JP2001232212A - 排気ガス浄化用触媒および排気ガス浄化用触媒の製造方法 - Google Patents
排気ガス浄化用触媒および排気ガス浄化用触媒の製造方法Info
- Publication number
- JP2001232212A JP2001232212A JP2000050993A JP2000050993A JP2001232212A JP 2001232212 A JP2001232212 A JP 2001232212A JP 2000050993 A JP2000050993 A JP 2000050993A JP 2000050993 A JP2000050993 A JP 2000050993A JP 2001232212 A JP2001232212 A JP 2001232212A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- catalyst
- exhaust gas
- slurry
- gas purifying
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 title claims abstract description 153
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 25
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title abstract 2
- 239000002002 slurry Substances 0.000 claims abstract description 77
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 13
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 claims abstract description 5
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 claims abstract description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 29
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 23
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 23
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 23
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 23
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 16
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims description 15
- 230000002265 prevention Effects 0.000 claims description 10
- 238000001354 calcination Methods 0.000 claims description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 abstract description 95
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 abstract description 10
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 34
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- -1 aluminum ion Chemical class 0.000 description 12
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 11
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 8
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 8
- 229960000583 acetic acid Drugs 0.000 description 7
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 7
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 7
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 6
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 6
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 5
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 5
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Substances [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 5
- 239000012362 glacial acetic acid Substances 0.000 description 4
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- BNGXYYYYKUGPPF-UHFFFAOYSA-M (3-methylphenyl)methyl-triphenylphosphanium;chloride Chemical compound [Cl-].CC1=CC=CC(C[P+](C=2C=CC=CC=2)(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)=C1 BNGXYYYYKUGPPF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229910017569 La2(CO3)3 Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 3
- CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N ceric oxide Chemical compound O=[Ce]=O CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000422 cerium(IV) oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 3
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- NZPIUJUFIFZSPW-UHFFFAOYSA-H lanthanum carbonate Chemical compound [La+3].[La+3].[O-]C([O-])=O.[O-]C([O-])=O.[O-]C([O-])=O NZPIUJUFIFZSPW-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 3
- 229960001633 lanthanum carbonate Drugs 0.000 description 3
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 3
- BHPQYMZQTOCNFJ-UHFFFAOYSA-N Calcium cation Chemical compound [Ca+2] BHPQYMZQTOCNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JLVVSXFLKOJNIY-UHFFFAOYSA-N Magnesium ion Chemical compound [Mg+2] JLVVSXFLKOJNIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 2
- FKNQFGJONOIPTF-UHFFFAOYSA-N Sodium cation Chemical compound [Na+] FKNQFGJONOIPTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 229910001415 sodium ion Inorganic materials 0.000 description 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001424 calcium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce] GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052878 cordierite Inorganic materials 0.000 description 1
