JP2001199830A

JP2001199830A - 化粧料

Info

Publication number: JP2001199830A
Application number: JP2000010567A
Authority: JP
Inventors: Tadahide Hoshino; 匡秀星野; Mitsuru Sugiyama; 充杉山; Akiyo Kameyama; 明代亀山; Yoshinori Nishizawa; 義則西澤
Original assignee: Kao Corp
Current assignee: Kao Corp
Priority date: 2000-01-19
Filing date: 2000-01-19
Publication date: 2001-07-24

Abstract

(57)【要約】【解決手段】次の一般式（１）で表わされるアミド誘
導体を含有する化粧料。【化１】（式中、Ｒ¹は炭素数４〜２２の脂肪族炭化水素残基、
Ｒ²は炭素数１〜６のアルキレン基及びＲ³は炭素数１
〜６のアルキル基を示す。）【効果】一般式（１）で表わされるアミド誘導体は、
角質細胞間の脂質層に浸透し、角質層の水分保持能力を
改善（維持・補強）、バリアー機能を改善することによ
り肌荒れを予防・治療する。また毛髪に浸透してその保
護効果を高め、毛髪の感触を向上させ、頭皮の荒れを予
防・改善することができる。さらに、基剤に対する溶解
性が良好であり、配合安定性等に優れ、効率的かつ安価
に、化粧料等を製造することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、角質層の水分保持
力を高め、肌荒れ改善効果及び毛髪保護効果等に優れる
化粧料及びかかる効果を有する保湿剤に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、肌荒れの改善又は予防には、角質
層への水分補給を目的として、遊離アミノ酸、有機酸、
尿素、無機イオン等の角質層に含有される水溶性成分や
親水性が高い保湿性物質を配合した化粧料が用いられて
きた。しかし、斯かる水溶性成分や保湿性物質は、肌荒
れを本質的に予防・治療するものとは言えず、その保湿
効果も一時的なものであった。他方、水分保持能力の改
善を目的として、角質層の細胞間脂質である天然セラミ
ドを皮膚に適用することも検討されてきたが、高価であ
り、また化粧料への配合性・配合安定性も好ましくない
といった問題もあった。

【０００３】斯かる実状に鑑み、本発明者らは、幾つか
のアミド誘導体に角質層の水分保持能力を根本的に改善
する作用があること、また毛髪に浸透してその保護効果
を高める作用があることを見出した（特公平１−４２９
３４号公報、特開昭６４−２９３４７号公報、特開平８
−３１９２６３号公報及び特開昭６４−９９１３号公報
等）。

【０００４】しかし、斯かるアミド誘導体は、化粧料と
して配合する場合の配合性や配合安定性を良好に保つの
が困難であった。また製造面においても、多段階の反応
を必要とし経済上好ましくないという問題もあった。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】従って本発明は、皮膚
に適用することにより、角質層の水分保持能力を本質的
に改善（持続性・補強）する効果を有し、かつ配合性や
配合安定性が向上し、さらに効率的かつ安価に製造でき
るアミド誘導体を含有し、角質層の水分保持能力の改善
により肌荒れの予防・改善効果を有し、また毛髪に浸透
してその保護効果を高め、毛髪の感触を向上させ、頭皮
の荒れを予防・改善する効果を有する化粧料を提供する
ことを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者は、下記一般式
（１）で表わされるアミド誘導体が、全く意外にも角質
層の水分保持能力を本質的に改善することができ、更に
は経皮水分蒸散及び経皮吸収の抑制すなわちバリアー機
能を改善することができ、また配合性、製造性が優れて
いること、従ってこれを配合すれば肌荒れの予防・改善
効果、毛髪感触向上効果等に優れた化粧料が得られるこ
とを見出した。

【０００７】すなわち、本発明は次の一般式（１）

【０００８】

【化２】

【０００９】（式中、Ｒ¹は炭素数４〜２２の脂肪族炭
化水素基、Ｒ²は炭素数１〜６のアルキレン基、Ｒ³は
炭素数１〜６のアルキル基を示す。）で表わされるアミ
ド誘導体を含有する化粧料、及びこの化合物を有効成分
とする保湿剤を提供するものである。

