JP2001199989A - 白金−ビニルシロキサン錯体の製造方法 - Google Patents
白金−ビニルシロキサン錯体の製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ヒドロシリル化に対する高い反応性と優れた
保存安定性を有する白金−ビニルシロキサン錯体を、よ
り少ないビニルシロキサンの使用量において、高収率で
製造する方法を提供する。 【解決手段】 モル比が10／１〜１／５の範囲内である
1,3−ジビニルテトラメチルジシロキサン／1,3,5,7−テ
トラビニル−1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロ
キサン混合物と、白金１原子あたりの該シロキサン混合
物のビニル基の比率が５〜50当量となるような量のハロ
ゲン化白金を、塩基性化合物の存在下で反応させる。
保存安定性を有する白金−ビニルシロキサン錯体を、よ
り少ないビニルシロキサンの使用量において、高収率で
製造する方法を提供する。 【解決手段】 モル比が10／１〜１／５の範囲内である
1,3−ジビニルテトラメチルジシロキサン／1,3,5,7−テ
トラビニル−1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロ
キサン混合物と、白金１原子あたりの該シロキサン混合
物のビニル基の比率が５〜50当量となるような量のハロ
ゲン化白金を、塩基性化合物の存在下で反応させる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、白金−ビニルシロ
キサン錯体の製造方法に関する。さらに詳しくは、1,3
−ジビニルテトラメチルジシロキサン／1,3,5,7−テト
ラビニル−1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキ
サン混合物とハロゲン化白金を反応させ、白金−ビニル
シロキサン錯体を製造する方法に関する。
キサン錯体の製造方法に関する。さらに詳しくは、1,3
−ジビニルテトラメチルジシロキサン／1,3,5,7−テト
ラビニル−1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキ
サン混合物とハロゲン化白金を反応させ、白金−ビニル
シロキサン錯体を製造する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】白金(O)に1,3−ジビニルテトラメチルジ
シロキサンまたは1,3,5,7−テトラビニル−1,3,5,7−テ
トラメチルシクロテトラシロキサンが配位してなる白金
−ビニルシロキサン錯体は、水素化ケイ素基含有化合物
がオレフィン化合物へと付加をする“ヒドロシリル化”
に対する反応性の他、保存安定性およびシリコーンとの
相溶性などの点で優れているため、シリコーン工業にお
いてヒドロシリル化用触媒として、広く使用されてい
る。
シロキサンまたは1,3,5,7−テトラビニル−1,3,5,7−テ
トラメチルシクロテトラシロキサンが配位してなる白金
−ビニルシロキサン錯体は、水素化ケイ素基含有化合物
がオレフィン化合物へと付加をする“ヒドロシリル化”
に対する反応性の他、保存安定性およびシリコーンとの
相溶性などの点で優れているため、シリコーン工業にお
いてヒドロシリル化用触媒として、広く使用されてい
る。
【０００３】この白金−ビニルシロキサン錯体の製造方
法として、Willingの米国特許3,419,593号には塩化白金
酸とビニルシロキサンを反応させ、次いで得られた反応
物から酸性度（含有塩素分）を除去するために水で洗浄
する方法が、またKarstedtの米国特許3,715,334号には
ハロゲン化白金とビニルシロキサンをNaHCO3などの塩基
の存在下で反応させ、副生する無機ハロゲン化物を除去
する方法が記載されている。さらにまた、Ashbyの米国
特許4,288,345号には白金−ビニルシロキサン錯体の反
応性を向上させるために、Pt(COD)2錯体のようなハロゲ
ン非含有錯体とビニルシロキサンの反応による方法、な
らびに上記のKarstedtの製法で得られた白金−ビニルシ
ロキサン錯体をHPLC（高速液体クロマトグラフィー）に
より精製する方法が記載されている。特に、これらの白
金−ビニルシロキサン錯体の製造方法の中で、製造操作
が容易なこと、原料や製造コストが低いこと、さらには
