JP2001220556A - 接着フィルムとその製造方法、半導体搭載用配線基板及び半導体装置 - Google Patents

接着フィルムとその製造方法、半導体搭載用配線基板及び半導体装置

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JP2001220556A JP2000365184A JP2000365184A JP2001220556A JP 2001220556 A JP2001220556 A JP 2001220556A JP 2000365184 A JP2000365184 A JP 2000365184A JP 2000365184 A JP2000365184 A JP 2000365184A JP 2001220556 A JP2001220556 A JP 2001220556A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】高い耐熱性、接着性を有する接着剤、接着フィ
ルムを提供する。 【解決手段】Bステージ状態で相分離する2種類の樹脂
A,Bの混合物を必須成分とする接着フィルムにおい
て、樹脂Aの25℃での弾性率が3500MPa以上1
0000GPa以下であり、樹脂Bの硬化物の25℃で
の弾性率が1MPa以上3000MPa以下であって、
硬化した際に少なくとも一方の表面に析出したAの比率
に対して接着剤表面から深さ5μmでのAの比率が表面
の比率より大きいことを特徴とする接着フィルムを使用
する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、耐熱性、接着性に
優れる接着フィルムとその製造方法、半導体搭載用配線
基板及び半導体装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来から配線板や半導体パッケージ用の
接着剤には、アクリロニトリルブタジエンゴムを主成分
とする系が多く用いられている。プリント配線板関連材
料として耐湿性を向上させたものとしては、特開昭60
−243180号公報に示されるアクリル系樹脂、エポ
キシ樹脂、ポリイソシアネート及び無機フィラーを含む
接着剤が有り、また特開昭61−138680号公報に
示されるアクリル系樹脂、エポキシ樹脂、分子中にウレ
タン結合を有する両末端が第1級アミン化合物及び無機
フィラーを含む接着剤がある。特開昭60−24318
0号公報、特開昭61−138680号公報に示される
接着剤は、PCT処理等の厳しい条件下での耐湿性試験
を行なった場合には、劣化が大きかった。また、高温で
長時間処理した後の接着力の低下が大きいことや、耐電
食性に劣ることなどの欠点が有った。特に、半導体関連
部品の信頼性評価で用いられるPCT(プレッシャーク
ッカーテスト)処理等の厳しい条件下での耐湿性試験を
行なった場合の劣化が大きかった。また、エポキシ樹脂
とゴムの混合物については、ゴム量を多くした場合、被
接着物との界面の接着性が向上するが、内部で凝集破壊
しやすいため耐熱性が低下し、エポキシ樹脂が多い場
合、内部での凝集破壊がし難くなる反面、被接着物との
界面で剥離しやすくなる。したがって、いずれの場合も
十分な耐熱性が得られていなかった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は耐熱性、耐P
CTに優れる接着フィルムを提供するものである。
【0004】
【課題を解決するための手段】発明者らは相分離構造を
とる接着フィルムについて検討し、表面と内部の接着剤
の組成比を最適化することにより、耐熱性、耐PCTに
優れる接着フィルムを作製できることを見出した。例え
ば前述の例では、界面にゴム量を多くし、内部はエポキ
シ樹脂の量を多くすることにより、耐熱性と界面の接着
性を両立することができる。このような材料の製造方法
はゴムとエポキシ樹脂の組成比の異なるフィルムを何層
かに分けて塗工した後、貼りあわせることで製造でき
る。また、本発明では1回の塗工でこのようなフィルム
を作製できることを見出した。
【0005】本発明は下記(1)〜(4)の事項に関す
る。 (1)Bステージ状態で相分離する2種類の樹脂A,B
の混合物を必須成分とする接着フィルムにおいて、樹脂
Aの25℃での弾性率が3500MPa以上10000
GPa以下であり、樹脂Bの硬化物の25℃での弾性率
