JP2001228317A - 接着剤による透明導電膜の支持方法および層構成 - Google Patents

接着剤による透明導電膜の支持方法および層構成

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Abstract

(57)【要約】 【課題】ガラス基板10上に形成した透明導電膜30を
接着剤の層60を介してプラスチックシート80側に転
写するに際し、塵埃の問題を有効に回避する。 【解決手段】透明導電膜30をガラス基板10側からプ
ラスチックシート80側へ転写するとき、次のAおよび
Bを経て行う。A 接着剤の層60の厚さをL(3μm
≦L≦20μm)とし、プラスチックシート80の一面
からそのLを越える大きさの不要な付着物を除去し、大
きさがL以下の付着物を残存させる工程。B Aの工程
で残存させた付着物を接着剤の層60の中に埋め込む工
程。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、プラスチック材
料からなるシート基材の一面に、接着剤の層を介して透
明導電膜の層を支持する技術であり、プラスチック材料
が耐熱性および寸法安定性の面でガラス等に比べて劣る
点をカバーするための技術に関する。
【0002】
【発明の背景】たとえば、液晶表示装置などの光学的な
表示装置のための基板材料としては、ガラスが一般的で
ある。しかし、ガラスは割れやすく、重量も重いことか
ら、それをプラスチック材料に変えることが注目されて
いる。プラスチック材料は、割れにくいし、軽量である
ことから、特に、携帯機器における表示用の基材として
好適である。
【0003】ところが、プラスチック材料からなるシー
ト基材を表示装置のための基板材料として用いるとき、
プラスチックがガラスに比べて、耐熱性、および温度や
湿度の変化に対する寸法安定性で劣ることが製造上問題
となる。透明導電膜の特性については、実用上、たとえ
ば150℃以上の基板温度で成膜可能で比抵抗が3.0
×10-4Ωcm以下のものが要求される。また、透明導
電膜および表示用の画素のパターニングについても、加
熱や洗浄などの処理を通して行われるので、耐熱性だけ
でなく、温度や湿度の変化に対する寸法安定性が求めら
れる。その点、プラスチック材料はガラスに比べて劣る
ため、プラスチック材料からなるシート基材上に透明導
電膜を直接形成する方法では、良好な比抵抗をもつ透明
導電膜、また、表示用の画素に対し正確に位置合わせさ
れた透明導電膜を得ることは困難である。
【0004】そこで、そのようなプラスチックを用いる
場合の難点を解消するため、この出願人は、転写法を利
用する技術を先に提案した(平成10年7月24日提出
の特願平10−225320号、および平成10年12
月19日提出の特願平10−375951号)。これら
の先の提案の技術では、透明導電膜をプラスチック材料
からなるシート基材に比べて耐熱性および寸法安定性に
すぐれた基板(代表的には、ガラス基板)に仮に形成し
た後、その仮の基板側からシート基材側に転写する。そ
の結果、透明導電膜、さらには表示用の画素群は、仮の
基板がもつすぐれた耐熱性および寸法安定性にバックア
ップされることによって、要求される比抵抗および位置
合わせ精度をもつことになる。それは、転写後の状態、
すなわち、プラスチック材料からなるシート基材の一面
に、接着剤の層を介して支持される状態でも同じであ
る。
【0005】
【発明の解決すべき課題】しかし、カラー液晶表示装置
のような精密な装置においては、塵埃によるコンタミネ
ーション(汚れ)が常に問題となる。透明導電膜等を形
成した仮の基板と、プラスチック材料からなるシート基
材は、接着剤の塗布前、あるいは転写のための張り合わ
せの直前に洗浄し、付着した塵埃を除去することが必要
