JP2001176021A - 磁気ヘッド、磁気ヘッド製造方法、および情報記録装置 - Google Patents

磁気ヘッド、磁気ヘッド製造方法、および情報記録装置

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JP2001176021A JP35117299A JP35117299A JP2001176021A JP 2001176021 A JP2001176021 A JP 2001176021A JP 35117299 A JP35117299 A JP 35117299A JP 35117299 A JP35117299 A JP 35117299A JP 2001176021 A JP2001176021 A JP 2001176021A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 優れたオーバライト特性を有すると同時に記
録にじみの小さい磁気ヘッドを提供する。 【解決手段】 相対的に移動する磁気ディスク103に
近接して配置され、その磁気ディスクへの近接点におけ
る相対移動方向Aに所定の間隔離れて対向する下部副磁
極1および上部副磁極5を備え、これらの磁極どうしの
間に漏れ出す磁界により磁気ディスクを磁化する磁気ヘ
ッドであって、それらの磁極に挟まれた位置に、それら
の磁極どうしの対向を遮る方向に広がる軟磁性膜3とそ
の軟磁性膜を支持するように挟む第1の非磁性膜2およ
び第2の非磁性膜4を備えた。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁界を発生して外
部の媒体を磁化する磁気ヘッド、磁気ヘッドを製造する
磁気ヘッド製造方法、および媒体に情報を記録する情報
記録装置に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、コンピュータの普及に伴って、日
常的に多量の情報が取り扱われるようになっており、こ
のような多量の情報を記録する情報記録装置の1つとし
て、ハードディスク装置(HDD:Hard Disk
Drive)が使用されている。HDDは、通常、情
報が記録されるディスク状の媒体である磁気ディスク、
およびこの磁気ディスクに情報を記録する記録ヘッドを
有する。
【0003】磁気ディスクは、表面が強磁性材料からな
る強磁性層を有し、その強磁性層の各微小領域でそれぞ
れ独立して磁化を保持するものであり、またHDD内部
で高速に回転させられる。記録ヘッドは、微小な記録コ
イルと一対の磁極とを有するものであり、通常、そのよ
うに高速に回転する磁気ディスクに近接して配置され
る。この一対の磁極は、磁気ディスクのトラックの延び
る方向に所定の間隔(ギャップ長)で互いに対向してお
り、トラック幅方向にそのトラック幅相当の所定の幅を
有する。上記記録コイルに信号電流が流されると、この
記録コイルからその信号電流に応じて磁界が発生し、そ
の磁界は上記一対の磁極から外部に漏れ出て、上記磁気
ディスクの表面の各トラックの磁化を、上記ギャップ長
に応じた微小な長さ単位で適宜反転させる。このような
磁化の反転によって、情報が各微小領域における磁化の
方向として記録される。
【0004】磁気ディスクにおける各微小領域のこのよ
うに方向付けられた磁化を保持するために、磁気ディス
ク表面の強磁性層は、所定の大きさ以上の保磁力Hc
有するものである必要がある。一方、この磁気ディスク
に情報を記録する記録ヘッドは、磁気ディスクの各磁化
を反転させるために、その磁気ディスクに、その強磁性
層中での磁界(ヘッド磁界Hh)が磁気ディスクの保磁
力Hcより強くなるような磁界を印加するものでなくて
はならない。
【0005】この記録ヘッドから発生する磁界は、通
常、記録対象となっているトラックの外側にも漏れ出て
しまい、このように漏れ出た磁界は、そのトラックの外
側の磁化の方向および大きさに影響を及ぼす。一般に、
磁化の反転が起こる下限の磁界強度は磁気ディスクの保
磁力Hcの1/2と考えられており、上述したように記
録対象となっているトラックの外側に漏れ出た磁界の強
度が、保磁力Hcの1/2以上となる範囲では、そのト
ラックの外側においても磁化が反転する記録にじみが生
じうる。なお、記録にじみは、この範囲のうちの片側の
範囲の、トラック幅方向への広がりによって大きさが定
義される。この記録にじみは、一般にトラック幅が小さ
くなるほどトラック幅に対して相対的に大きくなるた
め、磁気ディスクに情報を高記録密度で記録するための
障害となる。この記録にじみを低減させるためには、上
記ギャップ長を減少させる方法があり、この方法によっ
て記録対象となるトラックの外側への磁界の漏出が抑制
される。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかし、ギャップ長を
減少させると、記録対象となる各トラックにおける記録
ヘッドによる磁化の反転が、そのギャップ長に応じた、
トラック方向の狭い範囲で行われることになる。そし
て、その範囲が狭いほど、そのように反転した磁化の反
磁界が増大するため、記録ヘッドから発生する磁界の強
度がこの反磁界によって弱められる。このように磁界の
強度が弱められると、磁化が反転した領域の境界である
磁化転移点のシフト(ハードトランジションシフト:H
TS)が生じ、実際に磁化が反転される範囲(記録磁界
が媒体Hcを超えている範囲)が狭まるため、記録ヘッ
ドによる磁気ディスクへの情報の記録のオーバライト特
性、すなわち、この磁気ディスクに情報を上書きした場
合になお残留している上書き前の情報の再生出力に対す
る新たに記録された情報の再生出力の大きさの比が悪化
する。このように、従来の記録ヘッドでは、小さな記録
にじみと優れたオーバライト特性の双方を両立させるこ
とが困難となっている。
【0007】本発明は、上記事情に鑑み、優れたオーバ
ライト特性を有すると同時に記録にじみの小さい磁気ヘ
ッド、そのような磁気ヘッドを製造する磁気ヘッド製造
方法、および優れたオーバライト特性を有すると同時に
記録にじみの小さい情報記録装置を提供することを目的
とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成する本発
明の磁気ヘッドは、相対的に移動する記録媒体に近接あ
るいは接触して配置され、その記録媒体への近接点ある
いは接触点における相対移動方向に所定の間隔離れて対
向する一対の磁極を備え、これらの磁極どうしの間に磁
界を発生させることによりその記録媒体を磁化する磁気
ヘッドであって、上記一対の磁極に挟まれた位置に、そ
の一対の磁極どうしの対向を遮る方向に広がる軟磁性膜
