JP2001250680A - 発光素子およびその製造方法 - Google Patents
発光素子およびその製造方法Info
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Classifications
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/17—Passive-matrix OLED displays
-
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
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- H10K85/631—Amine compounds having at least two aryl rest on at least one amine-nitrogen atom, e.g. triphenylamine
-
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- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
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- H10K10/20—Organic diodes
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- H—ELECTRICITY
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- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
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- H10K2102/10—Transparent electrodes, e.g. using graphene
- H10K2102/101—Transparent electrodes, e.g. using graphene comprising transparent conductive oxides [TCO]
- H10K2102/103—Transparent electrodes, e.g. using graphene comprising transparent conductive oxides [TCO] comprising indium oxides, e.g. ITO
-
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/30—Coordination compounds
- H10K85/321—Metal complexes comprising a group IIIA element, e.g. Tris (8-hydroxyquinoline) gallium [Gaq3]
- H10K85/324—Metal complexes comprising a group IIIA element, e.g. Tris (8-hydroxyquinoline) gallium [Gaq3] comprising aluminium, e.g. Alq3
Abstract
(57)【要約】
【課題】 発光層としての有機薄膜層の劣化を抑制でき
る発光素子を提供する。 【解決手段】 電圧を印加することにより発光する発光
部本体20と、発光部本体20と直列に接続された整流
器10と、を備え、発光部本体20はNPB薄膜層23
を含み、整流器10はNPB薄膜12を有する。
る発光素子を提供する。 【解決手段】 電圧を印加することにより発光する発光
部本体20と、発光部本体20と直列に接続された整流
器10と、を備え、発光部本体20はNPB薄膜層23
を含み、整流器10はNPB薄膜12を有する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、発光層としての有
機薄膜層を備える発光素子およびその製造方法に関す
る。
機薄膜層を備える発光素子およびその製造方法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】互いに直交する方向にストライプ状に配
列された陽極および陰極の間に発光層としての有機薄膜
層を挟み込み、陽極および陰極の間に電圧を印加して発
光層を発光させることにより画像を表示する有機エレク
トロルミネッセンスパネルが知られている。いわゆるシ
ンプルマトリクス駆動では、陽極あるいは陰極のいずれ
かの電極を順次走査しつつ、他方の電極に信号電圧を印
加することにより、陽極および陰極の交差点に形成され
る所定の画素を発光させて任意の画像を表示することが
できる。
列された陽極および陰極の間に発光層としての有機薄膜
層を挟み込み、陽極および陰極の間に電圧を印加して発
光層を発光させることにより画像を表示する有機エレク
トロルミネッセンスパネルが知られている。いわゆるシ
ンプルマトリクス駆動では、陽極あるいは陰極のいずれ
かの電極を順次走査しつつ、他方の電極に信号電圧を印
加することにより、陽極および陰極の交差点に形成され
