JP2001199973A - ボイラ給水および反応器の孔食防止方法 - Google Patents
ボイラ給水および反応器の孔食防止方法Info
- Publication number
- JP2001199973A JP2001199973A JP2000006289A JP2000006289A JP2001199973A JP 2001199973 A JP2001199973 A JP 2001199973A JP 2000006289 A JP2000006289 A JP 2000006289A JP 2000006289 A JP2000006289 A JP 2000006289A JP 2001199973 A JP2001199973 A JP 2001199973A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- boiler
- water supply
- pitting corrosion
- boiler water
- shell
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Preventing Corrosion Or Incrustation Of Metals (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ボイラの孔食を防止するに好適なボイラ給
水、およびこのボイラ給水を用いた、エチレンオキシ
ド製造用の炭素鋼製シェル・アンド・チューブ型反応器
の孔食を防止する方法を提供する。 【解決手段】 溶存酸素濃度が１μｇ／ｌを超えない
ようにしてなるボイラ給水。エチレンオキシド製造用
の炭素鋼製シェル・アンド・チューブ型反応器のシェル
側に上記ボイラ給水を供給する。
水、およびこのボイラ給水を用いた、エチレンオキシ
ド製造用の炭素鋼製シェル・アンド・チューブ型反応器
の孔食を防止する方法を提供する。 【解決手段】 溶存酸素濃度が１μｇ／ｌを超えない
ようにしてなるボイラ給水。エチレンオキシド製造用
の炭素鋼製シェル・アンド・チューブ型反応器のシェル
側に上記ボイラ給水を供給する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はボイラ給水および反
応器の孔食防止方法に関し、詳しくはエチレンオキシド
製造用の炭素鋼製シェル・アンド・チューブ型反応器の
シェル側の孔食を防止するに好適なボイラ給水およびそ
の使用に関する。
応器の孔食防止方法に関し、詳しくはエチレンオキシド
製造用の炭素鋼製シェル・アンド・チューブ型反応器の
シェル側の孔食を防止するに好適なボイラ給水およびそ
の使用に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般的なボイラは５〜１０年間使用する
と、腐食やスケール付着の進行により、ボイラの洗浄が
必要となり、腐食の進行具合いによってはチューブの交
換が必要となる。特に局部的に深く腐食が進行する、い
わゆる孔食は微量の溶存酸素が主因となって起こり、ボ
イラ管壁に貫通孔を生じるなどの事故を起こす危険な腐
食である。
と、腐食やスケール付着の進行により、ボイラの洗浄が
必要となり、腐食の進行具合いによってはチューブの交
換が必要となる。特に局部的に深く腐食が進行する、い
わゆる孔食は微量の溶存酸素が主因となって起こり、ボ
イラ管壁に貫通孔を生じるなどの事故を起こす危険な腐
食である。
【０００３】エチレンオキシド製造用の炭素鋼製シェル
・アンド・チューブ型反応器には、シェル側に水を入れ
て沸騰により除熱を行う、いわゆる沸騰水型反応器ボイ
ラの一種が使用されており、シェル側に腐食もしくは孔
食が発生すると、その洗浄が非常に困難な構造となって
おり、例えば、酸などを用いた化学的な洗浄は、洗浄後
に残留する酸により装置の腐食が起こり、また物理的な
洗浄は装置の構造上不可能といわれている。
・アンド・チューブ型反応器には、シェル側に水を入れ
て沸騰により除熱を行う、いわゆる沸騰水型反応器ボイ
ラの一種が使用されており、シェル側に腐食もしくは孔
食が発生すると、その洗浄が非常に困難な構造となって
おり、例えば、酸などを用いた化学的な洗浄は、洗浄後
に残留する酸により装置の腐食が起こり、また物理的な
洗浄は装置の構造上不可能といわれている。
【０００４】このように、エチレンオキシド製造用の炭
素鋼製シェル・アンド・チューブ型反応器の場合、シェ
ル側で孔食が発生すると、洗浄が困難なため、チューブ
の交換が必要となる。しかし、これらの反応器では構造
上チューブの交換が困難なため、反応器全体の交換が不