である。仮の基板側については、ブラシ、超音波などを
使用したウエット洗浄を行い、エアーナイフ乾燥、熱乾
燥をすることによって、付着した塵埃を完全に除去する
ことができ、しかもまた、基板温度を元に戻せば基板上
のパターンの寸法もすぐに回復する。
【0006】それに対し、すでに述べたように、プラス
チック材料からなるシート基材は熱により伸縮しやす
く、また、吸湿もしやすい。しかも、熱や吸湿による寸
法の変化はヒステリシス特性をもつので、シート基材の
寸法の安定化に時間がかかるばかりか、完全に元の寸法
に戻らないこともある。そのため、透明導電膜のパター
ンの寸法精度の点から、シート基材に対しては、仮の基
板に対する前記ウエット洗浄を適用することが困難であ
る。たとえば、ポリエーテルスルホンのシート基材を例
にあげると、このシート基材は、洗浄のため水に浸すだ
けで30cmの長さが150μm伸びてしまった。ま
た、このシート基材を乾燥のため100℃で処理し、常
温に戻したところ、逆に300μm(水処理前に比べ)
収縮してしまった。そして、このシート基材を温度、湿
度を一定にして保管したが、寸法が安定するまで3日を
必要とした。
【0007】プラスチック材料からなるシート基材を熱
や水分の影響を受けずに洗浄する方法としては、エアー
ブローを行うか、粘着ローラを用いるもの等のドライな
手法に限られる。しかし、これらの手法では大きな粒
子、おおむね3μm以上の粒子は除去できるが、これよ
り小さい粒子は除去することが困難である。特に、プラ
スチック材料は、静電気を帯びやすく、空気中の塵埃を
引き付けやすいので、塵埃あるいは異物を完全になくす
ことは非常に困難である。仮の基板とプラスチック材料
からなるシート基材の張り合わせ工程における異物の混
入は、接着剤層の膜厚に影響を与え、膜厚の均一性を損
なうだけでなく、時によっては、張り合わせ時の圧力で
部分的に透明導電膜のパターンを圧迫し、電極となる透
明導電膜のパターンを損傷し断線してしまうおそれがあ
る。
【0008】
【発明の着眼点および解決手段】そこで、この発明で
は、プラスチック材料からなるシート基材(以下、プラ
スチックシートともいう)の洗浄についての検討の結果
から、プラスチックシートからすべての塵埃を完全に除
去することはせずに、除去しにくい塵埃はプラスチック
シート側に残しておき、それが悪影響を及ぼさないよう
にするという考え方をとることにした。すなわち、この
発明は、プラスチック材料からなるシート基材の一面
に、接着剤の層を介して透明導電膜の層を支持するに際
し、次の各工程を備えることに特徴がある。 A 前記接着剤の層の厚さをLとし、前記シート基材の
一面からそのLを越える大きさの不要な付着物を除去
し、大きさがL以下の付着物を残存させる工程。 B 前記Aの工程で残存させた付着物を前記接着剤の層
の中に埋め込む工程。
【0009】前記Lについては、3μm≦L≦20μm
にするのが良い。下限の3μmという数値は、3μm以
上の塵埃はドライな手法で比較的容易に除去することが
できるという経験的な事実に基づく。また、上限の20
μmという数値は、膜厚の均一性の点および接着剤の硬
化収縮に伴う応力からの制限である。表示品質を担保す
るためには、接着剤の層についても、その平均膜厚およ
び面内の厚さのばらつきを抑制することが必要であり、
また、応力についても、熱処理、高温高湿試験等の信頼
性試験によって透明導電膜に断線が生じないように考慮
すべきであり、それらの面から20μmが限度であり、
より好ましい上限値は10μmである。なお、前記Lの
値は、硬化後の厚さであり、その際、接着剤は、応力の
影響を避ける意味から、好ましくはヤング率が20kg
f/mm2 以上、特には500〜2000kgf/mm
2 になるようにすると良い。また、応力を緩和するた
め、転写の対象である透明導電膜を剥離層と保護膜とで