る所定の画素を発光させて任意の画像を表示することが
できる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、シンプルマト
リクス駆動においては線順次駆動によるため、1フレー
ム内における各画素の発光時間は短くならざるを得ず、
所定の明るさの画像を得るために高い瞬間輝度が必要と
なる。このため、発光層の発熱および発光により有機薄
膜の劣化が生じやすく、その結果として発光素子の寿命
が短くなる。
リクス駆動においては線順次駆動によるため、1フレー
ム内における各画素の発光時間は短くならざるを得ず、
所定の明るさの画像を得るために高い瞬間輝度が必要と
なる。このため、発光層の発熱および発光により有機薄
膜の劣化が生じやすく、その結果として発光素子の寿命
が短くなる。
【0004】本発明は、発光層としての有機薄膜層の劣
化を抑制できる発光素子およびその製造方法を提供する
ことを目的とする。
化を抑制できる発光素子およびその製造方法を提供する
ことを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明の発光素子(10
0)は、電圧を印加することにより発光する発光部本体
(20)と、発光部本体(20)と直列に接続された整
流器(10)と、を備え、発光部本体(20)は有機薄
膜層(23)を含み、整流器(10)は有機薄膜(1
2)を用いることを特徴とする。
0)は、電圧を印加することにより発光する発光部本体
(20)と、発光部本体(20)と直列に接続された整
流器(10)と、を備え、発光部本体(20)は有機薄
膜層(23)を含み、整流器(10)は有機薄膜(1
2)を用いることを特徴とする。
【0006】この発明によれば、発光部本体(20)と
直列に接続された整流器(10)を備えるので、逆電圧
の印加時に整流器(10)の弁作用により発光素子(1
00)はその内部で閉回路を構成して発光部本体(2
0)が有するキャパシタに残留している電荷が発光層
(23,24)に流れ、その間、発光部本体(20)の
発光が継続する。したがって、一走査における発光時間
をキャパシタの放出電荷による残留発光分だけ増すこと
ができ、瞬間輝度を低下させることができるため、発光
部本体(20)の劣化が抑制されて長寿命の発光素子
(100)が得られる。
直列に接続された整流器(10)を備えるので、逆電圧
の印加時に整流器(10)の弁作用により発光素子(1
00)はその内部で閉回路を構成して発光部本体(2
0)が有するキャパシタに残留している電荷が発光層
(23,24)に流れ、その間、発光部本体(20)の
発光が継続する。したがって、一走査における発光時間
をキャパシタの放出電荷による残留発光分だけ増すこと
ができ、瞬間輝度を低下させることができるため、発光
部本体(20)の劣化が抑制されて長寿命の発光素子
(100)が得られる。
【0007】有機薄膜(12)を有機薄膜層(23)と
同一の材料から構成してもよい。この場合には、絶縁層
(12)および有機薄膜層(23)の形成工程を共通化
できるので、発光素子の製造工程を簡略化できるととも
に製造コストを低減できる。
同一の材料から構成してもよい。この場合には、絶縁層
(12)および有機薄膜層(23)の形成工程を共通化
できるので、発光素子の製造工程を簡略化できるととも
に製造コストを低減できる。
【0008】整流器(10)を構成する各層(11,1
2,13)と、発光部本体(20)を構成する各層(2
1,22,23,24,25)とが互いに重なり合う位
置に設けられていてもよい。この場合には、整流器(1
0)のための専用の領域を確保する必要がないため、発
光層として寄与する領域の面積が抑制されず、例えば、
表示パネルとしての開口率を大きくとることができる。
2,13)と、発光部本体(20)を構成する各層(2
1,22,23,24,25)とが互いに重なり合う位
置に設けられていてもよい。この場合には、整流器(1
0)のための専用の領域を確保する必要がないため、発
光層として寄与する領域の面積が抑制されず、例えば、
表示パネルとしての開口率を大きくとることができる。
【0009】本発明の発光素子(100)の製造方法
は、電圧を印加することにより発光する発光部本体(2
0)と、有機薄膜を有し発光部本体(20)と直列に接
続された整流器(10)と、を備える発光素子の製造方
法であって、発光部本体(20)に含まれる有機薄膜層
(23)を形成する工程と、整流器(10)の有機薄膜
(12)を形成する工程と、を備えることを特徴とする
発光素子の製造方法。
は、電圧を印加することにより発光する発光部本体(2
0)と、有機薄膜を有し発光部本体(20)と直列に接
続された整流器(10)と、を備える発光素子の製造方
法であって、発光部本体(20)に含まれる有機薄膜層
(23)を形成する工程と、整流器(10)の有機薄膜
(12)を形成する工程と、を備えることを特徴とする
発光素子の製造方法。
【0010】この発明によれば、発光部本体(20)と
直列に接続された整流器(10)を備えるので、逆電圧
の印加時に整流器(10)の弁作用により一走査におけ
る発光時間をキャパシタの放出電荷による残留発光分だ
け増すことができ、瞬間輝度を低下させることができる
ため、発光部本体(20)の劣化が抑制されて長寿命の