【００１０】

【発明の実施の形態】Ｒ¹−ＣＨ₂−としては、ペンチ
ル、ヘプチル、ノニル、ウンデシル、トリデシル、ペン
タデシル、ヘプタデシル、ノナデシル、ヘンエイコシ
ル、トリコシル、イソヘプタデシル、メチル分岐イソヘ
プタデシル、２，４，４−トリメチルペンチル、８−ヘ
プタデセニル、８，１１−ヘプタデカジエニル基等が挙
げられる。Ｒ¹−ＣＨ₂−としては、炭素数１１〜１７の
直鎖又は分岐鎖のアルキル基が好ましく、特に好ましく
は炭素数１５〜１７の直鎖又は分岐鎖のアルキル基であ
る。

【００１１】Ｒ²は炭素数１〜６のアルキレン基を示
し、直鎖又は分岐鎖いずれでも良い。Ｒ²としては、メ
チレン、エチレン、トリメチレン、テトラメチレン、ペ
ンタメチレン、ヘキサメチレン、メチルメチレン、１−
メチルエチレン、２−メチルエチレン、１−メチルトリ
メチレン、２−メチルトリメチレン、１，１−ジメチル
エチレン、２−エチルトリメチレン基等が挙げられ、こ
のうちエチレン及びトリメチレン基が好ましく、特に好
ましくはトリメチレン基である。

【００１２】Ｒ³は炭素数１〜６のアルキル基を示し、
直鎖又は分岐鎖いずれでも良い。Ｒ ³としては、メチ
ル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、
１−メチルエチル、１，１−ジメチルエチル基が挙げら
れるが、このうちメチルとエチル基が好ましく、特に好
ましくはメチル基である。

【００１３】本発明に用いられるアミド誘導体で、好ま
しい化合物は、一般式（１）中のＲ ¹、Ｒ²及びＲ³が
それぞれ上述の好ましい範囲の基である場合を組合わせ
た化合物である。特に下記のアミド誘導体が好ましい。

【００１４】

【化３】

【００１５】（式中、Ｒ¹¹は炭素数１４〜１６の直鎖又
は分岐鎖のアルキル基である。）

【００１６】本発明に用いるアミド誘導体は、公知のア
ミド合成法によって合成することができるが、例えば次
の方法によれば効率的かつ安価に製造することができ
る。

【００１７】

【化４】

【００１８】（式中、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は前記と同様
の意味を示す。）

【００１９】即ち、対応するカルボン酸（２）又はその
反応性誘導体（酸ハライド、エステル、酸無水物等）と
アルコキシアルキルアミン（３）を縮合させることによ
り、アミド誘導体（１）を効率的に得ることができる。
この縮合の条件としては、ジシクロヘキシルカルボジイ
ミド等の脱水剤又は水酸化カリウム、水酸化ナトリウム
等のアルカリ金属水酸化物、水酸化カルシウム等のアル
カリ土類金属水酸化物、炭酸カリウム等のアルカリ金属
炭酸塩、炭酸カルシウム等のアルカリ土類金属炭酸塩、
ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウ
ム−ｔｅｒｔ−ブトキシド等のアルカリ金属アルコラー
ト等の塩基性触媒の存在下、あるいは非存在下、常圧〜
１．３Paの減圧下に室温〜２５０℃で反応させることが
好ましい。この際、アルコキシアルキルアミンをカルボ
ン酸又はその反応性誘導体に対して過剰に用いるのが好
ましく、また反応により生じる水又はアルコールを系外
に除去しながら行なうと、反応が速く進行するので好ま
しい。このようにして得られるアミド誘導体は、水洗、
カラムクロマトグラフィー、蒸留、結晶化、再結晶化や
粉体処理等の公知の方法により精製することもできる。

【００２０】かくして得られるアミド誘導体は、皮膚に
対しては、実施例１に示すように角質細胞間の脂質層に
浸透し角質層の水分保持能力を改善（持続性・補強）す
ることにより保湿効果を有し、肌荒れ等の改善・予防効
果を発揮する。また、毛髪に対しては、実施例３に示す
ように保護作用を有することにより毛髪の感触を向上さ
せる効果を発揮する。従って、一般式（１）で表わされ
るアミド誘導体は、皮膚及び毛髪の化粧料及び保湿剤の
有効成分として用いられる。斯かる化粧料及び保湿剤
は、通常化粧料で使用される基剤（担体）に、一般式
（１）で表わされるアミド誘導体を混合して、所望の公
知の化粧料成分を添加配合し、常法に従って製造され
る。

