JP2001187775A - アミド基含有グアニジン誘導体またはその塩の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 本発明は、高純度でしかも界面活性剤や電解
質共存下においても溶液安定性に優れたアミド基含有グ
アニジン誘導体またはその塩を安定的に製造する方法を
提供することを目的とする。 【解決手段】 下記一般式（Ｉ） 【化１】 で表わされるアミド基含有グアニジン誘導体またはその
塩の製造方法であって、アミドアミン及び／またはその
塩を、グアニジン化反応試剤を用いてグアニジン化を行
う工程、及び、 （２）晶析及び濾過工程、 （３）有機溶媒による洗浄工程を含むことを特徴とする
アミド基含有グアニジン誘導体またはその塩の製造方法
とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、強塩基性を持つグアニ
ジン誘導体を化粧料、洗浄剤等広範囲の用途に適用する
ための、アミド基を含有するグアニジン誘導体またはそ
の塩の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】アミド基含有グアニジン誘導体は、皮膚
や毛髪等に対する優れたコンディショニング効果を有す
る基剤であり、例えば特開平６−３２１７２７号公報で
はこれを含有する保湿性に優れ、かつ使用時の高い延展
性（のび）、平滑性を有し、良好な使用感をもつ皮膚外
用剤が開示され、特開平６−２５６１４６号公報では、
アミドアミン界面活性剤との組み合わせにより毛髪にな
めらかさとしっとり感とを付与する毛髪化粧料が開示さ
れている。また、特開平６−３３００９０ではアニオン
基を有する界面活性剤との組み合わせにより、手肌や毛
髪に対するマイルド性、起泡力、すすぎ時のなめらかさ
等に優れた洗浄剤組成物が開示されている。しかし、ア
ミド基含有グアニジン誘導体は、合成時に副成するビス
アミドやアシル化アミドアミン等の不純物による水性液
体製剤への安定性が課題となっていた。これを解決する
ために、特開平６−３１２９７２号公報では、アミドア
ミンのグアニジン化反応を行う際に、少量のアルコール
類またはエーテル類を存在させて反応を行い、晶析工程
で不純物を除去する高純度アミド基含有グアニジン誘導
体またはその塩の製造方法が開示されている。この方法
により得られた該グアニジン誘導体またはその塩は、約
９９．５％程度の高純度な目的生成物が得られ、水およ
び／またはアルコールへの溶解性、安定性に優れてい
る。しかし、なおごく微量残存する不純物の影響と思わ
れるが、他の活性剤や電解質等を含有する化粧料や洗浄
剤等の組成物における安定性は、必ずしも満足できるも
のではなかった。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、高純度でし
かも界面活性剤や電解質共存下においても溶液安定性に
優れたアミド基含有グアニジン誘導体またはその塩を安
定的に製造する方法を提供することを目的とする。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明は、高純度の下記
一般式（Ｉ）

【０００５】

【化３】 （式中、Ｒ^１は、炭素数１〜２２の直鎖または分岐鎖の
アルキル基、あるいはアルケニル基である。Ｒ^２、Ｒ^３
は、水素原子または炭素数１〜４の直鎖または分岐鎖の
アルキル基、ヒドロキシルアルキル基であり、同一でも
異なっていても良い。Ａは、炭素数１〜１０の直鎖また
は分岐鎖のアルキレン基、あるいはアルケニレン基であ
る。）で表わされるアミド基含有グアニジン誘導体また
はその塩の製造方法であって、（１）下記一般式（Ｉ
Ｉ）

【０００６】

【化４】 （式中、Ｒ^１は、炭素数１〜２２の直鎖または分岐鎖の
アルキル基、あるいはアルケニル基である。Ｒ^２、Ｒ^３
は、水素原子または炭素数１〜４の直鎖または分岐鎖の
アルキル基、ヒドロキシルアルキル基であり、同一でも
異なっていても良い。Ａは、炭素数１〜１０の直鎖また
は分岐鎖のアルキレン基、あるいはアルケニレン基であ
る。）

