸に変換して除去する方法
(原子力学会誌、34[10]、967(1992))や、公知のアンモ
ニア選択還元法で分解する方法(特表昭56-500976号公
報)を用いることができる。
【0017】NOxの除去されたNOx除去塔2からの放射性排気
ガス1は、水分除去塔3に導入して水分を除去する。水分
を除去する方法としては、活性アルミナ、モレキュラー
シーブ3A、モレキュラーシーブ4Aなどの吸着剤に吸着さ
せる一般的に知られた方法を用いる。
ガス1は、水分除去塔3に導入して水分を除去する。水分
を除去する方法としては、活性アルミナ、モレキュラー
シーブ3A、モレキュラーシーブ4Aなどの吸着剤に吸着さ
せる一般的に知られた方法を用いる。
【0018】NOx、水分の除去された水分除去塔3からの放射
性排気ガス1は、炭酸ガス除去塔4に導入して炭酸ガスを
除去する。炭酸ガスを除去する方法としては、モレキュ
ラーシーブ4A、モレキュラーシーブ13Xなどの合成ゼオ
ライトに吸着させる一般的に知られた方法を用いること
ができる。
性排気ガス1は、炭酸ガス除去塔4に導入して炭酸ガスを
除去する。炭酸ガスを除去する方法としては、モレキュ
ラーシーブ4A、モレキュラーシーブ13Xなどの合成ゼオ
ライトに吸着させる一般的に知られた方法を用いること
ができる。
【0019】NOx、水分、炭酸ガスが除去された放射性排気
ガス1は、シリカゲル、Ca-X型ゼオライト、Na-Y型ゼオ
ライトまたは活性炭を充填し、−150℃〜−180℃の温度
に維持されたキセノン濃縮塔5に導入し、キセノンが破
過するまで流してキセノンを選択的に吸着させる。次い
で、吸着したキセノンは、約120℃の温度まで昇温して
脱着させ、キセノン濃縮ガスタンク6に回収する。
ガス1は、シリカゲル、Ca-X型ゼオライト、Na-Y型ゼオ
ライトまたは活性炭を充填し、−150℃〜−180℃の温度
に維持されたキセノン濃縮塔5に導入し、キセノンが破
過するまで流してキセノンを選択的に吸着させる。次い
で、吸着したキセノンは、約120℃の温度まで昇温して
脱着させ、キセノン濃縮ガスタンク6に回収する。
【0020】キセノン濃縮ガスタンク6に回収したキセノン
濃縮ガスは、触媒塔7に導入してキセノン濃縮ガス中の
炭化水素類を燃焼させ、水と二酸化炭素に変換したの
ち、除去塔8で水と二酸化炭素を除去する。
濃縮ガスは、触媒塔7に導入してキセノン濃縮ガス中の
炭化水素類を燃焼させ、水と二酸化炭素に変換したの
ち、除去塔8で水と二酸化炭素を除去する。
【0021】触媒塔7と除去塔8で炭化水素類が除去されたキ
セノン濃縮ガスは、シリカゲル、Ca-X型ゼオライト、Na
-Y型ゼオライトまたは活性炭を充填し、−120℃〜−150
℃の温度に維持されたキセノン精製塔9に導入し、キセ
ノンが破過するまで流してキセノンを選択的に吸着させ
る。次いで、吸着したキセノンは、常温まで加熱して脱
着させて、シリカゲル、Ca-X型ゼオライト、Na-Y型ゼオ
ライトまたは活性炭を充填し、−65℃〜常温に維持され
たキセノン精製塔10に導入し、キセノンが破過するまで
流してキセノンを選択的に吸着させる。次いで、吸着し
たキセノンは、約90℃の温度で脱着させて、シリカゲ
ル、Ca-X型ゼオライト、Na-Y型ゼオライトまたは活性炭
を充填し、−65℃〜常温に維持されたキセノン精製塔11
に導入し、キセノンが破過するまで流してキセノンを選
択的に吸着させる。
セノン濃縮ガスは、シリカゲル、Ca-X型ゼオライト、Na
-Y型ゼオライトまたは活性炭を充填し、−120℃〜−150
℃の温度に維持されたキセノン精製塔9に導入し、キセ
ノンが破過するまで流してキセノンを選択的に吸着させ
る。次いで、吸着したキセノンは、常温まで加熱して脱
着させて、シリカゲル、Ca-X型ゼオライト、Na-Y型ゼオ
ライトまたは活性炭を充填し、−65℃〜常温に維持され
たキセノン精製塔10に導入し、キセノンが破過するまで
流してキセノンを選択的に吸着させる。次いで、吸着し
たキセノンは、約90℃の温度で脱着させて、シリカゲ
ル、Ca-X型ゼオライト、Na-Y型ゼオライトまたは活性炭
を充填し、−65℃〜常温に維持されたキセノン精製塔11
に導入し、キセノンが破過するまで流してキセノンを選
択的に吸着させる。
【0022】キセノン精製塔11で吸着されたキセノンは、約
90℃の温度で脱着させ、キセノン貯蔵容器12に貯蔵す
る。この貯蔵されたキセノン中のクリプトンによる放射
能量は、自然界に存在する放射能量以下にすることがで
きる。
90℃の温度で脱着させ、キセノン貯蔵容器12に貯蔵す
