JP2001214122A

JP2001214122A - 下塗り剤組成物及びコーティング方法

Info

Publication number: JP2001214122A
Application number: JP2000027719A
Authority: JP
Inventors: Muneo Kudo; 宗夫工藤; Masaaki Yamatani; 正明山谷; Koichi Higuchi; 浩一樋口; Takashi Komori; 隆史小森; Toshihisa Shimo; 俊久下; Yoshifumi Kato; 祥文加藤
Original assignee: Shin Etsu Chemical Co Ltd; Toyoda Automatic Loom Works Ltd
Current assignee: Toyota Industries Corp; Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority date: 2000-02-04
Filing date: 2000-02-04
Publication date: 2001-08-07
Anticipated expiration: 2020-02-04
Also published as: JP3841141B2

Abstract

(57)【要約】【解決手段】（Ａ）ベンゾトリアゾール系紫外線吸収
性ビニル系単量体と、（Ｂ）アルコキシシリル基を含有
するビニル系単量体と、（Ｃ）共重合可能な他の単量体
との有機共重合体であって、共重合組成でアルコキシシ
リル基を含有するビニル系単量体が０．１〜５０重量％
であることを特徴とするアルコキシ基含有有機共重合体
を含有することを特徴とする下塗り剤組成物。【効果】本発明の下塗り剤組成物により被膜を施され
たプラスチック物品、特にポリカーボネート樹脂は、優
れた透明性、耐擦傷性、耐候性、耐薬品性を付与するこ
とが可能なため、車両、飛行機など運送機の窓、風防、
建物の窓、道路の遮音壁等屋外で使用される用途に好適
なものである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ガラスに代わる構
造材料として建物、車両等の窓用、計器カバー等に最近
頻繁に使用されるようになったプラスチック基材に優れ
た耐擦傷性、耐候性保護被膜を形成するシリコーン系被
膜を成形させるための下塗り剤組成物及びこの組成物を
用いたコーティング方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】近年、
透明板ガラスの代替として、非破砕性又はガラスよりも
耐破砕性の大きい透明材料を使用することが広く行われ
るようになってきた。例えばプラスチック基材、特にポ
リカーボネート樹脂などは、透明性、耐衝撃性、耐熱性
等に優れていることから、ガラスに代わる構造部材とし
て建物や車両等の窓用、計器カバー等種々の用途に現在
用いられている。

【０００３】しかし、ガラスに比べて耐擦傷性、耐候性
などの表面特性に劣ることから、ポリカーボネート樹脂
成形品の表面特性を改良することが切望されており、最
近では、車両の窓、道路用遮音壁では屋外暴露１０年以
上でも耐え得るものが要望されている。

【０００４】ポリカーボネート樹脂成形品の耐候性を改
良する手段としては、ポリカーボネート樹脂基材の表面
に耐候性に優れたアクリル系樹脂フィルムなどをラミネ
ートする方法や共押出等により樹脂表面に紫外線吸収剤
を含有した樹脂層を設ける方法が提案されている。

【０００５】また、ポリカーボネート樹脂成形品の耐擦
傷性を改良する方法としては、ポリオルガノシロキサン
系、メラミン系などの熱硬化性樹脂をコーティングする
方法や多官能性アクリル系の光硬化性樹脂をコーティン
グする方法が提案されている。

【０００６】一方、耐候性及び耐擦傷性を併せ持つ透明
体を製造する方法としては、特開昭５６−９２０５９号
公報及び特開平１−１４９８７８号公報などに多量の紫
外線吸収剤を添加した下塗り層を介してコロイダルシリ
カ含有ポリシロキサン塗料の保護被膜を設けた紫外線吸
収透明基板が知られている。

【０００７】しかしながら、下塗り層への多量の紫外線
吸収剤の添加は、基材や下塗り層の上面に塗布されるコ
ロイダルシリカ含有ポリシロキサン塗料による保護被膜
との密着性を悪くしたり、加熱硬化工程中に、例えば揮
発化することによって組成物中から除去されてしまった
り、屋外で長期間にわたって使用した場合、徐々に紫外
線吸収剤がブリードアウトして白化するといった悪影響
があった。更に、その上面のコロイダルシリカ含有ポリ
シロキサンからなる保護被膜層には、耐擦傷性の面から
紫外線吸収剤を多量に添加できないという問題もあっ
た。

【０００８】また、耐候性向上の目的で、ベンゾトリア
ゾール系紫外線吸収性ビニル系単量体あるいはベンゾフ
ェノン系紫外線吸収性ビニル系単量体とこの単量体に共
重合可能なビニル系単量体との共重合体を粘着剤組成
物、耐光耐薬品性合成樹脂及び粉体塗料樹脂の成分とす
ることが知られている（特開平６−２９９１３２号、特
開平７−９０１８４号、特開平１０−２５４３４号公
報）。しかし、このような紫外線吸収性共重合体を下塗
り層に使用した例はなく、また、基材や下塗り層の上面
に塗布されるコロイダルシリカ含有ポリシロキサン塗料
による保護被膜との密着性が悪いといった欠点があっ
た。

【０００９】更に、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収性
ビニル系単量体あるいはベンゾフェノン系紫外線吸収性
ビニル系単量体とこの単量体に共重合可能なビニル系単
量体の混合物を塗料の成分とし、これを用いて合成樹脂
等の表面に保護塗膜を形成することが知られている（特
開平８−１５１４１５号公報）。しかし、この保護被膜
は、ビニル系重合体からなるため、耐擦傷性に限界があ
る。

【００１０】従って、本発明の目的は、このような欠点
がなく、耐擦傷性、耐候性に優れた保護被膜を形成する
ための下塗り剤組成物及びこれを用いたコーティング方
法を提供することにある。

【００１１】

【課題を解決するための手段及び発明の実施の形態】本
発明者らは、上記目的を達成するために鋭意検討を重ね
た結果、（Ａ）ベンゾトリアゾール系紫外線吸収性ビニ
ル系単量体と、（Ｂ）アルコキシシリル基を含有するビ
ニル系単量体と、（Ｃ）共重合可能な他の単量体との有
機共重合体であって、共重合組成でアルコキシシリル基
を含有するビニル系単量体が０．１〜５０重量％である
有機共重合体、更には、（Ｃ）成分として環状ヒンダー
ドアミン系光安定基を有するアクリル系単量体を０．１
〜１０重量％含有するように共重合した有機共重合体を
使用すること、また、有機共重合体１００重量部に対し
て、更に、一分子内に窒素原子及びアルコキシシリル基
を含有する化合物を０．１〜５０重量部含有する下塗り
剤組成物が上記課題を解決することを見出した。

【００１２】即ち、本発明者らは、ポリカーボネートな
どの熱可塑性樹脂成形品のオルガノポリシロキサン系塗
膜被覆時における接着性、耐候性を向上させる下塗り剤
組成物の改良について種々検討した。その結果、下塗り
剤に上記有機共重合体を用いると、ポリマー主鎖にベン
ゾトリアゾール系紫外線吸収性基が化学結合によって固
定化されているため、表面への移行が起こらず、外観の
白化現象もなくなる点、水、溶剤等への溶出がなく、初
期の添加部数が長期間保持されるため、経時による紫外
線吸収効果の低下が少ない点、高温で熱硬化処理を行っ
ても塗膜から紫外線吸収剤が揮散しない点で優れている
こと、上述のように共重合体を作るため、下塗り剤の他
成分との相溶性が向上し、多量の添加が可能となり、多
量に加えても、基材や保護被膜との密着性、透明性を悪
化することはないことを知見した。

【００１３】また、アルコキシシリル基を含有するビニ
ル系単量体を用い、アルコキシシリル基を導入すること
により、下塗り剤塗膜層に、その上面に被覆する保護コ
ーティング被覆層との反応性が付与され、接着性が向上
し、アルコキシシリル基同士が架橋することにより、耐
熱性が向上し、耐久性を付与できる。

【００１４】更に、一分子内に窒素原子及びアルコキシ
シリル基を含有する化合物、好ましくは、一分子内に窒
素原子を１個以上及びアルコキシシリル基を２個以上含
有する化合物を上記有機共重合体に添加することによ
り、下塗り剤塗膜層に耐水性の良好な接着性が付与さ
れ、更に、上記有機共重合体中のアルコキシシリル基と
架橋するため塗膜を緻密にし、また、必要に応じて添加
される光安定剤などを下塗り剤塗膜層中に固定化できる
こと、そして、このように種々の特性を維持したまま下
塗り層に多量の紫外線吸収性基を導入できるため、あえ
てオルガノポリシロキサン系塗膜中に耐擦傷性の悪化因
子である紫外線吸収剤を加えなくても、あるいは少量で
もよいことを見出し、この下塗り剤組成物の成分比、添
加量等を検討して本発明を完成させたものである。

