JP2001174596A - 電子ビーム照射装置 - Google Patents
電子ビーム照射装置Info
- Publication number
- JP2001174596A JP2001174596A JP36324299A JP36324299A JP2001174596A JP 2001174596 A JP2001174596 A JP 2001174596A JP 36324299 A JP36324299 A JP 36324299A JP 36324299 A JP36324299 A JP 36324299A JP 2001174596 A JP2001174596 A JP 2001174596A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron beam
- beam irradiation
- processing
- irradiating
- processed
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 電子ビーム管の窓部が不純ガスによって汚染
されることがなく、電子ビームの出力を一定に保ち、か
つ窓部の破損を防止するととともに、被処理物に対して
電子ビームを所望の速度で容易に移動させることのでき
る電子ビーム照射装置を提供すること。 【解決手段】 被処理物５に電子ビームを照射して処理
する電子ビーム照射装置において、被処理物５の電子ビ
ーム照射処理時、被処理物５に対して電子ビーム管２を
備える電子ビーム照射装置本体１を移動させる手段を有
していることを特徴とする。
されることがなく、電子ビームの出力を一定に保ち、か
つ窓部の破損を防止するととともに、被処理物に対して
電子ビームを所望の速度で容易に移動させることのでき
る電子ビーム照射装置を提供すること。 【解決手段】 被処理物５に電子ビームを照射して処理
する電子ビーム照射装置において、被処理物５の電子ビ
ーム照射処理時、被処理物５に対して電子ビーム管２を
備える電子ビーム照射装置本体１を移動させる手段を有
していることを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子ビームを照射
することによって、各種材料の表面処理、各種化合物の
生成処理、半導体処理等の処理を行う電子ビーム照射装
置に関する。
することによって、各種材料の表面処理、各種化合物の
生成処理、半導体処理等の処理を行う電子ビーム照射装
置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の電子ビーム照射装置は、特表平８
−５１０８６４号公報に示されるように、複数個配列さ
れた電子ビーム管から放射される電子ビームを、移動す
るテーブルやローラ上に載せた被処理物に照射するよう
に構成されていた。
−５１０８６４号公報に示されるように、複数個配列さ
れた電子ビーム管から放射される電子ビームを、移動す
るテーブルやローラ上に載せた被処理物に照射するよう
に構成されていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
電子ビーム照射装置のように、電子ビーム管側を固定
し、被処理物側を動かして処理を行う方法では電子ビー
ム管の電子ビームを放射する窓部が汚染したり、窓部が
破損するという問題があった。この理由について発明者
らが調べてみると、例えば、電子ビームを照射して被処
理物としてのインキを乾燥する場合、図６（ａ）に示す
ように、電子ビーム管からインキに電子ビームが照射さ
れると、図６（ｂ）に示すように、インキの樹脂が蒸発
して不純ガスが発生し、このとき、図６（ｃ）に示すよ
うに、被処理物側を移動すると不純ガスも移動するが、
不純ガスの全てが被処理物側と共に移動せず、一部残留
する不純ガスによって電子ビーム管の電子ビームを放射
する窓部が汚染されてしまうことが分かった。この現象
によって窓部に不純物が付着すると、電子ビームの出力
低下をきたしたり、場合によっては窓部を破損すること
も分かった。
電子ビーム照射装置のように、電子ビーム管側を固定
し、被処理物側を動かして処理を行う方法では電子ビー
ム管の電子ビームを放射する窓部が汚染したり、窓部が
破損するという問題があった。この理由について発明者
らが調べてみると、例えば、電子ビームを照射して被処
理物としてのインキを乾燥する場合、図６（ａ）に示す