る。この貯蔵されたキセノン中のクリプトンによる放射
能量は、自然界に存在する放射能量以下にすることがで
きる。
【0023】前記キセノン濃縮塔5からスルーしてきたクリ
プトンを含むガスは、活性炭、Ca-X型ゼオライトまたは
Na-Y型ゼオライトを充填し、−150℃〜−180℃の温度に
維持されたクリプトン濃縮塔13に導入し、クリプトンが
破過するまで流してクリプトンを濃縮する。次いでクリ
プトン濃縮塔13に吸着されたクリプトンは、70℃まで加
熱して脱着させ、クリプトン濃縮ガスタンク14に回収す
る。
プトンを含むガスは、活性炭、Ca-X型ゼオライトまたは
Na-Y型ゼオライトを充填し、−150℃〜−180℃の温度に
維持されたクリプトン濃縮塔13に導入し、クリプトンが
破過するまで流してクリプトンを濃縮する。次いでクリ
プトン濃縮塔13に吸着されたクリプトンは、70℃まで加
熱して脱着させ、クリプトン濃縮ガスタンク14に回収す
る。
【0024】回収されたクリプトン濃縮ガスは、触媒塔15に
導入してクリプトン濃縮ガス中の炭化水素類を燃焼さ
せ、水と二酸化炭素に変換したのち、除去塔16で水と二
酸化炭素を除去する。
導入してクリプトン濃縮ガス中の炭化水素類を燃焼さ
せ、水と二酸化炭素に変換したのち、除去塔16で水と二
酸化炭素を除去する。
【0025】触媒塔15と除去塔16で炭化水素類が除去された
クリプトン濃縮ガスは、活性炭、Ca-X型ゼオライトまた
はNa-Y型ゼオライトを充填し、−150℃〜−180℃の温度
に維持されたクリプトン精製塔17に導入し、クリプトン
が破過するまで流してクリプトンを選択的に吸着させ
る。次いで、吸着されたクリプトンは、約70℃まで加熱
して脱着させてクリプトン濃縮ガスタンク18に回収す
る。回収されたクリプトン濃縮ガスは、活性炭、Ca-X型
ゼオライトまたはNa-Y型ゼオライトを充填し、−100℃
〜常温に維持されたクリプトン精製塔19に導入し、クリ
プトンが破過するまで流してクリプトンを選択的に吸着
させる。さらに、吸着したクリプトンは、90℃の温度で
脱着させて、クリプトン貯蔵容器20に貯蔵する。クリプ
トン貯蔵容器20に貯蔵されたクリプトンの濃度は、90%
以上にすることができる。
クリプトン濃縮ガスは、活性炭、Ca-X型ゼオライトまた
はNa-Y型ゼオライトを充填し、−150℃〜−180℃の温度
に維持されたクリプトン精製塔17に導入し、クリプトン
が破過するまで流してクリプトンを選択的に吸着させ
る。次いで、吸着されたクリプトンは、約70℃まで加熱
して脱着させてクリプトン濃縮ガスタンク18に回収す
る。回収されたクリプトン濃縮ガスは、活性炭、Ca-X型
ゼオライトまたはNa-Y型ゼオライトを充填し、−100℃
〜常温に維持されたクリプトン精製塔19に導入し、クリ
プトンが破過するまで流してクリプトンを選択的に吸着
させる。さらに、吸着したクリプトンは、90℃の温度で
脱着させて、クリプトン貯蔵容器20に貯蔵する。クリプ
トン貯蔵容器20に貯蔵されたクリプトンの濃度は、90%
以上にすることができる。
【0026】なお、上記キセノンおよびクリプトンを選択的
に吸着する吸着剤であるCa-X型ゼオライトまたはNa-Y型
ゼオライトとしては、合成ゼオライトまたは天然ゼオラ
イトのいずれのゼオライトも用いることができる。
に吸着する吸着剤であるCa-X型ゼオライトまたはNa-Y型
ゼオライトとしては、合成ゼオライトまたは天然ゼオラ
イトのいずれのゼオライトも用いることができる。
【0027】
【実施例】以下にこの発明の希ガス回収方法の詳細を実
施の一例を示す図1に基づいて説明する。図1はこの発明
の希ガス回収方法の一例を示す系統図である。図1に示
す放射性排気ガス1の模擬ガスとして、露点が−70℃以
下の乾燥空気に、水分、一酸化窒素(NO)、二酸化窒素(N
O2)、炭酸ガス、クリプトン、キセノンを混合し、水分:
5%、NO:0.5%、NO2:0.5%、炭酸ガス:200ppm、クリプト
ン:100ppm、キセノン:500ppmの混合ガスを調整して用い
た。
施の一例を示す図1に基づいて説明する。図1はこの発明
の希ガス回収方法の一例を示す系統図である。図1に示
す放射性排気ガス1の模擬ガスとして、露点が−70℃以
下の乾燥空気に、水分、一酸化窒素(NO)、二酸化窒素(N
O2)、炭酸ガス、クリプトン、キセノンを混合し、水分:
5%、NO:0.5%、NO2:0.5%、炭酸ガス:200ppm、クリプト
ン:100ppm、キセノン:500ppmの混合ガスを調整して用い
た。
【0028】この水分:5%、NO:0.5%、NO2:0.5%、炭酸ガス:2