- JSKIRARMQDRGJZ-UHFFFAOYSA-N dimagnesium dioxido-bis[(1-oxido-3-oxo-2,4,6,8,9-pentaoxa-1,3-disila-5,7-dialuminabicyclo[3.3.1]nonan-7-yl)oxy]silane Chemical compound [Mg++].[Mg++].[O-][Si]([O-])(O[Al]1O[Al]2O[Si](=O)O[Si]([O-])(O1)O2)O[Al]1O[Al]2O[Si](=O)O[Si]([O-])(O1)O2 JSKIRARMQDRGJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- GPRLSGONYQIRFK-UHFFFAOYSA-N hydron Chemical compound [H+] GPRLSGONYQIRFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910001425 magnesium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002941 palladium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007581 slurry coating method Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
- B01D53/92—Chemical or biological purification of waste gases of engine exhaust gases
- B01D53/94—Chemical or biological purification of waste gases of engine exhaust gases by catalytic processes
- B01D53/9445—Simultaneously removing carbon monoxide, hydrocarbons or nitrogen oxides making use of three-way catalysts [TWC] or four-way-catalysts [FWC]
- B01D53/945—Simultaneously removing carbon monoxide, hydrocarbons or nitrogen oxides making use of three-way catalysts [TWC] or four-way-catalysts [FWC] characterised by a specific catalyst
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J33/00—Protection of catalysts, e.g. by coating
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J37/00—Processes, in general, for preparing catalysts; Processes, in general, for activation of catalysts
- B01J37/02—Impregnation, coating or precipitation
- B01J37/024—Multiple impregnation or coating
- B01J37/0244—Coatings comprising several layers
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F01—MACHINES OR ENGINES IN GENERAL; ENGINE PLANTS IN GENERAL; STEAM ENGINES
- F01N—GAS-FLOW SILENCERS OR EXHAUST APPARATUS FOR MACHINES OR ENGINES IN GENERAL; GAS-FLOW SILENCERS OR EXHAUST APPARATUS FOR INTERNAL COMBUSTION ENGINES
- F01N3/00—Exhaust or silencing apparatus having means for purifying, rendering innocuous, or otherwise treating exhaust
- F01N3/08—Exhaust or silencing apparatus having means for purifying, rendering innocuous, or otherwise treating exhaust for rendering innocuous
- F01N3/10—Exhaust or silencing apparatus having means for purifying, rendering innocuous, or otherwise treating exhaust for rendering innocuous by thermal or catalytic conversion of noxious components of exhaust
- F01N3/24—Exhaust or silencing apparatus having means for purifying, rendering innocuous, or otherwise treating exhaust for rendering innocuous by thermal or catalytic conversion of noxious components of exhaust characterised by constructional aspects of converting apparatus
- F01N3/28—Construction of catalytic reactors
- F01N3/2803—Construction of catalytic reactors characterised by structure, by material or by manufacturing of catalyst support
- F01N3/2825—Ceramics
- F01N3/2828—Ceramic multi-channel monoliths, e.g. honeycombs
-
- B01J35/56—
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02A—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE
- Y02A50/00—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE in human health protection, e.g. against extreme weather
- Y02A50/20—Air quality improvement or preservation, e.g. vehicle emission control or emission reduction by using catalytic converters
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02T—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO TRANSPORTATION
- Y02T10/00—Road transport of goods or passengers
- Y02T10/10—Internal combustion engine [ICE] based vehicles
- Y02T10/12—Improving ICE efficiencies
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49345—Catalytic device making
Abstract
(57)【要約】
【課題】 担体の表面に触媒層を形成するに際して、触
媒層剥離の原因ともなるひび割れの発生を防止すること
ができ、もって排気ガス浄化用触媒の耐久性を大幅に向
上させることができる排気ガス浄化用触媒、およびこの
ような排気ガス浄化用触媒の製造方法を提供する。 【解決手段】 触媒コート層の最表面に、厚さが５０μ
ｍ以下の亀裂防止コート層を成形する。または、スラリ
ーを構成する水に含まれるＯＨ−およびＨ＋以外の陰イ
オンおよび陽イオンがそれぞれ５０ｐｐｍ以下の触媒ス
ラリーを担体にコートする。
媒層剥離の原因ともなるひび割れの発生を防止すること
ができ、もって排気ガス浄化用触媒の耐久性を大幅に向
上させることができる排気ガス浄化用触媒、およびこの
ような排気ガス浄化用触媒の製造方法を提供する。 【解決手段】 触媒コート層の最表面に、厚さが５０μ
ｍ以下の亀裂防止コート層を成形する。または、スラリ
ーを構成する水に含まれるＯＨ−およびＨ＋以外の陰イ
オンおよび陽イオンがそれぞれ５０ｐｐｍ以下の触媒ス
ラリーを担体にコートする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、自動車等の排気ガ
ス中に含まれるＨＣ，ＣＯ，ＮＯｘなどを浄化するため
の排気ガス浄化用触媒に係わり、とくに触媒コート層の
亀裂の発生を防止して、セラミックモノリス担体や金属
製ハニカム担体などの担体からの触媒層の剥離を未然に
防止することができる排気ガス浄化用触媒およびこのよ
うな触媒の製造方法に関するものである。
ス中に含まれるＨＣ，ＣＯ，ＮＯｘなどを浄化するため
の排気ガス浄化用触媒に係わり、とくに触媒コート層の