【００１５】従って、本発明は下記下塗り剤組成物及び
コーティング方法を提供する。［Ｉ］（Ａ）ベンゾトリアゾール系紫外線吸収性ビニル
系単量体と、（Ｂ）アルコキシシリル基を含有するビニ
ル系単量体と、（Ｃ）共重合可能な他の単量体との有機
共重合体であって、共重合組成でアルコキシシリル基を
含有するビニル系単量体が０．１〜５０重量％であるア
ルコキシ基含有有機共重合体を含有する下塗り剤組成
物。［ＩＩ］更に分子内に１個以上の環状ヒンダードアミン
構造を有する光安定剤を上記有機共重合体１００重量部
に対して０．１〜１０重量部含有する上記下塗り剤組成
物。［ＩＩＩ］（Ｃ）成分として環状ヒンダードアミン系光
安定基を有するアクリル系単量体を０．１〜１０重量％
含有する上記下塗り剤組成物。［ＩＶ］更に、一分子内に窒素原子及びアルコキシシリ
ル基を含有する化合物を上記有機共重合体１００重量部
に対して０．１〜５０重量部含有する上記下塗り剤組成
物。［Ｖ］一分子内に窒素原子及びアルコキシシリル基を含
有する化合物が、一分子内に窒素原子を１個以上及びア
ルコキシシリル基を２個以上含有する上記下塗り剤組成
物。［ＶＩ］（ｉ）上記下塗り剤組成物の有機溶剤溶液をプ
ラスチック基体上に塗布し、（ｉｉ）溶剤を蒸発させて
被膜を硬化させ、（ｉｉｉ）次いで、この被膜上に下記
一般式（１）Ｒ⁴ _mＳｉ（ＯＲ⁵）_4-m （１）（式中、Ｒ⁴は炭素原子数１〜１０のアルキル基、アリ
ール基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アリール
基、アルケニル基、又はエポキシ基、（メタ）アクリロ
オキシ基、メルカプト基、アミノ基もしくはシアノ基を
有する有機基を表し、Ｒ⁵は水素原子、又は炭素原子数
１〜１０の有機基であり、ｍは０，１又は２である。）
で示されるオルガノオキシシランの加水分解物又は共加
水分解物を含むオルガノポリシロキサン組成物を塗布
し、（ｉｖ）加熱することによりこの塗布膜を硬化させ
ることを特徴とするプラスチック基体を耐候性、耐磨耗
性の被膜で被覆する方法。［ＶＩＩ］オルガノポリシロキサン組成物が、コロイダ
ルシリカを添加してなるコロイダルシリカ含有オルガノ
ポリシロキサン組成物である上記方法。

【００１６】以下、本発明につき更に詳しく説明する。
本発明に係る下塗り剤組成物の必須成分は、（Ａ）ベン
ゾトリアゾール系紫外線吸収性ビニル系単量体と、
（Ｂ）アルコキシシリル基を含有するビニル系単量体
と、（Ｃ）共重合可能な他の単量体との有機共重合体で
あって、共重合組成でアルコキシシリル基を含有するビ
ニル系単量体が０．１〜５０重量％であることを特徴と
するアルコキシ基含有有機共重合体である。

【００１７】ここで、（Ａ）のベンゾトリアゾール系紫
外線吸収性ビニル系単量体としては、分子内にベンゾト
リアゾール系紫外線吸収基とビニル基とをそれぞれ少な
くとも１つ有する化合物であれば特に制限はない。この
ような化合物として、例えば、下記一般式（２）で表さ
れる化合物を挙げることができる。

【００１８】

【化１】（式中、Ｘは水素原子又は塩素原子を示す。Ｒ¹は水素
原子、メチル基、又は炭素数４〜８の第３級アルキル基
を示す。Ｒ²は直鎖状又は分岐鎖状の炭素数２〜１０の
アルキレン基を示す。Ｒ³は水素原子又はメチル基を示
す。ｎは０又は１を示す。）

【００１９】上記一般式（２）において、Ｒ¹で示され
る炭素数４〜８の第３級アルキル基としては、ｔｅｒｔ
−ブチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、ｔｅｒｔ−ヘキシ
ル基、ｔｅｒｔ−ヘプチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、
ジｔｅｒｔ−オクチル基等を挙げることができる。Ｒ²
で示される直鎖状又は分岐鎖状の炭素数２〜１０のアル
キレン基としは、例えば、エチレン基、トリメチレン
基、プロピレン基、テトラメチレン基、１，１−ジメチ
ルテトラメチレン基、ブチレン基、オクチレン基、デシ
レン基等を挙げることができる。これらの中でも、エチ
レン基、プロピレン基が好ましい。

【００２０】上記一般式（２）で表される化合物の具体
例としては、例えば、２−（２’−ヒドロキシ−５’−
メタクリロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾー
ル、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル
−５’−メタクリロキシメチルフェニル）−２Ｈ−ベン
ゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−５’−（２
−メタクリロキシエチル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾト
リアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−５’−（２−ア
クリロキシエチル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾ
ール、２−［２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチ
ル−５’−（２−メタクリロキシエチル）フェニル］−
５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２’−
ヒドロキシ−３’−メチル−５’−（８−アクリロキシ
オクチル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール等を
挙げることができる。

【００２１】上記ベンゾトリアゾール系紫外線吸収性ビ
ニル系単量体は、１種を単独で又は２種以上を混合して
用いてもよい。

【００２２】本発明の有機共重合体におけるベンゾトリ
アゾール系紫外線吸収性ビニル系単量体の量は、得られ
る有機共重合体と他の下塗り剤を構成する組成物との相
溶性、得られる下塗り剤組成物の耐候性等を考慮し、共
重合組成で０．１〜５０重量％がよく、より好ましくは
３〜４０重量％である。５０重量％より多いと下塗り剤
を構成する他の組成物との相溶性が悪くなるおそれがあ
り、経済的にも不利である。また、０．１重量％よりも
少ないと所望の耐候性が得られない場合がある。

【００２３】本発明の有機共重合体における（Ｂ）のア
ルコキシシリル基を含有するビニル系単量体の量は、共
重合組成で０．１〜５０重量％の範囲が必要とされる。
０．１重量％未満では耐熱性、耐久性が改良されず、ま
た５０重量％を超えると硬くなりすぎて接着性が低下す
る。

【００２４】ここで、（Ｂ）のアルコキシシリル基を含
有するビニル系単量体としては、分子内にアルコキシシ
リル基とビニル基とをそれぞれ少なくとも１つ有する化
合物であれば特に制限はない。このような化合物とし
て、例えば下記一般式（３）で示される化合物を挙げる
ことができる。Ｒ⁶−Ｒ⁷−ＳｉＲ⁸ _3-L（ＯＲ⁹）_L （３）（式中、Ｒ⁶は重合性不飽和基を示し、Ｒ⁷は直鎖状又は
分岐状の炭素数１〜１０のアルキレン基を示し、Ｒ⁸及
びＲ⁹は同一でも異なってもよく炭素数１〜６のアルキ
ル基を示す。Ｌは１〜３の整数である。）

【００２５】上記一般式（３）において、Ｒ⁶で示され
る重合性不飽和基としては、ビニル基、ビニロキシ基、
（メタ）アクリル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、
スチリル基等を挙げることができる。Ｒ⁷で示される直
鎖状又は分岐状の炭素数１〜１０のアルキレン基として
は、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピ
レン基、テトラメチレン基、１，１−ジメチルテトラメ
チレン基、ブチレン基、オクチレン基、デシレン基等を
挙げることができる。Ｒ⁸及びＲ⁹で示される炭素数１〜
６のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等を挙げるこ
とができる。

【００２６】このアルコキシシリル基を含有するビニル
系単量体としては、（メタ）アクリル官能性のものとし
ては３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、
３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−
メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−
メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−
アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−アクリ
ロキシプロピルトリエトキシシラン、３−アクリロキシ
プロピルメチルジメトキシシラン、３−アクリロキシプ
ロピルメチルジエトキシシラン、３−メタクリロキシメ
チルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシメチルト
リエトキシシラン、３−メタクリロキシメチルメチルジ
メトキシシラン、３−メタクリロキシメチルメチルジエ
トキシシラン、３−アクリロキシメチルトリメトキシシ
ラン、３−アクリロキシメチルトリエトキシシラン、３
−アクリロキシメチルメチルジメトキシシラン、３−ア
クリロキシメチルメチルジエトキシシランなどが例示さ
れるが、これらの中で取り扱い性、架橋密度、反応性な
どから３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラ
ン、３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラ
ンが好ましい。