【０００７】で表わされるアミドアミン及び／またはそ
の塩を、グアニジン化反応試剤を用いてグアニジン化を
行う工程、及び、（２）晶析及び濾過工程、（３）有機
溶媒による洗浄工程を含むことを特徴とする高純度アミ
ド基含有グアニジン誘導体またはその塩の製造方法が提
供される。

【０００８】以下、本発明を詳細に説明する。本発明に
おけるアミド基含有グアニジン誘導体またはその塩は、
以下式１、式２に示す反応式（１）、（２）のような公
知の化学反応により合成することができる。

【０００９】

【式１】

【００１０】

【式２】 （式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３およびＡは、前記一般式ＩＩ
と同じ基である。Ｒ^４は、炭素数１〜４の直鎖または分
岐鎖のアルキル基である。ＨＸは、無機酸あるいは有機
酸を表わす。Ｙは、ＳまたはＯである。）

【００１１】本発明のアミド基含有グアニジン誘導体ま
たはその塩の製造に用いられるアミドアミンあるいはそ
の塩は、一般式ＩＩで表される化合物、その有機酸ある
いは無機酸塩である。

【００１２】

【化５】

【００１３】式中、Ｒ^１は、炭素数１〜２２、好ましく
は８〜２０、特に好ましくは１１〜１９の直鎖または分
岐鎖のアルキル基、あるいはアルケニル基である。
Ｒ^２、Ｒ^３は、水素原子または炭素数１〜４の直鎖また
は分岐鎖のアルキル基、ヒドロキシルアルキル基であ
り、同一でも異なっていても良い。好ましくは、水素ま
たはメチル基である。Ａは、炭素数１〜１０、好ましく
は２〜６、特に好ましくは２〜４の直鎖または分岐鎖の
アルキレン基、あるいはアルケニレン基である。具体的
には、例えばモノラウロイルエチレンジアミン、モノラ
ウロイルブチレンジアミン、モノオレオイルエチレンジ
アミン、モノミリストイルエチレンジアミン、モノステ
アロイルブチレンジアミン、モノラウロイルヘキシレン
ジアミン、Ｎ−モノラウロイル−Ｎ’−メチルエチレン
ジアミン、Ｎ−モノラウロイル−Ｎ’−ブチルエチレン
ジアミン、等があげられる。これらの塩としては、塩酸
塩等の無機酸塩、酢酸塩、グリコール酸塩、クエン酸
塩、酸性アミノ酸塩等の有機酸塩があげられる。

【００１４】本発明で用いられるアミドアミンは、公知
の方法で得ることができる。即ち、下記一般式（ＩＩ
Ｉ）で示される一級および／または二級アミノ基を有す
るジアミンを、一般式（ＩＶ）で示す脂肪酸または脂肪
酸エステルによりアシル化した化合物である。