亀裂の発生を防止して、セラミックモノリス担体や金属
製ハニカム担体などの担体からの触媒層の剥離を未然に
防止することができる排気ガス浄化用触媒およびこのよ
うな触媒の製造方法に関するものである。
【０００２】
【発明が解決しようとする課題】担体として、例えばセ
ラミックモノリス担体や金属製ハニカム担体などの一体
構造基材に触媒層を形成する方法としては、例えば特開
昭５３−１３５８９８号公報に記載されているように、
貴金属を含むアルミナとセリアを含む複合物に酢酸水溶
液を加えて粉砕した触媒スラリーをセラミックモノリス
担体にコーティングして付着させ、乾燥したのち焼成す
ることにより触媒とする方法がある。
ラミックモノリス担体や金属製ハニカム担体などの一体
構造基材に触媒層を形成する方法としては、例えば特開
昭５３−１３５８９８号公報に記載されているように、
貴金属を含むアルミナとセリアを含む複合物に酢酸水溶
液を加えて粉砕した触媒スラリーをセラミックモノリス
担体にコーティングして付着させ、乾燥したのち焼成す
ることにより触媒とする方法がある。
【０００３】また、特開昭５８−１２２０４４号公報に
は、活性アルミナと炭酸ランタンを硝酸アルミニウム水
溶液に加え、攪拌，混合，粉砕の後、モノリス基材に浸
漬し、余分の液体を圧縮空気で吹き払い、乾燥，焼成し
て被膜付きモノリス担体となし、この被膜付きモノリス
担体を貴金属溶液に浸漬し、乾燥，焼成して触媒とする
方法が記載されている。
は、活性アルミナと炭酸ランタンを硝酸アルミニウム水
溶液に加え、攪拌，混合，粉砕の後、モノリス基材に浸
漬し、余分の液体を圧縮空気で吹き払い、乾燥，焼成し
て被膜付きモノリス担体となし、この被膜付きモノリス
担体を貴金属溶液に浸漬し、乾燥，焼成して触媒とする
方法が記載されている。
【０００４】さらに、特開平５−２８５３８６号公報に
は、貴金属が担持されたアルミナ、またはセリウムおよ
びジルコニウム酸化物などの触媒材料粉末をボールミル
などにより粉砕，混合することにより水性スラリーとな
し、該スラリーをハニカムなどの担体にコートして担体
表面に触媒コート層を形成する方法が提案されている。
は、貴金属が担持されたアルミナ、またはセリウムおよ
びジルコニウム酸化物などの触媒材料粉末をボールミル
などにより粉砕，混合することにより水性スラリーとな
し、該スラリーをハニカムなどの担体にコートして担体
表面に触媒コート層を形成する方法が提案されている。
【０００５】一方、自動車は、近年、耐久性が向上し、
自動車の使用期間が長くなると共に、高速道路の発達に
よって高速走行の機会も増加しており、これに伴って自
動車の排気ガス浄化用触媒においてもさらなる耐久性の
向上が求められている。
自動車の使用期間が長くなると共に、高速道路の発達に
よって高速走行の機会も増加しており、これに伴って自
動車の排気ガス浄化用触媒においてもさらなる耐久性の
向上が求められている。
【０００６】しかしながら、上記したような排気ガス浄
化用触媒の従来の製造方法においては、担体にコートし
た触媒スラリーを固定化するために行う乾燥，焼成工程
において、水分の蒸発によって触媒スラリーが大きく収
縮することから、コート層内に発生する張力に耐えきれ
ずに、焼成後（特開昭５８−１２２０４４号公報記載の
方法においては被膜付きモノリス担体の段階で）形成さ
れた触媒コート層にひび割れ（亀裂）が生じるという問
題点があった。触媒コート層のひび割れは剥離の原因と
もなり、触媒の耐久性を著しく損ねるものであって、こ
のような問題点を解消して、触媒としての耐久性を向上
させることが排気ガス浄化用触媒の製造方法における従
来の課題となっていた。
化用触媒の従来の製造方法においては、担体にコートし
た触媒スラリーを固定化するために行う乾燥，焼成工程
において、水分の蒸発によって触媒スラリーが大きく収
縮することから、コート層内に発生する張力に耐えきれ
ずに、焼成後（特開昭５８−１２２０４４号公報記載の
方法においては被膜付きモノリス担体の段階で）形成さ
れた触媒コート層にひび割れ（亀裂）が生じるという問
題点があった。触媒コート層のひび割れは剥離の原因と
もなり、触媒の耐久性を著しく損ねるものであって、こ
のような問題点を解消して、触媒としての耐久性を向上
させることが排気ガス浄化用触媒の製造方法における従
来の課題となっていた。
【０００７】
【発明の目的】本発明は、排気ガス浄化用触媒の従来の
製造方法における上記課題に着目してなされたものであ
って、セラミックモノリス担体や金属製ハニカム担体な
どの担体の表面に触媒層を形成するに際して、触媒層剥
離の原因ともなるひび割れの発生を防止することがで
き、もって排気ガス浄化用触媒の耐久性を大幅に向上さ
せることができる排気ガス浄化用触媒、およびこのよう
な排気ガス浄化用触媒の製造方法を提供することを目的
としている。
製造方法における上記課題に着目してなされたものであ
って、セラミックモノリス担体や金属製ハニカム担体な
どの担体の表面に触媒層を形成するに際して、触媒層剥
離の原因ともなるひび割れの発生を防止することがで
き、もって排気ガス浄化用触媒の耐久性を大幅に向上さ
せることができる排気ガス浄化用触媒、およびこのよう
な排気ガス浄化用触媒の製造方法を提供することを目的
としている。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記目的を
達成するために、担体上への触媒層の形成方法や触媒ス
ラリーの成分などについて鋭意検討した結果、触媒スラ
リーの粒子径をある程度大きくすることによって、また
コート層の厚さを薄くすることによって、乾燥や焼成に
よる収縮量が少なくなって亀裂やひびを抑えることがで
きるがことを見出した。また、触媒スラリーに含まれる
イオン濃度を制限することによっても、乾燥，焼成時の
収縮をなくしてひび割れの発生を防止することができる
ことを見出すに至った。
達成するために、担体上への触媒層の形成方法や触媒ス
ラリーの成分などについて鋭意検討した結果、触媒スラ
リーの粒子径をある程度大きくすることによって、また
コート層の厚さを薄くすることによって、乾燥や焼成に
よる収縮量が少なくなって亀裂やひびを抑えることがで
きるがことを見出した。また、触媒スラリーに含まれる
イオン濃度を制限することによっても、乾燥，焼成時の
収縮をなくしてひび割れの発生を防止することができる
ことを見出すに至った。
【０００９】本発明は、このような知見に基づくもので
あって、本発明の請求項１に係わる排気ガス浄化用触媒
は、触媒成分を含む触媒スラリーを担体にコートして触
媒成分を担体表面に付着させた排気ガス浄化用触媒にお
いて、触媒コート層の最表面に、厚さが５０μｍ以下の
亀裂防止コート層を備えている構成としており、排気ガ
ス浄化用触媒におけるこのような構成を前述した従来の
課題を解決するための手段としている。
あって、本発明の請求項１に係わる排気ガス浄化用触媒
は、触媒成分を含む触媒スラリーを担体にコートして触
媒成分を担体表面に付着させた排気ガス浄化用触媒にお
いて、触媒コート層の最表面に、厚さが５０μｍ以下の
亀裂防止コート層を備えている構成としており、排気ガ
ス浄化用触媒におけるこのような構成を前述した従来の
課題を解決するための手段としている。
【００１０】
【発明の作用】触媒スラリーの粒子径は、スラリー乾燥
後の固形分の密度に影響し、粒子径が小さい（細かい）
ほど乾燥後の密度が高く、収縮率の大きい固形分を形成
する。したがって、最表面を形成するコート層に用いる
スラリーの粒子径は、大きい方が表面積が小さいので、
コート層の収縮量が少なく、コート層に亀裂やひびが入
りにくいことになる。このとき、実用的な排気ガス浄化
用触媒のハニカム担体やメタル担体の形状や、乾燥工程
の諸条件を考慮すると、スラリーの平均粒子径が３μｍ
以上であれば収縮による亀裂やひびは生じない。但し、
スラリーの平均粒子径が７μｍを超えると、スラリーコ
ート時の担体セルの目詰まりや、コート層自体が脆くな
ってしまう傾向がある。このためスラリーの平均粒子径
は３〜７μｍが好ましい。
後の固形分の密度に影響し、粒子径が小さい（細かい）
ほど乾燥後の密度が高く、収縮率の大きい固形分を形成
する。したがって、最表面を形成するコート層に用いる
スラリーの粒子径は、大きい方が表面積が小さいので、
コート層の収縮量が少なく、コート層に亀裂やひびが入
りにくいことになる。このとき、実用的な排気ガス浄化
用触媒のハニカム担体やメタル担体の形状や、乾燥工程
の諸条件を考慮すると、スラリーの平均粒子径が３μｍ
以上であれば収縮による亀裂やひびは生じない。但し、
スラリーの平均粒子径が７μｍを超えると、スラリーコ
ート時の担体セルの目詰まりや、コート層自体が脆くな
ってしまう傾向がある。このためスラリーの平均粒子径
は３〜７μｍが好ましい。
【００１１】また、コート層の厚さを薄くすると、スラ
リー乾燥時の収縮量が少なくなり、コート層内に生じる
張力が弱まり、亀裂やひびの発生が抑えられる。現在用
いられている触媒材料では、乾燥，焼成後のコート層の
厚さが５０μｍ以下であれば、収縮による亀裂が生じな
い。
リー乾燥時の収縮量が少なくなり、コート層内に生じる
張力が弱まり、亀裂やひびの発生が抑えられる。現在用
いられている触媒材料では、乾燥，焼成後のコート層の
厚さが５０μｍ以下であれば、収縮による亀裂が生じな
い。
【００１２】本発明の請求項１に係わる排気ガス浄化用
触媒においては、最表面の最終コート層として、厚さが
５０μｍ以下の亀裂防止コート層を備えているので、当
該最終コート層には亀裂やひびが発生することがなく、
下層に亀裂があったとしても、亀裂防止コート層が最終
コート層としてこの亀裂を覆ったり、埋めたりしてコー
ト層の強度が確保され、担体からの剥離が防止されるこ
とになる。なお、亀裂防止コート層は、焼成した後に目
視では層として認識できない程度の薄いものであったと