はさみ込むように形成するのも良い(平成11年4月1
9日提出の特願平11−110310号)。
【0010】一方、前記Bの工程において、残存させた
付着物を接着剤の層の中に確実に埋め込むため、また、
転写のための張り付け時に泡が混入することを避けるた
めに、接着剤は高粘度にすべきではなく、粘度が10c
P〜2000cPの塗布液を用いて接着剤の層を塗布し
形成することが好ましい。このような低粘度の接着剤を
用いるとき、接着剤の中に粒径のそろったスペーサ粒子
を混入し、接着剤の層の膜厚を制御することができる。
スペーサ粒子としては、ベンゾグアナミン(圧縮弾性
率:1100kg/mm2 )より柔らかいものが好まし
い。それ以上に固いと、張り付け時に保護膜を通して透
明導電膜にダメージを与えやすくなる。SiO2 の粒子
は、この面から好ましくなく、シリコーンのような柔ら
かいものが最も好ましい。接着剤の層は、スペーサ粒子
の大きさまで押しつぶすのではなく、平均膜厚としては
スペーサ粒子の大きさよりもやや厚めに制御する。この
膜厚の制御は、層の中にスペーサ粒子が存在するとき、
かなり容易であり、張り付け条件を広くとることができ
るようになる。実験の結果からすると、スペーサ粒子の
大きさは硬化した接着剤の層の平均厚さの50〜90%
の大きさが好ましく、また、その混入量は面内分布量で
20〜40個/mm2 が好ましい。
【0011】接着剤としては、熱をかけずに硬化する光
硬化型の接着剤を用いることが望ましく、アクリルモノ
マーあるいはアクリルモノマーとオリゴマーからなるラ
ジカル重合型のものやカチオン重合型のエポキシ系の光
硬化型樹脂を用いることができ、その中でもカチオン重
合型の、たとえば、エポキシ系の紫外線硬化型接着剤が
最適である。これは、ガラスからなる仮の基板と転写さ
れるプラスチックシートのように熱膨張係数の差が大き
いものを接着剤を介して張り合わせ、接着剤の層を硬化
させるに際し、熱収縮の影響を受けずに転写することが
できるからである。接着剤の層は、スピンコータ、ロー
ルコータ、スプレイコータ等の各種の塗布手段によって
塗布し形成することができる。塗布被膜の均一性の点か
らはスピンコータによる方法が最もすぐれるが、塗布装
置の価格や塗布材料である接着剤の利用効率の面に難点
がある。また、ロールコータによる方法は生産性にすぐ
れるが、ロールのスジムラがでやすく、それを後の張り
付け工程で消すことが難しい。その点、スプレイコータ
による方法は、装置価格や塗布材料の利用効率にすぐ
れ、しかもまた、塗布表面に微細なあばた状のムラが生
じる傾向はあるが、後の張り付け工程でそうしたムラを
消すことができる。さらに、接着剤の層は、仮の基板
上、あるいはプラスチックシート上のいずれの側へも形
成することができるが、仮の基板側に形成する方が好ま
しい。仮の基板側の方が塵埃(異物)を除去しやすく、
塗布をより確実に均一に行うことができるからである。
塗布すべき面に異物がある場合、その異物を核にして、
流動性のある塗布液がはじかれることがある。
【0012】光学的な表示装置として、高品質な表示を
するためには、他の層に比べて厚い接着剤の層の平均膜
厚や、面内の厚さのばらつきをチェックすることが必要
である。こうしたチェック、たとえば、局部的な凹凸と
かすじ状の接着剤の層の厚さのむらを目視検査等では識
別することが困難である。ところが、液晶表示装置とし
てパネル化すると、その厚さのむらの部分の屈折率が周
囲の部分と異なり目立つようになる場合がある。そこ
で、この発明では、接着剤の層の厚さのばらつきを目視
検査で確認することができるようにすることにも目を付
けた。すなわち、予め接着剤の中に特定の色素を少量、
たとえば0.01重量%〜0.1重量%添加し、この色
素の濃淡で膜厚のばらつきや膜厚のむらを確認するよう
にした。そして、電極である透明導電膜のパターンおよ