が1MPa以上3000MPa以下であって、硬化した
際に少なくとも一方の表面に析出したAの比率に対して
接着剤表面から深さ5μmでのAの比率が表面の比率よ
り大きいことを特徴とする接着フィルム。 (2)(1)の接着フィルムにおいて、樹脂Aの水との
接触角より樹脂Bの水との接触角が5度以上大きいこと
を特徴とする(1)記載の接着フィルム。 (3)(1)の接着フィルムにおいて、樹脂Aがエポキ
シ樹脂、硬化剤を必須成分としてなり、樹脂Bが重量平
均分子量10万以上のアクリルゴムであることを特徴と
する(1)または(2)記載の接着フィルム。 (4)接着剤組成物を水との接触角が140度以上のフ
ィルムに塗布して製造することを特徴とする(2)又は
(3)記載の接着フィルムの製造方法。 (5)配線基板のチップ搭載面に(4)記載の接着フィ
ルムを備えた半導体搭載用配線基板。 (6)接着部剤に(1)〜(3)いずれかに記載の接着
フィルムを用いた半導体装置。 (7)(5)記載の半導体搭載用基板を用いた半導体装
置。
【0006】
【発明の実施の形態】本発明の接着フィルムはBステー
ジ状態で相分離する2種類の樹脂A,Bの混合物を必須
成分とする接着剤からなる接着フィルムであり、硬化物
で表面に析出したAの比率に対して、接着剤内部でのA
の比率が大きい必要がある。表面でのAの面積比率が0
%以上30%以下であることが好ましく、相Aの面積が
30%以上の場合は接着性が低下する傾向がある。表面
から深さ5μmでのAの面積比率は20%以上50%以
下であることが好ましく、また表面の面積比率より5ポ
イント以上高いことが好ましい。20%未満の場合は凝
集破壊がおこりやすくなり、耐熱性が低下する傾向があ
る。50%超の場合は接着剤の弾性率が高くなるため、
破壊しやすい傾向がある。なお、面積比率は硬化物の表
面及び断面を走査型電子顕微鏡で観察し不連続状に分散
している相Aの面積比率を算出する。相Aは25℃での
弾性率が3500MPa以上10000GPa以下であ
る必要がある。弾性率が3500MPa未満の場合は補
強効果が少なく、10000GPa超ではクラックなど
が発生しやすい。Bは硬化物の25℃での弾性率が1M
Pa以上3000MPa以下であることが必要である。
1MPa未満では凝集破壊しやすく、3000MPa超
では接着性が低下する。また、樹脂Aの水との接触角よ
り樹脂Bの水との接触角が5度以上大きい場合、接着フ
ィルムの製造工程を減らすことができる点で好ましい。
【0007】樹脂Aを形成する成分としてはエポキシ樹
脂、シアネートエステル樹脂、シアネート樹脂などが挙
げられるがこれらに限定されるものではない。硬化後の
耐熱性が良い点で特にエポキシ樹脂が好ましい。エポキ
シ樹脂は硬化して接着作用を呈するものであればよい。
二官能基以上で平均分子量が5000未満が好ましく、
平均分子量3000未満のエポキシ樹脂がより好まし
い。二官能エポキシ樹脂としては、ビスフェノールA型
エポキシ樹脂やビスフェノールF型エポキシ樹脂が例示
される。ビスフェノールA型またはビスフェノールF型
液状樹脂は、油化シェルエポキシ株式会社から、エピコ
ート807、エピコート827、エピコート828とい
う商品名で市販されている。また、ダウケミカル日本株
式会社からは、D.E.R.330、D.E.R.33
1、D.E.R.361という商品名で市販されてい
る。さらに、東都化成株式会社から、YD8125、Y
DF8170という商品名で市販されている。
【0008】エポキシ樹脂としては、高Tg(ガラス転
移温度)化を目的に多官能エポキシ樹脂を加えてもよ
く、多官能エポキシ樹脂としてはフェノールノボラック
型エポキシ樹脂やクレゾールノボラック型エポキシ樹脂
が例示される。フェノールノボラック型エポキシ樹脂
は、日本化薬株式会社から、EPPN−201という商
品名で市販されている。クレゾールノボラック型エポキ
シ樹脂は、住友化学工業株式会社から、ESCN−19
0、CN−195という商品名で市販されている。ま
た、日本化薬株式会社から、EOCN1012、EOC
N1025、EOCN1027という商品名で市販され
ている。さらに、東都化成株式会社から、YDCN70
1、YDCN702、YDCN703、YDCN704
という商品名で市販されている。
【0009】エポキシ樹脂の硬化剤は、エポキシ樹脂の
硬化剤として通常用いられているものを使用でき、アミ