【００１５】

【化６】 Ｒ^２−ＮＨ−Ａ−ＮＨ−Ｒ^３ …（ＩＩＩ） （式中、Ｒ^２、Ｒ^３、Ａは、一般式（ＩＩ）で示される
Ｒ^２、Ｒ^３、Ａである。）

【００１６】

【化７】 Ｒ^１−ＣＯＯＲ’ …（ＩＶ） （式中、Ｒ^１は、一般式（ＩＩ）で示されるＲ^１であ
る。Ｒ’は、水素または炭素数１〜３のアルキル基であ
る。）

【００１７】ジアミンの具体例としては、ジアミノメタ
ン、エチレンジアミン、Ｎ−メチルエチレンジアミン、
Ｎ，Ｎ’―ジメチルエチレンジアミン、Ｎ−エチルエチ
レンジアミン、Ｎ，Ｎ’―ジエチルエチレンジアミン、
Ｎ−プロピルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’―ジプロピル
エチレンジアミン、Ｎ−ブチルエチレンジアミン、Ｎ，
Ｎ’―ジブチルエチレンジアミン、Ｎ−第三ブチルエチ
レンジアミン、Ｎ，Ｎ’―ジ第三ブチルエチレンジアミ
ン、Ｎ−メチル−Ｎ’―エチルエチレンジアミン、１，
２−ジアミノプロパン、１−メチルアミノ−２−アミノ
プロパン、１−アミノ−２−メチルアミノプロパン、
１，３−ジアミノプロパン、１−メチルアミノ−３−ア
ミノプロパン、１，３−ジ（メチルアミノ）プロパン、
１−エチルアミノ−３−アミノプロパン、１−プロピル
アミノ−３−アミノプロパン、１−ブチルアミノ−３−
アミノプロパン、１−第三ブチルアミノ−３−アミノプ
ロパン、１−（２−ヒドロキシエチルアミノ）−３−ア
ミノプロパン、１，２−ジアミノブタン、１，４−ジア
ミノブタン、１，３−ジアミノ−１−メチルプロパン、
１，３−ジアミノ−２−メチルプロパン、１，４−ジア
ミノ−１−メチルブタン、１，４−ジアミノ−２−メチ
ルブタン、１，６−ジアミノヘキサン、１，８−ジアミ
ノオクタン、１，１０−ジアミノデカン等があげられ
る。これらは単独または２種以上を組合せて使用するこ
とができる。

【００１８】一般式（ＩＶ）で示される脂肪酸または脂
肪酸エステルの具体例としては、酢酸、プロピオン酸、
酪酸、イソ酪酸、カプロン酸、オクタン酸、カプリン
酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステア
リン酸、イソステアリン酸、オレイン酸、エライジン
酸、リノール酸、リノレン酸、アラキジン酸、ベヘニン
酸、やし油脂肪酸、パーム核油脂肪酸、パーム油脂肪
酸、牛脂脂肪酸またはそれらのエステル等があげられ
る。これらは単独または２種以上を組合せて使用するこ
とができる。

【００１９】アミドアミン塩とする場合は、アミドアミ
ンの対イオンとなる無機酸や有機酸を添加し、好ましく
は１００℃を超えない温度で、中和すればよい。

【００２０】本発明に用いられるグアニジン化反応試剤
は、シアナミド、Ｓ−メチルイソチオ尿素、Ｓ−エチル
イソチオ尿素、Ｏ−メチルイソ尿素、Ｏ−エチルイソ尿
素等があげられる。

【００２１】本発明の好ましい合成方法としては、窒素
等の不活性ガス雰囲気下で、反応温度６０〜１２０℃、
好ましくは８０〜１００℃で反応を行う。例えば、原料
のグアニジン化試剤をイソプロピルアルコール、テトラ
ヒドロフラン等の溶媒に溶解させ、反応系を所定の温度
に保ちながら、アミドアミンやその塩に滴下し、滴下終
了後、熟成する。その後、必要に応じて中和を行った
後、溶媒を留去する。

【００２２】本発明の目的性生物がアミド基含有グアニ
ジン誘導体塩の場合は、上記のように原料としてアミド
アミン塩を用いてグアニジン化しても良いし、アミドア
ミンをグアニジン化し、その後、酸を用いて中和し塩と
しても良い。

【００２３】本発明方法における高純度アミド基含有グ
アニジン誘導体またはその塩は、上記の方法等で合成さ
れた生成物（粗反応物）を、以下に記載する２段階の方
法で精製することにより得られる。

【００２４】第一の精製は、晶析及び濾過である。晶析
は、粗反応物に、テトラヒドロフラン、メチルエチルケ
トン等、目的のグアニジン誘導体の溶解度が温度により
大きく変化する溶媒を、粗反応物重量の２〜１０倍添加
し、沸点まで加温する。不溶物が認められれば熱時濾過
し、結晶を析出させる所定温度まで徐々に冷却する。結
晶析出温度は、主な不純物である下記一般式（Ｖ）（Ｖ
Ｉ）の溶解度が０．１質量％となる温度以上に設定する
ことが好ましい。

