JP2001187895A - 洗浄剤組成物 - Google Patents

洗浄剤組成物

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JP2001187895A
JP2001187895A JP37722599A JP37722599A JP2001187895A JP 2001187895 A JP2001187895 A JP 2001187895A JP 37722599 A JP37722599 A JP 37722599A JP 37722599 A JP37722599 A JP 37722599A JP 2001187895 A JP2001187895 A JP 2001187895A
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JP
Japan
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mass
ethylene oxide
ether
acid
alkyl
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JP37722599A
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Inventor
Ayako Suzuki
彩子 鈴木
Masahito Ono
雅人 小野
Koji Nakajima
浩嗣 中島
Hiroshi Miyake
博 三宅
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Lion Corp
Original Assignee
Lion Corp
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】 プラスチック、タイル、ステンレス、陶磁
器、ガラス等の特に浴室硬表面用の洗浄、起泡、すすぎ
性に優れた洗浄剤組成物を提供する。 【解決手段】 A、Bを含有する洗浄剤組成物。 A)一般式Iのアルキルエトキシサルフェート又は塩
0.01〜5質量%。 (RはC6〜24の直鎖/分岐鎖の1級アルキル又は
アルケニル基、nはEO平均付加モル数で1〜7、Mは
水素、アルカリ(土類)金属、アルカノールアミン又は
アンモニウム) Aは異なるEOモル数の付加体混合物で、0でない最多
のモル数付加体20〜35質量%、それと前後のモル数
付加体との総量55〜75質量%を含む。 B)金属イオン封鎖剤/塩0.01〜10質量%、又は
一般式IIの溶剤0.1〜15質量% (RはC2〜8の直鎖/分岐鎖/環状のアルキル又は
アルケニル基、ベンジル基、ベンゼン環、xとyは同時
に0でない0〜8の整数、EOとPOは任意配列され
る。)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、主に繊維強化プラ
スチックを含むプラスチック類、タイル、ステンレス、
陶磁器、ガラス等に使用される洗浄剤組成物に関し、さ
らに詳しくは、洗浄力、起泡力及びすすぎ性に優れ、特
に浴室用として好適に使用される硬表面用洗浄剤組成物
に関する。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】一般
に、浴槽、浴室内の床、壁及び用具類等に使用されてい
る繊維強化プラスチックを含むプラスチック類、タイ
ル、ステンレス、陶磁器、ガラス等の硬表面に付着する
主な汚れの1つとして、石鹸やボディーシャンプー等に
含まれる脂肪酸と水道水中のカルシウム分等が結合して
生成する脂肪酸金属塩(石鹸カス)が挙げられる。ま
た、その他の汚れとして、タンパク質等の含窒素化合
物、遊離脂肪酸、グリセライド類等の有機物及び泥等の
無機物の混合物が挙げられる。従来、このような汚れを
除去する洗浄剤としては、酸性物質としてのヒドロキシ
カルボン酸、界面活性剤及び水溶性溶剤を含有する酸性
洗浄剤が知られている(特開昭52−77111号公
報)。しかし、このような酸性洗浄剤は、洗浄効果はあ
るものの浴室床、壁等のタイル目地、アルミサッシ等の
住居材質に損傷を与えるという欠点がある。また、誤っ
て塩素系漂白剤と混合すると人体に有害な塩素ガスを発
生するという危険性がある。
【0003】これに対し、中性域で洗浄効果を持つ洗浄
剤の開発が行われ、特開昭53−35710号(アニオ
ン性界面活性剤、ノニオン性界面活性剤、グリコールエ
ーテル系溶剤、クエン酸等のキレート剤を組み合わせた
浴室洗浄剤)、特開昭61−283696号(カチオン
性界面活性剤及び非イオン性界面活性剤を組み合わせた
中性洗浄剤)、特開昭61−283697号(カチオン
性界面活性剤、非イオン性界面活性剤及び水溶性溶剤を
組み合わせた洗浄剤)、特開昭61−283700号
(カチオン性界面活性剤、非イオン性界面活性剤及びマ
レイン酸を組み合わせた洗浄剤)、特開昭63−515