可能となる。かくして、１０年程度で反応器を交換する
ことは、一般的なボイラの交換ならともかく経済的には
大問題である。
素鋼製シェル・アンド・チューブ型反応器の場合、シェ
ル側で孔食が発生すると、洗浄が困難なため、チューブ
の交換が必要となる。しかし、これらの反応器では構造
上チューブの交換が困難なため、反応器全体の交換が不
可能となる。かくして、１０年程度で反応器を交換する
ことは、一般的なボイラの交換ならともかく経済的には
大問題である。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、ボイラの孔
食を防止するに好適なボイラ給水、およびこのボイラ給
水を用いた、エチレンオキシド製造用の炭素鋼製シェル
・アンド・チューブ型反応器の孔食を防止する方法を提
供することを目的とするものである。
食を防止するに好適なボイラ給水、およびこのボイラ給
水を用いた、エチレンオキシド製造用の炭素鋼製シェル
・アンド・チューブ型反応器の孔食を防止する方法を提
供することを目的とするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、ボイラ
給水中の溶存酸素濃度が１μｇ／ｌを超えないように、
好ましくはさらに残留ヒドラジン濃度が０．０１ｍｇ／
ｌ以上になるように調整することにより、上記目的が解
決できることがわかった。
給水中の溶存酸素濃度が１μｇ／ｌを超えないように、
好ましくはさらに残留ヒドラジン濃度が０．０１ｍｇ／
ｌ以上になるように調整することにより、上記目的が解
決できることがわかった。
【０００７】すなわち、本発明は、溶存酸素濃度が１μ
ｇ／ｌを超えないようにしてなるボイラ給水である。
ｇ／ｌを超えないようにしてなるボイラ給水である。
【０００８】また、本発明は、エチレンオキシド製造用
の炭素鋼製シェル・アンド・チューブ型反応器のシェル
側に上記ボイラ給水を供給することを特徴とする反応器
の孔食防止方法である。
の炭素鋼製シェル・アンド・チューブ型反応器のシェル
側に上記ボイラ給水を供給することを特徴とする反応器
の孔食防止方法である。
【０００９】なお、本発明のボイラ給水とは、ボイラ入
口に供給する水、例えば、復水と補給水との混合水を意
味する。
口に供給する水、例えば、復水と補給水との混合水を意
味する。
【００１０】
【発明の実施の形態】一般の脱気器のみを用いては溶存
酸素濃度は７μｇ／ｌ程度であり、これを下げるため
に、その２〜３倍当量のヒドラジンを添加し、ボイラ
（チューブ）の寿命を１０年に延ばしている。しかしな
がら、さらに１μｇ／ｌ以下の溶存酸素濃度にすると飛
躍的に孔食を防止できることが解かった。
酸素濃度は７μｇ／ｌ程度であり、これを下げるため
に、その２〜３倍当量のヒドラジンを添加し、ボイラ
（チューブ）の寿命を１０年に延ばしている。しかしな
がら、さらに１μｇ／ｌ以下の溶存酸素濃度にすると飛
躍的に孔食を防止できることが解かった。
【００１１】そこで、本発明においては、例えば、加熱
脱気器で溶存酸素濃度を７μｇ／ｌ程度まで低減したの
ち、ヒドラジンを一般的な添加量の５〜５０倍、好まし
くは１０〜３５倍の量を添加して本発明のボイラ給水を
調整する。なお、ヒドラジンは防錆をかねて脱気器の直
前に加えてもよい。
脱気器で溶存酸素濃度を７μｇ／ｌ程度まで低減したの
ち、ヒドラジンを一般的な添加量の５〜５０倍、好まし
くは１０〜３５倍の量を添加して本発明のボイラ給水を
調整する。なお、ヒドラジンは防錆をかねて脱気器の直
前に加えてもよい。
【００１２】上記加熱脱気器には特に制限はなく、一般
に用いられている加熱脱気器を使用することができる。
に用いられている加熱脱気器を使用することができる。
【００１３】本発明のボイラ給水においては、残留ヒド
ラジン濃度を０．０１ｍｇ／ｌ以上、好ましくは０．０
５〜０．３ｍｇ／ｌとすることにより腐食もしくは孔食
をより効果的に防止することができる。
ラジン濃度を０．０１ｍｇ／ｌ以上、好ましくは０．０
５〜０．３ｍｇ／ｌとすることにより腐食もしくは孔食
をより効果的に防止することができる。
【００１４】本発明のボイラ給水は、ボイラ処理薬剤と
して一般に用いられている薬剤、例えば、清缶剤として
のポリリン酸塩系薬剤（例えば、ポリリン酸ナトリウ
ム）などを含有するのが好ましい。また、本発明のボイ
ラ給水においては、ｐＨ、電気伝導度、硬度、塩化物イ
オン濃度などについて、一般のボイラ給水において採用
されている範囲内で適宜調整することができる。
して一般に用いられている薬剤、例えば、清缶剤として
のポリリン酸塩系薬剤（例えば、ポリリン酸ナトリウ
ム）などを含有するのが好ましい。また、本発明のボイ