びカラー表示のためのカラーフィルタ等を形成した仮の
基板とプラスチックシートとを張り合わせた際、加圧
(ロールの当たり)のむらや接着剤の塗布むらや、すじ
に起因する接着剤の層の膜厚のばらつきやむらを容易に
発見することができる。
【0013】しかし、接着剤に添加した色素による着色
は、接着剤の層のチェックの上では有効であるが、カラ
ー液晶表示等の色彩に影響を与える場合がある。そのた
め、使用する染料としては、強い光、酸あるいは熱など
で容易に退色、透明化するものを用いることが望まし
い。このような色素としては、シアニン系色素、オキサ
ジン系色素、フェノチアジン系色素、トリフェニルメタ
ン系色素のうち、メチレンブルー、フェノールフタレイ
ン等が使用可能である。接着剤として、たとえば紫外線
硬化型のように、接着剤の硬化と一緒に、添加した染料
を退色、透明化させることができるものを選択するのが
良い。
【0014】この発明で用いるプラスチック材料からな
るシートは、枚葉、ロールのいずれの形態でも用いるこ
とができ、好ましい厚さは100〜700μm、特に好
ましくは、100〜400μmの範囲である。プラスチ
ック材料としては、ポリエーテルスルホン、ポリカーボ
ネート、ポリアリレート、アクリル、ポリイミド等の樹
脂からなるシートを適用することができる。
【0015】また、透明導電膜としては、ITOやSn
O2 などの金属酸化物を用いるこができ、特に、透明性
および比抵抗などの物理的な特性面で優れたITOが好
ましい。このITOは、スパッタリング、イオンプレー
ティング、あるいは電子ビーム蒸着等の公知の方法によ
って形成することができる。これらの成膜法により形成
した透明導電膜を公知のエッチング法を用いてパターン
化することができる。この発明では、このパターン化の
際に、仮の基板として、セラミックス、ガラス、金属
(42アロイ、銅合金の熱膨張の小さい金属材料が好適
である)の単体、あるいはそれらの複数を積層し複合し
たものなどの耐熱性および寸法安定性にすぐれた基板、
特に好ましくは、ガラス基板を用いるので、たとえば、
100mmに対し、約±3μm以下の寸法精度で透明導
電膜を得ることができる。
【0016】このような透明導電膜に必要とされる膜特
性としては、主に良好な光透過率と小さな抵抗値である
が、そのほか、転写後にプラスチックシートから受ける
力(シートの伸縮、曲げなどによる力)に対する適正も
大事である。透明導電膜は、たとえば1000〜200
0オングストロームの薄い膜であり、その硬さについ
て、超微小硬さ試験機で測定することができる。この硬
さ試験機は、圧子駆動部に変位計が装備され、圧子の押
し込み深さを測定し、押し込み深さから硬さを求めるも
ので、これを連続的に測定することによって、弾性変形
量、塑性変形量、試験力の保持中におけるクリープ変形
量などの情報を得ることができる。この超微小硬さ試験
機で透明導電膜の物性を測定したところ、この発明に適
用する上で良好な透明導電膜としては、透明導電膜の膜
厚の10%相当分を押し込んだとき、弾性変形量が塑性
変形量よりも大きいものが好ましく、そのヤング率は2
×104 kgf/mm2 より大きいものが良いことが分
かった。また、その好ましい透明導電膜をSEMで観察
したところ、その結晶のグレンサイズは0.005μm
〜0.1μmであり、0.1μmより大きい場合にはク
ラックやしわなどの欠陥が発生しやすいことが判明し
た。なお、グレンサイズが0.005μmより小さい膜
の成膜はむずかしく、しかも、低抵抗のものが得られな
い。
【0017】
【好適な実施態様】この発明は、カラー液晶表示装置や
タッチパネルなどの各種の光学的な表示装置に適用する
ことができるが、特には、透明導電膜およびカラーフィ
ルタを含むカラー液晶表示装置に好適に適用することが
できる。図1〜図6が、この発明を適用することにより