00号(界面活性剤、アミノカルボン酸からなる洗浄力
向上剤、グリコール溶剤を組み合わせた浴室用洗浄
剤)、特開平1−2211497号(カチオン性界面活
性剤、非イオン性界面活性剤、アミノカルボン酸及び溶
剤を組み合わせた浴室用洗浄剤)等が開示されている。
しかし、これら公報に示された洗浄剤は、いずれも洗浄
力、起泡力、すすぎ性を同時に満足するものではなかっ
た。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは前記課題を
解決するために鋭意研究を重ねた結果、特定のアルキル
エトキシサルフェートまたはその塩と金属封鎖剤または
その塩を特定量で併用することにより、また、特定のア
ルキルエトキシサルフェートまたはその塩と特定の溶剤
を特定量で併用することにより、硬表面に付着する様々
な汚れに対する洗浄力、泡立ち性、及びすすぎ性を同時
に満足する優れた洗浄剤組成物が得られることを見出
し、本発明を完成するに至った。
【0005】すなわち、第1の発明として、下記(A)
(B)成分を含有することを特徴とする洗浄剤組成物が
提供される。 (A)0.01〜5質量%の下記一般式(I)で表され
るアルキルエトキシサルフェートまたはその塩 RO−(CHCHO)−SOM・・・(I) R:炭素数6〜24の直鎖状または分岐鎖状の1級ア
ルキル基またはアルケニル基 n:エチレンオキシド基の平均付加モル数を示し、1〜
7の範囲 M:水素原子、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アル
カノールアミンまたはアンモニウム (前記化合物(A)は異なるエチレンオキシド付加モル
数のものを含む混合物であり、エチレンオキシド付加モ
ル数が0のものが最も多く含まれることはなく、最も多
く含まれるエチレンオキシド付加体を20〜35質量%
含み、最も多く含まれるエチレンオキシド付加体の前後
の付加モル数のエチレンオキシド付加体との総量が55
〜75質量%である。) (B)0.01〜10質量%の金属イオン封鎖剤または
その塩
【0006】次に、第2の発明として、下記(A)
(B)成分を含有することを特徴とする洗浄剤組成物が
提供される。 (A)0.01〜5質量%の下記一般式(I)で表され
るアルキルエトキシサルフェートまたはその塩 RO−(CHCHO)−SOM・・・(I) R:炭素数6〜24の直鎖状または分岐鎖状の1級ア
ルキル基またはアルケニル基 n:エチレンオキシド基の平均付加モル数を示し、1〜
7の範囲 M:水素原子、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アル
カノールアミンまたはアンモニウム (前記化合物(A)は異なるエチレンオキシド付加モル
数のものを含む混合物であり、エチレンオキシド付加モ
ル数が0のものが最も多く含まれることはなく、最も多
く含まれるエチレンオキシド付加体を20〜35質量%
含み、最も多く含まれるエチレンオキシド付加体の前後
の付加モル数のエチレンオキシド付加体との総量が55
〜75質量%である。) (B)0.1〜15質量%の下記一般式(II)で表さ
れる溶剤 R−O−{(CO)(CO)}−H…(II) (式中、Rは、炭素数2〜8の直鎖、分岐鎖もしくは
環状のアルキル基またはアルケニル基、ベンジル基、ベ
ンゼン環を示し、x及びyは、0〜8の整数を示し、同
時に0になることはなく、x×y≠0のときに、オキシ
エチレン基とオキシプロピレン基は任意に配列され
る。)
【0007】
【発明の実施の形態】以下、本発明について、さらに詳
細に説明する。本発明には、第1の発明、第2の発明と
もに主洗浄基剤である(A)成分として、下記一般式
(I)で表されるアルキルエトキシサルフェートまたは
その塩が使用される。 RO−(CHCHO)−SOM・・・(I) R:炭素数6〜24の直鎖状または分岐鎖状の1級ア
ルキル基またはアルケニル基 n:エチレンオキシド基の平均付加モル数を示し、1〜
7の範囲 M:水素原子、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アル
カノールアミンまたはアンモニウム (前記化合物(A)は異なるエチレンオキシド付加モル
数のものを含む混合物であり、エチレンオキシド付加モ
ル数が0のものが最も多く含まれることはなく、最も多
く含まれるエチレンオキシド付加体を20〜35質量%
含み、最も多く含まれるエチレンオキシド付加体の前後
の付加モル数のエチレンオキシド付加体との総量が55
〜75質量%である。)
【0008】一般式(I)において、Rは6〜24の
炭素原子を有するアルキル基またはアルケニル基である
が、10〜18の炭素原子を有するアルキル基またはア
ルケニル基が好ましい。アルキル基またはアルケニル基
を具体的に例示すれば、デシル、ラウリル、ミリスチ
ル、パルミチル、ステアリル、アラキル、ベヘニル、リ
グリセリル等の直鎖アルキル基や分岐アルキル基、また
はこれらに対応するアルケニル基が挙げられる。また、