【００２７】また、このアルコキシシリル基を含有する
ビニル系単量体としては、ビニルトリメトキシシラン、
ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキ
シエトキシ）シラン、ビニルメチルジメトキシシラン、
ビニルメチルジエトキシシラン、ビニルメチルビス（２
−メトキシエトキシ）シラン、３−ビニロキシプロピル
トリメトキシシラン、３−ビニロキシプロピルトリエト
キシシラン、３−ビニロキシプロピルメチルジメトキシ
シラン、３−ビニロキシプロピルメチルジエトキシシラ
ン、スチリルエチルトリメトキシシラン、スチリルトリ
メトキシシランなどが例示されるが、これらの中で取り
扱い性、反応性などからビニルトリメトキシシラン、ビ
ニルトリエトキシシラン、３−ビニロキシプロピルトリ
メトキシシランが好ましい。

【００２８】次に、上記単量体と共重合可能な他の単量
体（Ｃ）としては、環状ヒンダードアミン構造を有する
アクリル系単量体、（メタ）アクリル酸エステル、（メ
タ）アクリロニトリル、（メタ）アクリルアミド、アル
キルビニルエーテル、アルキルビニルエステル、スチレ
ン又はこれらの誘導体等を挙げることができる。

【００２９】環状ヒンダードアミン構造を有するアクリ
ル系単量体の具体例としては、２，２，６，６−テトラ
メチル−４−ピペリジニルメタクリレート、１，２，
２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジニルメタクリ
レート等が挙げられ、これらの光安定剤は２種以上併用
してもよい。

【００３０】（メタ）アクリル酸エステル又はその誘導
体の具体例としては、（メタ）アクリル酸メチル、（メ
タ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−プロピ
ル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリ
ル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メ
タ）アクリル酸ｓｅｃ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｔ
−ブチル、（メタ）アクリル酸ｎ−ペンチル、（メタ）
アクリル酸イソペンチル、（メタ）アクリル酸ｎ−ヘキ
シル、（メタ）アクリル酸イソヘキシル、（メタ）アク
リル酸ｎ−ヘプチル、（メタ）アクリル酸イソヘプチ
ル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）
アクリル酸ｎ−オクチル、（メタ）アクリル酸イソオク
チル、（メタ）アクリル酸ｎ−ノニル、（メタ）アクリ
ル酸イソノニル、（メタ）アクリル酸ｎ−デシル、（メ
タ）アクリル酸イソデシル、（メタ）アクリル酸ｎ−ウ
ンデシル、（メタ）アクリル酸ｎ−ドデシル、（メタ）
アクリル酸パルミチル、（メタ）アクリル酸ステアリ
ル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アク
リル酸４−メチルシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸
４−ｔ−ブチルシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ベ
ンジル等の１価アルコールの（メタ）アクリル酸エステ
ル類；２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−
メトキシプロピル（メタ）アクリレート、３−メトキシ
プロピル（メタ）アクリレート、２−メトキシブチル
（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）ア
クリレート、４−メトキシブチル（メタ）アクリレー
ト、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレ
ート（エチレングリコール単位数は例えば２〜２０）、
メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレー
ト（プロピレングリコール単位数は例えば２〜２０）等
のアルコキシ（ポリ）アルキレングリコールの（メタ）
アクリル酸エステル類；２−ヒドロキシエチル（メタ）
アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリ
レート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレー
ト、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、３−
ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキ
シブチル（メタ）アクリレート、グリセリンモノ（メ
タ）アクリレート、ペンタエリスリトールモノ（メタ）
アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）ア
クリレート（エチレングリコール単位数は例えば２〜２
０）、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレ
ート（プロピレングリコール単位数は例えば２〜２０）
等の多価アルコールのモノ（メタ）アクリル酸エステル
類；エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロ
ピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブチレング
リコールジ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メ
タ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレー
ト、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペ
ンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、１，
４−シクロヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、
ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート（エチ
レングリコール単位数は例えば２〜２０）、ポリプロピ
レングリコールジ（メタ）アクリレート（プロピレング
リコール単位数は例えば２〜２０）等の多価アルコール
のポリ（メタ）アクリル酸エステル類；コハク酸モノ
［２−（メタ）アクリロイルオキシエチル］、コハク酸
ジ［２−（メタ）アクリロイルオキシエチル］、アジピ
ン酸モノ［２−（メタ）アクリロイルオキシエチル］、
アジピン酸ジ［２−（メタ）アクリロイルオキシエチ
ル］、フタル酸モノ［２−（メタ）アクリロイルオキシ
エチル］、フタル酸ジ［２−（メタ）アクリロイルオキ
シエチル］等の非重合性多塩基酸と（メタ）アクリル酸
ヒドロキシアルキルとの（ポリ）エステル類；（メタ）
アクリル酸２−アミノエチル、（メタ）アクリル酸２−
（Ｎ−メチルアミノ）エチル、（メタ）アクリル酸２−
（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチル、（メタ）アクリル
酸２−（Ｎ−エチルアミノ）エチル、（メタ）アクリル
酸２−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）エチル、（メタ）ア
クリル酸３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）プロピル、
（メタ）アクリル酸４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ブ
チル等のアミノ基含有（メタ）アクリル酸エステル類；
（メタ）アクリル酸グリシジル等のエポキシ基含有（メ
タ）アクリル酸エステル類等を挙げることができる。

【００３１】また、（メタ）アクリロニトリルの誘導体
の具体例としては、α−クロロアクリロニトリル、α−
クロロメチルアクリロニトリル、α−トリフルオロメチ
ルアクリロニトリル、α−メトキシアクリロニトリル、
α−エトキシアクリロニトリル、シアン化ビニリデン等
を挙げることができる。（メタ）アクリルアミドの誘導
体の具体例としては、Ｎ−メチル（メタ）アクリルアミ
ド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−エ
チル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メ
タ）アクリルアミド、Ｎ−メトキシ（メタ）アクリルア
ミド、Ｎ，Ｎ−ジメトキシ（メタ）アクリルアミド、Ｎ
−エトキシ（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエトキ
シ（メタ）アクリルアミド、ジアセトン（メタ）アクリ
ルアミド、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ
−（２−ヒドロキシエチル）（メタ）アクリルアミド、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチル（メタ）アクリルアミ
ド、Ｎ−（２−ジメチルアミノ）エチル（メタ）アクリ
ルアミド、Ｎ，Ｎ’−メチレンビス（メタ）アクリルア
ミド、Ｎ，Ｎ’−エチレンビス（メタ）アクリルアミド
等を挙げることができる。アルキルビニルエーテルの具
体例としては、メチルビニルエーテル、エチルビニルエ
ーテル、ブチルビニルエーテル、ヘキシルビニルエーテ
ル等を挙げることができる。アルキルビニルエステルの
具体例としては、蟻酸ビニル、酢酸ビニル、アクリル酸
ビニル、酪酸ビニル、カプロン酸ビニル、ステアリン酸
ビニル等を挙げることができる。スチレン及びその誘導
体の具体例としては、スチレン、α−メチルスチレン、
ビニルトルエン等を挙げることができる。これらのモノ
マーのうち、（メタ）アクリル酸エステル類が好まし
く、特に（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル
酸エチル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）
アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｎ−ヘキシ
ル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）
アクリル酸イソノニル、（メタ）アクリル酸シクロヘキ
シル、（メタ）アクリル酸４−メチルシクロヘキシル、
（メタ）アクリル酸４−ｔ−ブチルシクロヘキシル等が
好ましい。

【００３２】本発明において、前記モノマーは、単独で
又は２種以上を混合して使用することができる。中で
も、光安定化し、更に耐候性を向上させるために、環状
ヒンダードアミン構造を有するアクリル系単量体を共重
合させることが好ましく、この配合量は、共重合組成で
０．１〜１０重量％が好ましい。１０重量％を超えると
塗膜の密着性が低下することがある。

【００３３】本発明の下塗り剤組成物の主要構成成分で
ある有機共重合体は、（Ａ）ベンゾトリアゾール系紫外
線吸収性ビニル系単量体と、（Ｂ）アルコキシシリル基
を含有するビニル系単量体と、（Ｃ）共重合可能な他の
単量体との有機共重合体であり、この共重合体は、これ
ら単量体を含有する溶液にジクミルパーオキサイド、ベ
ンゾイルパーオキサイド等のパーオキサイド類又はアゾ
ビスイソブチロニトリル等のアゾ化合物から選択される
ラジカル重合用開始剤を加え、加熱下に反応させること
により容易に得られる。