ように、電子ビーム管からインキに電子ビームが照射さ
れると、図６（ｂ）に示すように、インキの樹脂が蒸発
して不純ガスが発生し、このとき、図６（ｃ）に示すよ
うに、被処理物側を移動すると不純ガスも移動するが、
不純ガスの全てが被処理物側と共に移動せず、一部残留
する不純ガスによって電子ビーム管の電子ビームを放射
する窓部が汚染されてしまうことが分かった。この現象
によって窓部に不純物が付着すると、電子ビームの出力
低下をきたしたり、場合によっては窓部を破損すること
も分かった。
【０００４】また、被処理物は、単に電子ビーム照射に
よる処理に限らず、被処理物が載置される装置には、例
えば、電子ビーム照射時に、被処理物を加熱処理したり
磁界や電界をかける等の処理を行うための処理装置が備
えられており、このような各種の処理を行う処理装置は
高重量であり、また構造が複雑となるため、処理装置側
を所望の速度で移動制御することは困難なことであっ
た。
よる処理に限らず、被処理物が載置される装置には、例
えば、電子ビーム照射時に、被処理物を加熱処理したり
磁界や電界をかける等の処理を行うための処理装置が備
えられており、このような各種の処理を行う処理装置は
高重量であり、また構造が複雑となるため、処理装置側
を所望の速度で移動制御することは困難なことであっ
た。
【０００５】本発明の目的は、上記の種々の問題点に鑑
みて、電子ビーム管の窓部が不純ガスによって汚染され
ることがなく、電子ビームの出力を一定に保ち、かつ窓
部の破損を防止するととともに、被処理物に対して電子
ビームを所望の速度で容易に移動させることのできる電
子ビーム照射装置を提供することにある。
みて、電子ビーム管の窓部が不純ガスによって汚染され
ることがなく、電子ビームの出力を一定に保ち、かつ窓
部の破損を防止するととともに、被処理物に対して電子
ビームを所望の速度で容易に移動させることのできる電
子ビーム照射装置を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記の課題を
解決するために、次のような手段を採用した。
解決するために、次のような手段を採用した。
【０００７】第１の手段は、被処理物に電子ビームを照
射して処理する電子ビーム照射装置において、前記被処
理物の電子ビーム照射処理時、前記被処理物に対して電
子ビーム管を備える電子ビーム照射装置本体を移動させ
る手段を有していることを特徴とする。
射して処理する電子ビーム照射装置において、前記被処
理物の電子ビーム照射処理時、前記被処理物に対して電
子ビーム管を備える電子ビーム照射装置本体を移動させ
る手段を有していることを特徴とする。
【０００８】第２の手段は、被処理物に電子ビームを照
射して処理する電子ビーム照射装置において、前記被処
理物は、前記電子ビームを照射する処理以外の処理を行
わせるための処理装置上に載置され、前記被処理物の電
子ビーム照射処理時、前記被処理物に対して電子ビーム
管を備える電子ビーム照射装置本体を移動させる手段を
有していることを特徴とする。
射して処理する電子ビーム照射装置において、前記被処
理物は、前記電子ビームを照射する処理以外の処理を行
わせるための処理装置上に載置され、前記被処理物の電
子ビーム照射処理時、前記被処理物に対して電子ビーム
管を備える電子ビーム照射装置本体を移動させる手段を
有していることを特徴とする。
【０００９】第３の手段は、前記第１の手段ないし第２
の手段のいずれか１つの手段において、少なくとも、前
記被処理物および前記電子ビーム照射装置本体が真空室
内または所望のガス雰囲気室内に収納されていることを
特徴とする。
の手段のいずれか１つの手段において、少なくとも、前
記被処理物および前記電子ビーム照射装置本体が真空室
内または所望のガス雰囲気室内に収納されていることを
特徴とする。
【００１０】
【発明の実施の形態】本発明の一実施形態を図１乃至図
４を用いて説明する。
４を用いて説明する。
【００１１】図１および図２は、それぞれ本発明に係る
電子ビーム照射装置の全体構成を示す正面断面図および
一部斜視図である。
電子ビーム照射装置の全体構成を示す正面断面図および
一部斜視図である。
【００１２】これらの図において、１は後述する被処理
物５に対して移動可能な電子ビーム照射装置本体、２は
被処理物５に対して電子ビームを照射する電子ビーム
管、３は電子ビーム照射装置本体１に高圧の電圧を供給
する高圧電源、４は電子ビーム照射装置本体１と高圧電