発光素子(100)が得られる。
直列に接続された整流器(10)を備えるので、逆電圧
の印加時に整流器(10)の弁作用により一走査におけ
る発光時間をキャパシタの放出電荷による残留発光分だ
け増すことができ、瞬間輝度を低下させることができる
ため、発光部本体(20)の劣化が抑制されて長寿命の
発光素子(100)が得られる。
【0011】整流器(10)の有機薄膜(12)は有機
薄膜層(23)と同一材料により形成されてもよい。
薄膜層(23)と同一材料により形成されてもよい。
【0012】この場合には、有機薄膜層(23)と同一
材料により整流器(10)の有機薄膜(12)が形成さ
れるので、工程の単純化およびコストダウンを図ること
ができる。
材料により整流器(10)の有機薄膜(12)が形成さ
れるので、工程の単純化およびコストダウンを図ること
ができる。
【0013】有機薄膜層(23)および整流器(10)
の有機薄膜(12)は同一の成膜法を用いて形成されて
もよい。
の有機薄膜(12)は同一の成膜法を用いて形成されて
もよい。
【0014】この場合には、有機薄膜層(23)および
有機薄膜(12)は同一の成膜法を用いて形成されるの
で、工程の単純化および成膜装置の共通化が図られ、製
造コストを低減できる。
有機薄膜(12)は同一の成膜法を用いて形成されるの
で、工程の単純化および成膜装置の共通化が図られ、製
造コストを低減できる。
【0015】この場合、有機薄膜層(23)および絶縁
層(12)の成膜法として蒸着法を用いることもできる
し、スピンコート法を用いることもできる。
層(12)の成膜法として蒸着法を用いることもできる
し、スピンコート法を用いることもできる。
【0016】なお、本発明の理解を容易にするために添
付図面の参照符号を括弧書きにて付記するが、それによ
り本発明が図示の形態に限定されるものではない。
付図面の参照符号を括弧書きにて付記するが、それによ
り本発明が図示の形態に限定されるものではない。
【0017】
【発明の実施の形態】以下、図1〜図6を参照して、本
発明の有機電界発光素子をエレクトロルミネッセンスパ
ネルを構成する発光素子に適用した一実施形態について
説明する。
発明の有機電界発光素子をエレクトロルミネッセンスパ
ネルを構成する発光素子に適用した一実施形態について
説明する。
【0018】図1はエレクトロルミネッセンスパネルの
一画素を構成する発光素子を示す断面図、図2は発光素
子を示す平面図である。
一画素を構成する発光素子を示す断面図、図2は発光素
子を示す平面図である。
【0019】図1および図2に示すように、発光素子1
00は、ガラス基板1と、ガラス基板1上に形成された
整流器10と、整流器10上に形成された発光部本体2
0とを備える。
00は、ガラス基板1と、ガラス基板1上に形成された
整流器10と、整流器10上に形成された発光部本体2
0とを備える。
【0020】図1に示すように、整流器10はガラス基
板1の表面に形成されたITO電極11と、ITO電極
11上に形成された絶縁層としてのNPB(4,4'-bis[N
-(1-naphthyl)-N-phenylamino] biphenyl)薄膜層12
と、NPB薄膜層12上に形成されたアルミニウム電極
13とからなる。このように、整流器10は有機薄膜を
有する。
板1の表面に形成されたITO電極11と、ITO電極
11上に形成された絶縁層としてのNPB(4,4'-bis[N
-(1-naphthyl)-N-phenylamino] biphenyl)薄膜層12
と、NPB薄膜層12上に形成されたアルミニウム電極
13とからなる。このように、整流器10は有機薄膜を
有する。
【0021】発光部本体20は、整流器10のアルミニ
ウム電極13上に形成されたITO電極21と、ITO
電極21上に形成されたCuPc(Copper phthalocyan
ine:銅フタロシアニン)薄膜層22と、CuPc薄膜
層22上に形成された有機薄膜層としてのNPB(4,4'
-bis[N-(1-naphthyl)-N-phenylamino] biphenyl)薄膜
層23と、NPB薄膜層23上に形成されたALQ(tr
is (β-hydroxyquinolinato) aluminum)薄膜層24
と、ALQ薄膜層24上に形成されたアルミニウム電極
25とを備える。
ウム電極13上に形成されたITO電極21と、ITO
電極21上に形成されたCuPc(Copper phthalocyan
ine:銅フタロシアニン)薄膜層22と、CuPc薄膜
層22上に形成された有機薄膜層としてのNPB(4,4'
-bis[N-(1-naphthyl)-N-phenylamino] biphenyl)薄膜
層23と、NPB薄膜層23上に形成されたALQ(tr
is (β-hydroxyquinolinato) aluminum)薄膜層24
と、ALQ薄膜層24上に形成されたアルミニウム電極
25とを備える。
【0022】図3(a)および図3(b)は発光素子の
電気的等価回路図である。アルミニウム電極25および
ITO電極11はそれぞれエレクトロルミネッセンスパ
ネルに形成された正電極31(図3(a))および負電
極32(図3(a))に接続され、発光部本体20およ
び整流器10は正電極31および負電極32の間に直列
に接続された状態となる。電気等価的に発光部本体20