ドバノックス、ダイヤドール、ドバノール、ネオドー
ル、タージドール、ソフタノール等の商品名で市販され
ている、分岐アルキル基を持つ合成アルコールも使用で
きる。ただし、本発明はこれらに限定されるものではな
い。
【0009】一般式(I)におけるnは、エチレンオキ
シド基の平均付加モル数を示し、1〜7の範囲である。
また、異なるエチレンオキシド付加モル数のものを含む
混合物であり、エチレンオキシド付加モル数が0のもの
が最も多く含まれることはなく、最も多く含まれるエチ
レンオキシド付加体を20〜35質量%含み、最も多く
含まれるエチレンオキシド付加体の前後の付加モル数の
エチレンオキシド付加体との総量が55〜75質量%で
ある。
【0010】一般式(I)におけるMを具体的に例示す
ると、水素、ナトリウム、カリウム、モノエタノールア
ミン、ジエタノールアミン、トリエタノーリアミン等が
挙げらる。ただし、本発明はこれらに限定されるもので
はない。
【0011】(A)成分のアルキルエトキシサルフェー
トまたはその塩は、製造方法も特に制限されるものでは
なく、特開平1−164437号等に記載されるような
特定のルイス酸固体触媒を用いて製造したものでも良い
し、硫酸等の酸性液体触媒存在下で製造したものでも良
い。また、一般に工業的に行われている水酸化ナトリウ
ム等のアルカリ触媒存在下でまず分布の広いものを合成
し、これを蒸留等によって精製することにより製造した
ものであっても良い。
【0012】アルキルエトキシサルフェートまたはその
塩は、上記の要件を満たすものであれば、単独で、また
は2種以上を組み合わせて使用することができ、その配
合量は0.01〜5質量%、好ましくは0.5〜4質量
%である。配合量が0.01質量%未満では、充分な洗
浄力、起泡力が得られず、また5質量%を越えて配合し
てもそれ以上の効果が得られず経済的でない。
【0013】第1の発明には、(B)成分として、金属
イオン封鎖剤またはその塩が使用される。金属イオン封
鎖剤としては、通常使用されるものであれば特に制限さ
れないが、例えば、有機カルボン酸類、アミノカルボン
酸類、ホスホン酸類、ホスホノカルボン酸類、リン酸類
等が挙げられる。
【0014】有機カルボン酸類としては、酢酸、アジピ
ン酸、モノクロル酢酸、シュウ酸、コハク酸、オキシジ
コハク酸、カルボキシメチルコハク酸、カルボキシメチ
ルオキシコハク酸等、またグリコール酸、ジグリコール
酸、乳酸、酒石酸、カルボキシメチル酒石酸、クエン
酸、リンゴ酸、グルコン酸等のヒドロキシカルボン酸物
質を挙げることができる。アミノカルボン酸類として
は、ニトリロトリ酢酸、イミノジ酢酸、エチレンジアミ
ンテトラ酢酸、ジエチレントリアミノペンタ酢酸、N−
ヒドロキシエチルエチレンジアミン酢酸、エチレンジア
ミンテトラプロピオン酢酸、トリエチレンテトラミンヘ
キサ酢酸、エチレングリコールジエーテルジアミンテト
ラ酢酸、ヒドロキシエチルイミノジ酢酸、シクロヘキサ
ン−1,2−ジアミンテトラ酢酸、ジエンコル酸等を挙
げることができる。
【0015】ホスホン酸類としては、エタン−1、1−
ジホスホン酸、エタン−1、1、2−トリホスホン酸、
1−ヒドロキシエタン−1、1−ジホスホン酸およびそ
の誘導体、1−ヒドロキシエタン−1、1、2−トリホ
スホン酸、エタン−1、2−ジカルボキシ−1、2−ジ
ホスホン酸、メタンヒドロキシホスホン酸、アミノトリ
メチレンホスホン酸等を挙げることができる。ホスホノ
カルボン酸類としては、2−ホスホノブタン−1、2−
ジカルボン酸、1−ホスホノブタン−2、3、4−トリ
カルボン酸、α−メチルホスホノコハク酸等を挙げるこ
とができる。リン酸類としては、オルソリン酸、ピロリ
ン酸、トリポリリン酸、メタリン酸、ヘキサメタリン
酸、フィチン酸等の縮合リン酸等を挙げることができ
る。
【0016】これら金属イオン封鎖剤は、酸の形でも使
用可能であるし、カリウム、ナトリウム等のアルカリ金
属との塩、モノエタノールアミン、ジエタノールアミ
ン、トリエタノールアミン等のアルカノールアミンとの
塩等、塩基性物質との塩の形で使用することも可能であ
る。これら金属イオン封鎖剤の中では、ヒドロキシカル
ボン酸類、アミノカルボン酸類、またはこれらのアルカ
リ金属塩、アルカノールアミン塩が好ましい。
【0017】これら金属イオン封鎖剤の中から単独で、
または2種以上を組み合わせて使用することができ、そ
の配合量は0.01〜10質量%、好ましくは2〜6質
量%である。配合量が0.01質量%未満では、洗浄力
が充分ではなく、また10質量%を越えて配合しても、
それ以上の効果が得られず経済的でない。
【0018】次に、第2の発明には、(B)成分とし
て、下記一般式(II)で表される溶剤が使用される。 R−O−{(CO)(CO)}−H…(II) (式中、Rは、炭素数2〜8の直鎖、分岐鎖もしくは
環状のアルキル基またはアルケニル基、ベンジル基、ベ
ンゼン環を示し、x及びyは、0〜8の整数を示し、同
時に0になることはなく、x×y≠0のときに、オキシ