とその軟磁性膜を支持する非磁性膜とが交互に積層され
てなることを特徴とする。
【0009】一般に、磁気ヘッドには、磁気ヘッドを構
成する一対の磁極のうちのいずれか一方あるいは双方
に、この一対の磁極どうしが対向する側に副磁極を有
し、その一対の磁極どうしの間に発生する磁界の空間分
布がその副磁極によってその副磁極の形状や大きさや材
質等に応じて制御されるものがある。本発明の磁気ヘッ
ド、後述する本発明の磁気ヘッド製造方法にいう磁気ヘ
ッド、および同じく後述する本発明の情報記録装置にい
う磁気ヘッドがこのような副磁極を有するものである場
合には、本発明にいう磁極はこの副磁極のことをいう。
【0010】一般に、磁気ヘッドは、一対の磁極どうし
の間に所定の間隔が広がるとHTSが小さく抑えられて
オーバライト特性が向上する。また、上記軟磁性膜は、
上記一対の磁極どうしの間に発生した磁界によって磁化
されて磁束を引き寄せるものであるため、その一対の磁
極どうしの間の間隔が広い場合にも、この軟磁性膜によ
って、上記相対移動方向に垂直な、上記記録媒体に沿う
方向の、すなわちいわゆるトラック幅方向の記録にじみ
が小さく抑えられる。このため、本発明の磁気ヘッド
は、上記一対の磁極どうしの間に所定の間隔が確保され
ると、小さな記録にじみと優れたオーバライト特性とが
両立した磁気ヘッドとなる。
【0011】上記本発明の磁気ヘッドは、上記軟磁性膜
が、上記記録媒体に垂直な方向に関し、上記一対の磁極
それぞれのその垂直な方向の長さより短い長さを有する
ものであることが好ましい。
【0012】以下では、軟磁性膜や一対の磁極それぞれ
の、磁気ヘッドが近接あるいは接触して配置された記録
媒体の面に垂直な方向の長さを高さと称する。
【0013】一般に、磁気ヘッドは、その磁気ヘッドに
備わる一対の磁極の高さによって、その一対の磁極の間
に発生する磁界の分布が調整される。しかし、この好ま
しい磁気ヘッドでは、磁極の高さを変えることなく、こ
の軟磁性膜の高さを変えるだけで、上記一対の磁極の間
に発生する磁界の分布が容易に調整される。
【0014】また、上記本発明の磁気ヘッドは、上記軟
磁性膜が、0.075μm以下の厚さを有するものであ
ることが好ましい。
【0015】上記本発明の磁気ヘッドは、上記軟磁性膜
を有するものであるため、ヘッド磁界Hhがこの軟磁性
膜直下において減少し極小値をとる。なお、ヘッド磁界
hは、一般に、磁気ヘッドから発生した磁界の、記録
媒体の強磁性層における厚さ方向の中央部分での強さを
いう。
【0016】この軟磁性膜が0.075μm以下の厚さ
を有する磁気ヘッドでは、その軟磁性膜が存在すること
によるヘッド磁界Hhの減少が小さく、後に実施形態で
述べるように、そのヘッド磁界Hhの軟磁性膜直下にお
ける極小値が、現在一般に使用されている磁気ディスク
の保磁力Hcと考えられる240kA/m以上の強さと
なるため、良好なオーバライト特性が得られる。
【0017】また、上記本発明の磁気ヘッドは、上記一
対の磁極のうち、相対的に移動する記録媒体の移動方向
下流側に位置する磁極に隣接する非磁性膜が、0.2μ
m以下の膜厚を有するものであることが好ましい。
【0018】非磁性膜の膜厚が0.2μm以下になる
と、後に実施形態で述べるように、磁気ヘッドの記録に
じみが急減する。
【0019】また、上記本発明の磁気ヘッドは、上記軟
磁性膜が、上記相対移動方向に垂直な、上記記録媒体に
沿う幅方向について、上記一対の磁極のその幅方向の寸
法よりも小さい寸法を有するものであることが好まし
い。
【0020】軟磁性膜の、この幅方向の寸法が、上記一
対の磁極のその幅方向の寸法より大きい場合よりも、上
記一対の磁極のその幅方向の寸法よりも小さい場合の方
が、一般に記録にじみが小さい。
【0021】また、上記本発明の磁気ヘッドは、上記軟
磁性膜が、上記一対の磁極のうち、相対的に移動する記
録媒体の移動方向下流側に位置する磁極の飽和磁束密度
以下であり、かつその記録媒体の移動方向上流側に位置
する磁極の飽和磁束密度以上である飽和磁束密度を有す
ることが好ましい。
【0022】上記軟磁性膜は、上記上流側に位置する磁
極(下部磁極)よりも大きな飽和磁束密度を持つもので
あることにより磁気的に飽和しにくくなるため、そのよ
うな飽和による記録にじみの増大が抑えられる。但し、
この軟磁性膜は、上記下流側に位置する磁極(上部磁
極)と上記トラック幅方向の寸法が同程度である場合に
は、この上部磁極以上に磁束が通ることはないので上部
磁極の飽和磁束密度より大きい飽和磁束密度を持つ必要
はない。このように、飽和磁束密度に関する上述した条
件を満たす磁気ヘッドは、効率よくヘッド磁界を強め、
記録にじみの広がりを抑えることができる。
【0023】上記目的を達成する本発明の磁気ヘッド製
造方法は、相対的に移動する記録媒体に近接あるいは接
触して配置され、その記録媒体への近接点あるいは接触
点における相対移動方向に所定の間隔離れて対向する一
対の磁極を備え、これらの磁極どうしの間に磁界を発生
させることによりその記録媒体を磁化する磁気ヘッドを
製造する磁気ヘッド製造方法であって、上記一対の磁極
のうちの一方の磁極が形成される薄膜上に、軟磁性膜と
その軟磁性膜を支持する非磁性膜とが交互に積層されて
なる積層膜を成膜する積層膜成膜工程と、上記積層膜成
膜工程によって成膜されてなる積層膜の表面上に、レジ
ストパターニングにより上記所定の幅にトリミングされ
てなる、上記一対の磁極のうちの他方の磁極を形成する
磁極形成工程と、上記積層膜成膜工程によって成膜され
た積層膜および上記磁極形成工程によって形成された上
記他の1つの磁極にイオンミリングを施すことにより、
その磁極をマスクとしてその積層膜を上記所定の幅にト
リミングするトリミング工程とを有することを特徴とす
る。
【0024】この磁気ヘッド製造方法によって、上記本
発明の磁気ヘッドに相当する磁気ヘッドが、軟磁性膜の
トリミングも含めて容易に製造される。
【0025】上記目的を達成する本発明の情報記録装置
は、表面の各点で磁化を担持する相対的に移動する記録
媒体に近接あるいは接触して配置され、その記録媒体の
磁化の方向を反転させる磁気ヘッドを備え、その磁化の
方向の反転によってその記録媒体の各点に情報を記録す
る情報記録装置であって、上記磁気ヘッドが、上記記録
媒体への近接点あるいは接触点における相対移動方向に
所定の間隔離れて対向する一対の磁極を備え、これらの
磁極どうしの間に磁界を発生させることによりその記録
媒体を磁化する磁気ヘッドであり、上記一対の磁極に挟
まれた位置に、その一対の磁極どうしの対向を遮る方向
に広がる軟磁性膜とその軟磁性膜を支持する非磁性膜と
