JP4814938B2 - 反射防止構造体及びその製造方法 - Google Patents
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Description
以下のように、SiCメンブレン上に線幅150nm、ピッチ300nmのTa吸収パターンを有するX線マスクAを用いて、PMMA基板31にX線を照射して反射防止構造体を作製した。図3を参照しながら、詳細を説明する。
実施の形態2では、基板にPMMAではなく、石英を用いた。図5を参照して、X線リソグラフィにより石英ガラス基板の表面に反射防止構造体を形成する方法を説明する。
図6を用いて、反射防止構造体を有する部材を製造するための型を複製する方法を説明する。図6は、実施の形態3にかかる反射防止構造体を有する部材の製造方法に用いる電鋳型の製造方法を説明する模式図である。実施の形態3にかかる反射防止構造体を有する部材の製造方法は、型を電鋳複製することを特徴としている。以下、実施の形態1の製造方法により作成された反射防止構造体が形成されたPMMA基板61を電鋳複製するプロセスを例に説明を行う。
次に、図7を参照して、反射防止構造体を有する部材を製造するための型を複製する別の方法を説明する実施の形態4にかかる反射防止構造体を有する部材の製造方法に用いるガラス成形型の製造方法を表す。
次に、図8を参照して、反射防止構造体を有する部材を製造する別の方法を説明する。
実施の形態6は、先に述べたマスタ型から電鋳複製された型を用いて光学樹脂かならなる部材を成形することを特徴としている。シランカップリング剤により表面保護膜を形成した電鋳複製型を用いて、実施の形態4と同様の成形機を用いて、光学樹脂材料をプレス成形した。表面保護膜を形成した電鋳複製型を上型とし、WCを主成分とする超硬合金を下型に用いた。上型、下型、及びPMMA樹脂基板をセットし、180°C、20MPaでプレス成形し、樹脂基板表面に反射防止構造体を形成した。なお、実施の形態はアクリル、テフロン(登録商標)、ポリエチレン、ポリオレフィン、ポリカーボネートなどを樹脂基板として用いることができる。
本実施の形態7に係る反射防止構造体は、図9,10に示すように、凸形状の構造単位と凹形状の構造単位とを交互にアレイ状に配列してなる周期構造を有し、上記凹形状の構造単位は、概略錐状又は概略釣鐘状である一方、上記凸形状の構造単位は、上記凹形状を反転させた概略錐状又は概略釣鐘状であって且つその先端部を切断した形状となっている。尚、実際に得られる反射防止構造体は、干渉及び現像時のサイドエッチングの影響により、図9に示す立体的な構造のように断面矩形の形状は得られず、エッジ部分がなまった構造になっている。
11 円錐型反射防止構造体
31 PMMA基板
32 反射防止構造体
51 X線レジスト
52 微細構造
53 反射防止構造体
61 PMMAマスタ型
62 反射防止構造体
63 Ni/B溶液
64 無電解メッキ層
65 スルファミン酸ニッケル電解液
66A Niメッキ層
66B Niメッキ層
67 塩基溶液
68 Ni複製型
71 薄膜
72 上型
73 下型
74 成形用材料
75 薄膜
76 チャンバー
77 部材
81 ベース型
82 表面保護離型層
83 電鋳型
84 流動状態の樹脂
85 樹脂
Claims (8)
- 微細な凸部及び凹部が複数配列されてなり、入射光の反射を抑制する反射防止構造が表面に形成された反射防止構造体であって、
上記各凸部は、第1の凸部と、該第1の凸部の上に位置し、平面視において該第1の凸部よりも小さい第2の凸部とを備え、
上記各凹部は、上記凸部で全周を囲まれている反射防止構造体。 - 請求項1に記載された反射防止構造体において、
上記第1の凸部及び上記第2の凸部のそれぞれは錐体状である反射防止構造体。 - 請求項1に記載された反射防止構造体において、
上記複数の凸部相互間のピッチは、上記入射光の波長以下である反射防止構造体。 - 請求項1に記載された反射防止構造体において、
光学部材である反射防止構造体。 - 微細な凸部及び凹部が複数配列されてなり、入射光の反射を抑制する反射防止構造が表面に形成されており、上記各凸部は、第1の凸部と、該第1の凸部の上に位置し、平面視において該第1の凸部よりも小さい第2の凸部とを備え、上記各凹部は、上記凸部で全周を囲まれている反射防止構造体を製造するための方法であって、
上記反射防止構造は二光束干渉露光法又はX線リソグラフィによって作成されることを特徴とする反射防止構造体の製造方法。 - 微細な凸部が複数配列されてなり、入射光の反射を抑制する反射防止構造が表面に形成されており、上記各凸部は、第1の凸部と、該第1の凸部の上に位置し、平面視において該第1の凸部よりも小さい第2の凸部とを備えた反射防止構造体を製造するための方法であって、
上記反射防止構造体を成形型として電鋳によって複製型を作製し、該複製型を用いて上記反射防止構造を形成することを特徴とする反射防止構造体の製造方法。 - 微細な凸部が複数配列されてなり、入射光の反射を抑制する反射防止構造が表面に形成されており、上記各凸部は、第1の凸部と、該第1の凸部の上に位置し、平面視において該第1の凸部よりも小さい第2の凸部とを備えた反射防止構造体を製造するための方法であって、
上記反射防止構造体を成形型として用いて被成形物をプレス成形することにより複製型を作製し、該複製型を用いて上記反射防止構造を形成することを特徴とする反射防止構造体の製造方法。 - 請求項6又は7に記載された反射防止構造体の製造方法において、
上記反射防止構造を形成するに先立って、上記複製型の表面に離型層を形成することを特徴とする反射防止構造体の製造方法。
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