JP2001181619A - エレクトロルミネセント装置 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 ＥＬ装置に有用なエネルギーバンドギャップ
の大きな発光性ポリマー材料を提供すること。 【解決手段】 アノード、カソード及び前記アノードと
カソードとの間に配置されたポリマー発光材料を含んで
なり、前記ポリマー発光材料が一般式Ｉで表される９，
１０−ジ−（２−ナフチル）アントラセン系ポリマーを
含むことを特徴とするエレクトロルミネセント装置。 （式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 はアルキル基、アルコ
キシ基、置換または非置換のアリール基、置換または非
置換のヘテロアリール基、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、シアノもし
くはニトロ基を表し、Ｘは結合基、Ｙは一種以上のコモ
ノマー単位であって、アルキル基、アルケニル基、アリ
ール基、ヘテロアリール基または共役基を表す。）
の大きな発光性ポリマー材料を提供すること。 【解決手段】 アノード、カソード及び前記アノードと
カソードとの間に配置されたポリマー発光材料を含んで
なり、前記ポリマー発光材料が一般式Ｉで表される９，
１０−ジ−（２−ナフチル）アントラセン系ポリマーを
含むことを特徴とするエレクトロルミネセント装置。 （式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 はアルキル基、アルコ
キシ基、置換または非置換のアリール基、置換または非
置換のヘテロアリール基、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、シアノもし
くはニトロ基を表し、Ｘは結合基、Ｙは一種以上のコモ
ノマー単位であって、アルキル基、アルケニル基、アリ
ール基、ヘテロアリール基または共役基を表す。）
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はエレクトロルミネセ
ント（ＥＬ）装置に関し、より詳細には、ポリマー系Ｅ
Ｌ装置の発光材料としてナフチルアントラセン系ポリマ
ーを使用することに関する。
ント（ＥＬ）装置に関し、より詳細には、ポリマー系Ｅ
Ｌ装置の発光材料としてナフチルアントラセン系ポリマ
ーを使用することに関する。
【０００２】
【従来の技術】エレクトロルミネセント装置は、電流の
通過に応じて発光する光電子装置である。ＥＬの物理モ
デルは電子と正孔の放射再結合である。発光ダイオード
（ＬＥＤ）という用語は、電流−電圧挙動が非線形であ
るＥＬ装置を記述するものとして一般に使用されてい
る。すなわち、当該ＥＬ装置を通る電流はＥＬ装置に印
加された電圧の極性に依存することを意味する。ＬＥＤ
の製造には有機材料も無機材料も用いられている。Ｚｎ
Ｓ／Ｓｎ、Ｇａ／Ｂｓ、Ｇａ／Ａｓのような無機材料が
半導体レーザー、小面積ディスプレイ、ＬＥＤランプ、
等に用いられている。しかしながら、無機材料には、加
工がしにくく、しかも大面積及び高効率青光が得られに
くいという欠点がある。
通過に応じて発光する光電子装置である。ＥＬの物理モ
デルは電子と正孔の放射再結合である。発光ダイオード
（ＬＥＤ）という用語は、電流−電圧挙動が非線形であ
るＥＬ装置を記述するものとして一般に使用されてい
る。すなわち、当該ＥＬ装置を通る電流はＥＬ装置に印
加された電圧の極性に依存することを意味する。ＬＥＤ
の製造には有機材料も無機材料も用いられている。Ｚｎ
Ｓ／Ｓｎ、Ｇａ／Ｂｓ、Ｇａ／Ａｓのような無機材料が
半導体レーザー、小面積ディスプレイ、ＬＥＤランプ、
等に用いられている。しかしながら、無機材料には、加
工がしにくく、しかも大面積及び高効率青光が得られに
くいという欠点がある。
【０００３】ＥＬ装置の発光材料として用いられる有機
ポリマーには、製造が簡易化される、動作電圧が低い、
大面積のフルカラーディスプレイが得られる、等、無機
材料に優る利点がいくつかある。1990年、Burroughesら
は、ポリ（フェニルビニレン）（ＰＰＶ）のような共役
ポリマーをＥＬ材料として最初に導入した（Burroughe
s, J.H. Nature 1990, 347, 539-41)。その後の相当な
進歩により、高分子ＬＥＤの安定性、効率及び耐久性は
改良されている（Sheats, J.R. et al. Science1996, 2
73, 884-888; Berggren, M. et al. Nature 1994, 372,
444-6; Holmes,A. B. et al. WO94/29883 (1994);及び
Spreitzer et al., Adv. Mater. 1998,10(16), 134
0）。フルカラーＥＬディスプレイ用途には安定で青発
光効率及び輝度の高い材料が望まれるので、エネルギー
バンドギャップが大きくて青光を発するポリマーが重要
な材料となる。このような基本材料があれば、他の色
は、ダウンヒル型エネルギー伝達過程(downhill energy
transfer process)によって得ることが可能である。例
えば、青色ＥＬホスト材料に少量の緑色発光性材料又は
赤色発光性材料をドーピングすることにより、緑色又は
赤色のＥＬ発光を得ることができる。
ポリマーには、製造が簡易化される、動作電圧が低い、
大面積のフルカラーディスプレイが得られる、等、無機
材料に優る利点がいくつかある。1990年、Burroughesら
は、ポリ（フェニルビニレン）（ＰＰＶ）のような共役
ポリマーをＥＬ材料として最初に導入した（Burroughe
s, J.H. Nature 1990, 347, 539-41)。その後の相当な
進歩により、高分子ＬＥＤの安定性、効率及び耐久性は
改良されている（Sheats, J.R. et al. Science1996, 2
73, 884-888; Berggren, M. et al. Nature 1994, 372,
444-6; Holmes,A. B. et al. WO94/29883 (1994);及び
Spreitzer et al., Adv. Mater. 1998,10(16), 134
0）。フルカラーＥＬディスプレイ用途には安定で青発
光効率及び輝度の高い材料が望まれるので、エネルギー
バンドギャップが大きくて青光を発するポリマーが重要
な材料となる。このような基本材料があれば、他の色
は、ダウンヒル型エネルギー伝達過程(downhill energy
transfer process)によって得ることが可能である。例
えば、青色ＥＬホスト材料に少量の緑色発光性材料又は
赤色発光性材料をドーピングすることにより、緑色又は
赤色のＥＬ発光を得ることができる。
【０００４】青色発光を得るために共役ポリマーの主鎖
に非共役スペーサー基を組み込む方法は、共役を破壊し
てエネルギーバンドギャップを大きくする上で有効な方
法である。これらのスペーサー基は、通常、共役の延長
を防止すると共に、当該ポリマーの溶解度及びフィルム
形成特性に寄与する。この方法で、青色発光性ＰＰＶ(A
guiar, M et al. Macromolecules 1995, 28, 4598-60
2)、ポリチオフェン(Andersson, M.R. et al. Macromol
ecules 1995, 28, 7525-9)及びＰＰＰ(Hilberer,A et a
l. Macromolecules 1995, 28, 4525-9)が調製されてい
る。しかしながら、このようなスペーサー基は電荷担体
の注入及び移動に対する障壁として作用し得るため、し
きい値電圧及び動作電圧が高くなる。したがって、フル
カラーディスプレイ用の駆動電圧の低い加工可能な新規
の青色発光性ポリマーの開発が望まれている。
に非共役スペーサー基を組み込む方法は、共役を破壊し
てエネルギーバンドギャップを大きくする上で有効な方
法である。これらのスペーサー基は、通常、共役の延長
を防止すると共に、当該ポリマーの溶解度及びフィルム
形成特性に寄与する。この方法で、青色発光性ＰＰＶ(A
guiar, M et al. Macromolecules 1995, 28, 4598-60
2)、ポリチオフェン(Andersson, M.R. et al. Macromol
ecules 1995, 28, 7525-9)及びＰＰＰ(Hilberer,A et a
l. Macromolecules 1995, 28, 4525-9)が調製されてい
る。しかしながら、このようなスペーサー基は電荷担体
の注入及び移動に対する障壁として作用し得るため、し
きい値電圧及び動作電圧が高くなる。したがって、フル
カラーディスプレイ用の駆動電圧の低い加工可能な新規
の青色発光性ポリマーの開発が望まれている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、ポリ
マーＥＬ装置に有用なエネルギーバンドギャップが大き
い発光性ポリマー材料を提供することにある。本発明の
別の目的は、青色光を発するエネルギーバンドギャップ
が大きい発光性ポリマーを提供することにある。
マーＥＬ装置に有用なエネルギーバンドギャップが大き
い発光性ポリマー材料を提供することにある。本発明の
別の目的は、青色光を発するエネルギーバンドギャップ
が大きい発光性ポリマーを提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】これらの目的は、アノー
ド、カソード及び当該アノードと当該カソードとの間に
配置されたポリマー発光材料を含んでなり、当該ポリマ
ー発光材料が下式（Ｉ）で表される９，１０−ジ−（２
−ナフチル）アントラセン系ポリマーを含むことを特徴
とするエレクトロルミネセント装置において達成され
る。
ド、カソード及び当該アノードと当該カソードとの間に
配置されたポリマー発光材料を含んでなり、当該ポリマ
ー発光材料が下式（Ｉ）で表される９，１０−ジ−（２
−ナフチル）アントラセン系ポリマーを含むことを特徴
とするエレクトロルミネセント装置において達成され
る。
【０００７】
【化４２】
【０００８】上式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 及びＲ4 は、各
々独立に、水素、炭素原子数１〜２４のアルキルもしく
はアルコキシ、炭素原子数６〜２８のアリールもしくは
置換アリール、炭素原子数４〜４０のヘテロアリールも
しくは置換ヘテロアリール、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、シアノ基
又はニトロ基を表し、Ｘは結合基を表し、そしてＹは、
一種以上のコモノマー単位であって置換もしくは無置換
のアルキル、アルケニル、アリールもしくはヘテロアリ
ール又は共役基であるものを含む。
々独立に、水素、炭素原子数１〜２４のアルキルもしく
はアルコキシ、炭素原子数６〜２８のアリールもしくは
置換アリール、炭素原子数４〜４０のヘテロアリールも
しくは置換ヘテロアリール、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、シアノ基
又はニトロ基を表し、Ｘは結合基を表し、そしてＹは、
一種以上のコモノマー単位であって置換もしくは無置換
のアルキル、アルケニル、アリールもしくはヘテロアリ
ール又は共役基であるものを含む。
【０００９】本発明は、溶解度が良好で、熱安定性も高
いといったいくつかの利点を有する高分子発光材料を提
供する。エネルギーバンドギャップの大きな基本発色団
である９，１０−ジ−（２−ナフチル）アントラセンを
利用し、そのポリマー鎖にエネルギーバンドギャップの
小さい発色団を導入することにより、他の色を発する発
光性コポリマーを設計し製造することが容易にできる。
いといったいくつかの利点を有する高分子発光材料を提
供する。エネルギーバンドギャップの大きな基本発色団
である９，１０−ジ−（２−ナフチル）アントラセンを
利用し、そのポリマー鎖にエネルギーバンドギャップの
小さい発色団を導入することにより、他の色を発する発
光性コポリマーを設計し製造することが容易にできる。
【００１０】
【発明の実施の形態】本発明は、式（Ｉ）に示したよう
な、溶解度が良好で熱安定性も高い９，１０−ジ−（２
−ナフチル）アントラセンを含有する発光性ポリマーを
提供する。発色団の９，１０−ジ−（２−ナフチル）ア
ントラセンは、譲受人共通の米国特許第５，９３５，７
２１号（Shi ら）に記載されているように、高効率で安
定なＥＬ装置の製造に特に有用であることが示されてい
る。さらに、９，１０−ジ−（２−ナフチル）アントラ
セン発色団は大きなエネルギーバンドギャップを有す
る。エネルギーバンドギャップとは、最高被占軌道（Ｈ
ＯＭＯ）と最低空軌道（ＬＵＭＯ）との間のエネルギー
準位差をいう。第二のコモノマー単位Ｙを組み込むこと
により、（１）ポリマーの溶解度をさらに高めること、
（２）電子又は正孔の輸送能力を向上させること、及び
（３）ポリマーの発光色を調節すること、をはじめとす
るいくつかの目的を達成することができる。したがっ
て、第二のコモノマー単位Ｙは、溶解度、電子もしくは
正孔を輸送する移動性、又はエネルギーバンドギャップ
の小さい発光部位を改良する基であることができる。緑
色又は赤色の発光性ポリマーは分子内エネルギーダウン
ヒル伝達を介して得ることができる。
な、溶解度が良好で熱安定性も高い９，１０−ジ−（２
−ナフチル）アントラセンを含有する発光性ポリマーを
提供する。発色団の９，１０−ジ−（２−ナフチル）ア
ントラセンは、譲受人共通の米国特許第５，９３５，７
２１号（Shi ら）に記載されているように、高効率で安
定なＥＬ装置の製造に特に有用であることが示されてい
る。さらに、９，１０−ジ−（２−ナフチル）アントラ
セン発色団は大きなエネルギーバンドギャップを有す
る。エネルギーバンドギャップとは、最高被占軌道（Ｈ
ＯＭＯ）と最低空軌道（ＬＵＭＯ）との間のエネルギー
準位差をいう。第二のコモノマー単位Ｙを組み込むこと
により、（１）ポリマーの溶解度をさらに高めること、
（２）電子又は正孔の輸送能力を向上させること、及び
（３）ポリマーの発光色を調節すること、をはじめとす
るいくつかの目的を達成することができる。したがっ
て、第二のコモノマー単位Ｙは、溶解度、電子もしくは
正孔を輸送する移動性、又はエネルギーバンドギャップ
の小さい発光部位を改良する基であることができる。緑
色又は赤色の発光性ポリマーは分子内エネルギーダウン
ヒル伝達を介して得ることができる。
【００１１】式（Ｉ）に示したポリマーは９，１０−ジ
−（２−ナフチル）アントラセンを含むポリマーであっ
て、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 及びＲ4 は、各々独立に、水素、
炭素原子数１〜２４のアルキルもしくはアルコキシ、炭
素原子数６〜２８のアリールもしくは置換アリール、炭
素原子数４〜４０のヘテロアリールもしくは置換ヘテロ
アリール、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、シアノ基又はニトロ基を表
す。例えば、Ｒ1 、Ｒ 2 、Ｒ3 及びＲ4 は、水素、メチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブ
チル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、エチルヘキシ
ル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ドデシル、
ヘキサデシル、シクロヘキシル、シクロペンチル、メト
キシ、エトキシ、ブトキシ、ヘキシルオキシ、エチルヘ
キシルオキシ、メトキシエトキシエチル、メトキシエチ
ルオキシエトキシエチル、フェニル、トリル、ナフチ
ル、キシレン、アントラセン、フェナントレン、フェニ
ルメチレンフェニル、ベンジル、フェノキシ、ピリジル
又はチオフェニルを表すことができる。Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ
3 及びＲ4 は水素、ｔ−ブチル、フェニル、２−エチル
ヘキシルオキシ又は４−メトキシフェニルであることが
好ましい。Ｘは結合基を表し、以下のグループを含む
が、これらに限定はされない。 第１グループ：炭素−炭素結合による結合基
−（２−ナフチル）アントラセンを含むポリマーであっ
て、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 及びＲ4 は、各々独立に、水素、
炭素原子数１〜２４のアルキルもしくはアルコキシ、炭
素原子数６〜２８のアリールもしくは置換アリール、炭
素原子数４〜４０のヘテロアリールもしくは置換ヘテロ
アリール、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、シアノ基又はニトロ基を表
す。例えば、Ｒ1 、Ｒ 2 、Ｒ3 及びＲ4 は、水素、メチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブ
チル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、エチルヘキシ
ル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ドデシル、
ヘキサデシル、シクロヘキシル、シクロペンチル、メト
キシ、エトキシ、ブトキシ、ヘキシルオキシ、エチルヘ
キシルオキシ、メトキシエトキシエチル、メトキシエチ
ルオキシエトキシエチル、フェニル、トリル、ナフチ
ル、キシレン、アントラセン、フェナントレン、フェニ
ルメチレンフェニル、ベンジル、フェノキシ、ピリジル
又はチオフェニルを表すことができる。Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ
3 及びＲ4 は水素、ｔ−ブチル、フェニル、２−エチル
ヘキシルオキシ又は４−メトキシフェニルであることが
好ましい。Ｘは結合基を表し、以下のグループを含む
が、これらに限定はされない。 第１グループ：炭素−炭素結合による結合基
【００１２】
【化４３】
【００１３】上式中、Ｒは水素、炭素原子数１〜２４の
アルキル、炭素原子数６〜２８のアリールもしくは置換
アリール、炭素原子数４〜４０のヘテロアリールもしく
は置換ヘテロアリール、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ又はシアノ基を
表す。 第２グループ：エーテル又はチオエーテルによる結合基
アルキル、炭素原子数６〜２８のアリールもしくは置換
アリール、炭素原子数４〜４０のヘテロアリールもしく
は置換ヘテロアリール、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ又はシアノ基を
表す。 第２グループ：エーテル又はチオエーテルによる結合基
【００１４】
【化４４】
【００１５】第３グループ：エステルによる結合基
【００１６】
【化４５】
【００１７】第４グループ：無水物による結合基
【００１８】
【化４６】
【００１９】第５グループ：カーボネートによる結合基
【００２０】
【化４７】
【００２１】第６グループ：スルホン又はスルフィンに
よる結合基
よる結合基
【００２２】
【化４８】
【００２３】第７グループ：アミンによる結合基
【００２４】
【化４９】
【００２５】上式中、Ｒは水素、炭素原子数１〜２４の
アルキル、炭素原子数６〜２８のアリールもしくは置換
アリール又は炭素原子数４〜４０のヘテロアリールもし
くは置換ヘテロアリールを表す。 第８グループ：アミドによる結合基
アルキル、炭素原子数６〜２８のアリールもしくは置換
アリール又は炭素原子数４〜４０のヘテロアリールもし
くは置換ヘテロアリールを表す。 第８グループ：アミドによる結合基
【００２６】
【化５０】
【００２７】上式中、Ｒは水素、炭素原子数１〜２４の
アルキル、炭素原子数６〜２８のアリールもしくは置換
アリール又は炭素原子数４〜４０のヘテロアリールもし
くは置換ヘテロアリールを表す。 第９グループ：ウレアによる結合基
アルキル、炭素原子数６〜２８のアリールもしくは置換
アリール又は炭素原子数４〜４０のヘテロアリールもし
くは置換ヘテロアリールを表す。 第９グループ：ウレアによる結合基
【００２８】
【化５１】
【００２９】上式中、Ｒは水素、炭素原子数１〜２４の
アルキル、炭素原子数６〜２８のアリールもしくは置換
アリール又は炭素原子数４〜４０のヘテロアリールもし
くは置換ヘテロアリールを表す。 第１０グループ：アリールによる結合基
アルキル、炭素原子数６〜２８のアリールもしくは置換
アリール又は炭素原子数４〜４０のヘテロアリールもし
くは置換ヘテロアリールを表す。 第１０グループ：アリールによる結合基
【００３０】
【化５２】
【００３１】上式中、Ａｒは炭素原子数６〜２８のアリ
ールもしくは置換アリール又は炭素原子数４〜４０のヘ
テロアリールもしくは置換ヘテロアリールを表し、ｎは
１〜６の整数を表す。
ールもしくは置換アリール又は炭素原子数４〜４０のヘ
テロアリールもしくは置換ヘテロアリールを表し、ｎは
１〜６の整数を表す。
【００３２】Ｙは、一種以上の第二のコモノマー単位で
あって、置換もしくは無置換のアルキル、アルケニル、
アリールもしくはヘテロアリール又は他の共役基を表
す。二以上の基が含まれる場合、それらの基は異なって
いてもよい。アルキル基には１〜２８個の炭素原子が含
まれる。置換又は無置換アリール基には６〜２８個の炭
素原子が含まれ、例えば、フェニル基、ビフェニル基、
ナフチル基、アントラセン基、フルオレン基、フェナン
トレン基、スピロフェニル基、ペリレン基又はピレン基
が含まれる。置換又は無置換ヘテロアリール基には４〜
４０個の炭素原子が含まれ、例えば、ピリジン、チオフ
ェン、ピロール、ビチオフェン、フラン、ベンゾフラ
ン、ベンズイミダゾール、ベンゾオキサゾール、キノキ
サリン、フェニルキノリン、ジフェニルオキサジアゾー
ル又はカルバゾールが含まれる。
あって、置換もしくは無置換のアルキル、アルケニル、
アリールもしくはヘテロアリール又は他の共役基を表
す。二以上の基が含まれる場合、それらの基は異なって
いてもよい。アルキル基には１〜２８個の炭素原子が含
まれる。置換又は無置換アリール基には６〜２８個の炭
素原子が含まれ、例えば、フェニル基、ビフェニル基、
ナフチル基、アントラセン基、フルオレン基、フェナン
トレン基、スピロフェニル基、ペリレン基又はピレン基
が含まれる。置換又は無置換ヘテロアリール基には４〜
４０個の炭素原子が含まれ、例えば、ピリジン、チオフ
ェン、ピロール、ビチオフェン、フラン、ベンゾフラ
ン、ベンズイミダゾール、ベンゾオキサゾール、キノキ
サリン、フェニルキノリン、ジフェニルオキサジアゾー
ル又はカルバゾールが含まれる。
【００３３】上記の置換基のいずれにも、炭素原子数１
〜２４のアルキルもしくはアルコキシ、炭素原子数６〜
２８のアリールもしくは置換アリール、炭素原子数４〜
２８のヘテロアリールもしくは置換ヘテロアリール、
Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、シアノ基又はニトロ基が含まれる。Ｙ
は以下のグループに分けることができる。 第１グループ：式（II）のアルキル基 −Ｒ− （II） 上式中、Ｒは１〜２４個の炭素原子を含み、さらにＮ、
Ｓ、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ又はＳｉ原子を含むこともできる。
以下の分子構造式はアルキル基の具体例を構成する。
〜２４のアルキルもしくはアルコキシ、炭素原子数６〜
２８のアリールもしくは置換アリール、炭素原子数４〜
２８のヘテロアリールもしくは置換ヘテロアリール、
Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、シアノ基又はニトロ基が含まれる。Ｙ
は以下のグループに分けることができる。 第１グループ：式（II）のアルキル基 −Ｒ− （II） 上式中、Ｒは１〜２４個の炭素原子を含み、さらにＮ、
Ｓ、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ又はＳｉ原子を含むこともできる。
以下の分子構造式はアルキル基の具体例を構成する。
【００３４】
【化５３】 ポリマー１：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝
Ｈ、ｍ＝６ ポリマー２：Ｒ1 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシル
オキシ、ｍ＝４ ポリマー３：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシルオ
キシ、ｍ＝６
Ｈ、ｍ＝６ ポリマー２：Ｒ1 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシル
オキシ、ｍ＝４ ポリマー３：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシルオ
キシ、ｍ＝６
【００３５】
【化５４】 ポリマー４：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝
Ｈ、ｍ＝６ ポリマー５：Ｒ1 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシル
オキシ、ｍ＝４ ポリマー６：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシルオ
キシ、ｍ＝６ ポリマー７：Ｒ1 ＝Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシル、ｍ＝８ ポリマー８：Ｒ1 ＝Ｒ2 ＝Ｈ、ｍ＝１２