しても、亀裂内にスラリーが浸入することによってコー
ト層の強度が確保される。
触媒においては、最表面の最終コート層として、厚さが
５０μｍ以下の亀裂防止コート層を備えているので、当
該最終コート層には亀裂やひびが発生することがなく、
下層に亀裂があったとしても、亀裂防止コート層が最終
コート層としてこの亀裂を覆ったり、埋めたりしてコー
ト層の強度が確保され、担体からの剥離が防止されるこ
とになる。なお、亀裂防止コート層は、焼成した後に目
視では層として認識できない程度の薄いものであったと
しても、亀裂内にスラリーが浸入することによってコー
ト層の強度が確保される。
【００１３】なお、亀裂防止コート層の形成に用いるス
ラリーの材料には、いかなる種類の触媒材料を用いても
よいことから、例えば触媒の性能設計上、最表面に特定
の触媒層が必要な場合であっても、その最表面部を必要
な触媒材料からなる耐亀裂構造とすることにより、触媒
設計の自由度と触媒コート層の強度とが同時に確保され
る。
ラリーの材料には、いかなる種類の触媒材料を用いても
よいことから、例えば触媒の性能設計上、最表面に特定
の触媒層が必要な場合であっても、その最表面部を必要
な触媒材料からなる耐亀裂構造とすることにより、触媒
設計の自由度と触媒コート層の強度とが同時に確保され
る。
【００１４】本発明の排気ガス浄化用触媒の製造方法に
おいては、触媒コート層の最表面に、平均粒子径が３〜
７μｍの触媒スラリーを焼成した状態で５０μｍ以下の
厚さとなるようにコートするようにしているので、下層
に亀裂があったとしても、コート時に触媒スラリーがこ
の亀裂を覆ったり、内部に浸入したりした後、乾燥およ
び焼成によって亀裂やひびのない健全な最終コート層が
形成されるので、コート層の強度が向上し、担体からの
剥離強度に優れた触媒コート層が得られることになる。
おいては、触媒コート層の最表面に、平均粒子径が３〜
７μｍの触媒スラリーを焼成した状態で５０μｍ以下の
厚さとなるようにコートするようにしているので、下層
に亀裂があったとしても、コート時に触媒スラリーがこ
の亀裂を覆ったり、内部に浸入したりした後、乾燥およ
び焼成によって亀裂やひびのない健全な最終コート層が
形成されるので、コート層の強度が向上し、担体からの
剥離強度に優れた触媒コート層が得られることになる。
【００１５】本発明の亀裂防止コート層を形成するスラ
リーとして、好ましくはアルミナ，ゼオライトなどを用
いることができる。また、表面積の小さな粒子であるα
−アルミナ，チタニアも触媒層の耐剥離性を向上させる
ことができる。
リーとして、好ましくはアルミナ，ゼオライトなどを用
いることができる。また、表面積の小さな粒子であるα
−アルミナ，チタニアも触媒層の耐剥離性を向上させる
ことができる。
【００１６】担体表面に触媒層を形成するために用いる
触媒スラリーとして、イオン含有量、すなわち触媒スラ
リー中の水に含まれるＯＨ−（水酸イオン）以外の陰イ
オン（例えば硝酸イオン（ＮＯ３ − ），塩素イオン
（Ｃｌ− ），硫酸イオン（ＳＯ ４ −２ ），酢酸イオン
（ＣＨ３ＣＯＯ−）など）、およびＨ＋（水素イオン）
以外の陽イオン（例えばアルミニウムイオン（Ａｌ
＋３ ），ナトリウムイオン（Ｎａ＋），マグネシウム
イオン（Ｍｇ＋２ ），カルシウムイオン（Ｃａ＋２）
など）の含有量がそれぞれ５０ｐｐｍ以下のものを用い
ることが好ましい。
触媒スラリーとして、イオン含有量、すなわち触媒スラ
リー中の水に含まれるＯＨ−（水酸イオン）以外の陰イ
オン（例えば硝酸イオン（ＮＯ３ − ），塩素イオン
（Ｃｌ− ），硫酸イオン（ＳＯ ４ −２ ），酢酸イオン
（ＣＨ３ＣＯＯ−）など）、およびＨ＋（水素イオン）
以外の陽イオン（例えばアルミニウムイオン（Ａｌ
＋３ ），ナトリウムイオン（Ｎａ＋），マグネシウム
イオン（Ｍｇ＋２ ），カルシウムイオン（Ｃａ＋２）
など）の含有量がそれぞれ５０ｐｐｍ以下のものを用い
ることが好ましい。
【００１７】すなわち、担体表面に触媒層を形成するた
めの触媒スラリーにおいては、アルミナやスラリー中の
貴金属が担持された状態のアルミナ、あるいはアルミナ
複合物や貴金属が担持された状態のアルミナ複合物の粒
子の周りには、水素イオンの他に、触媒粉末から溶け出
したイオンや、使用している溶液に含まれるイオンなど
が吸着しており、複雑なイオン層が形成されている。例
えば、上記した特開昭５３−１３５８９８号公報に記載
された製造法においては酢酸が使用され、特開昭５８−
１２２０４４号公報に記載の製造法においては硝酸イオ
ンの量が多く、、アルミナ粒子等の周りには、これらの
イオンを含めた複雑なイオン層が形成されている。この
ような複雑なイオン層を持つスラリーでは、モノリス担
体などにコーティングされた場合、コート層の粒子間に
上記のようなイオン層が介在するため、乾燥，焼成時に
このイオン層が消滅し、粒子同士が結合していくことに
よって体積が収縮し、触媒層やアルミナ複合物の被膜層
にひび割れを生じることになる。
めの触媒スラリーにおいては、アルミナやスラリー中の
貴金属が担持された状態のアルミナ、あるいはアルミナ
複合物や貴金属が担持された状態のアルミナ複合物の粒
子の周りには、水素イオンの他に、触媒粉末から溶け出
したイオンや、使用している溶液に含まれるイオンなど
が吸着しており、複雑なイオン層が形成されている。例
えば、上記した特開昭５３−１３５８９８号公報に記載
された製造法においては酢酸が使用され、特開昭５８−
１２２０４４号公報に記載の製造法においては硝酸イオ
ンの量が多く、、アルミナ粒子等の周りには、これらの
イオンを含めた複雑なイオン層が形成されている。この
ような複雑なイオン層を持つスラリーでは、モノリス担
体などにコーティングされた場合、コート層の粒子間に
上記のようなイオン層が介在するため、乾燥，焼成時に
このイオン層が消滅し、粒子同士が結合していくことに
よって体積が収縮し、触媒層やアルミナ複合物の被膜層
にひび割れを生じることになる。
【００１８】これに対し、本発明の請求項７に係わる排
気ガス浄化用触媒の製造方法においては、上記したよう
に、触媒スラリーに含まれる水酸イオン（ＯＨ− ）お
よび水素イオン（Ｈ＋）以外のイオンを極力少なくして
いるので、アルミナ粒子等の周りのイオン層が薄くな
り、スラリーがコートされた時の触媒粒子間にイオン層
がほとんど形成されないので、乾燥，焼成時の収縮がな
くなり、亀裂やひび割れが発生しないようになる。な
お、水酸イオン（ＯＨ−）以外の陰イオンおよび水素イ
オン（Ｈ＋）以外の陽イオンの含有量をそれぞれ５０ｐ
ｐｍ以下に限定しているのは、これらイオンがそれぞれ
５０ｐｐｍを超えると、乾燥，焼成時の収縮が顕著にな
り、亀裂やひび割れの発生を十分に防止できなくなるこ
とによる。
気ガス浄化用触媒の製造方法においては、上記したよう
に、触媒スラリーに含まれる水酸イオン（ＯＨ− ）お
よび水素イオン（Ｈ＋）以外のイオンを極力少なくして
いるので、アルミナ粒子等の周りのイオン層が薄くな
り、スラリーがコートされた時の触媒粒子間にイオン層
がほとんど形成されないので、乾燥，焼成時の収縮がな
くなり、亀裂やひび割れが発生しないようになる。な
お、水酸イオン（ＯＨ−）以外の陰イオンおよび水素イ
オン（Ｈ＋）以外の陽イオンの含有量をそれぞれ５０ｐ
ｐｍ以下に限定しているのは、これらイオンがそれぞれ
５０ｐｐｍを超えると、乾燥，焼成時の収縮が顕著にな
り、亀裂やひび割れの発生を十分に防止できなくなるこ
とによる。
【００１９】
【発明の効果】本発明の請求項１に係わる排気ガス浄化
用触媒は、上記構成、すなわち触媒コート層の最表面
に、厚さが５０μｍ以下の亀裂防止コート層を備えたも
のであるから、当該亀裂防止コート層に亀裂やひび割れ
が発生することがなく、触媒コート層の強度が確保して
担体からの剥離を防止することができるという極めて優
れた効果をもたらすものである。
用触媒は、上記構成、すなわち触媒コート層の最表面
に、厚さが５０μｍ以下の亀裂防止コート層を備えたも
のであるから、当該亀裂防止コート層に亀裂やひび割れ
が発生することがなく、触媒コート層の強度が確保して
担体からの剥離を防止することができるという極めて優
れた効果をもたらすものである。
【００２０】本発明の請求項４に係わる排気ガス浄化用
触媒の製造方法においては、触媒コート層の最表面に、
焼成した状態で５０μｍ以下の厚さとなるように構成粒
子の平均径が３〜７μｍの触媒スラリーをコートするよ
うにしているので、乾燥および焼成によって亀裂やひび
のない健全な最終コート層を得ることができるという極
めて優れた効果がもたらされる。
触媒の製造方法においては、触媒コート層の最表面に、
焼成した状態で５０μｍ以下の厚さとなるように構成粒
子の平均径が３〜７μｍの触媒スラリーをコートするよ
うにしているので、乾燥および焼成によって亀裂やひび
のない健全な最終コート層を得ることができるという極
めて優れた効果がもたらされる。
【００２１】さらに、本発明の請求項７に係わる排気ガ
ス浄化用触媒の製造方法においては、触媒スラリーに含
まれる水酸イオンおよび水素イオン以外のイオンを極力
少なくしている、すなわちスラリーを構成する水に含ま
れる水酸イオンおよび水素イオン以外の陰イオンおよび
陽イオンをそれぞれ５０ｐｐｍ以下の触媒スラリーを使
用するようにしているので、スラリーがコートされた時
の触媒粒子間にイオン層がほとんど形成されず、乾燥，
焼成時の収縮を回避して、亀裂やひび割れの発生を防止
することができ、排気ガス浄化用触媒の耐久性の大幅な
向上が可能になるという極めて優れた効果が得られる。
ス浄化用触媒の製造方法においては、触媒スラリーに含
まれる水酸イオンおよび水素イオン以外のイオンを極力
少なくしている、すなわちスラリーを構成する水に含ま
れる水酸イオンおよび水素イオン以外の陰イオンおよび
陽イオンをそれぞれ５０ｐｐｍ以下の触媒スラリーを使