00ppm、クリプトン:100ppm、キセノン:500ppmを含む混
合ガスは、水素化改質されたモルデナイト型天然ゼオラ
イトを充填したNOx除去塔2を、常温下で通過させた後、
活性アルミナを充填した水分除去塔3を常温下で通過さ
せ、さらに、モレキュラーシーブ13Xを充填した炭酸ガ
ス除去塔4を常温下で通過させた。炭酸ガス除去塔4を通
過したガス中には、水分、NO、NO2、炭酸ガスのいずれ
の成分も検出されなかった。
00ppm、クリプトン:100ppm、キセノン:500ppmを含む混
合ガスは、水素化改質されたモルデナイト型天然ゼオラ
イトを充填したNOx除去塔2を、常温下で通過させた後、
活性アルミナを充填した水分除去塔3を常温下で通過さ
せ、さらに、モレキュラーシーブ13Xを充填した炭酸ガ
ス除去塔4を常温下で通過させた。炭酸ガス除去塔4を通
過したガス中には、水分、NO、NO2、炭酸ガスのいずれ
の成分も検出されなかった。
【0029】炭酸ガス除去塔4を通過したガスは、Ca-X型ゼ
オライトを充填し、約−170℃の温度に維持されたキセ
ノン濃縮塔5に導入してキセノンが破過するまで流した
のち、約120℃まで昇温し100Torrまで減圧してキセノン
濃縮ガスを脱着させ、キセノン濃縮ガスタンク6に回収
した。この回収したキセノン濃縮ガス中には、キセノ
ン:11.3%、クリプトン:0.2%、炭化水素類:54ppmがそれ
ぞれ含有されていた。この炭化水素類の濃度は、爆発限
界以下であった。
オライトを充填し、約−170℃の温度に維持されたキセ
ノン濃縮塔5に導入してキセノンが破過するまで流した
のち、約120℃まで昇温し100Torrまで減圧してキセノン
濃縮ガスを脱着させ、キセノン濃縮ガスタンク6に回収
した。この回収したキセノン濃縮ガス中には、キセノ
ン:11.3%、クリプトン:0.2%、炭化水素類:54ppmがそれ
ぞれ含有されていた。この炭化水素類の濃度は、爆発限
界以下であった。
【0030】上記キセノン濃縮ガスは、触媒塔7に導入し、
キセノン濃縮ガス中の炭化水素類を燃焼させて水と二酸
化炭素に変換したのち、除去塔8を通過させて水と二酸
化炭素を除去した。水と二酸化炭素が除去されたキセノ
ン濃縮ガスは、シリカゲルを充填し、−150℃の温度に
維持されたキセノン精製塔9に導入し、キセノンが破過
するまで流したのち、常温まで昇温して脱着ガスを回収
した。この回収ガスは、キセノン:95%、クリプトン:170
ppmであった。
キセノン濃縮ガス中の炭化水素類を燃焼させて水と二酸
化炭素に変換したのち、除去塔8を通過させて水と二酸
化炭素を除去した。水と二酸化炭素が除去されたキセノ
ン濃縮ガスは、シリカゲルを充填し、−150℃の温度に
維持されたキセノン精製塔9に導入し、キセノンが破過
するまで流したのち、常温まで昇温して脱着ガスを回収
した。この回収ガスは、キセノン:95%、クリプトン:170
ppmであった。
【0031】このキセノン精製塔9からの回収ガスは、活性
炭を充填し、−20℃の温度に維持されたキセノン精製塔
10に導入し、キセノンが破過するまで流したのち、約90
℃まで昇温して脱着ガスを回収した。この回収したガス
は、キセノン:99.5%、クリプトン:1.6ppmであった。
炭を充填し、−20℃の温度に維持されたキセノン精製塔
10に導入し、キセノンが破過するまで流したのち、約90
℃まで昇温して脱着ガスを回収した。この回収したガス
は、キセノン:99.5%、クリプトン:1.6ppmであった。
【0032】この回収したガスは、活性炭を充填し、−20℃
の温度に維持されたキセノン精製塔11に導入し、キセノ
ンが破過するまで流したのち、約90℃まで昇温して脱着
ガスを回収し、キセノン貯蔵容器12に貯蔵した。この貯
蔵ガスは、キセノン:99.995%であり、クリプトン濃度は
0.05ppmの検出限界値以下であった。
の温度に維持されたキセノン精製塔11に導入し、キセノ
ンが破過するまで流したのち、約90℃まで昇温して脱着
ガスを回収し、キセノン貯蔵容器12に貯蔵した。この貯
蔵ガスは、キセノン:99.995%であり、クリプトン濃度は
0.05ppmの検出限界値以下であった。
【0033】上記キセノン精製操作を繰り返し行うことによ
って、キセノン中の放射性クリプトンによる放射能量
を、自然界に存在する値以下にできると推定された。
って、キセノン中の放射性クリプトンによる放射能量
を、自然界に存在する値以下にできると推定された。
【0034】前記キセノン濃縮塔5からスルーしてきたクリ
プトンを含むガスは、活性炭を充填し、−170℃の温度