が交互に積層されてなることを特徴とする。
【0026】この情報記録装置は、磁気ヘッドが上記本
発明の磁気ヘッドと同じ構成を有し、同じ作用効果を奏
するので、高い記録密度での記録においても、良好なオ
ーバライト特性を示す。
【0027】また、この情報記録装置は、磁気ヘッドと
して、上述した様々な磁気ヘッドそれぞれが採用された
ものであってもよく、その場合には、この情報記録装置
は、採用されたそれらの様々な磁気ヘッドそれぞれと同
じ作用効果を奏し、やはり、高い記録密度での記録にお
いても、良好なオーバライト特性を示す。
【0028】上記本発明の情報記録装置は、上記磁気ヘ
ッドによって上記一対の磁極どうしの間に発生された磁
界が、上記記録媒体の表面の上記軟磁性膜への近接点あ
るいは接触点においてその記録媒体の保磁力以上の磁界
となるように、上記軟磁性膜の厚さが調整されてなるも
のであることが好ましい。
【0029】この情報記録装置の磁気ヘッドは、上記本
発明の磁気薄膜ヘッドと同様に、上記軟磁性膜を有する
ことにより、ヘッド磁界Hhがこの軟磁性膜直下におい
て減少し極小値をとる。この軟磁性膜の厚さが減少する
とその軟磁性膜の存在に起因するヘッド磁界Hhの減少
が小さくなるため、後に実施形態で述べるように、軟磁
性膜直下におけるヘッド磁界Hhの極小値が増大する。
このため、軟磁性膜直下におけるヘッド磁界Hhが上記
記録媒体の保磁力Hc以上となるように軟磁性膜の厚さ
が調整されることによって、この軟磁性膜直下における
磁化反転が容易となり、この情報記録装置は良好なオー
バライト特性を示すようになる。
【0030】
【発明の実施形態】以下、本発明の実施形態について説
明する。
【0031】[ハードディスクドライブ]図1は、本発
明に係るハードディスクドライブの一実施形態を示す図
である。
【0032】同図に示すハードディスクドライブ(HD
D)100は、本発明の情報記録装置に相当するもので
ある。同図に示すHDD100のハウジング101に
は、回転軸102、回転軸102に装着される磁気ディ
スク103、磁気ディスク103に対向する浮上ヘッド
スライダ104、アーム軸105、浮上ヘッドスライダ
104を先端に固着してアーム軸105を中心に磁気デ
ィスク103上を水平移動するキャリッジアーム10
6、およびキャリッジアーム106の水平移動を駆動す
るアクチュエータ107が収容される。
【0033】磁気ディスクへの情報の記録および磁気デ
ィスク103に記憶された情報の再生にあたっては、磁
気回路で構成されたアクチュエータ107によってキャ
リッジアーム106が駆動され、浮上ヘッドスライダ1
04が回転する磁気ディスク103上の所望のトラック
に位置決めされる。浮上ヘッドスライダ104には、図
1には図示しない、再生ヘッドと本発明にいう磁気ヘッ
ドに相当する記録ヘッドとからなる複合型磁気ヘッドが
設置されている。この複合型磁気ヘッドは、磁気ディス
ク103の回転によって、磁気ディスク103の各トラ
ックに並ぶ各微小領域に順次近接する。情報の記録時に
は、このように磁気ディスク103に近接した複合型磁
気ヘッドには電気的な記録信号が入力され、記録ヘッド
により、その記録信号に応じてそれらの各微小領域に磁
界が印加されて、その記録信号に担持された情報がそれ
らの各微小領域の磁化の方向として記録される。また、
情報の再生時には、再生ヘッドによって、それらの各微
小領域の磁化の方向として記録された情報が、それらの
磁化それぞれから発生する磁界に応じて生成される電気
的な再生信号として取り出される。ハウジング101の
内部空間は、図示しないカバーによって閉鎖される。
【0034】[磁気ヘッド]図2は、本実施形態のHD
Dに用いられた複合型磁気ヘッドの上面図であり、図3
は、本実施形態のHDDに用いられた複合型磁気ヘッド
の側断面図であり、図4は、本実施形態のHDDに用い
られた複合型磁気ヘッドの浮上面図(正面図)である。
ここで、浮上面とは、複合型磁気ヘッドの、磁気ディス
クに対向する面をいう。
【0035】図2〜図4に示す複合型磁気ヘッド30
は、上記HDD100内では、図2〜図4には図示しな
い磁気ディスク103に近接して位置決めされている。
図2、図3では、これらの図に示される複合型磁気ヘッ
ド30は、同図左側に示される浮上面fで磁気ディスク
103に面している。図4は複合型磁気ヘッドの浮上面
図であるので、同図に示される複合型磁気ヘッド30
は、同図正面部分で磁気ディスク103に面している。
【0036】図2〜図4において示されるように、複合
型磁気ヘッド30は、大別して再生ヘッド10と記録ヘ
ッド20から構成されており、再生ヘッド10の背部に
記録ヘッド20が付加された構造となっている。
【0037】再生ヘッド10は、磁気抵抗効果素子や電
極などを含み磁気ディスク103からの磁界を受けてそ
の磁界に応じた再生信号を生成する素子部11と、この
素子部11の膜厚方向の両側から挟むようにように配置
された、軟磁性材料からなる再生下部シールド12およ
び再生上部シールド21とを有する。
【0038】また、記録ヘッド20は、再生ヘッド10
の再生上部シールド21を兼ねた下部磁極21と、この
下部磁極21上に形成された、Al23(アルミナ)か
らなる第1の絶縁層22と、この第1の絶縁層22上に
形成された、Cuからなる記録コイル23と、上記下部
磁極21およびこの記録コイル23上に形成されて、こ
の記録コイル23を覆うレジストからなる第2の絶縁層
24と、同じく下部磁極21上に、浮上面f近傍部分に
おいて形成された、下部副磁極1、第1の非磁性膜2、
軟磁性膜3、第2の非磁性膜4、上部副磁極5が順に積
層された主要積層膜と、その主要積層膜上、また上記第
2の絶縁層24上、さらに図2中央付近の記録コイル2
3の中心部分では上記下部磁極21上に積層するように
形成されてなる上部磁極25とを有する。
【0039】なお、上記第1の絶縁層22は、アルミナ
からなるものに限らず、アルミナ以外の非磁性の絶縁材
料からなるものであってもよい。また、上記第2の絶縁
層24は、レジストからなるものに限らず、レジスト以
外の非磁性の絶縁材料からなるものであってもよい。
【0040】上部磁極25と下部磁極21は、図3に示
すように、記録コイル23の中心部分を通って記録コイ
ル23の回りを1周する磁気回路を形成している。この
記録コイル23から発生した磁界は、上記上部磁極25
および上記下部磁極21中を通り、上記磁気ディスク1
03に面した、上記下部磁極21と上部磁極25とが対
向する部分付近、正確には後述する下部副磁極1および
上部副磁極5から外部に漏れ出す。この外部に漏れ出し
た磁界によって、上述した磁気ディスク103の各微小
領域の磁化が反転される。
