JPH06308473A - 透明導電性基材およびこれを用いた液晶素子 - Google Patents

透明導電性基材およびこれを用いた液晶素子

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JPH06308473A
JPH06308473A JP5093171A JP9317193A JPH06308473A JP H06308473 A JPH06308473 A JP H06308473A JP 5093171 A JP5093171 A JP 5093171A JP 9317193 A JP9317193 A JP 9317193A JP H06308473 A JPH06308473 A JP H06308473A
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JP
Japan
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transparent conductive
liquid crystal
film
transparent
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JP5093171A
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English (en)
Inventor
Toru Kashiwagi
亨 柏木
Koji Hara
浩二 原
Kensaku Takada
憲作 高田
Junichi Ono
純一 小野
Yasushi Saito
寧 齋藤
Kayoko Morikawa
佳代子 森川
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Sumitomo Electric Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Electric Industries Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 紫外線耐性にすぐれるため太陽光照射環境下
で使用可能であるとともに、大面積化や可撓化が容易
で、しかも効率よくかつ安価に製造できる透明導電性基
材と、それを用いた液晶素子とを提供する。 【構成】 透明導電性基材Sは、紫外線吸収能を有する
透明樹脂基材1の表面に、多数の透明導電性粒子21を
高分子バインダー22で結合した透明導電膜2を形成し
た。液晶素子は、上記透明導電性基材Sで液晶膜3を挟
着した。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶素子や静電シール
ド発熱体等に用いられる透明導電性基材と、この透明導
電性基材を、液晶膜を挟着する基材として用いた液晶素
子とに関し、とくに大面積化や可撓化が容易で、しかも
太陽光等の強い光に晒される用途に好適に使用される透
明導電性基材、およびこれを用いた液晶素子に関するも
のである。
【0002】
【従来の技術と発明が解決しようとする課題】近時、高
分子/液晶複合膜や、高分子液晶/低分子液晶混合膜等
の、大面積化が可能でしかも自己支持性を有する新しい
液晶膜が種々提案され、大面積かつ可撓性で、しかも太
陽光照射環境下で使用可能な液晶素子の実用化に向けて
開発が進められつつあるが、いまだ実用化に至っていな
いのが現状である。
【0003】この原因の1つとして、液晶膜を挟着して
素子を構成する透明導電性基材の問題が考えられる。つ
まり透明導電性基材を使用する用途は、従来、タッチパ
ネルなどの室内使用、小面積、非可撓性のものが主であ
り、大面積かつ可撓性で、しかも外装用途等に使用する
ことを一切考慮していなかったため、これら新しい使用
環境への対応が難しいのである。
【0004】従来の透明導電性基材は、柔軟なプラスチ
ックフィルム(PETフィルム、PESフィルム等)や