【００３４】なお、この有機共重合体の重量平均分子量
は１，０００〜２００，０００であることが好ましい。

【００３５】この有機共重合体の下塗り剤組成物におけ
る含有量は、好ましくは１０〜８０重量％の範囲であ
る。１０重量％未満では熱可塑性となり、耐熱性が低下
し、また８０重量％を超えると接着性が不良となるおそ
れがある。

【００３６】上記有機共重合体に添加される一分子内に
窒素原子及びアルコキシシリル基を含有する化合物、更
に好ましくは、一分子内に窒素原子を１個以上及びアル
コキシシリル基を２個以上含有する化合物としては、ア
ミノ基含有アルコキシシラン、アミノ基含有ジ（アルコ
キシシラン）、アミド基含有アルコキシシラン、アミノ
基含有アルコキシシランとエポキシ基含有アルコキシシ
ラン及びシリル化剤との反応生成物をアミド化したも
の、アミノ基含有アルコキシシランと（多）（メタ）ア
クリル化合物との反応生成物、アミノ基含有アルコキシ
シランと（メタ）アクリル基含有アルコキシシランとの
反応生成物、ポリアミン化合物と（メタ）アクリル基含
有アルコキシシランとの反応生成物、アミノ基含有アル
コキシシランと多イソシアネート化合物との反応生成物
をアミド化したものなどが好適に使用されるが、より好
ましくはアミノ基含有アルコキシシランとエポキシ基含
有アルコキシシラン及びシリル化剤との反応生成物をア
ミド化したものが望ましい。

【００３７】これらの成分として使用されるものの具体
例を下記に例示すると、アミノ基含有アルコキシシラン
としては、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３
−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロ
ピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルメチ
ルジエトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−
アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノ
エチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ
−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジ
メトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミ
ノプロピルメチルジエトキシシラン、３−（トリメトキ
シシリルプロピル）アミノプロピルトリメトキシシラ
ン、３−（トリエトキシシリルプロピル）アミノプロピ
ルトリエトキシシラン、２−（トリメトキシシリルプロ
ピル）アミノエチル−３−アミノプロピルトリメトキシ
シラン、２−（トリエトキシシリルプロピル）アミノエ
チル−３−アミノプロピルトリエトキシシランなどが例
示される。

【００３８】アミノ基含有ジ（アルコキシシラン）とし
ては、ビス（トリメトキシシリルプロピル）アミンなど
が例示される。

【００３９】アミド基含有アルコキシシランとしては、
ウレイドプロピルトリメトキシシラン、ウレイドプロピ
ルトリエトキシシラン、ウレイドプロピルメチルジメト
キシシラン、ウレイドプロピルメチルジエトキシシラン
などが例示される。

【００４０】（多）（メタ）アクリル化合物としては、
メチルメタクリレート、ブチルメタクリレート、２−エ
チルヘキシルメタクリレート等のアルキルメタクリレー
ト類、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチ
ルアクリレート等のアルキルアクリレート類、アクリル
アミド、アクリルニトリル、エチレングリコールジメタ
クリレートなどが例示される。

【００４１】ポリアミン化合物としては、エチレンジア
ミン、ジエチレントリアミン、トリエチレントリアミ
ン、テトラエチレンペンタミン、ピペラジンなどが例示
される。

【００４２】多イソシアネート化合物としては、トルエ
ンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネー
ト、ヘキサメチレンジイソシアネート、２，２，４−ト
リメチルヘキサメチレンジイソシアネート、２，４，４
−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ｐ−フ
ェニレンジイソシアネート−４，４’−ジシクロヘキシ
ルメタンジイソシアネート、３，３’−ジメチルジフェ
ニル−４，４’−ジイソシアネート、ジアニシジンジイ
ソシアネート、ｍ−キシレンジイソシアネート、イソホ
ロンジイソシアネート、１，５−ナフタレンジイソシア
ネート、ｔｒａｎｓ−１，４−シクロヘキシルジイソシ
アネート、リシンジイソシアネート、ジメチルトリフェ
ニルメタンテトライソシアネート、トリフェニルメタン
トリイソシアネート、トリス（イソシアネートフェニ
ル）チオフォスフェートなどが例示される。

【００４３】（メタ）アクリル基含有アルコキシシラン
としては、上述のアルコキシシリル基を含有するアクリ
ル系単量体の例示化合物が挙げられる。

【００４４】アミノ基含有アルコキシシランとエポキシ
基含有アルコキシシラン及びシリル化剤との反応生成物
をアミド化したものは、下記の方法により製造すること
ができる。この場合、アミノ基含有アルコキシシランと
しては、上記に示されたものが挙げられるが、接着性、
操作性の点からＮ−（２−アミノエチル）−３−アミノ
プロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチ
ル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシランなど
が好ましい。また、ここで使用されるエポキシ基含有ア
ルコキシシランは特に限定されないが、反応性、操作性
の点からγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラ
ン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルメ
チルジメトキシシランとすることが好ましい。なお、こ
こで使用されるシリル化剤としては、ヘキサメチルジシ
ラザン、Ｎ，Ｎ’−ビス（トリメチルシリル）ホルムア
ミド、Ｎ，Ｎ’−ビス（トリメチルシリル）ウレアなど
が例示されるが、このものはアミノ基含有アルコキシシ
ランとエポキシ基含有アルコキシシランとの反応によ
り、生成するＯＨ基を保護してＯＨ基とアルコキシシリ
ル基との反応を防止し、この反応生成物の経時変化を防
止するためのものである。

【００４５】このアミノ基含有アルコキシシランとエポ
キシ基含有アルコキシシラン及びシリル化剤との反応
は、アミノ基含有アルコキシシランとシリル化剤との混
合物にエポキシ基含有アルコキシシランを滴下し、加熱
反応させればよく、あるいはアミノ基含有アルコキシシ
ランとエポキシ基含有アルコキシシランとを反応させ、
この反応生成物にシリル化剤を添加して反応させるよう
にしてもよい。

【００４６】なお、この反応におけるアミノ基含有アル
コキシシランとエポキシ基含有アルコキシシランの配合
比はエポキシ基／アミノ基（＝Ｎ−Ｈ）のモル比が０．
３未満では１分子中の架橋に関与するアルコキシ基の数
が少なすぎて硬化性が弱くなるし、分子全体の広がりが
なくなり、面接着性が弱くなって接着性が劣るようにな
り、これが１．２を超えると、後述するアミド化におい
てアミド化し得る＝Ｎ−Ｈ基が殆どなくなって耐水接着
性が悪くなるので、０．３〜１．２の範囲とすることが
好ましい。

【００４７】更に、この成分は、この反応生成物をアミ
ド化したものとされるが、このアミド化は酢酸クロリ
ド、酢酸ブロミド、プロピオン酸クロリド、無水酢酸、
酢酸イソプロペニル、ベンゾイルクロリドなどで例示さ
れるカルボン酸の酸ハロゲン化物、酸無水物、酸イソプ
ロペニルエステル化合物と反応させればよい。

【００４８】なお、本発明の下塗り剤組成物中における
この成分の添加量は、上記に示した有機共重合体１００
重量部に対し、０．１〜５０重量部、より好ましくは
０．５〜２０重量部含有するのがよい。５０重量部を超
えて添加すると、下塗り層における架橋密度が高くなり
すぎて、得られる被膜の硬度が高くなって逆に接着性が
不良となる場合がある。

【００４９】次に、下塗り剤組成物の必須成分である上
記反応生成物以外の他の構成成分について説明する。

【００５０】上記下塗り剤組成物に、分子内に１個以上
の環状ヒンダードアミン構造を有する光安定剤を添加す
ることにより、耐候性を向上させることができる。使用
される光安定剤としては、下塗り剤組成物に用いた溶剤
によく溶解し、かつ上記有機共重合体との相溶性がよ
く、また低揮発性のものが好ましい。