【0041】次に、上記記録ヘッド20の主要部を構成
する主要積層膜について説明する。
【0042】図5は、図3に示す複合型磁気ヘッドにお
ける記録ヘッドの主要部の側断面図であり、図6は、図
4に示す複合型磁気ヘッドにおける記録ヘッドの主要部
の浮上面図である。
【0043】図5では、図3に示す記録ヘッド20の、
同図左側の点線で囲まれた主要部Pが拡大されて示さ
れ、また、記録ヘッド20が、図5に示される記録ヘッ
ド20の浮上面fで磁気ディスク103に面する様子が
示される。また、図6では、図4に示される記録ヘッド
20の、点線で囲まれた主要部Pが拡大されて示され、
その記録ヘッド20は、同図正面で同図には図示しない
磁気ディスク103に面している。
【0044】図5、図6には、下部磁極21と、この下
部磁極21上に積層された下部副磁極1、この下部副磁
極1上に積層された第1の非磁性膜2、この第1の非磁
性膜2上に積層された軟磁性膜3、この軟磁性膜3上に
積層された第2の非磁性膜4、およびこの非磁性膜4上
に積層された上部副磁極5からなる主要積層膜と、その
主要積層膜上に積層された上部磁極25とが示される。
本実施形態では、これらの下部副磁極1および上部副磁
極5それぞれが、本発明にいう磁極に相当する。
【0045】下部磁極21および上部磁極25は、Ni
50Fe50(at%)からなる厚さ3μmの磁極である。
また、上記主要積層膜は、下部副磁極1が、Ni50Fe
50からなる厚さ1μmの磁極であり、第1の非磁性膜2
が、アルミナからなる厚さ0.1μmの膜であり、軟磁
性膜3が、Ni50Fe50からなる厚さ0.05μmの膜
であり、第2の非磁性膜4が、アルミナからなる厚さ
0.2μmの膜であり、上部副磁極5が、Ni50Fe50
からなる厚さ2μmの磁極である。
【0046】なお、これらの厚さは一例であって、下部
磁極21および上部磁極25、並びに上記主要積層膜を
構成する、各副磁極、各非磁性膜、および軟磁性膜3
の、それぞれの厚さは、上述した厚さに限られるもので
はない。
【0047】また、上述した、下部磁極21、上部磁極
25、下部副磁極1、上部副磁極5、および軟磁性膜3
それぞれは、Ni50Fe50のみならず、Ni80Fe
20(at%)、CoNiFe、FeZrN等の軟磁性材
料からなるものであってもよく、また、Ni50Fe50
含めてこれらの軟磁性材料を複数層積層してなる膜であ
ってもよい。また、上記第1の非磁性膜2および上記第
2の非磁性膜4は、アルミナのみならず、アルミナ以外
の非磁性材料からなるものであってもよい。
【0048】この主要積層膜は、膜が長方形にトリミン
グされており、この記録ヘッドの浮上面fに近接する部
分での、磁気ディスク103のトラック幅方向、すなわ
ち図6の浮上面図で見てこの主要積層膜の広がる方向に
0.5μmのコア幅wを有し、高さ方向、すなわち図5
の側断面図で見て磁気ディスク103の面に垂直な方向
に1.5μmの高さdを有する。
【0049】なお、これらのコア幅wおよび高さdそれ
ぞれの値は一例であって、これらのコア幅wおよび高さ
dそれぞれは、それらの値に限られるものではない。
【0050】なお、本実施形態の記録ヘッドは、下部副
磁極1および上部副磁極5に挟まれた位置に、これらの
副磁極どうしの対向を遮る方向に広がる1層の軟磁性膜
3と、その軟磁性膜3を支持する2層の非磁性膜とが積
層されたものであるが、本発明の磁気ヘッドは、これら
の副磁極に挟まれた位置に、これらの副磁極どうしの対
向を遮る方向に広がる複数の軟磁性膜と、これらの複数
の軟磁性膜それぞれを支持する非磁性膜とが交互に積層
されてなるものであってもよい。
【0051】図5に示される、記録ヘッド20に近接し
た磁気ディスク103は、記録ヘッド20とは相対的に
矢印Aの方向に移動している。ここで、下部副磁極1
は、この磁気ディスク103のこの矢印Aの方向への移
動の上流側bに位置しており、上部副磁極5は、この磁
気ディスク103の相対的な移動の下流側aに位置して
いる。
【0052】同図には、下部副磁極1と上部副磁極5と
の間に漏れ出る磁界Hが模式的に示されている。その磁
界Hによって磁気ディスク103の各微小領域の磁化の
方向が適宜反転され、下流側aから上流側bへ順次、情
報が記録される。
【0053】この記録ヘッド20による磁気ディスク1
03への情報の記録のオーバライト特性を良好なものと
するには、図5に示すギャップ長(下部副磁極1と上部
副磁極の間の間隔)gを所定の大きさ以上に設定して、
以下に説明するHTSを小さく抑える必要がある。
【0054】図7は、HTSの説明図である。
【0055】同図には、図5と同様に記録ヘッド20が
示され、磁気ディスク103が示される。但し、磁気デ
ィスク103は、記録対象となっているトラックの磁化
がわかりやすくなるように拡大されて模式的に表されて
いる。
【0056】磁気ディスク103上に示される複数の白
抜きの矢印は、そのトラック上のその矢印が描かれた位
置での磁化の方向を示す。同図では、磁気ディスク10
3上の、上流側bから下流側aに向かう方向の磁化に対
し、その方向とは逆方向の、同図において2つの湾曲し
た矢印で表される磁界Hが記録ヘッド20の磁極から印
加されており、磁気ディスク103の、その磁界Hが印
加された領域で磁化が反転している。
【0057】この磁化の反転は、理想的には、上記磁界
Hの磁気ディスクの強磁性層中での強さを表すヘッド磁
界Hhがこの磁気ディスクの保磁力Hcより大きい領域r
1で起きる。しかし、このように磁化が反転されると、
点線で描かれた楕円の領域s1で磁化の一方の極が向か
い合い、同じく点線で描かれた楕円の領域s2でその極
と反対の極が向かい合って、点線の矢印で示される、上
記磁界Hとは逆方向を向く反磁界H’が生じ、この反磁
界H’によって上記ヘッド磁界Hhが弱められる。ヘッ
ド磁界Hhが弱められると、磁化が反転させられた領域
の境界である磁化転移点の、実線の矢印で示されるシフ
ト(HTS)が生じ、磁化が実際に反転させられた領域
が上記領域r1から領域r2へと狭められる。このよう
に磁化が反転する領域が狭められると、この記録ヘッド
20による磁気ディスク103に対するオーバライト特
性は悪化する。
【0058】このHTSを引き起こす反磁界の強さは、
上記領域r2のトラック方向の長さ(実効ギャップ長)
が短くなるほど強くなるので、このHTSを抑制するに
は、上記ギャップ長gを大きくとって実効ギャップ長を
長くすればよく、このようにギャップ長gを大きくとる
ことによってオーバライト特性が向上する。
【0059】しかし、従来の記録ヘッドでは、以下に示
す記録にじみのため、このようにギャップ長gを大きく