品質が安定しているなどの点から、炭酸水素ナトリウム
のような塩基性化合物の存在下で、塩化白金酸のような
ハロゲン化白金とビニルシロキサンを反応させるという
方法が最も汎用的に用いられている。
法として、Willingの米国特許3,419,593号には塩化白金
酸とビニルシロキサンを反応させ、次いで得られた反応
物から酸性度（含有塩素分）を除去するために水で洗浄
する方法が、またKarstedtの米国特許3,715,334号には
ハロゲン化白金とビニルシロキサンをNaHCO3などの塩基
の存在下で反応させ、副生する無機ハロゲン化物を除去
する方法が記載されている。さらにまた、Ashbyの米国
特許4,288,345号には白金−ビニルシロキサン錯体の反
応性を向上させるために、Pt(COD)2錯体のようなハロゲ
ン非含有錯体とビニルシロキサンの反応による方法、な
らびに上記のKarstedtの製法で得られた白金−ビニルシ
ロキサン錯体をHPLC（高速液体クロマトグラフィー）に
より精製する方法が記載されている。特に、これらの白
金−ビニルシロキサン錯体の製造方法の中で、製造操作
が容易なこと、原料や製造コストが低いこと、さらには
品質が安定しているなどの点から、炭酸水素ナトリウム
のような塩基性化合物の存在下で、塩化白金酸のような
ハロゲン化白金とビニルシロキサンを反応させるという
方法が最も汎用的に用いられている。
【０００４】特に、この製造方法によって製造される白
金−ビニルシロキサン錯体としては、1,3−ジビニルテ
トラメチルジシロキサン（以下、Mvi 2と略す）が配位し
た白金−Mvi 2錯体、および1,3,5,7−テトラビニル−1,
3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン（以下、D
vi 4と略す）が配位した白金−Dvi 4錯体が代表的であ
り、ヒドロシリル化用触媒として広範に使用されてい
る。
金−ビニルシロキサン錯体としては、1,3−ジビニルテ
トラメチルジシロキサン（以下、Mvi 2と略す）が配位し
た白金−Mvi 2錯体、および1,3,5,7−テトラビニル−1,
3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン（以下、D
vi 4と略す）が配位した白金−Dvi 4錯体が代表的であ
り、ヒドロシリル化用触媒として広範に使用されてい
る。
【０００５】そして、このような白金−ビニルシロキサ
ン錯体においては、ヒドロシリル化に対して高い反応性
を保持するために、その錯体を含有する溶液中の余剰ビ
ニルシロキサン量を低減する必要がある。そのため、錯
体製造時にビニルシロキサンを過剰量使用して、錯体形
成後に減圧蒸留によって留去する方法、および錯体製造
時のビニルシロキサンの使用量を少なくする方法があ
る。しかし、前者では減圧蒸留の際の熱履歴により、反
応性が大きく低下したり、ばらつくという問題があり、
一方、後者では錯体の収率が低く、コスト的に不利にな
るという問題があった。
ン錯体においては、ヒドロシリル化に対して高い反応性
を保持するために、その錯体を含有する溶液中の余剰ビ
ニルシロキサン量を低減する必要がある。そのため、錯
体製造時にビニルシロキサンを過剰量使用して、錯体形
成後に減圧蒸留によって留去する方法、および錯体製造
時のビニルシロキサンの使用量を少なくする方法があ
る。しかし、前者では減圧蒸留の際の熱履歴により、反
応性が大きく低下したり、ばらつくという問題があり、
一方、後者では錯体の収率が低く、コスト的に不利にな
るという問題があった。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
従来の技術の欠点に鑑み、ヒドロシリル化に対する高い
反応性と優れた保存安定性を有する白金−ビニルシロキ
サン錯体を、より少ないビニルシロキサンの使用量にお
いて、高収率で製造する方法を提供することを課題とす
る。
従来の技術の欠点に鑑み、ヒドロシリル化に対する高い
反応性と優れた保存安定性を有する白金−ビニルシロキ
サン錯体を、より少ないビニルシロキサンの使用量にお
いて、高収率で製造する方法を提供することを課題とす
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、かかる課
題を達成するために鋭意検討した結果、原料ビニルシロ
キサンとして、特定比率のMvi 2とDvi 4の混合物を使用す