【００５１】添加量は上記有機共重合体１００重量部に
対して０．１〜１０重量部がよく、１０重量部を超えて
添加すると塗膜の密着性が低下する場合がある。

【００５２】光安定剤の具体例としては、３−ドデシル
−１−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ニル）ピロリジン−２，５−ジオン、Ｎ−メチル−３−
ドデシル−１−（２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリジニル）ピロリジン−２，５−ジオン、Ｎ−アセ
チル−３−ドデシル−１−（２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ピペリジニル）ピロリジン−２，５−ジオ
ン、セバシン酸ビス（２，２，６，６−テトラメチル−
４−ピペリジル）、セバシン酸ビス（１，２，２，６，
６−ペンタメチル−４−ピペリジル）、テトラキス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）
１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、テト
ラキス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペ
リジル）１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレー
ト、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸と２，
２，６，６−テトラメチル−ピペリジノールとトリデカ
ノールとの縮合物、８−アセチル−３−ドデシル−７，
７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピ
ロ［４，５］デカン−２，４−ジオン、１，２，３，４
−ブタンテトラカルボン酸と１，２，６，６−ペンタメ
チル−４−ピペリジノールとβ，β，β，β’−テトラ
メチル−３，９−（２，４，８，１０−テトラオキサス
ピロ［５，５］ウンデカン）ジエタノールとの縮合物、
１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸と２，２，
６，６−ペンタメチル−４−ピペリジノールとβ，β，
β，β’−テトラメチル−３，９−（２，４，８，１０
−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカン）ジエタノ
ールとの縮合物、また、光安定剤を固定化させる目的
で、特公昭６１−５６１８７号公報にあるようなシリル
化変性の光安定剤、例えば２，２，６，６−テトラメチ
ルピペリジノ−４−プロピルトリメトキシシラン、２，
２，６，６−テトラメチルピペリジノ−４−プロピルメ
チルジメトキシシラン、２，２，６，６−テトラメチル
ピペリジノ−４−プロピルトリエトキシシラン、２，
２，６，６−テトラメチルピペリジノ−４−プロピルメ
チルジエトキシシラン、更にこれらの（部分）加水分解
物等が挙げられ、これらの光安定剤は２種以上併用して
もよい。

【００５３】上記下塗り剤組成物には弊害を及ぼさない
範囲で重合性基を含まない通常の紫外線吸収剤を加えて
もよい。この場合、上記の有機共重合体と相溶性が良好
な有機系紫外線吸収剤が好ましい。特に、主骨格がヒド
ロキシベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、シア
ノアクリレート系、トリアジン系である化合物誘導体が
好ましい。更に側鎖にこれら紫外線吸収剤を含有するビ
ニルポリマーなどの重合体でもよい。具体的には、２，
４’−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２’，４，
４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキ
シ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４
−メトキシベンゾフェノン−５−スルホン酸、２−ヒド
ロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、２−ヒド
ロキシ−４−ｎ−ドデシロキシベンゾフェノン、２−ヒ
ドロキシ−４−ｎ−ベンジロキシベンゾフェノン、２，
２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェ
ノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジエトキシ
ベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−
ジプロポキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ
−４，４’−ジブトキシベンゾフェノン、２，２’−ジ
ヒドロキシ−４−メトキシ−４’−プロポキシベンゾフ
ェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシ−４’
−ブトキシベンゾフェノン、２，３，４−トリヒドロキ
シベンゾフェノン、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔ−メ
チルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロ
キシ−５−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾー
ル、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフ
ェニル）ベンゾトリアゾール、エチル−２−シアノ−
３，３−ジフェニルアクリレート、２−エチルヘキシル
−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、２−
（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシフェニル）−
４，６−ジフェニルトリアジン、４−（２−アクリロキ
シエトキシ）−２−ヒドロキシベンゾフェノンの重合
体、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メタクリロキシエ
チルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾールの重合体等
が例示される。これらの中で、下塗り剤組成物との相溶
性、揮散性の点から２，２’，４，４’−テトラヒドロ
キシベンゾフェノンが好適に使用される。またこれらの
有機系紫外線吸収剤は２種以上併用してもよい。

【００５４】更に、この下塗り剤組成物の粘度が低すぎ
て塗工しづらく、塗膜が薄くなってしまうような場合、
接着性を低下させずに、可撓性を付与する成分としてア
クリル系重合体を添加してもよい。アクリル系共重合体
としては、ポリ（メチルメタクリレート）、ポリ（ブチ
ルメタクリレート）、ポリ（ブチルアクリレート）など
のポリ（アルキルメタクリレート）、ポリ（アルキルア
クリレート）あるいはこれらの共重合体が例示される。
これらのものは、接着性を低下させることなく下塗り剤
組成物に可撓性を付与できるものである。

【００５５】これを添加する場合、下塗り剤組成物に対
して３０重量％を超えて添加すると、この組成物の熱硬
化性が悪化する場合があるので、この添加は３０重量％
以下が望ましい。

【００５６】上記下塗り剤組成物は、溶剤により希釈さ
れ使用される。この溶剤としては、ジアセトンアルコー
ル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレ
ングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコー
ルモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチル
エーテル、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコ
ール、ｎ−ブチルアルコール、ｎ−プロピルアルコー
ル、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトン、アセチルアセトン、酢酸エチル、酢酸ブチル、
キシレン、トルエン等が挙げられる。この下塗り剤組成
物は、通常、上記溶剤で希釈され、上記有機共重合体の
５〜１０重量％の溶液として使用される。

【００５７】この下塗り剤組成物溶液を予め清浄化した
プラスチックフィルム等の基材の表面に塗布し、上記希
釈溶剤を室温あるいは加熱下で蒸発させて、厚さ０．５
〜２０μｍ、好ましくは１〜１０μｍの塗膜を形成させ
るようにすればよい。なお、この有機溶剤希釈液は粘度
が５ｃＳ未満では塗膜を厚くすることができず、５０ｃ
Ｓを超えると取り扱いや塗布方法が難しくなるので、５
〜５０ｃＳの範囲のものとするのが好ましい。更に、塗
膜の平滑化をはかるため、フッ素系あるいはシリコーン
系の界面活性剤を効果量添加してもよい。また、この塗
膜の硬化を促進させるために架橋硬化触媒を触媒量添加
してもよい。

【００５８】このようにして得られる本発明の下塗り剤
組成物による硬化被膜を設けたプラスチックフィルム、
基板などのプラスチック成形品は、初期接着性、耐熱
性、耐温水性、耐候性の優れたものとされるが、このも
のはこの下塗り剤被膜の上に公知のオルガノポリシロキ
サン組成物、例えば、下記一般式（１）Ｒ⁴ _mＳｉ（ＯＲ⁵）_4-m （１）（式中、Ｒ⁴は炭素原子数１〜１０のアルキル基、アリ
ール基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アリール
基、アルケニル基、又はエポキシ基、（メタ）アクリロ
オキシ基、メルカプト基、アミノ基もしくはシアノ基を
有する有機基を表し、Ｒ⁵は水素原子、又は炭素原子数
１〜１０の有機基であり、ｍは０，１又は２である。）
で示されるオルガノオキシシランの加水分解物又は共加
水分解物を塗布し、加熱硬化、特に好ましくは５０〜１
４０℃に加熱硬化させると、このプラスチック成形品は
その表面に本発明の下塗り剤組成物が塗布されているこ
とから、この下塗り剤塗膜とオルガノポリシロキサンと
の相乗作用により、接着性、耐磨耗性も良好で、更に紫
外線吸収剤が強固に下塗り剤塗膜中に固定化されている
ため、耐候性、耐候安定性が優れるという有利性が与え
られる。

【００５９】ここで、式（１）において、Ｒ⁴は炭素数
１〜１０のアルキル基、アリール基、ハロゲン化アルキ
ル基、ハロゲン化アリール基、アルケニル基、又はエポ
キシ基、（メタ）アクリロオキシ基、メルカプト基、ア
ミノ基もしくはシアノ基を有する有機基を表し、具体的
には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基、ヘキシル基、デシル基、シクロヘキシル
基などのアルキル基、フェニル基、フェネチル基などの
アリール基、３−クロロプロピル基、３，３，３−トリ
フルオロプロピル基、３，３，４，４，５，５，６，
６，６−ノナフルオロヘキシル基等のハロゲン化アルキ
ル基、ｐ−クロロフェニル基などのハロゲン化アリール
基、ビニル基、アリル基、９−デセニル基、ｐ−ビニル
ベンジル基などのアルケニル基、３−グリシドキジプロ
ピル基、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチ
ル基、９，１０−エポキシデシル基などのエポキシ基含
有有機基、γ−メタクリルオキシプロピル基、γ−アク
リルオキシ基などの（メタ）アクリルオキシ基含有有機
基、γ−メルカプトプロピル基、ｐ−メルカプトメチル
フェニルエチル基などのメルカプト基含有有機基、γ−
アミノプロピル基、（β−アミノエチル）−γ−アミノ
プロピル基などのアミノ基含有有機基、β−シアノエチ
ル基などのシアノ基含有有機基などを例示することがで
きる。

【００６０】また、Ｒ⁵は水素原子、炭素数１〜１０の
有機基であり、有機基としてはアルキル基、アルケニル
基、アルコキシアルキル基又はアシル基が挙げられ、ア
ルキル基、アシル基が好ましい。具体的には、メチル
基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル
基、ヘキシル基、フェニル基、イソプロペニル基、メト
キシエチル基、アセチル基等が例示される。