ン、ポリアミド、酸無水物、ポリスルフィド、三弗化硼
素及びフェノール性水酸基を1分子中に2個以上有する
化合物であるビスフェノールA、ビスフェノールF、ビ
スフェノールSなどが挙げられる。特に吸湿時の耐電食
性に優れるためフェノール樹脂であるフェノールノボラ
ック樹脂やビスフェノールノボラック樹脂等を用いるの
が好ましい。フェノールノボラック樹脂は、大日本イン
キ化学工業株式会社からバーカムTD−2090、バー
カムTD−2131、ビスフェノールノボラック樹脂は
大日本インキ化学工業株式会社からフェノライトLF2
882、フェノライトLF2822という商品名で市販
されている。硬化剤の使用量としては、エポキシ樹脂の
化学当量の0.8〜1.2倍の官能基を含む量が好まし
い。
【0010】硬化剤とともに硬化促進剤を用いること
が、硬化のための熱処理の時間を短縮できる点で好まし
い。硬化促進剤としては、2−メチルイミダゾール、2
−エチル−4−メチルイミダゾール、1−シアノエチル
−2−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−
フェニルイミダゾリウムトリメリテートといった各種イ
ミダゾール類等の塩基が使用できる。イミダゾール類
は、四国化成工業株式会社から、2E4MZ、2PZ−
CN、2PZ−CNSという商品名で市販されている。
また、フィルムの可使期間が長くなる点で、潜在性硬化
促進剤が好ましく、その代表例としてはジシアンジミ
ド、アジピン酸ジヒドラジド等のジヒドラジド化合物、
グアナミン酸、メラミン酸、エポキシ化合物とジアルキ
ルアミン類との付加化合物、アミンとチオ尿素との付加
化合物、アミンとイソシアネートとの付加化合物が挙げ
られる。硬化促進剤の配合量は好ましくは、エポキシ樹
脂及び硬化剤の合計100重量部に対して0.1〜20
重量部、より好ましくは0.5〜15重量部、さらに好
ましくは0.5〜5重量部である。0.1重量部未満で
あると硬化速度が遅くなる傾向にあり、また20重量部
を超えると可使期間が短くなる傾向がある。
【0011】樹脂Bの成分としてはアクリル酸エステル
やメタクリル酸エステル及びアクリロニトリルなどの共
重合体であるアクリルゴム、スチレンやアクリロニトリ
ルなどと共重合したブタジエンゴム、シリコーン樹脂、
シリコーン変性ポリアミドイミドなどが挙げられる。特
に重量平均分子量が10万以上の高分子量成分はフィル
ムの強度が高い点で好ましい。
【0012】例えば、樹脂Aにエポキシ樹脂を用いた場
合、Bステージ状態でエポキシ樹脂と相分離し、かつ重
量平均分子量が10万以上の高分子量成分としてはアク
リルゴムが挙げられる。アクリルゴムとしてはグリシジ
ルアクリレート又はグリシジルメタクリレートを2〜6
重量%を含むTgが−10℃以上でかつ重量平均分子量
が80万以上であるアクリル系共重合体は接着性、耐熱
性が高い点で特に好ましい。グリシジルアクリレート又
はグリシジルメタクリレート2〜6重量%を含むTgが
−10℃以上でかつ重量平均分子量が80万以上である
アクリル系共重合体は、帝国化学産業株式会社から市販
されている商品名HTR−860P−3を使用すること
ができる。官能基モノマーが、カルボン酸タイプのアク
リル酸や、水酸基タイプのヒドロキシメチルアクリレー
トなどを用いると、架橋反応が進行しやすく、ワニス状
態でのゲル化、Bステージ状態での硬化度の上昇により
接着力が低下する傾向にある。また、官能基モノマーと
して用いるグリシジルアクリレート又はグリシジルメタ
クリレートの量は、2〜6重量%の共重合体比が好まし
い。より高い接着力が得られるため、2重量%以上が好
ましく、ゴムのゲル化が低減されるため、6重量%以下
が好ましい。残部は炭素数1〜8のアルキル基をもつ、
メチルアクリレート、メチルメタクリレートなどのアル
キルアクリレート、アルキルメタクリレート、およびス
チレンやアクリロニトリルなどの混合物を用いることが
できる。混合比率は、共重合体のTgを考慮して調整す
ることが好ましい。Tgが−10℃未満であるとBステ
ージ状態での接着フィルムのタック性が大きくなる傾向
がある。重合方法の例としてはパール重合、溶液重合等
が挙げられ、これらにより共重合体が得られる。
【0013】接着剤には、異種材料間の界面結合をよく
するために、カップリング剤を配合することもできる。
カップリング剤としてはシランカップリング剤が好まし
