JP2001190954A - パラジウム触媒及びエーテルの製法 - Google Patents
パラジウム触媒及びエーテルの製法Info
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- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
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- B01J29/04—Catalysts comprising molecular sieves having base-exchange properties, e.g. crystalline zeolites
- B01J29/041—Mesoporous materials having base exchange properties, e.g. Si/Al-MCM-41
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- B01J29/043—Noble metals
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C41/00—Preparation of ethers; Preparation of compounds having groups, groups or groups
- C07C41/01—Preparation of ethers
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- C07C41/28—Preparation of ethers by reactions not forming ether-oxygen bonds from acetals, e.g. by dealcoholysis
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 エーテル化反応において反応活性の優れたパ
ラジウム触媒の提供及び環状アセタールの水素化分解に
よるエーテルの合成において、高選択的にモノエーテル
を得られる方法の提供。 【解決手段】 アンモニア又はその塩で処理したメソポ
ーラスアルミノシリケートにパラジウムを担持させたパ
ラジウム触媒及び環状アセタールと水素とを該パラジウ
ム触媒の存在下に反応させるエーテルの製法。
ラジウム触媒の提供及び環状アセタールの水素化分解に
よるエーテルの合成において、高選択的にモノエーテル
を得られる方法の提供。 【解決手段】 アンモニア又はその塩で処理したメソポ
ーラスアルミノシリケートにパラジウムを担持させたパ
ラジウム触媒及び環状アセタールと水素とを該パラジウ
ム触媒の存在下に反応させるエーテルの製法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、油性汚れ溶解剤、
水に可溶な有機溶剤、極性油、乳化剤、潤滑剤、保湿剤
等として、また界面活性剤の製造中間体として用いられ
るヒドロキシエーテル類の製造に有用なパラジウム触媒
及びそれを用いたヒドロキシエーテル類の製法に関す
る。
水に可溶な有機溶剤、極性油、乳化剤、潤滑剤、保湿剤
等として、また界面活性剤の製造中間体として用いられ
るヒドロキシエーテル類の製造に有用なパラジウム触媒
及びそれを用いたヒドロキシエーテル類の製法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】アセタール化合物の水素化分解法として
は、(1)ハロゲン化アルキルアルミニウム化合物又はハ
ロゲン化アルミニウムと水素化アルミニウムリチウムと
の混合物を用いる方法や、(2)水素雰囲気下、パラジウ
ム、白金、ロジウム等の金属を担持した水素添加触媒を
用いる方法が知られている。
は、(1)ハロゲン化アルキルアルミニウム化合物又はハ
ロゲン化アルミニウムと水素化アルミニウムリチウムと
の混合物を用いる方法や、(2)水素雰囲気下、パラジウ
ム、白金、ロジウム等の金属を担持した水素添加触媒を
用いる方法が知られている。
【０００３】しかし、上記(1)の方法では、用いる試薬
がはなはだしい発火性を有することから安全上の問題が
あり、またその試薬も化学量論量必要とすることから廃
棄物が多量に発生する等の問題がある。また、上記(2)
の方法では、このような問題がなく有利であるが環状ア
セタールなど多価アルコールのアセタールの場合、アセ
タール交換等により生成物がモノエーテル体、ジエーテ
ル体等の混合組成となってしまうという問題がある。
がはなはだしい発火性を有することから安全上の問題が
あり、またその試薬も化学量論量必要とすることから廃
棄物が多量に発生する等の問題がある。また、上記(2)
の方法では、このような問題がなく有利であるが環状ア
セタールなど多価アルコールのアセタールの場合、アセ
タール交換等により生成物がモノエーテル体、ジエーテ
ル体等の混合組成となってしまうという問題がある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、エーテルの
合成において、高選択的にモノエーテルを得ることので
きる触媒及びそれを用いた環状アセタールの水素化分解
による高選択的にモノエーテルを合成する方法を提供す
ることを目的とする。
合成において、高選択的にモノエーテルを得ることので
きる触媒及びそれを用いた環状アセタールの水素化分解
による高選択的にモノエーテルを合成する方法を提供す
ることを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、ゼオライ
トよりも大きく実質的に均一な細孔径を持つ多孔性担体
であるメソポーラスアルミノシリケートにパラジウムを
担持させたものを触媒として用いることにより、上記課
題を解決できることを見出した。さらに予めアンモニア
又はその塩で処理したメソポーラスアルミノシリケート
にパラジウムを担持させるとエーテル製造における活性
の特に優れた触媒が得られることも見出した。
トよりも大きく実質的に均一な細孔径を持つ多孔性担体
であるメソポーラスアルミノシリケートにパラジウムを
担持させたものを触媒として用いることにより、上記課
題を解決できることを見出した。さらに予めアンモニア
又はその塩で処理したメソポーラスアルミノシリケート
にパラジウムを担持させるとエーテル製造における活性