カラー液晶表示装置を製造する際の工程図である。ま
ず、図1に示すように、洗浄したガラスの仮の基板10
の一面に、ポリイミドからなる剥離層20を形成する。
【0018】剥離層20としては、透明導電膜の材料で
あるITO等を高温で成膜することが可能な耐熱性や、
そうした透明導電膜をパターンニングする際のエッチン
グプロセス等に対する耐性や、また、仮の基板10との
適度な密着性(転写・剥離するまでしっかりと仮の基板
10に密着していること)が求められる。このような特
性を満足するために、剥離層20は、たとえば、90度
剥離試験で数g〜100g/cm程度の引き剥がし力が
必要なだけの密着性をもつことが必要である。また、仮
の基板10がガラス基板のような剛体である場合には、
剥離層20の破壊や層間剥離を防止するために、剥離層
20の幅1cm当たりで、100g以上の引き剥がし強
度をもつことが望ましい。剥離層20の材料として、特
定組成のポリイミドが望ましい。その理由として、仮の
基板10がガラス基板の場合には、特定組成のポリイミ
ドを用いるとき、ガラス基板10と剥離層20の層間に
特別な処理をしなくとも剥離することが可能となるから
である。
【0019】こうした特定組成のポリイミドとして、た
とえば、ピロメリット酸無水物と4,4’−ジアミノジ
フェニルエーテルから合成されるポリイミドや、ベンゾ
フェノンテトラカルボン酸無水物、あるいはピロメリッ
ト酸無水物と3,3’−ジアミノジフェニルスルホンか
ら合成されるポリイミドを用いることができる。また、
この特定組成のポリイミドとガラスとの密着性は、ベー
クすると高く(良く)なるが、時間の経過とともに次第
に低下する。そして、一定の所で変化しなくなる。しか
し、そのように密着性が低下した剥離層20を再びベー
クすると密着性は元に戻る。この特定組成のポリイミド
はベーク直後では、仮の基板(ガラス基板)20から剥
がすことはできないが、時間が経過すれば剥がすことが
できるようになる。こうしたポリイミドの密着性の変化
は、ポリイミドの吸湿が原因していると考えられる。し
たがって、ポリイミドのそうした特性を考慮しつつ、ポ
リイミドを剥離層20として用いることができる。この
とき、剥離層としての機能を満足するために、剥離層と
なる特定組成のポリイミドの膜厚を1.3μm好ましく
は2.0μm以上にする事が好ましい。なお、前記の特
定組成のポリイミド、特に、ピロメリット酸無水物と
4,4’−ジアミノジフェニルエーテルから合成される
ポリイミドは、シリカコートガラス上でベーク直後でも
剥離することができるが、数日すると水洗で剥がれてし
まうほど密着性が低下する。しかし、これら密着性の良
くないポリイミドにシランラップリング剤を添加するこ
とにより、ガラスとの密着性を最適化する事ができる。
したがって、そのようなポリイミドをも剥離層20の材
料として利用することもできる。
【0020】次に、図2に示すように、そうした仮の基
板10の剥離層20上に、ITO膜を成膜した後、それ
をパターニングすることによって、透明導電膜30を形
成する。ITO膜の成膜に当たっては、仮の基板10の
温度を150℃以上とし、すでに述べたような比抵抗の
低い膜を得る。そして、図3に示すように、仮の基板1
0上の透明導電膜30を被うように、保護膜40を形成
する。保護膜40は、剥離層20と相俟って透明導電膜
30を保護するための膜であり、アルキッド、アクリ
ル、ウレタン等有機系の樹脂のほか、無機系、あるいは
無機系と有機系のハイブリッド樹脂などを用いることが
できる。また、無機系の材料としては、たとえばテトラ
アルコキシシランのアルコール溶液があり、保護膜とし
てより厚い膜が必要な場合には、有機成分を入れたコー
ティング溶液を用いることもできる(たとえば、商品名
セラメート、ZRS−5PHシリーズ/触媒化成)。保
