JP2001181153A - 毛髪洗浄組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 すすぎ時の手ぐし通りがなめらかで、かつ、
すすぎ時のぬるつきもない優れた毛髪洗浄組成物を提供
する。 【解決手段】 （Ａ）アニオン界面活性剤と、（Ｂ）両
性界面活性剤と、（Ｃ）カチオン性高分子と、（Ｄ）下
記〔１〕で表される単位を含む高分子化合物とを含有す
ることを特徴とする毛髪洗浄組成物。 【化１】

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、すすぎ時の手ぐし
通りがなめらかで、かつ、すすぎ時のぬるつきのない毛
髪洗浄組成物に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、毛髪洗浄組成物において、シャン
プーのすすぎ時の感触向上のために、アニオン界面活性
剤と、カチオン性高分子を含有せしめることは既に知ら
れている。

【０００３】しかしながら、これらの成分を配合したも
のは、すすぎ時のきしみ感は低減できるが、ぬるつき感
を抑えることは難しい点に課題がある。従って、すすぎ
時の手ぐし通りがなめらかで、かつ、すすぎ時のぬるつ
きのない毛髪洗浄組成物が切望されているのが現状であ
る。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記従来技
術の課題等に鑑み、これを解消しようとするものであ
り、すすぎ時の手ぐし通りがなめらかで、かつ、すすぎ
時のぬるつきのない毛髪洗浄組成物を提供することを目
的とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記従来
の課題等について鋭意検討した結果、アニオン界面活性
剤と、両性界面活性剤と、特定成分とを含有せしめるこ
とにより、上記目的の毛髪洗浄組成物が得られることを
見い出すことにより、本発明を完成するに至ったのであ
る。すなわち、本発明の毛髪洗浄組成物は、（Ａ）アニ
オン界面活性剤と、（Ｂ）両性界面活性剤と、（Ｃ）カ
チオン性高分子と、（Ｄ）下記〔１〕で表される単位を
含む高分子化合物とを含有することを特徴とする。

【化２】

【０００６】

【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施の形態を詳
しく説明する。本発明の毛髪洗浄組成物は、（Ａ）アニ
オン界面活性剤と、（Ｂ）両性界面活性剤と、（Ｃ）カ
チオン性高分子と、（Ｄ）下記〔１〕で表される単位を
含む高分子化合物とを含有することを特徴とする。

【化３】

【０００７】本発明に用いる（Ａ）成分のアニオン界面
活性剤としては、例えば、下記〜で示すものが挙げ
られ、これらの１種を単独で又は２種以上を組み合わせ
て用いることができる。

【０００８】下記一般式（Ｉ）で示されるスルホン酸
又はその塩 Ｒ¹ＳＯ₃Ｍ₁ ……（Ｉ） 〔式（Ｉ）中、Ｒ¹は炭素数８〜２２のアルキル基若し
くはアルケニル基又はヒドロキシアルキル基であり、該
アルケニル基にはα−オレフィン型、ビニリデン型及び
インナ−オレフィン型アルケニル基が含まれる。また、
Ｍ₁は水素原子又はスルホン酸の中和に用いられる塩基
に由来する陽イオンを表し、この陽イオンにはアルカリ
金属イオンやアルカリ土類金属イオンの他、アルキル置
換アンモニウムイオンやヒドロキシアルキル置換アンモ
ニウムイオン等のアミン類及び塩基性アミノ酸類によっ
て形成される陽イオンが含まれる。〕 上記一般式（Ｉ）のスルホン酸又はその塩としては、具
体的には、各種のα−オレフィンスルホン酸塩（ＡＯＳ
塩）、パラフィンスルホン酸塩などが挙げられる。

【０００９】下記一般式（II）で示されるエーテル硫
酸又はその塩

【化４】 〔式（II）中、Ｒ²は炭素数８〜２２のアルキル基又は
炭素数５〜１５のアルキル基を有するアルキルフェニル
基を表し、Ｒ³は炭素数２〜３のアルキレン基を表す。
また、Ｍ₂は水素原子又はエーテル硫酸の中和に用いら
れる塩基に由来する陽イオンを表し、この陽イオンには
アルカリ金属イオンやアルカリ土類金属イオンの他、ア
ルキル置換アンモニウムイオンやヒドロキシアルキル置
換アンモニウムイオン等のアミン類及び塩基性アミノ酸
類によって形成される陽イオンが含まれる。ｐは０〜６
の整数である。〕 上記一般式（II）で示されるエーテル硫酸類としては、
具体的には、ポリオキシエチレン（Ｐ＝３）ラウリルエ
ーテル硫酸塩、炭素数１２〜１３の脂肪族アルコールオ
キシエチレンエーテル硫酸塩等が挙げられ、これらはナ
トリウム塩、カリウム塩又はアルカノールアミン塩とな
っているものが好ましい。中でも、ポリオキシエチレン
（Ｐ＝３）ラウリルエーテル硫酸ナトリウムが特に好ま
しい。

【００１０】下記一般式（III）で示されるＮ−アシ
ルグルタミン酸又はその塩

【化５】 〔式（III）中、Ｒ⁴は炭素数９〜１７のアルキル基若し
くはアルケニル基又はヒドロキシアルキル基を表し、Ｍ
₃とＭ₄とは同じであっても異なっていてもよいが、これ
らは水素原子又はＮ−アシルグルタミン酸の中和に用い
られる塩基に由来する陽イオンを表し、この陽イオンに
はアルカリ金属イオンやアルカリ土類金属イオンの他、
アルキル置換アンモニウムイオンやヒドロキシアルキル
置換アンモニウムイオン等の置換アンモニウムイオン等
のアミン類及び塩基性アミノ酸類によって形成される陽
イオンが含まれる。〕 上記一般式（III）で示されるＮ−アシルグルタミン酸
又はその塩としては、具体的には、Ｎ−ラウロイルグル
タミン酸、Ｎ−ミリストイルグルタミン酸、Ｎ−パルミ
トイルグルタミン酸等のＮ−アシルグルタミン酸又はそ
の混合物；或いは前記Ｎ−アシルグルタミン酸のモノエ
タノールアミン塩、ジエタノールアミン塩、トリエタノ
ールアミン塩、ナトリウム塩、カリウム塩などが挙げら
れる。

【００１１】下記一般式（IV）で示されるＮ−アシル
−Ｎ−アルキルアミノ酸又はＮ−アシルアミノ酸及びそ
れらの塩

【化６】 〔式（IV）中、Ｒ⁵は炭素数９〜１７のアルキル基若し
くはアルケニル基又はヒドロキシアルキル基を示し、Ｒ
⁶は水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表してい
る。また、Ｍ₅は水素原子又は上記一般式（IV）で示さ
れる化合物の中和に用いられる塩基に由来する陽イオン
を表し、この陽イオンにはアルカリ金属イオン、アルカ
リ土類金属イオン及びアンモニウムイオンの他、アルキ
ル置換アンモニウムイオンやヒドロキシアルキル置換ア
ンモニウムイオン等のアミン類及び塩基性アミノ酸類に
よって形成される陽イオンが含まれる。ｑは１又は２で
ある。〕 上記一般式（IV）で示される化合物としては、具体的に
は、Ｎ−ラウロイル−Ｎ−エチルグリシン、Ｎ−ラウロ
イル−Ｎ−イソプロピルグリシン、Ｎ−ラウロイルサル
コシン、Ｎ−パルミトイルサルコシン、Ｎ−ラウロイル
−Ｎ−メチル−β−アラニン、Ｎ−ラウロイル−Ｎ一エ
チル−β−アラニン、Ｎ−ミリストイル−β−アラニ
ン、Ｎ−パルミトイル−β−アラニン；前記化合物の混
合物；前記化合物のモノエタノールアミン塩、ジエタノ
ールアミン塩、トリエタノールアミン塩、ナトリウム
塩、カリウム塩；などが挙げられる。