用するようにしているので、スラリーがコートされた時
の触媒粒子間にイオン層がほとんど形成されず、乾燥，
焼成時の収縮を回避して、亀裂やひび割れの発生を防止
することができ、排気ガス浄化用触媒の耐久性の大幅な
向上が可能になるという極めて優れた効果が得られる。
【００２２】
【実施例】以下、本発明を実施例に基づいてさらに具体
的に説明する。
的に説明する。
【００２３】［実施例１］発明例１ まず、ＭＦＩ型ゼオライト：５００ｇ、シリカゾル：１
００ｇ、および純水：１０００ｇを磁性ボールミルに投
入し、混合・粉砕してスラリーを得た。このスラリーの
平均粒子径は２．１μｍであった。次に、このスラリー
液をコージェライト質モノリス担体（４００セル／ｉｎ
２）にコートし、空気流にてセル内の余剰のスラリーを
除去したのち乾燥し、４００℃で１時間焼成して、コー
ト量重量１５０ｇ／Ｌの触媒を得た。
００ｇ、および純水：１０００ｇを磁性ボールミルに投
入し、混合・粉砕してスラリーを得た。このスラリーの
平均粒子径は２．１μｍであった。次に、このスラリー
液をコージェライト質モノリス担体（４００セル／ｉｎ
２）にコートし、空気流にてセル内の余剰のスラリーを
除去したのち乾燥し、４００℃で１時間焼成して、コー
ト量重量１５０ｇ／Ｌの触媒を得た。
【００２４】さらに、アルミナ粉末に、パラジウム化合
物の水溶液を含浸させ、１５０℃で１２時間乾燥した
後、４００℃で１時間焼成してＰｄ担持アルミナ粉末を
用意し、このＰｄ担持アルミナ粉末：１０００ｇ、活性
アルミナ：１１ｇ、硝酸水溶液：１５００ｇを磁性ボー
ルミルに投入し、混合・粉砕してスラリーを得た。この
スラリーの平均粒子径は４．６μｍであった。そして、
このスラリー液を上記ＭＦＩ型ゼオライトコート後の触
媒にコートし、空気流にてセル内の余剰のスラリーを除
去したのち乾燥し、４００℃で１時間焼成して、コート
量重量７５ｇ／Ｌの触媒（総コート量：２２５ｇ／Ｌ）
を得た。このようにして得られた排気ガス浄化用触媒の
内層および表層のコート層厚さおよび亀裂の有無を表１
に示す。また、コート層の電子顕微鏡観察結果を図１
（ａ）および（ｂ）に示す。
物の水溶液を含浸させ、１５０℃で１２時間乾燥した
後、４００℃で１時間焼成してＰｄ担持アルミナ粉末を
用意し、このＰｄ担持アルミナ粉末：１０００ｇ、活性
アルミナ：１１ｇ、硝酸水溶液：１５００ｇを磁性ボー
ルミルに投入し、混合・粉砕してスラリーを得た。この
スラリーの平均粒子径は４．６μｍであった。そして、
このスラリー液を上記ＭＦＩ型ゼオライトコート後の触
媒にコートし、空気流にてセル内の余剰のスラリーを除
去したのち乾燥し、４００℃で１時間焼成して、コート
量重量７５ｇ／Ｌの触媒（総コート量：２２５ｇ／Ｌ）
を得た。このようにして得られた排気ガス浄化用触媒の
内層および表層のコート層厚さおよび亀裂の有無を表１
に示す。また、コート層の電子顕微鏡観察結果を図１
（ａ）および（ｂ）に示す。
【００２５】表１および図１（ａ），（ｂ）に示すよう
に、内層コートは、その平均粒子径が２．１μｍと細か
く、コート層厚さも１３３μｍと厚いことから、乾燥，
焼成時の収縮に起因する亀裂が多く認められた。一方、
表層コートについては、その平均粒子径が４．６μｍ、
コート層厚さが４３μｍであって、亀裂のない亀裂防止
コート層となっており、内層の亀裂内に浸入して触媒層
を補強していることが確認された。
に、内層コートは、その平均粒子径が２．１μｍと細か
く、コート層厚さも１３３μｍと厚いことから、乾燥，
焼成時の収縮に起因する亀裂が多く認められた。一方、
表層コートについては、その平均粒子径が４．６μｍ、
コート層厚さが４３μｍであって、亀裂のない亀裂防止
コート層となっており、内層の亀裂内に浸入して触媒層
を補強していることが確認された。
【００２６】発明例２ 内層および外層共に、発明例１と同じスラリーを使用
し、上記モノリス担体に発明例１よりもそれぞれ薄めに
コートしたのち、同一条件で乾燥および焼成することに
より、亀裂防止コート層を最表面に備えた排気ガス浄化
用触媒を得た。この排気ガス浄化用触媒における内層お
よび表層のコート層厚さおよび亀裂の有無を表１に併せ
て示すと共に、コート層の電子顕微鏡観察結果を図２に
示す。
し、上記モノリス担体に発明例１よりもそれぞれ薄めに
コートしたのち、同一条件で乾燥および焼成することに
より、亀裂防止コート層を最表面に備えた排気ガス浄化
用触媒を得た。この排気ガス浄化用触媒における内層お
よび表層のコート層厚さおよび亀裂の有無を表１に併せ
て示すと共に、コート層の電子顕微鏡観察結果を図２に
示す。
【００２７】この結果、内層コートは、そのコート層厚
さが２５μｍと薄いものの、平均粒子径が２．１μｍと
細かいことから、発明例１と同様に、収縮による亀裂の
発生が認められた。表層コートについては、その平均粒
子径が４．６μｍ、コート層厚さが１８μｍであること
から、亀裂のない亀裂防止コート層となっており、同様
に触媒コート層を補強していることが確認された。
さが２５μｍと薄いものの、平均粒子径が２．１μｍと
細かいことから、発明例１と同様に、収縮による亀裂の
発生が認められた。表層コートについては、その平均粒
子径が４．６μｍ、コート層厚さが１８μｍであること
から、亀裂のない亀裂防止コート層となっており、同様
に触媒コート層を補強していることが確認された。
【００２８】比較例１ 発明例１と同様にスラリーを調整するに際し、内層およ
び外層共に、水分量を焼く２０％減少させ、内層および
外層のコート量をそれぞれ２５０ｇ／Ｌおよび１２０ｇ
／Ｌとして、コート層を厚くすること以外は、発明例１
と同様の条件のもとに触媒を得た。このようにして得ら
れた排気ガス浄化用触媒の内層および表層のコート層厚
さおよび亀裂の有無を表１に併せて示すと共に、コート
層の電子顕微鏡観察結果を図３（ａ）および（ｂ）に示
す。
び外層共に、水分量を焼く２０％減少させ、内層および
外層のコート量をそれぞれ２５０ｇ／Ｌおよび１２０ｇ
／Ｌとして、コート層を厚くすること以外は、発明例１
と同様の条件のもとに触媒を得た。このようにして得ら
れた排気ガス浄化用触媒の内層および表層のコート層厚
さおよび亀裂の有無を表１に併せて示すと共に、コート
層の電子顕微鏡観察結果を図３（ａ）および（ｂ）に示
す。
【００２９】この結果、内層コートについては、その平
均粒子径が２．１μｍと細かいため、発明例１と同様に
亀裂の発生が認められた。また、表層コートについて
も、その平均粒子径が４．６μｍではあるものの、コー
ト層厚さが７５μｍと厚いため、乾燥，焼成時の収縮量
が大きくなり、亀裂の発生が認められた。
均粒子径が２．１μｍと細かいため、発明例１と同様に
亀裂の発生が認められた。また、表層コートについて
も、その平均粒子径が４．６μｍではあるものの、コー
ト層厚さが７５μｍと厚いため、乾燥，焼成時の収縮量
が大きくなり、亀裂の発生が認められた。
【００３０】
【表１】
【００３１】［実施例２］発明例３ まず、活性アルミナ９８重量％、セリア２重量％からな
る複合物５５０ｇに、Ｈ２Ｐｔ（ＯＨ）６として８．２
ｇの白金を含有するアミン水溶液４１５ｍｌを含浸させ
た。次いで、この固体に氷酢酸の水溶液（３３ｍｌの氷
酢酸を５０ｍｌの水で希釈）を含浸させ、１５０℃で３
時間乾燥後、４００℃で２時間焼成した。そして、この
触媒粉末５００ｇに水を１２５０ｇ加え、スラリーとし
てボールミルで粉砕し、９μｍ以下の粒子径とした。
る複合物５５０ｇに、Ｈ２Ｐｔ（ＯＨ）６として８．２
ｇの白金を含有するアミン水溶液４１５ｍｌを含浸させ
た。次いで、この固体に氷酢酸の水溶液（３３ｍｌの氷
酢酸を５０ｍｌの水で希釈）を含浸させ、１５０℃で３
時間乾燥後、４００℃で２時間焼成した。そして、この
触媒粉末５００ｇに水を１２５０ｇ加え、スラリーとし
てボールミルで粉砕し、９μｍ以下の粒子径とした。
【００３２】このスラリーをセラミックモノリス担体
（容量：１．３Ｌ，セル数：約６２個／ｃｍ２ ，断面
積：楕円１１３ｃｍ２，長さ：１１５ｍｍ）に印加し、
余分のスラリーを吹き払い、１２０℃で乾燥後、４００
℃で１時間焼成することによって、１００ｇ／Ｌコーテ
ィングされたモノリス触媒を得た。
（容量：１．３Ｌ，セル数：約６２個／ｃｍ２ ，断面
積：楕円１１３ｃｍ２，長さ：１１５ｍｍ）に印加し、
余分のスラリーを吹き払い、１２０℃で乾燥後、４００
℃で１時間焼成することによって、１００ｇ／Ｌコーテ
ィングされたモノリス触媒を得た。
【００３３】このとき使用した上記スラリーを遠心分離
し、その上澄み液のイオン濃度を分析したところ、Ｎ
ａ：５ｐｐｍ，Ｃａ：５ｐｐｍ，Ｃｌ：１０ｐｐｍであ
った。
し、その上澄み液のイオン濃度を分析したところ、Ｎ
ａ：５ｐｐｍ，Ｃａ：５ｐｐｍ，Ｃｌ：１０ｐｐｍであ
った。
【００３４】このようにして得られた触媒のひび割れを
調べるために、エポキシ樹脂中に触媒を沈め、樹脂を固
めた後、触媒を切断し、その断面を走査型電子顕微鏡で
観察した。その結果、図４（倍率：４００倍）に示すよ
うに、触媒層にひび割れは認められなかった。
調べるために、エポキシ樹脂中に触媒を沈め、樹脂を固
めた後、触媒を切断し、その断面を走査型電子顕微鏡で
観察した。その結果、図４（倍率：４００倍）に示すよ
うに、触媒層にひび割れは認められなかった。
【００３５】発明例４ 活性アルミナ粉末５００ｇと炭酸ランタン１２０ｇを
６．５％硝酸アルミニウム水溶液６４５ｇ中に投入し、
攪拌，混合して、１５０℃で１２時間乾燥した後、７０
０℃で２時間焼成した。そして、この粉末に、水１２５
０ｇを加え、ボールミルで粉砕し、コーティング用スラ
リーとした。
６．５％硝酸アルミニウム水溶液６４５ｇ中に投入し、
攪拌，混合して、１５０℃で１２時間乾燥した後、７０
０℃で２時間焼成した。そして、この粉末に、水１２５
０ｇを加え、ボールミルで粉砕し、コーティング用スラ
リーとした。
【００３６】このスラリーを上記セラミックモノリス担