【００２５】

【化８】

【００２６】

【化９】 る。）

【００２７】十分目的物を析出させた後、温度を維持し
たまま濾過により溶媒を除去する。濾過は、加圧濾過、
フィルタープレス、減圧濾過等、公知の方法で行うこと
ができる。

【００２８】本発明における第二の精製は、有機溶媒に
よる洗浄である。有機溶媒は、テトラヒドロフラン、メ
チルエチルケトン、クロロホルムを好ましく用いること
ができる。洗浄方法方法としては、押し出し（置換）洗
浄あるいは懸濁攪拌洗浄が好ましい。

【００２９】押し出し洗浄は、晶析・濾過後、晶析と同
じ溶媒を粗反応生成物の２〜１０倍（重量比）添加して
濾過を続けて洗浄をおこなうものである。洗浄溶媒の温
度は晶析濾過と同様、一般式（Ｖ）（ＶＩ）の溶解度が
０．１質量％となる温度以上に設定することが好まし
い。加える溶媒量は、２倍未満では十分不純物を除去で
きない等の欠点があり、１０倍より多い場合は、収率が
低く、いずれの場合も好ましくない。懸濁攪拌洗浄は、
晶析濾過で得られた湿ケーキを、粗反応生成物重量の２
〜１０倍の晶析と同じ溶媒に添加して、１０分〜２時間
攪拌、分散させた後、再度濾過等により溶媒を除去す
る。温度は晶析濾過と同様、一般式（Ｖ）（ＶＩ）の溶
解度が０．１質量％となる温度以上に設定することが好
ましい。加える溶媒量は、２倍未満では粘度が高くなっ
たり、十分不純物を除去できない等の欠点がある。１０
倍より多い場合は、収率が低くなる。撹拌洗浄時間は、
１０分未満では洗浄効果が劣り、また、２時間を越えて
撹拌しても洗浄効果は上がらず、経済的に不利である。

【００３０】洗浄後の生成物は、真空加熱乾燥など、１
００℃を超えない温度で定法により乾燥し、本発明の高
純度アミド基含有グアニジン誘導体またはその塩を得
る。

【００３１】以上の２段階精製により得られた高純度ア
ミド基含有グアニジン誘導体またはその塩は、他の界面
活性剤や電解質が共存する水性製剤においても安定であ
り、各種化粧料、皮膚外用剤や洗浄剤に好適に応用する
ことができる。

【００３２】

【実施例】（実施例１） ラウロイルアミドエチルグア
ニジン塩酸塩の精製 （１）ラウロイルアミドエチルグアニジン塩酸塩の合成 撹拌機、温度計、真空・窒素導入管を備えた５００ｍｌ
四つ口フラスコに、窒素雰囲気下で保存したモノラウロ
イルエチレンジアミン（アミドアミンと略、純度：９
７．２％、未反応ラウリン酸：０．８％、ビスアミド：
２．０％）１２１ｇ（０．５モル）を仕込み、８０℃に
昇温した後、濃塩酸（３６％）４８．２ｇ（０．４７５
モル）を、系内温度が１００℃を越えないように注意し
ながら滴下、中和した。別に、シアナミド３１．５ｇ
（０．７５モル）をイソプロピルアルコール３１．５ｇ
に溶解し、アミドアミン９５％塩酸塩中に、系内温度を
８０〜９０℃に保ちながら１時間かけて滴下した。滴下
終了後、同じ温度で３時間熟成を行い、濃塩酸（３６
％）２．５ｇ（０．０２５モル）を加え、完全中和した
後、溶媒を減圧留去した。収量：１７０ｇ、液体クロマ
トグラフおよび薄層クロマトグラフ分析により、アミド
アミンからの反応率：９３．５％、純度：８８．１％、
未反応アミドアミン：２．６％、副生ジシアンジアミ
ド：７．０％、ビスアミド：１．４％であった。

