JP2001241858A5 - - Google Patents

Description

【特許請求の範囲】
【請求項１】 金属精錬又は融解装置（１０）用の出湯案内管（２２）であって、
溶湯の流れを導くための、金属源から出湯案内管（２２）の出口まで延在する中心オリフィス（３２）、
出湯案内管内に電磁場を発生させる構造物、及び
中心オリフィスを流れる溶湯の流れに電磁場から生じた電磁束を集中させてその流れを加熱することのできる出湯案内管電磁束集中内部形状
を含んでなり、印加される電磁場が実質的に一定のレベルである出湯案内管（２２）。
【請求項２】 前記構造物が出湯案内管に形成された１以上のスロット（３４）を含んでいて、当該１以上のスロットが出湯案内管内に電磁場を導くことができる、請求項１記載の出湯案内管。
【請求項３】 出湯案内管電磁束集中内部形状が、中心オリフィスを流れる溶湯の流れに熱、電磁場及び電磁場の少なくともいずれかを集中させるための傾斜段形輪郭を有する、請求項１記載の出湯案内管。
【請求項４】 前記傾斜段形輪郭が中心オリフィスの中心軸線の周りに設けられる、請求項３記載の出湯案内管。
【請求項５】 前記傾斜段形輪郭が、
第１の中心オリフィス部（１３０）、
第２の中心オリフィス部（１３１）、
減径中心オリフィス部（１３２）、
第１の傾斜中心オリフィスランプ部（１３３）、及び
第２の傾斜中心オリフィスランプ部（１３４）
を含んでいて、第１の傾斜中心オリフィスランプ部が第１の中心オリフィス部から減径中心オリフィス部まで延在し、第２の傾斜中心オリフィスランプ部が減径中心オリフィス部から第２の中心オリフィス部まで延在する、請求項４記載の出湯案内管。
【請求項６】 低温壁誘導案内管及びエレクトロスラグ精錬装置用の出湯案内管であって、当該出湯案内管（２２）が、
底板（２８）、
延長部（２９）、
溶湯の流れを導くための、金属源から出湯案内管の出口まで延在する中心オリフィス（３２）、
実質的に一定のレベルで印加される電磁場を出湯案内管内に発生させる構造物（３８）、及び
中心オリフィスを流れる溶湯の流れに熱、電磁場及び電磁束の少なくともいずれかを集中させることのできる出湯案内管電磁束集中内部形状を含んでなり、出湯案内管電磁束集中内部形状が中心オリフィスを流れる溶湯の流れに熱、電磁場及び電磁場の少なくともいずれかを集中させるための傾斜段形輪郭を有していて、該傾斜段形輪郭が第１の中心オリフィス部（１３０）と、第２の中心オリフィス部（１３１）と、減径中心オリフィス部（１３２）と、第１の傾斜中心オリフィスランプ部（１３３）と、第２の傾斜中心オリフィスランプ部（１３４）とを含んでおり、第１の傾斜中心オリフィスランプ部が第１の中心オリフィス部から減径中心オリフィス部まで延在し、第２の傾斜中心オリフィスランプ部が減径中心オリフィス部から第２の中心オリフィス部まで延在し、出湯案内管は出湯案内管との間に間隙をなすように出湯案内管に配置された誘導加熱装置（３８）をさらに含んでおり、出湯案内管上で誘導加熱装置が移動しても中心オリフィスを流れる溶湯の流れに集中させた熱、電磁場及び電磁束の少なくともいずれかは実質的に一定に保たれ、誘導加熱装置は２以上の誘導加熱コイルを含んでいて、第１の誘導加熱コイルが底板近傍に配置され、第２の誘導加熱コイルが延長部との間に間隙をなすように延長部近傍に配置されている、出湯案内管。
【請求項７】 減径中心オリフィス部の直径が第１の中心オリフィス部及び第２の中心オリフィス部の各直径よりも小さい、請求項６記載の出湯案内管。
【請求項８】 第１の中心オリフィス部の直径と第２の中心オリフィス部の直径が等しい、請求項６又は７記載の出湯案内管。
【請求項９】 第１の中心オリフィス部の直径と第２の中心オリフィス部の直径が異なる、請求項６又は７記載の出湯案内管。
【請求項１０】 第１の中心オリフィス部の長さと第２の中心オリフィス部の長さが等しい、請求項６又は７記載の出湯案内管。