シート、あるいはソリッドなプラスチック板(アクリル
系樹脂板、ボリカードネート板、ポリスチレン板等)の
表面に、ITO(インジウムチンオキサイド)膜などの
透明導電膜を、真空蒸着法、スパッタリング法等の気相
法によって形成することで製造されている。
【0005】このため、これらの透明導電性基材を、太
陽光が直接当たる外装用途や、ガラス等を介してでも太
陽光等の強い光が当たる用途に使用すると、光に含まれ
る紫外線によってプラスチック材料が劣化(白化、変
色、脆化等)したり、あるいは透明導電膜、保護アンダ
ーコート層等が剥離、劣化したりする。また上記従来の
透明導電性基材を、素子にあわせて大面積化しようとす
ると、気相法の場合、大規模な製造設備が必要となる
上、形成した透明導電膜を、その後エッチングによって
パターン化する工程が必要となる等、生産性、製造コス
トの点で問題が生じる。
【0006】さらに、上記のように気相法で形成される
透明導電膜は、それ自体可撓性が乏しいため、屈曲によ
り割れや剥離が発生しやすいという問題もある。紫外線
劣化の問題は、いわゆる紫外線カットフィルム(樹脂中
に紫外線吸収剤等を混入成形したもの)を積層すること
で解決するが、製造工程の増加やコストの上昇といった
問題を生じる。紫外線カットフィルムの表面に、直接、
気相法でITO膜を形成することも理論的には可能であ
るが、とくに大面積の液晶素子等に対応する、大面積の
透明導電性基材を製造する場合に、生産性の悪化やコス
トのさらなる増大を招くため、実用化には至っていな
い。
【0007】本発明は以上の事情に鑑みてなされたもの
であって、紫外線耐性にすぐれるため太陽光照射環境下
で使用可能であるとともに、大面積化や可撓化が容易
で、しかも効率よくかつ安価に製造できる透明導電性基
材と、それを用いた液晶素子とを提供することを目的と
している。
【0008】
【課題を解決するための手段および作用】上記課題を解
決するための本発明の透明導電性基材は、紫外線吸収能
を有する透明樹脂基材の表面に、多数の透明導電性粒子
を高分子バインダーで結合した透明導電膜が形成されて
いることを特徴とする。上記構成からなる本発明の透明
導電性基材は、紫外線吸収能を有する透明樹脂基材から
なるので紫外線耐性にすぐれており、太陽光が直接当た
る外装用途や、ガラス等を介してでも太陽光等の強い光
が当たる用途に使用しても、当該透明樹脂基材自身が劣
化(白化、変色、脆化等)したり、あるいはその表面に
形成された透明導電膜等が剥離、劣化したりすることが
ない。
【0009】また上記透明電極層を形成する透明導電膜
は、多数の透明導電性粒子を高分子バインダーで結合し
た構造を有するので、従来のITO膜等に比べて高い可
撓性を有している。しかも上記透明導電膜は、透明導電
性粒子と熱可塑性の高分子バインダーとを適当な溶媒に
溶解または分散させた、塗料状、インキ状あるいはペー
スト状の塗布剤を、透明基材の表面に塗布または印刷し
た後、溶媒を乾燥除去するか、或いは、透明導電性粒子
と硬化性の高分子バインダーのプレポリマー(オリゴマ
ー、モノマー)とを適当な溶媒に溶解または分散させた
塗布剤を、透明基材の表面に塗布または印刷し、溶媒を
乾燥除去するとともにプレポリマーを硬化させれば形成
できるので、気相成膜法のような大規模な製造設備を必
要としない。しかも上記透明導電膜は、印刷法を採用す
ることで、膜形成と同時に様々な形状にパターン化でき
るので、エッチング等の工程が不要となり、極めて効率
よくかつ安価に、大面積のものを形成することができ
る。
【0010】とくに光硬化性のプレポリマーからなる高
分子バインダーを使用した際には、当該光硬化性のプレ
ポリマーと透明導電性粒子とを含む塗布剤を透明樹脂基
材の表面に塗布または印刷した後、光照射するだけで、
本発明の透明導電性基材が得られるので、より一層生産
性が向上する。また光照射により硬化した高分子バイン
ダーは、熱可塑性のもののように溶剤に簡単に溶解しな
いので、たとえば形成された透明導電性基材を液晶素子