【００１２】下記一般式（Ｖ）で示されるアシルメチ
ルタウリン又はその塩

【化７】 〔式（Ｖ）中、Ｒ⁷は炭素数９〜１７のアルキル基若し
くはアルケニル基又はヒドロキシアルキル基を示し、Ｍ
₆は水素原子又はタウリンの中和に用いられる塩基に由
来する陽イオンを表し、この陽イオンにはアルカリ金属
イオン、アルカリ土類金属イオン及びアンモニウムイオ
ンの他、アルキル置換アンモニウムイオンやヒドロキシ
アルキル置換アンモニウムイオン等のアミン類及び塩基
性アミノ酸類によって形成される陽イオンが含まれ
る。〕 上記一般式（Ｖ）で示されるアシルメチルタウリン又は
その塩としては、具体的には、Ｎ−ココイルメチルタウ
リンナトリウム塩などが挙げられる。

【００１３】下記一般式（VI）で示されるスルホコハ
ク酸型化合物

【化８】 〔式（VI）中、Ｒ⁸は下記式ａ又はｂで示される置換基
を表し、Ｍ₇とＭ₈とは同じでも異なっていてもよいが、
これらは水素原子又は上記一般式（VI）で示される化合
物の中和に用いられる塩基に由来する陽イオンを表し、
この陽イオンにはアルカリ金属イオン、アルカリ土類金
属イオン及びアンモニウムイオンの他、アルキル置換ア
ンモニウムイオンやヒドロキシアルキル置換アンモニウ
ムイオン等のアミン類及び塩基性アミノ酸類によって形
成される陽イオンが含まれる。〕

【００１４】

【化９】 〔上記置換基ａ中、Ｒ⁹は炭素数８〜２２のアルキル基
若しくはアルケニル基又はヒドロキシアルキル基を表
し、Ｒ¹⁰は水素原子又はメチル基を表し、ｕは１０〜２
０の整数である。〕

【化１０】 〔上記置換基ｂ中、Ｒ¹¹は炭素数９〜１７のアルキル基
若しくはアルケニル基又はヒドロキシアルキル基を表
し、Ｒ¹²は水素原子又はメチル基を表し、ｖは０〜２０
の整数である。〕 上記一般式（VI）で示されるスルホコハク酸型化合物と
しては、具体的には、ポリオキシエチレンラウリルスル
ホコハク酸−２−ナトリウムなどが挙げられる。

【００１５】下記一般式（VII）で示されるスルホコ
ハク酸型化合物

【化１１】 上記式（VII）で示されるスルホコハク酸型化合物とし
ては、ＳＯ₃Ｍ₇の置換部位が異なっている以外は、上記
式（VI）で示される化合物と同じ構造の化合物が挙げら
れる。

【００１６】下記一般式（VIII）で示されるアルキロ
イルアルキルタウリン型化合物

【化１２】 〔式（VIII）中、Ｒ¹³は炭素数７〜１９のアルキル基、
アルケニル基又はヒドロキシアルキル基、Ｒ¹⁴は炭素数
１〜３の低級アルキル基、Ｍ₉はアルカリ金属、アルカ
リ土類金属又は有機アミン類をそれぞれ表す。〕 上記一般式（VIII）で示されるアルキロイルアルキルタ
ウリン型化合物としては、具体的には、Ｎ−ラウロイル
ーＮ−メチルタウリンナトリウムなどが挙げられる。

【００１７】下記一般式（IX）で示されるエーテルカ
ルボン酸型化合物 Ｒ¹⁵Ｏ（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）ｍＣＯＯＭ₁₀ （IX） 〔式（IX）中、Ｒ¹⁵は炭素数１０〜２２のアルキル基又
はアルケニル基、ｍは２〜１５の整数、Ｍ₁₀はアルカリ
金属、アルカリ土類金属、アンモニウム又は有機アンモ
ニウムをそれぞれ表す。〕 上記一般式（IX）で示されるエーテルカルボン酸型化合
物としては、具体的には、ポリオキシエチレン（Ｐ＝
３）ラウリルエーテル酢酸ナトリウムなどが挙げられ
る。

【００１８】上記（Ａ）成分のアニオン性界面活性剤の
配合量は、特に限定されるものでないが、好ましくは、
毛髪洗浄組成物全量に対して、０．５〜５０質量％（以
下、単に「％」という）、更に好ましくは、１〜３０％
である。（Ａ）成分の配合量が０．５〜５０％の範囲以
外の場合、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分及び（Ｄ）成分との
相乗効果が発現しにくく、すすぎ時の手ぐし通りが悪く
なる場合があるため、上記範囲で配合することが望まし
い。

【００１９】本発明に用いる（Ｂ）成分の両性界面活性
剤としては、例えば、下記〜〔下記式（Ｘ）〜（Ｘ
Ｖ）〕に示すものが挙げられ、これらの１種を単独で又
は２種以上を組み合わせて用いることができる。 下記式で示されるベタイン型両性界面活性剤

【化１３】 〔式（Ｘ）中、Ｒ¹は平均炭素数７〜２０の高級アルキ
ル基又はアルケニル基、Ｒ²及びＲ³は炭素数１〜４の低
級アルキル基、Ｑは炭素数１〜３のアルキレン基又は炭
素数２〜３のヒドロキシアルキレン基、Ｚは−ＣＯＯ^-
又は−ＳＯ₃ ^-を示すが、Ｚが−ＣＯＯ^-であるときには
Ｑはアルキレン基であり、ｎは１〜５の数、ｍは０又は
１の数を示す。〕

【００２０】上記式（Ｘ）中、好適なＲ¹としては、デ
シル、ドデシル、へキサデシル、オクタデシル、エイコ
シルなどが挙げられる。また、Ｒ²及びＲ³の例として
は、メチル、エチル、プロピルル、イソプチルなどが挙
げられる。このようなベタイン型両性界面活性剤とし
て、代表的なアルキルベタインには、例えば、デシルベ
タイン（すなわち、Ｎ−デシルジメチルグリシン）、セ
チルベタイン、ステアリルベタイン、ココベタインなど
があり、代表的なアミドベタインには、例えば、ココア
ミドプロピルベタイン（すなわちＮ−（３−ヤシ油アシ
ルアミノプロピル）−Ｎ，Ｎ−ジメチルー２−アミノ酢
酸塩）、ラウリルアミドプロピルベタイン、ラウリルア
ミドメチルベタイン、ミリスチルアミドメチルベタイ
ン、パルミチルアミドメチルベタイン、ステアリルアミ
ドメチルベタインなどが挙げられる。また、代表的なア
ルキルスルホベタインとしては、例えば、ココジメチル
スルホプロピルベタイン、ステアリルジメチルジメチル
スルホプロピルベタインなどが挙げられ、代表的なアミ
ドスルホベタインには、例えば、ココアミノメチルジメ
チルスルホプロピルベタイン（すなわちＮ−ココイル
（ジメチルアミノ）プロパンスルホネート）、ステアリ
ルアミノメチルジメチルスルホプロピルベタイン、ミリ
スチルアミノメチルジメチルスルホプロピルベタイン、
ラウリルアミノメチル−ビス−（２−ヒドロキシエチ
ル）−スルホプロピルベタイン（すなわち−（Ｎ，Ｎ−
ジメチルーＮ−ラウリルアミノ）２−ヒドロキシプロパ
ンスルホネート）などが挙げられる。