に維持されたクリプトン濃縮塔13に導入し、クリプトン
が破過するまで流したのち、70℃まで昇温し、100Torr
まで減圧してクリプトン濃縮ガスを脱着させ、クリプト
ン濃縮ガスタンク14に回収した。このクリプトン濃縮ガ
スは、クリプトン:2.8%、炭化水素類:160ppmであった。
プトンを含むガスは、活性炭を充填し、−170℃の温度
に維持されたクリプトン濃縮塔13に導入し、クリプトン
が破過するまで流したのち、70℃まで昇温し、100Torr
まで減圧してクリプトン濃縮ガスを脱着させ、クリプト
ン濃縮ガスタンク14に回収した。このクリプトン濃縮ガ
スは、クリプトン:2.8%、炭化水素類:160ppmであった。
【0035】クリプトン濃縮ガスタンク14のクリプトン濃縮
ガスは、触媒塔15に導入し、クリプトン濃縮ガス中の炭
化水素類を燃焼させて水と二酸化炭素に変換したのち、
除去塔16を通過させて水と二酸化炭素を除去した。炭化
水素類が除去されたクリプトン濃縮ガスは、活性炭を充
填し、−150℃の温度に維持されたクリプトン精製塔17
に導入し、クリプトンが破過するまで流したのち、70℃
まで昇温し、真空ポンプによりクリプトンをクリプトン
濃縮ガスタンク18に回収した。この回収したガス中のク
リプトン濃縮は、93%であった。
ガスは、触媒塔15に導入し、クリプトン濃縮ガス中の炭
化水素類を燃焼させて水と二酸化炭素に変換したのち、
除去塔16を通過させて水と二酸化炭素を除去した。炭化
水素類が除去されたクリプトン濃縮ガスは、活性炭を充
填し、−150℃の温度に維持されたクリプトン精製塔17
に導入し、クリプトンが破過するまで流したのち、70℃
まで昇温し、真空ポンプによりクリプトンをクリプトン
濃縮ガスタンク18に回収した。この回収したガス中のク
リプトン濃縮は、93%であった。
【0036】クリプトン濃縮ガスタンク18に回収したガス
は、活性炭を充填し、−20℃の温度に維持されたクリプ
トン精製塔19に導入し、クリプトンが破過するまで流し
たのち、90℃まで昇温してクリプトンを脱着させ、クリ
プトン貯蔵容器20に貯蔵した。貯蔵したクリプトンの濃
度は、99%であった。
は、活性炭を充填し、−20℃の温度に維持されたクリプ
トン精製塔19に導入し、クリプトンが破過するまで流し
たのち、90℃まで昇温してクリプトンを脱着させ、クリ
プトン貯蔵容器20に貯蔵した。貯蔵したクリプトンの濃
度は、99%であった。
【0037】
【発明の効果】本発明の希ガス回収方法によれば、吸着
操作を主体としてキセノンおよびクリプトンを選択的に
濃縮することができるため、従来の液化蒸留法に比較し
てアルゴンガスを加える必要もないので、処理量が少な
く、また高圧設備も不要である。さらに、従来の吸着法
と比較しても、吸着剤とその運転条件を適正にしている
ため、設備の規模を小さくでき、かつ設備の数を少なく
できる。
操作を主体としてキセノンおよびクリプトンを選択的に
濃縮することができるため、従来の液化蒸留法に比較し
てアルゴンガスを加える必要もないので、処理量が少な
く、また高圧設備も不要である。さらに、従来の吸着法
と比較しても、吸着剤とその運転条件を適正にしている
ため、設備の規模を小さくでき、かつ設備の数を少なく
できる。
【図1】この発明の希ガス回収方法の一例を示す系統図
である。
である。
1 放射性排気ガス 2 NOx除去塔 3 水分除去塔 4 炭酸ガス除去塔 5 キセノン濃縮塔 6 キセノン濃縮ガスタンク 7、15 触媒塔 8、16 除去塔 9、10、11 キセノン精製塔 12 キセノン貯蔵容器 13 クリプトン濃縮塔 14、18 クリプトン濃縮ガスタンク 17、19 クリプトン精製塔 20 クリプトン貯蔵容器
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4D012 CA01 CA03 CA14 CA15 CA20 CB15 CD01 CE01 CF03 CF04 CG01 CG05 CG06 CH05 CH06 CH07
Claims (12)
- 【請求項1】 キセノンを含有する放射性排気ガスから
高純度のキセノンを回収する方法であって、a)前記放射
性排気ガスから水分、炭酸ガス、NOxを除去する工程、
b)キセノンを選択的に吸着する吸着剤を充填した吸着塔
に導入し、キセノンを濃縮する工程、c)炭化水素類を触
媒で燃焼除去する工程、とからなることを特徴とする希
ガスの回収方法。 - 【請求項2】 キセノンを濃縮する工程が、酸素の液化
温度より高い温度で、キセノンを選択的に吸着する吸着