Ｈ、ｍ＝６ ポリマー５：Ｒ1 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシル
オキシ、ｍ＝４ ポリマー６：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシルオ
キシ、ｍ＝６ ポリマー７：Ｒ1 ＝Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシル、ｍ＝８ ポリマー８：Ｒ1 ＝Ｒ2 ＝Ｈ、ｍ＝１２
【００３６】
【化５５】 ポリマー９：Ｒ1 ＝Ｈ、Ｒ2 ＝２−エチルヘキシルオキ
シ、ｐ＝４、ｑ＝３ ポリマー１０：Ｒ1 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ2 ＝ｔ−ブチ
ル、ｐ＝４、ｑ＝３ ポリマー１１：Ｒ1 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ2 ＝ｔ−ブチ
ル、ｐ＝４、ｑ＝５
シ、ｐ＝４、ｑ＝３ ポリマー１０：Ｒ1 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ2 ＝ｔ−ブチ
ル、ｐ＝４、ｑ＝３ ポリマー１１：Ｒ1 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ2 ＝ｔ−ブチ
ル、ｐ＝４、ｑ＝５
【００３７】
【化５６】 ポリマー１２：Ｒ1 ＝Ｈ、Ｒ2 ＝２−エチルヘキシルオ
キシ、Ｘ＝Ｏ、ｐ＝６ ポリマー１３：Ｒ1 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ2 ＝２−エチル
ヘキシルオキシ、Ｘ＝Ｏ、ｐ＝４ ポリマー１４：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシル、Ｒ2 ＝ｔ−
ブチル、Ｘ＝Ｓ、ｐ＝４ ポリマー１５：Ｒ1 ＝ｎ−ヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝ｔ−
ブチル、Ｘ＝Ｓ、ｐ＝４
キシ、Ｘ＝Ｏ、ｐ＝６ ポリマー１３：Ｒ1 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ2 ＝２−エチル
ヘキシルオキシ、Ｘ＝Ｏ、ｐ＝４ ポリマー１４：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシル、Ｒ2 ＝ｔ−
ブチル、Ｘ＝Ｓ、ｐ＝４ ポリマー１５：Ｒ1 ＝ｎ−ヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝ｔ−
ブチル、Ｘ＝Ｓ、ｐ＝４
【００３８】
【化５７】 ポリマー１６：Ｒ1 ＝Ｈ、Ｒ2 ＝２−エチルヘキシルオ
キシ、ｐ＝６ ポリマー１７：Ｒ1 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ2 ＝２−エチル
ヘキシルオキシ、ｐ＝４ ポリマー１８：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシル、Ｒ2 ＝ｔ−
ブチル、ｐ＝４ ポリマー１９：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2
＝Ｈ、ｐ＝４
キシ、ｐ＝６ ポリマー１７：Ｒ1 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ2 ＝２−エチル
ヘキシルオキシ、ｐ＝４ ポリマー１８：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシル、Ｒ2 ＝ｔ−
ブチル、ｐ＝４ ポリマー１９：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2
＝Ｈ、ｐ＝４
【００３９】
【化５８】 ポリマー２０：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2
＝Ｈ、ｐ＝４、ｑ＝３ ポリマー２１：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝２−エチルヘ
キシル、ｐ＝４、ｑ＝５ ポリマー２２：Ｒ1 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ2 ＝２−エチル
ヘキシルオキシ、ｐ＝４、ｑ＝５
＝Ｈ、ｐ＝４、ｑ＝３ ポリマー２１：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝２−エチルヘ
キシル、ｐ＝４、ｑ＝５ ポリマー２２：Ｒ1 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ2 ＝２−エチル
ヘキシルオキシ、ｐ＝４、ｑ＝５
【００４０】
【化５９】 ポリマー２３：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2
＝Ｈ、ｍ＝８ ポリマー２４：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝２−エチルヘ
キシル、ｍ＝４ ポリマー２５：Ｒ1 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ2 ＝２−エチル
ヘキシルオキシ、ｍ＝２
＝Ｈ、ｍ＝８ ポリマー２４：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝２−エチルヘ
キシル、ｍ＝４ ポリマー２５：Ｒ1 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ2 ＝２−エチル
ヘキシルオキシ、ｍ＝２
【００４１】
【化６０】 ポリマー２６：Ｒ1 ＝Ｒ2 ＝Ｈ、ｍ＝１１ ポリマー２７：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝２−エチルヘ
キシル、ｍ＝７ ポリマー２８：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝Ｈ、ｍ＝１１ ポリマー２９：Ｒ1 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ2 ＝２−エチル
ヘキシルオキシ、ｍ＝５ ポリマー３０：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2
＝Ｈ、ｍ＝１１
キシル、ｍ＝７ ポリマー２８：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝Ｈ、ｍ＝１１ ポリマー２９：Ｒ1 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ2 ＝２−エチル
ヘキシルオキシ、ｍ＝５ ポリマー３０：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2
＝Ｈ、ｍ＝１１
【００４２】第２グループ：式(III) の結合基Ｚで連結
された二つのアリール基
された二つのアリール基
【００４３】
【化６１】
【００４４】上式中、Ａｒ1 及びＡｒ2 は６〜２８個の
炭素原子を含む置換又は無置換芳香族基を表し、そして
Ｚは、０〜１２個の炭素原子を含み、さらにＮ、Ｓｉ、
Ｏ、Ｃｌ、Ｆ、Ｂｒ又はＳ原子を含むことができる、二
価の結合基を表す。下記の分子構造式は式(III) を含む
上記基の具体例を構成する。
炭素原子を含む置換又は無置換芳香族基を表し、そして
Ｚは、０〜１２個の炭素原子を含み、さらにＮ、Ｓｉ、
Ｏ、Ｃｌ、Ｆ、Ｂｒ又はＳ原子を含むことができる、二
価の結合基を表す。下記の分子構造式は式(III) を含む
上記基の具体例を構成する。
【００４５】
【化６２】 ポリマー３１：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2
＝Ｒ3 ＝Ｈ、ｐ＝６ ポリマー３２：Ｒ1 ＝Ｒ3 ＝Ｈ、Ｒ2 ＝２−エチルヘキ
シルオキシ、ｐ＝１２ ポリマー３３：Ｒ1 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝Ｈ、
ｐ＝１２ ポリマー３４：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝ｎ−ヘ
キシル、ｐ＝６）
＝Ｒ3 ＝Ｈ、ｐ＝６ ポリマー３２：Ｒ1 ＝Ｒ3 ＝Ｈ、Ｒ2 ＝２−エチルヘキ
シルオキシ、ｐ＝１２ ポリマー３３：Ｒ1 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝Ｈ、
ｐ＝１２ ポリマー３４：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝ｎ−ヘ
キシル、ｐ＝６）
【００４６】
【化６３】 ポリマー３５：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2
＝Ｒ3 ＝Ｈ、Ｒ4 ＝ＣＨ 3 、Ｘ＝Ｃ ポリマー３６：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2
＝Ｒ3 ＝Ｈ、Ｒ4 ＝ＣＦ 3 、Ｘ＝Ｃ ポリマー３７：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝２−エチルヘ
キシルオキシ、Ｒ4 ＝ＣＦ3 、Ｒ3 ＝Ｈ、Ｘ＝Ｃ ポリマー３８：Ｒ1 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシ
ルオキシ、Ｒ3 ＝Ｈ、Ｒ 4 ＝ＣＦ3 、Ｘ＝Ｃ ポリマー３９：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝２−エチルヘ
キシルオキシ、Ｒ3 ＝Ｈ、Ｒ4 ＝ＣＦ3 、Ｘ＝Ｓｉ ポリマー４０：Ｒ1 ＝Ｈ、Ｒ2 ＝２−エチルヘキシルオ
キシ、Ｒ3 ＝Ｈ、Ｒ4 ＝ＣＦ3 、Ｘ＝Ｓｉ
＝Ｒ3 ＝Ｈ、Ｒ4 ＝ＣＨ 3 、Ｘ＝Ｃ ポリマー３６：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2
＝Ｒ3 ＝Ｈ、Ｒ4 ＝ＣＦ 3 、Ｘ＝Ｃ ポリマー３７：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝２−エチルヘ
キシルオキシ、Ｒ4 ＝ＣＦ3 、Ｒ3 ＝Ｈ、Ｘ＝Ｃ ポリマー３８：Ｒ1 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシ
ルオキシ、Ｒ3 ＝Ｈ、Ｒ 4 ＝ＣＦ3 、Ｘ＝Ｃ ポリマー３９：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝２−エチルヘ
キシルオキシ、Ｒ3 ＝Ｈ、Ｒ4 ＝ＣＦ3 、Ｘ＝Ｓｉ ポリマー４０：Ｒ1 ＝Ｈ、Ｒ2 ＝２−エチルヘキシルオ
キシ、Ｒ3 ＝Ｈ、Ｒ4 ＝ＣＦ3 、Ｘ＝Ｓｉ
【００４７】
【化６４】 ポリマー４１：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2
＝Ｒ3 ＝Ｈ、Ｒ4 ＝ＣＨ 3 、Ｘ＝Ｃ ポリマー４２：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2
＝Ｒ3 ＝Ｈ、Ｒ4 ＝ＣＦ 3 、Ｘ＝Ｃ ポリマー４３：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝２−エチルヘ
キシルオキシ、Ｒ3 ＝Ｈ、Ｒ4 ＝ＣＦ3 、Ｘ＝Ｓｉ ポリマー４４：Ｒ1 ＝Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝Ｈ、Ｒ4 ＝ＣＨ3 、
Ｘ＝Ｃ ポリマー４５：Ｒ1 ＝Ｈ、Ｒ2 ＝２−エチルヘキシルオ
キシ、Ｒ3 ＝Ｈ、Ｒ4 ＝ＣＦ3 、Ｘ＝Ｓｉ
＝Ｒ3 ＝Ｈ、Ｒ4 ＝ＣＨ 3 、Ｘ＝Ｃ ポリマー４２：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2
＝Ｒ3 ＝Ｈ、Ｒ4 ＝ＣＦ 3 、Ｘ＝Ｃ ポリマー４３：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝２−エチルヘ
キシルオキシ、Ｒ3 ＝Ｈ、Ｒ4 ＝ＣＦ3 、Ｘ＝Ｓｉ ポリマー４４：Ｒ1 ＝Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝Ｈ、Ｒ4 ＝ＣＨ3 、
Ｘ＝Ｃ ポリマー４５：Ｒ1 ＝Ｈ、Ｒ2 ＝２−エチルヘキシルオ
キシ、Ｒ3 ＝Ｈ、Ｒ4 ＝ＣＦ3 、Ｘ＝Ｓｉ
【００４８】
【化６５】 ポリマー４６：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2
＝Ｈ、Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝ＣＨ 3 ポリマー４７：Ｒ1 ＝Ｒ2 ＝Ｈ、Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝ＣＨ3 ポリマー４８：Ｒ1 ＝Ｈ、Ｒ2 ＝２−エチルヘキシルオ
キシ、Ｒ3 ＝ｎ−ブチル、Ｒ4 ＝ＣＨ3
＝Ｈ、Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝ＣＨ 3 ポリマー４７：Ｒ1 ＝Ｒ2 ＝Ｈ、Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝ＣＨ3 ポリマー４８：Ｒ1 ＝Ｈ、Ｒ2 ＝２−エチルヘキシルオ
キシ、Ｒ3 ＝ｎ−ブチル、Ｒ4 ＝ＣＨ3
【００４９】
【化６６】 ポリマー４９：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2
＝Ｈ、Ｒ3 ＝ＣＨ3 、Ｒ 4 ＝Ｈ、Ｘ＝Ｃ ポリマー５０：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシル
オキシ、Ｒ3 ＝ＣＨ3 、Ｒ4 ＝Ｈ、Ｘ＝Ｃ ポリマー５１：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシル
オキシ、Ｒ3 ＝ｎ−ブチル、Ｒ4 ＝Ｈ、Ｘ＝Ｓｉ ポリマー５２：Ｒ1 ＝Ｒ2 ＝Ｒ4 ＝Ｈ、Ｒ3 ＝ＣＦ3 、
Ｘ＝Ｃ ポリマー５３：Ｒ1 ＝Ｈ、Ｒ2 ＝２−エチルヘキシルオ
キシ、Ｒ3 ＝ＣＨ3 、Ｒ 4 ＝ｎ−ブチル、Ｘ＝Ｓｉ
＝Ｈ、Ｒ3 ＝ＣＨ3 、Ｒ 4 ＝Ｈ、Ｘ＝Ｃ ポリマー５０：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシル
オキシ、Ｒ3 ＝ＣＨ3 、Ｒ4 ＝Ｈ、Ｘ＝Ｃ ポリマー５１：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシル
オキシ、Ｒ3 ＝ｎ−ブチル、Ｒ4 ＝Ｈ、Ｘ＝Ｓｉ ポリマー５２：Ｒ1 ＝Ｒ2 ＝Ｒ4 ＝Ｈ、Ｒ3 ＝ＣＦ3 、
Ｘ＝Ｃ ポリマー５３：Ｒ1 ＝Ｈ、Ｒ2 ＝２−エチルヘキシルオ
キシ、Ｒ3 ＝ＣＨ3 、Ｒ 4 ＝ｎ−ブチル、Ｘ＝Ｓｉ
【００５０】
【化６７】 ポリマー５４：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2
＝ｎ−ブチル、Ｒ3 ＝フェニル ポリマー５５：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシル
オキシ、Ｒ3 ＝フェニル ポリマー５６：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2
＝Ｈ、Ｒ3 ＝ｎ−ブチル ポリマー５７：Ｒ1 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ2 ＝２−エチル
ヘキシルオキシ、Ｒ3 ＝フェニル
＝ｎ−ブチル、Ｒ3 ＝フェニル ポリマー５５：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシル
オキシ、Ｒ3 ＝フェニル ポリマー５６：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2
＝Ｈ、Ｒ3 ＝ｎ−ブチル ポリマー５７：Ｒ1 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ2 ＝２−エチル
ヘキシルオキシ、Ｒ3 ＝フェニル
【００５１】
【化６８】 ポリマー５８：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2
＝Ｈ、Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシル ポリマー５９：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2
＝Ｈ、Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシル ポリマー６０：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2
＝Ｈ、Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシル ポリマー６１：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝Ｈ、Ｒ3 ＝２
−エチルヘキシル ポリマー６２：Ｒ1 ＝Ｈ、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシルオキシ、
Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシル ポリマー６３：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2
＝Ｈ、Ｒ3 ＝４−メチルオキシフェニル
＝Ｈ、Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシル ポリマー５９：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2
＝Ｈ、Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシル ポリマー６０：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2
＝Ｈ、Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシル ポリマー６１：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝Ｈ、Ｒ3 ＝２
−エチルヘキシル ポリマー６２：Ｒ1 ＝Ｈ、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシルオキシ、
Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシル ポリマー６３：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2
＝Ｈ、Ｒ3 ＝４−メチルオキシフェニル
【００５２】
【化６９】 ポリマー６４：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2
＝Ｈ、Ｘ＝Ｏ ポリマー６５：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2
＝Ｈ、Ｘ＝Ｓ ポリマー６６：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシル
オキシ、Ｘ＝Ｏ ポリマー６７：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2
＝ｎ−ヘキシル、Ｘ＝Ｏ
＝Ｈ、Ｘ＝Ｏ ポリマー６５：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2
＝Ｈ、Ｘ＝Ｓ ポリマー６６：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシル
オキシ、Ｘ＝Ｏ ポリマー６７：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2
＝ｎ−ヘキシル、Ｘ＝Ｏ
【００５３】
【化７０】 ポリマー６８：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2
＝Ｈ、Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝ｎ−ヘキシル ポリマー６９：Ｒ1 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ2 ＝Ｈ、Ｒ3 ＝
Ｒ4 ＝ｎ−ヘキシル ポリマー７０：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシ
ル、Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝４−メチルオキシフェニル ポリマー７１：Ｒ1 ＝Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシルオキシ、Ｒ3
＝Ｒ4 ＝ｎ−ヘキシル
＝Ｈ、Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝ｎ−ヘキシル ポリマー６９：Ｒ1 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ2 ＝Ｈ、Ｒ3 ＝
Ｒ4 ＝ｎ−ヘキシル ポリマー７０：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシ
ル、Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝４−メチルオキシフェニル ポリマー７１：Ｒ1 ＝Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシルオキシ、Ｒ3
＝Ｒ4 ＝ｎ−ヘキシル
【００５４】
【化７１】 ポリマー７２：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2
＝Ｈ ポリマー７３：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシル
オキシ ポリマー７４：Ｒ1 ＝Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシル ポリマー７５：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2
＝ｔ−ブチル
＝Ｈ ポリマー７３：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシル
オキシ ポリマー７４：Ｒ1 ＝Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシル ポリマー７５：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2
＝ｔ−ブチル
【００５５】
【化７２】 ポリマー７６：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2
＝Ｒ3 ＝Ｈ ポリマー７７：Ｒ1 ＝Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ3 ＝Ｈ ポリマー７８：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシル
オキシ、Ｒ3 ＝Ｈ ポリマー７９：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝ｎ−ヘ
キシルオキシ
＝Ｒ3 ＝Ｈ ポリマー７７：Ｒ1 ＝Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ3 ＝Ｈ ポリマー７８：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシル
オキシ、Ｒ3 ＝Ｈ ポリマー７９：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝ｎ−ヘ
キシルオキシ
【００５６】
【化７３】 ポリマー８０：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2
＝Ｒ3 ＝Ｈ ポリマー８１：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシ
ル、Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシルオキシ ポリマー８２：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシル
オキシ、Ｒ3 ＝Ｈ ポリマー８３：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2
＝Ｈ、Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシルオキシ 第３グループ：式（IV）の芳香族炭化水素
＝Ｒ3 ＝Ｈ ポリマー８１：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシ
ル、Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシルオキシ ポリマー８２：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシル
オキシ、Ｒ3 ＝Ｈ ポリマー８３：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2
＝Ｈ、Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシルオキシ 第３グループ：式（IV）の芳香族炭化水素
【００５７】
【化７４】
【００５８】上式中、Ａｒは炭素原子数６〜２８の置換
又は無置換アリール基を表す。下記の分子構造式は式
（IV）による上記基の具体例を構成する。
又は無置換アリール基を表す。下記の分子構造式は式
（IV）による上記基の具体例を構成する。
【００５９】
【化７５】 ポリマー８４：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2
＝Ｒ3 ＝Ｈ、ｐ＝０ ポリマー８５：Ｒ1 ＝Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ3 ＝Ｈ、
ｐ＝１ ポリマー８６：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシル
オキシ、Ｒ3 ＝Ｈ、ｐ＝２ ポリマー８７：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝ｎ−ヘ
キシルオキシ、ｐ＝１
＝Ｒ3 ＝Ｈ、ｐ＝０ ポリマー８５：Ｒ1 ＝Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ3 ＝Ｈ、
ｐ＝１ ポリマー８６：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシル
オキシ、Ｒ3 ＝Ｈ、ｐ＝２ ポリマー８７：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝ｎ−ヘ
キシルオキシ、ｐ＝１
【００６０】
【化７６】 ポリマー８８：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2
＝Ｈ、ｍ＝５ ポリマー８９：Ｒ1 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ2 ＝Ｈ、ｍ＝１
７ ポリマー９０：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシル
オキシ、ｍ＝７ ポリマー９１：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝ｎ−ヘ
キシルオキシ、ｍ＝９
＝Ｈ、ｍ＝５ ポリマー８９：Ｒ1 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ2 ＝Ｈ、ｍ＝１
７ ポリマー９０：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシル
オキシ、ｍ＝７ ポリマー９１：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝ｎ−ヘ
キシルオキシ、ｍ＝９
【００６１】
【化７７】 ポリマー９２：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2
＝Ｒ3 ＝Ｈ ポリマー９３：Ｒ1 ＝Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ3 ＝Ｈ ポリマー９４：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝ｎ−ヘ
キシルオキシ ポリマー９５：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシル
オキシ、Ｒ3 ＝Ｈ
＝Ｒ3 ＝Ｈ ポリマー９３：Ｒ1 ＝Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ3 ＝Ｈ ポリマー９４：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝ｎ−ヘ
キシルオキシ ポリマー９５：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシル
オキシ、Ｒ3 ＝Ｈ
【００６２】
【化７８】 ポリマー９６：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシル
オキシ、Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝Ｈ ポリマー９７：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシル、Ｒ2 ＝Ｒ4
＝Ｈ、Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシルオキシ ポリマー９８：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2
＝Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシルオキシ、Ｒ4 ＝Ｈ ポリマー９９：Ｒ1 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝ｎ−
ヘキシルオキシ、Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝Ｈ
オキシ、Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝Ｈ ポリマー９７：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシル、Ｒ2 ＝Ｒ4
＝Ｈ、Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシルオキシ ポリマー９８：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2
＝Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシルオキシ、Ｒ4 ＝Ｈ ポリマー９９：Ｒ1 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝ｎ−
ヘキシルオキシ、Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝Ｈ
【００６３】
【化７９】 ポリマー１００：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシ
ルオキシ、Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝Ｈ、ｐ＝ｑ＝１ ポリマー１０１：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシル、Ｒ2 ＝Ｒ
4 ＝Ｈ、Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシルオキシ、ｐ＝ｑ＝１ ポリマー１０２：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシルオキシ、Ｒ4 ＝Ｈ、ｐ＝ｑ＝２ ポリマー１０３：Ｒ1 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝ｎ
−ヘキシルオキシ、Ｒ4＝Ｈ、ｐ＝ｑ＝２ ポリマー１０４：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｒ3 ＝Ｈ、Ｒ4 ＝ｎ−ヘキシル、ｐ＝ｑ＝２ ポリマー１０５：Ｒ1 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ2 ＝Ｒ4 ＝ｎ
−ヘキシルオキシ、Ｒ3＝Ｈ、ｐ＝ｑ＝２
ルオキシ、Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝Ｈ、ｐ＝ｑ＝１ ポリマー１０１：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシル、Ｒ2 ＝Ｒ
4 ＝Ｈ、Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシルオキシ、ｐ＝ｑ＝１ ポリマー１０２：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシルオキシ、Ｒ4 ＝Ｈ、ｐ＝ｑ＝２ ポリマー１０３：Ｒ1 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝ｎ
−ヘキシルオキシ、Ｒ4＝Ｈ、ｐ＝ｑ＝２ ポリマー１０４：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｒ3 ＝Ｈ、Ｒ4 ＝ｎ−ヘキシル、ｐ＝ｑ＝２ ポリマー１０５：Ｒ1 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ2 ＝Ｒ4 ＝ｎ
−ヘキシルオキシ、Ｒ3＝Ｈ、ｐ＝ｑ＝２
【００６４】
【化８０】 ポリマー１０６：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシ
ルオキシ、Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝Ｈ ポリマー１０７：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシル、Ｒ2 ＝Ｒ
4 ＝Ｈ、Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシルオキシ ポリマー１０８：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシルオキシ、Ｒ4 ＝Ｈ ポリマー１０９：Ｒ1 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝ｎ
−ヘキシルオキシ、Ｒ3＝Ｒ4 ＝Ｈ
ルオキシ、Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝Ｈ ポリマー１０７：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシル、Ｒ2 ＝Ｒ
4 ＝Ｈ、Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシルオキシ ポリマー１０８：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシルオキシ、Ｒ4 ＝Ｈ ポリマー１０９：Ｒ1 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝ｎ
−ヘキシルオキシ、Ｒ3＝Ｒ4 ＝Ｈ
【００６５】
【化８１】 ポリマー１１０：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｒ3 ＝Ｈ ポリマー１１１：Ｒ1 ＝Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ3 ＝Ｈ ポリマー１１２：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝ｎ−
ヘキシルオキシ ポリマー１１３：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｈ、Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシルオキシ
2 ＝Ｒ3 ＝Ｈ ポリマー１１１：Ｒ1 ＝Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ3 ＝Ｈ ポリマー１１２：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝ｎ−
ヘキシルオキシ ポリマー１１３：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｈ、Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシルオキシ
【００６６】
【化８２】 ポリマー１１４：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｒ3 ＝Ｈ ポリマー１１５：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ3＝Ｈ ポリマー１１６：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝ｎ−
ヘキシル
2 ＝Ｒ3 ＝Ｈ ポリマー１１５：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ3＝Ｈ ポリマー１１６：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝ｎ−
ヘキシル
【００６７】
【化８３】 ポリマー１１７：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｒ3 ＝Ｈ ポリマー１１８：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ3＝Ｈ ポリマー１１９：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝ｎ−
ヘキシル ポリマー１２０：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｈ、Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシル
2 ＝Ｒ3 ＝Ｈ ポリマー１１８：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ3＝Ｈ ポリマー１１９：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝ｎ−
ヘキシル ポリマー１２０：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｈ、Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシル
【００６８】
【化８４】 ポリマー１２１：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ3＝Ｈ ポリマー１２２：Ｒ1 ＝Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシル ポリマー１２３：Ｒ1 ＝Ｒ3 ＝２−エチルヘキシルオキ
シ、Ｒ2 ＝Ｈ
2 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ3＝Ｈ ポリマー１２２：Ｒ1 ＝Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシル ポリマー１２３：Ｒ1 ＝Ｒ3 ＝２−エチルヘキシルオキ
シ、Ｒ2 ＝Ｈ
【００６９】
【化８５】 ポリマー１２４：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ3＝Ｈ ポリマー１２５：Ｒ1 ＝Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシル ポリマー１２６：Ｒ1 ＝Ｒ3 ＝２−エチルヘキシルオキ
シ、Ｒ2 ＝Ｈ ポリマー１２７：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｒ3 ＝Ｈ 第４グループ：式（Ｖ）の二重結合により連結された芳
香族炭化水素
2 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ3＝Ｈ ポリマー１２５：Ｒ1 ＝Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシル ポリマー１２６：Ｒ1 ＝Ｒ3 ＝２−エチルヘキシルオキ
シ、Ｒ2 ＝Ｈ ポリマー１２７：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｒ3 ＝Ｈ 第４グループ：式（Ｖ）の二重結合により連結された芳
香族炭化水素
【００７０】
【化８６】
【００７１】上式中、Ａｒ1 及びＡｒ2 は炭素原子数６
〜２８の置換又は無置換アリール基を表し、Ｒ’及び
Ｒ”は水素、炭素原子数１〜１２のアルキル基、Ｃｌ、
Ｂｒ、Ｆ又はシアノ基を表し、そしてｐは１〜３の整数
を表す。下記の分子構造式は式（Ｖ）による上記基の具
体例を構成する。
〜２８の置換又は無置換アリール基を表し、Ｒ’及び
Ｒ”は水素、炭素原子数１〜１２のアルキル基、Ｃｌ、
Ｂｒ、Ｆ又はシアノ基を表し、そしてｐは１〜３の整数
を表す。下記の分子構造式は式（Ｖ）による上記基の具
体例を構成する。
【００７２】
【化８７】 ポリマー１２８：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ ポリマー１２９：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ3＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ ポリマー１３０：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシ
ル、Ｒ3 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、Ｒ 4 ＝ｎ−ヘキシルオキシ ポリマー１３１：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、Ｒ 3 ＝ＣＮ ポリマー１３２：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ3＝ＣＮ、Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ
2 ＝Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ ポリマー１２９：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ3＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ ポリマー１３０：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシ
ル、Ｒ3 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、Ｒ 4 ＝ｎ−ヘキシルオキシ ポリマー１３１：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、Ｒ 3 ＝ＣＮ ポリマー１３２：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ3＝ＣＮ、Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ
【００７３】
【化８８】 ポリマー１３３：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ ポリマー１３４：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ3＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ ポリマー１３５：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシ
ル、Ｒ3 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、Ｒ 4 ＝ｎ−ヘキシルオキシ ポリマー１３６：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、Ｒ 3 ＝ＣＮ ポリマー１３７：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ3＝ＣＮ、Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ
2 ＝Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ ポリマー１３４：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ3＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ ポリマー１３５：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシ
ル、Ｒ3 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、Ｒ 4 ＝ｎ−ヘキシルオキシ ポリマー１３６：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、Ｒ 3 ＝ＣＮ ポリマー１３７：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ3＝ＣＮ、Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ
【００７４】
【化８９】 ポリマー１３８：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ ポリマー１３９：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ3＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ ポリマー１４０：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシ
ル、Ｒ3 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、Ｒ 4 ＝ｎ−ヘキシルオキシ ポリマー１４１：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、Ｒ 3 ＝ＣＮ ポリマー１４２：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ3＝ＣＮ、Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ
2 ＝Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ ポリマー１３９：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ3＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ ポリマー１４０：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシ
ル、Ｒ3 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、Ｒ 4 ＝ｎ−ヘキシルオキシ ポリマー１４１：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、Ｒ 3 ＝ＣＮ ポリマー１４２：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ3＝ＣＮ、Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ
【００７５】
【化９０】 ポリマー１４３：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ ポリマー１４４：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ3＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ ポリマー１４５：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシ
ル、Ｒ3 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、Ｒ 4 ＝ｎ−ヘキシルオキシ ポリマー１４６：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、Ｒ 3 ＝ＣＮ ポリマー１４７：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ3＝ＣＮ、Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ
2 ＝Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ ポリマー１４４：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ3＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ ポリマー１４５：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシ
ル、Ｒ3 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、Ｒ 4 ＝ｎ−ヘキシルオキシ ポリマー１４６：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、Ｒ 3 ＝ＣＮ ポリマー１４７：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ3＝ＣＮ、Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ
【００７６】
【化９１】 ポリマー１４８：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、ｐ＝ｑ＝ｒ＝１ ポリマー１４９：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ3＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、ｐ＝ｑ＝ｒ
＝１ ポリマー１５０：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシ
ル、Ｒ3 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、Ｒ 4 ＝ｎ−ヘキシルオキシ、ｐ＝
ｑ＝２、ｒ＝１ ポリマー１５１：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、Ｒ 3 ＝ＣＮ、ｐ＝ｑ＝ｒ＝１ ポリマー１５２：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ3＝ＣＮ、Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、ｐ＝
ｑ＝ｒ＝２
2 ＝Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、ｐ＝ｑ＝ｒ＝１ ポリマー１４９：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ3＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、ｐ＝ｑ＝ｒ
＝１ ポリマー１５０：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシ
ル、Ｒ3 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、Ｒ 4 ＝ｎ−ヘキシルオキシ、ｐ＝
ｑ＝２、ｒ＝１ ポリマー１５１：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、Ｒ 3 ＝ＣＮ、ｐ＝ｑ＝ｒ＝１ ポリマー１５２：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ3＝ＣＮ、Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、ｐ＝
ｑ＝ｒ＝２
【００７７】
【化９２】 ポリマー１５３：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、ｐ＝ｑ＝ｒ＝１ ポリマー１５４：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ3＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、ｐ＝ｑ＝ｒ
＝１ ポリマー１５５：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシ
ル、Ｒ3 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、Ｒ 4 ＝ｎ−ヘキシルオキシ、ｐ＝
ｑ＝２、ｒ＝１ ポリマー１５６：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、Ｒ 3 ＝ＣＮ、ｐ＝ｑ＝ｒ＝１ ポリマー１５７：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ3＝ＣＮ、Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、ｐ＝
ｑ＝ｒ＝２ 第５グループ：式（VI）のヘテロ芳香族
2 ＝Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、ｐ＝ｑ＝ｒ＝１ ポリマー１５４：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ3＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、ｐ＝ｑ＝ｒ
＝１ ポリマー１５５：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシ
ル、Ｒ3 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、Ｒ 4 ＝ｎ−ヘキシルオキシ、ｐ＝
ｑ＝２、ｒ＝１ ポリマー１５６：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、Ｒ 3 ＝ＣＮ、ｐ＝ｑ＝ｒ＝１ ポリマー１５７：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ3＝ＣＮ、Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、ｐ＝
ｑ＝ｒ＝２ 第５グループ：式（VI）のヘテロ芳香族
【００７８】
【化９３】
【００７９】上式中、Ｗは、少なくとも一種以上のＮ、
Ｓ又はＯ原子を含む炭素原子数４〜４０の置換又は無置
換ヘテロアリール基を表す。下記の分子構造式は式（V
I）による上記基の具体例を構成する。
Ｓ又はＯ原子を含む炭素原子数４〜４０の置換又は無置
換ヘテロアリール基を表す。下記の分子構造式は式（V
I）による上記基の具体例を構成する。
【００８０】
【化９４】 ポリマー１５８：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｒ3 ＝Ｈ、ｐ＝１ ポリマー１５９：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｒ3 ＝Ｈ、ｐ＝２ ポリマー１６０：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｈ、Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシル、ｐ＝１ ポリマー１６１：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシ
ルオキシ、Ｒ3 ＝Ｈ、ｐ＝１
2 ＝Ｒ3 ＝Ｈ、ｐ＝１ ポリマー１５９：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｒ3 ＝Ｈ、ｐ＝２ ポリマー１６０：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｈ、Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシル、ｐ＝１ ポリマー１６１：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシ
ルオキシ、Ｒ3 ＝Ｈ、ｐ＝１
【００８１】
【化９５】 ポリマー１６２：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｒ3 ＝Ｈ、Ｒ4 ＝ｎ−ヘキシル、ｐ＝１ ポリマー１６３：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシ
ル、Ｒ3 ＝Ｈ、Ｒ4 ＝２−エチルヘキシル、ｐ＝２ ポリマー１６４：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｈ、Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ4 ＝２−エチルヘキシ
ル、ｐ＝２ ポリマー１６５：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ4 ＝２−エチルヘキシル、
ｐ＝３
2 ＝Ｒ3 ＝Ｈ、Ｒ4 ＝ｎ−ヘキシル、ｐ＝１ ポリマー１６３：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシ
ル、Ｒ3 ＝Ｈ、Ｒ4 ＝２−エチルヘキシル、ｐ＝２ ポリマー１６４：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｈ、Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ4 ＝２−エチルヘキシ
ル、ｐ＝２ ポリマー１６５：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ4 ＝２−エチルヘキシル、
ｐ＝３
【００８２】
【化９６】 ポリマー１６６：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝Ｈ、ｐ＝ｒ＝０、ｑ＝１ ポリマー１６７：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシ
ル、Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝２−エチルヘキシル、ｐ＝ｒ＝１、ｑ
＝２ ポリマー１６８：Ｒ1 ＝Ｒ4 ＝２−エチルヘキシルオキ
シ、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝Ｈ、ｐ＝ｒ＝ｑ＝１ ポリマー１６９：Ｒ1 ＝Ｒ2 ＝２−エチルヘキシルオキ
シ、Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝Ｈ、ｐ＝ｒ＝１、ｑ＝２ ポリマー１７０：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝２−
エチルヘキシルオキシ、Ｒ4 ＝Ｈ、ｐ＝ｒ＝１、ｑ＝２
2 ＝Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝Ｈ、ｐ＝ｒ＝０、ｑ＝１ ポリマー１６７：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシ
ル、Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝２−エチルヘキシル、ｐ＝ｒ＝１、ｑ
＝２ ポリマー１６８：Ｒ1 ＝Ｒ4 ＝２−エチルヘキシルオキ
シ、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝Ｈ、ｐ＝ｒ＝ｑ＝１ ポリマー１６９：Ｒ1 ＝Ｒ2 ＝２−エチルヘキシルオキ
シ、Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝Ｈ、ｐ＝ｒ＝１、ｑ＝２ ポリマー１７０：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝２−
エチルヘキシルオキシ、Ｒ4 ＝Ｈ、ｐ＝ｒ＝１、ｑ＝２
【００８３】
【化９７】 ポリマー１７１：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｈ、ｐ＝ｑ＝１、Ｘ＝Ｏ ポリマー１７２：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｈ、ｐ＝ｑ＝１、Ｘ＝Ｓ ポリマー１７３：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｈ、ｐ＝ｑ＝１、Ｘ＝ｎ−ヘキシル ポリマー１７４：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝ｎ−ヘキシル、ｐ＝ｑ＝２、Ｘ＝Ｏ ポリマー１７５：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝ｎ−ヘキシル、ｐ＝ｑ＝２、Ｘ＝Ｓ ポリマー１７６：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝ｎ−ヘキシル、ｐ＝ｑ＝２、Ｘ＝Ｎ−ヘキシル
2 ＝Ｈ、ｐ＝ｑ＝１、Ｘ＝Ｏ ポリマー１７２：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｈ、ｐ＝ｑ＝１、Ｘ＝Ｓ ポリマー１７３：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｈ、ｐ＝ｑ＝１、Ｘ＝ｎ−ヘキシル ポリマー１７４：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝ｎ−ヘキシル、ｐ＝ｑ＝２、Ｘ＝Ｏ ポリマー１７５：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝ｎ−ヘキシル、ｐ＝ｑ＝２、Ｘ＝Ｓ ポリマー１７６：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝ｎ−ヘキシル、ｐ＝ｑ＝２、Ｘ＝Ｎ−ヘキシル
【００８４】
【化９８】 ポリマー１７７：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｒ3 ＝Ｈ ポリマー１７８：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｈ、Ｒ3 ＝フェニル ポリマー１７９：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝ｎ−
ヘキシル ポリマー１８０：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｈ、Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシルオキシ ポリマー１８１：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝ｎ−ヘキシルオキシ、Ｒ3 ＝Ｈ
2 ＝Ｒ3 ＝Ｈ ポリマー１７８：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｈ、Ｒ3 ＝フェニル ポリマー１７９：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝ｎ−
ヘキシル ポリマー１８０：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｈ、Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシルオキシ ポリマー１８１：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝ｎ−ヘキシルオキシ、Ｒ3 ＝Ｈ
【００８５】
【化９９】 ポリマー１８２：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｒ3 ＝Ｈ ポリマー１８３：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｈ、Ｒ3 ＝フェニル ポリマー１８４：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝ｎ−
ヘキシル ポリマー１８５：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｈ、Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシルオキシ ポリマー１８６：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝ｎ−ヘキシルオキシ、Ｒ3 ＝Ｈ
2 ＝Ｒ3 ＝Ｈ ポリマー１８３：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｈ、Ｒ3 ＝フェニル ポリマー１８４：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝ｎ−
ヘキシル ポリマー１８５：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｈ、Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシルオキシ ポリマー１８６：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝ｎ−ヘキシルオキシ、Ｒ3 ＝Ｈ
【００８６】
【化１００】 ポリマー１８７：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｒ3 ＝Ｈ ポリマー１８８：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｈ、Ｒ3 ＝フェニル ポリマー１８９：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝ｎ−
ヘキシル ポリマー１９０：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｈ、Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシル
2 ＝Ｒ3 ＝Ｈ ポリマー１８８：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｈ、Ｒ3 ＝フェニル ポリマー１８９：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝ｎ−
ヘキシル ポリマー１９０：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｈ、Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシル
【００８７】
【化１０１】 ポリマー１９１：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｒ3 ＝Ｈ ポリマー１９２：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｈ、Ｒ3 ＝フェニル ポリマー１９３：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝ｎ−
ヘキシル ポリマー１９４：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｈ、Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシル
2 ＝Ｒ3 ＝Ｈ ポリマー１９２：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｈ、Ｒ3 ＝フェニル ポリマー１９３：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝ｎ−
ヘキシル ポリマー１９４：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｈ、Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシル
【００８８】
【化１０２】 ポリマー１９５：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｈ、Ｒ3 ＝メチル ポリマー１９６：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｈ、Ｒ3 ＝フェニル ポリマー１９７：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝ｎ−
ヘキシル ポリマー１９８：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｈ、Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシル
2 ＝Ｈ、Ｒ3 ＝メチル ポリマー１９６：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｈ、Ｒ3 ＝フェニル ポリマー１９７：Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝ｎ−
ヘキシル ポリマー１９８：Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｈ、Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシル
【００８９】式（Ｉ）において、Ｙは上記基の一種であ
っても二種以上の組合せであってもよい。具体的な分子
構造式は上記構造式のいずれの組合せであってもよい。
っても二種以上の組合せであってもよい。具体的な分子
構造式は上記構造式のいずれの組合せであってもよい。
【００９０】本発明に用いられるポリマーの重合法及び
分子量に特に制限はない。ポリマーの分子量は１０００
以上、好ましくは３０００以上である。当該ポリマーは
縮重合法、好ましくは、Ｐｄ触媒による鈴木カップリン
グ法(Miyaura, N. et al. Chem. Rev. 1995, 95, 2457)
のような交差カップリング反応によるか、又は塩基存在
下でのジアミン、ジアルコールもしくはジフェノールと
ジ（酸塩化物）との縮合反応により合成することができ
る。
分子量に特に制限はない。ポリマーの分子量は１０００
以上、好ましくは３０００以上である。当該ポリマーは
縮重合法、好ましくは、Ｐｄ触媒による鈴木カップリン
グ法(Miyaura, N. et al. Chem. Rev. 1995, 95, 2457)
のような交差カップリング反応によるか、又は塩基存在
下でのジアミン、ジアルコールもしくはジフェノールと
ジ（酸塩化物）との縮合反応により合成することができ
る。
【００９１】鈴木カップリング反応は、芳香族ボロン酸
(boronic acid)誘導体の芳香族ハロゲン化物とのカップ
リングについて宮浦らが最初に報告したものである（Mi
yaura et al. Synthetic Comm. 1981, 11(7), 513)。そ
れ以降、この反応は各種用途向けポリマーの合成に広く
利用されている（Ranger, M. et al. Macromolecules19
97, 30, 7686-7691; Kim, S. et al. Macromolecules 1
998, 31, 964-974;及び Ng, P.K. Macromol. Rapid Com
mun. 1997, 18, 1009-1016)。ＥＬ装置用の共役ポリマ
ーを合成するための変法が Inbasekaranらにより報告さ
れている(Inbasekaran, M. et al. 米国特許第 5,777,0
70号(1998)）。本発明により、上記ポリマーを芳香族ジ
ボロン酸エステルと芳香族二臭化物との鈴木カップリン
グ反応により合成した。芳香族ジボロン酸エステルは、
対応する二ハロゲン化物をｎ−ＢｕＬｉとトリメチルボ
レートで処理した後、ジアルコールでエステル化するこ
とにより合成した。ポリマーとモノマーの合成経路を経
路１〜６に示す。
(boronic acid)誘導体の芳香族ハロゲン化物とのカップ
リングについて宮浦らが最初に報告したものである（Mi
yaura et al. Synthetic Comm. 1981, 11(7), 513)。そ
れ以降、この反応は各種用途向けポリマーの合成に広く
利用されている（Ranger, M. et al. Macromolecules19
97, 30, 7686-7691; Kim, S. et al. Macromolecules 1
998, 31, 964-974;及び Ng, P.K. Macromol. Rapid Com
mun. 1997, 18, 1009-1016)。ＥＬ装置用の共役ポリマ
ーを合成するための変法が Inbasekaranらにより報告さ
れている(Inbasekaran, M. et al. 米国特許第 5,777,0
70号(1998)）。本発明により、上記ポリマーを芳香族ジ
ボロン酸エステルと芳香族二臭化物との鈴木カップリン
グ反応により合成した。芳香族ジボロン酸エステルは、
対応する二ハロゲン化物をｎ−ＢｕＬｉとトリメチルボ
レートで処理した後、ジアルコールでエステル化するこ
とにより合成した。ポリマーとモノマーの合成経路を経
路１〜６に示す。
【００９２】図１に、有機ＥＬ装置を構築するために用
いられる基本構造を示す。それは正孔輸送層３０と電子
輸送層４０を含む二層構造である。電子輸送層４０は、
電場発光が発生する発光層でもある。それらが一緒にな
ってＥＬ媒体５０を形成する。アノード２０が正孔輸送
層に隣接し、そしてカソード６０が電子輸送層４０に隣
接する。基板は層１０である。本図は例示目的にすぎ
ず、個々の層厚は実際の厚さに比例したものではない。
いられる基本構造を示す。それは正孔輸送層３０と電子
輸送層４０を含む二層構造である。電子輸送層４０は、
電場発光が発生する発光層でもある。それらが一緒にな
ってＥＬ媒体５０を形成する。アノード２０が正孔輸送
層に隣接し、そしてカソード６０が電子輸送層４０に隣
接する。基板は層１０である。本図は例示目的にすぎ
ず、個々の層厚は実際の厚さに比例したものではない。
【００９３】図２に、ＥＬ装置の別の構成を示す。これ
は変型二層構造である。ＥＬ媒体は正孔輸送層と電子輸
送層との間に発光層を含む。この発光層は電場発光が発
生する層である。このように、層３００は正孔輸送層で
あり、層４００は発光層であり、層５００は電子輸送層