【００６１】これらの条件を満たすシラン化合物の具体
例としては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエ
トキシシラン、メチルトリス（２−メトキシエトキシ）
シラン、メチルトリアセトキシシラン、メチルトリプロ
ポキシシラン、メチルトリイソプロペノキシシラン、メ
チルトリブトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、
エチルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラ
ン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシ
シラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシ）シラ
ン、ビニルトリイソプロペノキシシラン、フェニルトリ
メトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニ
ルトリアセトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメト
キシシラン、γ−クロロプロピルトリエトキシシラン、
γ−クロロプロピルトリプロポキシシラン、３，３，３
−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、γ−グリ
シドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキ
シプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシ
プロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピ
ルメチルジエトキシシラン、β−（３，４−エポキシシ
クロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、β−（３，
４−エポキシシクロヘキシル）エチルメチルジメトキシ
シラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチ
ルトリエトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロ
ヘキシル）エチルメチルジエトキシシラン、γ−メタク
リルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリル
オキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピ
ルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキ
シシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−
（β−アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキ
シシラン、β−シアノエチルトリメトキシシラン等のト
リアルコキシ又はトリアシルオキシシラン類及びジメチ
ルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメ
チルジ（２−メトキシエトキシ）シラン、ジメチルジア
セトキシシラン、ジメチルジプロポキシシラン、ジメチ
ルジイソプロペノキシシラン、ジメチルジブトキシシラ
ン、ビニルメチルジメトキシシラン、ビニルメチルジエ
トキシシラン、ビニルメチルジアセトキシシラン、ビニ
ルメチルジ（２−メトキシエトキシ）シラン、ビニルメ
チルジイソプロペノキシシラン、フェニルメチルジメト
キシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン、フェニ
ルメチルジアセトキシシラン、γ−プロピルメチルジメ
トキシシラン、γ−プロピルメチルジエトキシシラン、
γ−プロピルメチルジプロポキシシラン、３，３，３−
トリフルオロプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メ
タクリルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−
アクリルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−
アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプ
ロピルメチルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピ
ルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメ
チルジエトキシシラン、Ｎ−（β−アミノエチル）−γ
−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、β−シアノ
エチルメチルジメトキシシラン等のジアルコキシシラン
又はジアシルオキシシラン類、テトラアルコキシシラン
類の例としてはメチルシリケート、エチルシリケート、
Ｎ−プロピルシリケート、ｎ−ブチルシリケート、ｓｅ
ｃ−ブチルシリケート及びｔ−ブチルシリケート等を挙
げることができる。

【００６２】これらのシラン化合物の（共）加水分解し
たものを使用してもよい。また、これらのシラン化合物
の（共）加水分解物は１種単独で又は２種以上の混合物
として使用することができる。

【００６３】上記シラン化合物の（共）加水分解物は、
例えば酸触媒存在下、そのシラン化合物の低級アルコー
ル溶液に水を添加して加水分解を行うことによって得る
ことができる。低級アルコールとしてはメタノール、エ
タノール、イソプロパノール、ブタノール等が例示され
る。更にそのアルコールと併用可能な溶媒としてはアセ
トン、アセチルアセトンなどのケトン類、酢酸エチル、
酢酸イソブチルなどのエステル類、プロピレングリコー
ルモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメ
チルエーテル、ジイソプロピルエーテルなどのエーテル
類が例示される。

【００６４】また、オルガノポリシロキサン組成物に、
１〜１００ｍμのシリカ微粒子を水又はメタノール、エ
タノール、イソブタノール、ジアセトンアルコールなど
のアルコールに分散させたコロイダルシリカを５〜７０
重量％添加したコロイダルシリカ含有オルガノポリシロ
キサン組成物を塗布する方法が、耐擦傷性を向上するた
めにより好ましい。また、オルガノポリシロキサン組成
物に紫外線遮蔽剤として酸化チタン、酸化ジルコニウ
ム、酸化スズ、酸化タングステン等の金属酸化物を添加
してもよい。更に、上記のオルガノポリシロキサン組成
物の硬化触媒として第四級アンモニウム塩、有機酸のア
ルカリ金属塩、アルミニウム、チタン、クロム及び鉄等
のアルコキシドやキレート、過塩素酸塩、酸無水物、ポ
リアミン、ルイス酸等を触媒量添加してもよい。

【００６５】本発明の下塗り剤組成物は、各種プラスチ
ック材料に好適に使用され、特にポリカーボネート樹
脂、ポリスチレン樹脂、変性アクリル樹脂、ウレタン樹
脂、チオウレタン樹脂、ハロゲン化ビスフェノールＡと
エチレングリコールの重縮合物、アクリルウレタン樹
脂、ハロゲン化アリール基含有アクリル樹脂、含硫黄樹
脂等に好適に使用される。

【００６６】

【実施例】以下、合成例及び実施例と比較例を示し、本
発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制
限されるものではない。なお、下記の例において％は重
量％、部は重量部を示す。

【００６７】＜アルコキシシリル基含有の紫外線吸収性
有機共重合体の合成＞［合成例１］撹拌機、コンデンサー及び温度計を備えた
２リットルフラスコに溶剤としてジアセトンアルコール
３７６．７ｇを仕込み、窒素気流下にて８０℃に加熱し
た。ここに予め調製しておいた２−［２’−ヒドロキシ
−５’−（２−メタクリロキシエチル）フェニル］−２
Ｈ−ベンゾトリアゾール１６．５ｇ、γ−メタクリロキ
シプロピルトリメトキシシラン５４ｇ、メチルメタクリ
レート２１６ｇ、エチルアクリレート１６．９ｇ、酢酸
ビニル１６．９ｇ、グリシジルメタクリレート３３．８
ｇの単量体混合物のうち９０ｇ及び予め調製しておいた
重合開始剤としての２，２’−アゾビス（２−メチルブ
チロニトリル）２．３ｇをジアセトンアルコール１７
７．７ｇに溶解した溶液のうち３６ｇを順次投入した。
８０℃で３０分反応させた後、残りの単量体混合物と残
りの重合開始剤溶液を同時に８０〜９０℃で１．５時間
かけて滴下した。更に８０〜９０℃で５時間撹拌した。

【００６８】得られたアルコキシシリル基を含有する紫
外線吸収性有機共重合体溶液の粘度は１４，０００Ｃ
Ｐ、またその共重合体中の紫外線吸収性単量体の含有量
は４．７％、アルコキシル基含有単量体量は１５．２％
であった。また、標準ポリスチレンを基準とするＧＰＣ
分析により重量平均分子量は１０５，０００であった。

【００６９】［合成例２］合成例１の溶剤としてのジア
セトンアルコール３７６．７ｇを３８５．４ｇに、単量
体成分としての２−［２’−ヒドロキシ−５’−（２−
メタクリロキシエチル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリ
アゾール１６．５ｇを３５ｇに、更に単量体成分に１，
２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジニルメタ
クリレート２．８ｇを追加したこと以外は合成例１と同
様に合成してアルコキシシリル基を含有する紫外線吸収
性有機共重合体溶液を作製した。

【００７０】得られた共重合体溶液の粘度は７，５００
ＣＰ、またその共重合体中の紫外線吸収性単量体の含有
量は９．３％、アルコキシル基含有単量体量は１４．３
％であった。また、標準ポリスチレンを基準とするＧＰ
Ｃ分析により重量平均分子量は９６，４００であった。

【００７１】［合成例３］撹拌機、コンデンサー及び温
度計を備えた２リットルフラスコに溶剤としてジアセト
ンアルコール４７１．３ｇ及び２−［２’−ヒドロキシ
−５’−（２−メタクリロキシエチル）フェニル］−２
Ｈ−ベンゾトリアゾール５５．２ｇを仕込み、窒素気流
下にて８０℃に加熱した。ここに予め調製しておいた２
−［２’−ヒドロキシ−５’−（２−メタクリロキシエ
チル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール４０．０
ｇ、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン５
４ｇ、メチルメタクリレート２１６ｇ、エチルアクリレ
ート１６．９ｇ、酢酸ビニル１６．９ｇ、グリシジルメ
タクリレート３３．８ｇ、１，２，２，６，６−ペンタ
メチル−４−ピペリジニルメタクリレート２．８ｇの単
量体混合物のうち９０ｇ及び予め調製しておいた重合開
始剤としての２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニ
トリル）２．３ｇをジアセトンアルコール１７７．７ｇ
に溶解した溶液のうち３６ｇを順次投入した。８０℃で
３０分反応させた後、残りの単量体混合物と残りの重合
開始剤溶液を同時に８０〜９０℃で１．５時間かけて滴
下した。更に８０〜９０℃で５時間撹拌した。