い。シランカップリング剤としては、γ−グリシドキシ
プロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピル
トリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシ
シラン、γ−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、N
−β−アミノエチル−γ−アミノプロピルトリメトキシ
シラン等が挙げられる。前記したシランカップリング剤
は、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランがN
UC A−187、γ−メルカプトプロピルトリメトキ
シシランがNUC A−189、γ−アミノプロピルト
リエトキシシランがNUC A−1100、γ−ウレイ
ドプロピルトリエトキシシランがNUC A−116
0、N−β−アミノエチル−γ−アミノプロピルトリメ
トキシシランがNUC A−1120という商品名で、
いずれも日本ユニカ−株式会社から市販されている。カ
ップリング剤の配合量は、添加による効果や耐熱性およ
びコストから、A相とB相のそれぞれを形成する組成物
の合計100重量部に対し0.1〜10重量部を添加す
るのが好ましい。
【0014】さらに、イオン性不純物を付着して、吸湿
時の絶縁信頼性をよくするために、イオン補足剤を配合
することができる。
【0015】本発明における接着フィルムは、接着剤の
各成分を溶剤に溶解ないし分散してワニスとし、キャリ
アフィルム上に塗布、加熱し溶剤を除去することによ
り、接着剤層をキャリアフィルム上に形成して得られ
る。接着フィルムを2層以上に分けて塗工した後、貼り
あわせることによって得ることも可能であるが、工程が
複雑になりコスト高になる傾向がある。1層塗工で表面
に樹脂相Bを多く析出する方法としては、各樹脂を樹脂
Aの水との接触角より樹脂Bの水との接触角が5度以上
大きくなるように選択し、水との接触角130度以上の
フィルムを使用することが有効である。キャリアフィル
ムとしては、ポリテトラフルオロエチレンフィルム、ポ
リエチレンテレフタレートフィルム、また、離型処理し
た各種フィルム、例えばポリエチレンテレフタレートフ
ィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィル
ム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリイミドフィルム
などが使用できる。本発明で用いるフィルムの例として
は、離型処理したポリエチレンテレフタレートフィルム
が東レ、デュポン株式会社からルミラーという商品名
で、帝人株式会社からピューレックスという商品名で市
販されている。
【0016】ワニス化の溶剤は、比較的低沸点の、メチ
ルエチルケトン、アセトン、メチルイソブチルケトン、
2−エトキシエタノール、トルエン、ブチルセロソル
ブ、メタノール、エタノール、2−メトキシエタノール
などを用いるのが好ましい。また、塗膜性を向上するな
どの目的で、高沸点溶剤を加えても良い。高沸点溶剤と
しては、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミ
ド、メチルピロリドン、シクロヘキサノン等が挙げられ
る。
【0017】ワニスの製造はらいかい機、3本ロール及
びビーズミル等により、またこれらを組み合わせて行な
うことができる。また、ワニスとした後、真空脱気によ
りワニス中の気泡を除去することが好ましい。
【0018】
【実施例】実施例1 樹脂AとしてビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポキ
シ当量190、油化シェルエポキシ株式会社製のエピコ
ート828を使用)45重量部、クレゾールノボラック
型エポキシ樹脂(エポキシ当量195、住友化学工業株
式会社製のESCN195を使用)15重量部、エポキ
シ樹脂の硬化剤としてフェノールノボラック樹脂(大日
本インキ化学工業株式会社製のプライオーフェンLF2
882を使用)40重量部を使用した。この硬化物の室
温での弾性率は5000MPa、水との接触角100度
であった。樹脂Bとしてグリシジルアクリレート又はグ
リシジルメタクリレート2〜6重量%を含むアクリルゴ
ム(重量平均分子量100万、帝国化学産業株式会社製