エチレン基とオキシプロピレン基は任意に配列され
る。)
【0019】上記一般式(II)で表される溶剤の具体
例としては、特に制限されないが、例えば、ジエチレン
グリコールモノプロピルエーテル、ジエチレングリコー
ルモノイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールモ
ノブチルエーテル、プロピレングリコールジエチレング
リコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコール
エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレング
リコールモノイソブチルエーテル、プロピレングリコー
ルジエチレングリコールモノイソブチルエーテル、ジプ
ロピレングリコールエチレングリコールモノイソブチル
エーテル、ジエチレングリコールモノ−s−ブチルエー
テル、プロピレングリコールジエチレングリコールモノ
−s−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールエチレ
ングリコールモノ−s−ブチルエーテル、ジエチレング
リコールモノ−t−ブチルエーテル、プロピレングリコ
ールジエチレングリコールモノ−t−ブチルエーテル、
ジプロピレングリコールエチレングリコールモノ−t−
ブチルエーテル、トリエチレングリコールモノペンチル
エーテル、テトラエチレングリコールモノペンチルエー
テル、ペンタエチレングリコールモノペンチルエーテ
ル、ペンタエチレングリコールプロピレングリコールモ
ノペンチルエーテル、トリエチレングリコールモノイソ
ペンチルエーテル、テトラエチレングリコールモノイソ
ペンチルエーテル、ペンタエチレングリコールモノイソ
ペンチルエーテル、ペンタエチレングリコールプロピレ
ングリコールモノイソペンチルエーテル、トリエチレン
グリコールモノシクロペンチルエーテル、テトラエチレ
ングリコールモノシクロペンチルエーテル、ペンタエチ
レングリコールプロピレングリコールモノシクロペンチ
ルエーテル、トリエチレングリコールモノヘキシルエー
テル、テトラエチレングリコールモノヘキシルエーテ
ル、ペンタエチレングリコールモノヘキシルエーテル、
ヘキサエチレングリコールプロピレングリコールモノヘ
キシルエーテル、トリエチレングリコールモノ(1,3
−ジメチルブチル)エーテル、テトラエチレングリコー
ルモノ(1,3−ジメチルブチル)エーテル、ペンタエ
チレングリコールモノ(1,3−ジメチルブチル)エー
テル、ヘキサエチレングリコールプロピレングリコール
モノ(1,3−ジメチルブチル)エーテル、トリエチレ
ングリコールモノシクロヘキシルエーテル、テトラエチ
レングリコールモノシクロヘキシルエーテル、ペンタエ
チレングリコールモノシクロヘキシルエーテル、ヘキサ
エチレングリコールプロピレングリコールモノシクロヘ
キシルエーテル、テトラエチレングリコールモノヘプチ
ルエーテル、ペンタエチレングリコールモノヘプチルエ
ーテル、ヘキサエチレングリコールモノヘプチルエーテ
ル、ヘプタエチレングリコールプロピレングリコールモ
ノヘプチルエーテル、テトラエチレングリコールモノイ
ソヘプチルエーテル、ペンタエチレングリコールモノイ
ソヘプチルエーテル、ヘキサエチレングリコールモノイ
ソヘプチルエーテル、ヘプタエチレングリコールプロピ
レングリコールモノイソヘプチルエーテル、テトラエチ
レングリコールモノ(3−メチルヘキシル)エーテル、
ペンタエチレングリコールモノ(3−メチルヘキシル)
エーテル、ヘキサエチレングリコールモノ(3−メチル
ヘキシル)エーテル、ヘプタエチレングリコールプロピ
レングリコールモノ(3−メチルヘキシル)エーテル、
テトラエチレングリコールモノ(5−メチルヘキシル)
エーテル、ペンタエチレングリコールモノ(5−メチル
ヘキシル)エーテル、ヘキサエチレングリコールモノ
(5−メチルヘキシル)エーテル、ヘプタエチレングリ
コールプロピレングリコールモノ(5−メチルヘキシ
ル)エーテル、テトラエチレングリコールモノオクチル
エーテル、ペンタエチレングリコールモノオクチルエー
テル、ヘキサエチレングリコールモノオクチルエーテ
ル、オクタエチレングリコールプロピレングリコールモ
ノオクチルエーテル、テトラエチレングリコールモノ
(1−メチルヘプチル)エーテル、ペンタエチレングリ
コールモノ(1−メチルヘプチル)エーテル、ヘキサエ
チレングリコールモノ(1−メチルヘプチル)エーテ
ル、オクタエチレングリコールプロピレングリコールモ
ノ(1−メチルヘプチル)エーテル、テトラエチレング
リコールモノ(2−エチルヘキシル)エーテル、ペンタ
エチレングリコールモノ(2−エチルヘキシル)エーテ
ル、ヘキサエチレングリコールモノ(2−エチルヘキシ
ル)エーテル、オクタエチレングリコールプロピレング
リコールモノ(2−エチルヘキシル)エーテル、ジエチ
レングリコールモノフェニルエーテル、トリエチレング