【００３３】（２）ラウロイルアミドエチルグアニジン
塩酸塩の精製 撹拌機、温度計を備えた１１四つ口フラスコに。（１）
で得た粗生成物１００ｇをとり、テトラヒドロフラン３
００ｇを加え、６５℃に加熱して粗生成物を完全に溶解
した。１℃／分の割合で、２５分かけて４０℃まで冷却
し、結晶が析出してから１時間４０℃に保温し、十分結
晶を析出させた。加圧濾過器を用いて結晶を濾別した
後、４０℃のテトラヒドロフラン２００ｇを静かに加
え、そのまま濾過、洗浄した。結晶を４０℃、２時間真
空乾燥して精製ラウロイルアミドエチルグアニジン塩酸
塩を得た。収量：７４ｇ、液体クロマトグラフおよび薄
層クロマトグラフ分析により、純度：９９．５％、未反
応アミドアミン：０．４％、ビスアミド：０．０１％、
副生ジシアンジアミド：０．１％、であった。この精製
品５０ｇをとり、エタノール３０ｇ、水２０ｇに溶解し
たところ、２５℃６ヶ月間透明溶液であった。なお、副
生したビスアミドの、テトラヒドロフランに対する溶解
度は、４０℃で０．５％であった。

【００３４】（実施例２） ラウロイルアミドブチルグ
アニジン酢酸塩の精製 （１）ラウロイルアミドブチルグアニジン酢酸塩の合成 撹拌機、温度計、真空・窒素導入管を備えた５００ｍｌ
四つ口フラスコに、窒素雰囲気下で保存したモノラウロ
イルブチレンジアミン（アミドアミンと略、純度：９
８．４％、未反応ラウリン酸：１．０％、ビスアミド：
０．６％）１３５ｇ（０．５モル）を仕込み、８０℃に
昇温した後、酢酸３０ｇ（０．５モル）を、系内温度が
１００℃を越えないように注意しながら滴下、中和し
た。別に、シアナミド２５．２ｇ（０．６モル）をイソ
プロピルアルコール２５．２ｇに溶解し、アミドアミン
酢酸塩中に、系内温度を８０〜９０℃に保ちながら１時
間かけて滴下した。滴下終了後、同じ温度で３時間熟成
を行った後、溶媒を減圧留去した。収量：１８９ｇ、液
体クロマトグラフおよび薄層クロマトグラフ分析によ
り、アミドアミンからの反応率：９３．８％、純度：９
２．４％、未反応アミドアミン：１．９％、副生ジシア
ンジアミド：２．９％、ビスアミド：０．４％、アセチ
ル化アミドアミン：１．６％であった。

【００３５】（２）ラウロイルアミドブチルグアニジン
酢酸塩の精製 撹拌機、温度計を備えた１１四つ口フラスコに。（１）
で得た粗生成物１００ｇをとり、メチルエチルケトン５
００ｇを加え、８０℃に加熱して粗生成物を完全に溶解
した。１℃／分の割合で、２５分かけて５５℃まで冷却
し、結晶が析出してから１時間５５℃に保温し、十分結
晶を析出させた。フィルタープレスを用いて結晶を濾別
した後、６５℃のメチルエチルケトン５００ｇを通じて
濾過、洗浄した。結晶を４０℃、２時間真空乾燥して精
製ラウロイルアミドブチルグアニジン酢酸塩を得た。収
量：６１ｇ、液体クロマトグラフおよび薄層クロマトグ
ラフ分析により、純度：９９．６％、未反応アミドアミ
ン：０．０８％、ビスアミド：０．０１％以下、副生ジ
シアンジアミド：０．１８％、アセチル化アミドアミ
ン：０．１％、であった。この精製品５０ｇをとり、エ
タノール３０ｇ、水２０ｇに溶解したところ、２５℃６
ヶ月間透明溶液であった。なお、副生したビスアミドの
メチルエチルケトンに対する溶解度は、６５℃で０．３
５％であった。