に使用した場合には、前記高分子/液晶複合膜や高分子
液晶/低分子液晶混合膜等の液晶膜を透明導電膜上に形
成する際に使用する溶剤によって透明電極層がおかされ
るおそれがない。このため液晶膜形成のための溶剤の種
類が制限されないので、液晶膜の材料選択性が向上し
て、すぐれた特性を有する液晶膜を形成できるという利
点がある。また硬化後の高分子バインダーは、熱可塑性
のものより紫外線耐性や耐熱性にすぐれるという利点も
ある。
【0011】一方、本発明の液晶素子は、液晶膜を挟着
する一対の基材のうちの少なくとも一方が、上記本発明
の透明導電性基材であることを特徴とする。この構成に
より、本発明の液晶素子は、大面積化や可撓化が容易
で、しかも太陽光照射環境下で使用可能なものとなる。
以下に本発明を説明する。
【0012】まず本発明の透明導電性基材について説明
する。本発明の透明導電性基材Sは、図1中に示すよう
に、紫外線吸収能を有する透明樹脂基材1の表面に、透
明導電膜2を形成したものである。透明導電膜2は、同
図に拡大して示すように、多数の透明導電性粒子21を
高分子バインダー22で結合することで構成されてい
る。
【0013】紫外線吸収能を有する透明樹脂基材として
は、樹脂中に紫外線吸収剤、紫外線安定剤等を混合、混
練し、それを透明導電性基材の用途に応じて、柔軟なフ
ィルム状、シート状またはソリッドな板状に成形したも
のが使用される。透明樹脂基材を形成する樹脂の種類
は、当該透明樹脂基材の用途や形状等に応じて適宜変更
することができる。
【0014】たとえばフィルム状またはシート状等の柔
軟な透明樹脂基材を形成する樹脂としては、可撓性にす
ぐれとともに、耐熱性、実用的強度、光学的均一性など
にもすぐれたポリエチレンテレフタレート(PET)や
ポリエーテルスルホン(PES)等が使用される。フィ
ルムまたはシートの厚みは、これに限定されるものでは
ないが、フィルムは50〜500μm程度、シートは
0.5〜3mm程度が好ましい。
【0015】一方、ソリッドな板状の透明樹脂基材を形
成する樹脂としては、たとえば各種アクリル樹脂、ポリ
カーボネート、ポリスチレン等の、光学的特性にすぐれ
た樹脂が好適に使用される。板の厚みは、これに限定さ
れるものではないが0.5〜3mm程度が好ましい。透明
樹脂基材中に混合、混練される紫外線吸収剤、紫外線安
定剤としては、従来公知の種々の化合物の中から、上記
フィルム状、シート状または板状の透明樹脂基材を構成
する各種樹脂との相溶性にすぐれた化合物を、選択的に
採用することができる。
【0016】紫外線吸収剤の好適な例としては、これに
限定されるものではないが、たとえばフェニルサリシレ
ート、p−tert−ブチルフェニルサリシレート、p−オ
クチルフェニルサリシレート等のサリチル酸系紫外線吸
収剤;2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒド
ロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ
−4−オクトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4
−ドデシルオキシベンゾフェノン、2,2′−ジヒドロ
キシ−4−メトキシベンゾフェノン、2,2′−ジヒド
ロキシ−4,4′−ジメトキシベンゾフェノン、2−ヒ
ドロキシ−4−メトキシ−5−スルホベンゾフェノン等
のベンゾフェノン系紫外線吸収剤;2−(2′−ヒドロ
キシ−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2
−(2′−ヒドロキシ−5′−tert−ブチルフェニル)
ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′,
5′−ジ−tert−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾー
ル、2−(2′−ヒドロキシ−3′−tert−ブチル−