リコールモノフェニルエーテル、ジエチレングリコール
モノベンジルエーテル等が挙げられる。
【0020】これら上記溶剤の中では、ジエチレングリ
コールモノブチルエーテル、プロピレングリコールジエ
チレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレング
リコールエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエ
チレングリコールモノイソブチルエーテル、ジエチレン
グリコールモノ−s−ブチルエーテル、ジエチレングリ
コールモノ−t−ブチルエーテル、プロピレングリコー
ルジエチレングリコールモノ−t−ブチルエーテル、ジ
プロピレングリコールエチレングリコールモノ−t−ブ
チルエーテル、トリエチレングリコールモノペンチルエ
ーテル、トリエチレングリコールモノイソペンチルエー
テル、トリエチレングリコールモノシクロペンチルエー
テル、テトラエチレングリコールモノ(1,3−ジメチ
ルブチル)エーテル、テトラエチレングリコールモノシ
クロヘキシルエーテル、ペンタエチレングリコールモノ
(3−メチルヘキシル)エーテル、ヘキサエチレングリ
コールモノ(2−エチルヘキシル)エーテルが好まし
い。
【0021】これら溶剤の中から単独で、または2種以
上を組み合わせて使用することができ、その配合量は
0.1〜15質量%、好ましくは1〜15質量%、さら
に好ましくは4〜10質量%である。配合量が0.1質
量%未満では、洗浄力が充分ではなく、また15質量%
を越えて配合しても、それ以上の効果が得られず経済的
でない。
【0022】本発明においては、(A)成分であるアル
キルエトキシサルフェートまたはその塩に加えて、第1
の発明の(B)成分である金属イオン封鎖剤と、第2の
発明の(B)成分である溶剤を併用して使用することに
何ら制限はない。相乗効果により、さらに洗浄力等が発
揮される。また、本発明の洗浄剤組成物は、洗浄力、安
全性、被洗浄物への影響の点からpH6〜8に調整され
るのが好ましい。
【0023】本発明の洗浄剤組成物は、上記必須成分以
外に必要に応じて他の任意成分を、本発明の効果を損な
わない範囲で適宜配合することができる。任意成分とし
ては、(A)成分以外の界面活性剤を配合することがで
きる。界面活性剤としては、陰イオン性界面活性剤、陽
イオン性界面活性剤、両性界面活性剤、及び非イオン性
界面活性剤を用いることができる。
【0024】使用できる代表的な界面活性剤を次に具体
的に例示する。これらは、単独で、または2種以上を組
み合わせて使用することができる。 (1)陰イオン性界面活性剤 アルキルベンゼンスルホン酸塩、α−オレフィンスルホ
ン酸塩、脂肪酸塩、α−スルホ脂肪酸塩、エーテルカル
ボン酸塩、リン酸アルキル塩、リン酸アルキルポリオキ
シエチレン塩、ジアルキルスルホコハク酸エステル塩、
スルホコハク酸アルキル塩、アルケニルコハク酸塩、N
−アシルアミノ酸塩、N−アシルメチルタウリン塩等で
ある。これら陰イオン性界面活性剤の対イオン(陽イオ
ン)は、アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオ
ン、アルカノールアミンイオン、アンモニウムイオン等
である。 (2)陽イオン性界面活性剤 アルキルトリメチルアンモニウム塩、ジアルキルジメチ
ルアンモニウム塩、アルキルアンモニウム塩、ベンザル
コニウム塩、ベンゼトニウム塩、ピリジニウム塩、イミ
ダゾリニウム塩等である。これら陽イオン性界面活性剤
の対イオン(陰イオン)は、ハロゲンイオン等である。 (3)両性界面活性剤 アルキルカルボキシベタイン、アルキルスルホベタイ
ン、アルキルヒドロキシスルホベタイン、アルキルアミ
ドベタイン、イミダゾリニウムベタイン等である。 (4)非イオン性界面活性剤 ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチ
レンポリオキシプロピレンアルキルエーテル、ポリオキ
シエチレンアルキルフェニルエーテル、脂肪酸ポリグリ
セリンエステル、脂肪酸ショ糖エステル、脂肪酸アルカ
ノールアミド、アルキルアミンオキサイド、アミドアミ
ンオキサイド等である。
【0025】これらの界面活性剤を洗浄剤に配合する場
合は、組成物全量に対して0〜10重量%の範囲で使用
できる。
【0026】さらに、本発明では、香料成分を配合する
こともできる。香料成分として、特に制限されないが、
例えば、脂肪族炭化水素、テルペン炭化水素、芳香族炭
化水素等の炭化水素類、脂肪族アルコール、テルペンア
ルコール、芳香族アルコール等のアルコール類、脂肪族
エーテル、芳香族エーテル等のエーテル類、脂肪族オキ
サイド、テルペン系のオキサイド等のオキサイド類、脂
肪族アルデヒド、テルペン系のアルデヒド、水素化芳香
族アルデヒド、チオアルデヒド、芳香族アルデヒド、脂
肪族アルデヒド等のアルデヒド類、脂肪族ケトン、テル
ペンケトン、水素化芳香族ケトン、脂肪族環状ケトン、
非ベンゼン系芳香族ケトン、芳香族ケトン等のケトン
