JP2001252878A

JP2001252878A - 研磨シート

Info

Publication number: JP2001252878A
Application number: JP2000063603A
Authority: JP
Inventors: Takeshi Takizawa; 剛滝沢; Takao Kaneko; 孝男金子; Yukio Okuyama; 幸夫奥山
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 2000-03-08
Filing date: 2000-03-08
Publication date: 2001-09-18

Abstract

(57)【要約】【課題】支持体上に研磨層を設けてなる研磨シート
で、研磨材の種類、粒子サイズ等の識別が使用状態でも
簡易に行えるようにし、研磨工程の作業性を向上する。【解決手段】研磨材粒子31とバインダー32を含む研磨
層３が支持体２上に塗設されてなり、研磨層３の表面の
非使用領域3aに、識別のための表示５が印刷等により施
されてなる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、被研磨物の研磨に
用いる研磨シートに関し、特に研磨材の種類、粒子サイ
ズ、品番等の識別表示に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】一般に、支持体上に研磨材粒子及びバイ
ンダーを主体とした研磨層を有する研磨シートは、各種
の被研磨物を研磨するのに使用されており、被研磨物が
要求している研磨精度に応じて研磨層の粗さを変えて研
磨を行っている。使用される研磨材粒子は通常モース硬
度が６以上のものが使用されており、例えば酸化クロ
ム、酸化鉄、アルミナ、ダイヤモンド、酸化チタン等で
ある。被研磨物によっては研磨材粒子の平均粒子サイズ
（Ｄ５０）を変えることによって一次研磨、二次研磨…
と研磨を重ねていき目標精度まで研磨を繰り返すものも
ある。

【０００３】このような研磨を行う場合に、研磨層に使
用されている研磨材の平均粒子サイズを目視で確認する
ことは不可能である。研磨材の種類は研磨層の色から、
例えば酸化クロムは濃緑色、アルミナは白色といったよ
うに研磨材特有の色で確認することは可能であるが、通
常は、これらの研磨材、粒子サイズ等の識別用に、研磨
シートにシールを貼る、研磨層に着色する、裏面の支持
体側に印刷表示を行うことなどが知られている（例えば
米国特許第5,137,542 号明細書参照）。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら研磨層の
色で識別するものでは、研磨材が同種で同色のものでは
目視だけでは判別できず、研磨層面と裏面との区別も困
難な場合がある。研磨層と反対側の裏面に印刷表示した
ものでは、研磨層側からの確認ができず、研磨装置にセ
ットした状態では不明となる。研磨層に粘着シール等を
貼ったものでは、このシールの貼付作業が煩雑で生産性
が低いと共に、研磨中にシールが剥がれて被研磨物に付
着する不具合があり、特に湿潤状態で使用するものでは
シールが剥がれやすい。研磨層を着色するものでは、酸
化クロムのように濃色の場合にはその着色が判別しにく
い等の問題が生ずる。また単純に色又は形状による表示
では情報量が不足する場合があり、これら研磨シートの
識別不足により、研磨工程の作業性が低下する原因とも
なっている。

【０００５】本発明は、上記従来技術の問題点に鑑みな
されたものであり、研磨シートの研磨材、粒子サイズ等
の識別が使用状態でも簡易に行えようにした研磨シート
を提供することを目的としている。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決した本発
明の研磨シートは、研磨材粒子とバインダーを含む研磨
層が支持体上に塗設されてなる研磨シートにおいて、前
記研磨層の表面の非使用領域に、識別のための表示が施
されたことを特徴とするものである。

【０００７】前記表示が、回転状態で使用される円盤状
の研磨シートの中心部又は縁端部の非使用領域に付設さ
れたことを特徴とする。又は、前記表示が、矩形状の研
磨シートの縁端部の非使用領域に付設されたことを特徴
とする。

【０００８】前記研磨材粒子の粒子サイズの違いによっ
て、表示の色や形を変えることを特徴とする。前記表示
が、品番等の印字であることを特徴とする。

【０００９】前記表示が、凸版方式、平版方式、凹版方
式、孔版方式、インクジェット方式、蒸着方式又はスパ
ッタリング方式で施されたことを特徴とする。その際、
凸版方式、平版方式、凹版方式、孔版方式又はインクジ
ェット方式に使用するインキの粘度が、０．１〜３００
０ポアズであることを特徴とする。使用する印刷インキ
が無機顔料、有機顔料のうち１種類以上を含有すること
を特徴とする。使用するビヒクルが乾燥油、合成樹脂、
天然樹脂、繊維系、ゴム誘導体のうち１種類以上を含有
することを特徴とする。蒸着方式、スパッタリング方式
に使用する金属が、アルミニウム、銀、金、酸化錫、ア
ンチモンチンオキサイド又はインジウムチンオキサイド
であることを特徴とする。

【００１０】例えば、前記研磨材が、酸化セリウム、ア
ルミナ、酸化クロム、炭化珪素、ダイヤモンド、シリカ
のいずれか１つ以上を含む。研磨材の平均粒子サイズ
が、０．０５〜６μｍである。バインダーが、熱可塑性
樹脂、熱硬化性樹脂、紫外線光硬化性樹脂の少なくとも
１つを有する。