源３間に接続される高圧ケーブル、５は電子ビームが照
射される被処理物、６は被処理物５を載せるとともに、
被処理物５に対して、加熱や、磁界、電界等をかけるた
めの装置を備える処理装置、７は、電子ビーム照射装置
本体１に固定され、電子ビーム照射装置本体１を移動す
るための駆動源としてのモータ、８はモータ７の回動軸
の先端に取り付けられ、後述するラック９と歯合して電
子ビーム照射装置本体１をラック９に沿って移動させる
歯車、９はラック、１０は電子ビーム照射装置本体１が
載置されると共に移動させるレールである。
物５に対して移動可能な電子ビーム照射装置本体、２は
被処理物５に対して電子ビームを照射する電子ビーム
管、３は電子ビーム照射装置本体１に高圧の電圧を供給
する高圧電源、４は電子ビーム照射装置本体１と高圧電
源３間に接続される高圧ケーブル、５は電子ビームが照
射される被処理物、６は被処理物５を載せるとともに、
被処理物５に対して、加熱や、磁界、電界等をかけるた
めの装置を備える処理装置、７は、電子ビーム照射装置
本体１に固定され、電子ビーム照射装置本体１を移動す
るための駆動源としてのモータ、８はモータ７の回動軸
の先端に取り付けられ、後述するラック９と歯合して電
子ビーム照射装置本体１をラック９に沿って移動させる
歯車、９はラック、１０は電子ビーム照射装置本体１が
載置されると共に移動させるレールである。
【００１３】ここで、モータ７、歯車８、ラック９、レ
ール１０は全体として電子ビーム照射装置本体１を移動
させる移動装置を構成しており、この移動装置は、モー
タ７を駆動することにより、それに伴って回動する歯車
８がラック９に歯合し、これにより電子ビーム照射装置
本体１に対して移動のための駆動力が加えられ、電子ビ
ーム照射装置本体１はレール１０に案内されて被処理物
５に対して移動する。
ール１０は全体として電子ビーム照射装置本体１を移動
させる移動装置を構成しており、この移動装置は、モー
タ７を駆動することにより、それに伴って回動する歯車
８がラック９に歯合し、これにより電子ビーム照射装置
本体１に対して移動のための駆動力が加えられ、電子ビ
ーム照射装置本体１はレール１０に案内されて被処理物
５に対して移動する。
【００１４】図３は、真空室内で処理を行う場合の、本
発明に係る電子ビーム照射装置の全体構成を示す図であ
る。
発明に係る電子ビーム照射装置の全体構成を示す図であ
る。
【００１５】同図において、１１は真空室、１２は真空
室１１の天井または壁に設けられる高圧ケーブル４の高
圧コネクタ、１３は真空室の排気に用いられる排気装置
である。その他の構成は図１に示す同符号の構成に対応
する。
室１１の天井または壁に設けられる高圧ケーブル４の高
圧コネクタ、１３は真空室の排気に用いられる排気装置
である。その他の構成は図１に示す同符号の構成に対応
する。
【００１６】真空室１１内で処理を行う場合は、真空室
１１内に導入される雰囲気ガスによる電子エネルギーの
損失がほとんどないために、電子ビーム照射装置１本体
から出力される電子ビームを高出力化することができ、
被処理物５から離して処理できるので、被処理物５から
発生する不純ガス等による影響を受けにくくすることが
できる。また、前記処理を必要に応じて所望のガス雰囲
気室内で行ってもよい。
１１内に導入される雰囲気ガスによる電子エネルギーの
損失がほとんどないために、電子ビーム照射装置１本体
から出力される電子ビームを高出力化することができ、
被処理物５から離して処理できるので、被処理物５から
発生する不純ガス等による影響を受けにくくすることが
できる。また、前記処理を必要に応じて所望のガス雰囲
気室内で行ってもよい。
【００１７】図４は、図１および図３に示す電子ビーム
管２の構成を示す断面図である。
管２の構成を示す断面図である。
【００１８】この電子ビーム管２は、真空容器２１と、
真空容器２１に設けられる前方および後方に開放端を有
し、電子ビームの広がりを規制する金属製の円筒状スリ
ーブ２２と、円筒状スリーブ２２の内部に配設された電
子ビームを発生する電子ビーム発生器２３とから構成さ
れている。また真空容器２１は、円筒状のパイレックス
ガラスよりなる管部材２４と管部材２４の開口部を塞ぐ
蓋部材２５とにより構成されている。この蓋部材２５
は、電子ビーム発生器２３から放射された電子ビームが
通過する開口部分２６を有し、窓部材２７によって覆わ
れている。電子ビーム発生器２３にはリード線２８，２