【００２１】下記式で示されるアミドアミン型両性界
面活性剤

【化１４】 〔式（XI）中、Ｒ⁴は平均炭素原子数９〜１７のアルキ
ル基又はアルケニル基、Ｒ⁵は−ＣＨ₂ＣＯＯＭ^l又は−
ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＯＯＭ²、Ｒ⁶は水素原子、−ＣＨ₂ＣＯＯ
Ｍ³又は−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＯＯＭ⁴を示し、ここで、Ｍ^l〜
Ｍ⁴は水溶性塩を形成するカチオンである。〕 このようなアミドアミン型両性活性剤として、具体的に
は、Ｎ−ラウロイル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−
Ｎ−カルボキシメチルエチレンジアミン、Ｎ−ラウロイ
ル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ’，Ｎ’−ビス
（カルボキシエチル）エチレンジアミンなどを挙げるこ
とができる。

【００２２】下記式で示されるアミドアミン型両性界
面活性剤

【化１５】 〔式（XII）中、Ｒ⁷は平均炭素原子数７〜１９のアルキ
ル基もしくはアルケニル基又は平均炭素原子数７〜１５
のアルキル基で置換されたアルキルフェニル基、Ｒ⁸及
びＲ⁹は水素原子、−ＣＨ₂ＣＯＯＭ^l又は−ＣＨ₂ＣＨ₂
ＣＯＯＭ²であるが、Ｒ⁸とＲ⁹とは同時に水素原子であ
ることはなく、ここで、Ｍ^l及びＭ²は水素原子、ナトリ
ウム、カリウム、アルカノールアミン又はアルカリ土類
金属である。〕 このようなアミドアミン型両性界面活性剤として、具体
的には、Ｎ−ラウロイル−Ｎ’−カルボキシメチル−
Ｎ’−カルボキシメトキシエチルエチレンジアミン、Ｎ
−ラウロイル−Ｎ’−カルボキシエチル−Ｎ’−（２一
ヒドロキシエチル）−エチレンジアミン、Ｎ−ラウロイ
ル−Ｎ’−カルボキシエトキシエチルエチレンジアミ
ン、Ｎ−ラウロイル−Ｎ’−カルボキシエチル−Ｎ’−
カルボキシエトキシエチルエチレンジアミンなどを挙げ
ることができる。

【００２３】下記式で示されるイミダゾリニウムベタ
イン型両性界面活性剤

【化１６】 〔式（XIII）中、Ｒ¹⁰は平均炭素原子数５〜１９のアル
キル基又はアルケニル基、Ｒ¹¹は炭素原子数１〜４のア
ルキレン基、Ｒ¹²は炭素原子数１〜４のアルキレン基又
はＯＨ基で置換されたアルキレン基、Ｍ³及びＭ⁴はそれ
ぞれ水素原子、アルカリ金属又はアルカノールアミンか
ら誘導されるカチオンを示し、Ｇは任意のアニオンを示
す。〕

【００２４】このようなイミダゾリニウムベタイン型両
性界面活性剤として、下記のものを挙げることができ
る．

【化１７】

【００２５】下記式で示されるイミダゾリニウムベタ
イン型両性界面活性剤

【化１８】 〔式（XIV）中、Ｒ¹⁰，Ｒ¹¹，Ｍ³，Ｍ⁴，Ｇは上記式（X
III）と同様の意味を示し、Ｒ¹³は炭素原子数１〜４の
アルキレン基又はＯＨ基で置換されたアルキレン基を示
す。〕 このようなイミダゾリニウムベタイン型両性界面活性剤
として、下記のものを挙げることができる．

【化１９】

【００２６】下記式で示されるイミダゾリニウムベタ
イン型又はスルホベタイン型両性界面活性剤

【化２０】 〔式（XV）中、Ｒ¹⁰，Ｒ¹¹，Ｍ³，Ｍ⁴，Ｇは上記式（XI
II）と同様の意味を示す。〕 このようなイミダゾリニウムベタイン型又はスルホベタ
イン型両性界面活性剤として、下記のものを挙げること
ができる．

【化２１】

【００２７】上記（Ｂ）成分の両性界面活性剤の配合量
は、特に限定されるものではないが、好ましくは、毛髪
洗浄組成物全量に対して、１〜３０％、更に好ましく
は、３〜１５％である。（Ｂ）成分の配合量が１〜３０
％の範囲以外の場合、（Ａ）成分、（Ｃ）成分及び
（Ｄ）成分との相乗効果が発現しにくく、すすぎ時の手
ぐし通りが悪くなる場合があるため、上記範囲で配合す
ることが望ましい。

【００２８】本発明に用いる（Ｃ）成分のカチオン性高
分子としては、Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｎｏｍｅ
ｎｃｌａｔｕｒｅ Ｃｏｓｍｅｔｉｃ Ｉｎｇｒｅｄｉ
ｅｎｔｎａｍｅ（ＩＮＣＩ名称）及び化粧品種別許可基
準の成分名表示で記載されるポリクォータニウム−１、
ポリクオータニウム−２、ポリクォータニウム−３、ポ
リクォータニウム−４、ポリクォータニウム−５、ポリ
クォータニウム−６、ポリクォータニウム−７、ポリク
ォータニウム−８、ポリクォータニウム−９、ポリクォ
ータニウム−１０、ポリクォータニウム−１１、ポリク
ォータニウム−１２、ポリクォータニウム−１３、ポリ
クォータニウム−１４、ポリクォータニウム−１５、ポ
リクォータニウム−１６、ポリクォータニウム−１７、
ポリクォータニウム−１８、ポリクオータニウム−１
９、ポリクオータニウム−２０、ポリクォータニウム−
２２、ポリクォータニウム−２４、ポリクォータニウム
−２７、ポリクォータニウム−２８、ポリクオータニウ
ム−２９、ポリクォータニウム−３０、ポリクォータニ
ウム−３１、ポリクオータニウム−３２、ポリクォータ
ニウム−３３、ポリクオータニウム−３４、ポリクォー
タニウム−３５、ポリクォータニウム−３６、ポリクォ
ータニウム−３７、ポリクォータニウム−３９、ポリク
オータニウム−４２、ポリクオータニウム−４３、ポリ
クォータニウム−４４及びこれらの混合物などが挙げら
れ、また、グアーヒドロキシプロピルトリメチルアンモ
ニウムのハライドも用いることができる。