【００１１】

【発明の効果】上記のような本発明研磨シートによれ
ば、被研磨物と接触する研磨層の表面の非使用領域に識
別のための表示を施したことにより、研磨装置に研磨シ
ートをセットした使用状態でも研磨層側から識別表示を
見ることで研磨材、粒子サイズ等の確認が容易にでき、
研磨工程の作業性の向上が図れる。また、表示は非使用
領域に施すことで研磨層表面の研磨特性に影響を与える
ことなく、研磨によって表示が消えることがない。

【００１２】これら表示の効果を列挙すれば、研磨層す
なわち表裏面の確認が容易になる。粒度の違いを容易に
確認できる。比較的安価かつ手軽に表示加工ができる。
自由な色や形でデザインが作成できる。ユーザーの要望
に合わせたマークや文字を容易に付与することができ
る。使用者への広告や注意点等のアピールができる。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下に、本発明の研磨シートの実
施の形態を示し、本発明をさらに詳細に説明する。図１
は一つの実施の形態にかかる研磨シートの概念的な断面
図であり、図２は一つの表示例を有する研磨シートの平
面図、図３は他の表示例を有する研磨シートの平面図で
ある。

【００１４】研磨シート１は、ポリエステルフィルム等
による支持体２上に、平均粒子サイズが０．０５〜６μ
ｍで、酸化セリウム、アルミナ、酸化クロム、炭化珪
素、ダイヤモンド、シリカのいずれか１つ以上を含む研
磨材３１と、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、紫外線光硬
化性樹脂の少なくとも１つを有するバインダー３２を含
む研磨層３を塗設してなるものであり、円盤状、矩形状
等の所定形状に作製されている。

【００１５】そして、上記研磨シート１における研磨層
３の表面の非使用領域３ａに、識別のための表示５が印
刷等により施されている。

【００１６】図２に示す研磨シート１は、円盤状であり
支持体２の裏面が回転台等に貼付されて回転状態で使用
されるもので、その研磨層３の表面における内外周を除
く環状部分が被研磨物が押圧接触される使用領域３ｂ
（研磨領域）であり、中心部又は縁端部の非使用領域３
ａに前記表示５が施されている。この表示５は、例え
ば、研磨材の種類および粒子サイズ（番手）を示す品番
（ＬＴＫＸ２００００Ｓ）、製造情報を有するロット番
号（ＬＯＴ：ＡＱＹ０６５７Ｃ）、サイズ（１２０φ）
が凸版印刷等によって印字されている。この図２の研磨
シート１は、例えば、光ファイバー用コネクターフェル
ールの端面研磨用であり、回転台上に設置したゴム等の
弾性体に研磨シート１の支持体２裏面を水で貼り付け、
この研磨シート１に被研磨物の先端を所定圧で押圧接触
させ、回転台を所定回転数で回転させると共に、被研磨
物を相対的に遊星回転運動させるもので、前述のように
中心部の円形部分及び外周の環状縁端部が被研磨物が接
触しない非使用領域３ａとなり、この部分に前記表示５
がなされる。なお、研磨部分に水又はスラリー（シリカ
スラリー等）による研磨液（クーラント液）が供給され
て湿式研磨が行われる。この湿式研磨用の研磨シート１
に対する表示５は、研磨液に不溶性のもので行うのが好
ましい。

【００１７】また、図３に示す研磨シート１は、矩形状
であり支持体２の裏面が固定又は移動研磨台に貼付され
て被研磨物に対して相対的に前後左右に往復移動される
もので、その研磨層３の表面における中央の矩形部分が
被研磨物が押圧接触される使用領域３ｂであり、４辺の
縁端部が被研磨物が接触しない非使用領域３ａとなり、
この部分に表示５が施されている。この表示５は、例え
ば、品番（ＬＴ７５Ｄ２０００）、ロット番号（ＬＯ
Ｔ：ＤＳＵＢ０５６２）、サイズ（２００×２００ｍ
ｍ）が凸版印刷等によって印字され、品番によって研磨
材３１の種類及び粒子サイズが分かる。

【００１８】なお、前記識別表示５は、品番等を印字す
るほか、研磨材３１の種類又は粒子サイズに応じて表示
の色や形を変えるようにしてもよい。そのほか、生産
者、販売者の表示、商品名、使用上の注意等のユーザー
の要望に合わせたマークや文字を付与するようにしても
よい。