ることによって、より少ないビニルシロキサンの使用量
においても白金−ビニルシロキサン錯体が高収率で得ら
れ、またその錯体はヒドロシリル化に対する高い反応性
と優れた保存安定性を有することを見出し、本発明に至
った。
題を達成するために鋭意検討した結果、原料ビニルシロ
キサンとして、特定比率のMvi 2とDvi 4の混合物を使用す
ることによって、より少ないビニルシロキサンの使用量
においても白金−ビニルシロキサン錯体が高収率で得ら
れ、またその錯体はヒドロシリル化に対する高い反応性
と優れた保存安定性を有することを見出し、本発明に至
った。
【０００８】すなわち本発明は、モル比が10／１〜１／
５の範囲内である1,3−ジビニルテトラメチルジシロキ
サン(Mvi 2)／1,3,5,7−テトラビニル−1,3,5,7−テトラ
メチルシクロテトラシロキサン(Dvi 4)混合物と、白金１
原子あたりの該シロキサン混合物のビニル基の比率が５
〜50当量となるような量のハロゲン化白金を、塩基性化
合物の存在下で反応させることを特徴とする白金−ビニ
ルシロキサン錯体の製造方法に関する。
５の範囲内である1,3−ジビニルテトラメチルジシロキ
サン(Mvi 2)／1,3,5,7−テトラビニル−1,3,5,7−テトラ
メチルシクロテトラシロキサン(Dvi 4)混合物と、白金１
原子あたりの該シロキサン混合物のビニル基の比率が５
〜50当量となるような量のハロゲン化白金を、塩基性化
合物の存在下で反応させることを特徴とする白金−ビニ
ルシロキサン錯体の製造方法に関する。
【０００９】
【発明の実施の形態】本発明に使用される1,3−ジビニ
ルテトラメチルジシロキサン（Mvi 2）と1,3,5,7−テト
ラビニル−1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキ
サン（Dvi 2）の混合物は、Mvi 2／Dvi 4＝10／１〜１／５
のモル比で混合したものである。Mvi 2／Dvi 4＝10／１
（モル比）よりも高く、Mvi 2がより過剰となった場合に
は、収率は高く、また反応性は高いが、保存安定性に劣
る白金−ビニルシロキサン錯体しか得られない。一方、
Mvi 2／Dvi 4＝１／５（モル比）よりも低く、Dvi 4がより
過剰となった場合には、保存安定性には優れるが、反応
性が低い白金−ビニルシロキサン錯体しか得られず、し
かも収率も低い。
ルテトラメチルジシロキサン（Mvi 2）と1,3,5,7−テト
ラビニル−1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキ
サン（Dvi 2）の混合物は、Mvi 2／Dvi 4＝10／１〜１／５
のモル比で混合したものである。Mvi 2／Dvi 4＝10／１
（モル比）よりも高く、Mvi 2がより過剰となった場合に
は、収率は高く、また反応性は高いが、保存安定性に劣
る白金−ビニルシロキサン錯体しか得られない。一方、
Mvi 2／Dvi 4＝１／５（モル比）よりも低く、Dvi 4がより
過剰となった場合には、保存安定性には優れるが、反応
性が低い白金−ビニルシロキサン錯体しか得られず、し
かも収率も低い。
【００１０】また、本発明で使用されるハロゲン化白金
としては、例えば、塩化白金酸（H2PtCl6・nH2O）、な
らびにNaHPtCl6・nH2O、KHPtCl6・nH2O、Na2PtCl6・nH2
O、K2PtCl6・nH2Oなどの塩化白金酸の金属塩；塩化第一
白金（PtCl2）、ならびにNa2PtCl4・nH2O、H2PtCl4・nH
2O、NaHPtCl4・nH2O、KHPtCl4・nH2O、K2PtBr4などの第
一白金型のハロゲン化物；塩化第二白金（PtCl4・nH
2O）；[PtCl2(C2H4)]2、PtCl2(C8H12)などのハロゲン原
子を有する有機金属錯体が例示でき、これらのうち一種
類を単独あるいは二種類以上を混合して使用することが
できる（なお、上記式中、nは１〜６の整数を示す）。
そして、これらのハロゲン化白金の中で、市場での入手
の容易さ、価格の低さおよび目的とする錯体の形成の容
易さの点から、特に、六水和物形態の塩化白金酸（H2Pt
Cl6・nH2O）が最も好ましい。
としては、例えば、塩化白金酸（H2PtCl6・nH2O）、な
らびにNaHPtCl6・nH2O、KHPtCl6・nH2O、Na2PtCl6・nH2
O、K2PtCl6・nH2Oなどの塩化白金酸の金属塩；塩化第一