はダイオード41およびキャパシタ42を並列接続した
ものとして表される。図3(b)に示すように、正電極
31および負電極32の間に所定の電圧を印加すること
により、アルミニウム電極25からITO電極11に向
かって、ALQ薄膜層24、NPB薄膜層23、CuP
c薄膜層22、ITO電極21、アルミニウム電極13
およびNPB薄膜層12を横断して電流iが流れ、AL
Q薄膜層24が発光する。なお、正電極31はアルミニ
ウム電極25と、負電極32はITO電極11と、それ
ぞれ同一の層として共通の工程で同時に形成してもよ
い。
電気的等価回路図である。アルミニウム電極25および
ITO電極11はそれぞれエレクトロルミネッセンスパ
ネルに形成された正電極31(図3(a))および負電
極32(図3(a))に接続され、発光部本体20およ
び整流器10は正電極31および負電極32の間に直列
に接続された状態となる。電気等価的に発光部本体20
はダイオード41およびキャパシタ42を並列接続した
ものとして表される。図3(b)に示すように、正電極
31および負電極32の間に所定の電圧を印加すること
により、アルミニウム電極25からITO電極11に向
かって、ALQ薄膜層24、NPB薄膜層23、CuP
c薄膜層22、ITO電極21、アルミニウム電極13
およびNPB薄膜層12を横断して電流iが流れ、AL
Q薄膜層24が発光する。なお、正電極31はアルミニ
ウム電極25と、負電極32はITO電極11と、それ
ぞれ同一の層として共通の工程で同時に形成してもよ
い。
【0023】次に、図4(a)〜図4(i)を参照して
発光素子100の製造方法について説明する。
発光素子100の製造方法について説明する。
【0024】まず、図4(a)および図4(b)に示す
ようにスパッタリング法を用いてガラス基板1上にIT
O電極11を形成し、次に、図4(c)に示すように蒸
着法を用いてITO電極11上にNPB薄膜層12を1
50Å厚に形成する。次に、図4(d)に示すように蒸
着法を用いてNPB薄膜層12上にアルミニウム電極1
3を1000Å厚に形成し、図4(e)に示すようにス
パッタリング法を用いてアルミニウム電極13上にIT
O電極21を形成する。
ようにスパッタリング法を用いてガラス基板1上にIT
O電極11を形成し、次に、図4(c)に示すように蒸
着法を用いてITO電極11上にNPB薄膜層12を1
50Å厚に形成する。次に、図4(d)に示すように蒸
着法を用いてNPB薄膜層12上にアルミニウム電極1
3を1000Å厚に形成し、図4(e)に示すようにス
パッタリング法を用いてアルミニウム電極13上にIT
O電極21を形成する。
【0025】次に、図4(f)に示すように蒸着法を用
いてITO電極21上にCuPc薄膜層22を250Å
厚に形成し、図4(g)に示すように蒸着法を用いてC
uPc薄膜層22上にNPB薄膜層23を450Å厚に
形成する。続いて、図4(h)に示すように蒸着法を用
いてNPB薄膜層23上にALQ薄膜層24を600Å
厚に形成し、図4(i)に示すように蒸着法を用いてA
LQ薄膜層24上にアルミニウム電極25を12000
Å厚に形成することにより、発光素子100が製造され
る。
いてITO電極21上にCuPc薄膜層22を250Å
厚に形成し、図4(g)に示すように蒸着法を用いてC
uPc薄膜層22上にNPB薄膜層23を450Å厚に
形成する。続いて、図4(h)に示すように蒸着法を用
いてNPB薄膜層23上にALQ薄膜層24を600Å
厚に形成し、図4(i)に示すように蒸着法を用いてA
LQ薄膜層24上にアルミニウム電極25を12000
Å厚に形成することにより、発光素子100が製造され
る。
【0026】発光素子100では、発光部本体20を構
成する層としてのNPB薄膜層23および整流器の絶縁
層としてのNPB薄膜層12に、同一材料であるNPB
を使用しているため、これらの層の形成に同一装置およ
び同一工程を使用することができ、製造工程の簡略化お
よび発光素子100の製造コストの低減を図ることがで
きる。
成する層としてのNPB薄膜層23および整流器の絶縁
層としてのNPB薄膜層12に、同一材料であるNPB
を使用しているため、これらの層の形成に同一装置およ
び同一工程を使用することができ、製造工程の簡略化お
よび発光素子100の製造コストの低減を図ることがで
きる。
【0027】また、発光素子100では、整流器10を
構成する各層と、発光部本体20を構成する層としての
NPB薄膜層23とを図1における上下方向に積層して
形成しているので、整流器10のための専用の領域をエ
レクトロルミネッセンスパネル上に確保する必要がな
い。したがって、発光層の面積が抑制されず、表示パネ
ルとしての開口率を大きくとることができる。
構成する各層と、発光部本体20を構成する層としての
NPB薄膜層23とを図1における上下方向に積層して
形成しているので、整流器10のための専用の領域をエ
レクトロルミネッセンスパネル上に確保する必要がな
い。したがって、発光層の面積が抑制されず、表示パネ
ルとしての開口率を大きくとることができる。
【0028】次に、発光素子100をAC駆動法で電流
駆動により走査した場合に発光素子100の両端の電
極、すなわちITO電極11およびアルミニウム電極2
5の間に生じる電圧波形および瞬時について説明する。