護膜40の厚さとしては、0.1μmから10μmが好
ましく、特に1〜5μmが好ましい。その時の保護膜4
0の硬さとしては、鉛筆硬度でH以上、できれば、2H
以上に設定することが好ましい。
【0021】この後、図4に示すように、保護膜40の
上にイエロー、マゼンタ、シアンの色画素50Y,50
M,50Cを含むカラーフィルタ層50をフォトリソグ
ラフィ法によって形成する。色画素50Y,50M,5
0Cの材料として、染料あるいは顔料などの着色剤をポ
リイミド樹脂溶液に溶解あるいは分散させた公知の塗布
材料を用いることができる(たとえば、特開平10−1
70716号)。各色画素はストライプ形状であり、そ
の幅は50〜200μmであり、隣り合う色画素の間の
距離は5〜20μmである。
【0022】さらに、図5に示すように、カラーフィル
タ層50の上を全体的に被うように、接着剤の層60を
塗布によって形成する。塗布液は前記したように低粘度
であり、その中にはスペーサ粒子が混入されている。こ
の接着剤の層60を形成した後、図6に示すように、接
着剤の層60の側にプラスチックシート80を張り付
け、透明導電膜30およびカラーフィルタ層50などを
仮の基板10側からプラスチックシート80側に転写す
る。転写後、剥離層20を除去する。それは、透明導電
膜30と液晶表示のための駆動素子との電気的な接続を
可能とするためでもあり、液晶駆動のための実効電圧の
向上を図るためでもある。ポリイミドからなる剥離層2
0を除去する方法としては、公知のウエットエッチング
あるいはドライエッチングのいずれをも適用することが
できる。なお、透明導電膜30と駆動素子との電気的な
接続については、ACF(異方性導電膜)による熱圧着
接続を適用することができる。前記したグレンサイズの
小さなITOは、ACFに対してクラックを生じること
がない。
【0023】
【実施例1】仮の基板であるシリカコートした青板ガラ
ス基板上にピロメリット酸無水物と4,4’−ジアミノ
ジフェニルエーテルを反応させ生成したポリイミド前駆
体ワニス(ジメチルアセトアミド溶液、固形分比10
%)にシランカップリング剤(KBM−573:信越シ
リコーン社製)を0.05wt%(固形分比)を添加した
溶液を、スピンコーターを用いて900rpmで12秒
の条件で塗布した。そして、それを乾燥した後、ホット
プレートを用い260℃、10分の条件で加熱、脱水閉
環し、2μmの厚みのポリイミド被膜からなる剥離層を
形成した。この剥離層と仮の基板との界面の密着強度
は、加熱処理2日後で4g/cmであった。また、その
剥離層の引っ張り強度は、JISK7127を準用して
測定した試験で150g/cmであった。
【0024】次に、剥離層上にITOをスパッタ法を用
い180℃の基板温度で、1500A(オングストロー
ム)の厚みに成膜した。その表面抵抗は、15Ω/□で
あった。ついで、ITO上に市販のポジ型レジストを塗
布し、乾燥後、所定のパターンを持ったマスクを介して
露光、現像、エッチング、レジストを剥離してパターン
状の透明導電膜を形成した。
【0025】さらに、透明導電膜上に、保護膜としてコ
ーティング剤(オプトマーSS−6917:JSR社
製)を3μmの厚さとなるように形成した。この保護膜
のヤング率は、超微小硬さ試験機で測定したところ、1
100kgf/mm2 であった。そして、この保護膜上
に着色ポリイミドを用い、フォトリソグラフィ法でR
(レッド)、G(グリーン)、B(ブルー)の色画素を
含むカラーフィルタ層を形成した。その後、仮の基板上
にカラーフィルタ層まで形成したものを水洗、乾燥後、
室温に戻し洗浄した。
【0026】次に、カラーフィルタ層上に接着剤とし
て、紫外線硬化樹脂(KR−400:旭電化社製)に粒
径が4μmのスペーサ粒子(エポスターGP−H:日本
触媒社製)と色素(NK−136:日本感光色素研究