ラ給水においては、ｐＨ、電気伝導度、硬度、塩化物イ
オン濃度などについて、一般のボイラ給水において採用
されている範囲内で適宜調整することができる。
【００１５】本発明のボイラ給水は、各種ボイラに用い
られるが、特にエチレンオキシド製造用の炭素鋼製シェ
ル・アンド・チューブ型反応器のシェル側に供給するボ
イラ給水として好適に用いられる。本発明のボイラ給水
を用いることにより、シェル側の孔食を効果的に防止す
ることができる。
られるが、特にエチレンオキシド製造用の炭素鋼製シェ
ル・アンド・チューブ型反応器のシェル側に供給するボ
イラ給水として好適に用いられる。本発明のボイラ給水
を用いることにより、シェル側の孔食を効果的に防止す
ることができる。
【００１６】
【発明の効果】本発明のボイラ給水を用いることによ
り、ボイラの腐食ないしは孔食を効果的に防止すること
ができる。特に、エチレンオキシド製造用の炭素鋼製シ
ェル・アンド・チューブ型反応器のシェル側に供給する
ことによりシェル側の孔食を効果的に防止することがで
きる。これにより、エチレンオキシド製造反応器の寿命
を延長できるので、エチレンオキシド製造装置を長期に
わたり安定して稼動させることができる。
り、ボイラの腐食ないしは孔食を効果的に防止すること
ができる。特に、エチレンオキシド製造用の炭素鋼製シ
ェル・アンド・チューブ型反応器のシェル側に供給する
ことによりシェル側の孔食を効果的に防止することがで
きる。これにより、エチレンオキシド製造反応器の寿命
を延長できるので、エチレンオキシド製造装置を長期に
わたり安定して稼動させることができる。
【００１７】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を更に具体的に
説明する。 実施例１ エチレンオキシド製造用反応器として、シェル（肉厚５
８．５ｍｍ、材質ＳＢ４９）およびチューブ（肉厚３．
１ｍｍ、本数３０６４本、材質ＳＴＢ４２−ＳＣ）を備
えた炭素鋼製シェル・アンド・チューブ型反応器を用
い、チューブ側に触媒を充填して原料ガスを通し、シェ
ル側に給水し除熱を行い、エチレンオキシドを製造し
た。
説明する。 実施例１ エチレンオキシド製造用反応器として、シェル（肉厚５
８．５ｍｍ、材質ＳＢ４９）およびチューブ（肉厚３．
１ｍｍ、本数３０６４本、材質ＳＴＢ４２−ＳＣ）を備
えた炭素鋼製シェル・アンド・チューブ型反応器を用
い、チューブ側に触媒を充填して原料ガスを通し、シェ
ル側に給水し除熱を行い、エチレンオキシドを製造し
た。
【００１８】この反応器のシェル側（ボイラ）の運転条
件は次のとおりであった。 圧力：２．５５〜３．５３ＭＰａ 温度：２２５〜２４０℃ 蒸気発生量：１７〜２３ｔ／ｈ ボイラ給水としては、純水と蒸気ドレーンとを使用し、
ヒドラジンを０．２〜０．５ｍｇ／ｌ添加した後、加熱
脱気器を用いて給水中の溶存酸素濃度を調整するなどし
て、次の性状のボイラ給水を供給した。なお、清缶剤と
してポリリン酸ナトリウムを添加し、ボイラ水のブロー
率１％で運転した。ここでいうブローとは、ボイラ中の
水質維持とボイラ底部に留まるスラッジの排出を目的
に、ボイラ底部から排出される水のことで、ブロー率
（Ｂ：％）は次式で定義される。
件は次のとおりであった。 圧力：２．５５〜３．５３ＭＰａ 温度：２２５〜２４０℃ 蒸気発生量：１７〜２３ｔ／ｈ ボイラ給水としては、純水と蒸気ドレーンとを使用し、
ヒドラジンを０．２〜０．５ｍｇ／ｌ添加した後、加熱
脱気器を用いて給水中の溶存酸素濃度を調整するなどし
て、次の性状のボイラ給水を供給した。なお、清缶剤と
してポリリン酸ナトリウムを添加し、ボイラ水のブロー
率１％で運転した。ここでいうブローとは、ボイラ中の
水質維持とボイラ底部に留まるスラッジの排出を目的
に、ボイラ底部から排出される水のことで、ブロー率
（Ｂ：％）は次式で定義される。
【００１９】Ｂ＝（Ｗ／Ｆ）×１００ ここで、Ｗはブロー量（ｔ／ｈ）であり、Ｆは給水量
（ｔ／ｈ）である。 ＜分析方法＞性状中、次の３項目は給水または缶水を抜
き出し、下記の装置を用い連続分析した。 溶存酸素：東亜電波工業製 ＤＯＤＩ−１ ｐＨ：横河電気製 ＰＨ２００Ｓ 電気伝導率：横河電気製 ＳＣ２００Ｓ その他の項目はＪＩＳ Ｂ８２２４−９３に準じて分析
した。 ＜ボイラ給水の性状＞ 溶存酸素濃度：０．２〜０．８μｇ Ｏ／ｌ 残留ヒドラジン濃度：０．０５〜０．３０ｇ Ｎ2Ｈ4／