９を介して高電圧が供給されている。
真空容器２１に設けられる前方および後方に開放端を有
し、電子ビームの広がりを規制する金属製の円筒状スリ
ーブ２２と、円筒状スリーブ２２の内部に配設された電
子ビームを発生する電子ビーム発生器２３とから構成さ
れている。また真空容器２１は、円筒状のパイレックス
ガラスよりなる管部材２４と管部材２４の開口部を塞ぐ
蓋部材２５とにより構成されている。この蓋部材２５
は、電子ビーム発生器２３から放射された電子ビームが
通過する開口部分２６を有し、窓部材２７によって覆わ
れている。電子ビーム発生器２３にはリード線２８，２
９を介して高電圧が供給されている。
【００１９】ここで、電子ビーム発生器２３によって生
成された電子は、電子ビーム化して開口部分２６から窓
部材２７を介して出射される。このような電子ビーム管
は、特表平８−５１０８６４号公報に記載されている。
成された電子は、電子ビーム化して開口部分２６から窓
部材２７を介して出射される。このような電子ビーム管
は、特表平８−５１０８６４号公報に記載されている。
【００２０】次に、本発明に係る電子ビーム照射装置の
動作を図１乃至図３および図５を用いて説明する。
動作を図１乃至図３および図５を用いて説明する。
【００２１】図５は、本発明の電子ビーム照射装置によ
る処理状態を説明するための図である。
る処理状態を説明するための図である。
【００２２】本発明では、図１乃至図３に示すように、
先に説明した電子ビーム照射装置本体の移動装置によ
り、被処理物５に対して電子ビーム照射装置本体１を移
動させるようにしているので、例えば、被処理物がイン
キであるような場合、図５（ａ）に示すように、電子ビ
ーム管２から電子ビームを照射すると、図５（ｂ）に示
すように、インキの樹脂が蒸発して不純ガスを発生する
が、電子ビーム管２は発生した不純ガスに関わりなく移
動することができるので、電子ビーム管２の電子ビーム
を放射する窓部の不純物の付着を防止することができ
る。そのため窓部に不純物が付着することによる電子ビ
ームの出力低下、さらには、窓部の破損を防止すること
ができる。
先に説明した電子ビーム照射装置本体の移動装置によ
り、被処理物５に対して電子ビーム照射装置本体１を移
動させるようにしているので、例えば、被処理物がイン
キであるような場合、図５（ａ）に示すように、電子ビ
ーム管２から電子ビームを照射すると、図５（ｂ）に示
すように、インキの樹脂が蒸発して不純ガスを発生する
が、電子ビーム管２は発生した不純ガスに関わりなく移
動することができるので、電子ビーム管２の電子ビーム
を放射する窓部の不純物の付着を防止することができ
る。そのため窓部に不純物が付着することによる電子ビ
ームの出力低下、さらには、窓部の破損を防止すること
ができる。
【００２３】また、本発明によれば、被処理物５を載せ
る処理装置６が、加熱装置や磁界、電界発生装置等を備
え高重量化していても、処理装置６側を移動させず、相
対的に軽量な電子ビーム照射装置本体１側を移動させる
ようにしたので、被処理物５に対する電子ビームの移動
制御が容易となる。
る処理装置６が、加熱装置や磁界、電界発生装置等を備
え高重量化していても、処理装置６側を移動させず、相
対的に軽量な電子ビーム照射装置本体１側を移動させる
ようにしたので、被処理物５に対する電子ビームの移動
制御が容易となる。
【００２４】
【発明の効果】本願請求項１に記載の発明によれば、被
処理物の電子ビーム照射処理時、被処理物に対して電子
ビーム照射装置本体を移動させるようにしたので、電子
ビーム管の電子ビームを放射する窓部への不純物の付着
を防止することができ、窓部に不純物が付着することに
よる電子ビームの出力低下、さらには窓部の破損を防止
することができる。
処理物の電子ビーム照射処理時、被処理物に対して電子
ビーム照射装置本体を移動させるようにしたので、電子
ビーム管の電子ビームを放射する窓部への不純物の付着
を防止することができ、窓部に不純物が付着することに
よる電子ビームの出力低下、さらには窓部の破損を防止
することができる。
【００２５】本願請求項２に記載の発明によれば、被処
理物の電子ビーム照射処理時、被処理物が載置され、高
重量化する可能性のあるの処理装置側を固定し、電子ビ
ーム照射装置本体側を移動するようにしたので、電子ビ
ーム照射装置本体の移動制御が容易となる。
理物の電子ビーム照射処理時、被処理物が載置され、高
重量化する可能性のあるの処理装置側を固定し、電子ビ