類、アセタール類、ケタール類、フェノール類、フェノ
ールエーテル類、脂肪酸、テルペン系カルボン酸、水素
化芳香族カルボン酸、芳香族カルボン酸等の酸類、酸ア
マイド類、脂肪族ラクトン、大環状ラクトン、テルペン
系ラクトン、水素化芳香族ラクトン、芳香族ラクトン等
のラクトン類、脂肪族エステル、フラン系カルボン酸族
エステル、脂肪族環状カルボン酸エステル、シクロヘキ
シルカルボン酸族エステル、テルペン系カルボン酸エス
テル、芳香族カルボン酸エステル等のエステル類、ニト
ロムスク類、ニトリル、アミン、ピリジン類、キノリン
類、ピロール、インドール等の含窒素化合物等々の合成
香料及び動物、植物からの天然香料を挙げることができ
【0027】個々の具体的な成分名を挙げると、以下の
通りである。アルデヒドC8〜C20、アニスアルデヒ
ド、アセタールR、アセトフェノン、アセチルアセドレ
ン、アドキサール、アリルアミルグリコレート、アリル
シクロヘキサンプロピオネート、アルファダマスコン、
ベータダマスコン、デルタダマスコン、アンプレットリ
ッド、アンプロキサン、アミルシンナミックアルデヒ
ド、アミルシンナミックアルデヒドジメチルアセター
ル、アミルバレリアネート、アミルサリシレート、イソ
アミルアセテート、イソアミルサリシレート、アニスア
ルデヒド、オウランチオール、アセチルオイゲノール、
バグダノール、ペンジルアセテート、ペンジルアルコー
ル、ペンジルペンゾエート、ペンジルサリシレート、ベ
ルガミールアセテート、ボルニルアセテート、プチルブ
チレート、パラターシャリーブチルシクロヘキサノー
ル、パラターシャリーブチルシクロヘキシルアセテー
ト、ベンツアルデヒド、ベンジルフォーメート、カリオ
フィレン、カシメラン、セドロアンバー、セドリルアセ
テート、セドロール、セレストリッド、シンナミックア
ルコール、シンナミックアルデヒド、シスジャスモン、
シトラール、シトラールジメチルアセタール、シトラサ
ール、シトロネラール、シトロネロール、シトロネリル
アセテート、シトロネリルフォーメート、シトロネリル
ニトリル、シクラセット、シクラメンアルデヒド、シク
ラプロツプ、キャロン、クマリン、シンナミルアセテー
ト、ジエチルフタレート、ジプロピレングリコール、ガ
ンマデカラクトン、デルタC6〜C13ラクトン、ジメ
チルベンジルカービノール、ジヒドロジャスモン、ジヒ
ドロリナロール、ジヒドロミルセノール、ジメトール、
ジミルセトール、ジフェニルオキサイド、エチルワニリ
ン、ユーゲノール、フルイテート、フェンチールアルコ
ール、フェニルエチルフェニルアセテート、ガラキソリ
ット、ガンマーC6〜C13ラクトン、ゲラニオール、
ゲラニルアセテート、ゲラニルフォーメート、ゲラニル
ニトリル、ヘディオン、ヘリオナール、ヘリオトロピ
ン、シス−3−ヘキサノール、シス−3−ヘキセニール
アセテート、ヘキシルシンナミックアルデヒド、ヘキシ
ルサリシレート、ヒヤシンスジメチルアセタール、ハイ
ドロトロピックアルコール、ヒドロキシシトロネラー
ル、ハーコリン、インドール、イオノン、イソボルニル
アセテート、イソシクロシトラール、イソEスーパー、
イソオイゲノール、イソノニルアセテート、イソプチル
キノリン、ジャスマール、ジャスモラクトン、ジャスモ
フィラン、コアボン、リグストラール、リリアール、ラ
イムオキサイド、リモネン、リナロール、リナロールオ
キサイド、リナリルアセテート、リラール、マンザネー
ト、マイヨール、メンサニールアセテート、メンソネー
ト、メチルアンスラニレート、メチルオイゲノール、ア
ルファメチルイオノン、ベータメチルイオノン、ガンマ
メチルイオノン、メチルイソオイゲノール、メチルラベ
ンダーケトン、メチルサリシレート、ミューゲアルデヒ
ド、ムゴール、ムスクTM−II、ムスク781、ムス
クC14、ムスクT、ムスクケトン、ムスクチベチン、
ムスクモスケン、ミラックアルデヒド、メチルフェニル
アセテート、ネロール、ネリールアセテート、ノビール
サセテート、ノビールアルコール、ネオベルガメート、
オークモスNo.1、オリボン、オキシフェニロン、パ
ラクレゾールメチルエーテル、ペンタリッド、フェニル
エチルアルコール、フェニルエチルアセテート、アルフ
ァピネン、ルバフラン、パッチョン、ローズフェノン、
ローズオキサイド、サンダロア、サンデラ、サンタレッ
クス、バグダノール、スチラリールアセテート、スチラ
リールアセテート、スチラリールプロピオネート、ター
ピネオール、ターピニルアセテート、テトラハイドロリ
ナロール、テトラハイドロリナリールアセテート、テト
ラハイドログラニオール、テトラハイドロゲラニールア
セテート、トナリッド、トラセオライド、トリプラー
ル、チモール、ワニリン、ベラモス、ベルドッグス、ヤ
ラヤラ、アセチルオイゲノール、アニス油、ペイ油、ボ
アドローズ油、カナンガ油、カルダモン油、カシア油、
シダーウッド油、オレンジ油、マンダリン油、タンジェ
リン油、バジル油、ナツメグ油、シトロネラ油、クロー
ブ油、コリアンダー油、エレミ油、ユーカリ油、フェン