白金（PtCl2）、ならびにNa2PtCl4・nH2O、H2PtCl4・nH
2O、NaHPtCl4・nH2O、KHPtCl4・nH2O、K2PtBr4などの第
一白金型のハロゲン化物；塩化第二白金（PtCl4・nH
2O）；[PtCl2(C2H4)]2、PtCl2(C8H12)などのハロゲン原
子を有する有機金属錯体が例示でき、これらのうち一種
類を単独あるいは二種類以上を混合して使用することが
できる（なお、上記式中、nは１〜６の整数を示す）。
そして、これらのハロゲン化白金の中で、市場での入手
の容易さ、価格の低さおよび目的とする錯体の形成の容
易さの点から、特に、六水和物形態の塩化白金酸（H2Pt
Cl6・nH2O）が最も好ましい。
【００１１】このようなハロゲン化白金の使用量は、1,
3−ジビニルテトラメチルジシロキサン（Mvi 2）／1,3,
5,7−テトラビニル−1,3,5,7−テトラメチルシクロテト
ラシロキサン（Dvi 2）混合物のビニル基の比率が、白金
１原子あたりビニル基５〜50当量となる範囲内である。
ビニル基量が５当量未満の場合には、反応性は高いが、
保存安定性には劣るという白金−ビニルシロキサン錯体
しか得られず、しかも収率も低い。一方、ビニル基量が
50当量を超える場合には、収率は高く、また保存安定性
には優れるが、反応性が低い白金−ビニルシロキサン錯
体しか得られるない。
3−ジビニルテトラメチルジシロキサン（Mvi 2）／1,3,
5,7−テトラビニル−1,3,5,7−テトラメチルシクロテト
ラシロキサン（Dvi 2）混合物のビニル基の比率が、白金
１原子あたりビニル基５〜50当量となる範囲内である。
ビニル基量が５当量未満の場合には、反応性は高いが、
保存安定性には劣るという白金−ビニルシロキサン錯体
しか得られず、しかも収率も低い。一方、ビニル基量が
50当量を超える場合には、収率は高く、また保存安定性
には優れるが、反応性が低い白金−ビニルシロキサン錯
体しか得られるない。
【００１２】さらに、本発明で使用される塩基性化合物
としては、水酸化ナトリウムおよび水酸化カリウムなど
のアルカリ金属水酸化物；炭酸ナトリウムおよび炭酸カ
リウムなどのアルカリ金属炭酸塩；炭酸水素ナトリウム
および炭酸水素カリウムなどのアルカリ金属重炭酸塩；
炭酸マグネシウムおよび炭酸カルシウムなどのアルカリ
土類金属炭酸塩；炭酸水素マグネシウムおよび炭酸水素
カルシウムなどのアルカリ土類金属重炭酸塩などが例示
でき、これらのうち一種類を単独あるいは二種類以上を
混合して使用することができる。そして、これらの塩基
性化合物の中でも、目的の錯体の形成時において無機ハ
ロゲンの除去が確実に行えるという点から、アルカリ金
属重炭酸塩が好ましく、特に炭酸水素ナトリウムが最も
好ましい。
としては、水酸化ナトリウムおよび水酸化カリウムなど
のアルカリ金属水酸化物；炭酸ナトリウムおよび炭酸カ
リウムなどのアルカリ金属炭酸塩；炭酸水素ナトリウム
および炭酸水素カリウムなどのアルカリ金属重炭酸塩；
炭酸マグネシウムおよび炭酸カルシウムなどのアルカリ
土類金属炭酸塩；炭酸水素マグネシウムおよび炭酸水素
カルシウムなどのアルカリ土類金属重炭酸塩などが例示
でき、これらのうち一種類を単独あるいは二種類以上を
混合して使用することができる。そして、これらの塩基
性化合物の中でも、目的の錯体の形成時において無機ハ
ロゲンの除去が確実に行えるという点から、アルカリ金
属重炭酸塩が好ましく、特に炭酸水素ナトリウムが最も
好ましい。
【００１３】このような塩基性化合物の使用量は除去す
べき無機ハロゲンの全量を中和するための必要量〜過剰
量である必要があり、例えば、塩化白金酸（H2PtCl6・6
H2O）と炭酸水素ナトリウムの組合せでは、塩化白金酸
（H2PtCl6・6H2O）1molに対して炭酸水素ナトリウムは
６〜20mol程度の範囲で使用される。炭酸水素ナトリウ
ムの使用量が必要量に満たない場合には、錯体形成反応
が不完全であり、一方、極度に過剰量使用した場合には
錯体と余剰の炭酸水素ナトリウムとの濾別が不十分とな
り、錯体の収率が低下する。
べき無機ハロゲンの全量を中和するための必要量〜過剰
量である必要があり、例えば、塩化白金酸（H2PtCl6・6
H2O）と炭酸水素ナトリウムの組合せでは、塩化白金酸
（H2PtCl6・6H2O）1molに対して炭酸水素ナトリウムは
６〜20mol程度の範囲で使用される。炭酸水素ナトリウ