であり、そしてそれらが一緒になってエレクトロルミネ
セント媒体６００を形成する。層２００はアノードであ
り、また層７００はカソードである。基板は層１００で
ある。本図は例示目的にすぎず、個々の層厚は実際の厚
さに比例したものではない。
は変型二層構造である。ＥＬ媒体は正孔輸送層と電子輸
送層との間に発光層を含む。この発光層は電場発光が発
生する層である。このように、層３００は正孔輸送層で
あり、層４００は発光層であり、層５００は電子輸送層
であり、そしてそれらが一緒になってエレクトロルミネ
セント媒体６００を形成する。層２００はアノードであ
り、また層７００はカソードである。基板は層１００で
ある。本図は例示目的にすぎず、個々の層厚は実際の厚
さに比例したものではない。
【００９４】この二層型ＥＬ装置が、高い発光効率と低
い動作電圧を提供する基本構造である。装置性能を高め
るために別のＥＬ装置構造体が実証されている。これら
の別の構造体には、基本の二層構造の他に、（ａ）米国
特許第４，３５６，４２９号に記載の正孔注入層；
（ｂ）米国特許第５，７７６，６２２号に記載のアルカ
リ金属又はアルカリ土類金属のハロゲン化物によるカソ
ード改質；（ｃ）譲受人共通の米国特許出願第０９／１
９１，７０５号に記載のプラズマ蒸着フルオロカーボン
によるアノード改質；及び（ｄ）米国特許第４，７６
９，２９２号に記載の正孔輸送層と電子輸送層との間に
挿入されたドーピングされた発光層、のような特徴が含
まれる。
い動作電圧を提供する基本構造である。装置性能を高め
るために別のＥＬ装置構造体が実証されている。これら
の別の構造体には、基本の二層構造の他に、（ａ）米国
特許第４，３５６，４２９号に記載の正孔注入層；
（ｂ）米国特許第５，７７６，６２２号に記載のアルカ
リ金属又はアルカリ土類金属のハロゲン化物によるカソ
ード改質；（ｃ）譲受人共通の米国特許出願第０９／１
９１，７０５号に記載のプラズマ蒸着フルオロカーボン
によるアノード改質；及び（ｄ）米国特許第４，７６
９，２９２号に記載の正孔輸送層と電子輸送層との間に
挿入されたドーピングされた発光層、のような特徴が含
まれる。
【００９５】図３に、ＥＬ装置のさらに別の構成を示
す。それは発光層３０００がアノード２０００とカソー
ド４０００の間に挟まれている単層構造である。発光層
３０００は電荷担体層としても作用する。このように、
単層３０００がエレクトロルミネセント媒体である。基
板は層１０００である。本図は例示目的にすぎず、個々
の層厚は実際の厚さに比例したものではない。
す。それは発光層３０００がアノード２０００とカソー
ド４０００の間に挟まれている単層構造である。発光層
３０００は電荷担体層としても作用する。このように、
単層３０００がエレクトロルミネセント媒体である。基
板は層１０００である。本図は例示目的にすぎず、個々
の層厚は実際の厚さに比例したものではない。
【００９６】本発明の好適なＥＬ装置構造は、アノード
と、カソードと、単層のエレクトロルミネセント媒体と
を含む単層構造である。このエレクトロルミネセント層
は発光層であり、電子及び正孔を輸送することもでき
る。この層の主機能は電場発光のための効率的な発光中
心を提供することである。この層は、上記ポリマーの一
種もしくは二以上のポリマーの配合物、又は一種以上の
蛍光色素（ＦＤ）でドーピングされたポリマーを含むこ
とができる。通常、蛍光色素は、ホストポリマーの数モ
ル％以下の水準で存在させるが、ＥＬ発光を蛍光色素の
ものよりも優勢にさせるには十分である。この方法によ
り、高効率ＥＬ装置を構築することができる。同時に、
発光波長の異なる蛍光色素を使用してＥＬ装置の色を調
節することができる。蛍光色素混合物を使用することに
より、個々の蛍光色素のスペクトルが合体したＥＬ色特
性が得られる。このドーパント計画については米国特許
第４，７６９，２９２号にＥＬ装置についてかなり詳し
く記載されている。ホスト材料中に存在させる場合に発
光色相を調節することができるドーパントとして蛍光色
素を選ぶ際の重要な基準は、エネルギーバンドギャップ
の比較対照である。ホスト材料からドーパント分子へエ
ネルギーを効率よく移動させるのに必要な条件は、ドー
パントのエネルギーバンドギャップがホストポリマーの
それよりも小さいことである。発光層中のドーパントと
して使用するのに好適な蛍光色素として、クマリン類、
スチルベン類、ジスチリルスチルベン類、アントラセン
誘導体類、テトラセン、ペリレン類、ローダミン類及び
アリールアミン類が挙げられが、これらに限定はされな
い。ＥＬ装置の発光層の好適な蛍光色素の分子構造を以
下に列挙する。
と、カソードと、単層のエレクトロルミネセント媒体と
を含む単層構造である。このエレクトロルミネセント層
は発光層であり、電子及び正孔を輸送することもでき
る。この層の主機能は電場発光のための効率的な発光中
心を提供することである。この層は、上記ポリマーの一
種もしくは二以上のポリマーの配合物、又は一種以上の
蛍光色素（ＦＤ）でドーピングされたポリマーを含むこ
とができる。通常、蛍光色素は、ホストポリマーの数モ
ル％以下の水準で存在させるが、ＥＬ発光を蛍光色素の
ものよりも優勢にさせるには十分である。この方法によ
り、高効率ＥＬ装置を構築することができる。同時に、
発光波長の異なる蛍光色素を使用してＥＬ装置の色を調
節することができる。蛍光色素混合物を使用することに
より、個々の蛍光色素のスペクトルが合体したＥＬ色特
性が得られる。このドーパント計画については米国特許
第４，７６９，２９２号にＥＬ装置についてかなり詳し
く記載されている。ホスト材料中に存在させる場合に発
光色相を調節することができるドーパントとして蛍光色
素を選ぶ際の重要な基準は、エネルギーバンドギャップ
の比較対照である。ホスト材料からドーパント分子へエ
ネルギーを効率よく移動させるのに必要な条件は、ドー
パントのエネルギーバンドギャップがホストポリマーの
それよりも小さいことである。発光層中のドーパントと
して使用するのに好適な蛍光色素として、クマリン類、
スチルベン類、ジスチリルスチルベン類、アントラセン
誘導体類、テトラセン、ペリレン類、ローダミン類及び
アリールアミン類が挙げられが、これらに限定はされな
い。ＥＬ装置の発光層の好適な蛍光色素の分子構造を以
下に列挙する。
【００９７】
【化１０３】
【００９８】
【化１０４】
【００９９】
【化１０５】
【０１００】
【化１０６】
【０１０１】
【化１０７】
【０１０２】上記ポリマーは、そのポリマー溶液をスピ
ン塗布又はインクジェット印刷することにより高品質透
明薄膜として付着させることができる。スピン塗布法に
より層３０００を形成させることが好ましく、また一種
類のみのポリマーを単層のエレクトロルミネセント媒体
として付着させることが好ましい。フルオロカーボンで
改質したアノードを形成するのに用いる好適な材料は、
先に引用した米国特許出願第０９／１９１，７０５号に
記載されている。本発明のＥＬ装置のカソードを形成す
るのに用いる好適な材料は、米国特許第５，４２９，８
８４号及び同第５，７７６，６２２号に記載されている
Ｍｇ、Ｌｉ又はこれらの合金である。
ン塗布又はインクジェット印刷することにより高品質透
明薄膜として付着させることができる。スピン塗布法に
より層３０００を形成させることが好ましく、また一種
類のみのポリマーを単層のエレクトロルミネセント媒体
として付着させることが好ましい。フルオロカーボンで
改質したアノードを形成するのに用いる好適な材料は、
先に引用した米国特許出願第０９／１９１，７０５号に
記載されている。本発明のＥＬ装置のカソードを形成す
るのに用いる好適な材料は、米国特許第５，４２９，８
８４号及び同第５，７７６，６２２号に記載されている
Ｍｇ、Ｌｉ又はこれらの合金である。
【０１０３】
【実施例】本発明とその利点を以下の具体的実施例によ
りさらに説明する。 モノマーの合成 本発明に用いられるモノマーは特に限定される必要はな
い。得られたポリマーが一般式（Ｉ）を満たすポリマー
である限り、いずれのモノマーでも使用することができ
る。典型的なモノマー及びポリマーの合成を経路１〜６
に示す。
りさらに説明する。 モノマーの合成 本発明に用いられるモノマーは特に限定される必要はな
い。得られたポリマーが一般式（Ｉ）を満たすポリマー
である限り、いずれのモノマーでも使用することができ
る。典型的なモノマー及びポリマーの合成を経路１〜６
に示す。
【０１０４】
【化１０８】
【０１０５】
【化１０９】
【０１０６】
【化１１０】
【０１０７】
【化１１１】
【０１０８】
【化１１２】
【０１０９】実施例１：１，３−ジ（２−（６−ブロモ
ナフトキシ））−２−プロパノール（化合物１）の合成 ６−ブロモ−２−ヒドロキシ−ナフタレン（６６．７
ｇ、０．２９９モル）とＮａＯＨ（７．４ｇ、０．１８
５モル）を５００ｍＬのジオキサンに懸濁させ、反応が
均一になるまで３０分間加熱した。エピクロロヒドリン
（１１．５ｇ、０．１２４モル）を滴下し、反応を２０
時間加熱還流させた。褐色の反応混合物を１Ｌの水に注
ぎ込み、そして灰色析出物を濾過し、水及びメタノール
で洗浄し、真空下で乾燥した。その後、粗生成物をアセ
トンから再結晶化したところ、４１．３ｇの高純度生成
物が得られた（収率６７％）。 1ＨＮＭＲ（ＣＤＣ
ｌ3 ）δ(ppm)：４．２８−４．３５（ｍ，５Ｈ）、
４．５０−４．５５（ｍ，１Ｈ）、７．１５（ｄ，Ｊ＝
２．２Ｈｚ，２Ｈ）、７．１８（ｄｄ，Ｊ1 ＝８．９Ｈ
ｚ，Ｊ2 ＝２．４Ｈｚ，２Ｈ）、７．４８（ｄｄ，Ｊ1
＝８．７Ｈｚ，Ｊ2 ＝１．８Ｈｚ，２Ｈ）、７．５６
（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ）、７．６４（ｄ，Ｊ＝
８．９Ｈｚ，２Ｈ）、７．９１（ｄ，Ｊ＝１．１Ｈｚ，
２Ｈ）；13ＣＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）：６６．０７、６
７．８７、１０５．３２、１１５．０４、１１８．３
６，１２６．８４、１２７．０４、１２７．７０、１２
７．７６、１２８．２４、１３１．３２、１５５．４
０；Ｍ．ｐ．１４８−１５０℃；ＦＤ−ＭＳ：ｍ／ｚ５
００（Ｍ+ ）
ナフトキシ））−２−プロパノール（化合物１）の合成 ６−ブロモ−２−ヒドロキシ−ナフタレン（６６．７
ｇ、０．２９９モル）とＮａＯＨ（７．４ｇ、０．１８
５モル）を５００ｍＬのジオキサンに懸濁させ、反応が
均一になるまで３０分間加熱した。エピクロロヒドリン
（１１．５ｇ、０．１２４モル）を滴下し、反応を２０
時間加熱還流させた。褐色の反応混合物を１Ｌの水に注
ぎ込み、そして灰色析出物を濾過し、水及びメタノール
で洗浄し、真空下で乾燥した。その後、粗生成物をアセ
トンから再結晶化したところ、４１．３ｇの高純度生成
物が得られた（収率６７％）。 1ＨＮＭＲ（ＣＤＣ
ｌ3 ）δ(ppm)：４．２８−４．３５（ｍ，５Ｈ）、
４．５０−４．５５（ｍ，１Ｈ）、７．１５（ｄ，Ｊ＝
２．２Ｈｚ，２Ｈ）、７．１８（ｄｄ，Ｊ1 ＝８．９Ｈ
ｚ，Ｊ2 ＝２．４Ｈｚ，２Ｈ）、７．４８（ｄｄ，Ｊ1
＝８．７Ｈｚ，Ｊ2 ＝１．８Ｈｚ，２Ｈ）、７．５６
（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ）、７．６４（ｄ，Ｊ＝
８．９Ｈｚ，２Ｈ）、７．９１（ｄ，Ｊ＝１．１Ｈｚ，
２Ｈ）；13ＣＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）：６６．０７、６
７．８７、１０５．３２、１１５．０４、１１８．３
６，１２６．８４、１２７．０４、１２７．７０、１２
７．７６、１２８．２４、１３１．３２、１５５．４
０；Ｍ．ｐ．１４８−１５０℃；ＦＤ−ＭＳ：ｍ／ｚ５
００（Ｍ+ ）
【０１１０】実施例２：１，３−ジ（２−（６−ブロモ
ナフトキシ））−２−ドデシルオキシプロパン（化合物
２）の合成 ５００ｍＬの丸底フラスコに、１，３−ジ（２−（６−
ブロモナフトキシ））−２−プロパノール（化合物１）
（３０．０ｇ、０．０６０モル）と、ＮａＯＨ（７．２
ｇ、０．１８モル）と、ＮａＨＳＯ4 （２０．４ｇ、
０．０６０モル）と、１−ブロモドデカン（４４．９
ｇ、０．１８モル）と、水３０ｍＬと、ＴＨＦ１６０ｍ
Ｌとを入れた。反応を二日間加熱還流させた。室温にま
で冷却した後、２５０ｍＬの水を加え、反応をエーテル
で抽出（６×２００ｍＬ）した。有機相を一緒にしてＭ
ｇＳＯ4 で乾燥し、そして濃縮した。粗生成物をＣＨ2
Ｃｌ2／ヘキサン（１５／８５）を溶離液とするシリカ
ゲル系カラムクロマトグラフィーで精製したところ、２
５．２ｇの高純度生成物が白色粉末として得られた（収
率６３％）。 1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ (ppm)：０．
８７（ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，３Ｈ）、１．２５−１．３
９（ｍ，１８Ｈ）、１．６０−１．７０（ｍ，２Ｈ）、
３．７３（ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ）、４．１３−
４．１８（ｍ，１Ｈ）、４．２６−４．３７（ｍ，４
Ｈ）、７．１６（ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，２Ｈ）、７．１
９（ｄｄ，Ｊ1 ＝８．９Ｈｚ，Ｊ2 ＝１．８Ｈｚ，２
Ｈ）、７．４８（ｄｄ，Ｊ1 ＝８．８Ｈｚ，Ｊ2 ＝１．
８Ｈｚ，２Ｈ）、７．５７（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２
Ｈ）、７．６３（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ）、７．９
１（ｄ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，２Ｈ）；13ＣＮＭＲ（ＣＤＣ
ｌ3 ）：１４．１０、２２．６７、２６．０５、２９．
３３、２９．４４、２９．６１、２９．６５、３０．０
３、３１．９０、６７．７６、７１．１６、７６．４
０、１０６．９５、１１７．２２、１１９．８５，１２
８．３５、１２８．５１、１２９．６４、１３０．１
３、１３２．９４、１５６．９２；Ｍ．ｐ．９９−１０
１℃；ＦＤ−ＭＳ：ｍ／ｚ６６８（Ｍ+ ）
ナフトキシ））−２−ドデシルオキシプロパン（化合物
２）の合成 ５００ｍＬの丸底フラスコに、１，３−ジ（２−（６−
ブロモナフトキシ））−２−プロパノール（化合物１）
（３０．０ｇ、０．０６０モル）と、ＮａＯＨ（７．２
ｇ、０．１８モル）と、ＮａＨＳＯ4 （２０．４ｇ、
０．０６０モル）と、１−ブロモドデカン（４４．９
ｇ、０．１８モル）と、水３０ｍＬと、ＴＨＦ１６０ｍ
Ｌとを入れた。反応を二日間加熱還流させた。室温にま
で冷却した後、２５０ｍＬの水を加え、反応をエーテル
で抽出（６×２００ｍＬ）した。有機相を一緒にしてＭ
ｇＳＯ4 で乾燥し、そして濃縮した。粗生成物をＣＨ2
Ｃｌ2／ヘキサン（１５／８５）を溶離液とするシリカ
ゲル系カラムクロマトグラフィーで精製したところ、２
５．２ｇの高純度生成物が白色粉末として得られた（収
率６３％）。 1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ (ppm)：０．
８７（ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，３Ｈ）、１．２５−１．３
９（ｍ，１８Ｈ）、１．６０−１．７０（ｍ，２Ｈ）、
３．７３（ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ）、４．１３−
４．１８（ｍ，１Ｈ）、４．２６−４．３７（ｍ，４
Ｈ）、７．１６（ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，２Ｈ）、７．１
９（ｄｄ，Ｊ1 ＝８．９Ｈｚ，Ｊ2 ＝１．８Ｈｚ，２
Ｈ）、７．４８（ｄｄ，Ｊ1 ＝８．８Ｈｚ，Ｊ2 ＝１．
８Ｈｚ，２Ｈ）、７．５７（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２
Ｈ）、７．６３（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ）、７．９
１（ｄ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，２Ｈ）；13ＣＮＭＲ（ＣＤＣ
ｌ3 ）：１４．１０、２２．６７、２６．０５、２９．
３３、２９．４４、２９．６１、２９．６５、３０．０
３、３１．９０、６７．７６、７１．１６、７６．４
０、１０６．９５、１１７．２２、１１９．８５，１２
８．３５、１２８．５１、１２９．６４、１３０．１
３、１３２．９４、１５６．９２；Ｍ．ｐ．９９−１０
１℃；ＦＤ−ＭＳ：ｍ／ｚ６６８（Ｍ+ ）
【０１１１】実施例３：ビス−２，２−ジメチルトリメ
チレンジボロネート（化合物３）の合成 第一工程：ジボロン酸の合成 ビスブロミド化合物２（１２．０ｇ、０．０１８モル）
を１５０ｍＬの無水ＴＨＦに溶かし、−７８℃に冷却し
た。この溶液に、ｎ−ＢｕＬｉ溶液（３３．８ｍＬ、
１．６Ｍヘキサン溶液、０．０５４モル）を温度が−６
０℃より低く維持されるよう徐々に添加した。混合物を
−７８℃で１時間攪拌し、そしてトリメチルボレート
（８．１ｍＬ、０．０７２モル）をゆっくり添加した。
反応混合物をゆっくりと室温まで温め、室温で一晩攪拌
した。反応を希ＨＣｌ溶液で停止させ、窒素下で１時間
攪拌した。次いで、反応混合物をエーテルで５回抽出
し、そしてＭｇＳＯ4 で乾燥した。溶剤を蒸発させ、そ
の粗生成物を精製することなくジボラネートの合成に使
用した。 第二工程：ビス−２，２−ジメチルトリメチレンジボラ
ネートの合成 粗ジボロン酸及び２，２−ジメチルプロパン−１，３−
ジオール（ネオペンチルグリコール）（３．８ｇ、０．
０３７モル）をトルエンに溶かし、Dean-Starkトラップ
下、激しく還流させながら加熱した。反応完了後、トル
エンを蒸発させ、粗生成物をヘキサンからオフホワイト
の７．７ｇの針状結晶として再結晶化させた（収率５７
％）。 1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ (ppm)：０．８５
（ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，３Ｈ）、１．０２（ｓ，１２
Ｈ）、１．２４−１．３４（ｍ，１８Ｈ）、１．５８−
１．６５（ｍ，２Ｈ）、３．７１（ｔ，Ｊ＝６．６Ｈ
ｚ，２Ｈ）、３．７９（ｓ，８Ｈ）、４．１１−４．１
６（ｍ，１Ｈ）、４．２４−４．３６（ｍ，４Ｈ）、
７．１７（ｓ，２Ｈ）、７．１４（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈ
ｚ，２Ｈ）、７．６７（ｄｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，２
Ｈ）、７．７５（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ）、７．８
（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ）、７．９１（ｓ，２
Ｈ）；13ＣＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）：１４．１１、２１．
９３、２２．６８、２６．０７、２９．３５、２９．４
７、２９．６３、２９．６６、３０．０６、３１．９
２、６７．８３、７１．１５、７２．３７、７６．４
７、１０６．７７、１１８．６１、１２５．７７，１２
８．６２、１３０．２６、１３０．６６、１３４．８
０、１３６．１３、１５７．３８；Ｍ．ｐ．５９−６１
℃；ＦＤ−ＭＳ：ｍ／ｚ７２６（Ｍ+ ）
チレンジボロネート（化合物３）の合成 第一工程：ジボロン酸の合成 ビスブロミド化合物２（１２．０ｇ、０．０１８モル）
を１５０ｍＬの無水ＴＨＦに溶かし、−７８℃に冷却し
た。この溶液に、ｎ−ＢｕＬｉ溶液（３３．８ｍＬ、
１．６Ｍヘキサン溶液、０．０５４モル）を温度が−６
０℃より低く維持されるよう徐々に添加した。混合物を
−７８℃で１時間攪拌し、そしてトリメチルボレート
（８．１ｍＬ、０．０７２モル）をゆっくり添加した。
反応混合物をゆっくりと室温まで温め、室温で一晩攪拌
した。反応を希ＨＣｌ溶液で停止させ、窒素下で１時間
攪拌した。次いで、反応混合物をエーテルで５回抽出
し、そしてＭｇＳＯ4 で乾燥した。溶剤を蒸発させ、そ
の粗生成物を精製することなくジボラネートの合成に使
用した。 第二工程：ビス−２，２−ジメチルトリメチレンジボラ
ネートの合成 粗ジボロン酸及び２，２−ジメチルプロパン−１，３−
ジオール（ネオペンチルグリコール）（３．８ｇ、０．
０３７モル）をトルエンに溶かし、Dean-Starkトラップ
下、激しく還流させながら加熱した。反応完了後、トル
エンを蒸発させ、粗生成物をヘキサンからオフホワイト
の７．７ｇの針状結晶として再結晶化させた（収率５７
％）。 1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ (ppm)：０．８５
（ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，３Ｈ）、１．０２（ｓ，１２
Ｈ）、１．２４−１．３４（ｍ，１８Ｈ）、１．５８−
１．６５（ｍ，２Ｈ）、３．７１（ｔ，Ｊ＝６．６Ｈ
ｚ，２Ｈ）、３．７９（ｓ，８Ｈ）、４．１１−４．１
６（ｍ，１Ｈ）、４．２４−４．３６（ｍ，４Ｈ）、
７．１７（ｓ，２Ｈ）、７．１４（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈ
ｚ，２Ｈ）、７．６７（ｄｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，２
Ｈ）、７．７５（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ）、７．８
（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ）、７．９１（ｓ，２
Ｈ）；13ＣＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）：１４．１１、２１．
９３、２２．６８、２６．０７、２９．３５、２９．４
７、２９．６３、２９．６６、３０．０６、３１．９
２、６７．８３、７１．１５、７２．３７、７６．４
７、１０６．７７、１１８．６１、１２５．７７，１２
８．６２、１３０．２６、１３０．６６、１３４．８
０、１３６．１３、１５７．３８；Ｍ．ｐ．５９−６１
℃；ＦＤ−ＭＳ：ｍ／ｚ７２６（Ｍ+ ）
【０１１２】実施例４：４−ｔ−ブチル−２−ベンゾイ
ル安息香酸（化合物４）の合成 凝縮器を具備した３口丸底フラスコに窒素下、４−ｔ−
ブチル−フタル酸無水物（３６．０ｇ、１７６ミリモ
ル）とｔ−ブチルベンゼンを入れた。反応中に放出され
るＨＣｌを捕捉するための水ガストラップに凝縮器を結
合した。ＡｌＣｌ 3 （５６．０ｇ、４２０ミリモル）を
少しずつ加えると、その間に混合物が暗褐色に変わっ
た。濃厚混合物では攪拌が困難となった。反応を７０℃
で１時間加熱した後、室温にまで冷却した。そのフラス
コに氷をゆっくりと加え、次いで濃ＨＣｌ溶液を加え
た。フラスコの底に大きな固形塊が付着した。これを水
で数回洗浄し、次いでＣＨ2 Ｃｌ2 に溶解し、水で洗浄
し、Ｎａ2 ＳＯ4 で乾燥し、濃縮したところ、油状固体
が得られた。ヘキサンを添加して超音波処理した後、濾
過して青白色の固体を集めた。乾燥すると白色固体の生
成物３２．０ｇ（収率５４％）が得られた。 1ＨＮＭＲ
（ＣＤＣｌ3 ）δ (ppm)：１．３３（ｓ，１８Ｈ）、
７．３０（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ）、７．４３
（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ）、７．６３−７．７０
（ｍ，３Ｈ）、８．０８（ｓ，１Ｈ）；13ＣＮＭＲ（Ｃ
ＤＣｌ3 ）：３０．９８、３４．９２、１２５．３６、
１２５．４１、１２７．７８，１２７．８４、１２８．
０２、１２９．５１、１２９．６０、１２９．８１、１
３４．５６、１３９．８３、１５２．９４、１５６．８
０、１７０．８０、１９６．８９
ル安息香酸（化合物４）の合成 凝縮器を具備した３口丸底フラスコに窒素下、４−ｔ−
ブチル−フタル酸無水物（３６．０ｇ、１７６ミリモ
ル）とｔ−ブチルベンゼンを入れた。反応中に放出され
るＨＣｌを捕捉するための水ガストラップに凝縮器を結
合した。ＡｌＣｌ 3 （５６．０ｇ、４２０ミリモル）を
少しずつ加えると、その間に混合物が暗褐色に変わっ
た。濃厚混合物では攪拌が困難となった。反応を７０℃
で１時間加熱した後、室温にまで冷却した。そのフラス
コに氷をゆっくりと加え、次いで濃ＨＣｌ溶液を加え
た。フラスコの底に大きな固形塊が付着した。これを水
で数回洗浄し、次いでＣＨ2 Ｃｌ2 に溶解し、水で洗浄
し、Ｎａ2 ＳＯ4 で乾燥し、濃縮したところ、油状固体
が得られた。ヘキサンを添加して超音波処理した後、濾
過して青白色の固体を集めた。乾燥すると白色固体の生
成物３２．０ｇ（収率５４％）が得られた。 1ＨＮＭＲ
（ＣＤＣｌ3 ）δ (ppm)：１．３３（ｓ，１８Ｈ）、
７．３０（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ）、７．４３
（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ）、７．６３−７．７０
（ｍ，３Ｈ）、８．０８（ｓ，１Ｈ）；13ＣＮＭＲ（Ｃ
ＤＣｌ3 ）：３０．９８、３４．９２、１２５．３６、
１２５．４１、１２７．７８，１２７．８４、１２８．