の特に優れた触媒が得られることも見出した。
【０００６】すなわち本発明は、環状アセタールと水素
とをメソポーラスアルミノシリケートに担持されたパラ
ジウム触媒の存在下に反応させるエーテルの製法を提供
するものである。
とをメソポーラスアルミノシリケートに担持されたパラ
ジウム触媒の存在下に反応させるエーテルの製法を提供
するものである。
【０００７】また、本発明は、アンモニア又はその塩で
処理したメソポーラスアルミノシリケートにパラジウム
を担持させたパラジウム触媒を提供するものである。
処理したメソポーラスアルミノシリケートにパラジウム
を担持させたパラジウム触媒を提供するものである。
【０００８】
【発明の実施の形態】本発明のパラジウム触媒の担体で
あるメソポーラスアルミノシリケートとは、２〜50nmの
均一な細孔径を持つアルミノシリケートをいう。この均
一な細孔径は粉末Ｘ線回折パターンから求めることがで
き、２〜10nmが好ましく、特に２〜６nmが好ましい。本
発明ではこのようなメソポーラス細孔内でアセタール交
換反応が抑制されることにより、モノエーテル体を高選
択的に得ることができるものである。従って、最も良好
な結果は、基質に適した細孔径やパラジウムの分散状態
を有する触媒を用いることにより得られる。
あるメソポーラスアルミノシリケートとは、２〜50nmの
均一な細孔径を持つアルミノシリケートをいう。この均
一な細孔径は粉末Ｘ線回折パターンから求めることがで
き、２〜10nmが好ましく、特に２〜６nmが好ましい。本
発明ではこのようなメソポーラス細孔内でアセタール交
換反応が抑制されることにより、モノエーテル体を高選
択的に得ることができるものである。従って、最も良好
な結果は、基質に適した細孔径やパラジウムの分散状態
を有する触媒を用いることにより得られる。
【０００９】本発明のパラジウム触媒は、ゼオライトよ
りも大きな細孔を有するメソポーラスアルミノシリケー
トを合成し、これにパラジウムを担持させることにより
製造することができる。
りも大きな細孔を有するメソポーラスアルミノシリケー
トを合成し、これにパラジウムを担持させることにより
製造することができる。
【００１０】メソポーラスアルミノシリケートは、例え
ば、Bull. Chem. Soc. Jpn., 63, 988(1990)に記載され
ている方法等により合成することができるが、Siに対す
るAlの比率は10重量％以下とするのが合成上好ましく、
またメソポーラスアルミノシリケートの細孔径は２〜10
nm、特に２〜６nmであるのが好ましい。
ば、Bull. Chem. Soc. Jpn., 63, 988(1990)に記載され
ている方法等により合成することができるが、Siに対す
るAlの比率は10重量％以下とするのが合成上好ましく、
またメソポーラスアルミノシリケートの細孔径は２〜10
nm、特に２〜６nmであるのが好ましい。
【００１１】本発明においては、メソポーラスアルミノ
シリケートをアンモニア又はその塩で処理してから、そ
れにパラジウムを担持するのが好ましい。予めメソポー
ラスアルミノシリケートをアニモニア又はその塩で処理
する方法としては、合成したメソポーラスアルミノシリ
ケートをアンモニア又はその塩で中和又はイオン交換に
より行う方法がよい。ここでアンモニアは、気体又は水
溶液の状態で使用してもよい。またアンモニアの塩とし
ては、塩化アンモニウム、硫酸アンモニウム、炭酸アン
モニウム等の無機酸のアンモニウム塩；酢酸アンモニウ
ム、ギ酸アンモニウム、乳酸アンモニウム等の低級（炭
素数１〜３）有機酸のアンモニウム塩が挙げられるが、
塩化アンモニウムが特に好ましい。この処理に用いるア
ンモニアの塩は水溶液として用いることができる。アン
モニア又はその塩の量としては混入するナトリウムイオ
ン量に対して充分過剰に用いる必要があり、具体的には
メソポーラスアルミノシリケート中のアルミニウムのモ
ル量に対して１〜１００モル倍、好ましくは１〜５０モ
ル倍の充分に過剰な量のアンモニア又はその塩の水溶液
中に、０〜１００℃、好ましくは常温〜８０℃でメソポ
ーラスアルミノシリケートを分散、接触させた後、水洗
すればよい。また、パラジウムを担持する前に２００〜
７００℃、好ましくは３００〜６００℃で焼成してもよ
いが、焼成せずにパラジウムを担持するのに使用しても
かまわない。このようにパラジウムを担持させる前に、
アンモニア又はその塩でメソポーラスアルミノシリケー
トを処理することにより、メソポーラスアルミノシリケ
ート中に混入するナトリウムイオンが著しく減少し、イ
オン交換によるパラジウムの担持効率が向上し、また担
持されたパラジウムの触媒反応活性が著しく向上する。
特に多価アルコールとカルボニル化合物からエーテルを
合成する際に使用すると、反応活性及びモノエーテル生
成の選択性が著しく向上する。
シリケートをアンモニア又はその塩で処理してから、そ
れにパラジウムを担持するのが好ましい。予めメソポー
ラスアルミノシリケートをアニモニア又はその塩で処理
する方法としては、合成したメソポーラスアルミノシリ
ケートをアンモニア又はその塩で中和又はイオン交換に
より行う方法がよい。ここでアンモニアは、気体又は水
溶液の状態で使用してもよい。またアンモニアの塩とし
ては、塩化アンモニウム、硫酸アンモニウム、炭酸アン
モニウム等の無機酸のアンモニウム塩；酢酸アンモニウ
ム、ギ酸アンモニウム、乳酸アンモニウム等の低級（炭
素数１〜３）有機酸のアンモニウム塩が挙げられるが、
塩化アンモニウムが特に好ましい。この処理に用いるア
ンモニアの塩は水溶液として用いることができる。アン
モニア又はその塩の量としては混入するナトリウムイオ
ン量に対して充分過剰に用いる必要があり、具体的には
メソポーラスアルミノシリケート中のアルミニウムのモ
ル量に対して１〜１００モル倍、好ましくは１〜５０モ
ル倍の充分に過剰な量のアンモニア又はその塩の水溶液
中に、０〜１００℃、好ましくは常温〜８０℃でメソポ
ーラスアルミノシリケートを分散、接触させた後、水洗
すればよい。また、パラジウムを担持する前に２００〜
７００℃、好ましくは３００〜６００℃で焼成してもよ
いが、焼成せずにパラジウムを担持するのに使用しても
かまわない。このようにパラジウムを担持させる前に、
アンモニア又はその塩でメソポーラスアルミノシリケー
トを処理することにより、メソポーラスアルミノシリケ
ート中に混入するナトリウムイオンが著しく減少し、イ
オン交換によるパラジウムの担持効率が向上し、また担