【００２９】更に具体的に例示すると、ポリクォータニ
ウムー１０（POLYQUATERNIUM-10）、塩化Ｏ−〔２−ヒ
ドロキシー３−（トリメチルアンモニオ）プロピル〕ヒ
ドロキシエチルセルロース中の窒素含有量が０．８〜
１．２％である高分子物質、ポリクォータニウム−２４
（POLYQUATERNIUM-24）、塩化Ｏ−〔２−ヒドロキシー
３−（ラウリルジメチルアンモニオ）プロピル〕ヒドロ
キシエチルセルロース中の窒素含有量が０．６〜１．０
％である高分子物質、塩化Ｏ−〔２−ヒドロキシー３−
（トリメチルアンモニオ）プロピル〕グアーガム中の窒
素含有量が１．３〜１．７％である高分子物質などが挙
げられる。これらのカチオン性高分子は、１種を単独で
又は２種以上を併用してもよく、これらの場合、本発明
の目的を効果的に達成するためにはカチオン性高分子中
の窒素含有量が上記範囲内であることが好ましい。

【００３０】上記（Ｃ）成分のカチオン性高分子の配合
量は、特に限定されるものではないが、好ましくは、毛
髪洗浄組成物全量に対して、０．０１〜２０％、更に好
ましくは、０．１〜５％である。（Ｃ）成分の配合量が
０．０１％未満であると、すすぎ時に手ぐし通りが悪く
なり、一方、２０％を越えると、ぬるつく場合があるの
で、好ましくない。

【００３１】本発明に用いる（Ｄ）成分の上記式〔１〕
で表される単位を含む高分子化合物は、上記式〔１〕で
表される単位を含むベタイン化ジルキルアミノアルキル
（メタ）アクリレートまたはジアルキルアミノアルキル
（メタ）アクリルアミドの両性重合体である。この高分
子化合物としては、例えば、Ｎ−メタクロイルエチル−
Ｎ−Ｎ−ジメチルアンモニウム−ｄ−Ｎ−メチルカルボ
キシベタイン重合体、Ｎ−メタクロイルメチル−Ｎ−Ｎ
−ジメチルアンモニウム−ｄ−Ｎ−メチルカルボキシベ
タイン重合体、Ｎ−メタクロイルプロピル−Ｎ−Ｎ−ジ
メチルアンモニウム−ｄ−Ｎ−メチルカルボキシベタイ
ン重合体、Ｎ−メタクロイルブチル−Ｎ−Ｎ−ジメチル
アンモニウム−ｄ−Ｎ−メチルカルボキシベタイン重合
体などが挙げられ、これらは１種を単独で又は２種以上
を組み合わせて用いることができる。（Ｄ）成分の高分
子化合物の配合量は、特に限定されるものではないが、
好ましくは、毛髪洗浄組成物全量に対して、０．０１〜
２０％、更に好ましくは、０．１〜５％である。（Ｄ）
成分の配合量が０．０１％未満であると、すすぎ時にぬ
るつきがあり、一方、２０％を越えると、手ぐし通りが
悪くなる場合があり、好ましくない。

【００３２】本発明の毛髪洗浄組成物において、上記
（Ａ）成分のアニオン界面活性剤と、上記（Ｂ）成分の
両性界面活性剤と、上記（Ｃ）成分のカチオン性高分子
と、上記（Ｄ）成分の両性高分子とは、上記夫々の配合
量の範囲で配合することが好ましいが、更に、夫々の配
合比を、質量比で（Ａ）：（Ｂ）：（Ｃ）：（Ｄ）が２
４：７１：２．５：２．５〜５５：２７：９：９とする
ことが望ましい。この配合比とすることにより、すすぎ
時の手ぐし通りがなめらかで、かつ、すすぎ時のぬるつ
きのない毛髪洗浄組成物が得られるものとなる。また、
本発明の毛髪洗浄組成物には、上記（Ａ）〜（Ｄ）成分
の他に、毛髪洗浄組成物に通常用いられる配合剤、例え
ば、ノニオン性界面活性剤、油分、アルコール類、保湿
剤、増粘剤、防腐剤、酸化防止剤、キレート剤、ｐＨ調
整剤、香料、色素、紫外線吸収・散乱剤、ビタミン類、
アミノ酸類、乳濁剤、エチレングリコールジステアレー
トなどのパール付与剤、水（イオン交換水、精製水）な
どを配合することができる。なお、任意成分は上記のも
のに限定されるものではない．

【００３３】また、本発明の毛髪洗浄組成物の性状は、
特に限定されるのもではなく、例えば、液体、ペース
ト、固体など、または、ジェル状などが挙げられる。更
に、本発明の洗浄剤組成物は、通常の容器に収容するこ
とができ、例えば、ポンプ容器、チューブ、フォーマー
容器などに収容することができる。フォーマー容器を使
用する場合は、該洗浄剤組成物の粘度は５℃において、
１００ｍPａ・ｓ以下に、更に好ましくは、５０ｍPａ・ｓ
以下に調製することが、泡形成性の点から好ましい。ま
た、フォーマー容器は、ポンプ式でも、スクイーズ式で
も特に限定されないが、内容物を通過させて泡を形成さ
せる多孔質体では１００メッシュ以上、好ましくは２０
０メッシュがよく、その枚数も２枚以上が泡形成性の点
から好ましい。また、本発明の毛髪洗浄組成物を調製す
る装置としては、剪断力と全体混合できる複数の攪拌羽
根、例えば、プロペラ、タービン、ディスパーなどを備
えた攪拌装置が望ましく、特に好ましくは、アジホモミ
キサー、逆流ミキサー、ハイブロッドミキサーなどが望
ましい。

【００３４】上記任意成分において、香料としては、例
えば、脂肪族炭化水素、テルペン炭化水素、芳香族炭化
水素等の炭化水素類、脂肪族アルコール、テルペンアル
コール、脂肪族環状炭化水素類、芳香族アルコール等の
アルコール類、脂肪族エーテル、芳香族エーテル等のエ
ーテル類、脂肪族オキサイド、芳香族オキサイド、テル
ペン系オキサイド、脂肪族環状オキサイド等のオキサイ
ド類、脂肪族アルデヒド、テルペン系アルデヒド、脂肪
族環状アルデヒド、チオアルデヒド、芳香族アルデヒド
等のアルデヒド類、脂肪族ケトン、テルペン系ケトン、
脂肪族環状ケトン、非ベンゼン系芳香族ケトン、芳香族
ケトン等のケトン類、アセタール類、ケタール類、フェ
ノール類、フェノールエーテル類、脂肪酸、テルペン系
カルボン酸、脂肪族環状カルボン酸、芳香族カルボン酸
等の酸類、酸アマイド類、脂肪族ラクトン、大環状ラク
トン、テルペン系ラクトン、脂肪族環状ラクトン、芳香
族ラクトン等のラクトン類、脂肪族エステル、フラン系
カルボン酸エステル、脂肪族環状カルボン酸エステル、
テルペン系カルボン酸エステル、芳香族カルボン酸エス
テル等のエステル類、ニトロムスク類、ニトリル、アミ
ン、ピリジン類、キノリン類、ピロール、インドール等
の含窒素化合物等々の合成香料及び動物、植物からの天
然香料、天然香料及び／又は合成香料を含む調合香料の
１種又は、２種以上を混合し使用することができる。