所)を少量混入分散させた。このときの接着剤の粘度
は、120cPであった。この接着剤を、カラーフィル
タ層上に約6μmの膜厚となるようにスプレーにより塗
布し、接着剤の層を形成した。この接着剤の層は、色素
により薄い青色に着色していた。
【0027】一方、被転写体であるプラスチック材料か
らなる厚さが150μmのシート(LCD用ポリエーテ
ルスルホンフィルム:住友ベークライト社製)を超音波
で水洗、乾燥後2日クリーンルーム内で乾燥し、このプ
ラスチックシートを仮の基板と張り合わせる直前に超音
波エアークリナで洗浄してから、張り合わせに供した。
張り合わせは、加圧ロールを用いたラミネータを用い、
その加圧圧力は、ロールの自重のみとした。そして、プ
ラスチックシートと仮の基板を張り合わせた状態で、接
着剤の層にむらや筋等の異常がないことを確認してか
ら、紫外線を照射して接着剤の層を硬化した。硬化後の
接着剤の層の厚さは、4.5〜5.5μmであり、ヤン
グ率は、900kgf/mm2 であった。また、接着剤
の層に添加した色素の薄い青色は、紫外線照射により退
色、透明化していた。
【0028】次に、仮の基板と張り合わせたプラスチッ
クシート側の一端を、直径200mmのロールに固定
し、このロールを回転させながら仮の基板の端からプラ
スチックシートを引き剥がした。この時、仮の基板は、
ガラス基板と剥離層との界面から剥がれ、透明導電膜、
保護膜、カラーフィルタ層等はプラスチックシート側に
転写された。
【0029】転写処理後、ヒドラジンとエチレンジアミ
ンの1:1混合液でポリイミド剥離層を水洗し除去し
た。このプラスチックシートは、接着剤の層に若干の異
物の混入が見られるものの、異物が接着剤の層の中に埋
め込まれており、透明導電膜の断線は発生していなかっ
た。また、熱処理、あるいは高温高湿試験等の信頼性試
験を行っても透明導電膜にクラックが発生することはな
かった。
【0030】
【実施例2】保護膜にEXP−1474(藤倉化成社
製)を用い厚さ1.5μmの保護膜を形成し、また、ス
ペーサ粒子として柔らかいシリコーン系のKMP−60
0(平均粒径5μm、信越シリコーン社)以外は実施例
1と同条件で各層を形成し、転写処理を行った。接着剤
の層の硬化後の膜厚は4.5〜5.5μmであり、実施
例1と同様に特に問題はなかった。
【0031】
【比較例1】ここで、接着剤の層にスペーサ粒子を入れ
ずに張り合わせを行ったものは、平均膜厚が前述したよ
りかなり薄く、その値は3μmより薄く、しかも、膜厚
のばらつきが大きかった。また、異物は、接着剤の中に
完全には埋め込まれておらず、その異物のある位置に透
明導電膜のクラックが発生している部分があった。
【0032】
【比較例2】スペーサ粒子として、硬い、真絲球(商品
名であって、シンジョウキュウと称する真球)−SW1
0.0(触媒化成工業、SiO2微粒子)を使用したこ
と、および、接着剤の層の塗布膜厚を11μmとしたこ
と以外は、実施例2と同一条件で各層を形成し、転写処
理を行った。接着剤の層の硬化後の膜厚は10.5μm
であったが、所々スペーサ粒子が透明導電膜までめり込
んで傷になっている部分が観察された。また、スペーサ
粒子の部分が肉眼で若干曇ったように見えた。
【図面の簡単な説明】
【図1】 剥離層を形成した仮の基板を示す断面図であ
る。
【図2】 仮の基板上に透明導電膜を形成した状態を示
す断面図である。
【図3】 透明導電膜のパターンの上を保護膜で被覆し
た状態を示す断面図である。
【図4】 保護膜の上にカラーフィルタ層を形成した状
態を示す断面図である。
【図5】 カラーフィルタ層の上に接着剤の層を塗布し
た状態を示す断面図である。
【図6】 転写の際の状態を示す断面図である。
【符号の説明】