ーム照射装置本体側を移動するようにしたので、電子ビ
ーム照射装置本体の移動制御が容易となる。
【００２６】本願請求項３に記載の発明によれば、少な
くとも、被処理物および電子ビーム照射装置本体を真空
室内または所望のガス雰囲気室内に収納したので、電子
ビームの高出力化し、被処理物から発生する不純ガス等
による影響を受けにくくすることができる。
くとも、被処理物および電子ビーム照射装置本体を真空
室内または所望のガス雰囲気室内に収納したので、電子
ビームの高出力化し、被処理物から発生する不純ガス等
による影響を受けにくくすることができる。
【図１】本発明に係る電子ビーム照射装置の全体構成を
示す正面断面図である。
示す正面断面図である。
【図２】本発明に係る電子ビーム照射装置の全体構成を
示す斜視図である。
示す斜視図である。
【図３】真空室内で処理を行う場合の、本発明に係る電
子ビーム照射装置の全体構成を示す正面断面図である。
子ビーム照射装置の全体構成を示す正面断面図である。
【図４】図１および図３に示す電子ビーム管２の構成の
一例を示す断面図である。
一例を示す断面図である。
【図５】本発明に係る電子ビーム照射装置による処理状
態を説明するための図である。
態を説明するための図である。
【図６】従来技術に係る電子ビーム照射装置による処理
状態を説明するための図である。
状態を説明するための図である。
１ 電子ビーム照射装置本体 ２ 電子ビーム管 ２１ 真空容器 ２３ 電子ビーム発生器 ２６ 開口部分 ２７ 窓部材 ３ 高圧電源 ４ 高圧ケーブル ５ 被処理物 ６ 処理装置 ７ モータ ８ 歯車 ９ ラック １０ レール １１ 真空室 １２ 高圧コネクタ １３ 排気装置
Claims (3)
- 【請求項１】 被処理物に電子ビームを照射して処理す
る電子ビーム照射装置において、 前記被処理物の電子ビーム照射処理時、前記被処理物に
対して電子ビーム管を備える電子ビーム照射装置本体を
移動させる手段を有していることを特徴とする電子ビー
ム照射装置。 - 【請求項２】 被処理物に電子ビームを照射して処理す
る電子ビーム照射装置において、 前記被処理物は、前記電子ビームを照射する処理以外の
処理を行わせるための処理装置上に載置され、前記被処
理物の電子ビーム照射処理時、前記被処理物に対して電
子ビーム管を備える電子ビーム照射装置本体を移動させ
る手段を有していることを特徴とする電子ビーム照射装
置。 - 【請求項３】 請求項１ないし請求項２のいずれか１つ
の請求項において、少なくとも、前記被処理物および前
記電子ビーム照射装置本体は真空室内または所望のガス
雰囲気室内に収納されていることを特徴とする電子ビー
ム照射装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP36324299A JP2001174596A (ja) | 1999-12-21 | 1999-12-21 | 電子ビーム照射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP36324299A JP2001174596A (ja) | 1999-12-21 | 1999-12-21 | 電子ビーム照射装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001174596A true JP2001174596A (ja) | 2001-06-29 |
Family
ID=18478852
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP36324299A Pending JP2001174596A (ja) | 1999-12-21 | 1999-12-21 | 電子ビーム照射装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001174596A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6960884B2 (en) | 2003-06-27 | 2005-11-01 | Ushiodenki Kabushiki Kaisha | Device for operating a short arc discharge mercury lamp |