ムの使用量が必要量に満たない場合には、錯体形成反応
が不完全であり、一方、極度に過剰量使用した場合には
錯体と余剰の炭酸水素ナトリウムとの濾別が不十分とな
り、錯体の収率が低下する。
【００１４】また、本発明においては白金−ビニルシロ
キサン錯体の形成をより効率的に行うために、有機溶剤
を使用することもできる。このような有機溶剤として
は、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソ
プロパノールなどの線状もしくは分岐状脂肪族アルコー
ル類；ヘキサン、ヘプタン、オクタンなどの脂肪族炭化
水素溶剤；ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族
炭化水素溶剤；アセトニトリル、アセトン、テトラヒド
ロフランなどの非プロトン性極性溶剤；オクタメチルト
リシロキサン、デカメチルテトラシロキサン、オクタメ
チルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタ
シロキサンなどの鎖状もしくは環状のシロキサン系溶剤
が例示され、これらのうち一種類を単独あるいは二種類
以上を混合して使用することができる。そしてこれらの
中でも、塩化白金酸の溶解性の点から、線状もしくは分
岐状脂肪族アルコール類が好ましく、特にエタノールが
好ましい。
キサン錯体の形成をより効率的に行うために、有機溶剤
を使用することもできる。このような有機溶剤として
は、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソ
プロパノールなどの線状もしくは分岐状脂肪族アルコー
ル類；ヘキサン、ヘプタン、オクタンなどの脂肪族炭化
水素溶剤；ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族
炭化水素溶剤；アセトニトリル、アセトン、テトラヒド
ロフランなどの非プロトン性極性溶剤；オクタメチルト
リシロキサン、デカメチルテトラシロキサン、オクタメ
チルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタ
シロキサンなどの鎖状もしくは環状のシロキサン系溶剤
が例示され、これらのうち一種類を単独あるいは二種類
以上を混合して使用することができる。そしてこれらの
中でも、塩化白金酸の溶解性の点から、線状もしくは分
岐状脂肪族アルコール類が好ましく、特にエタノールが
好ましい。
【００１５】本発明の白金−ビニルシロキサン錯体の製
造方法における代表的な操作方法は以下の通りである。
すなわち、塩化白金酸をエタノールに溶解したのち、1,
3−ジビニルテトラメチルジシロキサン（Mvi 2）／1,3,
5,7−テトラビニル−1,3,5,7−テトラメチルシクロテト
ラシロキサン（Dvi 2）混合物を加える。次いで、この混
合物中へ炭酸水素ナトリウムを添加し、規定条件で加熱
攪拌を行ったのち、冷却して濾過により無機塩を除去す
る。そして、減圧下で濾液から低分子物を除去したの
ち、必要に応じて再度濾過を行い、目的とする白金−ビ
ニルシロキサン錯体を含有する溶液を得る。なお、この
加熱攪拌条件としては、加熱温度が20〜100℃、より好
ましくは40〜80℃の範囲であり、また加熱攪拌時間は0.
5〜８時間、より好ましくは１〜５時間の範囲である。
加熱温度および加熱攪拌時間がこれらの下限値未満の場
合には錯体の形成反応が不十分であるために収率が低
く、また、これらの上限値を超える場合には錯体の分解
や反応性阻害物質の副生が起こるために、反応性、保存
安定性および収率が低下する可能性が高まるので、好ま
しくない。
造方法における代表的な操作方法は以下の通りである。
すなわち、塩化白金酸をエタノールに溶解したのち、1,
3−ジビニルテトラメチルジシロキサン（Mvi 2）／1,3,
5,7−テトラビニル−1,3,5,7−テトラメチルシクロテト
ラシロキサン（Dvi 2）混合物を加える。次いで、この混
合物中へ炭酸水素ナトリウムを添加し、規定条件で加熱
攪拌を行ったのち、冷却して濾過により無機塩を除去す
る。そして、減圧下で濾液から低分子物を除去したの
ち、必要に応じて再度濾過を行い、目的とする白金−ビ
ニルシロキサン錯体を含有する溶液を得る。なお、この
加熱攪拌条件としては、加熱温度が20〜100℃、より好
ましくは40〜80℃の範囲であり、また加熱攪拌時間は0.