【００１９】前記表示５は、凸版方式、平版方式、凹版
方式、孔版方式、インクジェット方式、蒸着方式又はス
パッタリング方式で施される。これらの方式の概略は次
の通り。凸版方式：凹凸のある版の凸部にインキをつ
け、被印刷体に押圧によりインキを転写する方法。平版
方式：版面に明らかな凹凸が無く、版面に親水基部と親
油基部を設けて水とインキの混濁液を版面に与えること
により版面の親油基部分にインキを親水基部分に水を付
与させて印刷を行う方法。凹版方式：版面の凹部にイン
キを充填して印刷を行う方法。孔版方式：画像部が貫通
孔、非画像部が非貫通となった版を被印刷物の上に置
き、版の上からインキを押し出し貫通孔からインキを被
印刷物に印刷する方法。インクジェット方式：インキを
細いノズルから粒子として噴射させて、被印刷体にイン
キを転写する方法。蒸着方式：１０^-4〜１０^-6程度の真
空下において金属を加熱気化させることにより金属粒子
を被印刷物に転写する方法。スパッタリング方式：蒸着
よりも高真空下において金属塊（インゴット）に電子線
を照射し金属を気化させることにより金属粒子を被印刷
物に転写する方法。

【００２０】その際、凸版方式、平版方式、凹版方式、
孔版方式又はインクジェット方式に使用するインキの粘
度は、０．１〜３０００ポアズが好ましい。使用する印
刷インキが無機顔料、有機顔料のうち１種類以上を含有
する。使用するビヒクルが乾燥油、合成樹脂、天然樹
脂、繊維系、ゴム誘導体のうち１種類以上を含有する。
蒸着方式、スパッタリング方式に使用する金属が、アル
ミニウム、銀、金、酸化錫、アンチモンチンオキサイド
又はインジウムチンオキサイドである。

【００２１】本発明の研磨層で用いられる研磨材粒子は
モース硬度が６〜１０で、かつ粉体総量の３０％以下含
む。この研磨材としては、一般的に研磨作用若しくは琢
磨作用をもつ材料で、α−アルミナ、γ−アルミナ、
α，γ−アルミナ、熔融アルミナ、炭化珪素、酸化クロ
ム、コランダム、人造ダイヤモンド、ダイヤモンド、α
−酸化鉄、窒化珪素、窒化硼素、炭化モリブデン、炭化
硼素、炭化タングステン、チタンカーバイド、シリカ、
ジルコニア、酸化チタン、酸化セリウム、ベンガラ、ガ
ーネット等で、主としてモース硬度７以上の材料が１内
至４種迄の組み合わせで使用できる。これらの研磨材は
平均粒子サイズが０．０５〜６μｍの大きさのものが使
用される。これらの研磨材は研磨層の場合研磨材１００
重量部に対してバインダー１０〜１０００重量部の範囲
で用いられる。研磨材の具体例としては、住友化学社製
のＡＫＰ１、ＡＫＰ１５、ＡＫＰ２０、ＡＫＰ３０、Ａ
ＫＰ５０、ＡＫＰ８０、Ｈｉｔ５０、Ｈｉｔ１００など
が挙げられる。

【００２２】本発明の研磨層に使用されるバインダーと
しては、従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応
型樹脂、電子線硬化型樹脂、紫外線硬化型樹脂、可視光
線硬化型樹脂やこれらの混合物が使用される。

【００２３】熱可塑性樹脂としては、軟化温度が２００
℃以下、平均分子量が１００００〜３０００００、重合
度が約５０〜２０００程度のものでより好ましくは２０
０〜８００程度のものがよい。例えば塩化ビニル酢酸ビ
ニル共重合体、塩化ビニル共重合体、塩化ビニル酢酸ビ
ニルビニルアルコール共重合体、塩化ビニルビニルアル
コール共重合体、塩化ビニル塩化ビニリデン共重合体、
塩化ビニルアクリロニトリル共重合体、アクリル酸エス
テルアクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル塩
化ビニリデン共重合体、アクリル酸エステルスチレン共
重合体、メタクリル酸エステルアクリロニトリル共重合
体、メタクリル酸エステル塩化ビニリデン共重合体、メ
タクリル酸エステルスチレン共重合体、ウレタンエラス
トマー、ナイロン−シリコン系樹脂、ニトロセルロース
−ポリアミド樹脂、ポリフッカビニル、塩化ビニリデン
アクリロニトリル共重合体、ブタジエンアクリロニトリ
ル共重合体、ポリアミド樹脂、ポリビニルブチラール、
セルロース誘導体（セルロースアセテートブチレート、
セルロースダイアセテート、セルローストリアセテー
ト、セルロースプロピオネート、ニトロセルロース、エ
チルセルロース、メチルセルロース、プロピルセルロー
ス、メチルエチルセルロース、カルボキシメチルセルロ
ース、アセチルセルロース等）、スチレンブタジエン共
重合体、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ク
ロロビニルエーテルアクリル酸エステル共重合体、アミ
ノ樹脂、ポリアミド樹脂など各種の合成ゴム系の熱可塑
性樹脂及びこれらの混合物等が使用される。