駆動により走査した場合に発光素子100の両端の電
極、すなわちITO電極11およびアルミニウム電極2
5の間に生じる電圧波形および瞬時について説明する。
【0029】図5(a)はAC駆動時における走査前後
の電圧波形を示した図であり、縦軸は時間を表してい
る。図5(a)において、T1は走査時間を、T2は発
光本体部20のキャパシタ42(図3(a)および
(b))のチャージ時間であり、T3はキャパシタ42
のディスチャージ時間である。また、図中VFは素子の
特性で決まる最大発光時における順方向電圧である。
の電圧波形を示した図であり、縦軸は時間を表してい
る。図5(a)において、T1は走査時間を、T2は発
光本体部20のキャパシタ42(図3(a)および
(b))のチャージ時間であり、T3はキャパシタ42
のディスチャージ時間である。また、図中VFは素子の
特性で決まる最大発光時における順方向電圧である。
【0030】図5(a)から判るように、発光素子10
0が走査されて順方向の印加電圧により電流が注入され
るが、はじめのうちはキャパシタ42への電荷のチャー
ジに費やされてしまい、その間は発光しない。次に、チ
ャージ時間T2が経過して順方向電圧VFに達すると発
光部本体20は発光する。また、走査が終わって逆電圧
が印加されると整流器10の弁作用により発光素子10
0には電流が注入されず、発光素子100はその内部で
閉回路を構成してキャパシタ42に残留している電荷が
ダイオード41に流れるので、その間、発光部本体20
の発光が継続する。このため、一走査における素子の平
均輝度は、従来に比べてキャパシタ42の放出電荷によ
る残留発光分だけ増すことになる。
0が走査されて順方向の印加電圧により電流が注入され
るが、はじめのうちはキャパシタ42への電荷のチャー
ジに費やされてしまい、その間は発光しない。次に、チ
ャージ時間T2が経過して順方向電圧VFに達すると発
光部本体20は発光する。また、走査が終わって逆電圧
が印加されると整流器10の弁作用により発光素子10
0には電流が注入されず、発光素子100はその内部で
閉回路を構成してキャパシタ42に残留している電荷が
ダイオード41に流れるので、その間、発光部本体20
の発光が継続する。このため、一走査における素子の平
均輝度は、従来に比べてキャパシタ42の放出電荷によ
る残留発光分だけ増すことになる。
【0031】次に、発光素子100を駆動する走査数を
次第に増して走査速度を上げてゆくと、ついには発光素
子100の1つの走査が終わった後、キャパシタ42に
残留している電荷が発光部本体20に流れ終わる前に次
の走査が巡ってくるようになって、その結果、発光素子
100は発光したままになる。
次第に増して走査速度を上げてゆくと、ついには発光素
子100の1つの走査が終わった後、キャパシタ42に
残留している電荷が発光部本体20に流れ終わる前に次
の走査が巡ってくるようになって、その結果、発光素子
100は発光したままになる。
【0032】また、高速で走査されている場合は発光素
子100のチャージ時間に比べて電流の切替えの方が早
いので、発光素子100に流し込まれた電流はキャパシ
タ42へのチャージに費やされてしまうため、発光素子
100の両端に発生する電圧波形は図5(b)のように
なり、発光素子100の静特性によって決まる順方向電
圧VFには達しない。なお、図5(b)のT4は走査時
間を示している。
子100のチャージ時間に比べて電流の切替えの方が早
いので、発光素子100に流し込まれた電流はキャパシ
タ42へのチャージに費やされてしまうため、発光素子
100の両端に発生する電圧波形は図5(b)のように
なり、発光素子100の静特性によって決まる順方向電
圧VFには達しない。なお、図5(b)のT4は走査時
間を示している。
【0033】また、図5(c)に示すように発光素子1
00が高速で走査されている場合の瞬時発光輝度L1
は、低速で走査されている場合の瞬時発光輝度L2の最
大値(図中のLP)には達しないが、その平均発光輝度
(図中のLA)は、平均をとる時間内に発光素子100
に注入された全電荷量と発光素子100の量子効率の積
で決まるので、走査デューティを変えないならば、走査
速度には依存しないでほぼ一定の値を有することにな
る。
00が高速で走査されている場合の瞬時発光輝度L1
は、低速で走査されている場合の瞬時発光輝度L2の最
大値(図中のLP)には達しないが、その平均発光輝度
(図中のLA)は、平均をとる時間内に発光素子100
に注入された全電荷量と発光素子100の量子効率の積
で決まるので、走査デューティを変えないならば、走査
速度には依存しないでほぼ一定の値を有することにな
る。
【0034】次に発光素子100の高速走査時における
動作について、図6を用いて説明する。図6は発光素子
100を用いたエレクトロルミネッセンスパネルの等価
回路を示す図である。図6において発光部本体20と整
流器10とが直列接続されN×N個(図6では4個のみ
示している)のマトリクス構成で配列され、N個の素子
が接続されたN本の走査線を備える。また、それぞれの
発光素子100の陰極にはスイッチ51によって駆動源
52の電圧が同時に印加され、発光素子100の陽極に
はスイッチ53によってN個の素子列が順次走査されて
各列の発光素子100が順次発光するように構成されて