【００３６】（実施例３） ラウロイルアミドエチルグ
アニジン酢酸塩の精製 （１）ラウロイルアミドエチルグアニジン酢酸塩の合成 撹拌機、温度計、真空・窒素導入管を備えた５００ｍｌ
四つ口フラスコに、実施例１（１）で用いたと同じモノ
ラウロイルエチレンジアミン１２１ｇ（０．５モル）を
仕込み、８０℃に昇温した後、酢酸３０ｇ（０．５モ
ル）を、系内温度が１００℃を越えないように注意しな
がら滴下、中和した。別に、シアナミド２５．２ｇ
（０．６モル）をイソプロピルアルコール２５．２ｇに
溶解し、アミドアミン酢酸塩中に、系内温度を８０〜９
０℃に保ちながら１時間かけて滴下した。滴下終了後、
同じ温度で３時間熟成を行った後、溶媒を減圧留去し
た。収量：１７５ｇ、液体クロマトグラフおよび薄層ク
ロマトグラフ分析により、アミドアミンからの反応率：
９３．７％、純度：９２．５％、未反応アミドアミン：
１．８％、副生ジシアンジアミド：２．８％、ビスアミ
ド：０．８％、アセチル化アミドアミン：１．６％であ
った。

【００３７】（２）ラウロイルアミドエチルグアニジン
酢酸塩の精製 撹拌機、温度計を備えた１１四つ口フラスコに。（１）
で得た粗生成物１００ｇをとり、メチルエチルケトン５
００ｇを加え、８０℃に加熱して粗生成物を完全に溶解
した。１℃／分の割合で、３０分かけて５０℃まで冷却
し、結晶が析出してから１時間５０℃に保温し、十分結
晶を析出させた。減圧濾過器を用いて結晶を濾別した
後、５０℃のメチルエチルケトン３００ｇを静かに加
え、そのまま濾過、洗浄した。結晶を４０℃、２時間真
空乾燥して精製ラウロイルアミドエチルグアニジン酢酸
塩を得た。収量：７０ｇ、液体クロマトグラフおよび薄
層クロマトグラフ分析により、純度：９９．５％、未反
応アミドアミン：０．２％、ビスアミド：０．０１％、
副生ジシアンジアミド：０．１６％、アセチル化アミド
アミン：０．１％、であった。この精製品５０ｇをと
り、エタノール３０ｇ、水２０ｇに溶解したところ、２
５℃６ヶ月間透明溶液であった。なお、副生したビスア
ミドのメチルエチルケトンに対する溶解度は、５０℃で
０．２％であった。

【００３８】（実施例４） ラウロイルアミドブチルグ
アニジン酢酸塩の精製 撹拌機、温度計を備えた１１四つ口フラスコに。実施例
２（１）と同様の方法で得た、ラウロイルアミドブチル
グアニジン酢酸塩粗生成物１００ｇをとり、メチルエチ
ルケトン５００ｇを加え、８０℃に加熱して粗生成物を
完全に溶解した。１℃／分の割合で、２５分かけて５５
℃まで冷却し、結晶が析出してから１時間５５℃に保温
し、十分結晶を析出させた。フィルタープレスを用いて
結晶を濾別し、１１四つ口フラスコに入れ、メチルエチ
ルケトン５００ｇを加え、６０℃で１時間懸濁撹拌し洗
浄した。さらに、フィルタープレスを用いて結晶を濾別
し、４０℃、２時間真空乾燥して精製ラウロイルアミド
ブチルグアニジン酢酸塩を得た。収量：６０ｇ、液体ク
ロマトグラフおよび薄層クロマトグラフ分析により、純
度：９９．６％、未反応アミドアミン：０．０５％、ビ
スアミド：０．０１％、副生ジシアンジアミド：０．１
６％、アセチル化アミドアミン：０．１％以下、であっ
た。この精製品５０ｇをとり、エタノール３０ｇ、水２
０ｇに溶解したところ、２５℃６ヶ月間透明溶液であっ
た。なお、副生したビスアミドのメチルエチルケトンに
対する溶解度は、６０℃で０．１６％であった。