【００２４】熱硬化性樹脂又は反応型樹脂としては、塗
布液の状態では２０００００以下の分子量であり、塗
布、乾燥後に加熱加湿することにより、縮合、付加等の
反応により分子量が無限大となるものが好適である。ま
た、これらの樹脂のなかで、樹脂が熱分解するまでの間
に軟化又は溶融しないものが好ましい。具体的には例え
ばフェノール樹脂、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、ポ
リウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタンポリ
カーボネート樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキッ
ド樹脂、シリコン樹脂、アクリル系反応樹脂（電子線硬
化樹脂）、エポキシ−ポリアミド樹脂、ニトロセルロー
スメラミン樹脂、高分子量ポリエステル樹脂とイソシア
ネートプレポリマーの混合物、メタクリル酸塩共重合体
とジイソシアネートプレポリマーの混合物、ポリエステ
ルポリオールとポリイソシアネートとの混合物、尿素ホ
ルムアルデヒド樹脂、低分子量グリコール／高分子量ジ
オール／トリフェニルメタントリイソシアネートの混合
物、ポリアミン樹脂、ポリイミン樹脂及びこれらの混合
物等である。

【００２５】これらの熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反
応型樹脂は、主たる官能基以外に官能基としてカルボン
酸（ＣＯＯＭ）、スルフィン酸、スルフェン酸、スルホ
ン酸（ＳＯ₃Ｍ）、燐酸（ＰＯ(ＯＭ)(ＯＭ)）、ホスホ
ン酸、硫酸（ＯＳＯ₃Ｍ）、及びこれらのエステル基等
の酸性基（ＭはＨ、アルカリ金属、アルカリ土類金属、
炭化水素基）、アミノ酸類；アミノスルホン酸類、アミ
ノアルコールの硫酸又は燐酸エステル類、アルキルベタ
イン型等の両性類基、アミノ基、イミノ基、イミド基、
アミド基等、また、水酸基、アルコキシル基、チオール
基、アルキルチオ基、ハロゲン基（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、
Ｉ）、シリル基、シロキサン基、エポキシ基、イソシア
ナト基、シアノ基、ニトリル基、オキソ基、アクリル
基、フォスフィン基を通常１種以上６種以内含み、各々
の官能基は樹脂１ｇあたり１×１０^-6ｅｑ〜１×１０^-2
ｅｑ含むことが好ましい。

【００２６】本発明の研磨層に用いる硬化剤としてのポ
リイソシアネートとしては、トリレンジイソシアネー
ト、４・４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘ
キサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシア
ネート、ナフチレン−１・５−ジイソシアネート、ｏ−
トルイジンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネ
ート、トリフェニルメタントリイソシアネート、イソホ
ロンジイソシアネート等のイソシアネート類、当該イソ
シアネート類とポリアルコールとの生成物、イソシアネ
ート類の縮合によって生成した２〜１０量体のポリイソ
シアネート、ポリイソシアネートとポリウレタンとの生
成物で末端官能基がイソシアネートであるもの等を使用
することができる。これらポリイソシアネート類の平均
分子量は１００〜２００００のものが好適である。

【００２７】これらポリイソシアネートの市販されてい
る商品名としては、コロネートＬ、コロネートＨＬ、コ
ロネート２０３０、コロネート２０３１、ミリオネート
ＭＲ、ミリオネートＭＴＬ（以上日本ポリウレタン社
製）、タケネートＤ−１０２、タケネートＤ−１１０
Ｎ、タケネートＤ−２００、タケネートＤ−２０２、タ
ケネート３００Ｓ、タケネート５００（以上武田薬品社
製）、スミジュールＴ−８０、スミジュール４４Ｓ、ス
ミジュールＰＦ、スミジュールＬ、スミジュールＮ、デ
スモジュールＬ、デスモジュールＩＬ、デスモジュール
Ｎ、デスモジュールＨＬ、デスモジュールＴ６５、デス
モジュール１５、デスモジュールＲ、デスモジュールＲ
Ｆ、デスモジュールＳＬ、デスモジュールＺ４２７３
（以上住友バイエル社製）等があり、これらを単独若し
くは硬化反応性の差を利用して二つ若しくはそれ以上の
組み合わせによって使用することができる。

【００２８】また、硬化反応を促進する目的で、水酸基
（ブタンジオール、ヘキサンジオール、分子量が１００
０〜１００００のポリウレタン、水等）、アミノ基（モ
ノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン
等）を有する化合物や金属酸化物の触媒や鉄アセチルア
セトネート等の触媒を併用することもできる。これらの
水酸基やアミノ基を有する化合物は多官能であることが
望ましい。これらポリイソシアネートは研磨層、バック
層ともバインダー樹脂とポリイソシアネートの総量１０
０重量部あたり２〜７０重量部で使用することが好まし
く、より好ましくは５〜５０重量部である。

【００２９】本発明には必要に応じて研磨層中に潤滑剤
（無機微粉末、樹脂微粉末、有機化合物系、有機酸及び
有機酸エステル化合物、脂肪酸エステル類、脂肪酸或い
は脂肪酸アミド類、脂肪酸アルキルアミド類、脂肪族ア
ルコ−ル類、酸化防止剤等）を添加しても良い。本発明
において潤滑剤はバインダー１００重量部に対して０．
０１〜３０重量部の範囲で添加される。