持されたパラジウムの触媒反応活性が著しく向上する。
特に多価アルコールとカルボニル化合物からエーテルを
合成する際に使用すると、反応活性及びモノエーテル生
成の選択性が著しく向上する。
【００１２】パラジウムをメソポーラスアルミノシリケ
ートに担持する方法としては、含浸法、イオン交換法、
ＣＶＤによる方法等が挙げられるが、一般的には含浸法
が広く用いられている。しかしながら、このメソポーラ
スアルミノシリケートへ担持方法としては、イオン交換
法が好ましい。イオン交換法でパラジウムを担持させる
方法は、比較的容易に高分散でパラジウムを担持させる
ことが可能なため、本発明の触媒調製法として適してい
る。
ートに担持する方法としては、含浸法、イオン交換法、
ＣＶＤによる方法等が挙げられるが、一般的には含浸法
が広く用いられている。しかしながら、このメソポーラ
スアルミノシリケートへ担持方法としては、イオン交換
法が好ましい。イオン交換法でパラジウムを担持させる
方法は、比較的容易に高分散でパラジウムを担持させる
ことが可能なため、本発明の触媒調製法として適してい
る。
【００１３】この担持に使用されるパラジウム塩として
は、PdCl2、Pd(OAc)2、Pd(NH4)Cl2、[Pd(NH3)4]Cl2等が
挙げられるが、特にPdCl2、Pd(OAc)2が好ましい。、PdC
l2、Pd(OAc)2等を用いたイオン交換の方法としては、例
えば、PdCl2をアンモニア水に溶解させるか、又はPd(OA
c)2をアセトンと水の混合液に溶解させ、メソポーラス
アルミノシリケート又はその塩を分散、接触させる等の
方法が挙げられるが、PdCl2のアンモニア水溶液を用い
た方法が好ましく、この際のPdCl2量及び処理温度は特
に限定されないが、PdCl2量としてはメソポーラスシリ
ケートに対して好ましくは０．０１〜５００重量％、よ
り好ましくは０．１〜２００重量％であり、処理温度は
好ましくは０〜１００℃、より好ましくは室温〜８０℃
である。
は、PdCl2、Pd(OAc)2、Pd(NH4)Cl2、[Pd(NH3)4]Cl2等が
挙げられるが、特にPdCl2、Pd(OAc)2が好ましい。、PdC
l2、Pd(OAc)2等を用いたイオン交換の方法としては、例
えば、PdCl2をアンモニア水に溶解させるか、又はPd(OA
c)2をアセトンと水の混合液に溶解させ、メソポーラス
アルミノシリケート又はその塩を分散、接触させる等の
方法が挙げられるが、PdCl2のアンモニア水溶液を用い
た方法が好ましく、この際のPdCl2量及び処理温度は特
に限定されないが、PdCl2量としてはメソポーラスシリ
ケートに対して好ましくは０．０１〜５００重量％、よ
り好ましくは０．１〜２００重量％であり、処理温度は
好ましくは０〜１００℃、より好ましくは室温〜８０℃
である。
【００１４】メソポーラスアルミノシリケートへのパラ
ジウムの担持量としては、触媒全量中の0.1〜10重量％
が好ましく、これを超える担持は担持の際にシンタリン
グ等の悪影響を及ぼす可能性が高くなる。
ジウムの担持量としては、触媒全量中の0.1〜10重量％
が好ましく、これを超える担持は担持の際にシンタリン
グ等の悪影響を及ぼす可能性が高くなる。
【００１５】パラジウムをメソポーラスアルミノシリケ
ートに担持させた後に、好ましくは２００〜７００℃、
特に３００〜６００℃で焼成することが好ましい。
ートに担持させた後に、好ましくは２００〜７００℃、
特に３００〜６００℃で焼成することが好ましい。
【００１６】かくして調製されたパラジウム触媒は、例
えば次の反応式で示される環状アセタールと水素とを反
応させてエーテルを製造する際の触媒として使用され
る。
えば次の反応式で示される環状アセタールと水素とを反
応させてエーテルを製造する際の触媒として使用され
る。
【００１７】
【化３】
【００１８】〔式中、Ｒ1及びＲ2は同一又は異なって、
水素原子又は炭素数１〜18の直鎖若しくは分岐鎖の炭化
水素基を示し、Ｒ3〜Ｒ6は同一又は異なって、水素原
子、水酸基、又は置換基を有していてもよい炭素数１〜
14の直鎖若しくは分岐鎖の炭化水素基若しくはヒドロキ
シアルキル基を示し、ｎは０〜２の数を示す。ただし、
Ｒ 1とＲ2は同時に水素原子となることはなく、またＲ1
とＲ2、Ｒ3とＲ4、及びＲ3とＲ5はそれぞれ一緒になっ
て隣接する炭素原子とともに環状構造を形成してもよ
い。〕
水素原子又は炭素数１〜18の直鎖若しくは分岐鎖の炭化
水素基を示し、Ｒ3〜Ｒ6は同一又は異なって、水素原
子、水酸基、又は置換基を有していてもよい炭素数１〜
14の直鎖若しくは分岐鎖の炭化水素基若しくはヒドロキ
シアルキル基を示し、ｎは０〜２の数を示す。ただし、
Ｒ 1とＲ2は同時に水素原子となることはなく、またＲ1
とＲ2、Ｒ3とＲ4、及びＲ3とＲ5はそれぞれ一緒になっ
て隣接する炭素原子とともに環状構造を形成してもよ
い。〕
【００１９】本反応で用いる環状アセタールにおいて、
一般式(1)中のＲ1及びＲ2としては、水素原子；メチル
基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル
基、イソブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル
基、イソオクチル基、ウンデシル基等の炭素数１〜12の
アルキル基；シクロペンタン環、シクロヘキサン環等の
Ｒ1とＲ2による環状構造が好ましいものとして挙げられ
る。
一般式(1)中のＲ1及びＲ2としては、水素原子；メチル
基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル
基、イソブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル
基、イソオクチル基、ウンデシル基等の炭素数１〜12の
アルキル基；シクロペンタン環、シクロヘキサン環等の
Ｒ1とＲ2による環状構造が好ましいものとして挙げられ
る。
【００２０】一般式(1)中のＲ3〜Ｒ6としては、水素原
子；水酸基；メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素
数１〜４のアルキル基又はこれにヒドロキシが置換した
もの；シクロペンタン環、シクロヘキサン環等のＲ3と
Ｒ4又はＲ3とＲ5による環状構造が好ましいものとして
挙げられる。またこれら炭化水素基又はヒドロキシアル
キル基が有していてもよい置換基としては、水素化分解
を妨げない官能基であれば特に制限されず、例えばハロ
