JP2001249462A - 露光装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ２通りのガラス基板の位置決めを可能にし、
自動にてプレート回転機構が回転し、効率よくパネルを
生産できるようにする。 【解決手段】 被露光体である基板９を位置合わせした
後露光できる露光用ステージを構成するバーミラー取付
け板３と、基板９を固定できる保持版としてのプレート
チャック５とを備え、かつ該プレートチャック５を少な
くとも９０度以上回転させることができる回転機構６を
バーミラー取付け板３上に持つプレートステージが搭載
されており、露光したいパネルレイアウトを定義するジ
ョブ指令に連動して、該ジョブ指令を入力することによ
り、回転機構６が自動にて最適な方向にプレートチャッ
ク５を回転させることが可能である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶パネル製造な
どに用いられる露光装置において、被露光体である基板
に、原版であるマスクなどのパターンを転写する露光装
置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、液晶パネルの利用分野は多岐に渡
っており、その結果、多数のパネルサイズの需要に各パ
ネルメーカは対応を強いられている。通常の液晶パネル
生産ラインにおいて使用するガラス基板のサイズは１種
類であり、製作しようとするパネルサイズが決まれば、
１枚のガラス基板から製作できる液晶パネルのレイアウ
トはおのずと数種類に決まる。無理なパネルレイアウト
を設定すると、効率が悪くなることがある。

【０００３】効率を劣化させずに、多種多様のサイズの
パネルを生産できるラインを構築するため、最近では、
図４に示すようにガラス基板９の向きを９０度回転させ
て露光し、パネルレイアウトのバリエーションを増やす
方法がとられている。

【０００４】しかし、従来の露光装置では、ガラス基板
の向きを９０度回転させる手段が無く、どうしても９０
度回転させるためには、露光装置内部にあってガラス基
板を保持する保持版（以下プレートチャックという）の
取付け方向を変更し、９０度回転の要望に対応してい
た。

【０００５】さらに露光装置の変更以外にも、露光の前
工程の機械から露光装置にガラス基板を搬送する際に、
ガラス基板を９０度回転させることが必要であり、ガラ
ス基板搬送機構にも改造が必要であった。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】このように、ガラス基
板を９０度回転させるメリットはあっても、実際には製
造ラインの改造負荷が多大であり、仮に改造を行ったと
しても、以下のような欠点があった。 ガラス基板を保持するプレートチャックは２種類必
要である。 ２種類のプレートチャックをパネルレイアウトの変
更ごとに露光装置に搭載し直さなければならない。 露光装置にガラス基板を搬入する際に、ガラス基板
を９０度回転させる機構が必要である。

【０００７】また、２通りの保持方法が可能なチャック
を作る方法もあるが、チャックが大きくなり、重くなる
ことから、露光装置のステージ精度劣化につながる。そ
れでも、上記項目中のは不可欠である。

【０００８】本発明の第１の目的は、１種類のチャック
のみを用いて、露光方向に対し０から９０度回転できる
ステージを用意し、２通りのガラス基板の位置決めが可
能な露光装置を提供することである。また、本発明の第
２の目的は、ガラス基板のサイズと生産したいパネルサ
イズをジョブ指令することにより、最適なガラス基板の
方向を露光装置が計算し、自動にてプレート回転機構が
回転し、効率よくパネルを生産できる露光装置を提供す
ることである。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明に係る露光装置
は、これらの問題を解決するために、被露光体である基
板を位置合わせした後露光できる露光用ステージと、前
記基板を固定できるチャックとを備え、かつ該チャック
を少なくとも９０度以上回転させることができる回転機
構を前記露光用ステージ上に持つプレートステージを搭
載していることを特徴とする。本発明では、露光したい
パネルレイアウトを定義するジョブ指令に連動して、該
ジョブ指令を入力することにより、前記回転機構が自動
にて最適な方向に前記チャックを回転させることができ
ることが望ましく、縦横のストライプパターンを描画す
る場合、前記基板を回転させることにより、１枚の原版
のみで、縦横のストライプパターンを描画できることが
好ましい。