ｌ ｐＨ：９．０〜９．５ 塩化物イオン：０．０９〜０．６０ｍｇ Ｃｌ／ｌ 硬度：１０ｍｇ ＣａＣＯ3／ｌ 鉄：０．０９〜１．３０ｍｇ Ｆｅ／ｌ ＜缶液の性状＞ ｐＨ：９．１〜１０．０ 電気伝導率：１４．０〜４２．０μＳ／ｃｍ 塩化物イオン：０．０９〜５．２０ｍｇ Ｃｌ／ｌ シリカ：０．０９〜１．９ｍｇ ＳｉＯ2／ｌ リン酸イオン：２．６〜１４．０ｍｇ ＰＯ4 3-／ｌ 運転開始から９年後、運転を中止し、ボイラの孔食の深
さを測定したところ、約０．１ｍｍであった。この９年
後の孔食の深さから、反応器は数十年間の使用が十分可
能であると推測できる。
（ｔ／ｈ）である。 ＜分析方法＞性状中、次の３項目は給水または缶水を抜
き出し、下記の装置を用い連続分析した。 溶存酸素：東亜電波工業製 ＤＯＤＩ−１ ｐＨ：横河電気製 ＰＨ２００Ｓ 電気伝導率：横河電気製 ＳＣ２００Ｓ その他の項目はＪＩＳ Ｂ８２２４−９３に準じて分析
した。 ＜ボイラ給水の性状＞ 溶存酸素濃度：０．２〜０．８μｇ Ｏ／ｌ 残留ヒドラジン濃度：０．０５〜０．３０ｇ Ｎ2Ｈ4／
ｌ ｐＨ：９．０〜９．５ 塩化物イオン：０．０９〜０．６０ｍｇ Ｃｌ／ｌ 硬度：１０ｍｇ ＣａＣＯ3／ｌ 鉄：０．０９〜１．３０ｍｇ Ｆｅ／ｌ ＜缶液の性状＞ ｐＨ：９．１〜１０．０ 電気伝導率：１４．０〜４２．０μＳ／ｃｍ 塩化物イオン：０．０９〜５．２０ｍｇ Ｃｌ／ｌ シリカ：０．０９〜１．９ｍｇ ＳｉＯ2／ｌ リン酸イオン：２．６〜１４．０ｍｇ ＰＯ4 3-／ｌ 運転開始から９年後、運転を中止し、ボイラの孔食の深
さを測定したところ、約０．１ｍｍであった。この９年
後の孔食の深さから、反応器は数十年間の使用が十分可
能であると推測できる。
Claims (3)
- 【請求項１】 溶存酸素濃度が１μｇ／ｌを超えないよ
うにしてなるボイラ給水。 - 【請求項２】 残留ヒドラジン濃度が０．０１ｍｇ／ｌ
以上である請求項１記載のボイラ給水。 - 【請求項３】 エチレンオキシド製造用の炭素鋼製シェ
ル・アンド・チューブ型反応器のシェル側に請求項１ま
たは２のボイラ給水を供給することを特徴とする反応器
の孔食防止方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000006289A JP2001199973A (ja) | 2000-01-12 | 2000-01-12 | ボイラ給水および反応器の孔食防止方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000006289A JP2001199973A (ja) | 2000-01-12 | 2000-01-12 | ボイラ給水および反応器の孔食防止方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001199973A true JP2001199973A (ja) | 2001-07-24 |
Family
ID=18534842
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000006289A Pending JP2001199973A (ja) | 2000-01-12 | 2000-01-12 | ボイラ給水および反応器の孔食防止方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001199973A (ja) |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5767573A (en) * | 1980-10-16 | 1982-04-24 | Nippon Shokubai Kagaku Kogyo Co Ltd | Catalytic gas-phase oxidation of hydrocarbon and plant |
| JPH04293503A (ja) * | 1991-03-20 | 1992-10-19 | Kurita Water Ind Ltd | 水中の溶存酸素除去方法 |
| JPH05194452A (ja) * | 1991-09-12 | 1993-08-03 | Nippon Shokubai Co Ltd | エチレンオキシドの製造方法 |
| JPH06109207A (ja) * | 1992-09-28 | 1994-04-19 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | ボイラ出口蒸気中の溶存酸素低減方法 |
| JPH11503740A (ja) * | 1995-04-18 | 1999-03-30 | シエル・インターナシヨネイル・リサーチ・マーチヤツピイ・ベー・ウイ | エチレンの接触気相酸化方法 |
-
2000