5〜８時間、より好ましくは１〜５時間の範囲である。
加熱温度および加熱攪拌時間がこれらの下限値未満の場
合には錯体の形成反応が不十分であるために収率が低
く、また、これらの上限値を超える場合には錯体の分解
や反応性阻害物質の副生が起こるために、反応性、保存
安定性および収率が低下する可能性が高まるので、好ま
しくない。
【００１６】また、得られた白金−ビニルシロキサン錯
体を使用する上で各種溶剤により希釈することは何ら制
限されるものではなく、そのような溶剤としては錯体に
対して不活性なものであり、例えば、ヘキサン、ヘプタ
ン、オクタンなどの脂肪族炭化水素溶剤；ベンゼン、ト
ルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素溶剤；オクタメ
チルトリシロキサン、デカメチルテトラシロキサン、オ
クタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロ
ペンタシロキサンなどの鎖状もしくは環状のシロキサン
系溶剤が例示される。
体を使用する上で各種溶剤により希釈することは何ら制
限されるものではなく、そのような溶剤としては錯体に
対して不活性なものであり、例えば、ヘキサン、ヘプタ
ン、オクタンなどの脂肪族炭化水素溶剤；ベンゼン、ト
ルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素溶剤；オクタメ
チルトリシロキサン、デカメチルテトラシロキサン、オ
クタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロ
ペンタシロキサンなどの鎖状もしくは環状のシロキサン
系溶剤が例示される。
【００１７】
【発明の効果】本発明の製造方法によれば、ヒドロシリ
ル化に対する高い反応性と優れた保存安定性を有する白
金−ビニルシロキサン錯体を、より少ないビニルシロキ
サンの使用量において、高収率で製造することができ
る。
ル化に対する高い反応性と優れた保存安定性を有する白
金−ビニルシロキサン錯体を、より少ないビニルシロキ
サンの使用量において、高収率で製造することができ
る。
【００１８】
【実施例】以下に実施例および比較例により、本発明を
具体的に説明する。なお、実施例中の部および％は特に
断らない限り、重量部および重量％である。また、白金
−ビニルシロキサン錯体の反応性および保存安定性の評
価は以下の方法に基づいて実施した。 ［反応性評価方法］α，ω−ビス（ジメチルビニル）ポ
リジメチルシロキサン（粘度；約500[cP]、重合度；約2
00）98部、α，ω−ビス（トリメチル）ポリハイドロジ
ェンメチルシロキサン（粘度；約25[cP]、重合度；約5
0）1.85部および２−メチル−３−ブチン−２−オール
0.15部からなる反応性評価用組成物を調製する。一方、
白金−ビニルシロキサン錯体をα，ω−ビス（ジメチル
ビニル）ポリジメチルシロキサン（粘度；約500[cP]、
重合度；約200）で希釈し、白金含量2000ppmの白金マス
ターバッチを調製する。そして、反応性評価用組成物10
0部に対して、白金マスターバッチ１部を添加し、１分
間軟膏ヘラを用いて手攪拌を行った後、80℃に設定した
キュラストメーター（日合商事（株）製JSRキュラスト
メーターIII型）を用いて硬化性を追跡し、得られたＴ5
0値（最大トルクの50％に至るまでの経過時間）を反応
性の指標として記録する。 [保存安定性]以下の実施例および比較例で得られた白金
−ビニルシロキサン錯体溶液をガラス瓶に入れて密閉
し、40℃に設定した乾燥機内で一定期間保管する。そし
て、外観評価と上記方法に基づいた反応性評価を行い、
初期と同等である場合をその期間内で変化がなく、安定
であると判断した。 実施例１ 温度計、攪拌機、還流冷却器を備えたフラスコに、塩化
白金酸10.36g(20.0mmol)を入れた後、フラスコ内を窒素
雰囲気とした。次いで、室温下、エタノール51.8gを加
えて攪拌を開始し、塩化白金酸を溶解したのち、1,3−
ジビニルテトラメチルジシロキサン14.91g(80.0mmol)お
よび1,3,5,7−テトラビニル−1,3,5,7−テトラメチルシ
クロテトラシロキサン27.58ｇ(80.0mmol)を加え、続い
て炭酸水素ナトリウム16.81g（200.0mmol）を10分かけ
て添加して、70℃へ昇温した。そして70℃で３時間、次
いで室温で６時間の攪拌を行った。次に、この反応混合
物を濾過して固体を除去した後、濾液にオクタメチルシ
クロテトラシロキサン45.0gを添加し、35℃／2mmHgの条
件で低留分を除去した。そして、析出した固体を再濾過
によって除去し、目的とする白金−ビニルシロキサン錯
体溶液75.3gを得た。この錯体溶液の白金含量は4.85％
であり、使用した塩化白金酸に基づいた白金収率は93.6
％であった。また、この錯体溶液について、キュラスト
メーターを使用して反応性評価を行ったところ、Ｔ50値
は110secであり、さらに保存安定性の評価の結果、40℃
で６ヶ月間、外観および反応性の点で全く変化がないこ
とが確認できた。 実施例２〜６、比較例１〜５ 実施例１において、1,3−ジビニルテトラメチルジシロ
キサンおよび1,3,5,7−テトラビニル−1,3,5,7−テトラ
メチルシクロテトラシロキサンの使用量を変更した以外
は実施例１と同様にして、白金−ビニルシロキサン錯体
