JP4108722B2 - 光学素子および光学素子製造方法 - Google Patents
光学素子および光学素子製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4108722B2 JP4108722B2 JP2006312001A JP2006312001A JP4108722B2 JP 4108722 B2 JP4108722 B2 JP 4108722B2 JP 2006312001 A JP2006312001 A JP 2006312001A JP 2006312001 A JP2006312001 A JP 2006312001A JP 4108722 B2 JP4108722 B2 JP 4108722B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical element
- antireflection layer
- resin portion
- refractive index
- basic resin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 196
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 44
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 100
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 100
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 38
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims description 34
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 claims description 31
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 claims description 31
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 12
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 11
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 claims description 5
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 5
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 150
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 87
- 239000010408 film Substances 0.000 description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 description 15
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 14
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 13
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 9
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 8
- 230000008569 process Effects 0.000 description 7
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 230000012447 hatching Effects 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 4
- 238000013461 design Methods 0.000 description 4
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 4
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 3
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 3
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 2
- 239000000292 calcium oxide Substances 0.000 description 2
- ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Inorganic materials [Ca]=O ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Chemical group 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003849 O-Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003872 O—Si Inorganic materials 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Chemical compound [O-2].[Ca+2] BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- WUPRCGRRQUZFAB-DEGKJRJSSA-N corrin Chemical compound N1C2CC\C1=C\C(CC/1)=N\C\1=C/C(CC\1)=N/C/1=C\C1=NC2CC1 WUPRCGRRQUZFAB-DEGKJRJSSA-N 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920006015 heat resistant resin Polymers 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 229910001105 martensitic stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000113 methacrylic resin Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 1
- UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N tungsten carbide Chemical compound [W+]#[C-] UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B3/00—Simple or compound lenses
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
- B29D11/00—Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
- B29D11/0073—Optical laminates
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Ophthalmology & Optometry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Description
図1ないし図3に基づいて、本発明の実施の形態1に係る光学素子について説明する。
図4および図5に基づいて、本発明の実施の形態2に係る光学素子について説明する。
図6に基づいて、本発明の実施の形態3に係る転写金型について説明する。
一般的に金型の製造は非常に高精度、高精細の技術を要求されることから、実施の形態3に係る転写金型2も同様に高精度、高精細に製造することが要求される。また、転写金型2は微細突起部13を備えることからさらに高精度、高精細に製造することが必要となり、通常の技術では製造に困難を伴うという問題が生じる。本実施の形態に係る転写金型製造方法は、このような問題を解消して容易に転写金型2を製造する方法を提供する。
図8Aないし図8Fに基づいて、本発明の実施の形態5に係る光学素子製造方法について説明する。
2 転写金型
2s 転写面
11 基本樹脂部
11g ゲート痕
11i 中心領域
11s 外周領域
12 反射防止層
12a 低屈折率層
12b 高屈折率層
12c 低屈折率層
13 微細突起部
13c 円状突起部
13r 線状突起部
15 下地層
20U 上型
20L 下型
23U 上胴型
23L 下胴型
27 ゲート
21 基本転写部
22 突起転写溝
25 フォトレジスト
25a 感光レジスト部
25m レジストマスク
25w 開口部
30 蒸着チャンバー
40 高温チャンバー
Ect エッチング剤
Lax 光軸
Lex 露光光
MC マイクロクラック
RV 反射防止層成分蒸気
Claims (10)
- 樹脂成形により形成された基本樹脂部の表面に反射防止層が形成された合成樹脂製の光学素子であって、
前記反射防止層は、無機物で形成され、前記基本樹脂部の表面から突出し前記基本樹脂部の光軸に対して同心円状および放射線状に配置された微細突起部によって分割してあることを特徴とする光学素子。 - 前記微細突起部の長さ方向と交差する方向での前記微細突起部の断面の形状は、半円状、三角形状、台形状のいずれかであることを特徴とする請求項1に記載の光学素子。
- 前記断面の底辺幅は2μmより小さく、前記断面の高さは2μmより小さいことを特徴とする請求項2に記載の光学素子。