のHTR−860P−3を使用)150重量部を使用し
た。この硬化物の室温での弾性率は1000MPa、水
との接触角は130度であった。シランカップリング剤
としてγ―グリシドキシプロピルトリメトキシシラン
(日本ユニカー株式会社製のNUC A−187を使
用)0.7重量部からなる組成物に、メチルエチルケト
ンを加えて攪拌混合し、硬化促進剤として1−シアノエ
チル−2−フェニルイミダゾール(四国化成工業株式会
社製のキュアゾール2PZ−CNを使用)0.5重量部
を添加し、攪拌モーターで30分混合し、ワニスを得
た。ワニスを離型処理した板状のポリエチレンテレフタ
レート(水との接触角150度)に塗布し、140℃で
5分間加熱乾燥して、膜圧が75μmのBステージ状態
の塗膜を形成し、キャリアフィルムを備えた接着フィル
ムを作製した。得られた接着フィルムの両面に厚み50
μmのポリイミドフィルムを、温度80℃、圧力0.3
MPa、速度0.3m/分の条件でホットロールラミネ
ーターを用いて貼りあわせ、その後170℃で1時間硬
化した。このサンプルについて、耐熱性、ピール強度を
調べた。耐熱性の評価方法には、吸湿はんだ耐熱試験
(85℃/相対湿度85%の環境下に48時間放置した
サンプルを240℃のはんだ槽中に浮かべ、40秒未満
で膨れが発生したものを×、40秒以上120秒未満膨
れが発生しなかったものを○とした。120秒以上膨れ
が発生しなかったものを◎とした。ピール強度はTOY
OBALDWIN製UTM−4−100型テンシロンを
用い、得られた接着フィルムの両面に厚み50μmのポ
リイミドフィルムをラミネートした試験片(幅10m
m)のポリイミドフィルムを180度の角度で50mm
/分の引っ張り速度で剥がした。測定数N=3の単純平
均で示した。島の面積比は走査型電子顕微鏡を用いて表
面及び内部を観察し、島の面積比を算出した。実施例1
表面のAの分率が10%であり、内部の分率は30%で
あった。
【0019】比較例1 実施例1で得られた接着フィルムを−50℃で5〜10
μm研磨したものについて同様の評価を行なった。島の
面積比は走査型電子顕微鏡を用いて表面及び内部を観察
し、島の面積比を算出した。比較例1表面のAの分率が
30%であり、内部の分率は30%であった。
【0020】
【表1】
【0021】
【発明の効果】以上説明したように、請求項1記載の接
着フィルムを用いることにより、高い接着性を実現する
ことができる。また、請求項2記載の接着フィルムは請
求項1の効果に加えて、製造工程の効率化が可能な点で
優れる。請求項3記載の接着剤は、さらに耐熱性、フィ
ルムの強度が優れている。また、請求項4記載の製造法
により工程を減らすことができ、作業効率、コストの面
で優れている。請求項5〜7記載の半導体搭載用基板、
半導体装置は耐熱性、耐PCTに優れている。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 岩倉 哲郎 茨城県つくば市和台48 日立化成工業株式 会社総合研究所内 (72)発明者 栗谷 弘之 茨城県下館市大字小川1500番地 日立化成 工業株式会社総合研究所内 (72)発明者 住谷 圭二 茨城県日立市東町四丁目13番1号 日立化 成工業株式会社総合研究所内 Fターム(参考) 4J004 AA02 AA05 AA13 AB05 BA02 EA06 FA05 FA08 4J040 CA071 CA072 CA081 CA082 DF021 DF022 DF081 DF082 EC001 EC002 EC071 EC072 EH031 EH032 EK031 EK032 JA09 KA16 LA01 LA02 LA08 NA20

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】Bステージ状態で相分離する2種類の樹脂
    A,Bの混合物を必須成分とする接着フィルムにおい
    て、樹脂Aの25℃での弾性率が3500MPa以上1
    0000GPa以下であり、樹脂Bの硬化物の25℃で
    の弾性率が1MPa以上3000MPa以下であって、
    硬化した際に少なくとも一方の表面に析出したAの比率
    に対して接着剤表面から深さ5μmでのAの比率が表面
    の比率より大きいことを特徴とする接着フィルム
  2. 【請求項2】請求項1記載の接着フィルムにおいて、樹
    脂Aの水との接触角より樹脂Bの水との接触角が5度以
    上大きいことを特徴とする請求項1記載の接着フィルム
  3. 【請求項3】請求項1記載の接着フィルムにおいて、樹
    脂Aがエポキシ樹脂、硬化剤を必須成分としてなり、樹
    脂Bが重量平均分子量10万以上のアクリルゴムである
    ことを特徴とする請求項1または請求項2記載の接着フ
    ィルム
  4. 【請求項4】接着剤組成物を水との接触角が140度以
    上のフィルムに塗布して製造することを特徴とする請求
    項2または3記載の接着フィルムの製造方法
  5. 【請求項5】配線基板のチップ搭載面に請求項4記載の
    接着フィルムを備えた半導体搭載用配線基板
  6. 【請求項6】接着部剤に請求項1〜3いずれかに記載の
    接着フィルムを用いた半導体装置
  7. 【請求項7】請求項5記載の半導体搭載用基板を用いた
    半導体装置
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003052016A3 (en) * 2001-12-14 2004-02-26 Nat Starch Chem Invest Dual cure b-stageable adhesive for die attach
US6833629B2 (en) 2001-12-14 2004-12-21 National Starch And Chemical Investment Holding Corporation Dual cure B-stageable underfill for wafer level
US7176044B2 (en) 2002-11-25 2007-02-13 Henkel Corporation B-stageable die attach adhesives
JP2012509961A (ja) * 2008-11-21 2012-04-26 ヘンケル コーポレイション 相分離硬化性組成物
KR20150092133A (ko) 2012-12-03 2015-08-12 린텍 가부시키가이샤 보호막 형성용 필름
KR20150092132A (ko) 2012-12-03 2015-08-12 린텍 가부시키가이샤 보호막 형성용 필름

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003052016A3 (en) * 2001-12-14 2004-02-26 Nat Starch Chem Invest Dual cure b-stageable adhesive for die attach
US6833629B2 (en) 2001-12-14 2004-12-21 National Starch And Chemical Investment Holding Corporation Dual cure B-stageable underfill for wafer level
JP2005513192A (ja) * 2001-12-14 2005-05-12 ナショナル スターチ アンド ケミカル インベストメント ホールディング コーポレーション ダイ取付用の二段硬化b−ステージ化可能な接着剤
JP2011063805A (ja) * 2001-12-14 2011-03-31 National Starch & Chemical Investment Holding Corp ダイ取付用の二段硬化b−ステージ化可能な接着剤
US7176044B2 (en) 2002-11-25 2007-02-13 Henkel Corporation B-stageable die attach adhesives
US7851254B2 (en) 2002-11-25 2010-12-14 Henkel Corporation B-stageable die attach adhesives
JP2012509961A (ja) * 2008-11-21 2012-04-26 ヘンケル コーポレイション 相分離硬化性組成物
KR20150092133A (ko) 2012-12-03 2015-08-12 린텍 가부시키가이샤 보호막 형성용 필름
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