【００３５】合成香料としては、１９９６年化学工業日
報社刊印藤元一著「合成香料 化学と商品知識」、１９
６９年ＭＯＮＴＣＬＡＩＲ，Ｎ．Ｊ．刊ステファン・ア
ークタンダー（ＳＴＥＦＦＥＮ ＡＲＣＴＡＮＤＥＲ）
著「パヒューム アンド フレーバー ケミカルズ（Ｐ
ｅｒｆｕｍｅ ａｎｄ Ｆｌａｖｏｒ Ｃｈｅｍｉｃａ
ｌｓ）」等に記載の香料が使用できる。天然香料として
は、「香りの百科」日本香料協会編に記載の香料が使用
できる。主な香料名を具体的に挙げると、アルデヒドＣ
6〜Ｃ12、アニスアルデヒド、アセタールＲ、アセトフ
ェノン、アセチルセドレン、アドキサール、アリルアミ
ルグリコレート、アリルシクロヘキサンプロピオネー
ト、α−ダマスコン、β−ダマスコン、δ−ダマスコ
ン、アンブロキサン、アミルシンナミックアルデヒド、
アミルシンナミックアルデヒドジメチルアセタール、ア
ミルバレリアネート、アミルサリシレート、イソアミル
アセテート、イソアミルサリシレート、オウランチオー
ル、アセチルオイゲノール、バクダノール、ベンジルア
セテート、ベンジルアルコール、ベンジルサリシレー
ト、ベルガミールアセテート、ボルニルアセテート、ブ
チルブチレート、ｐ−ｔ−ブチルシクロヘキサノール、
ｐ−ｔ−ブチルシクロヘキシルアセテート、ｏ−ｔ−ブ
チルシクロヘキサノール、ｏ−ｔ−ブチルシクロヘキシ
ルアセテート、ベンズアルデヒド、ベンジルフォーメー
ト、カリオフィレン、カシュメラン、カルボン、セドロ
アンバー、セドリルアセテート、セドロール、セレスト
リッド、シンナミックアルコール、シンナミックアルデ
ヒド、シスジャスモン、シトラール、シトラールジメチ
ルアセタール、シトラサール、シトロネラール、シトロ
ネロール、シトロネリルアセテート、シトロネリルフォ
ーメート、シトロネリルニトリル、シクラセット、シク
ラメンアルデヒド、シクラプロップ、キャロン、クマリ
ン、シンナミルアセテート、δ−Ｃ6〜Ｃ13ラクトン、
ジメチルベンジルカービノール、ジヒドロジャスモン、
ジヒドロリナロール、ジヒドロミルセノール、ジメトー
ル、ジミルセトール、ジフェニルオキサイド、エチルワ
ニリン、オイゲノール、フルイテート、フェンチルアル
コール、フェニルエチルフェニルアセテート、ガラクソ
リド、γ−Ｃ6〜Ｃ13ラクトン、α−ピネン、β−ピネ
ン、リモネン、ミルセン、β−カリオフィレン、ゲラニ
オール、ゲラニルアセテート、ゲラニルフォーメート、
ゲラニルニトリル、ヘディオン、ヘリオナール、ヘリオ
トロピン、ｃｉｓ−３−ヘキセノール、ｃｉｓ−３−ヘ
キセニルアセテート、ｃｉｓ−３−ヘキセニルサリシレ
ート、ヘキシルシンナミックアルデヒド、ヘキシルサリ
シレート、ヒヤシンスジメチルアセタール、ハイドロト
ロピックアルコール、ヒドロキシシトロネラール、イン
ドール、イオノン、イソボルニルアセテート、イソシク
ロシトラール、イソＥスーパー、イソオイゲノール、イ
ソノニルアセテート、イソブチルキノリン、ジャスマー
ル、ジャスモラクトン、ジャスモフィラン、コアボン、
リグストラール、リリアール、ライムオキサイド、リナ
ロール、リナロールオキサイド、リナリルアセテート、
リラール、マンザネート、マイヨール、メンサニールア
セテート、メンソネート、メチルアンスラニレート、メ
チルオイゲノール、メントール、α−メチルイオノン、
β−メチルイオノン、γ−メチルイオノン、メチルイソ
オイゲノール、メチルラベンダーケトン、メチルサリシ
レート、ミューゲアルデヒド、ムゴール、ムスクＴＭ−
II、ムスク７８１、ムスクＣ14、ムスコン、シベトン、
シクロペンタデカノン、シクロヘキサデセノン、シクロ
ペンタデカノリド、アンブレッドリド、シクロヘキサデ
カノリド、１０−オキサヘキサデカノリド、１１−オキ
サヘキサデカノリド、１２−オキサヘキサデカノリド、
エチレンブラシレート、エチレンドデカンジオエート、
オキサヘキサデセン−２−オン、１４−メチル−ヘキサ
デセノリド、１４−メチル−ヘキサデカノリド、ムスク
ケトン、ムスクチベチン、ノピルアルコール、ノピルア
セテート、ネリルアセテート、ネロール、メチルフェニ
ルアセテート、ミラックアルデヒド、ネオベルガメー
ト、オークモスＮｏ．１、オリボン、オキシフェニロ
ン、ｐ−クレジールメチルエーテル、ペンタリッド、フ
ェニルエチルアルコール、フェニルエチルアセテート、
ルバフラン、ダマセノン、ラズベリーケトン、ジメチル
ベンジルカービニルアセテート、ジャスマサイクレン、
メチルナフチルケトン、ローズフェノン、ローズオキサ
イド、サンダロア、サンデラ、サンタレックス、スチラ
リールアセテート、スチラリールプロピオネート、ター
ピネオール、ターピニルアセテート、テトラヒドロリナ
ロール、テトラヒドロリナリルアセテート、テトラヒド
ロゲラニオール、テトラヒドロゲラニルアセテート、ト
ナリッド、トラセオライド、トリプラール、チモール、
ワニリン、ベルドックス、ヤラヤラ、アニス油、ベイ
油、ボアドローズ油、カナンガ油、カルダモン油、カシ
ア油、シダーウッド油、オレンジ油、マンダリン油、タ
ンジェリン油、バジル油、ナツメグ油、シトロネラ油、
クローブ油、コリアンダー油、エレミ油、ユーカリ油、
フェンネル油、ガルバナム油、ゼラニウム油、ヒバ油、
桧油、ジャスミン油、ラバンジン油、ラベンダー油、レ
モン油、レモングラス油、ライム油、ネロリ油、オーク
モス油、オコチア油、パチュリ油、ペパーミント油、ペ
リラ油、プチグレン油、パイン油、ローズ油、ローズマ
リー油、樟脳油、芳油、クラリーセージ油、サンダルウ
ッド油、スペアミント油、スパイクラベンダー油、スタ
ーアニス油、タイム油、トンカ豆チンキ、テレピン油、
ワニラ豆チンキ、ベチバー油、イランイラン油、グレー
プフルーツ油、ゆず油、ベンゾイン、ペルーバルサム、
トルーバルサム、チュベローズ油、アブソリュートオー
クモス、ファーバルサム、ムスクチンキ、カストリウム
チンキ、シベットチンキ、アンバーグリスチンキ等であ
る。また、香料の溶剤又は保留剤としてジエチルフタレ
ート、ジプロピレングリコール、ベンジルベンゾエー
ト、イソプロピルミリステート、ハーコリン、イソペン
タン、オレンジテルペン等を使用することができる。