【００３０】また本発明には必要に応じて、研磨材の分
散剤又は分散助剤（炭素数２〜４０個の脂肪酸、炭素数
４〜４０の高級アルコ−ル、金属石鹸、脂肪酸アミド及
びこれらの硫酸エステル等）、防黴剤（２−（４−チア
ゾリル）−ベンズイミダゾール、Ｎ−（フルオロジクロ
ロメチルチオ）−フタルイミド、１０，１０’−オキシ
ビスフェノキサルシン、２，４，５，６テトラクロロイ
ソフタロニトリル、Ｐ−トリルジヨードメチルスルホ
ン、トリヨードアリルアルコール、ジヒドロアセト酸、
フェニルオレイン酸水銀、酸化ビス（トリブチル錫）、
サルチルアニライド等）、帯電防止剤（カーボンブラッ
ク、酸化チタン−酸化錫−酸化アンチモン等の導電性粉
末、サポニン等の天然界面活性剤、ノニオン界面活性
剤、カチオン界面活性剤、アニオン界面活性剤、両性界
面活性剤等）を添加しても良い。これらは通常一種類以
上で用いられ、一種類の分散剤はバインダー１００重量
部に対して０．００５〜２０重量部の範囲で添加され
る。これら分散剤の使用方法は、研磨材や非研磨微粉末
の表面に予め被着させても良く、また分散途中で添加し
てもよい。

【００３１】本発明の分散、混練、塗布の際に使用する
有機溶媒としては、任意の比率でアセトン、メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノ
ン、イソホロン、テトラヒドロフラン等のケトン系；メ
タノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、イ
ソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、メチル
シクロヘキサノールなどのアルコール系；酢酸メチル、
酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプ
ロピル、乳酸エチル、酢酸グリコールモノエチルエーテ
ル等のエステル系；ジエチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、グリコールジメチルエーテル、グリコールモノエ
チルエーテル、ジオキサンなどのエーテル系；ベンゼ
ン、トルエン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼ
ン、スチレンなどのタール系（芳香族炭化水素）；メチ
レンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、ク
ロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロルベンゼ
ン等の塩素化炭化水素、Ｎ・Ｎ−ジメチルホルムアルデ
ヒド、ヘキサン等のものが使用できる。またこれら溶媒
は通常任意の比率で２種以上で用いる。また１重量％以
下の量で微量の不純物（その溶媒自身の重合物、水分、
原料成分等）を含んでもよい。

【００３２】研磨層の形成は上記の組成などを任意に組
合せて溶媒に溶解し、塗布溶液として支持体上に塗布・
乾燥する。この支持体の素材としては、ポリエチレンテ
レフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエス
テル類、ポリプロピレン等のポリオレフイン類、セルロ
ーストリアセテート、セルロースダイアセテート等のセ
ルロース誘導体、ポリ塩化ビニル等のビニル系樹脂類、
ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド、ポリスル
ホン等のプラスチックのほかにアルミニウム、銅等の金
属、ガラス等のセラミックス等も使用できる。使用する
支持体の厚みは２．５〜７００μｍ、望ましくは２５〜
１００μｍである。支持体は研磨層との密着性を向上さ
せるために塗布前に、コロナ放電処理、プラズマ処理、
ＥＢ処理、易接着層塗布処理、熱処理等の前処理を行っ
ても良い。

【００３３】分散、混練の方法には特に制限はなく、ま
た各成分の添加順序（樹脂、粉体、潤滑剤、溶媒等）、
分散・混練中の添加位置、分散温度（０〜８０℃）など
は適宜設定することができる。研磨塗料の調製には通常
の混練機、例えば、二本ロールミル、三本ロールミル、
ボールミル、ペブルミル、トロンミル、サンドグライン
ダー、ツェグバリ（Ｓｚｅｇｖａｒｉ）アトライター、
高速インペラー分散機、高速ストーンミル、高速度衝撃
ミル、ディスパー、ニーダー、高速ミキサー、リボンブ
レンダー、コニーダー、インテンシブミキサー、タンブ
ラー、ブレンダー、ディスパーザー、ホモジナイザー、
単軸スクリュー押し出し機、二軸スクリュー押し出し
機、及び超音波分散機などを用いることができる。これ
ら分散、混練の補助材料として分散・混練を効率よく進
めるため、球相当径で１０ｃｍφ〜０．０５ｍｍφの径
のスチールボール、スチールビーズ、セラミックビー
ズ、ガラスビーズ、有機ポリマービーズを用いることが
できる。またこれら材料は球形に限らない。

【００３４】支持体上へ前記の研磨層用塗布液を塗布す
る方法としては、塗布液の粘度を１〜２００００センチ
ストークス（２５℃）に調整し、エアードクターコータ
ー、ブレードコーター、エアナイフコーター、スクイズ
コーター、含浸コーター、リバースロールコーター、ト
ランスファーロールコーター、グラビアコーター、キス
コーター、キャストコーター、スプレイコーター、ロッ
ドコーター、正回転ロールコーター、カーテンコータ
ー、押出コーター、バーコーター、リップコータ等が利
用でき、その他の方法も可能である。また研磨層を多層
構成とする場合は、同時多層塗布、逐次多層塗布等を行
ってもよい。