ゲン原子、オキソ基等が挙げられる。ｎは０又は１であ
るのが好ましい。最も好ましいＲ3〜Ｒ6及びｎの組み合
わせとしては、Ｒ 3＝水素原子、Ｒ5＝ヒドロキシメチル
基かつｎ＝０の組み合わせ、Ｒ3＝Ｒ5＝水素原子、ｎ＝
１、Ｒ4＝水素原子かつＲ6＝水酸基の組み合わせが挙げ
られる。
子；水酸基；メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素
数１〜４のアルキル基又はこれにヒドロキシが置換した
もの；シクロペンタン環、シクロヘキサン環等のＲ3と
Ｒ4又はＲ3とＲ5による環状構造が好ましいものとして
挙げられる。またこれら炭化水素基又はヒドロキシアル
キル基が有していてもよい置換基としては、水素化分解
を妨げない官能基であれば特に制限されず、例えばハロ
ゲン原子、オキソ基等が挙げられる。ｎは０又は１であ
るのが好ましい。最も好ましいＲ3〜Ｒ6及びｎの組み合
わせとしては、Ｒ 3＝水素原子、Ｒ5＝ヒドロキシメチル
基かつｎ＝０の組み合わせ、Ｒ3＝Ｒ5＝水素原子、ｎ＝
１、Ｒ4＝水素原子かつＲ6＝水酸基の組み合わせが挙げ
られる。
【００２１】かかる環状アセタール(1)は、常法に従っ
て、対応するカルボニル化合物と多価アルコールとのア
セタール化反応によって合成することができる。
て、対応するカルボニル化合物と多価アルコールとのア
セタール化反応によって合成することができる。
【００２２】かかるカルボニル化合物としては、カルボ
ニル基を１個有する炭素数２〜37の直鎖、分岐鎖又は環
状の化合物が好ましく、カルボニル基を１個有する炭素
数２〜19の脂肪族アルデヒド、炭素数３〜37の直鎖若し
くは分岐鎖のケトン及び炭素数５〜８の環状ケトンがよ
り好ましく、カルボニル基を１個有する炭素数２〜12の
脂肪族アルデヒド、炭素数３〜10の直鎖若しくは分岐鎖
のケトン及び炭素数５〜６の環状ケトンが更に好まし
い。このうちプロピルアルデヒド、ブチルアルデヒド、
イソブチルアルデヒド、バレルアルデヒド、イソバレル
アルデヒド、ヘキシルアルデヒド、ヘプチルアルデヒ
ド、オクチルアルデヒド、イソノニルアルデヒド、ドデ
シルアルデヒド、アセトン、メチルエチルケトン、メチ
ルイソブチルケトン、シクロヘキサノンが特に好まし
い。本発明においては、かかるカルボニル化合物を１種
以上用いることができる。
ニル基を１個有する炭素数２〜37の直鎖、分岐鎖又は環
状の化合物が好ましく、カルボニル基を１個有する炭素
数２〜19の脂肪族アルデヒド、炭素数３〜37の直鎖若し
くは分岐鎖のケトン及び炭素数５〜８の環状ケトンがよ
り好ましく、カルボニル基を１個有する炭素数２〜12の
脂肪族アルデヒド、炭素数３〜10の直鎖若しくは分岐鎖
のケトン及び炭素数５〜６の環状ケトンが更に好まし
い。このうちプロピルアルデヒド、ブチルアルデヒド、
イソブチルアルデヒド、バレルアルデヒド、イソバレル
アルデヒド、ヘキシルアルデヒド、ヘプチルアルデヒ
ド、オクチルアルデヒド、イソノニルアルデヒド、ドデ
シルアルデヒド、アセトン、メチルエチルケトン、メチ
ルイソブチルケトン、シクロヘキサノンが特に好まし
い。本発明においては、かかるカルボニル化合物を１種
以上用いることができる。
【００２３】多価アルコールとしては、エチレングリコ
ール、1,2-又は1,3-プロパンジオール、グリセリン、1,
2-、1,3-又は2,3-ブタンジオール、1,2-又は2,4-ペンタ
ンジオール、トリメチロールエタン、トリメチロールプ
ロパン、キシリトール、アラビトール、1,2-又は1,3-シ
クロペンタンジオール、1,2-又は1,3-シクロヘキサンジ
オール、2,3-ノルボルナンジオール等が挙げられ、なか
でもグリセリン及びエチレングリコール、特にグリセリ
ンが好ましい。
ール、1,2-又は1,3-プロパンジオール、グリセリン、1,
2-、1,3-又は2,3-ブタンジオール、1,2-又は2,4-ペンタ
ンジオール、トリメチロールエタン、トリメチロールプ
ロパン、キシリトール、アラビトール、1,2-又は1,3-シ
クロペンタンジオール、1,2-又は1,3-シクロヘキサンジ
オール、2,3-ノルボルナンジオール等が挙げられ、なか
でもグリセリン及びエチレングリコール、特にグリセリ
ンが好ましい。
【００２４】アセタール化反応に用いられる多価アルコ
ールのカルボニル化合物に対する比率（モル比）は、1.
5〜0.2、特に1.2〜0.6が好ましい。この反応は酸触媒と
してパラトルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、硫酸
等をカルボニル化合物に対して0.01〜５モル％、好まし
くは0.1〜１モル％用いて行う。
ールのカルボニル化合物に対する比率（モル比）は、1.
5〜0.2、特に1.2〜0.6が好ましい。この反応は酸触媒と
してパラトルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、硫酸
等をカルボニル化合物に対して0.01〜５モル％、好まし
くは0.1〜１モル％用いて行う。
【００２５】上記アセタール化反応は、無溶媒下で、あ
るいはキシレン、トルエン、ベンゼン、オクタン、イソ
オクタン、ヘプタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ペン
タン、ブタン、リグロイン、石油エーテル等の不活性溶
媒又はこれらの混合溶媒中で、生成する水を除去しなが
ら行うのが好ましい。また、窒素流通下、窒素雰囲気下
及び空気雰囲気下のいずれで反応を行ってもよい。反応
温度は、使用するカルボニル化合物の沸点にもよるが、
十分な反応速度と着色・副反応の抑制の観点より、20〜
130℃、特に50〜100℃の範囲が好ましい。反応時間は、
種々の条件によって変りうるが通常１〜30時間が好まし
い。得られた環状アセタールは中和し、濾過、洗浄等の
前処理を行った後、白土処理、晶析、蒸留等の操作によ
って精製できる。
るいはキシレン、トルエン、ベンゼン、オクタン、イソ
オクタン、ヘプタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ペン
タン、ブタン、リグロイン、石油エーテル等の不活性溶
媒又はこれらの混合溶媒中で、生成する水を除去しなが
ら行うのが好ましい。また、窒素流通下、窒素雰囲気下
及び空気雰囲気下のいずれで反応を行ってもよい。反応
温度は、使用するカルボニル化合物の沸点にもよるが、
十分な反応速度と着色・副反応の抑制の観点より、20〜