5′−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾー
ル、2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−tert−
ブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2
−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−tert−アミル
フェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキ
シ−4′−オクトキシフェニル)ベンゾトリアゾール、
2−{2′−ヒドロキシ−3′−(3″,4″,5″,
6″−テトラヒドロフタルイミドメチル)−5′−メチ
ルフェニル}ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾー
ル系紫外線吸収剤;2−エチルヘキシル−2−シアノ−
3,3′−ジフェニルアクリレート、エチル−2−シア
ノ−3,3′−ジフェニルアクリレート等のシアノアク
リレート系紫外線吸収剤等があげられる。
【0017】また紫外線安定剤としては、たとえばニッ
ケルビス(オクチルフェニル)サルファイド、〔2,
2′−チオビス−(4−tert−オクチルフェノラー
ト)〕−n−ブチルアミンニッケル、ニッケルコンプレ
ックス−3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベ
ンジル−リン酸モノエチレート、ニッケル−ジブチルジ
チオカーバメート、ベンゾエートタイプのクエンチャー
等があげられる。
【0018】また本発明においては、たとえばビス
(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セ
バケート等のヒンダードアミン系の光安定剤を、上記紫
外線吸収剤、紫外線安定剤と併用することもできる。ヒ
ンダードアミン系光安定剤は、それ自体、紫外線吸収能
を持たないが、紫外線吸収剤、紫外線安定剤と併用する
と相乗効果を示し、透明樹脂基材、ひいては本発明の透
明導電性基材の紫外線耐性を、さらに向上させることが
できる。
【0019】なお、紫外線吸収能を有するいわゆる紫外
線カットフィルムは多数が上市されており、本発明にお
いてはこのような市販の紫外線カットフィルムを、紫外
線吸収能を有する透明樹脂基材として用いることもでき
る。本発明に使用可能な市販の紫外線カットフィルムの
例としては、これに限定されるものではないが、たとえ
ば鐘淵化学工業社製の商品名サンデュレン(アクリル系
フィルム)、デュポンジャパン社製の商品名テドラー
(ポリフッ化ビニル系フィルム)、三菱ガス化学社製の
商品名ユーピロン(ポリカーボネート系シート)等があ
げられる。
【0020】透明導電膜は、前記のように多数の透明導
電性粒子を高分子バインダーで結合することで構成され
ている。この構成は従来公知であり(特公昭56−25
7723号参照)、前述したように大規模な製造設備を
必要とせず、極めて効率よくかつ安価に、種々の形状に
パターン化された大面積の透明導電膜を形成できるこ
と、形成された透明導電膜は可撓性であること、等の利
点を有している。
【0021】なお上記構成の透明導電膜は、高分子バイ
ンダーを含有するため抵抗率をあまり下げることができ
ず、最低でも1kΩ/□程度の抵抗率があり、また透明
性がやや低いが、たとえば1平方メートル規模の大面積
を対象とした製品においては、いずれも大きな問題とは
ならない。透明導電性粒子としては、前記ITOの他、
インジウム系、スズ系、アンチモン系金属錯塩等の、可
視光に対して透明で、かつ導電性を有する、従来公知の
種々の材料の粒子を使用することができる。
【0022】透明導電性粒子の粒径は、本発明では特に
限定されないが、光散乱を抑え、透明導電膜の透明性を
高めるためには、可視光の波長以下、すなわち、400
nm以下の粒径であることが好ましい。上記透明導電性粒