【００３５】このような方法により、支持体上に塗布さ
れた塗布液は、２０℃（室温）〜１３０℃で多段階で乾
燥しながら、形成した研磨層を乾燥する。そして、上記
のように形成された研磨層表面の表面粗さを調整して平
滑性を高めるためにカレンダー処理を行う。このカレン
ダー処理におけるカレンダーロールの少なくとも一つが
金属ロールで、この金属ロールが研磨層表面に接触した
状態で加圧するのが好ましい。また、カレンダーロール
にはエポキシ、ポリイミド、ポリアミド、ポリイミドア
ミド等の耐熱性のあるプラスチックロールを使用するこ
とができ、金属ロール同士で処理することもできる。処
理温度は好ましくは４０〜１２０℃、線圧力は好ましく
は５０〜４００Kg／cm、速度は５〜５００ｍ／分であ
る。

【００３６】巻き取った後、打ち抜き加工、裁断加工等
で所定形状の研磨シートを形成する。これらの加工をす
る以前又は以後の研磨シートをバーニッシュ及び／又は
クリーニングすることが望ましい。

【００３７】表示加工は前記乾燥後、巻き取る直前ない
し裁断後の工程において処理することが望ましい。表示
方法は研磨層に印刷することができるものであれば良い
が、作業性やコスト等を考えると凸版方式、平版方式、
凹版方式、孔版方式、インクジェット方式、蒸着方式、
スパッタリング方式が望ましい。また表示加工前に、研
磨層表面にコロナ放電処理、プラズマ処理、ＥＢ処理、
熱処理等の研磨層とインキとの密着性を向上させるよう
な前処理を行っても良い。

【００３８】本発明に使用される印刷用インキは無機顔
料、有機顔料のうち１種類以上を含有する。無機顔料と
してはクロム鉛、硫酸鉛、水酸化鉛、クロム酸鉛、モリ
ブデン酸鉛、フェロシアン化鉄、酸化鉄、カドミウム系
顔料、酸化チタン、アルミナ、炭酸カルシウム、硫酸バ
リウム等がある。有機顔料としては不溶性アゾ色素系、
アゾレーキ系、スタロシアニン系、ケレート系、ニトロ
系、ジオインジゴー系、アンスラキノン系、ペリレン
系、キナクリドン系、スレン系、ジオキサジン系顔料と
しては縮合型アゾ系等がある。

【００３９】本発明に使用するビヒクルは乾燥油、合成
樹脂、天然樹脂、繊維系、ゴム誘導体のうち１種類以上
を含有する。ビヒクルとはインキの構成成分の中で液状
の部分を示す。乾燥油としては、亜麻仁油、シナキリ
油、エノ油、大豆油、魚油、脱水ヒマシ油、スチレン化
油、ビニルトルエン化油、マレイン油等がある。天然樹
脂としてはウッドロジン、重合ロジン、石灰硬化ロジ
ン、亜鉛硬化ロジン、ロジンエステル、セラック等があ
る。合成樹脂としてはフェノール樹脂、変性アルキド樹
脂、ポリアミド樹脂、コールタールピッチ、ステアリン
ピッチ等がある。繊維系としてはニトロセルロース、エ
チルセルロースがある。ゴム誘導体としては環化ゴム、
塩化ゴムがある。

【００４０】本発明に使用される研磨材、バインダー、
添加剤（潤滑剤、分散剤、帯電防止剤、表面処理剤、カ
ーボンブラック、遮光剤、酸化防止剤、防黴剤等）、溶
剤及び支持体（下塗層、バック層、バック下塗層を有し
てもよい）或いはその製法に関しては、特公昭５６−２
６８９０号等に記載されている製造方法等を参考にでき
る。

【００４１】

【実施例】以下に、本発明の実施例及び比較例を示し、
その特性を評価する。なお、実施例中の「部」は「重量
部」を示す。

【００４２】［実施例１］下記組成のＡ群原材料を溶
剤、バインダー、研磨材の順に投入し、Ａ群を全て投入
し終わったらサンドグラインダーで３時間分散する。こ
のあとＢ群の硬化剤、溶剤、希釈剤、潤滑剤を加え塗布
液を作成した。

【００４３】《塗布液組成》＜Ａ群＞研磨材；アルミナ（平均粒子サイズ１μｍ）１００部バインダー；塩化ビニル樹脂１０部バインダー；ポリウレタン（スルホン酸ナトリウム2×10^-3 当量/g樹脂含有、Mw70000）８部溶剤；ＭＥＫ／アノン＝２／１４０部＜Ｂ群＞潤滑剤；ステアリン酸／オレイン酸１部希釈剤；メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝２／１１２０部硬化剤；ポリイソシアネ−ト（トリメチロ−ルプロパン（１モル）のＴＤＩ（３モル）付加物）５部溶剤；メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝２／１２００部

【００４４】厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレ−
ト（ＰＥＴ）支持体上に、上記の手順で調整した研磨塗
料を粘度調整した後、乾燥後の厚さが５μｍになるよう
に塗布を行い研磨シートサンプルを作成した。作成した
研磨シートを１００ｍｍφに打ち抜き、非使用領域であ
るシート中央部の研磨層表面に凸版印刷により赤色の丸
いマーキングを行った。このサンプルで光ファイバーを
研磨して問題点を抽出した。