０２、１２９．５１、１２９．６０、１２９．８１、１
３４．５６、１３９．８３、１５２．９４、１５６．８
０、１７０．８０、１９６．８９
【０１１３】実施例５：２，６／２，７−ジ−ｔ−ブチ
ル−アントラキノン（化合物５）の合成 丸底フラスコに４−ｔ−ブチル−２−ベンゾイル安息香
酸４（３２．０ｇ、９５ミリモル）を入れ、次いで発煙
硫酸（３０％、２９０ｍＬ）を添加した。反応混合物は
黒色になり、反応温度を１２０℃に上げて３時間攪拌し
た。混合物を氷中に注ぎ込んだ。水性混合物をＣＨ2 Ｃ
ｌ2 で抽出（５×）し、Ｎａ2 ＳＯ4 で乾燥し、濃縮し
たところ、暗色固体が得られた。この固体を、ＣＨ2 Ｃ
ｌ2 を溶離液とするシリカゲルカラムを通過させた。濃
縮後、黄褐色の固体をヘキサンから再結晶化し、黄色結
晶の生成物２１．０ｇ（収率６９％）を得た。 1ＨＮＭ
Ｒ（ＣＤＣｌ3 ）δ (ppm)：１．４２（ｓ，１８Ｈ）、
７．８０（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ）、７．８１
（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、８．２０（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈ
ｚ，１Ｈ）、８．２２（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ）、
８．３１（ｓ，２Ｈ）； 13ＣＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）：３
１．０１、３５．５８、１２３．８３、１２３．９０、
１２７．１７，１２７．２８、１３１．０８、１３１．
１５、１３１．３４、１３１．４２、１３３．４０、１
３３．４９、１５７．９４、１５８．０５、１８２．７
６、１８３．７８
ル−アントラキノン（化合物５）の合成 丸底フラスコに４−ｔ−ブチル−２−ベンゾイル安息香
酸４（３２．０ｇ、９５ミリモル）を入れ、次いで発煙
硫酸（３０％、２９０ｍＬ）を添加した。反応混合物は
黒色になり、反応温度を１２０℃に上げて３時間攪拌し
た。混合物を氷中に注ぎ込んだ。水性混合物をＣＨ2 Ｃ
ｌ2 で抽出（５×）し、Ｎａ2 ＳＯ4 で乾燥し、濃縮し
たところ、暗色固体が得られた。この固体を、ＣＨ2 Ｃ
ｌ2 を溶離液とするシリカゲルカラムを通過させた。濃
縮後、黄褐色の固体をヘキサンから再結晶化し、黄色結
晶の生成物２１．０ｇ（収率６９％）を得た。 1ＨＮＭ
Ｒ（ＣＤＣｌ3 ）δ (ppm)：１．４２（ｓ，１８Ｈ）、
７．８０（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ）、７．８１
（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、８．２０（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈ
ｚ，１Ｈ）、８．２２（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ）、
８．３１（ｓ，２Ｈ）； 13ＣＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）：３
１．０１、３５．５８、１２３．８３、１２３．９０、
１２７．１７，１２７．２８、１３１．０８、１３１．
１５、１３１．３４、１３１．４２、１３３．４０、１
３３．４９、１５７．９４、１５８．０５、１８２．７
６、１８３．７８
【０１１４】実施例６：２，６／２，７−ジ−ｔ−ブチ
ル−アントラセン（化合物６）の合成 丸底フラスコに２，６−ジ−ｔ−ブチル−アントラキノ
ン５（１０．０ｇ、３１３ミリモル）と、錫（１８．０
ｇ、１５１ミリモル）と、５０ｍＬの氷酢酸とを加えて
加熱還流した。加熱中、アントラキノン５が溶液とな
り、そして新たな固形分が析出し始めた。３時間後、Ｔ
ＬＣは出発原料５のすべてが消失したことを示した。室
温にまで冷却した後、混合物を氷中に注ぎ込み、３０分
間攪拌した。ＣＨ2 Ｃｌ2 を添加し、そして分離した
後、水層をＣＨ2 Ｃｌ2 （３×）で抽出した。有機層を
一緒にしてＮａ2 ＳＯ4 で乾燥し、濃縮したところ、粘
性のある油状固体が得られた。これをさらに精製するこ
となく後続の反応に用いた。その油状固体を１１０ｍＬ
のイソプロピルアルコールに溶かし、ＮａＢＨ4 （１
３．０ｇ、３３３ミリモル）を少しずつ添加した。反応
を一晩還流した。ＴＬＣは反応の完結を示した。室温に
まで冷却した後、反応をＨＣｌ（６Ｍ）溶液で中和し、
その間に溶液から固体が析出した。さらに水を追加し、
減圧濾過により生成物を集め、これを水で徹底的に洗浄
して炉で乾燥したところ、８．８０ｇの生成物（収率９
７％）が得られた。 1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ (pp
m)：１．４３（ｓ，１８Ｈ）、７．４８−７．５３
（ｍ，２Ｈ）、７．８５−７．９１（ｍ，２Ｈ）、８．
２６−８．３０（ｍ，２Ｈ）；13ＣＮＭＲ（ＣＤＣ
ｌ3 ）：３０．９８、３４．８９、１２２．１７、１２
２．２５、１２４．５１、１２４．７０、１２４．９
１、１２５．３６、１２５．８０、１２７．７１、１２
７．７７、１３０．０５、１３０．４５、１３１．５
５、１３１．９６、１４７．２３、１４７．４３
ル−アントラセン（化合物６）の合成 丸底フラスコに２，６−ジ−ｔ−ブチル−アントラキノ
ン５（１０．０ｇ、３１３ミリモル）と、錫（１８．０
ｇ、１５１ミリモル）と、５０ｍＬの氷酢酸とを加えて
加熱還流した。加熱中、アントラキノン５が溶液とな
り、そして新たな固形分が析出し始めた。３時間後、Ｔ
ＬＣは出発原料５のすべてが消失したことを示した。室
温にまで冷却した後、混合物を氷中に注ぎ込み、３０分
間攪拌した。ＣＨ2 Ｃｌ2 を添加し、そして分離した
後、水層をＣＨ2 Ｃｌ2 （３×）で抽出した。有機層を
一緒にしてＮａ2 ＳＯ4 で乾燥し、濃縮したところ、粘
性のある油状固体が得られた。これをさらに精製するこ
となく後続の反応に用いた。その油状固体を１１０ｍＬ
のイソプロピルアルコールに溶かし、ＮａＢＨ4 （１
３．０ｇ、３３３ミリモル）を少しずつ添加した。反応
を一晩還流した。ＴＬＣは反応の完結を示した。室温に
まで冷却した後、反応をＨＣｌ（６Ｍ）溶液で中和し、
その間に溶液から固体が析出した。さらに水を追加し、
減圧濾過により生成物を集め、これを水で徹底的に洗浄
して炉で乾燥したところ、８．８０ｇの生成物（収率９
７％）が得られた。 1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ (pp
m)：１．４３（ｓ，１８Ｈ）、７．４８−７．５３
（ｍ，２Ｈ）、７．８５−７．９１（ｍ，２Ｈ）、８．
２６−８．３０（ｍ，２Ｈ）；13ＣＮＭＲ（ＣＤＣ
ｌ3 ）：３０．９８、３４．８９、１２２．１７、１２
２．２５、１２４．５１、１２４．７０、１２４．９
１、１２５．３６、１２５．８０、１２７．７１、１２
７．７７、１３０．０５、１３０．４５、１３１．５
５、１３１．９６、１４７．２３、１４７．４３
【０１１５】実施例７：２，６／２，７−ジ−ｔ−ブチ
ル−９，１０−ジブロモアントラセン（化合物７）の合
成 ２，６−ジ−ｔ−ブチル−アントラセン６（４．０ｇ、
１３．８ミリモル）を１５０ｍＬのＣＣｌ4 に溶かし、
次いで臭素（１．４２ｍＬ、２７．６ミリモル）を滴下
した。室温で一晩攪拌した後、ＴＬＣは反応の完結を示
した。反応混合物を水に注ぎ込み、チオ硫酸ナトリウム
の濃縮溶液を添加した。６０分間攪拌した後、層を分離
させ、水層をＣＨ2 Ｃｌ2 （３×）で抽出し、有機層を
一緒にしてＮａ2 ＳＯ4 で乾燥し、濃縮したところ、黄
色固体が得られた。この固体をＥｔＯＨから再結晶化し
て高純度生成物６．０２ｇ（収率９７％）を得た。 1Ｈ
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ (ppm)：１．４８（ｓ，１８
Ｈ）、７．６９−７．７１（ｍ，２Ｈ）、８．４５−
８．５１（ｍ，２Ｈ）；13ＣＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）：３
０．８８、３５．２８、１２２．５９、１２２．９３、
１２６．８７、１２８．００、１２９．８８、１３０．
６４、１４９．７７；Ｍ．ｐ．１５０−１５２℃；ＦＤ
−ＭＳ：ｍ／ｚ３６８（Ｍ+ ）
ル−９，１０−ジブロモアントラセン（化合物７）の合
成 ２，６−ジ−ｔ−ブチル−アントラセン６（４．０ｇ、
１３．８ミリモル）を１５０ｍＬのＣＣｌ4 に溶かし、
次いで臭素（１．４２ｍＬ、２７．６ミリモル）を滴下
した。室温で一晩攪拌した後、ＴＬＣは反応の完結を示
した。反応混合物を水に注ぎ込み、チオ硫酸ナトリウム
の濃縮溶液を添加した。６０分間攪拌した後、層を分離
させ、水層をＣＨ2 Ｃｌ2 （３×）で抽出し、有機層を
一緒にしてＮａ2 ＳＯ4 で乾燥し、濃縮したところ、黄
色固体が得られた。この固体をＥｔＯＨから再結晶化し
て高純度生成物６．０２ｇ（収率９７％）を得た。 1Ｈ
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ (ppm)：１．４８（ｓ，１８
Ｈ）、７．６９−７．７１（ｍ，２Ｈ）、８．４５−
８．５１（ｍ，２Ｈ）；13ＣＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）：３
０．８８、３５．２８、１２２．５９、１２２．９３、
１２６．８７、１２８．００、１２９．８８、１３０．
６４、１４９．７７；Ｍ．ｐ．１５０−１５２℃；ＦＤ
−ＭＳ：ｍ／ｚ３６８（Ｍ+ ）
【０１１６】実施例８：ジ−（２−（６−メトキシナフ
チル）アントラセン（化合物８）の合成 丸底フラスコに、窒素下で、マグネシウムの削り屑
（５．５５ｇ、２３１ミリモル）と、３０ｍＬのＴＨＦ
と、２個のヨウ素結晶とを入れた。フラスコを５０℃に
加熱し、グリニャール反応の開始を助けるためにジブロ
モエタンを使用した。２−ブロモ−６−メトキシナフタ
レン（５０．０ｇ、２１１ミリモル）を４００ｍＬのＴ
ＨＦに溶かしたものを９０分かけて滴下し、その間穏や
かに還流するように加熱した。滴下後、反応混合物をさ
らに２時間還流させた。丸底フラスコに、窒素下で、
９，１０−ジブロモアントラセン（２３．６３ｇ、７
０．３ミリモル）と、３００ｍＬのＴＨＦと、触媒量の
ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム
（II）とを入れた。次いで、先に調製したグリニャール
試薬を温かいうちにダブルエンド型ニードル移送により
添加した。添加後、反応混合物を一晩還流させた。室温
にまで冷却した後、析出した固形分を真空濾過で集め、
そしてエーテル、ＴＨＦ及び水で洗浄した。集めた固形
分をビーカーに入れ、ＨＣｌ（６Ｍ）を添加し、さらに
エタノールを追加した。この混合物を６０分間攪拌し、
その固形分を真空濾過により再度集めた。その生成物を
洗浄液が中性になるまで洗浄した。乾燥後、固形分をＣ
Ｈ2 Ｃｌ2 中で６０分間穏やかに還流させた。高純度生
成物を濾過して乾燥したところ８５．２ｇの固体が得ら
れた（収率８２％）（ＡＡ８７９０−３４）。 1ＨＮＭ
Ｒ（ＣＤＣｌ3 ）δ(ppm)：３．９７（ｓ，６Ｈ）、
７．２９（ｄｄ，Ｊ1 ＝８．９Ｈｚ，Ｊ2 ＝２．４Ｈ
ｚ，２Ｈ）、７．４０（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，２Ｈ）、
７．４１（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，２Ｈ）、７．５３
（ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，２Ｈ）、７．５７（ｄ，Ｊ＝
８．０Ｈｚ，２Ｈ）、７．６４（ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，
２Ｈ）、７．６５（ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，２Ｈ）、７．
９４（ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ，２Ｈ）、７．９７（ｓ，２
Ｈ）、８．１０（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ）；ＦＤ−
ＭＳ：ｍ／ｚ４９０（Ｍ+ ）
チル）アントラセン（化合物８）の合成 丸底フラスコに、窒素下で、マグネシウムの削り屑
（５．５５ｇ、２３１ミリモル）と、３０ｍＬのＴＨＦ
と、２個のヨウ素結晶とを入れた。フラスコを５０℃に
加熱し、グリニャール反応の開始を助けるためにジブロ
モエタンを使用した。２−ブロモ−６−メトキシナフタ
レン（５０．０ｇ、２１１ミリモル）を４００ｍＬのＴ
ＨＦに溶かしたものを９０分かけて滴下し、その間穏や
かに還流するように加熱した。滴下後、反応混合物をさ
らに２時間還流させた。丸底フラスコに、窒素下で、
９，１０−ジブロモアントラセン（２３．６３ｇ、７
０．３ミリモル）と、３００ｍＬのＴＨＦと、触媒量の
ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム
（II）とを入れた。次いで、先に調製したグリニャール
試薬を温かいうちにダブルエンド型ニードル移送により
添加した。添加後、反応混合物を一晩還流させた。室温
にまで冷却した後、析出した固形分を真空濾過で集め、
そしてエーテル、ＴＨＦ及び水で洗浄した。集めた固形
分をビーカーに入れ、ＨＣｌ（６Ｍ）を添加し、さらに
エタノールを追加した。この混合物を６０分間攪拌し、
その固形分を真空濾過により再度集めた。その生成物を
洗浄液が中性になるまで洗浄した。乾燥後、固形分をＣ
Ｈ2 Ｃｌ2 中で６０分間穏やかに還流させた。高純度生
成物を濾過して乾燥したところ８５．２ｇの固体が得ら
れた（収率８２％）（ＡＡ８７９０−３４）。 1ＨＮＭ
Ｒ（ＣＤＣｌ3 ）δ(ppm)：３．９７（ｓ，６Ｈ）、
７．２９（ｄｄ，Ｊ1 ＝８．９Ｈｚ，Ｊ2 ＝２．４Ｈ
ｚ，２Ｈ）、７．４０（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，２Ｈ）、
７．４１（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，２Ｈ）、７．５３
（ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，２Ｈ）、７．５７（ｄ，Ｊ＝
８．０Ｈｚ，２Ｈ）、７．６４（ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，
２Ｈ）、７．６５（ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，２Ｈ）、７．
９４（ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ，２Ｈ）、７．９７（ｓ，２
Ｈ）、８．１０（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ）；ＦＤ−
ＭＳ：ｍ／ｚ４９０（Ｍ+ ）
【０１１７】実施例９：ジ−（２−（６−ヒドロキシナ
フチル）アントラセン（化合物９）の合成 凝縮器を具備した丸底フラスコに、窒素下で、出発材料
（３５．０ｇ、７１．４ミリモル）と、ピリジン塩酸塩
（７２．０ｇ、６８２ミリモル）と、１０５ｍＬのフェ
ニルエーテル−ビフェニル共晶とを入れた。反応を２日
間還流させた後、若干冷ました。ヘキサンを添加して混
合物の凝固を防止し、その混合物を３０分間攪拌した。
固形分を真空濾過で集めた。固体生成物をエタノール入
りの三角フラスコに添加し、７０℃で２時間加熱した。
冷却後、固形分を濾過して集め、オーブンで乾燥する
と、高純度生成物２８．５ｇ（収率８６％）が得られ
た。その生成物を重合の前に昇華させた。元素分析値：
Ｃ34Ｈ22Ｏ2 の理論値：Ｃ８８．３０％、Ｈ４．８０
％；測定値：Ｃ８８．０２％、Ｈ４．９１％
フチル）アントラセン（化合物９）の合成 凝縮器を具備した丸底フラスコに、窒素下で、出発材料
（３５．０ｇ、７１．４ミリモル）と、ピリジン塩酸塩
（７２．０ｇ、６８２ミリモル）と、１０５ｍＬのフェ
ニルエーテル−ビフェニル共晶とを入れた。反応を２日
間還流させた後、若干冷ました。ヘキサンを添加して混
合物の凝固を防止し、その混合物を３０分間攪拌した。
固形分を真空濾過で集めた。固体生成物をエタノール入
りの三角フラスコに添加し、７０℃で２時間加熱した。
冷却後、固形分を濾過して集め、オーブンで乾燥する
と、高純度生成物２８．５ｇ（収率８６％）が得られ
た。その生成物を重合の前に昇華させた。元素分析値：
Ｃ34Ｈ22Ｏ2 の理論値：Ｃ８８．３０％、Ｈ４．８０
％；測定値：Ｃ８８．０２％、Ｈ４．９１％
【０１１８】実施例１０：２，６−ジ（２−エチルヘキ
シルオキシ）アントラキノン（化合物１０）の合成 ２，６−ジヒドロキシアントラキノン（１００．０ｇ、
０．４２モル）と２−エチルヘキシルブロミド（１６
５．０ｇ、０．８６モル）とを１ＬのＤＭＦに溶かし
た。この溶液に無水Ｋ2 ＣＯ3 （１２０．０ｇ、０．８
７モル）を添加した。その反応を９０℃で一晩加熱し
た。ＤＭＦの大部分を除去し、５００ｍＬの水を加え
た。反応をエーテルで抽出し（３×４００ｍＬ）、ブラ
インで洗浄し（１×２００ｍＬ）、そしてＭｇＳＯ4 で
乾燥した。溶剤を除去し、その粗生成物をメタノールか
ら再結晶化したところ、黄色の粉末生成物１２５．２１
ｇ（収率６５％）が得られた。 1ＨＮＭＲ（ＣＤＣ
ｌ3 ）δ (ppm)：０．９２−０．９８（ｍ，１２Ｈ，Ｃ
Ｈ3 ）、１．３４−１．５４（ｍ，１６Ｈ）、１．７５
−１．８１（ｍ，２Ｈ，ＣＨ（ＣＨ3 ））、４．０２
（ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ，４Ｈ，ＯＣＨ2 ）、７．１９
（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ）、７．７０（ｓ，２
Ｈ）、８．１９（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ）；13ＣＮ
ＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）：１１．１２、１４．０６、２３．
０４、２３．８８、２９．０８、３０．５１、３９．３
４、７１．３４、１１０．６４、１２０．８４、１２
７．００、１２９．６２、１３５．８８、１６４．２
９、１８２．２７；Ｍ．ｐ．４９−５１℃；ＦＤ−Ｍ
Ｓ：ｍ／ｚ４６４（Ｍ+ ）
シルオキシ）アントラキノン（化合物１０）の合成 ２，６−ジヒドロキシアントラキノン（１００．０ｇ、
０．４２モル）と２−エチルヘキシルブロミド（１６
５．０ｇ、０．８６モル）とを１ＬのＤＭＦに溶かし
た。この溶液に無水Ｋ2 ＣＯ3 （１２０．０ｇ、０．８
７モル）を添加した。その反応を９０℃で一晩加熱し
た。ＤＭＦの大部分を除去し、５００ｍＬの水を加え
た。反応をエーテルで抽出し（３×４００ｍＬ）、ブラ
インで洗浄し（１×２００ｍＬ）、そしてＭｇＳＯ4 で
乾燥した。溶剤を除去し、その粗生成物をメタノールか
ら再結晶化したところ、黄色の粉末生成物１２５．２１
ｇ（収率６５％）が得られた。 1ＨＮＭＲ（ＣＤＣ
ｌ3 ）δ (ppm)：０．９２−０．９８（ｍ，１２Ｈ，Ｃ
Ｈ3 ）、１．３４−１．５４（ｍ，１６Ｈ）、１．７５
−１．８１（ｍ，２Ｈ，ＣＨ（ＣＨ3 ））、４．０２
（ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ，４Ｈ，ＯＣＨ2 ）、７．１９
（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ）、７．７０（ｓ，２
Ｈ）、８．１９（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ）；13ＣＮ
ＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）：１１．１２、１４．０６、２３．
０４、２３．８８、２９．０８、３０．５１、３９．３
４、７１．３４、１１０．６４、１２０．８４、１２
７．００、１２９．６２、１３５．８８、１６４．２
９、１８２．２７；Ｍ．ｐ．４９−５１℃；ＦＤ−Ｍ
Ｓ：ｍ／ｚ４６４（Ｍ+ ）
【０１１９】実施例１１：２，６−ジ（２−エチルヘキ
シルオキシ）アントラセン（化合物１１）の合成 １Ｌの丸底フラスコに２，６−ジ（２−エチルヘキシル
オキシ）アントラキノン１（７５．０ｇ、０．１６モ
ル）と、錫（８０．０ｇ、０．６７モル）と、３７５ｍ
Ｌの酢酸とを加えた。反応を２時間還流させたところ、
その間に反応がスラリー化した。反応を室温にまで冷却
し、その最上層をデカントした。固形分をＣＨ2 Ｃｌ2
で洗浄した。有機相を一緒にして水、飽和ＮａＨＣＯ3
溶液及びブラインで洗浄し、ＭｇＳＯ4 で乾燥した。溶
剤を除去したところ７２．０５ｇの黄色固体が得られ
た。この黄色固体を２００ｍＬのイソプロパノールに溶
かし、そしてＮａＢＨ4 （６．５０ｇ、０．１７モル）
を３００ｍＬのイソプロパノールに溶かした溶液に滴下
した。反応を一晩加熱還流した。室温にまで冷却した
後、反応を希ＨＣｌ溶液で停止させ、その後水に注ぎ込
んだ。黄色沈殿物を濾過して集め、水及びエタノールで
洗浄し、乾燥させたところ、黄色粉末５５．２１ｇ（２
段階の収率７８％）が得られた。 1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ
3 ）δ (ppm)：０．９２−１．６２（ｍ，１４Ｈ，アル
キル）、１．７９−１．８７（ｍ，１Ｈ，アルキル）、
３．９９（ｄ，Ｊ＝５．７Ｈｚ，２Ｈ，ＯＣＨ2 ）、
７．１４（ｄ，Ｊ＝９．４Ｈｚ，２Ｈ）、７．１７
（ｓ，２Ｈ，アントラセンの１及び５）、８．１７
（ｓ，２Ｈ，アントラセンの９及び１０）；13ＣＮＭＲ
（ＣＤＣｌ3 ）：１１．１９、１４．１０、２３．１
０、２４．０７、２９．１８、３０．７２、３９．４
４、７０．４８、１０４．５８、１２０．８５、１２
４．０９，１２８．７１、１２９．０６、１３１．３
０、１５６．２２；Ｍ．ｐ．６０−６２℃；ＦＤ−Ｍ
Ｓ：ｍ／ｚ４３６（Ｍ+ ）
シルオキシ）アントラセン（化合物１１）の合成 １Ｌの丸底フラスコに２，６−ジ（２−エチルヘキシル
オキシ）アントラキノン１（７５．０ｇ、０．１６モ
ル）と、錫（８０．０ｇ、０．６７モル）と、３７５ｍ
Ｌの酢酸とを加えた。反応を２時間還流させたところ、
その間に反応がスラリー化した。反応を室温にまで冷却
し、その最上層をデカントした。固形分をＣＨ2 Ｃｌ2
で洗浄した。有機相を一緒にして水、飽和ＮａＨＣＯ3
溶液及びブラインで洗浄し、ＭｇＳＯ4 で乾燥した。溶
剤を除去したところ７２．０５ｇの黄色固体が得られ
た。この黄色固体を２００ｍＬのイソプロパノールに溶
かし、そしてＮａＢＨ4 （６．５０ｇ、０．１７モル）
を３００ｍＬのイソプロパノールに溶かした溶液に滴下
した。反応を一晩加熱還流した。室温にまで冷却した
後、反応を希ＨＣｌ溶液で停止させ、その後水に注ぎ込
んだ。黄色沈殿物を濾過して集め、水及びエタノールで
洗浄し、乾燥させたところ、黄色粉末５５．２１ｇ（２
段階の収率７８％）が得られた。 1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ
3 ）δ (ppm)：０．９２−１．６２（ｍ，１４Ｈ，アル
キル）、１．７９−１．８７（ｍ，１Ｈ，アルキル）、
３．９９（ｄ，Ｊ＝５．７Ｈｚ，２Ｈ，ＯＣＨ2 ）、
７．１４（ｄ，Ｊ＝９．４Ｈｚ，２Ｈ）、７．１７
（ｓ，２Ｈ，アントラセンの１及び５）、８．１７
（ｓ，２Ｈ，アントラセンの９及び１０）；13ＣＮＭＲ
（ＣＤＣｌ3 ）：１１．１９、１４．１０、２３．１
０、２４．０７、２９．１８、３０．７２、３９．４
４、７０．４８、１０４．５８、１２０．８５、１２
４．０９，１２８．７１、１２９．０６、１３１．３
０、１５６．２２；Ｍ．ｐ．６０−６２℃；ＦＤ−Ｍ
Ｓ：ｍ／ｚ４３６（Ｍ+ ）
【０１２０】実施例１２：９，１０−ジブロモ−２，６
−ジ（２−エチルヘキシルオキシ）アントラセン（化合
物１２）の合成 ２，６−ジ（２−エチルヘキシルオキシ）アントラセン
２（１３．５０ｇ、０．０３１モル）を１５０ｍＬのＤ
ＭＦに添加して０℃に冷却した。この懸濁液に、６０ｍ
ＬのＤＭＦ中のＮＢＳ（１１．６０ｇ、０．０６５モ
ル）を添加した。ＮＢＳの添加により、反応は透明にな
り、暗緑色に変わった。反応を窒素下で室温で攪拌し
た。反応を２００ｍＬの水に注ぎ込み、塩化メチレンで
抽出した（３×３００ｍＬ）。有機相を一緒にして水
（３×１００ｍＬ）及びブライン（１×１００ｍＬ）で
徹底的に洗浄し、ＭｇＳＯ4 で乾燥した。溶剤を除去し
た後、暗褐色の残留物をヘキサンで洗浄し、緑がかった
黄色の結晶を集めた。粗結晶をアセトンから再結晶化し
てフレーク状の緑がかった黄色の蛍光性生成物を得た。
濾液を一緒にし、シリカゲルによるクロマトグラフィー
でヘキサンを溶離液として精製した。全体の収量：５．
５ｇ（収率３０％）。 1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ(pp
m)：０．９３−１．７０（ｍ，１４Ｈ，アルキル）、
１．８１−１．８９（ｍ，１Ｈ，アルキル）、３．１２
（ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ，２Ｈ，ＯＣＨ2 ）、７．３４
（ｄ，Ｊ＝．２Ｈｚ，２Ｈ）、８．００（ｄ，Ｊ＝９．
２Ｈｚ，２Ｈ）、８．７１（ｓ，２Ｈ，アントラセンの