子を結合するための高分子バインダーとしては、ポリメ
チルメタクリレート(PMMA)、シクロヘキシルメタ
クリレート等のアクリル系高分子;ポリスチレン等のス
チレン系高分子;ポリカーボネート、アリジルグライコ
ールカーボネート(CR−39)等のポリエステル系高
分子;エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート等
の光硬化性の高分子等、熱可塑性、硬化性(熱、光、電
子線)の種々の高分子の中から、透明性、可撓性に優れ
た高分子を種々選択して使用することができる。とくに
前述のように、光硬化性のものが好適に使用される。
【0023】熱可塑性の高分子バインダーとしては、塗
布剤に使用される溶媒に可溶で、かつ、前述した高分子
/液晶複合膜や高分子液晶/低分子液晶混合膜形成のた
めの溶媒に不溶のものが好適に使用される。また、硬化
性の高分子バインダーは、通常、硬化すればどんな溶媒
にも不溶になるので、硬化前のプレポリマーの状態で、
塗布剤に使用される溶媒に可溶であればよい。
【0024】上記透明導電膜においては、導電性を付与
するために、隣合う透明導電性粒子が互いに接触してい
る必要があり、そのためには、透明導電膜中における、
透明導電性粒子の含有割合が高い方が好ましい。しか
し、透明導電性粒子の含有割合が高過ぎて、相対的に高
分子バインダーの含有割合が少なくなると、当該高分子
バインダーによる粒子の結合が不十分になり、透明導電
膜の強度や可撓性が低下するおそれがある。
【0025】これらの問題を生じることなく、導電性に
優れるとともに、強度や可撓性に優れた透明導電膜を形
成するためには、透明導電膜中における透明導電性粒子
の含有割合が、60〜90重量%の範囲内であることが
好ましい。透明導電膜中における透明導電性粒子の含有
割合が60重量%未満では、前述したように隣合う透明
導電性粒子が互いに接触しなくなって、膜の導電性が低
下または失われるおそれがあり、逆に、透明導電性粒子
の含有割合が90重量%を超えると、相対的に高分子バ
インダーの含有割合が少なくなって、透明導電膜の強度
や可撓性が低下するおそれがある。
【0026】透明導電膜の厚みは、本発明では特に限定
されないが、0.1〜10μm程度であることが好まし
い。透明導電膜の厚みが0.1μm未満では、膜に十分
な導電性を付与できないおそれがあり、逆に、透明導電
膜の厚みが10μmを超えると、膜の柔軟性が低下し
て、割れたり剥離したりしやすくなるおそれがある。上
記透明導電膜は、前述したように、透明導電性粒子と、
熱可塑性の高分子バインダーまたは硬化性の高分子バイ
ンダーのプレポリマーとを適当な溶媒に溶解または分散
させた塗布剤を、スクリーン印刷法等の従来公知の種々
の印刷方法等により、透明基材表面に塗布した後、熱可
塑性の高分子バインダーの場合には溶媒を乾燥除去し、
硬化性の高分子バインダーのプレポリマーの場合には溶
媒を乾燥除去するとともにプレポリマーを硬化させるこ
とで形成される。
【0027】溶媒の種類は、前述した高分子バインダー
の種類に応じて、適宜選択すればよい。なお上記透明導
電膜は、気相法によるものに比べて凹凸が大きいので、
その上に平坦化膜を積層してもよい。また本発明の透明
導電性基材を液晶素子に使用する場合には、透明導電膜
の上に、液晶分子の配向を制御する液晶配向膜を積層す
ることもできる。また上記平坦化膜の表面を配向処理し
て、液晶配向膜として兼用することもできる。さらに透
明導電膜の下には、透明導電性基材のガス透過性を抑制
するため、ガスバリア層を形成してもよい。これら各層
は、種々の有機高分子や無機の低温焼結剤等によって形
成される。
【0028】つぎに本発明の液晶素子について説明す
る。本発明の液晶素子は、図1に示すように、液晶材料
を含有し液晶表示機能を有する液晶膜3を、本発明の透
明導電性基材Sによって挟着することで構成されてい
る。なお図では、液晶膜3を挟着する一対の基材が、両
方とも本発明の透明導電性基材Sであるが、片方のみ本