【００２１】本発明の化粧料は、クリーム、化粧乳液、
化粧水、口紅、ファンデーション、入浴剤、皮膚洗浄
剤、爪手入れ剤等の皮膚化粧料；ヘアトニック、整髪
料、ヘアリンス、ヘアトリートメント、ヘアコンディシ
ョナー、ヘアスタイリング剤、シャンプー、養毛剤、育
毛剤等の毛髪化粧料が挙げられる。化粧料は、水溶液、
油性溶液、エタノール溶液、Ｏ／Ｗ、Ｗ／Ｏ等のエマル
ジョン、サスペンジョン、ゲル、固型、エアゾール、粉
末等の剤型とすることができ、特に制限はない。

【００２２】本発明の化粧料は必須成分であるアミド誘
導体の他に、化粧料成分として一般に使用されている油
分、界面活性剤、保湿剤、紫外線吸収剤、美白剤、しわ
改善剤、アルコール類、キレート剤、pH調整剤、防腐
剤、酸化防止剤、増粘剤、色素、香料等を任意に組合せ
て配合することができる。

【００２３】本発明の皮膚化粧料におけるアミド誘導体
の配合量は、特に制限されないが、通常、乳化型の皮膚
化粧料の場合には、全組成の０．００１〜５０重量％
（以下、単に％で示す）が好ましく、スクワラン等の液
状炭化水素を基剤とする油性皮膚化粧料の場合には、全
組成の０．０１〜５０％が好ましく、いずれの場合も特
に好ましくは０．０１〜２０％である。特に肌荒れの予
防・改善には０．１〜２０％配合することが好ましい。

【００２４】本発明の皮膚化粧料には、ノニオン界面活
性剤、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性
界面活性剤等の界面活性剤等を配合できる。このうち、
ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチ
レン脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリ
オキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、脂肪酸モノ
グリセライド、グリセリルエーテル等のノニオン界面活
性剤が特に好ましい。その配合量は、組成物０．０１〜
２０％、特に０．１〜１０％が好ましい。

【００２５】アミド誘導体の毛髪化粧料への配合量は、
特に制限されるものではないが、シャンプー等にあって
は０．００１〜５％、リンス、トリートメント、コンデ
ィショナー、スタイリング剤等にあっては０．１〜２０
％、ヘアリキッド、ヘアトニック等にあっては０．０１
〜５％程度配合することが好ましい。

【００２６】本発明の毛髪化粧料には、アニオン界面活
性剤、カチオン界面活性剤、ノニオン界面活性剤、両性
界面活性剤等の界面活性剤、その他毛髪化粧料に一般に
用いられる成分を配合できる。毛髪化粧料がシャンプー
である場合、アルキルエーテル硫酸塩、アルキル硫酸
塩、オレフィンスルホン酸塩等のアニオン界面活性剤を
主活性剤として配合できる。その配合量は、組成物中５
〜３０％、特に１０〜２０％が好ましい。

【００２７】毛髪化粧料がヘアリンス、コンディショナ
ー、ヘアトリートメント、ヘアスタイリング剤である場
合、毛髪に良好な感触を付与するため、モノ−又はジ−
長鎖アルキル四級アンモニウム塩等のカチオン界面活性
剤、ポリオキシエチレンアルキル又はアルケニルエーテ
ル等のノニオン界面活性剤、及び流動パラフィン等の油
脂類を配合できる。カチオン及びノニオン界面活性剤の
配合量は、組成物中０．１〜５０％、特に０．５〜２０
％が好ましい。

【００２８】さらに、毛髪化粧料がヘアリキッド、ヘア
トニック等である場合は、ポリオキシエチレン等のノニ
オン界面活性剤を併用できる。ノニオン界面活性剤は、
全組成中、０．０１〜２０％、特に０．１〜５％配合す
ることが好ましい。

【００２９】

【発明の効果】一般式（１）のアミド誘導体は、角質細
胞間の脂質層に浸透し、角質層の水分保持能力を改善
（持続性・補強）、経皮水分蒸散及び経皮吸収の抑制す
なわちバリアー機能を改善することにより肌荒れを予防
・治療し、肌の感触を良くする。また毛髪に浸透してそ
の保護効果を高め、毛髪の感触を向上させ、頭皮の荒れ
を予防・改善することができる。さらに、基剤に対する
溶解性が良好で配合が容易であり、配合安定性等に優
れ、効率的かつ安価に、化粧料等を製造することができ
る。