- 前記微細突起部は、前記光軸に対して軸対称に配置してあることを特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれか一つに記載の光学素子。
- 前記微細突起部は、前記光軸から離れた基本樹脂部の外周領域に配置してあることを特徴とする請求項1ないし請求項4のいずれか一つに記載の光学素子。
- 前記反射防止層は、前記基本樹脂部の屈折率よりも低い屈折率の材料で構成された低屈折率層としてあることを特徴とする請求項1ないし請求項5のいずれか一つに記載の光学素子。
- 前記反射防止層は、前記基本樹脂部の屈折率よりも低い屈折率の材料で構成された低屈折率層および前記基本樹脂部の屈折率よりも高い屈折率の材料で構成された高屈折率層を積層した積層構造としてあることを特徴とする請求項1ないし請求項5のいずれか一つに記載の光学素子。
- 前記反射防止層と前記基本樹脂部の表面との間に、ケイ素酸化物を主成分とする下地層が形成してあることを特徴とする請求項1ないし請求項7のいずれか一つに記載の光学素子。
- 樹脂成形により形成される基本樹脂部の表面に突出させて形成された微細突起部で分離される反射防止層を備える光学素子を製造する光学素子製造方法であって、
前記基本樹脂部と前記基本樹脂部の光軸に対して同心円状および放射線状に配置された前記微細突起部とを樹脂成形する樹脂成形工程と、
前記基本樹脂部の表面に反射防止層を積層する反射防止層積層工程と
を備えることを特徴とする光学素子製造方法。 - 前記反射防止層の積層は、蒸着により行われることを特徴とする請求項9に記載の光学素子製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006312001A JP4108722B2 (ja) | 2006-11-17 | 2006-11-17 | 光学素子および光学素子製造方法 |
PCT/JP2007/071108 WO2008059712A1 (fr) | 2006-11-17 | 2007-10-30 | Élément optique, moule de transfert, procédé de fabrication de moule de transfert et procédé de fabrication d'élément optique |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006312001A JP4108722B2 (ja) | 2006-11-17 | 2006-11-17 | 光学素子および光学素子製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008129197A JP2008129197A (ja) | 2008-06-05 |
JP4108722B2 true JP4108722B2 (ja) | 2008-06-25 |
Family
ID=39401521
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006312001A Expired - Fee Related JP4108722B2 (ja) | 2006-11-17 | 2006-11-17 | 光学素子および光学素子製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4108722B2 (ja) |
WO (1) | WO2008059712A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2015137197A1 (ja) | 2014-03-13 | 2015-09-17 | 富士フイルム株式会社 | 光学部品,赤外線カメラおよび光学部品の製造方法 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0990103A (ja) * | 1995-09-19 | 1997-04-04 | Denso Corp | 遮光膜の形成方法 |
JPH11344603A (ja) * | 1998-06-01 | 1999-12-14 | Sti Technology Kk | ブラックマスク、カラーフィルター、液晶ディスプレイ及びブラックマスクの製造方法 |
JP3335134B2 (ja) * | 1999-03-25 | 2002-10-15 | キヤノン株式会社 | 光学素子 |
US6490094B2 (en) * | 2000-03-17 | 2002-12-03 | Zograph, Llc | High acuity lens system |
JP2002280534A (ja) * | 2001-03-16 | 2002-09-27 | Toppan Printing Co Ltd | 固体撮像素子及びその製造方法 |
JP3962240B2 (ja) * | 2001-10-31 | 2007-08-22 | 株式会社日立製作所 | 近接場光プローブ集積半導体レーザ及びそれを用いた光記録装置 |
JP4488674B2 (ja) * | 2001-12-12 | 2010-06-23 | 大日本印刷株式会社 | 光硬化性樹脂組成物、液晶パネル用基板、及び、液晶パネル |
JP4710248B2 (ja) * | 2004-05-25 | 2011-06-29 | コニカミノルタオプト株式会社 | 樹脂材料及びプラスチック製光学素子 |
JP2006267561A (ja) * | 2005-03-24 | 2006-10-05 | Seiko Epson Corp | 光学素子およびその製造方法 |
-
2006
- 2006-11-17 JP JP2006312001A patent/JP4108722B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2007
- 2007-10-30 WO PCT/JP2007/071108 patent/WO2008059712A1/ja active Application Filing
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2008059712A1 (fr) | 2008-05-22 |
JP2008129197A (ja) | 2008-06-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5024047B2 (ja) | 微小構造体の製造方法 | |
JP4281773B2 (ja) | 微細成形モールド及び微細成形モールドの再生方法 | |
CN101025445A (zh) | 微透镜用模具的制造方法 | |
JP2005157119A (ja) | 反射防止光学素子及びこれを用いた光学系 | |
JP2006337985A (ja) | ハイサグレンズの製作方法及びこれを利用し製作されたレンズ | |
WO2019124353A1 (ja) | 眼鏡レンズ成形型の製造方法及び眼鏡レンズの製造方法 | |
JP2008242186A (ja) | 回折光学素子及びそれを用いた光学系 | |
TWI607247B (zh) | Optical element and its manufacturing method | |
US6523963B2 (en) | Hermetically sealed diffraction optical element and production method thereof | |
US9310528B2 (en) | Optical element, imaging apparatus including the same, and method for fabricating the same | |
WO2013150742A1 (ja) | 光学素子、それを備えた撮像装置及び光学素子の製造方法 | |
EP1474851B1 (en) | Method of manufacturing an optical device by means of a replication method | |
JP4714627B2 (ja) | 表面に微細な凹凸構造を有する構造体の製造方法 | |
JP4108722B2 (ja) | 光学素子および光学素子製造方法 | |
JP2001030306A (ja) | 樹脂正立レンズアレイおよびその製造方法 | |
JP4820871B2 (ja) | 反射防止構造体及びその製造方法 | |
JP4973367B2 (ja) | レプリカ回折格子及びその製造方法 | |
JP2009069694A (ja) | 撮像装置およびその製造方法 | |
CN101344600A (zh) | 镀膜镜片的制作方法 | |
JP2016002665A (ja) | モールド製造用構造体の製造方法、およびモールドの製造方法 | |
JP4814938B2 (ja) | 反射防止構造体及びその製造方法 | |
JP2016002664A (ja) | モールド製造用構造体、モールド、モールド製造用構造体の製造方法、およびモールドの製造方法 | |
US7794646B2 (en) | Method for manufacturing mold used in impression process | |
JP2005329685A (ja) | 金型及びその製造方法 | |
TWI398670B (zh) | 鏡片陣列製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080226 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080310 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20080401 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20080402 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110411 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |