JP2001220556A - 接着フィルムとその製造方法、半導体搭載用配線基板及び半導体装置 - Google Patents
接着フィルムとその製造方法、半導体搭載用配線基板及び半導体装置Info
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Abstract
ルムを提供する。 【解決手段】Bステージ状態で相分離する2種類の樹脂
A,Bの混合物を必須成分とする接着フィルムにおい
て、樹脂Aの25℃での弾性率が3500MPa以上1
0000GPa以下であり、樹脂Bの硬化物の25℃で
の弾性率が1MPa以上3000MPa以下であって、
硬化した際に少なくとも一方の表面に析出したAの比率
に対して接着剤表面から深さ5μmでのAの比率が表面
の比率より大きいことを特徴とする接着フィルムを使用
する。
Description
優れる接着フィルムとその製造方法、半導体搭載用配線
基板及び半導体装置に関する。
接着剤には、アクリロニトリルブタジエンゴムを主成分
とする系が多く用いられている。プリント配線板関連材
料として耐湿性を向上させたものとしては、特開昭60
−243180号公報に示されるアクリル系樹脂、エポ
キシ樹脂、ポリイソシアネート及び無機フィラーを含む
接着剤が有り、また特開昭61−138680号公報に
示されるアクリル系樹脂、エポキシ樹脂、分子中にウレ
タン結合を有する両末端が第1級アミン化合物及び無機
フィラーを含む接着剤がある。特開昭60−24318
0号公報、特開昭61−138680号公報に示される
接着剤は、PCT処理等の厳しい条件下での耐湿性試験
を行なった場合には、劣化が大きかった。また、高温で
長時間処理した後の接着力の低下が大きいことや、耐電
食性に劣ることなどの欠点が有った。特に、半導体関連
部品の信頼性評価で用いられるPCT(プレッシャーク
ッカーテスト)処理等の厳しい条件下での耐湿性試験を
行なった場合の劣化が大きかった。また、エポキシ樹脂
とゴムの混合物については、ゴム量を多くした場合、被
接着物との界面の接着性が向上するが、内部で凝集破壊
しやすいため耐熱性が低下し、エポキシ樹脂が多い場
合、内部での凝集破壊がし難くなる反面、被接着物との
界面で剥離しやすくなる。したがって、いずれの場合も
十分な耐熱性が得られていなかった。
CTに優れる接着フィルムを提供するものである。
とる接着フィルムについて検討し、表面と内部の接着剤
の組成比を最適化することにより、耐熱性、耐PCTに
優れる接着フィルムを作製できることを見出した。例え
ば前述の例では、界面にゴム量を多くし、内部はエポキ
シ樹脂の量を多くすることにより、耐熱性と界面の接着
性を両立することができる。このような材料の製造方法
はゴムとエポキシ樹脂の組成比の異なるフィルムを何層
かに分けて塗工した後、貼りあわせることで製造でき
る。また、本発明では1回の塗工でこのようなフィルム
を作製できることを見出した。
る。 (1)Bステージ状態で相分離する2種類の樹脂A,B
の混合物を必須成分とする接着フィルムにおいて、樹脂
Aの25℃での弾性率が3500MPa以上10000
GPa以下であり、樹脂Bの硬化物の25℃での弾性率
が1MPa以上3000MPa以下であって、硬化した
際に少なくとも一方の表面に析出したAの比率に対して
接着剤表面から深さ5μmでのAの比率が表面の比率よ
り大きいことを特徴とする接着フィルム。 (2)(1)の接着フィルムにおいて、樹脂Aの水との
接触角より樹脂Bの水との接触角が5度以上大きいこと
を特徴とする(1)記載の接着フィルム。 (3)(1)の接着フィルムにおいて、樹脂Aがエポキ
シ樹脂、硬化剤を必須成分としてなり、樹脂Bが重量平
均分子量10万以上のアクリルゴムであることを特徴と
する(1)または(2)記載の接着フィルム。 (4)接着剤組成物を水との接触角が140度以上のフ
ィルムに塗布して製造することを特徴とする(2)又は
(3)記載の接着フィルムの製造方法。 (5)配線基板のチップ搭載面に(4)記載の接着フィ
ルムを備えた半導体搭載用配線基板。 (6)接着部剤に(1)〜(3)いずれかに記載の接着
フィルムを用いた半導体装置。 (7)(5)記載の半導体搭載用基板を用いた半導体装
置。
ジ状態で相分離する2種類の樹脂A,Bの混合物を必須
成分とする接着剤からなる接着フィルムであり、硬化物
で表面に析出したAの比率に対して、接着剤内部でのA
の比率が大きい必要がある。表面でのAの面積比率が0
%以上30%以下であることが好ましく、相Aの面積が
30%以上の場合は接着性が低下する傾向がある。表面
から深さ5μmでのAの面積比率は20%以上50%以
下であることが好ましく、また表面の面積比率より5ポ
イント以上高いことが好ましい。20%未満の場合は凝
集破壊がおこりやすくなり、耐熱性が低下する傾向があ
る。50%超の場合は接着剤の弾性率が高くなるため、
破壊しやすい傾向がある。なお、面積比率は硬化物の表
面及び断面を走査型電子顕微鏡で観察し不連続状に分散
している相Aの面積比率を算出する。相Aは25℃での
弾性率が3500MPa以上10000GPa以下であ
る必要がある。弾性率が3500MPa未満の場合は補
強効果が少なく、10000GPa超ではクラックなど
が発生しやすい。Bは硬化物の25℃での弾性率が1M
Pa以上3000MPa以下であることが必要である。
1MPa未満では凝集破壊しやすく、3000MPa超
では接着性が低下する。また、樹脂Aの水との接触角よ
り樹脂Bの水との接触角が5度以上大きい場合、接着フ
ィルムの製造工程を減らすことができる点で好ましい。
脂、シアネートエステル樹脂、シアネート樹脂などが挙
げられるがこれらに限定されるものではない。硬化後の
耐熱性が良い点で特にエポキシ樹脂が好ましい。エポキ
シ樹脂は硬化して接着作用を呈するものであればよい。
二官能基以上で平均分子量が5000未満が好ましく、
平均分子量3000未満のエポキシ樹脂がより好まし
い。二官能エポキシ樹脂としては、ビスフェノールA型
エポキシ樹脂やビスフェノールF型エポキシ樹脂が例示
される。ビスフェノールA型またはビスフェノールF型
液状樹脂は、油化シェルエポキシ株式会社から、エピコ
ート807、エピコート827、エピコート828とい
う商品名で市販されている。また、ダウケミカル日本株
式会社からは、D.E.R.330、D.E.R.33
1、D.E.R.361という商品名で市販されてい
る。さらに、東都化成株式会社から、YD8125、Y
DF8170という商品名で市販されている。
移温度)化を目的に多官能エポキシ樹脂を加えてもよ
く、多官能エポキシ樹脂としてはフェノールノボラック
型エポキシ樹脂やクレゾールノボラック型エポキシ樹脂
が例示される。フェノールノボラック型エポキシ樹脂
は、日本化薬株式会社から、EPPN−201という商
品名で市販されている。クレゾールノボラック型エポキ
シ樹脂は、住友化学工業株式会社から、ESCN−19
0、CN−195という商品名で市販されている。ま
た、日本化薬株式会社から、EOCN1012、EOC
N1025、EOCN1027という商品名で市販され
ている。さらに、東都化成株式会社から、YDCN70
1、YDCN702、YDCN703、YDCN704
という商品名で市販されている。
硬化剤として通常用いられているものを使用でき、アミ
ン、ポリアミド、酸無水物、ポリスルフィド、三弗化硼
素及びフェノール性水酸基を1分子中に2個以上有する
化合物であるビスフェノールA、ビスフェノールF、ビ
スフェノールSなどが挙げられる。特に吸湿時の耐電食
性に優れるためフェノール樹脂であるフェノールノボラ
ック樹脂やビスフェノールノボラック樹脂等を用いるの
が好ましい。フェノールノボラック樹脂は、大日本イン
キ化学工業株式会社からバーカムTD−2090、バー
カムTD−2131、ビスフェノールノボラック樹脂は
大日本インキ化学工業株式会社からフェノライトLF2
882、フェノライトLF2822という商品名で市販
されている。硬化剤の使用量としては、エポキシ樹脂の
化学当量の0.8〜1.2倍の官能基を含む量が好まし
い。
が、硬化のための熱処理の時間を短縮できる点で好まし
い。硬化促進剤としては、2−メチルイミダゾール、2
−エチル−4−メチルイミダゾール、1−シアノエチル
−2−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−
フェニルイミダゾリウムトリメリテートといった各種イ
ミダゾール類等の塩基が使用できる。イミダゾール類
は、四国化成工業株式会社から、2E4MZ、2PZ−
CN、2PZ−CNSという商品名で市販されている。
また、フィルムの可使期間が長くなる点で、潜在性硬化
促進剤が好ましく、その代表例としてはジシアンジミ
ド、アジピン酸ジヒドラジド等のジヒドラジド化合物、
グアナミン酸、メラミン酸、エポキシ化合物とジアルキ
ルアミン類との付加化合物、アミンとチオ尿素との付加
化合物、アミンとイソシアネートとの付加化合物が挙げ
られる。硬化促進剤の配合量は好ましくは、エポキシ樹
脂及び硬化剤の合計100重量部に対して0.1〜20
重量部、より好ましくは0.5〜15重量部、さらに好
ましくは0.5〜5重量部である。0.1重量部未満で
あると硬化速度が遅くなる傾向にあり、また20重量部
を超えると可使期間が短くなる傾向がある。
やメタクリル酸エステル及びアクリロニトリルなどの共
重合体であるアクリルゴム、スチレンやアクリロニトリ
ルなどと共重合したブタジエンゴム、シリコーン樹脂、
シリコーン変性ポリアミドイミドなどが挙げられる。特
に重量平均分子量が10万以上の高分子量成分はフィル
ムの強度が高い点で好ましい。
合、Bステージ状態でエポキシ樹脂と相分離し、かつ重
量平均分子量が10万以上の高分子量成分としてはアク
リルゴムが挙げられる。アクリルゴムとしてはグリシジ
ルアクリレート又はグリシジルメタクリレートを2〜6
重量%を含むTgが−10℃以上でかつ重量平均分子量
が80万以上であるアクリル系共重合体は接着性、耐熱
性が高い点で特に好ましい。グリシジルアクリレート又
はグリシジルメタクリレート2〜6重量%を含むTgが
−10℃以上でかつ重量平均分子量が80万以上である
アクリル系共重合体は、帝国化学産業株式会社から市販
されている商品名HTR−860P−3を使用すること
ができる。官能基モノマーが、カルボン酸タイプのアク
リル酸や、水酸基タイプのヒドロキシメチルアクリレー
トなどを用いると、架橋反応が進行しやすく、ワニス状
態でのゲル化、Bステージ状態での硬化度の上昇により
接着力が低下する傾向にある。また、官能基モノマーと
して用いるグリシジルアクリレート又はグリシジルメタ
クリレートの量は、2〜6重量%の共重合体比が好まし
い。より高い接着力が得られるため、2重量%以上が好
ましく、ゴムのゲル化が低減されるため、6重量%以下
が好ましい。残部は炭素数1〜8のアルキル基をもつ、
メチルアクリレート、メチルメタクリレートなどのアル
キルアクリレート、アルキルメタクリレート、およびス
チレンやアクリロニトリルなどの混合物を用いることが
できる。混合比率は、共重合体のTgを考慮して調整す
ることが好ましい。Tgが−10℃未満であるとBステ
ージ状態での接着フィルムのタック性が大きくなる傾向
がある。重合方法の例としてはパール重合、溶液重合等
が挙げられ、これらにより共重合体が得られる。
するために、カップリング剤を配合することもできる。
カップリング剤としてはシランカップリング剤が好まし
い。シランカップリング剤としては、γ−グリシドキシ
プロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピル
トリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシ
シラン、γ−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、N
−β−アミノエチル−γ−アミノプロピルトリメトキシ
シラン等が挙げられる。前記したシランカップリング剤
は、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランがN
UC A−187、γ−メルカプトプロピルトリメトキ
シシランがNUC A−189、γ−アミノプロピルト
リエトキシシランがNUC A−1100、γ−ウレイ
ドプロピルトリエトキシシランがNUC A−116
0、N−β−アミノエチル−γ−アミノプロピルトリメ
トキシシランがNUC A−1120という商品名で、
いずれも日本ユニカ−株式会社から市販されている。カ
ップリング剤の配合量は、添加による効果や耐熱性およ
びコストから、A相とB相のそれぞれを形成する組成物
の合計100重量部に対し0.1〜10重量部を添加す
るのが好ましい。
時の絶縁信頼性をよくするために、イオン補足剤を配合
することができる。
各成分を溶剤に溶解ないし分散してワニスとし、キャリ
アフィルム上に塗布、加熱し溶剤を除去することによ
り、接着剤層をキャリアフィルム上に形成して得られ
る。接着フィルムを2層以上に分けて塗工した後、貼り
あわせることによって得ることも可能であるが、工程が
複雑になりコスト高になる傾向がある。1層塗工で表面
に樹脂相Bを多く析出する方法としては、各樹脂を樹脂
Aの水との接触角より樹脂Bの水との接触角が5度以上
大きくなるように選択し、水との接触角130度以上の
フィルムを使用することが有効である。キャリアフィル
ムとしては、ポリテトラフルオロエチレンフィルム、ポ
リエチレンテレフタレートフィルム、また、離型処理し
た各種フィルム、例えばポリエチレンテレフタレートフ
ィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィル
ム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリイミドフィルム
などが使用できる。本発明で用いるフィルムの例として
は、離型処理したポリエチレンテレフタレートフィルム
が東レ、デュポン株式会社からルミラーという商品名
で、帝人株式会社からピューレックスという商品名で市
販されている。
ルエチルケトン、アセトン、メチルイソブチルケトン、
2−エトキシエタノール、トルエン、ブチルセロソル
ブ、メタノール、エタノール、2−メトキシエタノール
などを用いるのが好ましい。また、塗膜性を向上するな
どの目的で、高沸点溶剤を加えても良い。高沸点溶剤と
しては、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミ
ド、メチルピロリドン、シクロヘキサノン等が挙げられ
る。
びビーズミル等により、またこれらを組み合わせて行な
うことができる。また、ワニスとした後、真空脱気によ
りワニス中の気泡を除去することが好ましい。
シ当量190、油化シェルエポキシ株式会社製のエピコ
ート828を使用)45重量部、クレゾールノボラック
型エポキシ樹脂(エポキシ当量195、住友化学工業株
式会社製のESCN195を使用)15重量部、エポキ
シ樹脂の硬化剤としてフェノールノボラック樹脂(大日
本インキ化学工業株式会社製のプライオーフェンLF2
882を使用)40重量部を使用した。この硬化物の室
温での弾性率は5000MPa、水との接触角100度
であった。樹脂Bとしてグリシジルアクリレート又はグ
リシジルメタクリレート2〜6重量%を含むアクリルゴ
ム(重量平均分子量100万、帝国化学産業株式会社製
のHTR−860P−3を使用)150重量部を使用し
た。この硬化物の室温での弾性率は1000MPa、水
との接触角は130度であった。シランカップリング剤
としてγ―グリシドキシプロピルトリメトキシシラン
(日本ユニカー株式会社製のNUC A−187を使
用)0.7重量部からなる組成物に、メチルエチルケト
ンを加えて攪拌混合し、硬化促進剤として1−シアノエ
チル−2−フェニルイミダゾール(四国化成工業株式会
社製のキュアゾール2PZ−CNを使用)0.5重量部
を添加し、攪拌モーターで30分混合し、ワニスを得
た。ワニスを離型処理した板状のポリエチレンテレフタ
レート(水との接触角150度)に塗布し、140℃で
5分間加熱乾燥して、膜圧が75μmのBステージ状態
の塗膜を形成し、キャリアフィルムを備えた接着フィル
ムを作製した。得られた接着フィルムの両面に厚み50
μmのポリイミドフィルムを、温度80℃、圧力0.3
MPa、速度0.3m/分の条件でホットロールラミネ
ーターを用いて貼りあわせ、その後170℃で1時間硬
化した。このサンプルについて、耐熱性、ピール強度を
調べた。耐熱性の評価方法には、吸湿はんだ耐熱試験
(85℃/相対湿度85%の環境下に48時間放置した
サンプルを240℃のはんだ槽中に浮かべ、40秒未満
で膨れが発生したものを×、40秒以上120秒未満膨
れが発生しなかったものを○とした。120秒以上膨れ
が発生しなかったものを◎とした。ピール強度はTOY
OBALDWIN製UTM−4−100型テンシロンを
用い、得られた接着フィルムの両面に厚み50μmのポ
リイミドフィルムをラミネートした試験片(幅10m
m)のポリイミドフィルムを180度の角度で50mm
/分の引っ張り速度で剥がした。測定数N=3の単純平
均で示した。島の面積比は走査型電子顕微鏡を用いて表
面及び内部を観察し、島の面積比を算出した。実施例1
表面のAの分率が10%であり、内部の分率は30%で
あった。
μm研磨したものについて同様の評価を行なった。島の
面積比は走査型電子顕微鏡を用いて表面及び内部を観察
し、島の面積比を算出した。比較例1表面のAの分率が
30%であり、内部の分率は30%であった。
着フィルムを用いることにより、高い接着性を実現する
ことができる。また、請求項2記載の接着フィルムは請
求項1の効果に加えて、製造工程の効率化が可能な点で
優れる。請求項3記載の接着剤は、さらに耐熱性、フィ
ルムの強度が優れている。また、請求項4記載の製造法
により工程を減らすことができ、作業効率、コストの面
で優れている。請求項5〜7記載の半導体搭載用基板、
半導体装置は耐熱性、耐PCTに優れている。
Claims (7)
- 【請求項1】Bステージ状態で相分離する2種類の樹脂
A,Bの混合物を必須成分とする接着フィルムにおい
て、樹脂Aの25℃での弾性率が3500MPa以上1
0000GPa以下であり、樹脂Bの硬化物の25℃で
の弾性率が1MPa以上3000MPa以下であって、
硬化した際に少なくとも一方の表面に析出したAの比率
に対して接着剤表面から深さ5μmでのAの比率が表面
の比率より大きいことを特徴とする接着フィルム - 【請求項2】請求項1記載の接着フィルムにおいて、樹
脂Aの水との接触角より樹脂Bの水との接触角が5度以
上大きいことを特徴とする請求項1記載の接着フィルム - 【請求項3】請求項1記載の接着フィルムにおいて、樹
脂Aがエポキシ樹脂、硬化剤を必須成分としてなり、樹
脂Bが重量平均分子量10万以上のアクリルゴムである
ことを特徴とする請求項1または請求項2記載の接着フ
ィルム - 【請求項4】接着剤組成物を水との接触角が140度以
上のフィルムに塗布して製造することを特徴とする請求
項2または3記載の接着フィルムの製造方法 - 【請求項5】配線基板のチップ搭載面に請求項4記載の
接着フィルムを備えた半導体搭載用配線基板 - 【請求項6】接着部剤に請求項1〜3いずれかに記載の
接着フィルムを用いた半導体装置 - 【請求項7】請求項5記載の半導体搭載用基板を用いた
半導体装置
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