いる。また、54は走査されている発光素子100を光
らせない場合に発光素子100に逆電圧を印加するため
の外部抵抗であり、55は駆動回路全体の電源である。
動作について、図6を用いて説明する。図6は発光素子
100を用いたエレクトロルミネッセンスパネルの等価
回路を示す図である。図6において発光部本体20と整
流器10とが直列接続されN×N個(図6では4個のみ
示している)のマトリクス構成で配列され、N個の素子
が接続されたN本の走査線を備える。また、それぞれの
発光素子100の陰極にはスイッチ51によって駆動源
52の電圧が同時に印加され、発光素子100の陽極に
はスイッチ53によってN個の素子列が順次走査されて
各列の発光素子100が順次発光するように構成されて
いる。また、54は走査されている発光素子100を光
らせない場合に発光素子100に逆電圧を印加するため
の外部抵抗であり、55は駆動回路全体の電源である。
【0035】ここでエレクトロルミネッセンスパネルの
走査速度を増してゆき、一走査に必要な時間が各素子の
キャパシタ42の放電時間よりも短くなると、各走査線
を構成する発光素子100のキャパシタ42に残留して
いる電荷が発光部本体20に流れ終わる前に次の走査が
巡ってくるようになって、その結果、発光素子100は
発光したままになる。したがって各発光素子100のキ
ャパシタ42にチャージされる電荷が外部に引き抜かれ
ることなく発光素子100の発光に用いられるので発光
効率が上がる。また、各発光素子100のピーク輝度が
平均輝度に近くなるので発光素子100にかかる負担が
少なくなり、各発光素子100は大幅に寿命を増す。ま
た各発光素子100に発生するピーク電圧も平均輝度を
発生させるに必要な平均電圧ですむため、駆動回路の電
源55の電圧を低く抑えることができ、消費電力の抑制
を図ることができるとともに、過電圧による発光素子1
00の破損も防止できる。
走査速度を増してゆき、一走査に必要な時間が各素子の
キャパシタ42の放電時間よりも短くなると、各走査線
を構成する発光素子100のキャパシタ42に残留して
いる電荷が発光部本体20に流れ終わる前に次の走査が
巡ってくるようになって、その結果、発光素子100は
発光したままになる。したがって各発光素子100のキ
ャパシタ42にチャージされる電荷が外部に引き抜かれ
ることなく発光素子100の発光に用いられるので発光
効率が上がる。また、各発光素子100のピーク輝度が
平均輝度に近くなるので発光素子100にかかる負担が
少なくなり、各発光素子100は大幅に寿命を増す。ま
た各発光素子100に発生するピーク電圧も平均輝度を
発生させるに必要な平均電圧ですむため、駆動回路の電
源55の電圧を低く抑えることができ、消費電力の抑制
を図ることができるとともに、過電圧による発光素子1
00の破損も防止できる。
【0036】上記実施形態では、整流器の絶縁層材料と
してNPBを用いているが、CuPc(Copper Phtharo
cyanine:銅フタロシアニン)、MTDATA(4,4',
4''-tris[N-(3-methylphenyl)-N-phenylamino]tripheny
lamine:4,4',4''-トリス[N-(3-メチルフェニル)-N-フ
ェニルアミノ]トリフェニルアミン)、TPD(triphen
yl diamine:トリフェニルジアミン)等、他の有機材料
を用いてもよい。
してNPBを用いているが、CuPc(Copper Phtharo
cyanine:銅フタロシアニン)、MTDATA(4,4',
4''-tris[N-(3-methylphenyl)-N-phenylamino]tripheny
lamine:4,4',4''-トリス[N-(3-メチルフェニル)-N-フ
ェニルアミノ]トリフェニルアミン)、TPD(triphen
yl diamine:トリフェニルジアミン)等、他の有機材料
を用いてもよい。
【0037】また、上記実施形態では発光部本体20を
構成するNPB薄膜層23と、整流器10の絶縁層とし
てのNPB薄膜層12とを同一材料を用いて形成してい
るが、これらの層を異なる有機材料から構成してもよ
い。
構成するNPB薄膜層23と、整流器10の絶縁層とし
てのNPB薄膜層12とを同一材料を用いて形成してい
るが、これらの層を異なる有機材料から構成してもよ
い。
【0038】さらに、上記実施形態では発光部本体20
を構成する各層と、整流器10を構成する各層とを互い
に積層して形成しているが、整流器を形成するための領
域を発光部本体の領域と分離して設けてもよい。
を構成する各層と、整流器10を構成する各層とを互い
に積層して形成しているが、整流器を形成するための領
域を発光部本体の領域と分離して設けてもよい。
【0039】上記実施形態では、整流器10の絶縁層と
してのNPB薄膜層12および発光部本体20を構成す
る層としてのNPB薄膜層23の形成に蒸着法を用いて
いるが、スピンコート法によって両者を形成してもよ
い。この場合、各層上にフォトレジストをスピンコート
した後、露光、現像工程によりレジストを所定形状に形
成し、さらに現像処理によって各層の露出部分を溶解さ
せることにより、所定形状を得ることができる。
してのNPB薄膜層12および発光部本体20を構成す
る層としてのNPB薄膜層23の形成に蒸着法を用いて