【００１０】また、本発明に係る露光装置は、前記基板
を搬入するための露光前ユニットに前記回転機構が無く
とも、前記基板の方向を少なくとも９０度以上回転させ
ることが可能としてもよく、前記基板を保持する保持版
の取付けや、組み付けの変更をすること無く、前記基板
に対する露光方向を少なくとも９０度変更することが可
能としてもよく、前記基板を２通りの方向に搭載可能な
保持版を用いること無く、前記チャックとして１枚の保
持版で、該基板に対する露光方向を少なくとも９０度変
更することが可能としてもよい。

【００１１】

【実施例】（第１の実施例）本発明の第１の実施例につ
いて図面を参照しながら詳細に説明する。図１および図
２は、本発明の第１の実施例に係わる露光装置に搭載す
るプレートステージの概念を示す斜視図である。この露
光装置に搭載される図１に示すプレートステージにおい
て、１はＸ方向に面して配置されたＸバーミラー、２は
Ｙ方向に面して配置されたＹバーミラー、３はＸバーミ
ラー１とＹバーミラー２を固定しているバーミラー取付
け板、４はプレートステージを拘束しＸ方向に案内する
Ｘ方向ガイド、５はガラス基板を固定する保持版として
のプレートチャック、６はプレートチャック５を回転さ
せる回転機構、７はバーミラー取付け板３を搭載するＸ
方向スライダである。

【００１２】バーミラー取付け板３は、被露光体である
ガラス基板を位置合わせした後、露光できる露光用ステ
ージを構成している。回転機構６は、Ｘ方向スライダ７
の上に設置されており、バーミラー取付け板３の上に突
出した回転可能な円盤６ａを備え、該円盤６ａでプレー
トチャック５を少なくとも９０度回転可能に支持してい
る。

【００１３】上記構成において、図示しないガラス基板
がプレートチャック５に搬送されると、位置合わせを行
った後、図中のＹ方向にスキャンし、露光される。必要
に応じてスライダ７が図中Ｘ方向のスライド（ステッ
プ）し、再度Ｙ方向にスキャンしガラス基板を露光す
る。このような動作を繰り返し、ガラス基板全面を露光
し終わると、ガラス基板はプレートチャック５から搬出
され、次のガラス基板が再度プレートチャック５に搬送
される。

【００１４】次に、同一サイズのガラス基板を用いて、
生産するパネルのレイアウトを変更する場合は、図１に
示す状態でプレートチャック５にガラス基板を保持した
後、図２に示すように、プレートチャック回転機構６で
該プレートチャック５を９０度回転させることにより、
露光方向に対するガラス基板の方向が９０度変わり、同
一サイズのガラス基板でありながら、別のパネルレイア
ウトが構築でき、別のサイズの液晶パネルを生産するこ
とができる。

【００１５】（第２の実施例）図３は本発明の第２の実
施例の説明用斜視図である。ガラス基板に単純に縦横の
ストライプを描画するような製造工程においては、はじ
めに、図３（ａ）に示すように縦線８ａを有するマスク
８を用いて縦線を描画した後、図３（ｂ）に示すように
ガラス基板９を９０度回転させ、同一マスク８を用いて
露光することにより、横線を描画することができる。

【００１６】

【デバイス生産方法の実施例】次に上記説明した投影露
光装置を利用したデバイスの生産方法の実施例を説明す
る。図５は微小デバイス（ＩＣやＬＳＩ等の半導体チッ
プ、液晶パネル、ＣＣＤ、薄膜磁気ヘッド、マイクロマ
シン等）の製造のフローを示す。ステップ１（回路設
計）ではデバイスのパターン設計を行う。ステップ２
（マスク製作）では設計したパターンを形成したマスク
を製作する。一方、ステップ３（ウエハ製造）ではシリ
コンやガラス等の材料を用いてウエハを製造する。ステ
ップ４（ウエハプロセス）は前工程と呼ばれ、上記用意
したマスクとウエハを用いて、リソグラフィ技術によっ
てウエハ上に実際の回路を形成する。次のステップ５
（組み立て）は後工程と呼ばれ、ステップ４によって作
製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程であ
り、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）、
パッケージング工程（チップ封入）等の工程を含む。ス
テップ６（検査）ではステップ５で作製された半導体デ
バイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行
う。こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、これ
が出荷（ステップ７）される。