体に印加し、余分のスラリーを吹き払い、１２０℃で乾
燥後、４００℃で１時間焼成することにより、１００ｇ
／Ｌコーティングされた被膜付きモノリス担体を得た。
体に印加し、余分のスラリーを吹き払い、１２０℃で乾
燥後、４００℃で１時間焼成することにより、１００ｇ
／Ｌコーティングされた被膜付きモノリス担体を得た。
【００３７】使用した上記スラリーを同様に遠心分離
し、その上澄み液のイオン濃度を分析したところ、ＮＯ
３：４５ｐｐｍ，Ｃｌ：１０ｐｐｍ，Ｎａ：５ｐｐｍ，
Ｃａ：５ｐｐｍであった。
し、その上澄み液のイオン濃度を分析したところ、ＮＯ
３：４５ｐｐｍ，Ｃｌ：１０ｐｐｍ，Ｎａ：５ｐｐｍ，
Ｃａ：５ｐｐｍであった。
【００３８】このようにして得られた被膜付きモノリス
担体の被膜のひび割れを走査型電子顕微鏡により同様に
観察した結果、図５（倍率：４００倍）に示すように、
触媒層にひび割れは認められなかった。
担体の被膜のひび割れを走査型電子顕微鏡により同様に
観察した結果、図５（倍率：４００倍）に示すように、
触媒層にひび割れは認められなかった。
【００３９】発明例５ 活性アルミナ粉末５００ｇにジニトロジアミンパラジウ
ム硝酸溶液を３％となるように含浸し、乾燥、焼成し
て、３％Ｐｄ含有アルミナを得た。そして、この触媒粉
末５００ｇに水１２５０ｇを加え、ボールミルで粉砕し
て、コーティング用スラリーとした。
ム硝酸溶液を３％となるように含浸し、乾燥、焼成し
て、３％Ｐｄ含有アルミナを得た。そして、この触媒粉
末５００ｇに水１２５０ｇを加え、ボールミルで粉砕し
て、コーティング用スラリーとした。
【００４０】このスラリーを金属製モノリス担体（容
量：１．３Ｌ，セル数：約６２個／ｃｍ２，断面積：楕
円１１３ｃｍ２，長さ：１１５ｍｍ）に印加し、余分の
スラリーを吹き払い、１３０℃で乾燥後、４００℃で１
時間焼成して、１５０ｇ／Ｌコーティングされた金属製
モノリス触媒を得た。
量：１．３Ｌ，セル数：約６２個／ｃｍ２，断面積：楕
円１１３ｃｍ２，長さ：１１５ｍｍ）に印加し、余分の
スラリーを吹き払い、１３０℃で乾燥後、４００℃で１
時間焼成して、１５０ｇ／Ｌコーティングされた金属製
モノリス触媒を得た。
【００４１】そして、使用した上記スラリーを同様に遠
心分離し、その上澄み液のイオン濃度を分析したとこ
ろ、ＮＯ３：２０ｐｐｍ，Ｃｌ：７ｐｐｍ，Ｎａ：３ｐ
ｐｍ，Ｃａ：８ｐｐｍであった。
心分離し、その上澄み液のイオン濃度を分析したとこ
ろ、ＮＯ３：２０ｐｐｍ，Ｃｌ：７ｐｐｍ，Ｎａ：３ｐ
ｐｍ，Ｃａ：８ｐｐｍであった。
【００４２】このようにして得られた触媒のひび割れを
走査型電子顕微鏡により同様に観察した結果、図６（倍
率：２００倍）に示すように、触媒層にひび割れは認め
られなかった。
走査型電子顕微鏡により同様に観察した結果、図６（倍
率：２００倍）に示すように、触媒層にひび割れは認め
られなかった。
【００４３】比較例２ 活性アルミナ９８重量％、セリア２重量％からなる複合
物５５０ｇに、Ｈ２ＰｔＯＨ）６として８．２ｇの白金
を含有するアミン水溶液４１５ｍｌを含浸させ、次いで
この固体に氷酢酸の水溶液（３３ｍｌの氷酢酸を５０ｍ
ｌの水で希釈）を含浸した。次に、水を８５ｍｌ追加
し、スラリーとしてボールミルで粉砕し、９μｍ以下の
粒子径とした。
物５５０ｇに、Ｈ２ＰｔＯＨ）６として８．２ｇの白金
を含有するアミン水溶液４１５ｍｌを含浸させ、次いで
この固体に氷酢酸の水溶液（３３ｍｌの氷酢酸を５０ｍ
ｌの水で希釈）を含浸した。次に、水を８５ｍｌ追加
し、スラリーとしてボールミルで粉砕し、９μｍ以下の
粒子径とした。
【００４４】このスラリーを上記発明例３および４で用
いたセラミックモノリス担体に印加し、余分のスラリー
を吹き払い、１２０℃で乾燥後、４００℃で１時間焼成
することによって、１００ｇ／Ｌコーティングされたモ
ノリス触媒を得た。
いたセラミックモノリス担体に印加し、余分のスラリー
を吹き払い、１２０℃で乾燥後、４００℃で１時間焼成
することによって、１００ｇ／Ｌコーティングされたモ
ノリス触媒を得た。
【００４５】このとき使用した上記スラリーを遠心分離
し、その上澄み液中の酢酸濃度を調べたところ、３５０
００ｐｐｍであった。
し、その上澄み液中の酢酸濃度を調べたところ、３５０
００ｐｐｍであった。
【００４６】このようにして得られた触媒のひび割れを
走査型電子顕微鏡により同様に観察した結果、図７（倍
率：４００倍）に示すように、触媒層にひび割れが発生
していることが確認された。
走査型電子顕微鏡により同様に観察した結果、図７（倍
率：４００倍）に示すように、触媒層にひび割れが発生
していることが確認された。
【００４７】比較例３ 活性アルミナ粉末５００ｇと炭酸ランタン１２０ｇを
６．５％硝酸アルミニウム水溶液６４５ｇ中に投入し、
攪拌，混合してボールミルで粉砕し、コーティング用ス
ラリーとした。
６．５％硝酸アルミニウム水溶液６４５ｇ中に投入し、
攪拌，混合してボールミルで粉砕し、コーティング用ス
ラリーとした。
【００４８】このスラリーを上記発明例３および４で用
いたセラミックモノリス担体に印加し、余分のスラリー
を吹き払い、１２０℃で乾燥後、７００℃で２時間焼成
することにより、１００ｇ／Ｌコーティングされた被膜
付きモノリス担体を得た。
いたセラミックモノリス担体に印加し、余分のスラリー
を吹き払い、１２０℃で乾燥後、７００℃で２時間焼成
することにより、１００ｇ／Ｌコーティングされた被膜
付きモノリス担体を得た。
【００４９】使用した上記スラリーを同様に遠心分離
し、その上澄み液中の硝酸イオンの濃度を調べたとこ
ろ、４４０００ｐｐｍであった。
し、その上澄み液中の硝酸イオンの濃度を調べたとこ
ろ、４４０００ｐｐｍであった。
【００５０】このようにして得られた被膜付きモノリス
担体の被膜のひび割れを走査型電子顕微鏡により同様に
観察した結果、図８（倍率：４００倍）に示すように、
触媒層にひび割れの発生が認められた。
担体の被膜のひび割れを走査型電子顕微鏡により同様に
観察した結果、図８（倍率：４００倍）に示すように、
触媒層にひび割れの発生が認められた。
【００５１】比較例４ 活性アルミナ粉末５００ｇにジニトロジアミンパラジウ
ム硝酸溶液を３％となるように含浸し、乾燥、焼成し
て、３％Ｐｄ含有アルミナを得た。そして、この触媒粉
末５００ｇに硝酸１４ｇと水１２３６ｇを加え、ボール
ミルで粉砕して、コーティング用スラリーとした。
ム硝酸溶液を３％となるように含浸し、乾燥、焼成し
て、３％Ｐｄ含有アルミナを得た。そして、この触媒粉
末５００ｇに硝酸１４ｇと水１２３６ｇを加え、ボール
ミルで粉砕して、コーティング用スラリーとした。
【００５２】このスラリーを上記発明例５で用いた金属
製モノリス担体に印加し、余分のスラリーを吹き払い、
１３０℃で乾燥後、４００℃で１時間焼成して、１５０
ｇ／Ｌコーティングされた金属製モノリス触媒を得た。
製モノリス担体に印加し、余分のスラリーを吹き払い、
１３０℃で乾燥後、４００℃で１時間焼成して、１５０
ｇ／Ｌコーティングされた金属製モノリス触媒を得た。
【００５３】そして、使用した上記スラリーを同様に遠
心分離し、その上澄み液中の硝酸の濃度を調べたとこ
ろ、５８００ｐｐｍであった。
心分離し、その上澄み液中の硝酸の濃度を調べたとこ
ろ、５８００ｐｐｍであった。
【００５４】このようにして得られた触媒のひび割れを
走査型電子顕微鏡により同様に観察した結果、図９（倍
率：１００倍）に示すように、触媒層にひび割れが確認
された。
走査型電子顕微鏡により同様に観察した結果、図９（倍
率：１００倍）に示すように、触媒層にひび割れが確認
された。
【図１】（ａ）および（ｂ）は本発明の第１発明例に係
わる製造方法により得られた排気ガス浄化用触媒におけ
る触媒コート層のＳＥＭ像を示す図である。
わる製造方法により得られた排気ガス浄化用触媒におけ
る触媒コート層のＳＥＭ像を示す図である。
【図２】本発明の第２発明例に係わる製造方法により得
られた排気ガス浄化用触媒における触媒コート層のＳＥ
Ｍ像を示す図である。
られた排気ガス浄化用触媒における触媒コート層のＳＥ
Ｍ像を示す図である。
【図３】（ａ）および（ｂ）は第１の比較例に係わる製
造方法により得られた排気ガス浄化用触媒における触媒
コート層のＳＥＭ像を示す図である。
造方法により得られた排気ガス浄化用触媒における触媒
コート層のＳＥＭ像を示す図である。
【図４】本発明の第３発明例に係わる製造方法により得
られた排気ガス浄化用触媒における触媒コート層のＳＥ
Ｍ像を示す図である。
られた排気ガス浄化用触媒における触媒コート層のＳＥ
Ｍ像を示す図である。
【図５】本発明の第４発明例に係わる製造方法により得
られた排気ガス浄化用触媒における触媒コート層のＳＥ
Ｍ像を示す図である。
られた排気ガス浄化用触媒における触媒コート層のＳＥ
Ｍ像を示す図である。
【図６】本発明の第４発明例に係わる製造方法により得
られた排気ガス浄化用触媒における触媒コート層のＳＥ
Ｍ像を示す図である。
られた排気ガス浄化用触媒における触媒コート層のＳＥ
Ｍ像を示す図である。
【図７】第２の比較例に係わる製造方法により得られた
排気ガス浄化用触媒における触媒コート層のＳＥＭ像を
示す図である。
排気ガス浄化用触媒における触媒コート層のＳＥＭ像を
示す図である。
【図８】第３の比較例に係わる製造方法により得られた
排気ガス浄化用触媒における触媒コート層のＳＥＭ像を
示す図である。
排気ガス浄化用触媒における触媒コート層のＳＥＭ像を
示す図である。
【図９】第４の比較例に係わる製造方法により得られた
排気ガス浄化用触媒における触媒コート層のＳＥＭ像を
示す図である。
排気ガス浄化用触媒における触媒コート層のＳＥＭ像を