剤を充填した吸着塔にキセノンが破過するまで流すこと
を特徴とする請求項1記載の希ガスの回収方法。 - 【請求項3】 キセノン中のクリプトンによる放射能量
が自然界に存在する放射能量以下になるまで、キセノン
を濃縮する工程を繰り返すことを特徴とする請求項1記
載の希ガスの回収方法。 - 【請求項4】 キセノンを選択的に吸着する吸着剤がシ
リカゲル、分子篩効果のあるゼオライトまたは活性炭で
あることを特徴とする請求項1記載の希ガスの回収方
法。 - 【請求項5】 分子篩効果のあるゼオライトがCa-X型ゼ
オライトまたはNa-Y型ゼオライトであることを特徴とす
る請求項1記載の希ガスの回収方法。 - 【請求項6】 キセノンおよびクリプトンを含有する放
射性排気ガスからクリプトンを高濃度に濃縮する方法で
あって、a)前記放射性排気ガスから水分、炭酸ガス、NO
xを除去する工程、b)水分、炭酸ガス、NOxを除去した放
射性排気ガスをキセノンを選択的に吸着する吸着剤を充
填した吸着塔に導入してキセノンを除去する工程、c)ク
リプトンを選択的に吸着する吸着剤を充填した吸着塔に
導入してクリプトンを濃縮する工程、d)炭化水素類を触
媒で燃焼除去する工程、とからなることを特徴とする希
ガスの回収方法。 - 【請求項7】 キセノンを除去する工程が、酸素の液化
温度より高い温度で、キセノンを選択的に吸着する吸着
剤を充填した吸着塔に導入し、キセノンを吸着させてク
リプトンを含むガスを該吸着塔からスルーさせることに
よって、キセノンとクリプトンを含むガスに分離するこ
とを特徴とする請求項6記載の希ガスの回収方法。 - 【請求項8】 キセノンを選択的に吸着する吸着剤がシ
リカゲル、分子篩効果のあるゼオライトまたは活性炭で
あることを特徴とする請求項7記載の希ガスの回収方
法。 - 【請求項9】 クリプトンを濃縮する工程が、酸素の液
化温度より高い温度に冷却し、クリプトンを選択的に吸
着する吸着剤を充填した吸着塔にクリプトンが破過する
まで流すことを特徴とする請求項6記載の希ガスの回収
方法。 - 【請求項10】 クリプトンを選択的に吸着する吸着剤が
活性炭または分子篩効果のあるゼオライトであることを
特徴とする請求項9記載の希ガスの回収方法。 - 【請求項11】 分子篩効果のあるゼオライトがCa-X型ゼ
オライトまたはNa-Y型ゼオライトであることを特徴とす
る請求項10記載の希ガスの回収方法。 - 【請求項12】 クリプトン濃度が90%以上になるまで、
クリプトンを濃縮する工程を繰り返すことを特徴とする
請求項6記載の希ガスの回収方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000090834A JP3824838B2 (ja) | 2000-03-29 | 2000-03-29 | 希ガスの回収方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000090834A JP3824838B2 (ja) | 2000-03-29 | 2000-03-29 | 希ガスの回収方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001270708A true JP2001270708A (ja) | 2001-10-02 |
| JP3824838B2 JP3824838B2 (ja) | 2006-09-20 |
Family
ID=18606382
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000090834A Expired - Fee Related JP3824838B2 (ja) | 2000-03-29 | 2000-03-29 | 希ガスの回収方法 |
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|---|---|
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Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005336046A (ja) * | 2004-04-27 | 2005-12-08 | Taiyo Nippon Sanso Corp | ガス回収容器、ガス回収容器を用いた希ガスの回収方法、ガス回収容器内へのガス回収装置及びガス回収容器からのガス導出装置 |