【００３０】

【実施例】アミド誘導体の製造：

【００３１】

【化５】

【００３２】攪拌装置、窒素導入管及び蒸留装置を備え
た３００mL３口フラスコに、ステアリン酸１１４ｇを仕
込み、窒素気流下で脱水しながら３−メトキシプロピル
アミン４５ｇを１８０℃で１時間かけて滴下した。同条
件で５時間熟成した後、過剰な３−メトキシプロピルア
ミンを減圧留去し、スチーミング処理後に減圧蒸留する
ことにより、アミド誘導体（ａ）１３４ｇ（収率９４
％）を得た。白色結晶融点；７８℃¹ H-NMR(CDCl₃,δ)；0.88(t,J=6.9Hz,3H), 1.15-1.40(m,
28H),1.52-1.67(m,2H), 1.71-1.83(m,2H), 2.15(t,J=7.
9Hz,2H), 3.32-3.41(m,5H),3.47(t,J=5.7Hz,2H), 5.87-
6.03(m,1H). なお、融点は、化粧品原料基準（第二版）の一般試験法
の融点測定法第１法に準拠して測定し、試料が液化して
固体をまったく認めなくなった温度を融点とした。

【００３３】同様にして、以下のアミド誘導体を製造し
た。

【００３４】

【化６】

【００３５】白色結晶融点；７０℃¹ H-NMR(CDCl₃,δ)；0.88(t,J=6.6Hz,3H), 1.15-1.38(m,
24H),1.53-1.70(m,2H), 1.71-1.83(m,2H), 2.16(t,J=7.
9Hz,2H), 3.32-3.41(m,5H),3.48(t,J=5.8Hz,2H), 5.91-
6.08(m,1H).

【００３６】

【化７】

【００３７】白色結晶融点；７０℃¹ H-NMR(CDCl₃,δ)；0.88(t,J=6.8Hz,3H), 1.10-1.40(m,
26H),1.50-1.70(m,2H), 1.71-1.83(m,2H), 2.15(t,J=7.
9Hz,2H), 3.32-3.41(m,5H),3.48(t,J=5.8Hz,2H), 5.90-
6.07(m,1H).

【００３８】

【化８】

【００３９】淡黄色ペースト¹ H-NMR(CDCl₃,δ)；0.82-0.91(m,3H), 1.15-1.45(m,26
H), 1.52-1.70(m,2H),1.71-1.83(m,2H), 2.15(t,J=7.9H
z,2H), 3.32-3.40(m,5H),3.48(t,J=5.8Hz,2H), 5.90-6.
05(m,1H).

【００４０】実施例１アミド誘導体（ｃ）３３％と、ワセリン６７％とからな
る化粧料（保湿剤）（本発明品１）を調製し、下記方法
により皮膚コンダクタンス及び肌荒れについて評価し
た。また、対照としてワセリンのみからなる化粧料（比
較品１）についても同様の試験評価を行なった。結果を
表１に示す。（試験方法）頬部に肌荒れを起こしている２０〜５０才
の女性１０名を被験者とし、左右の頬に異なる化粧料を
２週間塗布した。２週間の塗布が終了した翌日に以下の
項目につき試験を行なった。（１）皮膚コンダクタンス３７℃の温水にて洗顔後、温度２０℃、湿度４０％の部
屋で２０分間安静にした後、角質層の水分含有量を皮膚
コンダクタンスメータ（ＩＢＳ社製）にて測定した。コ
ンダクタンス値は値が小さいほど皮膚は肌荒れしてお
り、５以下ではひどい肌荒れである。一方この値が２０
以上であれば肌荒れはほとんど認められない。（２）肌荒れスコア肌荒れを肉眼で観測し、下記基準により判定した。スコ
アは平均値で示した。０：肌荒れを認めない１：かすかな肌荒れを認める２：肌荒れを認める３：ややひどい肌荒れを認める４：ひどい肌荒れを認める

【００４１】

【表１】

【００４２】上記表１に示す結果から明らかな通り、ア
ミド誘導体を含有する本発明品１は、比較品１に比べて
角質層の水分含有量を増加させる効果と肌荒れを改善す
る効果に優れるものである。

【００４３】実施例２アミド誘導体（Ｃ）１０％及びスクワラン９０％からな
る化粧料（保湿剤）（本発明品２）を調製し、下記の試
験方法により経皮水分蒸散量及び経皮吸収量を測定評価
した。また、比較品としてスクワランのみからなる化粧
料（比較品２）についても同様の試験評価を行った。そ
の結果を下記表２に示す。

【００４４】（試験方法）必須脂肪酸を含まない飼料の
みでウィスター（Wister）系雄性ラットを飼育し、必須
脂肪酸欠乏症の症状を有するラットを本試験に用いた。
これら必須脂肪酸欠乏症ラットの背部を丁寧に剃毛した
後、評価化粧料を１日１回２週間塗布した。なお、それ
ぞれの各化粧料に対して１群５匹ずつを本試験に供し
た。２週間後、下記の項目について試験を行った。