130℃、特に50〜100℃の範囲が好ましい。反応時間は、
種々の条件によって変りうるが通常１〜30時間が好まし
い。得られた環状アセタールは中和し、濾過、洗浄等の
前処理を行った後、白土処理、晶析、蒸留等の操作によ
って精製できる。
【００２６】本発明は、かくして得られた環状アセター
ルの水素化分解反応において、触媒としてメソポーラス
アルミノシリケートに担持されたパラジウム触媒を用い
る。本発明におけるパラジウム触媒の使用量は、そのパ
ラジウム担持量によっても異なるが、例えばパラジウム
が５重量％担持されたものであれば、使用するヒドロキ
シ化合物に対して0.1〜10重量％が好ましい。
ルの水素化分解反応において、触媒としてメソポーラス
アルミノシリケートに担持されたパラジウム触媒を用い
る。本発明におけるパラジウム触媒の使用量は、そのパ
ラジウム担持量によっても異なるが、例えばパラジウム
が５重量％担持されたものであれば、使用するヒドロキ
シ化合物に対して0.1〜10重量％が好ましい。
【００２７】上記触媒の存在下、環状アセタール化合物
を水素雰囲気中で反応させるに際し、当該水素圧は特に
限定されず、加圧下及び大気圧下のいずれでもよいが、
0.1（大気圧）〜29.4MPa、特に0.1（大気圧）〜19.6MPa
が好ましい。なお、反応方式は、密閉方式及び水素流通
方式のいずれでもよい。
を水素雰囲気中で反応させるに際し、当該水素圧は特に
限定されず、加圧下及び大気圧下のいずれでもよいが、
0.1（大気圧）〜29.4MPa、特に0.1（大気圧）〜19.6MPa
が好ましい。なお、反応方式は、密閉方式及び水素流通
方式のいずれでもよい。
【００２８】また、反応温度は特に限定されないが、10
〜220℃、特に30〜200℃が好ましい。反応時間は、反応
温度、水素圧、触媒量等によって適宜選べばよいが、通
常１〜40時間、好ましくは１〜20時間である。本発明の
反応には、溶媒を用いることもでき、かかる溶媒として
は、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の炭化水素系溶媒
が挙げられる。溶媒の使用量は、反応液に対して0.5〜
２倍容量が好ましい。また、反応系に環状アセタールの
原料であるカルボニル化合物や多価アルコールを添加し
てもよい。更に、リン酸などの酸性物質や周期表３族元
素のハロゲン化物を微量添加してもよい。
〜220℃、特に30〜200℃が好ましい。反応時間は、反応
温度、水素圧、触媒量等によって適宜選べばよいが、通
常１〜40時間、好ましくは１〜20時間である。本発明の
反応には、溶媒を用いることもでき、かかる溶媒として
は、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の炭化水素系溶媒
が挙げられる。溶媒の使用量は、反応液に対して0.5〜
２倍容量が好ましい。また、反応系に環状アセタールの
原料であるカルボニル化合物や多価アルコールを添加し
てもよい。更に、リン酸などの酸性物質や周期表３族元
素のハロゲン化物を微量添加してもよい。
【００２９】本反応においては、アセタール交換反応が
抑制されるためモノエーテル体を高選択的に得ることが
できるが、環状アセタールの分解される位置の違い（１
位−２位間，２位−３位間）により２種類のモノエーテ
ルが得られ得る。しかしこれらのいずれも油性汚れ溶解
剤、水に可溶な有機溶剤、極性油、乳化剤、潤滑剤、保
湿剤等として、また界面活性剤の製造中間体として有用
であり、単離して又は混合物のままこれらの用途に使用
することができる。
抑制されるためモノエーテル体を高選択的に得ることが
できるが、環状アセタールの分解される位置の違い（１
位−２位間，２位−３位間）により２種類のモノエーテ
ルが得られ得る。しかしこれらのいずれも油性汚れ溶解
剤、水に可溶な有機溶剤、極性油、乳化剤、潤滑剤、保
湿剤等として、また界面活性剤の製造中間体として有用
であり、単離して又は混合物のままこれらの用途に使用
することができる。
【００３０】反応混合物からのモノエーテルの精製は、
濾過を行って触媒を除去した後、常法、例えば溶媒留
去、洗浄、再結晶、蒸留、クロマトグラフィー等の手段
又はこれらの組み合せにより行うことができる。
濾過を行って触媒を除去した後、常法、例えば溶媒留
去、洗浄、再結晶、蒸留、クロマトグラフィー等の手段
又はこれらの組み合せにより行うことができる。
【００３１】本発明のパラジウム触媒に含有するパラジ
ウム量、ケイ素量、アルミニウム量は原子吸光分析等の
元素分析法により、またナトリウム量は、Ｘ線電子分光
分析法により測定することができる。
ウム量、ケイ素量、アルミニウム量は原子吸光分析等の
元素分析法により、またナトリウム量は、Ｘ線電子分光
分析法により測定することができる。
【００３２】
【実施例】実施例１ パラジウム触媒(1)の調製 (1) メソポーラスアルミノシリケートの合成 水ガラス250ｇ、アルミン酸ナトリウム10.8ｇ及び水550
mLを１Ｌステンレス製ビーカーに入れ、70℃で３時間撹
拌後、水を蒸発させ、更に乾燥した後、700℃で５時間
焼成し、120ｇの層状アルミノシリケートを得た。得ら
れた層状アルミノシリケート（重量比Si：A1＝95：５）
15ｇに水100mLを加え、撹拌後、セチルジメチルアンモ
ニウムクロライド12ｇ、1,3,5-トリメチルベンゼン5.0
ｇ及び水300mLを加え、70℃で３時間撹拌した後、２×
１０-3mol／m 3塩酸でpHを8.5に調整しながら12時間撹拌
した。室温まで冷却した後、濾過、水洗及び乾燥を行
い、550℃で８時間焼成しメソポーラスアルミノシリケ
ートを得た。更に２×１０-3mol／m3塩化アンモニウム
水溶液200mLを加え、50℃で３時間撹拌処理した後、濾
過、水洗及び乾燥を行い、500℃で２時間焼成し、14ｇ
の白色固体を得た。XRD解析より細孔径は4.7nmであっ
た。
mLを１Ｌステンレス製ビーカーに入れ、70℃で３時間撹
拌後、水を蒸発させ、更に乾燥した後、700℃で５時間
焼成し、120ｇの層状アルミノシリケートを得た。得ら
れた層状アルミノシリケート（重量比Si：A1＝95：５）
15ｇに水100mLを加え、撹拌後、セチルジメチルアンモ
ニウムクロライド12ｇ、1,3,5-トリメチルベンゼン5.0
ｇ及び水300mLを加え、70℃で３時間撹拌した後、２×
１０-3mol／m 3塩酸でpHを8.5に調整しながら12時間撹拌