10 仮の基板(ガラス基板) 20 剥離層(ポリイミド層) 30 透明導電膜 40 保護膜 50 カラーフィルタ層 60 接着剤の層 80 シート基材(プラスチックシート)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 別宮 一郎 東京都文京区小石川4丁目14番12号 共同 印刷株式会社内 (72)発明者 村上 明良 東京都文京区小石川4丁目14番12号 共同 印刷株式会社内 (72)発明者 新井 和己 東京都文京区小石川4丁目14番12号 共同 印刷株式会社内 Fターム(参考) 2H048 BA45 BA64 BB14 BB15 BB37 BB43 2H090 JB03 JC19 JD17 LA01 LA02 LA15

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 プラスチック材料からなるシート基材の
    一面に、接着剤の層を介して透明導電膜の層を支持する
    に際し、次の各工程を備えることを特徴とする、接着剤
    による透明導電膜の支持方法。 A 前記接着剤の層の厚さをLとし、前記シート基材の
    一面からそのLを越える大きさの不要な付着物を除去
    し、大きさがL以下の付着物を残存させる工程。 B 前記Aの工程で残存させた付着物を前記接着剤の層
    の中に埋め込む工程。
  2. 【請求項2】 前記透明導電膜を前記シート基材に比べ
    て耐熱性および寸法安定性にすぐれた基板に仮に形成し
    た後、その基板側から前記シート基材側に転写する、請
    求項1の支持方法。
  3. 【請求項3】 前記透明導電膜は、前記耐熱性および寸
    法安定性にすぐれた基板上、転写時に剥離部分となる剥
    離層と、その透明導電膜を保護するための保護膜とでは
    さみ込まれている、請求項2の支持方法。
  4. 【請求項4】 前記保護膜の上にさらに前記接着剤層を
    含む、請求項3の支持方法。
  5. 【請求項5】 前記透明導電膜は、液晶カラー表示装置
    の電極であり、カラー表示のためのカラーフィルタ層が
    前記保護膜の上に形成され、前記接着剤層がそのカラー
    フィルタ層を被っている、請求項3あるいは4の支持方
    法。
  6. 【請求項6】 前記Bの工程のために、粘度が10cP
    〜2000cPの塗布液を用いて前記接着剤の層を塗布
    し形成する、請求項1の支持方法。
  7. 【請求項7】 前記Lの値が、3μm≦L≦20μmで
    ある、請求項1の支持方法。
  8. 【請求項8】 プラスチック材料からなるシート基材の
    一面に、接着剤の層を介して透明導電膜の層を支持する
    層構成であり、前記接着剤の層が、光もしくは熱等のエ
    ネルギーを受けて退色し透明になる色素を含み、その色
    素の色濃度により前記接着剤の層の厚さの均一性を検出
    することができる、透明導電膜を支持する層構成。
  9. 【請求項9】 プラスチック材料からなるシート基材の
    一面に、接着剤の層を介して透明導電膜の層を支持する
    層構成であり、前記接着剤は、厚さを制御するためのス
    ペーサ粒子を含み、そのスペーサ粒子は、硬度が前記透
    明導電膜に比べてやわらかであり、しかも、硬化した前
    記接着剤の層の平均厚さの50〜90%の大きさであ
    る、透明導電膜を支持する層構成。
  10. 【請求項10】 前記透明導電膜は、その膜厚の10%
    相当分を押し込んだとき、弾性変形量が塑性変形量より
    も大きい、請求項9の層構成。
  11. 【請求項11】 前記透明導電膜は、その結晶のグレン
    サイズが0.005μm〜0.1μmである、請求項9
    の層構成。
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