【００３９】（実施例５） ラウロイルアミドエチルグ
アニジン塩酸塩の精製 撹拌機、温度計を備えた１１四つ口フラスコに。実施例
１（１）と同様の方法で得た、ラウロイルアミドエチル
グアニジン塩酸塩粗生成物１００ｇをとり、メチルエチ
ルケトン３００ｇを加え、８０℃に加熱して粗生成物を
完全に溶解した。１℃／分の割合で、３０分かけて５０
℃まで冷却し、結晶が析出してから１時間５０℃に保温
し、十分結晶を析出させた。加圧濾過器を用いて結晶を
濾別し、１１四つ口フラスコに入れ、メチルエチルケト
ン３００ｇを加え、５０℃で１時間懸濁撹拌し洗浄し
た。さらに、加圧濾過器を用いて結晶を濾別し、４０
℃、２時間真空乾燥して精製ラウロイルアミドエチルグ
アニジン塩酸塩を得た。収量：７４ｇ、液体クロマトグ
ラフおよび薄層クロマトグラフ分析により、純度：９
９．６％、未反応アミドアミン：０．２％、ビスアミ
ド：０．０１％、副生ジシアンジアミド：０．１２％、
であった。この精製品５０ｇをとり、エタノール３０
ｇ、水２０ｇに溶解したところ、２５℃６ヶ月間透明溶
液であった。なお、副生したビスアミドのメチルエチル
ケトンに対する溶解度は、５０℃で０．２％であった。

【００４０】（実施例６） ラウロイルアミドブチルグ
アニジン酢酸塩の精製 撹拌機、温度計を備えた１１四つ口フラスコに。実施例
２（１）と同様の方法で得た、ラウロイルアミドブチル
グアニジン酢酸塩粗生成物１００ｇをとり、テトラヒド
ロフラン５００ｇを加え、６５℃に加熱して粗生成物を
完全に溶解した。１℃／分の割合で、４０分かけて２５
℃まで冷却し、結晶が析出してから１時間２５℃に保温
し、十分結晶を析出させた。遠心濾過器を用いて結晶を
濾別し、１１四つ口フラスコに入れ、テトラヒドロフラ
ン３００ｇを加え、２５℃で１．５時間懸濁撹拌し洗浄
した。さらに、遠心濾過器を用いて結晶を濾別し、４０
℃、２時間真空乾燥して精製ラウロイルアミドブチルグ
アニジン酢酸塩を得た。収量：８０ｇ、液体クロマトグ
ラフおよび薄層クロマトグラフ分析により、純度：９
９．３％、未反応アミドアミン：０．３％、ビスアミ
ド：０．０２％、副生ジシアンジアミド：０．１５％、
アセチル化アミドアミン：０．２％、であった。この精
製品５０ｇをとり、エタノール３０ｇ、水２０ｇに溶解
したところ、２５℃６ヶ月間透明溶液であった。なお、
副生したビスアミドのテトラヒドロフランに対する溶解
度は、２５℃で０．１％であった。

【００４１】（実施例７）実施例１〜６で得たアミド基
含有グアニジン塩を用いて、以下のシャンプー組成物を
調製した。 本発明品 ０．７ ラウリン酸シュガーエステル １０ Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−ラウリルアミンオキシド １０ ヤシ油脂肪酸時エタノールアミド ４ 安息香酸ナトリウム ０．９ 硫酸ナトリウム ２ 水 残部 （ｐＨ７：水酸化ナトリウムで調整） いずれの生成物を用いた場合も、２５℃６ヶ月間、溶液
は安定であった。

