JP4594745B2 - 反射防止構造体を有する部材の製造方法 - Google Patents
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Description
図1(A)及び(B)は、実施の形態1にかかる反射防止構造体を有する部材の製造方法に使用されるX線マスクのパターンを示す正面図である。実施の形態1にかかる製造方法は、後述するように同一のX線マスクを用いて2回のX線露光を行う。図1(A)は、最初の露光に使用されるマスクAのX線透過領域の配置を示し、図1(B)は、2回目の露光に使用されるマスクAのX線透過領域の配置を示す。
図5(A)、(B)および(C)は、実施の形態2にかかる反射防止構造体を有する部材の製造方法に使用されるX線マスクのパターンを示す正面図である。実施の形態2にかかる製造方法は、後述するように同一のX線マスクを用いて3回のX線露光を行う。図5(A)は、最初の露光に使用されるマスクAのX線透過領域の配置を示し、図5(B)は、2回目の露光に使用されるマスクAのX線透過領域の配置を示し、図5(C)は、3回目の露光に使用されるマスクAのX線透過領域の配置を示す。なお、実施の形態2にかかるマスクAは、実施の形態1において説明したマスクAと等しい構成を持つ。
図9は、実施の形態3の部材の製造方法を説明する模式図である。実施の形態3にかかる製造方法は、X線リソグラフィによりPMMAなどの光学樹脂を直接加工することを特徴としている。
図10を用いて、反射防止構造体を有する部材を製造するための型を複製する方法を説明する。図10は、実施の形態4にかかる反射防止構造体を有する部材の製造方法に用いる電鋳型の製造方法を説明する模式図である。実施の形態4にかかる反射防止構造体を有する部材の製造方法は、型を電鋳複製することを特徴としている。以下、実施の形態1お乃至3などの製造方法により作成された反射防止構造体が形成されたPMMA樹脂レンズ61を電鋳複製するプロセスを例に説明を行う。
次に、図11を参照して、反射防止構造体を有する部材を製造するための型を複製する別の方法を説明する実施の形態5にかかる反射防止構造体を有する部材の製造方法に用いるガラス成形型の製造方法を表す。
次に、図12を参照して、反射防止構造体を有する部材を製造する別の方法を説明する。図12は、実施の形態6にかかる反射防止構造体を有する部材の製造方法を説明する模式図である。実施の形態6は、先に述べたマスタ型から電鋳複製された型を用いて光学樹脂からなる部材を成形することを特徴としている。
実施の形態7は、先に述べたマスタ型から電鋳複製された型を用いて光学樹脂かならなる部材を成形することを特徴としている。シランカップリング剤により表面保護膜を形成した電鋳複製型を用いて、実施の形態4と同様の成形機を用いて、光学樹脂材料をプレス成形した。表面保護膜を形成した電鋳複製型を上型とし、WCを主成分とする超硬合金を下型に用いた。上型、下型、及びPMMA樹脂基板をセットし、180°C、20MPaでプレス成形し、樹脂基板表面に反射防止構造体を形成した。反射防止構造体が形成された樹脂表面の反射率を測定したところ、波長が220nm以上の光について平均で約0.08%の値を示した。なお、実施の形態はアクリル、テフロン(登録商標)、ポリエチレン、ポリオレフィンなどを樹脂基板として用いることができる。
上記の実施の形態1では、回転後に露光されるべきL/Sパターンが、第1の露光工程において露光されたL/Sパターンと直交する関係にあるときに露光する場合を示した。また、上記の実施の形態2では、回転後に露光されるべきL/Sパターンが、第1の露光工程において露光されたL/Sパターンとそれぞれ60度の角度をなす関係にあるときにそれぞれ露光する場合を示した。しかしながら、これに限られず、さらに一般化して複数回の露光を行ってもよい。
θi={180/(n+1)}*i
ただし、
i:1以上n以下の整数、
θi:回転後のL/Sパターンが、第1の露光工程において露光されたL/Sパターンとなす角であって、小さい順にi番目のなす角、
である。
3 X線吸収領域
4 X線透過領域
21 シリコンウェハ
22 SiCメンブレン
23 Ta吸収体薄膜
24 フォトレジスト層
25 微細構造
26 微細構造
31 X線レジスト
32 微細構造
33 反射防止構造体
35 微細構造
36 反射防止構造体
41 PMMA樹脂レンズ
42 反射防止構造体
61 PMMA樹脂レンズ
62 反射防止構造体
63 Ni/B溶液
64 無電解メッキ層
65 スルファミン酸ニッケル電解液
66 Niメッキ層
67 塩基溶液
68 Ni複製型
71 薄膜
72 上型
73 下型
74 成形用ガラス材料
75 薄膜
76 チャンバー
77 部材
81 ベース型
82 表面保護離型層
83 電鋳型
84 流動状態のポリオレフィン樹脂
85 樹脂
Claims (8)
- 所定形状を構造単位とし、当該所定形状が反射率を低減すべき光の波長以下のピッチでアレイ状に配列されてなる反射防止構造体を有する部材の製造方法であって、
ラインアンドスペースパターンを有するX線マスクを介して、前記反射防止構造体が形成されるべき前記部材となる基板にX線を露光する第1の露光工程と、
前記X線マスクと前記基板との少なくとも一方を前記X線の光軸まわりに回転させた後、前記基板に前記X線を露光する回転露光工程を、少なくとも1回含む第2の露光工程と、
露光された前記基板を現像する現像工程とを備える、反射防止構造体を有する部材の製造方法。 - 前記第2の露光工程が、n回(nは自然数)の前記回転露光工程を含むとき、前記X線マスクと前記基板とが以下の関係式を満足する位置でそれぞれ前記基板に前記X線を露光する、請求項1に記載の反射防止構造体を有する部材の製造方法:
θi={180/(n+1)}*i
ただし、
i:1以上n以下の整数、
θi:回転後の前記ラインアンドスペースパターンが、前記第1の露光工程において露光された前記ラインアンドスペースパターンとなす角であって、小さい順にi番目のなす角、
である。 - 前記基板は、自身が感光性材料からなり、
前記現像工程により、前記基板に前記反射防止構造体が形成される、請求項1に記載の反射防止構造体を有する部材の製造方法。 - 前記基板は、感光性レジストからなる層を有し、
前記現像工程において、前記基板を現像した後、さらに、
前記感光性レジストをマスクとしてドライエッチングすることにより、前記反射防止構造体を形成する構造形成工程を備える、請求項1記載の反射防止構造体を有する部材の製造方法。 - 前記基板は、エッチングマスク用の材料からなる層と、更に、当該エッチングマスク用材料からなる層の上に感光性レジストからなる層とを有し、
前記現像工程において、前記基板を現像した後、さらに、
前記エッチングマスクをウェットエッチングすることにより、前記反射防止構造体を形成する構造形成工程を備える、請求項1記載の反射防止構造体を有する部材の製造方法。 - 前記X線マスクは、吸収体としてTa、Ni、Au、Cu、Ag、Cr、Feの元素のうち1種類以上を含んでいることを特徴とする、請求項1に記載の反射防止構造体を有する部材の製造方法。
- 請求項1に記載の部材の製造方法により製造された部材から電鋳もしくはプレス成形によって複製型を製造し、当該複製型を用いて部材を成形することを特徴とする、反射防止構造体を有する部材の製造方法。
- 前記複製型の表面に離型剤が形成されていることを特徴とする、請求項7に記載の反射防止構造体を有する部材の製造方法。
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