とることが困難である。
【0060】図8は、従来の記録ヘッドから漏れ出る磁
界の様子を示す、従来の記録ヘッドの主要部の浮上面図
である。
【0061】図8(A)、図8(B)のいずれも、図6
に示す本実施形態の記録ヘッド20から軟磁性膜3が取
り去られて第1の非磁性膜2および第2の非磁性膜4が
一つの非磁性膜2aに置き換えられた従来の記録ヘッド
を示す。
【0062】図8(A)に示す記録ヘッドと図8(B)
に示す記録ヘッドとの違いは、ギャップ長gの大きさに
あり、図8(A)に示す記録ヘッドの方が、図8(B)
に示す記録ヘッドより、ギャップ長gが大きなものとな
っている。
【0063】図8(A)に示す記録ヘッドでは、ギャッ
プ長gで規定されるギャップ部分に上部副磁極5から下
部副磁極1に向かう矢印で表される磁界が生じており、
この磁界は、コア幅の外に大きく広がった状態にある。
このように磁界が広がった状態にあると、情報を記録す
る対象となっているトラックの内部だけでなくそのトラ
ックの外側にも磁界が漏れ出て印加されることになりそ
のトラックの外側において記録にじみが生ずる。上記ギ
ャップ部分での磁界の広がりが大きいほど、この記録に
じみは大きくなる。
【0064】図8(B)に示す記録ヘッドにおいても、
ギャップ長gで規定されるギャップ部分に上部副磁極5
から下部副磁極1に向かう矢印で表される磁界が生じて
おり、この磁界もコア幅の外に広がった状態にあるが、
その広がりの度合いは小さい。このように、ギャップ長
gが小さい場合には、磁界の広がりは小さく、記録にじ
みも小さい。
【0065】以上のように、従来の記録ヘッドでは、記
録にじみを小さくするためには、ギャップ長gを減少さ
せる必要があり、一方オーバライト特性を向上させるた
めにはギャップ長gを増大させる必要があるので、記録
にじみの減少と優れたオーバライト特性とを両立させる
ことが困難である。しかし、本実施形態の記録ヘッド2
0では状況が異なる。
【0066】図9は、本実施形態の記録ヘッドから漏れ
出る磁界の様子を示す、本実施形態の記録ヘッドの主要
部の浮上面図である。
【0067】同図には、図6にも示す記録ヘッド20の
主要部と、その主要部付近の磁界の様子とが示される。
この記録ヘッド20は、図8(A)に示す従来の記録ヘ
ッドと同じく大きなギャップ長gを有するものである。
しかし、この記録ヘッド20は、上記ギャップ長gで規
定される、上部副磁極5と下部副磁極1との間のギャッ
プ部分に軟磁性膜3を有する点において従来の記録ヘッ
ドと異なっている。この軟磁性膜3は、このギャップ部
分に漏れ出る磁界によって磁化されて、図9にそのギャ
ップ部分の矢印で示されるように磁束を集めるものであ
るため、この記録ヘッド20では、このギャップ部分に
漏れ出る磁界の、コア幅外への広がりが小さく抑えら
れ、記録にじみも小さく抑えられる。
【0068】本実施形態の記録ヘッド20は、このよう
な軟磁性膜3を有するものであるため、所定の大きさの
ギャップ長gを確保することで、優れたオーバライト特
性と小さな記録にじみとが両立した記録ヘッドとなって
いる。
【0069】次に、記録ヘッドから漏れ出る磁界の強度
および記録にじみのシミュレーション結果について詳し
く説明する。以下の図10〜図12に示すヘッド磁界お
よび記録にじみの結果は、軟磁性膜3の厚さやギャップ
長等のように特別に指定する場合を除いて、上記記録ヘ
ッド20の大きさ、形状、材料(その材料の透磁率μお
よび飽和磁束密度Bs)を設定した上で、電磁界強度計
算用のソフトウェア:ELF magicを用いて数値
計算されたものである。なお、以下でいう従来の記録ヘ
ッドは、上記記録ヘッド20の2つの副磁極の間にアル
ミナからなる非磁性膜のみが形成されてなるものである
とする。
【0070】図10は、ヘッド磁界の分布を示すグラフ
である。
【0071】同図には、図5に示すようにして、本実施
形態の記録ヘッド20によって磁気ディスク103に印
加されたヘッド磁界Hh、および従来の記録ヘッドによ
って磁気ディスクに印加されたヘッド磁界Hhの、記録
対象となっているトラックに沿った方向の位置依存性を
表す磁界分布が示される。横軸は、そのトラックに沿っ
た位置を表し、正の方向が図5に示す下流側bの方向に
相当する。縦軸は、それらの各位置におけるヘッド磁界
hを表す。同図では、実線によって、0.2μmのギ
ャップ長gを有する従来の記録ヘッドによるヘッド磁界
分布が示され、2点鎖線によって、ギャップ部分に、軟
磁性膜3とこの軟磁性膜3を挟む2つの非磁性膜を有す
る本実施形態の記録ヘッド20によるヘッド磁界分布が
示される。また、磁界240kA/mの位置に引かれた
横線は、現状の一般的な磁気ディスクの保磁力Hcの強
度を示している。
【0072】実線で表される従来の記録ヘッドの磁界分
布は、ヘッド磁界Hhが最高値で500kA/mを超え
る1つのピークを有し、そのピーク位置の周りの0.2
5μm程度の範囲で磁気ディスク103の保磁力Hc
超えるものとなっている。
【0073】2点鎖線で表される本実施形態の記録ヘッ
ド20の磁界分布は、記録ヘッド20の第1の非磁性膜
の直下付近でヘッド磁界Hhが440kA/mとなる第
1のピークp1と、記録ヘッド20の第2の非磁性膜の
直下付近でヘッド磁界Hhが480kA/mとなる第2
のピークp2との2つのピークを有し、それらのピーク
位置の間の軟磁性膜3の直下付近でヘッド磁界Hhが3
00kA/mの極小値をとる極小点qを有する。この2
つのピークを持つ磁界分布では、これらの2つのピーク
および極小値をとる位置を含む0.4μm程度の範囲に
おいて、磁気ディスク103の保磁力Hcを超えるもの
となっている。
【0074】図11は、本実施形態の記録ヘッドの、軟
磁性膜の膜厚に対するヘッド磁界強度の依存性を示すグ
ラフである。
【0075】同図の横軸は、軟磁性膜3の厚さを表し、
縦軸はヘッド磁界Hhの強さを表す。同図では、複数の
黒菱形およびそれらの黒菱形を結ぶ実線によって、図1
0に示される第2のピークp2が表すヘッド磁界の強度
の、軟磁性膜3の厚さに対する依存性が示される。この
第2のピークp2が表すヘッド磁界の強度は、その厚さ
が0.05μmから0.2μmまで変化しても、一定の
480kA/mの値をとる。また、同図では、複数の黒
四角およびそれらの黒四角を結ぶ実線によって図10の
極小点qが表すヘッド磁界の強度の、軟磁性膜3の厚さ
に対する依存性が示される。この極小点qにおけるヘッ
ド磁界強度は、その厚さが0.05μmと薄い場合に
は、300kA/mの大きな値となるが、その厚さが減
少するにつれて単調に減少し、その厚さが0.2μmま
で増大すると、そのヘッド磁界強度は、80kA/mと