いるが、スピンコート法によって両者を形成してもよ
い。この場合、各層上にフォトレジストをスピンコート
した後、露光、現像工程によりレジストを所定形状に形
成し、さらに現像処理によって各層の露出部分を溶解さ
せることにより、所定形状を得ることができる。
【0040】上記実施形態においては、有機エレクトロ
ルミネッセンス素子を例示したが、有機エレクトロルミ
ネッセンス素子に限らず、その等価電気回路において発
光部本体と並列にキャパシタを有する発光ダイオード
等、他の自己発光型素子についても本発明を適用でき
る。また、発光部本体と並列に接続されるコンデンサー
を発光素子内に形成して意図的に発光部本体に容量を付
加するようにしてもよい。
ルミネッセンス素子を例示したが、有機エレクトロルミ
ネッセンス素子に限らず、その等価電気回路において発
光部本体と並列にキャパシタを有する発光ダイオード
等、他の自己発光型素子についても本発明を適用でき
る。また、発光部本体と並列に接続されるコンデンサー
を発光素子内に形成して意図的に発光部本体に容量を付
加するようにしてもよい。
【0041】
【発明の効果】本発明の発光素子によれば、発光部本体
と直列に接続された整流器を備えるので、逆電圧の印加
時に整流器の弁作用により発光素子はその内部で閉回路
を構成して発光部本体が有するキャパシタに残留してい
る電荷が発光層に流れるので、その間、発光部本体の発
光が継続する。したがって、一走査における発光時間を
キャパシタの放出電荷による残留発光分だけ増すことが
でき、瞬間輝度を低下させることができるため、発光部
本体の劣化が抑制されて長寿命の発光素子が得られる。
と直列に接続された整流器を備えるので、逆電圧の印加
時に整流器の弁作用により発光素子はその内部で閉回路
を構成して発光部本体が有するキャパシタに残留してい
る電荷が発光層に流れるので、その間、発光部本体の発
光が継続する。したがって、一走査における発光時間を
キャパシタの放出電荷による残留発光分だけ増すことが
でき、瞬間輝度を低下させることができるため、発光部
本体の劣化が抑制されて長寿命の発光素子が得られる。
【0042】また、本発明の発光素子の製造方法によれ
ば、有機薄膜層と同一材料により絶縁層が形成されると
ともに、有機薄膜層および絶縁層は同一の成膜法を用い
て形成されるので、工程の単純化および成膜装置の共通
化が図られ、製造コストを低減できる。
ば、有機薄膜層と同一材料により絶縁層が形成されると
ともに、有機薄膜層および絶縁層は同一の成膜法を用い
て形成されるので、工程の単純化および成膜装置の共通
化が図られ、製造コストを低減できる。
【図1】エレクトロルミネッセンスパネルの一画素を構
成する発光素子を示す断面図。
成する発光素子を示す断面図。
【図2】図1のII−II線方向から見た発光素子の平面
図。
図。
【図3】発光素子の電気的等価回路図であり、(a)は
エレクトロルミネッセンスパネル上の発光素子の電気的
等価回路図、(b)は発光素子における電流を示す図。
エレクトロルミネッセンスパネル上の発光素子の電気的
等価回路図、(b)は発光素子における電流を示す図。
【図4】発光素子100の製造方法を示す図であり、
(a)はガラス基板の断面図、(b)は(a)に続く工
程を示す断面図、(c)は(b)に続く工程を示す断面
図、(d)は(c)に続く工程を示す断面図、(e)は
(d)に続く工程を示す断面図、(f)は(e)に続く
工程を示す断面図、(g)は(f)に続く工程を示す断
面図、(h)は(g)に続く工程を示す断面図、(i)
は(h)に続く工程を示す断面図。
(a)はガラス基板の断面図、(b)は(a)に続く工
程を示す断面図、(c)は(b)に続く工程を示す断面
図、(d)は(c)に続く工程を示す断面図、(e)は
(d)に続く工程を示す断面図、(f)は(e)に続く
工程を示す断面図、(g)は(f)に続く工程を示す断
面図、(h)は(g)に続く工程を示す断面図、(i)
は(h)に続く工程を示す断面図。
【図5】AC駆動時における走査前後の電圧波形等を示
す図であり、(a)は走査速度が小さい場合の電圧波形
を示す図、(b)は走査速度が大きい場合の電圧波形を
示す図であり、(c)は走査速度を変化させた場合の瞬
時発光輝度を示す図である。
す図であり、(a)は走査速度が小さい場合の電圧波形
を示す図、(b)は走査速度が大きい場合の電圧波形を
示す図であり、(c)は走査速度を変化させた場合の瞬
時発光輝度を示す図である。
【図6】エレクトロルミネッセンスパネルの等価回路を
示す図。
示す図。
10 整流器 11 ITO電極 12 NPB薄膜層(有機薄膜) 13 アルミニウム電極 20 発光部本体 21 ITO電極 22 CuPc薄膜層 23 NPB薄膜層(有機薄膜層) 24 ALQ薄膜層 25 アルミニウム電極 100 発光素子
フロントページの続き (72)発明者 奥田 義行 埼玉県鶴ケ島市富士見6丁目1番1号 パ イオニア株式会社総合研究所内 (72)発明者 牛草 義祐 埼玉県鶴ケ島市富士見6丁目1番1号 パ イオニア株式会社総合研究所内 (72)発明者 土田 正美 埼玉県鶴ケ島市富士見6丁目1番1号 パ イオニア株式会社総合研究所内 Fターム(参考) 3K007 AB05 DA02 DA06 FA01 5C080 AA06 BB05 DD18 EE32 FF12 HH21 JJ03 JJ04 JJ06 KK02