１及び５）；13ＣＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）：１１．１２、
１４．１０、２３．０８、２３．９３、２９．１５、３
０．５２、３９．８８、７２．７６、１０７．７４、１
１７．０２、１２５．２７，１２９．５１、１２９．７
５、１３０．１２、１５２．８７；Ｍ．ｐ．１０３−１
０５℃；ＦＤ−ＭＳ：ｍ／ｚ５９０（Ｍ+ ）
−ジ（２−エチルヘキシルオキシ）アントラセン（化合
物１２）の合成 ２，６−ジ（２−エチルヘキシルオキシ）アントラセン
２（１３．５０ｇ、０．０３１モル）を１５０ｍＬのＤ
ＭＦに添加して０℃に冷却した。この懸濁液に、６０ｍ
ＬのＤＭＦ中のＮＢＳ（１１．６０ｇ、０．０６５モ
ル）を添加した。ＮＢＳの添加により、反応は透明にな
り、暗緑色に変わった。反応を窒素下で室温で攪拌し
た。反応を２００ｍＬの水に注ぎ込み、塩化メチレンで
抽出した（３×３００ｍＬ）。有機相を一緒にして水
（３×１００ｍＬ）及びブライン（１×１００ｍＬ）で
徹底的に洗浄し、ＭｇＳＯ4 で乾燥した。溶剤を除去し
た後、暗褐色の残留物をヘキサンで洗浄し、緑がかった
黄色の結晶を集めた。粗結晶をアセトンから再結晶化し
てフレーク状の緑がかった黄色の蛍光性生成物を得た。
濾液を一緒にし、シリカゲルによるクロマトグラフィー
でヘキサンを溶離液として精製した。全体の収量：５．
５ｇ（収率３０％）。 1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ(pp
m)：０．９３−１．７０（ｍ，１４Ｈ，アルキル）、
１．８１−１．８９（ｍ，１Ｈ，アルキル）、３．１２
（ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ，２Ｈ，ＯＣＨ2 ）、７．３４
（ｄ，Ｊ＝．２Ｈｚ，２Ｈ）、８．００（ｄ，Ｊ＝９．
２Ｈｚ，２Ｈ）、８．７１（ｓ，２Ｈ，アントラセンの
１及び５）；13ＣＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）：１１．１２、
１４．１０、２３．０８、２３．９３、２９．１５、３
０．５２、３９．８８、７２．７６、１０７．７４、１
１７．０２、１２５．２７，１２９．５１、１２９．７
５、１３０．１２、１５２．８７；Ｍ．ｐ．１０３−１
０５℃；ＦＤ−ＭＳ：ｍ／ｚ５９０（Ｍ+ ）
【０１２１】ポリマーの合成 実施例１３：ポリマー２６の合成 ２，２−ジメチルトリメチレンジボロネート３（１．５
０ｇ、２．０ミリモル）と、９，１０−ジブロモアント
ラセン（０．６８ｇ、２．０ミリモル）と、 Aliquat
（商標）336 （０．１１ｇ、０．２５ミリモル）とを
８．６ｍＬのトルエンに溶かした。この溶液に２モル／
ＬのＮａ2 ＣＯ3 水溶液（３．３ｍＬ、６．６ミリモ
ル）を添加した。反応混合物を乾燥窒素で１５分間バブ
リングし、そして触媒のテトラキス（トリフェニルホス
フィン）パラジウム（７１ｍｇ、３モル％）を添加し
た。反応を２４時間加熱して激しく還流させ、そしてブ
ロモ基を末端封鎖するため少量のフェニルボロン酸を添
加した。反応を１３時間加熱し、そしてブルモベンゼン
を添加することによりボロネート基を末端封鎖した。反
応をさらに６時間加熱した後、２００ｍＬのメタノール
に注ぎ込んだ。析出したポリマーをメタノールと希ＨＣ
ｌ溶液で洗浄し、そして乾燥すると明黄色の粉末状ポリ
マーが得られた。次いで、当該ポリマーをソックスレー
抽出器によりアセトンで一晩抽出してオリゴマーと残留
触媒を除去した。ポリマーをＴＨＦからメタノールへ３
回再沈殿させて最終ポリマー１．００ｇ（収率７１％）
を得た。
０ｇ、２．０ミリモル）と、９，１０−ジブロモアント
ラセン（０．６８ｇ、２．０ミリモル）と、 Aliquat
（商標）336 （０．１１ｇ、０．２５ミリモル）とを
８．６ｍＬのトルエンに溶かした。この溶液に２モル／
ＬのＮａ2 ＣＯ3 水溶液（３．３ｍＬ、６．６ミリモ
ル）を添加した。反応混合物を乾燥窒素で１５分間バブ
リングし、そして触媒のテトラキス（トリフェニルホス
フィン）パラジウム（７１ｍｇ、３モル％）を添加し
た。反応を２４時間加熱して激しく還流させ、そしてブ
ロモ基を末端封鎖するため少量のフェニルボロン酸を添
加した。反応を１３時間加熱し、そしてブルモベンゼン
を添加することによりボロネート基を末端封鎖した。反
応をさらに６時間加熱した後、２００ｍＬのメタノール
に注ぎ込んだ。析出したポリマーをメタノールと希ＨＣ
ｌ溶液で洗浄し、そして乾燥すると明黄色の粉末状ポリ
マーが得られた。次いで、当該ポリマーをソックスレー
抽出器によりアセトンで一晩抽出してオリゴマーと残留
触媒を除去した。ポリマーをＴＨＦからメタノールへ３
回再沈殿させて最終ポリマー１．００ｇ（収率７１％）
を得た。
【０１２２】実施例１４：ポリマー２８の合成 ポリマー２６の合成に用いた手順に従った。２，２−ジ
メチルトリメチレンジボロネート３（１．５０ｇ、２．
０ミリモル）と、９，１０−ジブロモ−２，６／２，７
−ジ（ｔ−ブチル）アントラセン７（０．９１ｇ、２．
０ミリモル）と、 Aliquat（商標）336 （０．１１ｇ、
０．２５ミリモル）とを８．６ｍＬのトルエンに溶かし
た。この溶液に２モル／ＬのＮａ2 ＣＯ3 水溶液（３．
３ｍＬ、６．６ミリモル）とパラジウム触媒（７１ｍ
ｇ、３モル％）を添加した。重合及び精製後、１．１５
ｇのオフホワイト色のポリマーが得られた。
メチルトリメチレンジボロネート３（１．５０ｇ、２．
０ミリモル）と、９，１０−ジブロモ−２，６／２，７
−ジ（ｔ−ブチル）アントラセン７（０．９１ｇ、２．
０ミリモル）と、 Aliquat（商標）336 （０．１１ｇ、
０．２５ミリモル）とを８．６ｍＬのトルエンに溶かし
た。この溶液に２モル／ＬのＮａ2 ＣＯ3 水溶液（３．
３ｍＬ、６．６ミリモル）とパラジウム触媒（７１ｍ
ｇ、３モル％）を添加した。重合及び精製後、１．１５
ｇのオフホワイト色のポリマーが得られた。
【０１２３】実施例１５：ポリマー３０の合成 ポリマー２６の合成に用いた手順に従った。２，２−ジ
メチルトリメチレンジボロネート３（１．５０ｇ、２．
０ミリモル）と、９，１０−ジブロモ−２，６−ジ（２
−エチルヘキシルオキシル）アントラセン１２（１．２
１ｇ、２．０ミリモル）と、 Aliquat（商標）336
（０．１１ｇ、０．２５ミリモル）とを８．６ｍＬのト
ルエンに溶かした。この溶液に２モル／ＬのＮａ2 ＣＯ
3 水溶液（３．３ｍＬ、６．６ミリモル）とパラジウム
触媒（７１ｍｇ、３モル％）を添加した。重合及び精製
後、１．１５ｇの黄緑色のポリマーが得られた。
メチルトリメチレンジボロネート３（１．５０ｇ、２．
０ミリモル）と、９，１０−ジブロモ−２，６−ジ（２
−エチルヘキシルオキシル）アントラセン１２（１．２
１ｇ、２．０ミリモル）と、 Aliquat（商標）336
（０．１１ｇ、０．２５ミリモル）とを８．６ｍＬのト
ルエンに溶かした。この溶液に２モル／ＬのＮａ2 ＣＯ
3 水溶液（３．３ｍＬ、６．６ミリモル）とパラジウム
触媒（７１ｍｇ、３モル％）を添加した。重合及び精製
後、１．１５ｇの黄緑色のポリマーが得られた。
【０１２４】実施例１６：ポリマー４７の合成 ジ−ナフタノール９（０．７２ｇ、１．６ミリモル）を
１２ｍＬの無水ピリジンに溶かし、その混合物を氷浴中
で０℃に冷却し、３０分間攪拌した。３−（４−カルボ
キシフェニル）−２，３−ジヒドロ−１，１，３−トリ
メチル−１Ｈ−インデン−５−カルボン酸（０．５６
ｇ、１．６ミリモル）を固体として添加し、そして反応
を室温で３時間攪拌したところ、その間に反応の粘度が
非常に高くなり、ゲル状の固形分が生じた。反応を１０
０ｍＬの１０％ＨＣｌ水溶液に注ぎ込み、析出したポリ
マーを濾過し、水及びメタノールで洗浄した。ポリマー
を塩化メチレンとヘキサフルオロイソプロパノール（Ｈ
ＦＩＰ）の７０：３０（ｖ／ｖ）混合溶剤に再溶解さ
せ、そしてエタノール中に析出させた。オフホワイト色
のポリマーを集め、乾燥したところ、１．００ｇ（収率
８６％）が得られた。
１２ｍＬの無水ピリジンに溶かし、その混合物を氷浴中
で０℃に冷却し、３０分間攪拌した。３−（４−カルボ
キシフェニル）−２，３−ジヒドロ−１，１，３−トリ
メチル−１Ｈ−インデン−５−カルボン酸（０．５６
ｇ、１．６ミリモル）を固体として添加し、そして反応
を室温で３時間攪拌したところ、その間に反応の粘度が
非常に高くなり、ゲル状の固形分が生じた。反応を１０
０ｍＬの１０％ＨＣｌ水溶液に注ぎ込み、析出したポリ
マーを濾過し、水及びメタノールで洗浄した。ポリマー
を塩化メチレンとヘキサフルオロイソプロパノール（Ｈ
ＦＩＰ）の７０：３０（ｖ／ｖ）混合溶剤に再溶解さ
せ、そしてエタノール中に析出させた。オフホワイト色
のポリマーを集め、乾燥したところ、１．００ｇ（収率
８６％）が得られた。
【０１２５】実施例１７：ポリマー８の合成 ポリマー４７の合成に用いた手順に従った。１６ｍＬの
無水ピリジン中でジ−ナフタノール９（１．１５ｇ、
２．５ミリモル）をドデカンジオイルジクロリド（０．
６６ｇ、２．５ミリモル）と反応させて、オフホワイト
色の固体として１．５ｇのポリマーを得た（収率９２
％）。
無水ピリジン中でジ−ナフタノール９（１．１５ｇ、
２．５ミリモル）をドデカンジオイルジクロリド（０．
６６ｇ、２．５ミリモル）と反応させて、オフホワイト
色の固体として１．５ｇのポリマーを得た（収率９２
％）。
【０１２６】実施例１８：ポリマー８９の合成 ポリマー４７の合成に用いた手順に従った。１６ｍＬの
無水ピリジン中でジ−ナフタノール９（０．９９ｇ、
２．１ミリモル）を５−（オクタデシルオキシ）イソフ
タロイルジクロリド（１．０２ｇ、２．１ミリモル）と
反応させて、オフホワイト色の固体として１．６ｇのポ
リマーを得た（収率８７％）。
無水ピリジン中でジ−ナフタノール９（０．９９ｇ、
２．１ミリモル）を５−（オクタデシルオキシ）イソフ
タロイルジクロリド（１．０２ｇ、２．１ミリモル）と
反応させて、オフホワイト色の固体として１．６ｇのポ
リマーを得た（収率８７％）。
【０１２７】実施例１９：ポリマー５２の合成 ジ−ナフタノール９（０．６６ｇ、１．４ミリモル）を
１２ｍＬの無水ＮＭＰに溶かし、トリエチルアミン
（０．３２ｇ、３．２ミリモル）を添加した。その混合
物を０℃に冷却し、３０分間攪拌した。４，４−（ヘキ
サフルオロイソプロピリデン）ビス（ベンゾイルクロリ
ド）（０．６１ｇ、１．４ミリモル）を固体として添加
した。反応は粘性となり、室温で一晩攪拌した。反応混
合物を１５０ｍＬの水に注ぎ込んだ。析出したポリマー
を濾過し、３／７ＨＦＩＰ／塩化メチレンに再溶解さ
せ、そしてメタノール中に析出させた。さらに２回析出
させた後、ポリマーを集めて乾燥したところ、オフホワ
イト色の固体が１．００ｇ（収率８８％）得られた。
１２ｍＬの無水ＮＭＰに溶かし、トリエチルアミン
（０．３２ｇ、３．２ミリモル）を添加した。その混合
物を０℃に冷却し、３０分間攪拌した。４，４−（ヘキ
サフルオロイソプロピリデン）ビス（ベンゾイルクロリ
ド）（０．６１ｇ、１．４ミリモル）を固体として添加
した。反応は粘性となり、室温で一晩攪拌した。反応混
合物を１５０ｍＬの水に注ぎ込んだ。析出したポリマー
を濾過し、３／７ＨＦＩＰ／塩化メチレンに再溶解さ
せ、そしてメタノール中に析出させた。さらに２回析出
させた後、ポリマーを集めて乾燥したところ、オフホワ
イト色の固体が１．００ｇ（収率８８％）得られた。
【０１２８】実施例２０：ポリマー４４の合成 ポリマー５２の合成に用いた手順に従った。トリエチル
アミン（０．４８ｇ、０．４７ミリモル）の存在下、２
０ｍＬの無水ＮＭＰ中でジ−ナフタノール９（１．００
ｇ、２．２ミリモル）をビスフェノールＡビス（クロロ
ホルメート）（０．７８ｇ、２．２ミリモル）と反応さ
せて、オフホワイト色の固体として１．３ｇのポリマー
を得た（収率９０％）。
アミン（０．４８ｇ、０．４７ミリモル）の存在下、２
０ｍＬの無水ＮＭＰ中でジ−ナフタノール９（１．００
ｇ、２．２ミリモル）をビスフェノールＡビス（クロロ
ホルメート）（０．７８ｇ、２．２ミリモル）と反応さ
せて、オフホワイト色の固体として１．３ｇのポリマー
を得た（収率９０％）。
【０１２９】ＥＬ装置の製作及び性能 実施例２１ 本発明の要件を満たすＥＬ装置を以下のようにして構築
した。有機ＥＬ媒体は単層のポリマー薄膜を有する。 （ａ）インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）を被覆したガラス
基板を、市販の洗剤で超音波処理し、次いで脱イオン水
でリンスし、続いてトルエン蒸気で脱脂処理し、その後
紫外線とオゾンに数分間晒した。 （ｂ）ポリマーのトルエン溶液（３０ｍＬのトルエンに
３０ｍｇ含む）を２μｍのＰＴＦＥフィルターで濾過し
た。次いで、そのポリマー溶液をＩＴＯ上に回転速度を
制御しながらスピン塗布した。ポリマー薄膜の厚さは５
００〜７００Åの間とした。 （ｃ）ポリマー薄膜の上に、ＭｇとＡｇを１０：１の原
子比で含む厚さ２０００Åのカソード層を付着させた。
した。有機ＥＬ媒体は単層のポリマー薄膜を有する。 （ａ）インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）を被覆したガラス
基板を、市販の洗剤で超音波処理し、次いで脱イオン水
でリンスし、続いてトルエン蒸気で脱脂処理し、その後
紫外線とオゾンに数分間晒した。 （ｂ）ポリマーのトルエン溶液（３０ｍＬのトルエンに
３０ｍｇ含む）を２μｍのＰＴＦＥフィルターで濾過し
た。次いで、そのポリマー溶液をＩＴＯ上に回転速度を
制御しながらスピン塗布した。ポリマー薄膜の厚さは５
００〜７００Åの間とした。 （ｃ）ポリマー薄膜の上に、ＭｇとＡｇを１０：１の原
子比で含む厚さ２０００Åのカソード層を付着させた。
【０１３０】上記の手順でＥＬ装置の付着を完了した。
その後、周囲環境から保護するため、装置を乾燥グロー
ブボックスの中で気密包装した。ＥＬ装置の青色光は、
約１０Ｖにおいて約５０ｃｄ／ｍ2 の出力を示した。表
１に、本発明で合成したポリマーの特性をまとめた。ポ
リマーは妥当な分子量を有し、また高い熱分解開始温度
Ｔd を示した。ポリマーの希薄溶液及び固体薄膜からＵ
Ｖスペクトル及びフォトルミネセンス（ＰＬ）スペクト
ルが得られ、またＩＴＯ／ポリマー／Ｍｇ：Ａｇ系ＥＬ
装置からＥＬスペクトルが得られた。ＥＬ装置の製作は
実施例２１で説明した。図４及び図５は、それぞれポリ
マー２６及び２８のＵＶ、ＰＬ及びＥＬの各スペクトル
を示したものである。図６は、ポリマー２８によるＥＬ
装置の電圧−電流特性を示したものである。
その後、周囲環境から保護するため、装置を乾燥グロー
ブボックスの中で気密包装した。ＥＬ装置の青色光は、
約１０Ｖにおいて約５０ｃｄ／ｍ2 の出力を示した。表
１に、本発明で合成したポリマーの特性をまとめた。ポ
リマーは妥当な分子量を有し、また高い熱分解開始温度
Ｔd を示した。ポリマーの希薄溶液及び固体薄膜からＵ
Ｖスペクトル及びフォトルミネセンス（ＰＬ）スペクト
ルが得られ、またＩＴＯ／ポリマー／Ｍｇ：Ａｇ系ＥＬ
装置からＥＬスペクトルが得られた。ＥＬ装置の製作は
実施例２１で説明した。図４及び図５は、それぞれポリ
マー２６及び２８のＵＶ、ＰＬ及びＥＬの各スペクトル
を示したものである。図６は、ポリマー２８によるＥＬ
装置の電圧−電流特性を示したものである。
【０１３１】
【表１】
【０１３２】注釈：ａ＝ＴＨＦ中ポリスチレン標品を用
いたサイズ排除クロマトグラフィーで測定した重量平均
分子量；ｂ＝０．０１Ｍテトラブチルアンモニウムアセ
テートを含有する２０／８０ジクロロ酢酸／ジクロロメ
タン中ポリスチレン標品を用いたサイズ排除クロマトグ
ラフィーで測定した重量平均分子量；ｃ＝観測不可；ｄ
＝４００ｎｍで励起、残りのポリマー薄膜は３７０ｎｍ
で励起；ＵＶとＰＬはどちらも希トルエン溶液中で測定
した。
いたサイズ排除クロマトグラフィーで測定した重量平均
分子量；ｂ＝０．０１Ｍテトラブチルアンモニウムアセ
テートを含有する２０／８０ジクロロ酢酸／ジクロロメ
タン中ポリスチレン標品を用いたサイズ排除クロマトグ
ラフィーで測定した重量平均分子量；ｃ＝観測不可；ｄ
＝４００ｎｍで励起、残りのポリマー薄膜は３７０ｎｍ
で励起；ＵＶとＰＬはどちらも希トルエン溶液中で測定
した。
【図１】本発明によるポリマーを使用できる二層型ＥＬ
装置の断面図である。
装置の断面図である。
【図２】本発明によるポリマーを使用できる変型二層型
ＥＬ装置の断面図である。
ＥＬ装置の断面図である。
【図３】本発明によるポリマーを使用できる単層型ＥＬ
装置の断面図である。
装置の断面図である。
【図４】ポリマー２６の吸収及びフォトルミネセンスス
ペクトル並びにポリマー２６で製作した単層型ＥＬ装置
のエレクトロルミネセンススペクトルを示すグラフであ
る。
ペクトル並びにポリマー２６で製作した単層型ＥＬ装置
のエレクトロルミネセンススペクトルを示すグラフであ
る。
【図５】ポリマー２８の吸収及びフォトルミネセンスス
ペクトル並びにポリマー２８で製作した単層型ＥＬ装置
のエレクトロルミネセンススペクトルを示すグラフであ
る。
ペクトル並びにポリマー２８で製作した単層型ＥＬ装置
のエレクトロルミネセンススペクトルを示すグラフであ
る。
【図６】ポリマー２８で製作した単層型ＥＬ装置の電圧
−電流密度及び発光特性を示すグラフである。
−電流密度及び発光特性を示すグラフである。
１０、１００、１０００…基板 ２００、２０００…アノード ３０、３００…正孔輸送層 ４０、５００…電子輸送層 ５０、６００…エレクトロルミネセント媒体 ６０、７００、４０００…カソード ４００、３０００…発光層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０８Ｇ 69/32 Ｃ０８Ｇ 69/32 71/02 71/02 73/00 73/00 75/20 75/20 Ｈ０５Ｂ 33/14 Ｈ０５Ｂ 33/14 Ｂ
Claims (6)
- 【請求項１】 アノード、カソード及び前記アノードと
前記カソードとの間に配置されたポリマー発光材料を含
んでなり、前記ポリマー発光材料が下式で表される９，
１０−ジ−（２−ナフチル）アントラセン系ポリマーを
含むことを特徴とするエレクトロルミネセント装置。 【化１】 （上式中、 Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 及びＲ4 は、各々独立に、水素、炭素
原子数１〜２４のアルキルもしくはアルコキシ、炭素原
子数６〜２８のアリールもしくは置換アリール、炭素原
子数４〜４０のヘテロアリールもしくは置換ヘテロアリ
ール、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、シアノ基又はニトロ基を表し、 Ｘは結合基を表し、そしてＹは、一種以上のコモノマー
単位であって置換もしくは無置換のアルキル、アルケニ
ル、アリールもしくはヘテロアリール又は共役基である
ものを含む。） - 【請求項２】 アノード、カソード及び前記アノードと
前記カソードとの間に配置されたポリマー発光材料を含
んでなり、前記ポリマー発光材料が下式で表される９，
１０−ジ−（２−ナフチル）アントラセン系ポリマーを
含むことを特徴とするエレクトロルミネセント装置。 【化２】 （上式中、 Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝Ｈ、ｐ
＝６；Ｒ1 ＝Ｒ3 ＝Ｈ、Ｒ2 ＝２−エチルヘキシルオキ
シ、ｐ＝１２；Ｒ1 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝Ｈ、
ｐ＝１２；又はＲ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝ｎ−ヘ
キシル、ｐ＝６）； 【化３】 （上式中、 Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝Ｈ、Ｒ
4 ＝ＣＨ3 、Ｘ＝Ｃ；Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキ
シ、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝Ｈ、Ｒ4 ＝ＣＦ3 、Ｘ＝Ｃ；Ｒ1 ＝ｔ
−ブチル、Ｒ2 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ4 ＝Ｃ
Ｆ3 、Ｒ3 ＝Ｈ、Ｘ＝Ｃ；Ｒ1 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ2 ＝
ｎ−ヘキシルオキシ、Ｒ3 ＝Ｈ、Ｒ4 ＝ＣＦ3 、Ｘ＝
Ｃ；Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝２−エチルヘキシルオキ
シ、Ｒ3 ＝Ｈ、Ｒ4 ＝ＣＦ 3 、Ｘ＝Ｓｉ；又はＲ1 ＝
Ｈ、Ｒ2 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ3 ＝Ｈ、Ｒ4
＝ＣＦ3 、Ｘ＝Ｓｉ）； 【化４】 （上式中、 Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝Ｈ、Ｒ
4 ＝ＣＨ3 、Ｘ＝Ｃ；Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキ
シ、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝Ｈ、Ｒ4 ＝ＣＦ3 、Ｘ＝Ｃ；Ｒ1 ＝ｔ
−ブチル、Ｒ2 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ3 ＝
Ｈ、Ｒ4 ＝ＣＦ 3 、Ｘ＝Ｓｉ；Ｒ1 ＝Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝Ｈ、
Ｒ4 ＝ＣＨ3 、Ｘ＝Ｃ；又はＲ1 ＝Ｈ、Ｒ2 ＝２−エチ
ルヘキシルオキシ、Ｒ3 ＝Ｈ、Ｒ4 ＝ＣＦ3 、Ｘ＝Ｓ
ｉ）； 【化５】 （上式中、 Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝Ｈ、Ｒ3 ＝Ｒ
4 ＝ＣＨ3 ；Ｒ1 ＝Ｒ2 ＝Ｈ、Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝ＣＨ3 ；又
はＲ1 ＝Ｈ、Ｒ2 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ3 ＝
ｎ−ブチル、Ｒ4 ＝ＣＨ 3 ）； 【化６】 （上式中、 Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝Ｈ、Ｒ3 ＝Ｃ
Ｈ3 、Ｒ4 ＝Ｈ、Ｘ＝Ｃ；Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝ｎ
−ヘキシルオキシ、Ｒ3 ＝ＣＨ3 、Ｒ4 ＝Ｈ、Ｘ＝Ｃ；
Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシルオキシ、Ｒ3 ＝
ｎ−ブチル、Ｒ4 ＝Ｈ、Ｘ＝Ｓｉ；Ｒ1 ＝Ｒ2 ＝Ｒ4 ＝
Ｈ、Ｒ3 ＝ＣＦ3 、Ｘ＝Ｃ；又はＲ1 ＝Ｈ、Ｒ2 ＝２−
エチルヘキシルオキシ、Ｒ3 ＝ＣＨ3 、Ｒ4 ＝ｎ−ブチ
ル、Ｘ＝Ｓｉ）； 【化７】 （上式中、 Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝ｎ−ブチル、
Ｒ3 ＝フェニル；Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシ
ルオキシ、Ｒ3 ＝フェニル；Ｒ1 ＝２−エチルヘキシル
オキシ、Ｒ2 ＝Ｈ、Ｒ3 ＝ｎ−ブチル；又はＲ1 ＝ｎ−
ヘキシル、Ｒ2 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ3 ＝フ
ェニル）； 【化８】 （上式中、 Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝Ｈ、Ｒ3 ＝ｎ
−ヘキシル；Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝Ｈ、Ｒ3 ＝２−
エチルヘキシル；Ｒ1 ＝Ｈ、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシルオキ
シ、Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシル；又はＲ1 ＝２−エチルヘキシ
ルオキシ、Ｒ2 ＝Ｈ、Ｒ3 ＝４−メチルオキシフェニ
ル）； 【化９】 （上式中、 Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝Ｈ、Ｘ＝Ｏ；
Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝Ｈ、Ｘ＝Ｓ；
Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシルオキシ、Ｘ＝
Ｏ；又はＲ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝ｎ−
ヘキシル、Ｘ＝Ｏ）； 【化１０】 （上式中、Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝
Ｈ、Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝ｎ−ヘキシル；Ｒ1 ＝ｎ−ヘキシル、
Ｒ2 ＝Ｈ、Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝ｎ−ヘキシル；Ｒ1 ＝ｔ−ブチ
ル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝４−メチルオキ
シフェニル；又はＲ1 ＝Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシルオキシ、Ｒ