【００３６】このように構成される本発明の毛髪洗浄組
成物では、上記（Ａ）成分のアニオン界面活性剤と、上
記（Ｂ）成分の両性界面活性剤と、上記（Ｃ）成分のノ
ニオン界面活性剤と、上記（Ｄ）成分の高分子化合物と
を含有することにより、初めてすすぎ時の手ぐし通りが
なめらかで、かつ、すすぎ時のぬるつきのないものであ
り、上記（Ａ）成分〜（Ｄ）成分のいずれか１つ以上が
含有されない場合は本発明の目的の効果を達成できるも
のではない。更に詳しく説明すると、すすぎ時に生じる
複合塩は、上記必須成分の存在下非常に微細になる。従
って、手と毛髪間の摩擦抵抗が極めて低下するために手
ぐし通りがなめらかになり、また、複合塩の物性がやわ
らかく髪への吸着力が弱くなるため、ぬるつきが抑制さ
れる（これらの点については、更に後述する実施例等で
説明する）。本発明の毛髪洗浄組成物は、特に、ヘアシ
ャンプー、リンスインシャンプーなどに調製して好適に
使用することができる。

【００３７】

【実施例】次に、実施例及び比較例により、本発明を具
体的に説明するが、本発明は、下記実施例に限定される
ものではない。なお、以下において「％」は、いずれも
「質量％」である。また、実施例及び比較例に使用した
香料は下記表１の配合組成のものを用いた。

【００３８】（香料配合組成）

【表１】

【００３９】 （実施例１） ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸ナトリウム １０．０％ （平均EO付加モル数：３）*1 ラウリン酸アミドプロピルベタイン*2 ５．０％ Ｎ-メタクリロイルエチル-Ｎ，Ｎ-ジメチルアンモニウム- ０．０５％ α-Ｎ-メチルカルボキシベタイン重合体*3 塩化0-［2-ヒト゛ロキシ-3-(トリメチルアンモニオ)フ゜ロヒ゜ル］ヒト゛ロキシエチルセルロース*4 ０．０ ５％ 加水分解コラーゲン １．０％ 塩化ナトリウム ２．０％ 香 料 ０．５％ ユーカリエキス １．０％ クエン酸 ０．２％ 塩化ナトリウム １．０％ 精製水 残 部 ＊１：アニオン界面活性剤：サンノールDL-1432(ライオン社製) ＊２：両性界面活性剤：エナジコール-L30B(ライオン社製) ＊３：両性高分子：ユカホーマー530（三菱化学社製） ＊４：カチオン性高分子：レオガードGP(ライオン社製)

【００４０】 （実施例２） ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸ナトリウム １０．０％ （平均EO付加モル数：３）*1 ラウリン酸アミドプロピルベタイン*2 １０．０％ Ｎ-メタクリロイルエチル-Ｎ，Ｎ-ジメチルアンモニウム １．０％ -α-Ｎ-メチルカルボキシベタイン重合体*3 塩化ジメチルジアリルアンモニウム・アクリドアミド共重合体*4 ０．０５％ 加水分解コラーゲン １．０％ 塩化ナトリウム ２．０％ 香 料 ０．５％ チンピ ０．５％ エゾウコギエキス １．０％ クエン酸 ０．２％ 塩化ナトリウム １．０％ 精製水 残 部 ＊１：アニオン界面活性剤、サンノールDL-1432(ライオン社製) ＊２：両性界面活性剤、エナジコール-L30B(ライオン社製) ＊３：両性高分子ユカホーマー530（三菱化学社製） ＊４：カチオン性界面活性剤、リポフローMN(ライオン社製)

【００４１】 （実施例３） ポリオキシエチレンアルキルエーテル酢酸ナトリウム １０．０％ （平均EO付加モル数：３）*1 2-アルキル-N-カルボキシメチル-N-ヒドロキシエチル ５．０％ イミダゾリニウム ベタイン*2 Ｎ-メタクリロイルエチル-Ｎ，Ｎ-ジメチルアンモニウム ０．０５％ -α-Ｎ-メチルカルボキシベタイン重合体*3 塩化0-［2-ヒト゛ロキシ-3-(トリメチルアンモニオ)フ゜ロヒ゜ル］ヒト゛ロキシエチルセルロース*4 １．０ ％ カシエキス ０．５％ 香料 １．０％ クエン酸 ０．２％ 安息香酸ナトリウム １．０％ 精製水 残 部 ＊１：アニオン界面活性剤、エナジコール-EC 30(ライオン社製) ＊２：両性界面活性剤、NIRANOL ULTRA C-32（ローヌ・プーラン社製） ＊３：両性高分子、ユカホーマー530（三菱化学社製） ＊４：カチオン性高分子、レオガードLP(ライオン社製)

【００４２】 （実施例４） ポリオキシエチレンアルキルエーテル酢酸ナトリウム １０．０％ （平均EO付加モル数：３）*1 2-アルキル-N-カルボキシメチル-N-ヒドロキシエチル ５．０％ イミダゾリニウムベタイン*2 Ｎ-メタクリロイルエチル-Ｎ，Ｎ-ジメチルアンモニウム １．０％ -α-Ｎ-メチルカルボキシベタイン重合体*3 塩化ジメチルジアリルアンモニウム・アクリドアミド共重合体*4 １．０％ センキュウエキス ０．５％ 香料 １．０％ クエン酸 ０．２％ 安息香酸ナトリウム １．０％ 精製水 残 部 ＊１：アニオン界面活性剤、エナジコール-EC 30(ライオン社製) ＊２：両性界面活性剤、NIRANOL ULTRA C-32（ローヌ・プーラン社製） ＊３：両性高分子、ユカホーマー530（三菱化学社製） ＊４：カチオン性高分子、Merquat 550（Calgon社製）

【００４３】 （実施例５） ヤシ油脂肪酸メチルタウリンナトリウム*1 １０．０％ ラウリルヒドロキシスルホベタイン*2 ５．０％ Ｎ-メタクリロイルエチル-Ｎ，Ｎ-ジメチルアンモニウム １．５％ -α-Ｎ-メチル−カルボキシベタイン重合体*3 塩化0-［2-ヒト゛ロキシ-3-(トリメチルアンモニオ)フ゜ロヒ゜ル］ク゛アーカ゛ム*4 １． ０％ ピリチオン亜鉛水性懸濁液*5 ０．１％ トウキエキス ０．５％ 香料 １．０％ クエン酸 ０．２％ 安息香酸ナトリウム １．０％ 精製水 残 部 ＊１：アニオン界面活性剤、NIKKOL CMT-30（日光ケミカルズ社製） ＊２：両性界面活性剤、オバゾリンAHS-103（東邦化学社製） ＊３：両性高分子、ユカホーマー530（三菱化学社製） ＊４：カチオン性高分子、ジャガーC-14S(ローヌフ゜ーラン社製) ＊５：トミサイドZ-50（吉富製薬製）