発明の透明導電性基材Sを使用することもできる。
【0029】液晶表示機能を有する液晶膜としては、前
記高分子/液晶複合膜または高分子液晶/低分子液晶混
合膜が、前述した素子の大面積化、並びに可撓性付与の
観点から好適に使用される。前者の高分子/液晶複合膜
は、前述したように、スポンジ構造になったマトリック
ス高分子の孔を液晶で充填した構造を有しており、無電
圧時には、孔内の液晶分子がランダムな状態にあるた
め、入射光が散乱されて不透明な状態になっている。そ
して、上記高分子/液晶複合膜に電圧が印加されると、
Δε>0[但し、Δεは誘電率異方性であって、式:
【0030】
【数1】
【0031】で表される(なお、
【0032】
【外1】
【0033】は分子軸方向の誘電率、
【0034】
【外2】
【0035】は分子軸に対して直交方向の誘電率を示
す)]のとき、電気光学効果によって液晶分子が電場方
向に配向して、入射光が散乱されずに通過できるように
なり、透明な状態に転換する。上記高分子/液晶複合膜
に使用される液晶としては、通常のネマティック液晶が
好適である。また液晶材料としては、誘電率異方性Δε
の大きいものが、良好な特性を得る上で好ましい。
【0036】マトリックス高分子としては、可視光に対
する透明性の高いものが好ましく、例えばPMMAに代
表される(メタ)アクリル系高分子が好適に使用され、
可撓性付与のためには、上記アクリル系高分子等の中で
も、より可撓性の高いものを選択して使用するのが好ま
しい。また、上記マトリックス高分子には、複合膜の透
明電極層への密着性を向上させて、両者の位置ずれや剥
離を防止し、液晶表示素子の大面積化、可撓性付与のさ
らに容易にするため、接着性高分子や粘着性高分子を併
用することもできる。
【0037】接着性高分子、粘着性高分子としては、マ
トリックス高分子の透明性を維持するために、当該マト
リックス高分子との相溶性に優れたものを使用するのが
好ましく、例えば、マトリックス高分子としてPMMA
を使用する場合には、(メタ)アクリル系の接着性高分
子、接着性高分子が好適に使用される。後者の高分子液
晶/低分子液晶混合膜は、低周波または直流の電場を印
加すると、膜内で周波数に付随してイオンが移動し、液
晶性高分子の主鎖に衝突して液晶の配列を乱すため入射
光を強く散乱するようになり、不透明な状態となる。一
方、高周波の電場を印加すると、膜内の液晶分子が電場
方向にホメオトロピック配向して、入射光が散乱されず
に通過できるようになり、透明な状態に転換する。ま
た、この高分子液晶/低分子液晶混合膜においては、上
記両状態にて電場を除去した際に、光の散乱状態または
非散乱状態を安定に保持するメモリー性がある。
【0038】上記高分子/液晶混合膜、高分子液晶/低
分子液晶複合膜の膜厚は、光散乱方式の液晶表示素子と
するために、可視光の波長以上である必要がある。ただ
し、膜厚が大き過ぎると、素子の駆動電圧が高くなり過
ぎるので、実際上は、5〜30μm程度が適当である。
上記混合膜、複合膜には、液晶表示素子をカラー表示タ
イプにするため、従来公知の各種染料を配合することも
できる。
【0039】場合によっては、透明導電膜に液晶が膨潤
したり、逆に透明導電膜中の成分が液晶層中に拡散して
悪影響を及ぼすことを防ぐために、液晶層と透明導電膜
の間にバリアー層を設けてもよい。バリアー層の厚み
は、(1) 透明性の確保、(2) 液晶に加わる電界の減少の
抑制という2つの観点から、できる限り薄くすることが
望ましい。その膜厚は材料にもよるが、0.01〜2μ
mの範囲で選択するのがよい。材質は、種々の高分子材
料が用いられるが、透明性の点から、前述の高分子バイ
ンダーと同様なものを用いることができる。
【0040】
【実施例】以下に本発明を、実施例、比較例に基づき説
明する。実施例1 〈透明導電性基材の作製〉透明導電性粒子としてのIT
O粉末(平均粒径50nm)90重量部と、光硬化性の樹
脂バインダーとしての、ウレタンアクリレート系光硬化
性オリゴマー(東亜合成化学社製の商品名「アロニクス