溶液の調製を行った。各原料の使用量および得られた結
果を、表１にまとめて示す。
具体的に説明する。なお、実施例中の部および％は特に
断らない限り、重量部および重量％である。また、白金
−ビニルシロキサン錯体の反応性および保存安定性の評
価は以下の方法に基づいて実施した。 ［反応性評価方法］α，ω−ビス（ジメチルビニル）ポ
リジメチルシロキサン（粘度；約500[cP]、重合度；約2
00）98部、α，ω−ビス（トリメチル）ポリハイドロジ
ェンメチルシロキサン（粘度；約25[cP]、重合度；約5
0）1.85部および２−メチル−３−ブチン−２−オール
0.15部からなる反応性評価用組成物を調製する。一方、
白金−ビニルシロキサン錯体をα，ω−ビス（ジメチル
ビニル）ポリジメチルシロキサン（粘度；約500[cP]、
重合度；約200）で希釈し、白金含量2000ppmの白金マス
ターバッチを調製する。そして、反応性評価用組成物10
0部に対して、白金マスターバッチ１部を添加し、１分
間軟膏ヘラを用いて手攪拌を行った後、80℃に設定した
キュラストメーター（日合商事（株）製JSRキュラスト
メーターIII型）を用いて硬化性を追跡し、得られたＴ5
0値（最大トルクの50％に至るまでの経過時間）を反応
性の指標として記録する。 [保存安定性]以下の実施例および比較例で得られた白金
−ビニルシロキサン錯体溶液をガラス瓶に入れて密閉
し、40℃に設定した乾燥機内で一定期間保管する。そし
て、外観評価と上記方法に基づいた反応性評価を行い、
初期と同等である場合をその期間内で変化がなく、安定
であると判断した。 実施例１ 温度計、攪拌機、還流冷却器を備えたフラスコに、塩化
白金酸10.36g(20.0mmol)を入れた後、フラスコ内を窒素
雰囲気とした。次いで、室温下、エタノール51.8gを加
えて攪拌を開始し、塩化白金酸を溶解したのち、1,3−
ジビニルテトラメチルジシロキサン14.91g(80.0mmol)お
よび1,3,5,7−テトラビニル−1,3,5,7−テトラメチルシ
クロテトラシロキサン27.58ｇ(80.0mmol)を加え、続い
て炭酸水素ナトリウム16.81g（200.0mmol）を10分かけ
て添加して、70℃へ昇温した。そして70℃で３時間、次
いで室温で６時間の攪拌を行った。次に、この反応混合
物を濾過して固体を除去した後、濾液にオクタメチルシ
クロテトラシロキサン45.0gを添加し、35℃／2mmHgの条
件で低留分を除去した。そして、析出した固体を再濾過
によって除去し、目的とする白金−ビニルシロキサン錯
体溶液75.3gを得た。この錯体溶液の白金含量は4.85％
であり、使用した塩化白金酸に基づいた白金収率は93.6
％であった。また、この錯体溶液について、キュラスト
メーターを使用して反応性評価を行ったところ、Ｔ50値
は110secであり、さらに保存安定性の評価の結果、40℃
で６ヶ月間、外観および反応性の点で全く変化がないこ
とが確認できた。 実施例２〜６、比較例１〜５ 実施例１において、1,3−ジビニルテトラメチルジシロ
キサンおよび1,3,5,7−テトラビニル−1,3,5,7−テトラ
メチルシクロテトラシロキサンの使用量を変更した以外
は実施例１と同様にして、白金−ビニルシロキサン錯体
溶液の調製を行った。各原料の使用量および得られた結
果を、表１にまとめて示す。
【００１９】表１に示した結果から明らかなように、実
施例１〜６は、本発明の範囲内で製造した白金−ビニル
シロキサン錯体の例であり、高収率で、反応性や保存安
定性に優れた錯体溶液が得られている。
施例１〜６は、本発明の範囲内で製造した白金−ビニル
シロキサン錯体の例であり、高収率で、反応性や保存安
定性に優れた錯体溶液が得られている。
【００２０】これに対し、表１から明らかなように、比
較例１および２は塩化白金酸と1,3−ジビニルテトラメ
チルジシロキサン／1,3,5,7−テトラビニル−1,3,5,7−
テトラメチルシクロテトラシロキサン混合物のビニル基
の比率が、白金１原子あたりビニル基５〜50当量の範囲
外の例であり、比較例１は反応性に劣り、比較例２は錯
体の収率（白金収率）と保存安定性に劣る。
較例１および２は塩化白金酸と1,3−ジビニルテトラメ
チルジシロキサン／1,3,5,7−テトラビニル−1,3,5,7−
テトラメチルシクロテトラシロキサン混合物のビニル基
の比率が、白金１原子あたりビニル基５〜50当量の範囲
外の例であり、比較例１は反応性に劣り、比較例２は錯
体の収率（白金収率）と保存安定性に劣る。
【００２１】一方、比較例３および４は1,3,5,7−テト
ラビニル−1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキ
サンを単独使用した例であり、白金１原子当たりビニル
基24当量にて使用した比較例３は収率および反応性が低
く、一方、白金１原子あたりビニル基48当量にて使用し
た比較例４は収率はある程度、改善されているものの、
反応性が大きく劣る。
ラビニル−1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキ
サンを単独使用した例であり、白金１原子当たりビニル
基24当量にて使用した比較例３は収率および反応性が低
く、一方、白金１原子あたりビニル基48当量にて使用し
た比較例４は収率はある程度、改善されているものの、
反応性が大きく劣る。
【００２２】さらに、比較例５は1,3−ジビニルテトラ