【００７２】得られたアルコキシシリル基を含有する紫
外線吸収性共重合体溶液の粘度は１０，７００ＣＰ、ま
たその共重合体中の紫外線吸収性単量体の含有量は２
２．０％、アルコキシル基含有単量体量は１２．３％で
あった。また、標準ポリスチレンを基準とするＧＰＣ分
析により重量平均分子量は５８，０００であった。

【００７３】［合成例４］合成例１の２−［２’−ヒド
ロキシ−５’−（２−メタクリロキシエチル）フェニ
ル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール１６．５ｇを０．２ｇ
に、メチルメタクリレート２１６ｇを２３２．３ｇに代
えた以外は合成例１と同様に合成してアルコキシシリル
基を含有する紫外線吸収性有機共重合体溶液を作製し
た。

【００７４】得られた共重合体溶液の粘度は１３，２０
０ＣＰ、またその共重合体中の紫外線吸収性単量体の含
有量は０．０６％、アルコキシル基含有単量体量は１
５．２％であった。また、標準ポリスチレンを基準とす
るＧＰＣ分析により重量平均分子量は９９，９００であ
った。

【００７５】［合成例５］合成例１の２−［２’−ヒド
ロキシ−５’−（２−メタクリロキシエチル）フェニ
ル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール１６．５ｇを１９４．
８ｇに、メチルメタクリレート２１６ｇを３７．７ｇに
代えた以外は合成例１と同様に合成してアルコキシシリ
ル基を含有する紫外線吸収性有機共重合体溶液を作製し
た。なお、このとき単量体混合物は２−［２’−ヒドロ
キシ−５’−（２−メタクリロキシエチル）フェニル］
−２Ｈ−ベンゾトリアゾールが完全に溶解しないためス
ラリー状態となった。

【００７６】得られた共重合体溶液の粘度は３，４００
ＣＰ、またその共重合体中の紫外線吸収性単量体の含有
量は５５．０％、アルコキシル基含有単量体量は１５．
２％であった。また、標準ポリスチレンを基準とするＧ
ＰＣ分析により重量平均分子量は３２，０００であっ
た。

【００７７】［合成例６］合成例１のγ−メタクリロキ
シプロピルトリメトキシシラン５４ｇを０ｇに、メチル
メタクリレート２１６ｇを２７０ｇに代えた以外は合成
例１と同様に合成して紫外線吸収性有機共重合体溶液を
作製した。

【００７８】得られた共重合体溶液の粘度は３８，００
０ＣＰ、またその共重合体中の紫外線吸収性単量体の含
有量は４．７％、アルコキシル基含有単量体量は０％で
あった。また、標準ポリスチレンを基準とするＧＰＣ分
析により重量平均分子量は９４，０００であった。

【００７９】＜分子内に窒素原子とアルコキシシリル基
を含有する化合物の合成＞［合成例７］撹拌機、コンデンサー及び温度計を備えた
２リットルフラスコにＮ−２−（アミノエチル）−３−
アミノプロピルトリメトキシシラン２２２ｇとシリル化
剤としてのヘキサメチルジシラザン２４２ｇを仕込んで
窒素気流下に１２０℃に加熱し、ここにγ−グリシドキ
シプロピルメチルジエトキシシラン４９６ｇを滴下して
反応させ、１２０℃で５時間加熱撹拌したのち、低沸点
分を減圧下１００℃で除去したところ、粘度１，３８７
ｃＳ、屈折率１．４６１８、比重１．０４８の粘稠な化
合物８６２ｇが得られた。

【００８０】次いで、この反応生成物８６２ｇとトルエ
ン８６２ｇを撹拌機、コンデンサー及び温度計を備えた
２リットルフラスコに仕込み、窒素気流下に室温でここ
に無水酢酸１４１ｇを滴下して反応させ、１１０℃で２
時間加熱撹拌させたのち、５０℃でメタノール１４１ｇ
を滴下し、５０℃で１時間加熱撹拌し、次いで減圧下に
１００℃で低沸分を除去し、高粘稠な化合物を得た。

【００８１】この化合物の赤外吸収スペクトル測定を行
ったところ、３，０００ｃｍ^-1以上の領域にＯＨ基ある
いはＮＨ基に起因する吸収は認められず、１，６５０ｃ
ｍ^-1にアミド基に起因する強い吸収が認められた。

【００８２】＜コロイダルシリカ含有オルガノポリシロ
キサン組成物の合成＞［合成例８］撹拌機、コンデンサー及び温度計を備えた
１リットルフラスコにメチルトリエトキシシラン１６４
ｇ、イソブタノール４６ｇを仕込み、氷冷下に撹拌しな
がら５℃以下に維持し、ここに５℃以下としたコロイダ
ルシリカ（ＳｉＯ₂２０％含有品）１３８ｇを添加して
氷冷下で２時間、更に２０〜２５℃で８時間撹拌したの
ち、ジアセトンアルコールを４５ｇ、イソブタノールを
５０ｇ添加した。次いで１０％プロピオン酸ナトリウム
水溶液を１．５ｇ加え、更に酢酸にてｐＨを６〜７に調
整した。そして、不揮発分（ＪＩＳＫ６８３３）が１
７％となるようにイソブタノールで調整し、常温で５日
間熟成して得られたコロイダルシリカ含有オルガノポリ
シロキサン組成物の粘度は約５ｃｓｔ、不揮発分の数平
均分子量は約１，０００であった。

【００８３】［合成例９］合成例８においてプロピオン
酸ナトリウム水溶液の代わりに、１０％テトラメチルア
ンモニウムベンゾエート水溶液を３．０ｇとした以外は
同様に処理してコロイダルシリカ含有オルガノポリシロ
キサン組成物を得た。

【００８４】［合成例１０］合成例８において更に２，
２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノンを
１．８ｇ（コロイダルシリカ含有オルガノポリシロキサ
ン組成物固形分１００重量部に対して２重量部）添加し
た以外は同様に処理してコロイダルシリカ含有オルガノ
ポリシロキサン組成物を得た。

【００８５】＜シリル化変性光安定剤の合成＞［合成例１１］撹拌機、コンデンサー及び温度計を備え
た０．３リットルフラスコに２，２，６，６−テトラメ
チル−４−アリル−ピペリジン１００ｇ（０．５モ
ル）、塩化白金酸のブタノール溶液（Ｈ₂ＰｔＣｌ₆・６
Ｈ₂Ｏの２重量％溶液）０．１３ｇを仕込み、室温でト
リメトキシシラン８０．６ｇ（０．６６モル）を１時間
かけて滴下し、更に９０℃で５時間反応させた。反応終
了後、減圧下で蒸留を行い、７ｍｍＨｇで１５１〜１５
４℃の溜分１２６ｇを得た。ガスクロマトグラフィー測
定により９７％純度で２，２，６，６−テトラメチルピ
ペリジノ−４−プロピルトリメトキシシランを得た。こ
のものの構造は赤外吸収スペクトル測定、¹Ｈ−ＮＭＲ
測定により確認した。

【００８６】以下に実施例を挙げて本発明を更に詳細に
説明する。なお、実施例及び比較例に用いた紫外線吸収
剤、ヒンダードアミン系光安定剤、有機共重合体等の略
号は以下の通りである。＜アルコキシシリル基含有の紫外線吸収性有機共重合体
＞Ｐｏｌ−１：合成例１の反応生成物Ｐｏｌ−２：合成例２の反応生成物Ｐｏｌ−３：合成例３の反応生成物Ｐｏｌ−４：合成例４の反応生成物Ｐｏｌ−５：合成例５の反応生成物Ｐｏｌ−６：合成例６の反応生成物＜紫外線吸収剤＞ＵＶＡ−１：２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベ
ンゾフェノンＵＶＡ−２：２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒド
ロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾールＵＶＡ−３：２−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキ
シフェニル）−４，６−ジフェニルトリアジンＵＶＡ−４：２−（２’−ヒドロキシ−５’−メタクリ
ロキシエチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール
（３０重量％）とメチルメタクリレート（７０重量％）
の共重合体ＵＶＡ−５：２−（２’−ヒドロキシ−５’−メタクリ
ロキシエチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール
（３０重量％）とスチレン（７０重量％）の共重合体＜ヒンダードアミン系光安定剤＞ＨＡＬＳ−１：Ｎ−アセチル−３−ドデシル−１−
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）
ピロリジン−２，５−ジオンＨＡＬＳ−２：１，２，３，４−ブタンテトラカルボン
酸と２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジノールと
トリデカノールとの縮合物ＨＡＬＳ−３：合成例１１で合成した２，２，６，６−
テトラメチルピペリジノ−４−プロピルトリメトキシシ
ラン＜分子内に窒素原子とアルコキシシリル基を含有する化
合物＞ＮＳｉ−１：ウレイドプロピルトリエトキシランＮＳｉ−２：合成例７の反応生成物＜コロイダルシリカ含有オルガノポリシロキサン組成物
＞ＨＣ−１：合成例８のコロイダルシリカ含有オルガノポ
リシロキサン組成物ＨＣ−２：合成例９のコロイダルシリカ含有オルガノポ
リシロキサン組成物ＨＣ−３：合成例１０のコロイダルシリカ含有オルガノ
ポリシロキサン組成物