【００４５】（１）経皮水分蒸散量温水で試験ラットの背部を洗浄し、１時間静置（室温２
３℃、湿度４５％）後、皮膚からの水分蒸散量をエバポ
リメーターにて測定した。なお、測定値は平均値で示し
た。

【００４６】（２）経皮吸収量３７℃の温水でラットの背部を洗浄後、背部皮膚を切取
り、経皮吸収用チャンバーに表皮側を上にして固定し
た。下部受器にはリン酸緩衝塩類溶液を満たし、表皮上
部には３７ＫＢｑの¹⁴Ｃ−サリチル酸を含むリン酸緩衝
塩類溶液１mLを加え静置した。２時間後、下部受器から
１mLのリン酸緩衝塩類溶液を抜取り、浸透してきた¹⁴Ｃ
−サリチル酸の放射活性量を測定することにより評価し
た。なお、測定値は、平均値で示した。

【００４７】

【表２】

【００４８】本発明品２は、経皮水分蒸散量及び経皮吸
収量抑制効果を有し、肌荒れ改善効果が認められたが、
比較品２はかかる効果が認められなかった。

【００４９】実施例３アミド誘導体（ｃ）を用いて、下記表３に示す組成のヘ
アリンス（本発明品３）を調製し、該ヘアリンスによる
処理後の髪の感触を５名の専門パネラーにより下記基準
で評価した。また、対照としてアミド誘導体（ｃ）を含
有しないヘアリンス（比較品３）を調製し、同様に評価
した。結果を表３に示す。 −２：悪い −１：やや悪い０：どちらともいえない＋１：やや良い＋２：良い

【００５０】

【表３】

【００５１】上記表３に示す結果から明らかな通り、本
発明品３は毛髪のぱさつきを改善し、感触を向上する効
果に優れるものである。

【００５２】実施例４表４に示す配合でスキンローションを常法に従い製造し
た。得られたスキンローションは優れた保湿効果、肌荒
れ防止・改善効果等を示した。また、アミド誘導体
（ａ）は、配合性、配合安定性に優れていた。

【００５３】

【表４】

【００５４】実施例５表５に示す配合でＯ／Ｗクリームを常法に従い製造し
た。得られたＯ／Ｗクリームは優れた保湿効果、肌荒れ
防止・改善効果等を示した。また、アミド誘導体（ｂ）
は、配合性、配合安定性に優れていた。

【００５５】

【表５】

【００５６】実施例６表６に示す配合でシャンプーを常法に従い製造した。こ
のシャンプーは毛髪の感触を向上させ、頭皮の荒れを防
止・改善した。また、アミド誘導体（ｃ）は、配合性、
配合安定性に優れていた。

【００５７】

【表６】

【００５８】実施例７表７に示す配合でヘアリキッド組成物を常法に従い製造
した。得られたヘアリキッド組成物は、毛髪に対して優
れたスタイル保持形成性と良好な感触を付与した。ま
た、アミド誘導体（ｄ）は、配合性、配合安定性に優れ
ていた。

【００５９】

【表７】

─────────────────────────────────────────────────────

【手続補正書】

【提出日】平成１２年１月２０日（２０００．１．２
０）

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００５０

【補正方法】変更

【補正内容】

【００５０】

【表３】

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ａ６１Ｋ 31/16 Ａ６１Ｋ 31/16 Ａ６１Ｐ 17/16 Ａ６１Ｐ 17/16 (72)発明者亀山明代栃木県芳賀郡市貝町赤羽2606 花王株式会社研究所内 (72)発明者西澤義則栃木県芳賀郡市貝町赤羽2606 花王株式会社研究所内Ｆターム(参考） 4C083 AA082 AC022 AC102 AC122 AC172 AC182 AC302 AC342 AC392 AC432 AC442 AC482 AC641 AC642 AC692 AC782 CC04 CC05 CC32 CC38 CC39 DD27 DD33 EE12 EE13 4C206 AA01 AA02 GA01 GA03 GA25 GA26 NA05 ZA89

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】次の一般式（１）【化１】（式中、Ｒ¹は炭素数４〜２２の脂肪族炭化水素基、Ｒ
²は炭素数１〜６のアルキレン基、Ｒ³は炭素数１〜６
のアルキル基を示す。）で表わされるアミド誘導体を含
有する化粧料。
【請求項２】請求項１記載の一般式（１）で表わされ
るアミド誘導体を有効成分とする保湿剤。