示す図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｂ０１Ｊ 29/44 Ｆ０１Ｎ 3/28 ３１１Ｒ Ｆ０１Ｎ 3/10 Ｂ０１Ｄ 53/36 ＺＡＢＣ 3/28 ３１１ Ｂ０１Ｊ 23/56 ３０１Ａ (72)発明者 上 條 元 久 神奈川県横浜市神奈川区宝町２番地 日産 自動車株式会社内 Ｆターム(参考） 3G091 AA02 AB03 BA07 FC10 GA20 4D048 AA06 AA13 AA18 BA03X BA10X BA11X BA18X BA19X BA30X BA31X BB02 BC07 BC10 4G069 AA04 AA08 AA09 AA11 AA12 BA01A BA01B BA01C BA07B BA13B BB04A BB04B BB04C BC42B BC42C BC43B BC43C BC72B BC72C BC75B BC75C CA03 CA09 DA06 EA19 EB15X EB15Y ED03 EE01 EE09 FB23 ZA11B
Claims (7)
- 【請求項１】 触媒成分を含む触媒スラリーを担体にコ
ートして触媒成分を担体表面に付着させた排気ガス浄化
用触媒において、 触媒コート層の最表面に、厚さが５０μｍ以下の亀裂防
止コート層を備えていることを特徴とする排気ガス浄化
用触媒。 - 【請求項２】 最表面の亀裂防止コート層が平均粒子径
が３〜７μｍの粒子を含んでいることを特徴とする請求
項１記載の排気ガス浄化用触媒。 - 【請求項３】 最表面の亀裂防止コート層を形成するス
ラリーのイオン含有量が５０ｐｐｍ以下であることを特
徴とする請求項１ないし請求項２記載の排気ガス浄化用
触媒。 - 【請求項４】 触媒成分を含む触媒スラリーを担体にコ
ートしたのち、乾燥，焼成する排気ガス浄化用触媒の製
造方法において、 触媒コート層の最表面に、平均粒子径が３〜７μｍの触
媒スラリーを焼成した状態で５０μｍ以下の厚さとなる
ようにコートすることを特徴とする排気ガス浄化用触媒
の製造方法。 - 【請求項５】 触媒スラリーがアルミナを含んでいるこ
とを特徴とする請求項４記載の排気ガス浄化用触媒の製
造方法。 - 【請求項６】 触媒スラリーが多孔質物質を含んでいる
ことを特徴とする請求項４または請求項５記載の排気ガ
ス浄化用触媒。 - 【請求項７】 触媒成分を含む触媒スラリーを担体にコ
ートしたのち、乾燥，焼成する排気ガス浄化用触媒の製
造方法において、 前記触媒スラリーを構成する水に含まれるＯＨ−以外の
陰イオンおよびＨ＋以外の陽イオンの含有量がそれぞれ
５０ｐｐｍ以下である触媒スラリーを用いることを特徴
とする排気ガス浄化用触媒の製造方法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000050993A JP3777589B2 (ja) | 2000-02-28 | 2000-02-28 | 排気ガス浄化用触媒および排気ガス浄化用触媒の製造方法 |
| DE60138582T DE60138582D1 (de) | 2000-02-28 | 2001-02-26 | Katalysator zur Reinigung von Abgasen und Verfahren zu seiner Herstellung |
| EP01104727A EP1127604B1 (en) | 2000-02-28 | 2001-02-26 | Exhaust gas purifying catalyst and method of producing same |
| US09/794,010 US20010021358A1 (en) | 2000-02-28 | 2001-02-28 | Exhaust gas purifying catalyst and method of producing same |
| US11/090,248 US7208444B2 (en) | 2000-02-28 | 2005-03-28 | Exhaust gas purifying catalyst and method of producing same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000050993A JP3777589B2 (ja) | 2000-02-28 | 2000-02-28 | 排気ガス浄化用触媒および排気ガス浄化用触媒の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001232212A true JP2001232212A (ja) | 2001-08-28 |
| JP3777589B2 JP3777589B2 (ja) | 2006-05-24 |
Family
ID=18572708
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000050993A Expired - Lifetime JP3777589B2 (ja) | 2000-02-28 | 2000-02-28 | 排気ガス浄化用触媒および排気ガス浄化用触媒の製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US20010021358A1 (ja) |
| EP (1) | EP1127604B1 (ja) |
| JP (1) | JP3777589B2 (ja) |
| DE (1) | DE60138582D1 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPWO2004024295A1 (ja) * | 2002-09-13 | 2006-01-05 | イビデン株式会社 | ハニカム構造体 |
| US7112550B2 (en) | 2002-01-24 | 2006-09-26 | Nissan Motor Co., Ltd. | Exhaust gas purifying catalyst |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BG64476B1 (bg) * | 2002-03-04 | 2005-04-30 | "Терем" Еад - Клон Търговище | Оксиден катализатор за очистване на отработени и отпадъчни газове и метод за получаването му |
| JP4079717B2 (ja) * | 2002-08-05 | 2008-04-23 | 株式会社日本自動車部品総合研究所 | セラミック触媒体 |
| JP3912377B2 (ja) * | 2003-12-25 | 2007-05-09 | 日産自動車株式会社 | 排ガス浄化用触媒粉末の製造方法 |
| JP4547930B2 (ja) * | 2004-02-17 | 2010-09-22 | 日産自動車株式会社 | 触媒、触媒の調製方法及び排ガス浄化用触媒 |
| JP4547935B2 (ja) * | 2004-02-24 | 2010-09-22 | 日産自動車株式会社 | 排ガス浄化用触媒、排ガス浄化触媒、及び触媒の製造方法 |
| JP4513372B2 (ja) * | 2004-03-23 | 2010-07-28 | 日産自動車株式会社 | 排ガス浄化用触媒及び排ガス浄化触媒 |
| JP4513384B2 (ja) * | 2004-03-31 | 2010-07-28 | 日産自動車株式会社 | 高耐熱性排ガス浄化用触媒及びその製造方法 |
| JP5200315B2 (ja) * | 2004-12-22 | 2013-06-05 | 日産自動車株式会社 | 排気ガス浄化触媒、及び排気ガス浄化触媒の製造方法 |
| JP2008023501A (ja) * | 2006-07-25 | 2008-02-07 | Toyota Motor Corp | 排ガス浄化用触媒 |
| JP2008188542A (ja) | 2007-02-06 | 2008-08-21 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 排ガス処理用触媒、その製造方法および排ガス処理方法 |
| US7741243B2 (en) * | 2007-10-05 | 2010-06-22 | Canon Kabushiki Kaisha | Production method of catalyst layer |
| WO2020138298A1 (ja) * | 2018-12-27 | 2020-07-02 | ユミコア日本触媒株式会社 | 排気ガス浄化用触媒及び排気ガス浄化方法 |
Family Cites Families (21)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3513109A (en) * | 1967-04-19 | 1970-05-19 | Du Pont | Process for applying catalytic coatings |
| US4056489A (en) * | 1973-12-10 | 1977-11-01 | Engelhard Minerals & Chemicals Corporation | High temperature stable catalyst composition and method for its preparation |
| US4134860A (en) | 1977-04-29 | 1979-01-16 | Engelhard Minerals & Chemicals Corporation | Catalyst manufacture |
| JPS5610333A (en) * | 1979-07-06 | 1981-02-02 | Toyota Motor Corp | Catalyst for cleaning up exhaust gas and manufacture of said catalyst |