【００４２】（実施例８）実施例１〜６で得たアミド基
含有グアニジン塩を用いて、以下の台所用洗浄剤組成物
を調製した。 本発明品 ５ ポリオキシエチレン（ｐ＝３）ラウリル硫酸ナトリウム ２５ グリセリン ３ エタノール ７ ヤシ油脂肪酸ジエタノールアミド ５ 安息香酸ナトリウム ３ 香料 ０．４ 水 残部 いずれの生成物を用いた場合も、２５℃６ヶ月間、溶液
は安定であった。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4H006 AA02 AA03 AB12 AB70 AC52 AC53 AC59 AD15 AD17 BB12 BB16 BB25 BB61 BC10 BE90

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】下記一般式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ｒ^１は、炭素数１〜２２の直鎖または分岐鎖の
   アルキル基、あるいはアルケニル基である。Ｒ^２、Ｒ^３
   は、水素原子または炭素数１〜４の直鎖または分岐鎖の
   アルキル基、ヒドロキシルアルキル基であり、同一でも
   異なっていても良い。Ａは、炭素数１〜１０の直鎖また
   は分岐鎖のアルキレン基、あるいはアルケニレン基であ
   る。）で表わされるアミド基含有グアニジン誘導体また
   はその塩の製造方法であって、（１）下記一般式（Ｉ
   Ｉ） 【化２】 （式中、Ｒ^１は、炭素数１〜２２の直鎖または分岐鎖の
   アルキル基、あるいはアルケニル基である。Ｒ^２、Ｒ^３
   は、水素原子または炭素数１〜４の直鎖または分岐鎖の
   アルキル基、ヒドロキシルアルキル基であり、同一でも
   異なっていても良い。Ａは、炭素数１〜１０の直鎖また
   は分岐鎖のアルキレン基、あるいはアルケニレン基であ
   る。）で表わされるアミドアミン及び／またはその塩
   を、グアニジン化反応試剤を用いてグアニジン化を行う
   工程、及び、（２）晶析及び濾過工程、（３）有機溶媒
   による洗浄工程を含むことを特徴とするアミド基含有グ
   アニジン誘導体またはその塩の製造方法。
2. 【請求項２】グアニジン化反応試剤が、シアナミド、Ｓ
   −メチルイソチオ尿素、Ｓ−エチルイソチオ尿素、Ｏ−
   メチルイソチオ尿素、Ｏ−エチルイソチオ尿素から選ば
   れる１種以上であることを特徴とする請求項１に記載の
   アミド基含有グアニジン誘導体またはその塩の製造方
   法。
3. 【請求項３】晶析の溶媒がメチルエチルケトン、テトラ
   ヒドロフラン、クロロホルムから選ばれる一種以上であ
   ることを特徴とする請求項１又は２に記載のアミド基含
   有グアニジン誘導体またはその塩の製造方法。
4. 【請求項４】洗浄工程が、メチルエチルケトン、テトラ
   ヒドロフラン、クロロホルムから選ばれる一種以上の溶
   媒による置換洗浄であることを特徴とする請求項１〜３
   に記載のアミド基含有グアニジン誘導体またはその塩の
   製造方法。
5. 【請求項５】洗浄工程が、メチルエチルケトン、テトラ
   ヒドロフラン、クロロホルムから選ばれる１種以上の溶
   媒による懸濁攪拌洗浄であることを特徴とする請求項１
   〜３に記載のアミド基含有グアニジン誘導体またはその
   塩の製造方法。
6. 【請求項６】請求項１〜５に記載の製造方法で得られた
   アミド基含有グアニジン誘導体またはその塩を含有する
   化粧料組成物。
7. 【請求項７】請求項１〜５に記載の製造方法で得られた
   アミド基含有グアニジン誘導体またはその塩を含有する
   洗浄剤組成物。