【００４４】 （実施例６） ヤシ油脂肪酸メチルタウリンナトリウム*1 １０．０％ ラウリルヒドロキシスルホベタイン*2 ５．０％ Ｎ-メタクリロイルエチル-Ｎ，Ｎ-ジメチルアンモニウム １．０％ -α-Ｎ-メチル カルボキシベタイン重合体*3 塩化0-［2-ヒト゛ロキシ-3-(トリメチルアンモニオ)フ゜ロヒ゜ル］テ゛キストラン*4 １．５ ％ Ｎ-メタクリロイルエチル-Ｎ，Ｎ−ジメチルアンモニウム ０．５％ -α-Ｎ-メチルカルボキシベタイン・ メタクリル酸アルキルエステル共重合体液*5 エチレングリコールジステアレート*6 ２．０％ ボタンエキス ０．５％ 香料 １．０％ クエン酸 ２．０％ 安息香酸ナトリウム １．０％ 精製水 残 部 ＊１：アニオン界面活性剤、NIKKOL CMT-30（日光ケミカルズ社製） ＊２：両性界面活性剤、オバゾリンAHS-103（東邦化学社製） ＊３：両性高分子、ユカホーマー530（三菱化学社製） ＊４：カチオン性高分子、CDC-L(名糖産業社製) ＊５：ユカホーマー202、三菱化学社製 ＊６：アルポール PA(ライオン社製)

【００４５】 （実施例７） Ｎ-ラウロイル-Ｎ-メチル-β-アラニンナトリウム*1 １０．０％ ラウリルジメチルアミノ酢酸ベタイン*2 ５．０％ Ｎ-メタクリロイルエチル-Ｎ，Ｎ-ジメチルアンモニウム ６．０％ -α-Ｎ-メチルカルボキシベタイン重合体*3 塩化0-［2-ヒト゛ロキシ-3-(トリメチルアンモニオ)フ゜ロヒ゜ル］テ゛キストラン*4 １．５％ 色 素 ０．０１％ オキシベンゾン（紫外線吸収剤） ２．０％ ジブチルヒドロキシトルエン ０．２％ 硫酸ナトリウム １．０％ 香 料 ０．３％ 精製水 残 部 ＊１：アニオン界面活性剤、エナジコールL-30AN(ライオン社製) ＊２：両性界面活性剤、レボンLD36(三洋化成社製) ＊３：両性高分子、ユカホーマー530（三菱化学社製） ＊４：カチオン性高分子、CDC(名糖産業社製)

【００４６】 （実施例８） ラウリル硫酸ナトリウム*1 １０．０％ ラウリルジメチルアミノ酢酸ベタイン*2 ５．０％ ヤシ油脂肪酸ジエタノールアミド*3 ３．０％ Ｎ-メタクリロイルエチル-Ｎ，Ｎ-ジメチルアンモニウム １．５％ -α-Ｎ-メチルカルボキシベタイン重合体*4 塩化0-［2-ヒト゛ロキシ-3-(トリメチルアンモニオ)フ゜ロヒ゜ル］テ゛キストラン*5 ６．０％ 色 素 ０．０１％ オキシベンゾン（紫外線吸収剤） ２．０％ ジブチルヒドロキシトルエン ０．２％ 塩化ナトリウム １．０％ リンゴポリフェノール ０．２％ 香 料 ０．３％ 精製水 残 部 ＊１：アニオン界面活性剤、サンノールLM-1130(ライオン社製) ＊２：両性界面活性剤、レボンLD36(三洋化成社製) ＊３：ノニオン界面活性剤、ホームリードCD(ライオン社製) ＊４：両性高分子、ユカホーマー530（三菱化学社製） ＊５：カチオン性高分子、CDC-H(名糖産業社製)

【００４７】 （実施例９） Ｎ-アシル-Ｎ-グルタミン酸トリエタノールアミン*1 １０．０％ ラウリン酸アミドプロピルベタイン*2 ２．０％ Ｎ-メタクリロイルエチル-Ｎ，Ｎ-ジメチルアンモニウム ０．５％ -α-Ｎ-メチルカルボキシベタイン重合体*3 塩化0-［2-ヒト゛ロキシ-3-(トリメチルアンモニオ)フ゜ロヒ゜ル］フ゜ルラン*4 ０．５％ (原料フ゜ルラン分子量;約20万、窒素分;約2.6%) ジブチルヒドロキシトルエン ０．５％ 色 素 ０．５％ 香 料 １．０％ クエン酸 ０．２％ 安息香酸ナトリウム １．０％ 精製水 残 部 ＊１：アニオン界面活性剤、アミソフトCT12S(味の素社製) ＊２：両性界面活性剤、エナジコール-L30B(ライオン社製) ＊３：両性高分子、ユカホーマー530（三菱化学社製） ＊４：カチオン性高分子

【００４８】 （実施例１０） ラウリン酸カリウム*1 １０．０％ Ｎ-ヤシ油脂肪酸アシル-Ｎ-カルボキシエチル ５．０％ -Ｎ-ヒドロキシエチルエチレンジアミンナトリウム*2 Ｎ-メタクリロイルエチル-Ｎ，Ｎ-ジメチルアンモニウム ０．５％ -α-Ｎ-メチル カルボキシベタイン重合体*3 塩化0-［2-ヒト゛ロキシ-3-(トリメチルアンモニオ)フ゜ロヒ゜ル］フ゜ルラン*4 １．５％ (原料フ゜ルラン分子量;約20万、窒素分;約1.5%) シラカバ樹液 ０．１％ イギスエキス ０．５％ 香 料 ０．５％ クエン酸 ０．３％ 安息香酸ナトリウム ０．８％ 塩化ナトリウム １．０％ 精製水 残 部 ＊１：アニオン界面活性剤、ノンサールLK-2（日本油脂社製） ＊２：両性界面活性剤、エナジコールCNS（ライオン社製） ＊３：両性高分子、プラスサイズ４０１（互応化学社製） ＊４：カチオン性高分子

【００４９】 （比較例１） ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸ナトリウム １０．０％ （平均EO付加モル数：３）*1 ラウリル硫酸ナトリウム：2 ３．０％ Ｎ-メタクリロイルエチル-Ｎ，Ｎ-ジメチルアンモニウム １．０％ -α-Ｎ-メチルカルボキシベタイン重合体*3 塩化0-［2-ヒト゛ロキシ-3-(トリメチルアンモニオ)フ゜ロヒ゜ル］ヒト゛ロキシエチルセルロース*4 １．０％ 加水分解コラーゲン １．０％ 塩化ナトリウム ２．０％ 香 料 ０．５％ ユーカリエキス １．０％ クエン酸 ０．２％ 塩化ナトリウム １．０％ 精製水 残 部 ＊１：アニオン界面活性剤、サンノールDL-1432(ライオン社製) ＊２：アニオン界面活性剤、サンノールLM-1130(ライオン社製) ＊３：両性高分子、ユカホーマー530（三菱化学社製） ＊４：カチオン性高分子、レオガードGP(ライオン社製)

【００５０】 （比較例２） ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸ナトリウム １０．０％ （平均EO付加モル数：３）*1 Ｎ-ラウロイル-Ｎ-メチル-β-アラニンナトリウム*2 ５．０％ 塩化ジメチルジアリルアンモニウム・アクリドアミド共重合体*3 １．０％ 加水分解コラーゲン １．０％ 塩化ナトリウム ２．０％ 香 料 ０．５％ チンピ ０．５％ エゾウコギエキス １．０％ クエン酸 ０．２％ 塩化ナトリウム １．０％ 精製水 残 部 ＊１：アニオン界面活性剤、サンノールDL-1432(ライオン社製) ＊２：アニオン界面活性剤、エナジコールL-30AN(ライオン社製) ＊３：カチオン界面活性剤、リポフローMN(ライオン社製)