M9050」)10重量部と、重合開始剤(メルク社製
の商品名「ダロキュア1173」)1重量部とを、アセ
トン300重量部とともに攪拌混合して塗布液を作製し
た。
【0041】この塗布液を、厚み100μmの紫外線カ
ットフィルム(ポリフッ化ビニル製、デュポンジャパン
社製の商品名「テドラー」)の表面に、スクリーン印刷
法によって印刷した後、紫外線を照射して硬化させて、
図1に示すように、紫外線カットフィルム1上に、多数
のITO粉末21が光硬化性オリゴマーの硬化物22で
結合された構造の、厚み1.5μmの透明導電膜2を形
成して、透明導電性基材Sを得た。 〈液晶素子の作製〉 下記式:
【0042】
【化1】
【0043】で表される繰り返し単位を有するポリ(ヒ
ドロメチルシロキサン)と、このポリ(ヒドロメチルシ
ロキサン)中のSi−H結合の75%当量の、下記式:
【0044】
【化2】
【0045】で表される化合物とから、ヒドロシリル化
反応により、側鎖型液晶性高分子としてのポリ(4−メ
トキシフェニル−4′−ヘキシロキシベンゾエートメチ
ルシロキサン)〔側鎖液晶基のグラフト率G=75%〕
を合成した後、100℃で24時間熱処理して、残存Si
−H基を架橋させた。つぎに、この側鎖型液晶性高分子
27.3重量部と下記の各成分とを、アセトンおよびジ
クロロエタンの混合溶媒(重量比50:50)に溶解し
て塗布液を得た。 低分子の液晶材料: 4−n−ブチルベンゾイックアシッド−4′−オクチロキシフェニルエステル …27.3重量部 E63(メルクジャパン社製の混合液晶) …50重量部 電解質: テトラエチルアンモニウムブロミド …上記3種の液晶の総量に対して0.05重量% そして上記塗布液を、先に製造した透明導電性基材S
の、透明導電膜2上に塗布し、室温で30分間乾燥させ
て高分子液晶/低分子液晶混合膜である液晶膜3を形成
した後、同じ透明導電性基材Sを、透明導電膜2が液晶
膜3と接するように積層して、図1に示す層構成を有す
る液晶素子を作製した。
【0046】比較例1 透明導電性基材Sに代えて、紫外線カット機能を有しな
い市販のITO/PETフィルム(厚み100μm、住
友ベークライト社製)を使用したこと以外は、上記実施
例1の〈液晶素子の作製〉と同様にして液晶素子を作製
した。電気光学応答性試験1 上記実施例1および比較例1で得た液晶素子にHe−Neレ
ーザ光(波長633nm)を照射しつつ、当該素子の両基
材間に室温下、1KHz,60Vの交流電場を印加し
て、上記He−Neレーザ光の透過率が10%から90%に
達するまでの時間を計測し、白濁→透明の応答時間とし
た。また同様に、上記液晶素子の両基材間に室温下、6
0Vの直流電場を印加して、He−Neレーザ光の透過率が
90%から10%に達するまでの時間を計測し、透明→
白濁の応答時間とした。
【0047】耐候後の電気光学応答性試験1 実施例1および比較例1の液晶素子を、それぞれJIS
D0205「自動車部品の耐候性試験通則」に所載の
促進耐候試験(記号WAN−IS)に則り、サンシャイ
ンウェザーメータを用いて500時間、光照射した後、
上記電気光学応答性試験1と同様にして、白濁→透明お
よび透明→白濁の応答時間を求めた。
【0048】外観観察 上記促進耐候試験後の素子の外観を観察した。以上の結
果を表1に示す。
【0049】
【表1】
【0050】実施例2 アクリル酸エステル共重合体(−OH基含量1300g
/当量)と、液晶材料(メルクジャパン社製の品番E3
1LV)とを、全体の溶質濃度が15重量%、共重合体
と液晶材料との配合比率が3:7となるようにジクロロ
メタン中に溶解して塗布液を作製した。
【0051】つぎに、イソシアネート系架橋剤(武田薬
品工業社製の品番A−10)を5ccのジクロロメタン
中に溶解した溶液を作製し、これを上記塗布液に添加し
て1時間攪拌混合した後、前記実施例1の〈透明導電性
基材の作製〉で作製したのと同じ透明導電性基材Sの、
透明導電膜2上に塗布し、室温で30分間乾燥させて高
分子/液晶複合膜である液晶膜3を形成した後、同じ透