| JP2010042381A (ja) * | 2008-08-18 | 2010-02-25 | Taiyo Nippon Sanso Corp | キセノン吸着剤、キセノン濃縮方法、キセノン濃縮装置および空気液化分離装置 |
| WO2011102747A1 (en) * | 2010-02-16 | 2011-08-25 | Vladimir Petrovich Smetannikov | Method of xenon concentrate extraction from natural combustible gas, products of its processing, including anthropogenic off gases and the device for its realization (variants) |
| CN105992632A (zh) * | 2014-04-09 | 2016-10-05 | 埃克森美孚上游研究公司 | 纯化天然气的方法和系统 |
| CN106371130A (zh) * | 2016-08-23 | 2017-02-01 | 福建宁德核电有限公司 | 一种核设施气载流出物中氪‑85的监测系统 |
| CN106547009A (zh) * | 2015-09-23 | 2017-03-29 | 福建宁德核电有限公司 | 一种核电厂气态流出物85k的检测方法与设备 |
| CN107459022A (zh) * | 2017-08-08 | 2017-12-12 | 中广核工程有限公司 | 核电厂惰性气体分离纯化系统及方法 |
| CN114512254A (zh) * | 2022-01-27 | 2022-05-17 | 中国原子能科学研究院 | 一种捕集气态碘的方法 |
| WO2022167669A1 (en) * | 2021-02-05 | 2022-08-11 | Sck Cen | Removing a radioactive noble gas from a gas volume |
| US11679979B2 (en) | 2018-05-08 | 2023-06-20 | Curium Us Llc | Systems and methods for production of Xenon-133 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110099745B (zh) | 2017-01-06 | 2022-12-16 | 东曹株式会社 | 氙吸附剂 |
-
2000
- 2000-03-29 JP JP2000090834A patent/JP3824838B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7594955B2 (en) * | 2004-04-27 | 2009-09-29 | Taiyo Nippon Sanso Corporation | Process for recovering rare gases using gas-recovering container |
| JP4652860B2 (ja) * | 2004-04-27 | 2011-03-16 | 大陽日酸株式会社 | クリプトン又はキセノンの回収方法 |
| KR101140059B1 (ko) | 2004-04-27 | 2012-05-02 | 다이요 닛산 가부시키가이샤 | 가스 회수 용기를 이용한 희가스의 회수 방법, 가스 회수용기 내로의 가스 회수 장치 및 가스 회수 용기로부터의가스 도출 장치 |
| JP2005336046A (ja) * | 2004-04-27 | 2005-12-08 | Taiyo Nippon Sanso Corp | ガス回収容器、ガス回収容器を用いた希ガスの回収方法、ガス回収容器内へのガス回収装置及びガス回収容器からのガス導出装置 |
| JP2010042381A (ja) * | 2008-08-18 | 2010-02-25 | Taiyo Nippon Sanso Corp | キセノン吸着剤、キセノン濃縮方法、キセノン濃縮装置および空気液化分離装置 |
| WO2010021127A1 (ja) * | 2008-08-18 | 2010-02-25 | 国立大学法人岡山大学 | キセノン吸着剤、キセノン濃縮方法、キセノン濃縮装置および空気液化分離装置 |