なる。この極小点qにおけるヘッド磁界強度は、同図に
点線で示すように、軟磁性膜3の厚さが0.075μm
以下の場合にヘッド磁界が磁気ディスク103の保磁力
c以上の強さとなる。
【0076】この結果からわかるように、軟磁性膜直下
におけるヘッド磁界Hhが磁気ディスク103の保磁力
c以上となるように、軟磁性膜3の厚さが0.075
μm以下に調整されることによって、この軟磁性膜3の
直下における磁化反転が容易になるため、この記録ヘッ
ド20による磁気ディスク103への情報の記録のオー
バライト特性は良好なものとなる。
【0077】図12は、ヘッド磁界強度および記録にじ
みのギャップ長に対する依存性を示すグラフである。
【0078】同図の横軸は、従来の記録ヘッドのギャッ
プ長を表し、縦軸はその記録ヘッドのヘッド磁界Hh
記録にじみの大きさとを表す。同図では、複数の黒四角
およびそれらの黒四角を結ぶ実線によって、従来の記録
ヘッドによる磁界の記録にじみの、ギャップ長に対する
依存性が示され、複数の黒菱形およびそれらの黒菱形を
結ぶ実線によって、従来の記録ヘッドによるヘッド磁界
の磁界分布のピーク値の、ギャップ長に対する依存性が
示される。
【0079】なお、本実施形態の記録ヘッド20は、2
つの副磁極に挟まれるギャップ部分付近の磁界の状況か
ら見ると、従来の記録ヘッドを結合させて2つのギャッ
プを持つようにしたものと同等なものである見なすこと
ができる。ここでいう2つのギャップは、上記第1の非
磁性膜2および上記第2の非磁性膜4をいい、これらの
非磁性膜の厚さが各ギャップのギャップ長に相当する。
この同等性からわかるように、同図の複数の黒四角およ
びそれらの黒四角を結ぶ実線は、また、それらのギャッ
プそれぞれにおける、記録ヘッド20による磁界の記録
にじみの大きさの、それらの各ギャップの長さに対する
依存性をも示し、また、同図の複数の黒菱形およびそれ
らの黒菱形を結ぶ実線は、それらのギャップそれぞれに
おける、記録ヘッド20によるヘッド磁界の磁界分布の
ピーク値の、それらの各ギャップの長さに対する依存性
をも示す。
【0080】同図に示されるように、この記録にじみ
は、ギャップ長が0.4μmの場合に0.7μmと大き
いが、ギャップ長が減少するにつれて単調に減少し、ギ
ャップ長が0.2μmで0.6μmとなる。ギャップ長
が0.2μmより狭められると記録にじみの広がりは急
減し、ギャップ長が0.05μmで0.2μm以下にま
で減少する。この結果から、記録にじみを小さく抑える
には、ギャップ長が0.2μm以下であることが好まし
いとわかる。本実施形態の記録ヘッド20では、2つの
ギャップのうちの、少なくとも第2の非磁性膜4の膜厚
で規定されるギャップのギャップ長が0.2μm以下で
あることが好ましい。
【0081】また、同図に示されるように、ヘッド磁界
hのピーク値は、ギャップ長が0.15μm付近で5
00kA/mを超える最高値をとり、ギャップ長が0.
15μmから増大するにつれゆるやかに減少して0.4
μmのギャップ長で470kA/mとなる。また、この
ヘッド磁界Hhのピーク値は、ギャップ長が0.15μ
mから減少するにつれ減少して0.05μmのギャップ
長で390kA/mまで低減される。この結果から、強
いヘッド磁界Hhを得るには、ギャップ長が0.15μ
m前後で有ることが好ましいとわかる。記録時にほぼ完
全な磁化反転を保証する、磁気ディスクの保磁力Hc
2倍の大きさである480kA/m以上のヘッド磁界H
hを得るには、ギャップ長が0.08μm以上かつ0.
35μm以下の範囲にあることが好ましい。
【0082】以上のように、2つの副磁極から漏れ出る
磁界の強度および記録にじみの大きさは、それらの副磁
極間の軟磁性膜3の厚さやギャップとしての非磁性膜の
厚さによって調整される。なお、この磁界の強度や記録
にじみの大きさは、このような軟磁性膜3や非磁性膜の
厚さ以外に副磁極それぞれの形状および大きさによって
も変わる。さらに本実施形態の記録ヘッド20のように
軟磁性膜3がそれらの副磁極の間に存在する場合には、
これらの副磁極間を通る磁束の様相がこの軟磁性膜3の
形状および大きさによって左右されるので、この磁界の
強度や記録にじみは、この軟磁性膜3の形状および大き
さによっても変わる。
【0083】この軟磁性膜3の形状および大きさのう
ち、この磁界の強度や記録にじみの大きさに大きな影響
を与える要素として、この軟磁性膜の高さd’や幅w’
がある。
【0084】図13は、図5に示す記録ヘッドとは軟磁
性膜の高さの異なる記録ヘッドの例を示す図である。
【0085】同図には、図5に示す記録ヘッド20と
は、軟磁性膜3の高さが異なり、2つの副磁極それぞれ
の高さ(ここでは高さd)より小さな高さd’の軟磁性
膜3を有する記録ヘッド20の主要部が示される。
【0086】記録ヘッド20は、このように2つの副磁
極それぞれの高さより小さい高さd’の軟磁性膜3を有
する場合、この軟磁性膜3に磁束が集中しやすくなる。
このため、この軟磁性膜3の高さd’がこれらの副磁極
から磁気ディスク103へ漏れ出る磁界の強さを決定す
る有効な要素となるので、この高さd’を変更するだけ
でその漏れ出る磁界の強さが容易に調整される。このよ
うに、記録ヘッド20の軟磁性膜3は、下部副磁極1お
よび上部副磁極5のいずれの副磁極の高さよりも小さい
高さを有するものであると、磁界の強さの調整が容易と
なり好ましい。
【0087】図14は、図6に示す記録ヘッドとは軟磁
性膜の幅が異なる記録ヘッドの例を示す図である。
【0088】同図には、図6に示す記録ヘッド20と
は、軟磁性膜3の幅が異なり、2つの副磁極それぞれの
幅(ここでは幅w)より小さな幅w’の軟磁性膜3を有
する記録ヘッド20の主要部が示される。
【0089】軟磁性膜3は、このように上記2つの副磁
極のうちのいずれの副磁極の幅よりも小さい幅w’を有
するものであることが好ましく、軟磁性膜3がそのよう
に小さい幅w’を有すると、通常その軟磁性膜3に磁束
が集まりやすく、上記幅w以上の幅を有する場合よりも
一般に記録にじみの広がりが減少する。
【0090】また、2つの副磁極から漏れ出る磁界の強
度や記録にじみの大きさは、それらの副磁極やそれらの
副磁極間の軟磁性膜3を構成する材料の飽和磁束密度B
sによって変わるため、これらの材料を適切に選択する
必要がある。
【0091】まず、本実施形態の磁気ヘッド20は、上
部副磁極5付近で磁気ディスク103の磁化反転を行っ
て情報を記録するものであり、この上部副磁極5付近で
強い磁界が要求されるので、上部副磁極5は下部副磁極
1およびそれらの副磁極の間に位置する軟磁性膜それぞ
れの飽和磁束密度Bsと同じかそれらの各飽和磁束密度