| JP2006133778A (ja) * | 2004-11-04 | 2006-05-25 | Applied Materials Inc | 電子ビームを用いて基板上のインクをキュアリングするための装置及び方法 |
| US7057346B2 (en) | 2003-02-12 | 2006-06-06 | Ushiodenki Kabushiki Kaisha | Short arc ultra-high pressure mercury lamp and method for the production thereof |
-
1999
- 1999-12-21 JP JP36324299A patent/JP2001174596A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7057346B2 (en) | 2003-02-12 | 2006-06-06 | Ushiodenki Kabushiki Kaisha | Short arc ultra-high pressure mercury lamp and method for the production thereof |
| US6960884B2 (en) | 2003-06-27 | 2005-11-01 | Ushiodenki Kabushiki Kaisha | Device for operating a short arc discharge mercury lamp |
| JP2006133778A (ja) * | 2004-11-04 | 2006-05-25 | Applied Materials Inc | 電子ビームを用いて基板上のインクをキュアリングするための装置及び方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2004527875A5 (ja) | ||
| KR970030240A (ko) | 중성 입자 비임 조사 장치 | |
| JP2001174596A (ja) | 電子ビーム照射装置 | |
| GB2049739A (en) | Vacuum evaporation using a modulated electron beam and x-ray opaque screen | |
| KR20000048121A (ko) | 이온빔 가공장치 및 그 이온원의 운전방법 | |
| JPH10268100A (ja) | 電子線照射装置 | |
| JP3432545B2 (ja) | 高速原子線を用いる加工装置 | |
| JP4246819B2 (ja) | 静電気除去方法及び装置 | |
| JP4406311B2 (ja) | エネルギー線照射装置およびそれを用いたパタン作成方法 | |
| JP2004347510A (ja) | 電子線照射装置、電子線照射方法、および電子線被照射物 | |
| JP2000009900A (ja) | 電子線照射装置および電子線照射方法 | |
| JPH08226927A (ja) | 走査型プローブ顕微鏡用探針のクリーニング装置 | |
| JP3212442B2 (ja) | ダイヤモンド表面吸着水素量の低減方法 | |
| JP4272878B2 (ja) | 電子線照射装置 | |
| US5097178A (en) | RF electron gun with cathode activating device | |
| JP3900996B2 (ja) | 電子線照射処理装置 | |
| JPH10326590A (ja) | イオン注入用ウエハスキャン装置 | |
| JP2006344387A (ja) | 電子ビーム表面改質方法及び装置 | |
| JPH0915399A (ja) | 電子線照射装置 | |
| RU2309993C2 (ru) | Устройство для местной термообработки | |
| JP3557979B2 (ja) | 電子ビーム照射装置 | |
| JPH04113100U (ja) | 電子線照射装置 | |
| JPH11100009A (ja) | 殺菌処理用搬送方法及び装置 | |
| JP3787279B2 (ja) | 粒子線取り出し方法および装置 | |
| JPH08327799A (ja) | 電子線照射装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040210 |