| WO2011102747A1 (en) * | 2010-02-16 | 2011-08-25 | Vladimir Petrovich Smetannikov | Method of xenon concentrate extraction from natural combustible gas, products of its processing, including anthropogenic off gases and the device for its realization (variants) |
| CN105992632A (zh) * | 2014-04-09 | 2016-10-05 | 埃克森美孚上游研究公司 | 纯化天然气的方法和系统 |
| CN106547009A (zh) * | 2015-09-23 | 2017-03-29 | 福建宁德核电有限公司 | 一种核电厂气态流出物85k的检测方法与设备 |
| CN106371130A (zh) * | 2016-08-23 | 2017-02-01 | 福建宁德核电有限公司 | 一种核设施气载流出物中氪‑85的监测系统 |
| CN107459022A (zh) * | 2017-08-08 | 2017-12-12 | 中广核工程有限公司 | 核电厂惰性气体分离纯化系统及方法 |
| US11679979B2 (en) | 2018-05-08 | 2023-06-20 | Curium Us Llc | Systems and methods for production of Xenon-133 |
| WO2022167669A1 (en) * | 2021-02-05 | 2022-08-11 | Sck Cen | Removing a radioactive noble gas from a gas volume |
| EP4049743A1 (en) * | 2021-02-05 | 2022-08-31 | Sck Cen | Removing a radioactive noble gas from a gas volume |
| CN114512254A (zh) * | 2022-01-27 | 2022-05-17 | 中国原子能科学研究院 | 一种捕集气态碘的方法 |
| CN114512254B (zh) * | 2022-01-27 | 2024-02-20 | 中国原子能科学研究院 | 一种捕集气态碘的方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3824838B2 (ja) | 2006-09-20 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
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| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060523 |
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| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 3824838 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090707 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100707 Year of fee payment: 4 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110707 Year of fee payment: 5 |
|
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110707 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120707 Year of fee payment: 6 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| R250 | Receipt of annual fees |
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| R250 | Receipt of annual fees |
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|
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