した。室温まで冷却した後、濾過、水洗及び乾燥を行
い、550℃で８時間焼成しメソポーラスアルミノシリケ
ートを得た。更に２×１０-3mol／m3塩化アンモニウム
水溶液200mLを加え、50℃で３時間撹拌処理した後、濾
過、水洗及び乾燥を行い、500℃で２時間焼成し、14ｇ
の白色固体を得た。XRD解析より細孔径は4.7nmであっ
た。
【００３３】(2) メソポーラスアルミノシリケートへ
のパラジウムの担持 塩化パラジウム0.5ｇを１×１０-3mol／m3アンモニア水
30mL及び水50mLに溶解させ、50℃に昇温した。（１）で
合成・処理したメソポーラスアルミノシリケート5.0ｇ
及び水50mLを加え、更に３時間撹拌後、濾過、水洗及び
乾燥を行い、500℃で２時間焼成し、5.0ｇのパラジウム
担持メソポーラスアルミノシリケート（パラジウム触媒
(1)）を得た。原子吸光分析による元素分析より触媒の
パラジウム担持量は2.1％であり、Ｘ線電子分光分析
（島津製作所製）を用いた分析によりナトリウム含有量
は0.1％以下であった。
のパラジウムの担持 塩化パラジウム0.5ｇを１×１０-3mol／m3アンモニア水
30mL及び水50mLに溶解させ、50℃に昇温した。（１）で
合成・処理したメソポーラスアルミノシリケート5.0ｇ
及び水50mLを加え、更に３時間撹拌後、濾過、水洗及び
乾燥を行い、500℃で２時間焼成し、5.0ｇのパラジウム
担持メソポーラスアルミノシリケート（パラジウム触媒
(1)）を得た。原子吸光分析による元素分析より触媒の
パラジウム担持量は2.1％であり、Ｘ線電子分光分析
（島津製作所製）を用いた分析によりナトリウム含有量
は0.1％以下であった。
【００３４】実施例２ パラジウム触媒(2)の調製 (1) メソポーラスアルミノシリケートの合成 実施例１と同様にして得られた層状アルミノシリケート
50ｇに水300mLを加え、撹拌後、セチルジメチルアンモ
ニウムクロライド40ｇ及び水１Ｌを加え、70℃で３時間
撹拌した後、２×１０-3mol／m3塩酸でpHを8.5に調整し
ながら12時間撹拌した。室温まで冷却した後、濾過、水
洗及び乾燥を行い、700℃で７時間焼成し、メソポーラ
スアルミノシリケートをを得た。更に２×１０-3mol／m
3塩化アンモニウム水溶液800mLを加え、50℃で３時間撹
拌処理した後、濾過、水洗及び乾燥を行い、500℃で２
時間焼成し、38ｇの白色固体を得た。原子吸光分析によ
る元素分析より、Al：Si比は重量比で4.8：95.2であ
り、またXRD解析より細孔径は3.5nm、BFT法による比表
面積は750m2/gであった。
50ｇに水300mLを加え、撹拌後、セチルジメチルアンモ
ニウムクロライド40ｇ及び水１Ｌを加え、70℃で３時間
撹拌した後、２×１０-3mol／m3塩酸でpHを8.5に調整し
ながら12時間撹拌した。室温まで冷却した後、濾過、水
洗及び乾燥を行い、700℃で７時間焼成し、メソポーラ
スアルミノシリケートをを得た。更に２×１０-3mol／m
3塩化アンモニウム水溶液800mLを加え、50℃で３時間撹
拌処理した後、濾過、水洗及び乾燥を行い、500℃で２
時間焼成し、38ｇの白色固体を得た。原子吸光分析によ
る元素分析より、Al：Si比は重量比で4.8：95.2であ
り、またXRD解析より細孔径は3.5nm、BFT法による比表
面積は750m2/gであった。
【００３５】(2) メソポーラスアルミノシリケートへ
のパラジウムの担持 塩化パラジウム2.0ｇを28％アンモニア水250mL及び水75
0mLに溶解させ、50℃に昇温した。（１）で合成・処理
したメソポーラスアルミノシリケート2.0ｇを加え、更
に３時間撹拌後、濾過、水洗及び乾燥を行い、550℃で
２時間焼成し、パラジウム担持メソポーラスアルミノシ
リケート（パラジウム触媒(2)）を得た。原子吸光分析
による元素分析より触媒のパラジウム担持量は6.7％で
あり、Ｘ線光電子分光分析装置を用いた分析ではナトリ
ウム含有量は0.1％以下であった。
のパラジウムの担持 塩化パラジウム2.0ｇを28％アンモニア水250mL及び水75
0mLに溶解させ、50℃に昇温した。（１）で合成・処理
したメソポーラスアルミノシリケート2.0ｇを加え、更
に３時間撹拌後、濾過、水洗及び乾燥を行い、550℃で
２時間焼成し、パラジウム担持メソポーラスアルミノシ
リケート（パラジウム触媒(2)）を得た。原子吸光分析
による元素分析より触媒のパラジウム担持量は6.7％で
あり、Ｘ線光電子分光分析装置を用いた分析ではナトリ
ウム含有量は0.1％以下であった。
【００３６】(3) 触媒効果（1,3-ジメチルブチルヘキ
サデシルエーテルの製造） （イ）水素ガス導入管及び攪拌装置を備えた500mLのオ
ートクレーブにヘキサデシルアルコール116g(0.5mol)、
4-メチル-2-ペンタノン100g(1.0mol)及び触媒としてパ
ラジウム触媒(2)1.5gを仕込み、水素圧9.8MPa下、150℃
で５時間反応を行った。反応終了後、濾過により触媒を
除去し、減圧にて過剰の4-メチル-2-ペンタノンを留去
した。更に減圧蒸留により精製し、目的とする1,3-ジメ
チルブチルヘキサデシルエーテル153g(0.47mol)を無色
透明オイルとして得た。単離収率は94％であり、ガスク
ロマトグラフィー分析より純度は99.5％であった。
サデシルエーテルの製造） （イ）水素ガス導入管及び攪拌装置を備えた500mLのオ
ートクレーブにヘキサデシルアルコール116g(0.5mol)、
4-メチル-2-ペンタノン100g(1.0mol)及び触媒としてパ
ラジウム触媒(2)1.5gを仕込み、水素圧9.8MPa下、150℃
で５時間反応を行った。反応終了後、濾過により触媒を
除去し、減圧にて過剰の4-メチル-2-ペンタノンを留去
した。更に減圧蒸留により精製し、目的とする1,3-ジメ
チルブチルヘキサデシルエーテル153g(0.47mol)を無色
透明オイルとして得た。単離収率は94％であり、ガスク
ロマトグラフィー分析より純度は99.5％であった。
【００３７】（ロ）上記パラジウム触媒(2)の調製に際
し、２×１０-3mol／m3塩化アンモニウムでメソポーラ
スアルミノシリケートを処理しないで、他は同様にパラ
ジウムを担持させたパラジウム触媒を調製した。パラジ
ウム担持量は５％、ナトリウム含有量は2.1％であっ
た。このパラジウム触媒を用いて（イ）と同様な反応と
した結果、1,3-ジメチルブチルヘキサデシルエーテルの
単離収率は51％であった。