【００４５】［比較例１］実施例１と同様の手順及び組
成で研磨シートを作成し、その研磨層表面に紙製粘着シ
ールを貼り付けたサンプルを作成した。

【００４６】［比較例２］実施例１と同様の手順及び組
成で研磨シートを作成し、そのＰＥＴ面（支持体裏面）
に表示を印刷したサンプルを作成した。

【００４７】［比較例３］実施例１と同じ組成の塗料分
散中に染料を投入しサンドグラインダーで５時間攪拌し
た塗布液により、実施例１と同様の手順で研磨シートを
作成し、サンプルを作成した。

【００４８】［比較例４］実施例１と同様の手順及び組
成で研磨シートを作成し、その研磨層には何も加工せず
無表示のサンプルを作成した。

【００４９】［実施例２］下記組成のＣ群原材料を溶
剤、バインダー、研磨材の順に投入し、Ｃ群を全て投入
し終わったらサンドグラインダーで３時間分散する。こ
のあとＤ群の硬化剤、溶剤、希釈剤、潤滑剤を加え塗布
液を作成した。

【００５０】《塗布液組成》＜Ｃ群＞研磨材；アルミナ（平均粒子サイズ０．５μｍ）１００部バインダー；塩化ビニル樹脂１０部バインダー；ポリウレタン（スルホン酸ナトリウム2×10^-3 当量/g樹脂含有、Mw70000）８部溶剤；ＭＥＫ／アノン＝２／１４０部＜Ｄ群＞潤滑剤；ステアリン酸／オレイン酸１部希釈剤；メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝２／１１２０部硬化剤；ポリイソシアネ−ト（トリメチロ−ルプロパン（１モル）のＴＤＩ（３モル）付加物）５部溶剤；メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝２／１２００部

【００５１】厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレ−
ト（ＰＥＴ）支持体上に、上記の手順で調整した研磨塗
料を粘度調整した後、乾燥後の厚さが５μｍになるよう
に塗布を行い、粒度の異なる研磨シートサンプルを作成
した。作成した研磨シートを１００ｍｍφに打ち抜き、
非使用領域であるシート中央部の研磨層に凸版印刷によ
り黄色の三角形マーキングを行った。このサンプルで光
ファイバーを研磨して問題点を抽出した。

【００５２】［比較例５］実施例２と同様の手順及び組
成で研磨シートを作成し、その研磨層表面に紙製粘着シ
ールを貼り付けたサンプルを作成した。

【００５３】［比較例６］実施例２と同様の手順及び組
成で研磨シートを作成し、そのＰＥＴ面（支持体裏面）
に表示を印刷したサンプルを作成した。

【００５４】［比較例７］実施例２と同じ組成の塗料分
散中に染料を投入しサンドグラインダーで５時間攪拌し
た塗布液により、実施例２と同様の手順で研磨シートを
作成し、サンプルを作成した。

【００５５】［比較例８］実施例２と同様の手順及び組
成で研磨シートを作成し、その研磨層には何も加工せず
無表示のサンプルを作成した。

【００５６】［実施例３］下記組成のＥ群原材料を溶
剤、バインダー、研磨材の順に投入し、Ｅ群を全て投入
し終わったらサンドグラインダーで３時間分散する。こ
のあとＦ群の硬化剤、溶剤、希釈剤、潤滑剤、を加え塗
布液を作成した。

【００５７】《塗布液組成》＜Ｅ群＞研磨材；アルミナ（平均粒子サイズ０．１μｍ）１００部バインダー；塩化ビニル樹脂１０部バインダー；ポリウレタン（スルホン酸ナトリウム2×10^-3 当量/g樹脂含有、Mw70000）８部溶剤；ＭＥＫ／アノン＝２／１４０部＜Ｆ群＞潤滑剤；ステアリン酸／オレイン酸１部希釈剤；メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝２／１１２０部硬化剤；ポリイソシアネ−ト（トリメチロ−ルプロパン（１モル）のＴＤＩ（３モル）付加物）５部溶剤；メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝２／１２００部

【００５８】厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレ−
ト（ＰＥＴ）支持体上に、上記の手順で調整した研磨塗
料を粘度調整した後、乾燥後の厚さが５μｍになるよう
に塗布を行い粒度の異なる研磨シートサンプルを作成し
た。作成した研磨シートを１００ｍｍφに打ち抜き、非
使用領域であるシート中央部の研磨層に凸版印刷により
橙色の四角形マーキングを行った。このサンプルで光フ
ァイバーを研磨して問題点を抽出した。

【００５９】［比較例９］実施例３と同様の手順及び組
成で研磨シートを作成し、その研磨層表面に紙製粘着シ
ールを貼り付けたサンプルを作成した。

【００６０】［比較例１０］実施例３と同様の手順及び
組成で研磨シートを作成し、そのＰＥＴ面（支持体裏
面）に表示を印刷したサンプルを作成した。

【００６１】［比較例１１］実施例３と同じ組成の塗料
分散中に染料を投入しサンドグラインダーで５時間攪拌
した塗布液により、実施例３と同様の手順で研磨シート
を作成し、サンプルを作成した。