【００８７】また、実施例中の各種物性の測定及び評価
は以下の方法で行った。（１）耐候性試験：ＪＩＳＫ５４００に準拠し、カー
ボンアーク式サンシャインウェザーメーターにて５，０
００時間の促進試験を行った。促進試験前後に、ＪＩＳ
Ｋ７１０３に準拠し、黄色度、黄変度及び下記方法に
より密着性を調べた。（２）耐擦傷性試験：ＡＳＴＭ１０４４に準拠し、テー
バー磨耗試験機にて磨耗輪ＣＳ−１０Ｆを装着し、荷重
５００ｇ下で１，０００回転後の曇価を測定した。テー
バー磨耗性（％）は（試験後の曇価）−（試験前の曇
価）で示した。（３）硬化被膜の密着性：ＪＩＳＫ５４００に準拠
し、サンプルをカミソリの刃で１ｍｍ間隔の縦横１１本
ずつ切れ目を入れて１００個の碁盤目を作り、市販のセ
ロハン粘着テープをよく密着させた後、９０度手前方向
に急激に剥がした時、被膜が剥離せずに残存したます目
数（Ｘ）をＸ／１００で表示した。

【００８８】［実施例１〜１２、比較例１〜１０］合成
例１〜６で作製したアルコキシシリル基含有の紫外線吸
収性有機共重合体（Ｐｏｌ−１〜６）、平均分子量１５
万のポリメチルメタクリレート、分子内に窒素原子とア
ルコキシシリル基を含有する化合物（ＮＳｉ−１，
２）、紫外線吸収剤（ＵＶＡ−１〜５）、光安定剤（Ｈ
ＡＬＳ−１〜３）などを混合し、有機共重合体の固形分
が１０％になるようにジアセトンアルコールとエチレン
グリコールモノメチルエーテルの比率を２０／８０とし
た混合溶液にて調整して、下塗り剤組成物Ａ〜Ｖを表１
〜４に示したように調製した。

【００８９】次いで、この下塗り剤組成物を表面を清浄
化した０．５ｍｍポリカーボネート樹脂板に硬化塗膜と
して０．５〜２０μｍになるようにフローコーティング
法にて塗布し、約１２０℃にて約３０分硬化させた後、
その上に合成例８〜１０で得られたコロイダルシリカ含
有オルガノポリシロキサン組成物を塗布し、硬化塗膜と
して０．５〜２０μｍになるようにフローコーティング
法にて塗布し、約１２０℃にて約１時間硬化させた。こ
のようにして得られた塗膜の物性評価結果を表５示し
た。

【００９０】

【表１】

【００９１】

【表２】

【００９２】

【表３】

【００９３】

【表４】

【００９４】

【表５】

【００９５】

【発明の効果】本発明の下塗り剤組成物により被膜を施
されたプラスチック物品、特にポリカーボネート樹脂
は、優れた透明性、耐擦傷性、耐候性、耐薬品性を付与
することが可能なため、車両、飛行機など運送機の窓、
風防、建物の窓、道路の遮音壁等屋外で使用される用途
に好適なものである。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｃ０９Ｄ 7/12 Ｃ０９Ｄ 7/12 Ｚ 143/04 143/04 183/04 183/04 //(Ｃ０８Ｆ 226/06 (Ｃ０８Ｆ 226/06 230:08 230:08 220:34） 220:34） (72)発明者山谷正明群馬県碓氷郡松井田町大字人見１番地10 信越化学工業株式会社シリコーン電子材料技術研究所内 (72)発明者樋口浩一群馬県碓氷郡松井田町大字人見１番地10 信越化学工業株式会社シリコーン電子材料技術研究所内 (72)発明者小森隆史愛知県刈谷市豊田町２丁目１番地株式会社豊田自動織機製作所内 (72)発明者下俊久愛知県刈谷市豊田町２丁目１番地株式会社豊田自動織機製作所内 (72)発明者加藤祥文愛知県刈谷市豊田町２丁目１番地株式会社豊田自動織機製作所内Ｆターム(参考） 4D075 CA02 CA32 DB31 DB48 DC01 DC13 DC18 EA19 EB43 EC03 4F006 AA36 AB24 AB39 AB65 BA02 CA04 DA04 4J038 CC022 CE052 CF022 CG141 CG142 CG162 CG172 CH001 CH002 CH032 CH042 CH072 CL001 CL002 DL031 DL052 DL082 DL111 DL112 DL121 DL122 GA08 GA16 HA446 KA06 KA12 MA09 NA01 NA03 NA04 NA11 PB05 PB06 PB07 PC08 4J100 AB02R AB03R AB04R AB07Q AE02R AE03R AE04R AG02R AG03R AG04R AL03R AL04R AL05R AL08P AL08Q AL08R AL09R AL10R AL62R AL63R AL66R AM02R AM03R AM08R AM17R AM19R AM21R AM24R AP16Q BA03P BA03R BA05R BA06R BA08R BA12R BA15R BA16R BA30R BA31R BA77Q BB01P BB01R BB17R BC04R BC43P BC43R BC65R BC75P BD14P CA05 DA01 JA01

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】（Ａ）ベンゾトリアゾール系紫外線吸収
性ビニル系単量体と、（Ｂ）アルコキシシリル基を含有
するビニル系単量体と、（Ｃ）共重合可能な他の単量体
との有機共重合体であって、共重合組成でアルコキシシ
リル基を含有するビニル系単量体が０．１〜５０重量％
であることを特徴とするアルコキシ基含有有機共重合体
を含有することを特徴とする下塗り剤組成物。
【請求項２】更に分子内に１個以上の環状ヒンダード
アミン構造を有する光安定剤を上記有機共重合体１００
重量部に対して０．１〜１０重量部含有することを特徴
とする請求項１記載の下塗り剤組成物。
【請求項３】（Ｃ）成分として環状ヒンダードアミン
系光安定基を有するアクリル系単量体を０．１〜１０重
量％含有することを特徴とする請求項１記載の下塗り剤
組成物。
【請求項４】更に、一分子内に窒素原子及びアルコキ
シシリル基を含有する化合物を上記有機共重合体１００
重量部に対して０．１〜５０重量部含有することを特徴
とする請求項１乃至３のいずれか１項記載の下塗り剤組
成物。
【請求項５】一分子内に窒素原子及びアルコキシシリ
ル基を含有する化合物が、一分子内に窒素原子を１個以
上及びアルコキシシリル基を２個以上含有することを特
徴とする請求項４記載の下塗り剤組成物。
【請求項６】（ｉ）請求項１乃至５のいずれか１項記
載の下塗り剤組成物の有機溶剤溶液をプラスチック基体
上に塗布し、（ｉｉ）溶剤を蒸発させて被膜を硬化さ
せ、（ｉｉｉ）次いで、この被膜上に下記一般式（１）Ｒ⁴ _mＳｉ（ＯＲ⁵）_4-m （１）（式中、Ｒ⁴は炭素原子数１〜１０のアルキル基、アリ
ール基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アリール
基、アルケニル基、又はエポキシ基、（メタ）アクリロ
オキシ基、メルカプト基、アミノ基もしくはシアノ基を
有する有機基を表し、Ｒ⁵は水素原子、又は炭素原子数
１〜１０の有機基であり、ｍは０，１又は２である。）
で示されるオルガノオキシシランの加水分解物又は共加
水分解物を含むオルガノポリシロキサン組成物を塗布
し、（ｉｖ）加熱することによりこの塗布膜を硬化させ
ることを特徴とするプラスチック基体を耐候性、耐磨耗
性の被膜で被覆する方法。
【請求項７】オルガノポリシロキサン組成物が、コロ
イダルシリカを添加してなるコロイダルシリカ含有オル
ガノポリシロキサン組成物である請求項６記載のプラス
チック基体を耐候性、耐磨耗性被膜で被覆する方法。
【請求項８】プラスチック基体がポリカーボネート樹
脂である請求項６又は７記載のプラスチック基体を耐候
性、耐磨耗性被膜で被覆する方法。
【請求項９】ポリカーボネート樹脂が透明である請求
項８記載の耐候性、耐磨耗性被膜で被覆する方法。