Claims (8)
- 【請求項1】 電圧を印加することにより発光する発光
部本体と、 前記発光部本体と直列に接続された整流器と、を備え、 前記発光部本体は有機薄膜層を含み、前記整流器は有機
薄膜を用いることを特徴とする発光素子。 - 【請求項2】 前記整流器の有機薄膜は前記有機薄膜層
と同一の材料からなることを特徴とする請求項1に記載
の発光素子。 - 【請求項3】 前記整流器を構成する各層と、前記発光
部本体を構成する各層とが互いに重なり合う位置に設け
られていることを特徴とする請求項1または2に記載の
発光素子。 - 【請求項4】 電圧を印加することにより発光する発光
部本体と、有機薄膜を有し前記発光部本体と直列に接続
された整流器と、を備える発光素子の製造方法であっ
て、 前記発光部本体に含まれる有機薄膜層を形成する工程
と、 前記整流器の有機薄膜を形成する工程と、を備えること
を特徴とする発光素子の製造方法。 - 【請求項5】 前記整流器の有機薄膜は前記有機薄膜層
と同一材料により形成されることを特徴とする請求項4
に記載の発光素子の製造方法。 - 【請求項6】 前記有機薄膜層および整流器の有機薄膜
は同一の成膜法を用いて形成されることを特徴とする請
求項4または5に記載の発光素子の製造方法。 - 【請求項7】 前記成膜法として蒸着法を用いることを
特徴とする請求項6に記載の発光素子の製造方法。 - 【請求項8】 前記成膜法としてスピンコート法を用い
ることを特徴とする請求項6に記載の発光素子の製造方
法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000067185A JP2001250680A (ja) | 2000-03-07 | 2000-03-07 | 発光素子およびその製造方法 |
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Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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ID=18586421
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Country | Link |
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JP (1) | JP2001250680A (ja) |
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JPWO2005017859A1 (ja) * | 2003-08-19 | 2007-10-04 | 富士電機ホールディングス株式会社 | 表示装置及びその駆動方法 |
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WO2005111975A1 (ja) * | 2004-05-17 | 2005-11-24 | Fuji Electric Holdings Co., Ltd. | 表示装置 |
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JPH08330070A (ja) * | 1995-05-29 | 1996-12-13 | Pioneer Electron Corp | 発光素子の駆動法 |
JP2762993B2 (ja) * | 1996-11-19 | 1998-06-11 | 日本電気株式会社 | 発光装置及びその製造方法 |
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US6350996B1 (en) * | 1998-04-24 | 2002-02-26 | Canon Kabushiki Kaisha | Light emitting diode device |
GB9812742D0 (en) * | 1998-06-12 | 1998-08-12 | Philips Electronics Nv | Active matrix electroluminescent display devices |
JP2000195664A (ja) * | 1998-12-24 | 2000-07-14 | Rohm Co Ltd | 発光装置 |
-
2000
- 2000-03-07 JP JP2000067185A patent/JP2001250680A/ja active Pending
-
2001
- 2001-03-06 US US09/799,123 patent/US6791277B2/en not_active Expired - Fee Related
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JPWO2018087964A1 (ja) * | 2016-11-11 | 2019-09-26 | Necライティング株式会社 | 有機el装置 |
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