ネル油、カルバナム油、ゼラニウム油、ヒバ油、ジャス
ミン油、ラバンジン油、ラベンダー油、レモン油、レモ
ングラス油、ライム油、ネロリ油、オークモス油、オコ
チア油、オレンジ油、バチュリ油、ペパーミント油、ペ
リラ油、プチグレン油、パイン油、ローズ油、ローズマ
リー油、しょう脳油、芳油、クラリーセージ油、サンダ
ルウッド油、スペアミント油、スパイクラベンダー油、
スターアニス油、タイム油、トンカ油、テレピン油、ワ
ニラ油、ベチバー油、イランイラン油、グレープフルー
ツ油、ベンゾイル、ペルーバルサム、トルーバルサム、
チュベローズ油、ムスクチンキ、カストリウムチンキ、
シベットチンキ、アンバーグリスチンキ。
【0028】これら香料成分の中から単独で、または2
種以上の成分を組み合せて、本発明の洗浄剤組成物中に
0〜0.5質量%配合できる。
【0029】また、本発明では、低温下または高温下で
の液性を保持するために配合される低級アルコール、低
級アルキルベンゼンスルホン酸またはその塩、エチレン
グリコール等のハイドロトロープ剤、金属封鎖剤、殺菌
剤、防腐剤、防カビ剤、色素、酸化防止剤、増粘剤、消
泡剤、紫外線吸収剤、可溶化剤等も適宜配合することが
できる。これら任意成分に用いられる化合物は、通常洗
浄剤に使用され、本発明の効果を損なわない範囲のもの
であれば、どの様なものでも良く、特に制限されるもの
ではない。
【0030】
【実施例】次に、実施例により本発明をさらに詳しく説
明するが、本発明は下記実施例のみに限定されるもので
はない。下記表1、表2に示す各組成により調整した実
施例1〜8及び比較例1〜11の各洗浄剤組成物につい
て、下記試験法により、石鹸カス汚れに対する洗浄力試
験、泡立ち性試験、すすぎ性試験を行った。これらの結
果を表1、表2に示す。
【0031】(1)石鹸カス汚れに対する洗浄力試験 一般家庭の浴室で3ヶ月間使用し、容易に除去できない
石鹸カス汚れが付着したポリプロピレン製の洗面器を、
洗浄剤組成物(原液)を5g含浸させたウレタン製のス
ポンジを用い、約20g/cmの加重を掛けながら5
回往復こすり、洗面器表面の汚れの除去状態を下記の判
定基準で視覚判定した。判定基準は次の通りである。 5点:汚れ落ちが非常に良好 4点:汚れ落ちが良好 3点:汚れ落ちにむらがある 2点:若干汚れが落ちる程度 1点:ほとんど汚れが落ちない
【0032】(2)泡立ち性の試験 5倍に希釈した洗浄剤組成物50gを含浸させたウレタ
ン製のスポンジを用いて、約10g/cmの加重を掛
けながらステンレス製浴槽(100×75×65cm)
の内側全面を円を描くように擦った際の泡の状態を下記
の判定基準で視覚判定した。判定基準は次の通りであ
る。 5点:泡立ちが非常に良好 4点:泡立ちが良好 3点:泡立ちにむらがある 2点:若干泡立つ程度 1点:ほとんど泡立たない
【0033】(3)すすぎ性の試験 上記泡立ち性試験により泡を立てた後、シャワーを用い
て水道水(温度20℃、流量10l/分)ですすぎを開
始し、泡が完全になくなり、すすぎが終了するまでの時
間を測定した。
【0034】
【表1】
【0035】
【表2】
【0036】表1の結果から明らかなように、本発明の
必須成分を含有する洗浄剤組成物は、洗浄力、泡立ち
性、すすぎ性のいずれも優れた性能を示している。これ
に対し、表2に示すように、(A)成分のラウリルまた
はミリスチルエトキシサルフェートNa塩(酸化エチレ
ン付加モル数2あるいは3)を含有していない洗浄剤組
成物(比較例1)は、泡立ち性が劣り、(B)成分の金
属イオン封鎖剤またはその塩を含有していない洗浄剤組
成物(比較例2、11)では、洗浄力が劣っていること
がわかる。また、(A)成分のラウリルまたはミリスチ
ルエトキシサルフェートNa塩(酸化エチレン付加モル
数2あるいは3)の代わりに他の界面活性剤を使用した
場合(比較例3〜10)は、洗浄力、泡立ち性、すすぎ
性の全てを同時に満足することができないことがわか
る。
【0037】次に、表3、表4に示す各組成により調整
した実施例9〜17及び比較例12〜22の各洗浄剤組
成物について、下記試験法により、浴槽の汚れに対する
洗浄力試験、泡立ち性試験、すすぎ性試験を行った。こ
れらの結果を表3、表4に示す。
【0038】(1)浴槽汚れに対する洗浄力試験 一般家庭の浴槽内側壁面にFRP製テストピース(3×
10cm)を固定した後、成人男性1名、女性1名、小
学生男児2名がそれぞれ2回入浴(1日につき1回入浴
し、2日間繰り返した。その間、風呂水は入れ替えずに
沸かし直して使用した。)し、汚れを付着させた。浴槽
汚れが付着したテストピースを充分乾燥させた後、洗浄
剤組成物(原液)を全面が濡れるようにスプレーし、3
0秒間放置した後、水道水(15℃)ですすぎ流した。
充分乾燥させた後、浴槽表面の汚れの除去状態を下記の
判定基準で視覚判定した。判定基準は次の通りである。 5点:汚れ落ちが非常に良好 4点:汚れ落ちが良好 3点:汚れ落ちにむらがある 2点:若干汚れが落ちる程度 1点:ほとんど汚れが落ちない