明導電性基材Sを、透明導電膜2が液晶膜3と接するよ
うに積層して、図1に示す層構成を有する液晶素子を作
製した。なおイソシアネート系架橋剤の使用量は、その
−NCO基当量が、アクリル酸エステル共重合体の−O
H基当量と一致する量とした。
【0052】比較例2 透明導電性基材Sに代えて、紫外線カット機能を有しな
い市販のITO/PETフィルム(厚み100μm、住
友ベークライト社製)を使用したこと以外は、上記実施
例2と同様にして液晶素子を作製した。電気光学応答性試験2 上記実施例2および比較例2で得た液晶素子を分光光度
計(島津製作所製の型番UV−160)にセットした状
態で、当該素子の両基材間に200Hzの矩形波交流電
圧を印加して、600nmの波長の光の透過率と印加電圧
との関係を測定した。
【0053】そして電圧を印加していない時の透過率T
0 (%)と、電圧を印加して透過率が80%になったと
きの印加電圧V80(V)を求めた。耐候後の電気光学応答性試験2 実施例2および比較例2の液晶素子を、それぞれJIS
D0205「自動車部品の耐候性試験通則」に所載の
促進耐候試験(記号WAN−IS)に則り、サンシャイ
ンウェザーメータを用いて500時間、光照射した後、
上記電気光学応答性試験2と同様にして、T0 (%)お
よびV80(V)を求めた。
【0054】外観観察 上記促進耐候試験後の素子の外観を観察した。以上の結
果を表2に示す。
【0055】
【表2】
【0056】
【発明の効果】以上、詳述したように本発明の透明導電
性基材は、紫外線吸収能を有する透明樹脂基材の表面に
透明導電膜を形成したものゆえ、紫外線耐性にすぐれて
いる。また上記透明導電膜は、多数の透明導電性粒子を
高分子バインダーで結合したものゆえ、効率よくかつ安
価に製造できるとともに可撓性にすぐれており、大面積
化や可撓化が容易である。したがって本発明の透明導電
性基材は、大面積化や可撓化が容易で、しかも太陽光照
射環境下で使用可能である。
【0057】また本発明の液晶素子は、液晶膜を挟着す
る一対の基材のうちの少なくとも一方が、上記本発明の
透明導電性基材であるため、大面積化や可撓化が容易
で、しかも太陽光照射環境下で使用可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の透明導電性基材およびそれを用いた液
晶素子の構造を示す断面図である。
【符号の説明】
S 透明導電性基材 1 透明樹脂基材 2 透明導電膜 21 透明導電性粒子 22 高分子バインダー 3 液晶膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小野 純一 大阪市此花区島屋一丁目1番3号 住友電 気工業株式会社大阪製作所内 (72)発明者 齋藤 寧 大阪市此花区島屋一丁目1番3号 住友電 気工業株式会社大阪製作所内 (72)発明者 森川 佳代子 大阪市此花区島屋一丁目1番3号 住友電 気工業株式会社大阪製作所内

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】紫外線吸収能を有する透明樹脂基材の表面
    に、多数の透明導電性粒子を高分子バインダーで結合し
    た透明導電膜が形成されていることを特徴とする透明導
    電性基材。
  2. 【請求項2】透明導電膜が、透明導電性粒子と高分子バ
    インダーの光硬化性のプレポリマーとを含む塗布剤を透
    明樹脂基材の表面に塗布または印刷した後、光照射して
    プレポリマーを硬化させることで形成されている請求項
    1記載の透明導電性基材。
  3. 【請求項3】液晶材料を含有し液晶表示機能を有する液
    晶膜が、一対の基材で挟着された液晶素子において、上
    記一対の基材のうちの少なくとも一方が、請求項1記載
    の透明導電性基材であることを特徴とする液晶素子。
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