し、２×１０-3mol／m3塩化アンモニウムでメソポーラ
スアルミノシリケートを処理しないで、他は同様にパラ
ジウムを担持させたパラジウム触媒を調製した。パラジ
ウム担持量は５％、ナトリウム含有量は2.1％であっ
た。このパラジウム触媒を用いて（イ）と同様な反応と
した結果、1,3-ジメチルブチルヘキサデシルエーテルの
単離収率は51％であった。
【００３８】実施例３ 3-オクチルオキシ-1,2-プロパ
ンジオールの合成 (1) 2-ヘプチル-4-ヒドロキシメチル-1,3-ジオキソラ
ン及び2-ヘプチル-1,3-ジオキサン-5-オール 温度計、還流冷却器、ディーンスタークトラップ、塩化
カルシウム管及び撹拌器を備えた容量３Ｌの反応容器に
オクチルアルデヒド512.0ｇ（3.994mol）、グリセリン4
04.5ｇ（4.392mol）、パラトルエンスルホン酸一水和物
3.80ｇ（0.02mol）及びトルエン400mLを仕込んだ、撹拌
しながら昇温し、還流温度で４時間反応を行い、計算量
の水を留去した。反応終了後、炭酸ナトリウム4.24ｇ
（0.04mol）を加えて中和し、水100mLを加えた。その
後、静置分層し、上層を飽和食塩水（100mL）で２回洗
浄した後蒸留し、標記化合物の混合物を802.3ｇ得た。
ガスクロマトグラフィー分析より上記混合物としての純
度は98.5重量％であった。
ンジオールの合成 (1) 2-ヘプチル-4-ヒドロキシメチル-1,3-ジオキソラ
ン及び2-ヘプチル-1,3-ジオキサン-5-オール 温度計、還流冷却器、ディーンスタークトラップ、塩化
カルシウム管及び撹拌器を備えた容量３Ｌの反応容器に
オクチルアルデヒド512.0ｇ（3.994mol）、グリセリン4
04.5ｇ（4.392mol）、パラトルエンスルホン酸一水和物
3.80ｇ（0.02mol）及びトルエン400mLを仕込んだ、撹拌
しながら昇温し、還流温度で４時間反応を行い、計算量
の水を留去した。反応終了後、炭酸ナトリウム4.24ｇ
（0.04mol）を加えて中和し、水100mLを加えた。その
後、静置分層し、上層を飽和食塩水（100mL）で２回洗
浄した後蒸留し、標記化合物の混合物を802.3ｇ得た。
ガスクロマトグラフィー分析より上記混合物としての純
度は98.5重量％であった。
【００３９】(2) 3-オクチルオキシ-1,2-プロパンジオ
ール 70mLのオートクレーブに(1)で得た混合物22.3ｇ（0.11m
ol）及びパラジウム触媒(1)2.25ｇを仕込み、水素圧7.0
MPa下、190℃で15時間反応を行った。反応終了後、濾過
により触媒を除去し、18.0ｇの粗生成物を得た。ガスク
ロマトグラフィー分析の結果、この粗生成物中のモノア
ルキルエーテルとジアルキルエーテルの重量比は94：６
であり、モノアルキルエーテル中には標記化合物以外に
2-オクチルオキシ-1,3-プロパンジオールが16重量％含
まれていた。
ール 70mLのオートクレーブに(1)で得た混合物22.3ｇ（0.11m
ol）及びパラジウム触媒(1)2.25ｇを仕込み、水素圧7.0
MPa下、190℃で15時間反応を行った。反応終了後、濾過
により触媒を除去し、18.0ｇの粗生成物を得た。ガスク
ロマトグラフィー分析の結果、この粗生成物中のモノア
ルキルエーテルとジアルキルエーテルの重量比は94：６
であり、モノアルキルエーテル中には標記化合物以外に
2-オクチルオキシ-1,3-プロパンジオールが16重量％含
まれていた。
【００４０】比較例１ 〔市販触媒による3-オクチルオキシ-1,2-プロパンジオ
ールの合成〕触媒としてパラジウム触媒(1)の代わりに
市販の５重量％パラジウムカーボン粉末を1.1ｇ用いる
以外は実施例１と同様にして反応させたところ、モノア
ルキルエーテルとジアルキルエーテルの重量比は、68：
32であった。
ールの合成〕触媒としてパラジウム触媒(1)の代わりに
市販の５重量％パラジウムカーボン粉末を1.1ｇ用いる
以外は実施例１と同様にして反応させたところ、モノア
ルキルエーテルとジアルキルエーテルの重量比は、68：
32であった。
【００４１】実施例４ 3-sec-ブトキシ-1,2-プロパン
ジオールの合成 (1) 2-メチル-2-エチル-4-ヒドロキシメチル-1,3-ジオ
キソラン 温度計、還流冷却器、ディーンスタークトラップ、塩化
カルシウム管及び撹拌器を備えた３Ｌの反応容器にメチ
ルエチルケトン400ｇ（5.547mol）、グリセリン561.91
ｇ（6.102mol）、パラトルエンスルホン酸一水和物21.1
0ｇ（0.1109mol）及びヘキサン400mLを仕込んだ。撹拌
しながら昇温し、67〜74℃で30時間反応を行い、計算量
の水を留去した。反応終了後60℃に冷却し、炭酸ナトリ
ウム23.51ｇ（0.2218mol）を加えて中和し、60℃で30分
間撹拌した後、徐々に120℃まで昇温し、ヘキサン400mL
を回収し、濾過を行い、粗製の標記化合物894.74ｇを得
た。ビグリュー管（20cm×1.5cmφ）を用いて減圧蒸留
し、標記化合物725.14ｇを得た（収率89.4％）。ガスク
ロマトグラフィー分析より上記化合物の純度は99.1重量
％であった。b.p.101〜104℃/17mmHg。
ジオールの合成 (1) 2-メチル-2-エチル-4-ヒドロキシメチル-1,3-ジオ
キソラン 温度計、還流冷却器、ディーンスタークトラップ、塩化
カルシウム管及び撹拌器を備えた３Ｌの反応容器にメチ
ルエチルケトン400ｇ（5.547mol）、グリセリン561.91
ｇ（6.102mol）、パラトルエンスルホン酸一水和物21.1
0ｇ（0.1109mol）及びヘキサン400mLを仕込んだ。撹拌
しながら昇温し、67〜74℃で30時間反応を行い、計算量
の水を留去した。反応終了後60℃に冷却し、炭酸ナトリ
ウム23.51ｇ（0.2218mol）を加えて中和し、60℃で30分
間撹拌した後、徐々に120℃まで昇温し、ヘキサン400mL
を回収し、濾過を行い、粗製の標記化合物894.74ｇを得
た。ビグリュー管（20cm×1.5cmφ）を用いて減圧蒸留
し、標記化合物725.14ｇを得た（収率89.4％）。ガスク
ロマトグラフィー分析より上記化合物の純度は99.1重量
％であった。b.p.101〜104℃/17mmHg。
【００４２】(2) 3-sec-ブトキシ-1,2-プロパンジオー
ル 70mLのオートクレーブに(1)で得た化合物29.2ｇ（0.10m
ol）及びパラジウム触媒(2)2.2ｇを仕込み、水素圧7.0M