3 ＝Ｒ4 ＝ｎ−ヘキシル）； 【化１１】 （上式中、Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝
Ｈ；Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシルオキシ；Ｒ
1 ＝Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシル；又はＲ1 ＝２−エチルヘキシ
ルオキシ、Ｒ2 ＝ｔ−ブチル）； 【化１２】 （上式中、 Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝Ｈ；Ｒ
1 ＝Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ3 ＝Ｈ；Ｒ1 ＝ｔ−ブチ
ル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシルオキシ、Ｒ3 ＝Ｈ；又はＲ1 ＝
ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシルオキシ）；又は 【化１３】 （上式中、 Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝Ｈ；Ｒ
1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ3 ＝ｎ−ヘキ
シルオキシ；Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシルオ
キシ、Ｒ3 ＝Ｈ；又はＲ1 ＝２−エチルヘキシルオキ
シ、Ｒ2 ＝Ｈ、Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシルオキシ） - 【請求項３】 アノード、カソード及び前記アノードと
前記カソードとの間に配置されたポリマー発光材料を含
んでなり、前記ポリマー発光材料が下式で表される９，
１０−ジ−（２−ナフチル）アントラセン系ポリマーを
含むことを特徴とするエレクトロルミネセント装置。 【化１４】 （上式中、 Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝Ｈ、ｐ
＝０；Ｒ1 ＝Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ3 ＝Ｈ、ｐ＝１；
Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシルオキシ、Ｒ3 ＝
Ｈ、ｐ＝２；又はＲ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝ｎ−
ヘキシルオキシ、ｐ＝１）； 【化１５】 （上式中、 Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝Ｈ、ｍ＝５；
Ｒ1 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ2 ＝Ｈ、ｍ＝１７；Ｒ1 ＝ｔ−
ブチル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシルオキシ、ｍ＝７；又はＲ1
＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシルオキシ、ｍ＝
９）； 【化１６】 （上式中、 Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝Ｈ；Ｒ
1 ＝Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ3 ＝Ｈ；Ｒ1 ＝ｔ−ブチ
ル、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシルオキシ；又はＲ1 ＝ｔ−
ブチル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシルオキシ、Ｒ3 ＝Ｈ）； 【化１７】 （上式中、 Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシルオキシ、Ｒ3 ＝
Ｒ4 ＝Ｈ；Ｒ1 ＝２−エチルヘキシル、Ｒ2 ＝Ｒ4 ＝
Ｈ、Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシルオキシ；Ｒ1 ＝２−エチルヘキ
シルオキシ、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシルオキシ、Ｒ4 ＝
Ｈ；又はＲ1 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシ
ルオキシ、Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝Ｈ）； 【化１８】 （上式中、 Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシルオキシ、Ｒ3 ＝
Ｒ4 ＝Ｈ、ｐ＝ｑ＝１；Ｒ1 ＝２−エチルヘキシル、Ｒ
2 ＝Ｒ4 ＝Ｈ、Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシルオキシ、ｐ＝ｑ＝
１；Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝ｎ
−ヘキシルオキシ、Ｒ4 ＝Ｈ、ｐ＝ｑ＝２；Ｒ1 ＝ｎ−
ヘキシル、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシルオキシ、Ｒ4 ＝
Ｈ、ｐ＝ｑ＝２；Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｒ3 ＝Ｈ、Ｒ4 ＝ｎ−ヘキシル、ｐ＝ｑ＝２；又は
Ｒ1 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ2 ＝Ｒ4 ＝ｎ−ヘキシルオキ
シ、Ｒ3 ＝Ｈ、ｐ＝ｑ＝２）； 【化１９】 （上式中、 Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシルオキシ、Ｒ3 ＝
Ｒ4 ＝Ｈ；Ｒ1 ＝２−エチルヘキシル、Ｒ2 ＝Ｒ4 ＝
Ｈ、Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシルオキシ；Ｒ1 ＝２−エチルヘキ
シルオキシ、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシルオキシ、Ｒ4 ＝
Ｈ；又はＲ1 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシ
ルオキシ、Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝Ｈ）； 【化２０】 （上式中、 Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝Ｈ；Ｒ
1 ＝Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ3 ＝Ｈ；Ｒ1 ＝ｔ−ブチ
ル、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシルオキシ；又はＲ1 ＝２−
エチルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝Ｈ、Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシル
オキシ）； 【化２１】 （上式中、 Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝Ｈ；Ｒ
1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシル、
Ｒ3 ＝Ｈ；又はＲ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝ｎ−ヘ
キシル）； 【化２２】 （上式中、 Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝Ｈ；Ｒ
1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシル、
Ｒ3 ＝Ｈ；Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシ
ル；又はＲ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝Ｈ、
Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシル）； 【化２３】 （上式中、 Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシ
ル、Ｒ3 ＝Ｈ；Ｒ1 ＝Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシル；又は
Ｒ1 ＝Ｒ3 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝Ｈ）；
又は 【化２４】 （上式中、 Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシ
ル、Ｒ3 ＝Ｈ；Ｒ1 ＝Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシル；Ｒ1
＝Ｒ3 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝Ｈ；又はＲ
1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝Ｈ） - 【請求項４】 アノード、カソード及び前記アノードと
前記カソードとの間に配置されたポリマー発光材料を含
んでなり、前記ポリマー発光材料が下式で表される９，
１０−ジ−（２−ナフチル）アントラセン系ポリマーを
含むことを特徴とするエレクトロルミネセント装置。 【化２５】 〔上式中、 Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 及びＲ4 は、各々独立に、水素、炭素
原子数１〜２４のアルキルもしくはアルコキシ、炭素原
子数６〜２８のアリールもしくは置換アリール、炭素原
子数４〜４０のヘテロアリールもしくは置換ヘテロアリ
ール、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、シアノ基又はニトロ基を表し、 Ｘは結合基を表し、そしてＹは、下式： 【化２６】 （上式中、Ａｒ1 及びＡｒ2 は炭素原子数６〜２８の置
換又は無置換アリール基を表し、Ｒ’及びＲ”は水素、
炭素原子数１〜１２のアルキル基、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｆ又は
シアノ基を表し、そしてｐは１〜３の整数を表す。）で
表されるものを含む。〕 - 【請求項５】 アノード、カソード及び前記アノードと
前記カソードとの間に配置されたポリマー発光材料を含
んでなり、前記ポリマー発光材料が下式で表される９，
１０−ジ−（２−ナフチル）アントラセン系ポリマーを
含むことを特徴とするエレクトロルミネセント装置。 【化２７】 （上式中、 Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝
Ｒ5 ＝Ｈ；Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝ｎ
−ヘキシル、Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ；Ｒ1 ＝ｔ−ブチ
ル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ3 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、Ｒ4 ＝ｎ−
ヘキシルオキシ；Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、Ｒ3 ＝ＣＮ；又はＲ1 ＝２−エチ
ルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ3 ＝ＣＮ、
Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ）； 【化２８】 （上式中、 Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝
Ｒ5 ＝Ｈ；Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝ｎ
−ヘキシル、Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ；Ｒ1 ＝ｔ−ブチ
ル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ3 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、Ｒ4 ＝ｎ−
ヘキシルオキシ；Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、Ｒ3 ＝ＣＮ；又はＲ1 ＝２−エチ
ルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ3 ＝ＣＮ、
Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ）； 【化２９】 （上式中、 Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝
Ｒ5 ＝Ｈ；Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝ｎ
−ヘキシル、Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ；Ｒ1 ＝ｔ−ブチ
ル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ3 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、Ｒ4 ＝ｎ−
ヘキシルオキシ；Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、Ｒ3 ＝ＣＮ；又はＲ1 ＝２−エチ
ルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ3 ＝ＣＮ、
Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ）； 【化３０】 （上式中、 Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝
Ｒ5 ＝Ｈ；Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝ｎ
−ヘキシル、Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ；Ｒ1 ＝ｔ−ブチ
ル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ3 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、Ｒ4 ＝ｎ−
ヘキシルオキシ；Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、Ｒ3 ＝ＣＮ；又はＲ1 ＝２−エチ
ルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ3 ＝ＣＮ、
Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ）； 【化３１】 （上式中、 Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝
Ｒ5 ＝Ｈ、ｐ＝ｑ＝ｒ＝１；Ｒ1 ＝２−エチルヘキシル
オキシ、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、
ｐ＝ｑ＝ｒ＝１；Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシ
ル、Ｒ3 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、Ｒ4 ＝ｎ−ヘキシルオキシ、ｐ＝
ｑ＝２、ｒ＝１；Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、Ｒ3 ＝ＣＮ、ｐ＝ｑ＝ｒ＝１；又
はＲ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシ
ル、Ｒ3 ＝ＣＮ、Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、ｐ＝ｑ＝ｒ＝２）；
又は 【化３２】 （上式中、 Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝
Ｒ5 ＝Ｈ、ｐ＝ｑ＝ｒ＝１；Ｒ1 ＝２−エチルヘキシル
オキシ、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、
ｐ＝ｑ＝ｒ＝１；Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシ
ル、Ｒ3 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、Ｒ4 ＝ｎ−ヘキシルオキシ、ｐ＝
ｑ＝２、ｒ＝１；Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ
2 ＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、Ｒ3 ＝ＣＮ、ｐ＝ｑ＝ｒ＝１；又
はＲ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシ
ル、Ｒ3 ＝ＣＮ、Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、ｐ＝ｑ＝ｒ＝２） - 【請求項６】 アノード、カソード及び前記アノードと
前記カソードとの間に配置されたポリマー発光材料を含
んでなり、前記ポリマー発光材料が下式で表される９，
１０−ジ−（２−ナフチル）アントラセン系ポリマーを
含むことを特徴とするエレクトロルミネセント装置。 【化３３】 （上式中、 Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝Ｈ、ｐ
＝１；Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝
Ｈ、ｐ＝２；Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝
Ｈ、Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシル、ｐ＝１；又はＲ1 ＝ｔ−ブチ
ル、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシルオキシ、Ｒ3 ＝Ｈ、ｐ＝１）； 【化３４】 （上式中、 Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝Ｈ、Ｒ
4 ＝ｎ−ヘキシル、ｐ＝１；Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝
ｎ−ヘキシル、Ｒ3 ＝Ｈ、Ｒ4 ＝２−エチルヘキシル、
ｐ＝２；Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝Ｈ、
Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシル、Ｒ4 ＝２−エチルヘキシル、ｐ＝
２；又はＲ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝Ｒ3
＝ｎ−ヘキシル、Ｒ4 ＝２−エチルヘキシル、ｐ＝
３）； 【化３５】 （上式中、 Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝
Ｈ、ｐ＝ｒ＝０、ｑ＝１；Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝ｎ
−ヘキシル、Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝２−エチルヘキシル、ｐ＝ｒ
＝１、ｑ＝２；Ｒ1 ＝Ｒ4 ＝２−エチルヘキシルオキ
シ、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝Ｈ、ｐ＝ｒ＝ｑ＝１；Ｒ1 ＝Ｒ2 ＝２
−エチルヘキシルオキシ、Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝Ｈ、ｐ＝ｒ＝
１、ｑ＝２；又はＲ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝２−
エチルヘキシルオキシ、Ｒ4 ＝Ｈ、ｐ＝ｒ＝１、ｑ＝
２）； 【化３６】 （上式中、 Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝Ｈ、ｐ＝ｑ＝
１、Ｘ＝Ｏ；Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝
Ｈ、ｐ＝ｑ＝１、Ｘ＝Ｓ；Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオ
キシ、Ｒ2 ＝Ｈ、ｐ＝ｑ＝１、Ｘ＝ｎ−ヘキシル；Ｒ1
＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシル、ｐ
＝ｑ＝２、Ｘ＝Ｏ；Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、
Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシル、ｐ＝ｑ＝２、Ｘ＝Ｓ；又はＲ1 ＝
２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシル、ｐ＝
ｑ＝２、Ｘ＝Ｎ−ヘキシル）； 【化３７】 （上式中、 Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝Ｈ；Ｒ
1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝Ｈ、Ｒ3 ＝フェ
ニル；Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシル；
Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝Ｈ、Ｒ3 ＝ｎ
−ヘキシルオキシ；又はＲ1 ＝２−エチルヘキシルオキ
シ、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシルオキシ、Ｒ3 ＝Ｈ）； 【化３８】 （上式中、 Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝Ｈ；Ｒ
1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝Ｈ、Ｒ3 ＝フェ
ニル；Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシル；
Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝Ｈ、Ｒ3 ＝ｎ
−ヘキシルオキシ；又はＲ1 ＝２−エチルヘキシルオキ
シ、Ｒ2 ＝ｎ−ヘキシルオキシ、Ｒ3 ＝Ｈ）； 【化３９】 （上式中、 Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝Ｈ；Ｒ
1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝Ｈ、Ｒ3 ＝フェ
ニル；Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシル；
又はＲ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝Ｈ、Ｒ3
＝ｎ−ヘキシル）； 【化４０】 （上式中、 Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝Ｈ；Ｒ
1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝Ｈ、Ｒ3 ＝フェ
ニル；Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシル；
又はＲ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝Ｈ、Ｒ3
＝ｎ−ヘキシル）；又は 【化４１】 （上式中、 Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝Ｈ、Ｒ3 ＝メ
チル；Ｒ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝Ｈ、Ｒ
3 ＝フェニル；Ｒ1 ＝ｔ−ブチル、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝ｎ−ヘ
キシル；又はＲ1 ＝２−エチルヘキシルオキシ、Ｒ2 ＝
Ｈ、Ｒ3 ＝ｎ−ヘキシル）
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