s以上の飽和磁束密度Bsを有する材料からなるもので
あることが好ましい。
【0092】また、上記軟磁性膜3は、下部副磁極5よ
りも大きな飽和磁束密度Bsを持つことにより磁気的な
飽和が起こりにくくなり、そのような磁気的な飽和によ
る記録にじみの拡大が抑えられる。但し、この軟磁性膜
3は、上記上部副磁極5と幅が同程度の寸法である場合
には、この上部副磁極5以上に磁束が通ることはないの
で上部副磁極5の飽和磁束密度Bsより大きい飽和磁束
密度Bsを持つ必要はない。
【0093】飽和磁束密度Bsに関するこれらの事情か
らわかるように、本実施形態の記録ヘッドは、上記軟磁
性膜3が、上部副磁極5の飽和磁束密度Bs以下の飽和
磁束密度Bsを有し、かつ下部副磁極1の飽和磁束密度
s以上の飽和磁束密度Bsを有するものであることが好
ましく、このような条件を満たす記録ヘッドは、効率よ
くヘッド磁界を強め、記録にじみの広がりを抑えること
ができる。
【0094】[磁気ヘッド製造方法]以下に、記録ヘッ
ド20の製造方法について図15〜図22を用いて説明
する。以下の図15〜図22では、それぞれ左側に示す
(A)の図が、いずれも図6の浮上面図と同じ方向から
見た記録ヘッド10の製造工程を示す図であり、また、
それぞれ右側に示す(B)の図が、いずれも図5の側断
面図と同じ断面で見た記録ヘッドの製造工程を示す図で
ある。
【0095】図15は、記録ヘッド製造の第1の工程を
示す図である。
【0096】第1の工程では、例えばNi50Fe50から
なる厚さ4μmの下部磁極ベタ膜1’が、スパッタ等に
より図示しない再生ヘッドの、上部シールド層と共有す
るものとして形成される。この下部磁極ベタ膜1’は、
この記録ヘッド製造の工程の最後には下部磁極21およ
び下部副磁極1となるものである。
【0097】図16は、記録ヘッド製造の第2の工程を
示す図である。
【0098】この第2の工程は、本発明にいう積層膜成
膜工程に相当する。この第2の工程では、上記下部磁極
ベタ膜1’上に、軟磁性ベタ膜とその軟磁性ベタ膜を支
持する非磁性ベタ膜とが交互に積層されてなる積層膜が
成膜される。例えば、同図に示すように、スパッタ等に
より、この下部磁極ベタ膜1’上に、アルミナからなる
厚さ0.1μmの第1の非磁性ベタ膜2’が形成され、
この第1の非磁性ベタ膜2’上に、Ni50Fe50からな
る厚さ0.05μmの軟磁性ベタ膜3’が形成され、さ
らにこの軟磁性ベタ膜3’上に、アルミナからなる厚さ
0.2μmの第2の非磁性ベタ膜4’が形成される。あ
るいは、上記下部磁極ベタ膜1’上に、複数の軟磁性ベ
タ膜と複数の非磁性ベタ膜が交互に積層された積層膜が
成膜されてもよく、この場合、この積層膜の最上膜と最
下膜は、いずれも非磁性ベタ膜となる。
【0099】図17は、記録ヘッド製造の第3の工程を
示す図である。
【0100】この第3の工程は、本発明にいう磁極形成
工程に相当する。この第3の工程では、第2の工程で成
膜されてなる積層膜最上膜である第2の非磁性ベタ膜
4’上に、例えば、まず、パターニングされたレジスト
6’を形成し、さらにそのレジスト6’上にNi50Fe
50のメッキを行うことによって、Ni50Fe50からなる
2μmを越える厚さを有する上部磁極層5’が、上記パ
ターニングに応じた0.5μmのコア幅w、1.5μm
の高さdで形成される。この上部磁極層5’は、この記
録ヘッド製造の工程の最後には上部副磁極5となるもの
である。
【0101】図18は、記録ヘッド製造の第4の工程を
示す図である。
【0102】この第4の工程は、本発明にいうトリミン
グ工程に相当する。この第4の工程では、第2の工程で
成膜された積層膜および第3の工程で形成された上部磁
極層5’に同図の矢印で表されるようにイオンミリング
を施すことにより、その上部磁極層5’をマスクとして
その積層膜のうちのマスクされていない部分の除去を行
う。この除去によって、積層膜は、上部磁極層5’と同
じコア幅w、同じ高さdになるようトリミングされ、上
述した記録ヘッド20を構成する、第1の非磁性膜2、
軟磁性膜3、および第2の非磁性膜4の形成が完了す
る。また、上記下部磁極ベタ膜1’も下部磁極ベタ膜
1’のうちのマスクされていない部分が1μm程度除去
されることにより、相対的に突出した、上述した記録ヘ
ッド20を構成する厚さ1μmの下部副磁極1が形成さ
れる。この下部磁極ベタ膜1’のうち、イオンミリング
によって除去されずに残った部分のうちの、下部副磁極
1以外の部分が、下部磁極21である。
【0103】このように第2〜第4の工程によって、所
定のコア幅および所定の高さを持った軟磁性膜3が容易
に形成される。
【0104】図19は、記録ヘッド製造の第5の工程を
示す図である。
【0105】この第5の工程では、第4の工程でイオン
ミリングによって除去されずに残った下部磁極21、お
よび上記上部磁極層5’上にスパッタにより例えばアル
ミナからなる非磁性層22’を所定の厚さ積層する。
【0106】図20は、記録ヘッド製造の第6の工程を
示す図である。
【0107】この第6の工程では、第5の工程で積層さ
れた非磁性層22’および上記上部磁極層5’を、上部
磁極層の膜厚が2μmとなるように研磨する。上記第5
の工程における非磁性層22’の厚さを調整することに
よりこの膜厚の制御は容易に行われる。このように研磨
されることにより、上記記録ヘッド20を構成する上部
副磁極5および非磁性層22の形成が完了する。
【0108】図21は、記録ヘッド製造の第7の工程を
示す図である。
【0109】この第7の工程では、第6の工程で形成さ
れた非磁性層22上に、例えばCuからなる記録コイル
23、およびその記録コイル23を包囲する、例えばレ
ジストからなる第2の絶縁層24を形成する。
【0110】図22は、記録ヘッド製造の第8の工程を
示す図である。
【0111】この第8の工程では、第6の工程で形成さ
れた上部副磁極5および第7の工程で形成された第2の
絶縁層24上に、メッキによって、レジスト26により
パターニングされた状態で上部磁極25が形成され、記
録ヘッド20の製造が完了する。
【0112】なお、軟磁性膜3が上記一対の副磁極の高
さdおよびコア幅wそれぞれと異なる高さd’および幅
w’それぞれを有する記録ヘッド20を製造する場合に
は、上記第2の工程において、第1の非磁性ベタ膜2’
上に軟磁性ベタ膜3’と第2の非磁性ベタ膜4’とを形
成するのではなく、まず、第1の非磁性ベタ膜2’上
に、リフトオフ法などによって、上記高さd’および幅
w’に応じて長方形にトリミングされた軟磁性膜3を形
成する。そして、この軟磁性膜3上にアルミナなどから
なる非磁性ベタ膜を積層した後にその積層した非磁性ベ