メチルシロキサンを白金１原子あたりビニル基24当量に
て使用した例であり、錯体の収率は十分でなく、また保
存安定性に劣る。
メチルシロキサンを白金１原子あたりビニル基24当量に
て使用した例であり、錯体の収率は十分でなく、また保
存安定性に劣る。
【００２３】
【表１】
Claims (3)
- 【請求項１】 モル比が10／１〜１／５の範囲内である
1,3−ジビニルテトラメチルジシロキサン／1,3,5,7−テ
トラビニル−1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロ
キサン混合物と、白金１原子あたりの該シロキサン混合
物のビニル基の比率が５〜50当量となるような量のハロ
ゲン化白金を、塩基性化合物の存在下で反応させること
を特徴とする白金−ビニルシロキサン錯体の製造方法。 - 【請求項２】 ハロゲン化白金が塩化白金酸であること
を特徴とする請求項１記載の製造方法。 - 【請求項３】 塩基性化合物がアルカリ金属重炭酸塩で
あることを特徴とする請求項１記載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000005330A JP2001199989A (ja) | 2000-01-14 | 2000-01-14 | 白金−ビニルシロキサン錯体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000005330A JP2001199989A (ja) | 2000-01-14 | 2000-01-14 | 白金−ビニルシロキサン錯体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001199989A true JP2001199989A (ja) | 2001-07-24 |
Family
ID=18534009
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000005330A Withdrawn JP2001199989A (ja) | 2000-01-14 | 2000-01-14 | 白金−ビニルシロキサン錯体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001199989A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2011162294A1 (ja) * | 2010-06-24 | 2011-12-29 | 積水化学工業株式会社 | 光半導体装置用封止剤及びそれを用いた光半導体装置 |
| JP2012222202A (ja) * | 2011-04-11 | 2012-11-12 | Sekisui Chem Co Ltd | 光半導体装置用ダイボンド材及びそれを用いた光半導体装置 |
| CN102876249A (zh) * | 2012-08-31 | 2013-01-16 | 江苏创基新材料有限公司 | 可剥离型有机硅压敏胶粘剂的制备方法 |
-
2000
- 2000-01-14 JP JP2000005330A patent/JP2001199989A/ja not_active Withdrawn
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2011162294A1 (ja) * | 2010-06-24 | 2011-12-29 | 積水化学工業株式会社 | 光半導体装置用封止剤及びそれを用いた光半導体装置 |
| JP4911805B2 (ja) * | 2010-06-24 | 2012-04-04 | 積水化学工業株式会社 | 光半導体装置用封止剤及びそれを用いた光半導体装置 |
| JP2012067318A (ja) * | 2010-06-24 | 2012-04-05 | Sekisui Chem Co Ltd | 光半導体装置用封止剤及びそれを用いた光半導体装置 |
| KR101274418B1 (ko) | 2010-06-24 | 2013-06-17 | 세키스이가가쿠 고교가부시키가이샤 | 광 반도체 장치용 밀봉제 및 이를 이용한 광 반도체 장치 |
| US8519429B2 (en) | 2010-06-24 | 2013-08-27 | Sekisui Chemical Co., Ltd. | Encapsulant for optical semiconductor device and optical semiconductor device using same |
| JP2012222202A (ja) * | 2011-04-11 | 2012-11-12 | Sekisui Chem Co Ltd | 光半導体装置用ダイボンド材及びそれを用いた光半導体装置 |
| CN102876249A (zh) * | 2012-08-31 | 2013-01-16 | 江苏创基新材料有限公司 | 可剥离型有机硅压敏胶粘剂的制备方法 |
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|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
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