- 2000-01-12 JP JP2000006289A patent/JP2001199973A/ja active Pending
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5767573A (en) * | 1980-10-16 | 1982-04-24 | Nippon Shokubai Kagaku Kogyo Co Ltd | Catalytic gas-phase oxidation of hydrocarbon and plant |
| JPH04293503A (ja) * | 1991-03-20 | 1992-10-19 | Kurita Water Ind Ltd | 水中の溶存酸素除去方法 |
| JPH05194452A (ja) * | 1991-09-12 | 1993-08-03 | Nippon Shokubai Co Ltd | エチレンオキシドの製造方法 |
| JPH06109207A (ja) * | 1992-09-28 | 1994-04-19 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | ボイラ出口蒸気中の溶存酸素低減方法 |
| JPH11503740A (ja) * | 1995-04-18 | 1999-03-30 | シエル・インターナシヨネイル・リサーチ・マーチヤツピイ・ベー・ウイ | エチレンの接触気相酸化方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH10118655A (ja) | 水性塩溶液の電気処理 | |
| JP5800044B2 (ja) | 蒸気発生設備のスケール除去方法及びスケール除去剤 | |
| JP2006274427A (ja) | 水処理剤および水処理方法 | |
| WO2014162992A1 (ja) | 蒸気発生設備のスケール除去方法 | |
| CN102964017A (zh) | 微波电催化氧化处理高盐度有机废水方法 | |
| JP4886323B2 (ja) | 第２級ブタノールの製造方法 | |
| KR100689569B1 (ko) | 가압경수로의 증기발생기를 세척하는 방법 | |
| JP2001199973A (ja) | ボイラ給水および反応器の孔食防止方法 | |
| CN106277380A (zh) | 一种复合型锅炉水处理剂组合物 | |
| JP2008240073A (ja) | ボイラの防食方法 | |
| WO2007058132A1 (ja) | 休止中のボイラの防食方法 | |
| KR100992095B1 (ko) | 보일러용 수처리제 | |
| JP6314560B2 (ja) | 蒸気発生設備の水処理方法 | |
| JP5691697B2 (ja) | 蒸気発生設備の水処理方法 | |
| JP2007263385A (ja) | ボイラ給水処理装置、ボイラ装置及びボイラ給水処理装置の運転方法 | |
| JP4557324B2 (ja) | 防食用水の製造方法 | |
| KR20040023617A (ko) | 전기 전도성 수성 폐기물 용액 중의 유기 함유물을 수중분해하는 방법 및 장치 | |
| JP3535100B2 (ja) | アジンの加水分解によるヒドラジン製造方法 | |
| US3338745A (en) | Method for cleaning evaporator tubes | |
| JP7050840B2 (ja) | ボイラにおける蒸発管の腐食疲労の抑制方法 | |
| JP2003004203A (ja) | 軟水仕様蒸気ボイラ装置の運転方法 | |
| JP3917899B2 (ja) | 原子炉用蒸気発生器の腐食抑制方法 | |
| JPH05126315A (ja) | 廃熱回収ボイラ脱気器の給排水方法及びその装置 | |
| RU2273682C1 (ru) | Способ предотвращения солевых отложений в теплообменных аппаратах | |
| KR101163779B1 (ko) | 황화수소 가스를 이용한 쇼트 그릿(Ｓｈｏｔ Ｇｒｉｔ)제조 방법 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20061225 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100330 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20100727 |