【００６２】［比較例１２］実施例３と同様の手順及び
組成で研磨シートを作成し、その研磨層には何も加工せ
ず無表示のサンプルを作成した。

【００６３】＜評価方法＞前記実施例１〜３及び比較例
１〜１２の研磨シートサンプルを下記の方法で評価し、
その結果を表１に示す。

【００６４】研磨層の確認のし易さ（研磨層面）：シー
トサンプル１０枚をテーブルに広げて無作為にひっくり
返した後、１０枚のシートを全て研磨層面に揃えるまで
の時間を測定した。１０秒以内に揃えたものを○、１１
〜２０秒で揃えたものを△、２１秒以上で揃えたものを
×と判定した。

【００６５】研磨層の確認のし易さ（粒度）：粒度
（０．１、０．５、１．０μｍ）の違うシートサンプル
各３枚ずつをテーブルに広げて無作為にひっくり返した
後、９枚のシートを全て粒度毎に揃えるまでの時間を測
定した。１０秒以内に揃えたものを○、１１〜２０秒で
揃えたものを△、２１秒以上で揃えたものを×と判定し
た。

【００６６】研磨工程の作業性：研磨作業中に発生する
問題を、被研磨体への影響の度合いによってランク分け
を行った。特に問題のないものを○、被研磨物に影響は
ないが作業性に影響を及ぼすものを△、被研磨物に影響
を及ぼすものを×と判定した。なお、この研磨工程は、
研削時間：６０秒、フェルールの研磨回転速度３０ｒｐ
ｍ（研磨シートＤ４０００で６０秒前処理研磨を実施し
た）、スラリー：０．０１μｍシリカスラリー（濃度１
０％水溶液）。

【００６７】＜評価結果＞表１より、実施例１〜３で
は、いずれも良好な結果であり、特に問題はなかった。
これに対し、比較例１，５，９の研磨層表面に紙製粘着
シールを貼付したものでは、研磨工程の作業性に難点が
あり、研磨して行くうちにシールがはがれてきて、シー
ルのはがれカスがシートに散らばる、また被研磨物に付
着する問題があった。また、比較例２，６，１０の裏面
に印刷表示を行ったものでは、研磨層確認のし易さに難
点があり、研磨層の識別に時間がかかる問題があった。
さらに、比較例３，７，１１の研磨層自体に色を付けた
ものでは、いずれの評価も低く、研磨層の識別に時間が
かかると共に、研磨中に染料が溶けだし被研磨物が汚れ
る問題があった。比較例４，８，１２の無表示のもので
は、研磨層確認のし易さに難点があり、研磨層の識別に
時間がかかる問題があった。

【００６８】

【表１】

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一つの実施の形態にかかる研磨シート
の断面構成図

【図２】一つの実施形態の表示を有する研磨シートの平
面図

【図３】他の実施形態の表示を有する研磨シートの平面
図

【符号の説明】１研磨シート２支持体３研磨層 3a 非使用領域 3b 使用領域５表示 31 研磨材粒子 32 バインダー

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】研磨材粒子とバインダーを含む研磨層が
支持体上に塗設されてなる研磨シートにおいて、前記研磨層の表面の非使用領域に、識別のための表示が
施されたことを特徴とする研磨シート。
【請求項２】前記表示が、回転状態で使用される円盤
状の研磨シートの中心部又は縁端部の非使用領域に付設
されたことを特徴とする請求項１に記載の研磨シート。
【請求項３】前記表示が、矩形状の研磨シートの縁端
部の非使用領域に付設されたことを特徴とする請求項１
に記載の研磨シート。
【請求項４】前記研磨材粒子の粒子サイズの違いによ
って、表示の色や形を変えることを特徴とする請求項１
〜３のいずれか１項に記載の研磨シート。
【請求項５】前記表示が、品番等の印字であることを
特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の研磨シ
ート。
【請求項６】前記表示が、凸版方式、平版方式、凹版
方式、孔版方式、インクジェット方式、蒸着方式又はス
パッタリング方式で施されたことを特徴とする請求項１
〜５のいずれか１項に記載の研磨シート。
【請求項７】凸版方式、平版方式、凹版方式、孔版方
式又はインクジェット方式に使用するインキの粘度が、
０．１〜３０００ポアズであることを特徴とする請求項
６に記載の研磨シート。
【請求項８】使用する印刷インキが無機顔料、有機顔
料のうち１種類以上を含有することを特徴とする請求項
７に記載の研磨シート。
【請求項９】使用するビヒクルが乾燥油、合成樹脂、
天然樹脂、繊維系、ゴム誘導体のうち１種類以上を含有
することを特徴とする請求項７に記載の研磨シート。
【請求項１０】蒸着方式、スパッタリング方式に使用
する金属が、アルミニウム、銀、金、酸化錫、アンチモ
ンチンオキサイド又はインジウムチンオキサイドである
ことを特徴とする請求項６に記載の研磨シート。