| JPS6050491B2 (ja) | 1981-05-30 | 1985-11-08 | トヨタ自動車株式会社 | 希土類含有多孔性被膜を有する排ガス浄化用触媒の製造方法 |
| JPS5814950A (ja) * | 1981-07-18 | 1983-01-28 | Nippon Soken Inc | 活性アルミナコ−テイングハニカム構造触媒担体 |
| US4532228A (en) * | 1984-01-19 | 1985-07-30 | Corning Glass Works | Treatment of monolithic catalyst supports |
| JPH0628731B2 (ja) | 1985-12-24 | 1994-04-20 | 松下電器産業株式会社 | 排ガス浄化用触媒の製造法 |
| JPS6388040A (ja) * | 1986-09-30 | 1988-04-19 | Nippon Engeruharudo Kk | 車輌用排気ガス浄化用触媒及びその製造方法 |
| JPH0626672B2 (ja) * | 1987-03-05 | 1994-04-13 | 株式会社豊田中央研究所 | 排気浄化触媒及びその製造方法 |
| JP2680597B2 (ja) * | 1988-03-14 | 1997-11-19 | マツダ株式会社 | 排気ガス浄化用触媒 |
| JPH0338250A (ja) * | 1989-07-06 | 1991-02-19 | Mazda Motor Corp | 排気ガス浄化用触媒 |
| JP3309971B2 (ja) * | 1990-03-30 | 2002-07-29 | 東京濾器株式会社 | 排気ガス浄化用触媒の製造法 |
| JP2507146B2 (ja) | 1990-06-15 | 1996-06-12 | 松下電器産業株式会社 | 触媒被覆層の形成方法 |
| JP3275356B2 (ja) | 1992-04-09 | 2002-04-15 | 日産自動車株式会社 | 排ガス浄化触媒の製造方法 |
| JP3285614B2 (ja) * | 1992-07-30 | 2002-05-27 | 日本碍子株式会社 | 排ガス浄化用触媒及びその製造方法 |
| JP3254321B2 (ja) | 1993-12-24 | 2002-02-04 | 松下電器産業株式会社 | 触媒スラリー、触媒担体スラリーおよびそれらを用いた触媒体の製造方法 |
| JPH0910594A (ja) * | 1995-04-28 | 1997-01-14 | Mazda Motor Corp | 排気ガス浄化用触媒 |
| US5981427A (en) * | 1996-09-04 | 1999-11-09 | Engelhard Corporation | Catalyst composition |
| JPH10180099A (ja) * | 1996-12-20 | 1998-07-07 | Ngk Insulators Ltd | 排ガス浄化用触媒及び排ガス浄化システム |
| US6375910B1 (en) * | 1999-04-02 | 2002-04-23 | Engelhard Corporation | Multi-zoned catalytic trap and methods of making and using the same |
-
2000
- 2000-02-28 JP JP2000050993A patent/JP3777589B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2001
- 2001-02-26 EP EP01104727A patent/EP1127604B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-02-26 DE DE60138582T patent/DE60138582D1/de not_active Expired - Lifetime
- 2001-02-28 US US09/794,010 patent/US20010021358A1/en not_active Abandoned
-
2005
- 2005-03-28 US US11/090,248 patent/US7208444B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7112550B2 (en) | 2002-01-24 | 2006-09-26 | Nissan Motor Co., Ltd. | Exhaust gas purifying catalyst |
| JPWO2004024295A1 (ja) * | 2002-09-13 | 2006-01-05 | イビデン株式会社 | ハニカム構造体 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP1127604B1 (en) | 2009-05-06 |
| US20010021358A1 (en) | 2001-09-13 |
| JP3777589B2 (ja) | 2006-05-24 |
| DE60138582D1 (de) | 2009-06-18 |
| US20050170958A1 (en) | 2005-08-04 |
| EP1127604A1 (en) | 2001-08-29 |
| US7208444B2 (en) | 2007-04-24 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US7550124B2 (en) | Layered catalyst composite | |
| JP5499053B2 (ja) | 内燃エンジン用耐老化性触媒物品 | |
| US20080044330A1 (en) | Layered catalyst composite | |
| US20090257933A1 (en) | Layered Catalyst Composite | |
| EP1121979B1 (en) | Three-way rare earth oxide catalysts | |
| US20080042104A1 (en) | Layered Catalyst Composite | |
| US7208444B2 (en) | Exhaust gas purifying catalyst and method of producing same | |
| KR20100057812A (ko) | 다층상 촉매 조성물 | |
| WO2007010899A1 (ja) | 排ガス浄化用触媒 | |
| WO2001080979A1 (en) | Exhaust gas purifying catalyst and method of producing same | |
| KR102010683B1 (ko) | 배기 가스 정화용 촉매 | |
| JP2016512469A (ja) | 偏析したウォッシュコートを伴う触媒物品、及びその作製方法 | |
| WO2016158658A1 (ja) | 排ガス浄化用触媒 | |
| KR20180085813A (ko) | 희박 가솔린 직접 분사 엔진을 위한 촉매 시스템 | |
| KR20210044797A (ko) | 배기 가스 스트림을 처리하기 위한 사원 전환 촉매 | |
| JP2005144334A5 (ja) | ||
| JP4507717B2 (ja) | 排気ガス浄化用触媒 | |
| JP2004114014A (ja) | 排気ガス浄化用触媒及びその製造方法 | |
| JP5854262B2 (ja) | 排ガス浄化用触媒 | |
| JP2006035130A (ja) | 排気ガス浄化用触媒及びその製造方法 | |
| WO2009119459A1 (ja) | 排気ガス浄化触媒 | |
| JPS6253737A (ja) | 排気ガス浄化用触媒およびその製造方法 | |
| JP2004209323A (ja) | 排気ガス浄化触媒及びその製造方法 | |
| JP3794288B2 (ja) | 排気ガス浄化用触媒及びその製造方法 | |
| WO2022209154A1 (ja) | 排ガス浄化用触媒及び排ガス浄化システム |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050318 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050513 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20060206 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20060219 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100310 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110310 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110310 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120310 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130310 Year of fee payment: 7 |