【0039】(2)泡立ち性の試験 5倍に希釈した洗浄剤組成物50gを含浸させたウレタ
ン製のスポンジを用いて、約10g/cmの加重を掛
けながらステンレス製浴槽(100×75×65cm)
の内側全面を円を描くように擦った際の泡の状態を下記
の判定基準で視覚判定した。判定基準は次の通りであ
る。 5点:泡立ちが非常に良好 4点:泡立ちが良好 3点:泡立ちにむらがある 2点:若干泡立つ程度 1点:ほとんど泡立たない
【0040】(3)すすぎ性の試験 上記泡立ち性試験により泡を立てた後、シャワーを用い
て水道水(温度20℃、流量10l/分)ですすぎを開
始し、泡が完全になくなり、すすぎが終了するまでの時
間を測定した。
【0041】
【表3】
【0042】
【表4】
【0043】表3の結果から明らかなように、本発明の
必須成分を含有する洗浄剤組成物は、洗浄力、泡立ち
性、すすぎ性のいずれも優れた性能を示している。これ
に対し、表4に示すように、(A)成分のラウリルまた
はミリスチルエトキシサルフェートNa塩(酸化エチレ
ン付加モル数2あるいは3)を含有していない洗浄剤組
成物(比較例12)は、洗浄力及び泡立ち性が劣り、
(B)成分の溶剤を含有していない洗浄剤組成物(比較
例13、20〜22)では、洗浄力が劣っていることが
わかる。また、(A)成分のラウリルまたはミリスチル
エトキシサルフェートNa塩(酸化エチレン付加モル数
2あるいは3)の代わりに他の界面活性剤を使用した場
合(比較例14〜21)、洗浄力、泡立ち性、すすぎ性
の全てを同時に満足することができないことがわかる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C11D 3/43 C11D 3/43 (72)発明者 三宅 博 東京都墨田区本所1丁目3番7号 ライオ ン株式会社内 Fターム(参考) 4H003 AB03 AB19 AB31 AB44 BA12 DA05 DA08 EB08 EB16 EB24 ED02 ED29 FA18 FA23

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下記(A)(B)成分を含有することを
    特徴とする洗浄剤組成物。 (A)0.01〜5質量%の下記一般式(I)で表され
    るアルキルエトキシサルフェートまたはその塩 RO−(CHCHO)−SOM・・・(I) R:炭素数6〜24の直鎖状または分岐鎖状の1級ア
    ルキル基またはアルケニル基 n:エチレンオキシド基の平均付加モル数を示し、1〜
    7の範囲 M:水素原子、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アル
    カノールアミンまたはアンモニウム (前記化合物(A)は異なるエチレンオキシド付加モル
    数のものを含む混合物であり、エチレンオキシド付加モ
    ル数が0のものが最も多く含まれることはなく、最も多
    く含まれるエチレンオキシド付加体を20〜35質量%
    含み、最も多く含まれるエチレンオキシド付加体の前後
    の付加モル数のエチレンオキシド付加体との総量が55
    〜75質量%である。) (B)0.01〜10質量%の金属イオン封鎖剤または
    その塩
  2. 【請求項2】 下記(A)(B)成分を含有することを
    特徴とする洗浄剤組成物。 (A)0.01〜5質量%の下記一般式(I)で表され
    るアルキルエトキシサルフェートまたはその塩 RO−(CHCHO)−SOM・・・(I) R:炭素数6〜24の直鎖状または分岐鎖状の1級ア
    ルキル基またはアルケニル基 n:エチレンオキシド基の平均付加モル数を示し、1〜
    7の範囲 M:水素原子、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アル
    カノールアミンまたはアンモニウム (前記化合物(A)は異なるエチレンオキシド付加モル
    数のものを含む混合物であり、エチレンオキシド付加モ
    ル数が0のものが最も多く含まれることはなく、最も多
    く含まれるエチレンオキシド付加体を20〜35質量%
    含み、最も多く含まれるエチレンオキシド付加体の前後
    の付加モル数のエチレンオキシド付加体との総量が55
    〜75質量%である。) (B)0.1〜15質量%の下記一般式(II)で表さ
    れる溶剤 R−O−{(CO)(CO)}−H…(II) (式中、Rは、炭素数2〜8の直鎖、分岐鎖もしくは
    環状のアルキル基またはアルケニル基、ベンジル基、ベ
    ンゼン環を示し、x及びyは、0〜8の整数を示し、同
    時に0になることはなく、x×y≠0のときに、オキシ
    エチレン基とオキシプロピレン基は任意に配列され
    る。)
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