【００１７】図６は上記ウエハプロセスの詳細なフロー
を示す。ステップ１１（酸化）ではウエハの表面を酸化
させる。ステップ１２（ＣＶＤ）ではウエハ表面に絶縁
膜を形成する。ステップ１３（電極形成）ではウエハ上
に電極を蒸着によって形成する。ステップ１４（イオン
打込み）ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ１５
（レジスト処理）ではウエハに感光剤を塗布する。ステ
ップ１６（露光）では上記説明した投影露光装置によっ
てマスクの回路パターンをウエハに焼付露光する。ステ
ップ１７（現像）では露光したウエハを現像する。ステ
ップ１８（エッチング）では現像したレジスト像以外の
部分を削り取る。ステップ１９（レジスト剥離）ではエ
ッチングが済んで不要となったレジストを取り除く。こ
れらのステップを繰り返し行うことによって、ウエハ上
に多重に回路パターンが形成される。

【００１８】本実施例の生産方法を用いれば、従来は製
造が難しかった高集積度のデバイスを低コストに製造す
ることができる。

【００１９】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
液晶パネル製造露光装置において、プレートチャックの
交換や、プレートの搬送機構を変更すること無く、１枚
のガラス基板を縦と横の２通りの方向に搭載可能にな
り、その結果、１枚のガラス基板から生産できるパネル
レイアウトのバリエーションが増加する。

【００２０】また、ガラス基板サイズと希望するパネル
サイズを入力することにより、露光装置が最適なガラス
基板の方向を計算し、自動的にプレート回転機構が０あ
るいは９０度方向にガラス基板の向きを変え、効率よく
パネルを生産することができる。

【００２１】また、本発明によれば、単純な縦横ストラ
イプ工程の場合、縦のストライプ用マスク１枚のみで、
ガラス基板上に縦横のストライプを描画することができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の第１の実施例に係わる露光装置に搭
載するプレートステージの概念を示す斜視図である。

【図２】 図１におけるチャックを９０度回転させた状
態を表した斜視図である。

【図３】 本発明の実施例に係わるガラス基板を９０度
回転させ、縦横ストライプを描画する方法を表した斜視
図である。

【図４】 従来のパネルレイアウトを表した図である。

【図５】 微小デバイスの製造の流れを示す図である。

【図６】 図５におけるウエハプロセスの詳細な流れを
示す図である。

【符号の説明】

１：Ｘバーミラー、２：Ｙバーミラー、３：バーミラー
取付け板（露光用ステージを構成する）、４：Ｘ方向ガ
イド、５：プレートチャック（保持版）、６：回転機
構、７：Ｘ方向スライダ、８：マスク（原版）、９：ガ
ラス基板（被露光体）。

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 被露光体である基板を位置合わせした後
   露光できる露光用ステージと、前記基板を固定できるチ
   ャックとを備え、かつ該チャックを少なくとも９０度以
   上回転させることができる回転機構を前記露光用ステー
   ジ上に持つプレートステージを搭載していることを特徴
   とする露光装置。
2. 【請求項２】 露光したいパネルレイアウトを定義する
   ジョブ指令に連動して、該ジョブ指令を入力することに
   より、前記回転機構が自動にて最適な方向に前記チャッ
   クを回転させることができることを特徴とする請求項１
   に記載の露光装置。
3. 【請求項３】 縦横のストライプパターンを描画する場
   合、前記基板を回転させることにより、１枚の原版のみ
   で、縦横のストライプパターンを描画できることを特徴
   とする請求項１に記載の露光装置。
4. 【請求項４】 前記基板を搬入するための露光前ユニッ
   トに、前記回転機構が無くとも、前記基板の方向を少な
   くとも９０度以上回転させることが可能なことを特徴と
   する請求項１に記載の露光装置。
5. 【請求項５】 前記基板を保持する保持版の取付けや、
   組み付けの変更をすること無く、前記基板に対する露光
   方向を少なくとも９０度変更することが可能なことを特
   徴とする請求項１に記載の露光装置。
6. 【請求項６】 前記基板を２通りの方向に搭載可能な保
   持版を用いること無く、前記チャックとしての１枚の保
   持版で、該基板に対する露光方向を少なくとも９０度変
   更することが可能なことを特徴とする請求項１に記載の
   露光装置。
7. 【請求項７】 請求項１〜６のいずれかに記載の露光装
   置を用いてデバイスを製造することを特徴とするデバイ
   ス製造方法。