Pa下、190℃で15時間反応を行った。反応終了後、濾過
により触媒を除去し、27.2ｇの粗生成物を得た。ガスク
ロマトグラフィー分析の結果、この粗生成物中のモノア
ルキルエーテルとジアルキルエーテルの重量比は92：８
であり、モノアルキルエーテル中には標記化合物以外に
2-sec-ブトキシ-1,3-プロパンジオールが15重量％含ま
れていた。
ル 70mLのオートクレーブに(1)で得た化合物29.2ｇ（0.10m
ol）及びパラジウム触媒(2)2.2ｇを仕込み、水素圧7.0M
Pa下、190℃で15時間反応を行った。反応終了後、濾過
により触媒を除去し、27.2ｇの粗生成物を得た。ガスク
ロマトグラフィー分析の結果、この粗生成物中のモノア
ルキルエーテルとジアルキルエーテルの重量比は92：８
であり、モノアルキルエーテル中には標記化合物以外に
2-sec-ブトキシ-1,3-プロパンジオールが15重量％含ま
れていた。
【００４３】比較例２ 〔市販触媒による3-sec-ブトキシ-1,2-プロパンジオー
ルの製造〕触媒としてパラジウム触媒(2)の代わりに市
販の５重量％パラジウムカーボン粉末を2.9ｇ用いる以
外は実施例２と同様にして反応させたところ、モノアル
キルエーテルとジアルキルエーテルの重量比は70：30で
あった。
ルの製造〕触媒としてパラジウム触媒(2)の代わりに市
販の５重量％パラジウムカーボン粉末を2.9ｇ用いる以
外は実施例２と同様にして反応させたところ、モノアル
キルエーテルとジアルキルエーテルの重量比は70：30で
あった。
【００４４】実施例５ 2-(1-メチルヘプチルオキシ)エ
タノールの合成 70mLのオートクレーブに2-ヘキシル-2-メチル-1,3-ジオ
キソラン30ｇ（0.17mol）及びパラジウム触媒(2)2.2ｇ
及びリン酸110mgを仕込み、水素圧10MPa下、150℃で５
時間反応を行った。反応終了後、濾過により触媒を除去
し、粗生成物を29.7ｇ得た。ガスクロマトグラフィー分
析の結果、この粗生成物中のモノアルキルエーテルとジ
アルキルエーテルの重量比は88：12であった。
タノールの合成 70mLのオートクレーブに2-ヘキシル-2-メチル-1,3-ジオ
キソラン30ｇ（0.17mol）及びパラジウム触媒(2)2.2ｇ
及びリン酸110mgを仕込み、水素圧10MPa下、150℃で５
時間反応を行った。反応終了後、濾過により触媒を除去
し、粗生成物を29.7ｇ得た。ガスクロマトグラフィー分
析の結果、この粗生成物中のモノアルキルエーテルとジ
アルキルエーテルの重量比は88：12であった。
【００４５】比較例３ 〔市販触媒による2-(1-メチルヘプチルオキシ)エタノー
ルの合成〕触媒としてパラジウム触媒(2)の代わりに市
販の５重量％パラジウム担持アルミナを0.6ｇ用いる以
外は実施例３と同様にして反応させたところ、モノアル
キルエーテルとジアルキルエーテルの重量比は25：75で
あった。
ルの合成〕触媒としてパラジウム触媒(2)の代わりに市
販の５重量％パラジウム担持アルミナを0.6ｇ用いる以
外は実施例３と同様にして反応させたところ、モノアル
キルエーテルとジアルキルエーテルの重量比は25：75で
あった。
【００４６】
【発明の効果】本発明のパラジウム触媒はエーテル製造
に際して反応活性が優れ、環状アセタールの水素化分解
によるエーテルの合成においても、高選択的にモノエー
テルを得ることができる。
に際して反応活性が優れ、環状アセタールの水素化分解
によるエーテルの合成においても、高選択的にモノエー
テルを得ることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ (72)発明者 木附 智人 和歌山県和歌山市湊1334 花王株式会社研 究所内 Ｆターム(参考） 4G069 AA03 AA08 AA09 AA12 BA03A BA03B BB08A BB08B BB08C BC72A BC72B BC72C CB02 CB33 DA06 EC14X FA01 FA02 FB08 FB27 4H006 AA02 AC28 BA25 BA55 BA81 BA85 GN08 GP01 4H039 CA61 CH70
Claims (10)
- 【請求項１】 アンモニア又はその塩で処理したメソポ
ーラスアルミノシリケートにパラジウムを担持させたパ
ラジウム触媒。 - 【請求項２】 ナトリウム含有量が０．１重量％以下で
ある請求項１記載のパラジウム触媒。 - 【請求項３】 メソポーラスアルミノシリケートをアン
モニア又はその塩で処理し、次いでパラジウムを担持さ
せるパラジウム触媒の調製法。 - 【請求項４】 アンモニア又はその塩で処理した後に、
焼成する請求項３記載のパラジウム触媒の調製法。 - 【請求項５】 パラジウムを担持させた後に焼成する請
求項３又は４記載のパラジウム触媒の調製法。 - 【請求項６】 パラジウムの担持が、塩化パラジウムの
アンモニア水溶液で処理することにより行なわれる請求
項３〜５のいずれか１項記載のパラジウム触媒の調製
法。 - 【請求項７】 環状アセタールと水素とをメソポーラス
アルミノシリケートに担持されたパラジウム触媒の存在
下に反応させるエーテルの製法。 - 【請求項８】 メソポーラスアルミノシリケートの細孔
径が２〜10nmである請求項７記載のエーテルの製法。 - 【請求項９】 環状アセタールが次の一般式(1) 【化１】 〔式中、Ｒ1及びＲ2は同一又は異なって、水素原子又は
炭素数１〜18の直鎖若しくは分岐鎖の炭化水素基を示
し、Ｒ3〜Ｒ6は同一又は異なって、水素原子、水酸基、
又は置換基を有していてもよい炭素数１〜14の直鎖若し
くは分岐鎖の炭化水素基若しくはヒドロキシアルキル基
を示し、ｎは０〜２の数を示す。ただし、Ｒ 1とＲ2は同
時に水素原子となることはなく、またＲ1とＲ2、Ｒ3と
Ｒ4、及びＲ3とＲ5はそれぞれ一緒になって隣接する炭
素原子とともに環状構造を形成してもよい。〕で表さ
れ、得られるエーテルが次の一般式(2) 【化２】 〔式中、Ｒ1〜Ｒ6及びｎは前記と同じ意味を示す。〕で
表されるものである請求項７又は８記載のエーテルの製
法。 - 【請求項１０】 環状アセタールが、一般式(1)におい
て、Ｒ3＝水素原子、Ｒ5＝ヒドロキシメチル基かつｎ＝
０の化合物、又はＲ3＝Ｒ5＝水素原子、ｎ＝１、Ｒ4＝
水素原子かつＲ6＝水酸基の化合物である請求項９記載
のエーテルの製法。
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