【００５１】 （比較例３） ポリオキシエチレンアルキルエーテル酢酸ナトリウム １０．０％ （平均EO付加モル数：３）*1 Ｎ-ラウロイル-Ｎ-メチル-β-アラニンナトリウム*2 ５．０％ Ｎ-メタクリロイルエチル-Ｎ，Ｎ-ジメチルアンモニウム １．０％ -α-Ｎ-メチル カルボキシベタイン重合体*3 カシエキス ０．５％ 香料 １．０％ クエン酸 ０．２％ 安息香酸ナトリウム １．０％ 精製水 残 部 ＊１：アニオン界面活性剤、エナジコール-EC 30(ライオン社製) ＊２：アニオン界面活性剤、エナジコールL-30AN(ライオン社製) ＊３：両性性高分子、ユカホーマー530（三菱化学社製）

【００５２】 （比較例４） ポリオキシエチレンアルキルエーテル酢酸ナトリウム １０．０％ （平均EO付加モル数：３）*1 2-アルキル-N-カルボキシメチル-N-ヒドロキシエチル ５．０％ イミダゾリニウム ベタイン*2 塩化ジメチルジアリルアンモニウム・アクリドアミド共重合体*3 １．０％ センキュウエキス ０．５％ 香料 １．０％ クエン酸 ０．２％ 安息香酸ナトリウム １．０％ 精製水 残 部 ＊１：アニオン界面活性剤、エナジコール-EC 30(ライオン社製) ＊２：両性界面活性剤、NIRANOL ULTRA C-32（ローヌ・プーラン社製） ＊３：カチオン性高分子、Merquat 550（Calgon社製）

【００５３】 （比較例５） ヤシ油脂肪酸メチルタウリンナトリウム*1 １０．０％ ラウリルヒドロキシスルホベタイン*2 ５．０％ Ｎ-メタクリロイルエチル-Ｎ，Ｎ-ジメチルアンモニウム ０．５％ -α-Ｎ-メチル カルボキシベタイン重合体*3 ピリチオン亜鉛水性懸濁液*4 ０．１％ トウキエキス ０．５％ 香料 １．０％ クエン酸 １．０％ 安息香酸ナトリウム １．０％ 精製水 残 部 ＊１：アニオン界面活性剤、NIKKOL CMT-30（日光ケミカルズ社製） ＊２：両性界面活性剤、オバゾリンAHS-103（東邦化学社製） ＊３：両性高分子、ユカホーマー530（三菱化学社製） ＊４：トミサイドZ-50（吉富製薬製）

【００５４】 （比較例６） ヤシ油脂肪酸メチルタウリンナトリウム*1 １０．０％ ラウリルヒドロキシスルホベタイン*2 ５．０％ グリシン ０．５％ ボタンエキス ０．１％ 香料 ０．５％ クエン酸 ２．０％ 安息香酸ナトリウム １．０％ 精製水 残 部 ＊１：アニオン界面活性剤、NIKKOL CMT-30（日光ケミカルズ社製） ＊２：両性界面活性剤、オバゾリンAHS-103（東邦化学社製）

【００５５】得られた各毛髪洗浄組成物について、すす
ぎ時の手ぐし通りのなめらかさ、並びに、ぬるつきのな
さについて、下記の評価方法にて評価を行った。これら
の結果を下記表２に示す。

【００５６】（すすぎ時の手ぐし通りのなめらかさの評
価方法）専門パネラー２０人が各毛髪洗浄組成物で洗髪
し、すすぎ時の手ぐし通りのなめらかさを下記基準にて
評価した。 評価基準： ◎：非常に手ぐし通りがなめらか ○：やや手ぐし通りがなめらか △：やや手ぐし通りがなめらかでない ×：手ぐし通りが非常になめらかでない

【００５７】（すすぎ時のぬるつきのなさの評価方法）
専門パネラー２０人が各毛髪洗浄組成物で洗髪し、すす
ぎ時のぬるつきのなさを下記基準にて評価した。 評価基準： ◎：ぬるつきが全く感じられない ○：ぬるつきがほとんど感じられない △：ぬるつきがやや感じられる ×：ぬるつきが強く感じられる

【００５８】

【表２】

【００５９】上記表２の結果から明らかなように、本発
明範囲、すなわち、（Ａ）成分のアニオン界面活性剤、
（Ｂ）成分の両性界面活性剤、（Ｃ）成分のカチオン性
高分子及び（Ｄ）成分の高分子化合物を含有する実施例
１〜１０は、すすぎ時の手ぐし通りがなめらかであり、
かつ、すすぎ時のぬるつきも感じられないという優れた
毛髪洗浄組成物となることが判明した。これに対し、本
発明の範囲外となる比較例１〜６を見ると、（Ａ）〜
（Ｄ）成分において、（Ｂ）成分の両性界面活性剤を含
有しない比較例１では、すすぎ時の手ぐし通りのなめら
かさを満足することができず、（Ｂ）成分の両性界面活
性剤及び（Ｄ）成分の高分子化合物を含有しない比較例
２、（Ｂ）成分の両性界面活性剤及び（Ｃ）成分のカチ
オン性高分子を含有しない比較例３、（Ｃ）成分のカチ
オン性高分子を含有しない比較例５、並びに、（Ｃ）成
分のカチオン性高分子及び（Ｄ）成分の高分子化合物を
含有しない比較例６では、すすぎ時の手ぐし通りがなめ
らかさ及びすすぎ時のぬるつきのなさの両者を満足する
ことができず、（Ｄ）成分の高分子化合物を含有しない
比較例４では、すすぎ時のぬるつきが強く感じられもの
であることが判った。従って、（Ａ）成分のアニオン界
面活性剤、（Ｂ）成分の両性界面活性剤、（Ｃ）成分の
カチオン性高分子及び（Ｄ）成分の高分子化合物を含有
する毛髪洗浄組成物とすることにより、初めてすすぎ時
の手ぐし通りがなめらかで、かつ、すすぎ時のぬるつき
もないものとなり、当該（Ａ）成分〜（Ｄ）成分のいず
れか１つ以上を含有しない毛髪洗浄組成物では、すすぎ
時の手ぐし通りがなめらかさ及びすすぎ時のぬるつきの
なさの両者を満足することができないことが判明した。

【００６０】

【発明の効果】本発明によれば、すすぎ時の手ぐし通り
がなめらかで、かつ、すすぎ時のぬるつきもない優れた
毛髪洗浄組成物が提供される。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大山 展広 東京都墨田区本所１丁目３番７号 ライオ ン株式会社内 (72)発明者 鈴木 博 東京都墨田区本所１丁目３番７号 ライオ ン株式会社内 (72)発明者 小林 秀 東京都墨田区本所１丁目３番７号 ライオ ン株式会社内 Ｆターム(参考） 4C083 AA112 AB332 AC182 AC212 AC242 AC302 AC312 AC392 AC472 AC532 AC642 AC662 AC712 AC782 AC792 AC932 AD092 AD131 AD132 AD282 AD432 BB05 BB07 BB34 CC38 DD23 EE06 EE07

Claims (1)

【特許請求の範囲 】
1. 【請求項１】 （Ａ）アニオン界面活性剤と、（Ｂ）両
   性界面活性剤と、（Ｃ）カチオン性高分子と、（Ｄ）下
   記〔１〕で表される単位を含む高分子化合物とを含有す
   ることを特徴とする毛髪洗浄組成物。 【化１】