タ膜を研磨するなどして平坦化するとともにその非磁性
ベタ膜の軟磁性膜3上の部分を除去することにより、軟
磁性膜3と非磁性膜との複合膜を形成し、その複合膜上
に上記第2の非磁性ベタ膜4’を形成する。この工程以
後の各工程は、この複合膜が上記軟磁性ベタ膜3’の代
わりに形成されていることを除いて、上述した、軟磁性
膜3が2つの副磁極高さdおよび幅wを有する記録ヘッ
ドを製造する場合の上記第3の工程から上記第8の工程
までの各工程と同様に進められる。
【0113】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
優れたオーバライト特性を有すると同時に記録にじみの
小さい磁気ヘッド、そのような磁気ヘッドを製造する磁
気ヘッド製造方法、および優れたオーバライト特性を有
すると同時に記録にじみの小さい情報記録装置が提供さ
れる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係るハードディスクドライブの一実施
形態を示す図である。
【図2】本実施形態のHDDに用いられた複合型磁気ヘ
ッドの上面図である。
【図3】本実施形態のHDDに用いられた複合型磁気ヘ
ッドの側断面図である。
【図4】本実施形態のHDDに用いられた複合型磁気ヘ
ッドの浮上面図である。
【図5】図3に示す複合型磁気ヘッドにおける記録ヘッ
ドの主要部の側断面図である。
【図6】図4に示す複合型磁気ヘッドにおける記録ヘッ
ドの主要部の浮上面図である。
【図7】HTSの説明図である。
【図8】従来の記録ヘッドから漏れ出る磁界の様子を示
す、従来の記録ヘッドの主要部の浮上面図である。
【図9】本実施形態の記録ヘッドから漏れ出る磁界の様
子を示す、本実施形態の記録ヘッドの主要部の浮上面図
である。
【図10】ヘッド磁界の分布を示すグラフである。
【図11】本実施形態の記録ヘッドの、軟磁性膜の膜厚
に対するヘッド磁界強度の依存性を示すグラフである。
【図12】ヘッド磁界強度および記録にじみのギャップ
長に対する依存性を示すグラフである。
【図13】図5に示す記録ヘッドとは軟磁性膜の高さの
異なる記録ヘッドの例を示す図である。
【図14】図6に示す記録ヘッドとは軟磁性膜の幅が異
なる記録ヘッドの例を示す図である。
【図15】記録ヘッド製造の第1の工程を示す図であ
る。
【図16】記録ヘッド製造の第2の工程を示す図であ
る。
【図17】記録ヘッド製造の第3の工程を示す図であ
る。
【図18】記録ヘッド製造の第4の工程を示す図であ
る。
【図19】記録ヘッド製造の第5の工程を示す図であ
る。
【図20】記録ヘッド製造の第6の工程を示す図であ
る。
【図21】記録ヘッド製造の第7の工程を示す図であ
る。
【図22】記録ヘッド製造の第8の工程を示す図であ
る。
【符号の説明】 1 下部副磁極 1’ 下部磁極ベタ膜 2 第1の非磁性膜 2’ 第1の非磁性ベタ膜 3 軟磁性膜 3’ 軟磁性ベタ膜 4 第2の非磁性膜 4’ 第2の非磁性ベタ膜 5 上部副磁極 5’ 上部磁極層 6’ レジスト 10 再生ヘッド 11 素子部 12 再生下部シールド 20 記録ヘッド 21 再生上部シールド、下部磁極 22 第1の絶縁層 22’ 非磁性層 23 記録コイル 24 第2の絶縁層 25 上部磁極 26 レジスト 30 複合型磁気ヘッド 100 HDD 101 ハウジング 102 回転軸 103 磁気ディスク 104 浮上ヘッドスライダ 105 アーム軸 106 キャリッジアーム 107 アクチュエータ

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 相対的に移動する記録媒体に近接あるい
    は接触して配置され、該記録媒体への近接点あるいは接
    触点における相対移動方向に所定の間隔離れて対向する
    一対の磁極を備え、これらの磁極どうしの間に磁界を発
    生させることにより該記録媒体を磁化する磁気ヘッドに
    おいて、 前記一対の磁極に挟まれた位置に、該一対の磁極どうし
    の対向を遮る方向に広がる軟磁性膜と該軟磁性膜を支持
    する非磁性膜とが交互に積層されてなることを特徴とす
    る磁気ヘッド。
  2. 【請求項2】 相対的に移動する記録媒体に近接あるい
    は接触して配置され、該記録媒体への近接点あるいは接
    触点における相対移動方向に所定の間隔離れて対向する
    一対の磁極を備え、これらの磁極どうしの間に磁界を発
    生させることにより該記録媒体を磁化する磁気ヘッドを
    製造する磁気ヘッド製造方法において、 前記一対の磁極のうちの一方の磁極が形成される薄膜上
    に、軟磁性膜と該軟磁性膜を支持する非磁性膜とが交互
    に積層されてなる積層膜を成膜する積層膜成膜工程と、 前記積層膜成膜工程によって成膜されてなる積層膜の表
    面上に、レジストパターニングにより前記所定の幅にト
    リミングされてなる、前記一対の磁極のうちの他方の磁
    極を形成する磁極形成工程と、 前記積層膜成膜工程によって成膜された積層膜および前
    記磁極形成工程によって形成された前記他の1つの磁極
    にイオンミリングを施すことにより、該磁極をマスクと
    して該積層膜を前記所定の幅にトリミングするトリミン
    グ工程とを有することを特徴とする磁気ヘッド製造方
    法。
  3. 【請求項3】 表面の各点に磁化を担持して相対的に移
    動する記録媒体に近接あるいは接触して配置され、該記
    録媒体の磁化の方向を反転させる磁気ヘッドを備え、該
    磁化の方向を反転させることによって該記録媒体の各点
    に情報を記録する情報記録装置において、 前記磁気ヘッドが、 前記記録媒体への近接点あるいは接触点における相対移
    動方向に所定の間隔離れて対向する一対の磁極を備え、
    これらの磁極どうしの間に磁界を発生させることにより
    該記録媒体を磁化する磁気ヘッドであって、 前記一対の磁極に挟まれた位置に、該一対の磁極どうし
    の対向を遮る方向に広がる軟磁性膜と該軟磁性膜を支持
    する非磁性膜とが交互に積層されてなることを特徴とす
    る情報記録装置。
  4. 【請求項4】 前記磁気ヘッドによって前記一対の磁極
    どうしの間に発生された磁界が、前記記録媒体の表面の
    前記軟磁性膜への近接点あるいは接触点において該記録
    媒体の保磁力以上の磁界となるように、前記軟磁性膜の
    厚さが調整されてなるものであることを特徴とする請求
    項3記載の情報記録装置。
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