JP2001168079A - 液処理装置及び液処理方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 装置の小型化及び低廉化を図ると共に、処理
液の有効利用を図れるようにすること。 【解決手段】 処理に供される新規薬液を二重槽構造の
一部を構成する内側タンク１内に貯留すると共に、内側
タンク１からオーバーフローさせて内側タンク１を収容
する外側タンク２内に貯留させ、処理初期時に、外側タ
ンク２内の薬液を処理部に供給し、処理部にて処理に供
された薬液を外側タンク２内に戻し、その後、内側タン
ク１内の新規薬液を処理部に供給する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、液処理装置及び
液処理方法に関するもので、更に詳細には、例えば半導
体ウエハやＬＣＤ用ガラス基板等の被処理体に処理液例
えば薬液等を供給して洗浄等の処理をする液処理装置及
び液処理方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】一般に、半導体デバイスの製造工程やＬ
ＣＤ製造工程においては、半導体ウエハやＬＣＤ用ガラ
ス等の被処理体（以下にウエハ等という）に付着したレ
ジストやドライ処理後の残渣（ポリマ等）を除去するた
めに、処理液等を用いる液処理装置（方法）が広く採用
されている。

【０００３】従来のこの種の液処理装置において、高価
な薬液等の処理液を有効に利用するために、処理に供す
る新規処理液をリサイクル液として再利用する洗浄処理
方法が知られている。

【０００４】このリサイクル液と新規処理液を用いる方
法では、新規処理液を貯留するタンクと、リサイクル液
を貯留するタンクの２種類を用意し、例えば処理初期時
にはリサイクル液を処理部に供給してウエハ等を一次処
理した後、新規処理液を二次処理に供することにより、
処理液を有効に利用している。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
この種の液処理装置（方法）においては、新規処理液を
貯留するタンクとリサイクル液を貯留するタンクの２種
類を設置する必要があり、また、各タンクに温度コント
ローラや供給ポンプ等の機器類を装備する上、供給管路
等の配管が必要がある。したがって、タンクの設置スペ
ース、温度コントローラや供給ポンプ等の機器類の設置
スペースや配管スペースが大きくなり、装置全体が大型
となるばかりか、装置が高価となるという問題があっ
た。

【０００６】この発明は上記事情に鑑みなされたもの
で、処理部に供給される処理液を貯留する複数のタンク
及び配管等の小スペース化により、装置を小型にすると
共に、処理液の有効利用を図れるようにした液処理装置
及び液処理方法を提供することを目的とするものであ
る。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項１記載の液処理装置は、処理部に供給される
処理液を貯留する２つのタンクの一方を、他方のタンク
内に収容して二重槽構造とし、上記両タンクと上記処理
部とをそれぞれ供給管路を介して接続すると共に、上記
外側のタンクと処理部とを戻り管路を介して接続してな
る、ことを特徴とする。

【０００８】請求項２記載の液処理装置は、処理部に供
給される処理液を貯留する２つのタンクの一方を、他方
のタンク内に収容して二重槽構造とし、上記外側タンク
の外周に加熱手段を配設してなる、ことを特徴とする。

【０００９】上記請求項２記載の液処理装置において、
上記加熱手段の加熱温度を検出する加熱温度検出手段
と、外側タンク内の処理液の温度を検出する外側タンク
液温検出手段と、上記加熱温度検出手段と外側タンク液
温からの検出信号に基づいて上記加熱手段の加熱温度を
制御する温度制御手段とを具備する方が好ましい（請求
項３）。また、上記加熱手段を、外側タンクを囲繞する
複数に分割された加熱体にて形成すると共に、隣接する
加熱体同士を接離可能に連結する方が好ましい（請求項
４）。

【００１０】また、上記請求項１又は２記載の液処理装
置において、上記内側タンクと液供給源とを液供給管路
を介して接続すると共に、内側タンクの上端部に、この
内側タンクからオーバーフローする処理液を外側タンク
内に供給するオーバーフロー管路を配設する方が好まし
い（請求項５）。また、上記外側タンクの開口部におけ
る内側タンクとの隙間を可及的に狭くする方が好ましい
（請求項６）。

【００１１】また、請求項７記載の液処理装置は、請求
項１又は２記載の液処理装置において、上記両タンクと
処理部とをそれぞれ接続する供給管路の一部を、切換手
段を介して共通の主供給管路にて形成し、上記主供給管
路に、処理液の供給ポンプを介設することを特徴とす
る。この場合、上記主供給管路における供給ポンプの吐
出側と外側タンクに循環管路を配設する方が好ましい
（請求項８）。また、上記主供給管路における供給ポン
プの吐出側に、この主供給管路から分岐され再び主供給
管路に接続するバイパス管路を配設すると共に、このバ
イパス管路に切換手段及びフィルタを介設する方が好ま
しい（請求項９）。

【００１２】請求項１０記載の液処理方法は、処理に供
される新規処理液を二重槽構造の一部を構成する内側タ
ンク内に貯留すると共に、内側タンクからオーバーフロ
ーさせて内側タンクを収容する外側タンク内に貯留さ
せ、処理初期時に、上記外側タンク内の新規処理液を処
理部に供給し、処理部にて処理に供された処理液を上記
外側タンク内に戻し、その後、上記内側タンク内の新規
処理液を処理部に供給する、ことを特徴とする。

【００１３】請求項１１記載の液処理方法は、処理に供
される新規処理液を二重槽構造の一部を構成する内側タ
ンク内に貯留し、少なくとも一度処理に供された処理液
を二重槽構造の一部を構成する外側タンク内に貯留し、
処理初期時に、上記外側タンク内の処理液を処理部に供
給し、その後、上記内側タンク内の新規処理液を処理部
に供給する、ことを特徴とする。

【００１４】上記請求項１０又は１１記載の液処理方法
において、上記外側タンクの外周部に配設される加熱手
段によって外側タンク内の処理液を加熱すると共に、こ
の加熱された処理液の熱容量を利用して内側タンク内の
処理液を加熱するようにし、上記加熱手段の温度を検出
する加熱温度検出手段と、上記外側タンク内の処理液の
温度を検出する外側タンク液温検出手段からの検出信号
に基づいて上記外側タンク内及び内側タンク内の処理液
の温度を所定温度に制御する方が好ましい（請求項１
２）。

【００１５】請求項１，５，１１記載の発明によれば、
処理に供される処理液を二重槽構造の一部を構成する内
側タンク内に貯留すると共に、内側タンクを収容する外
側タンク内に貯留させ、処理初期時に、外側タンク内の
処理液を処理部に供給し、処理部にて処理に供された処
理液を外側タンク内に戻し、その後、内側タンク内の新
規処理液を処理部に供給することができる。したがっ
て、複数のタンクの設置スペースを小さくすることがで
きると共に、配管スペースを小さくすることができるの
で、装置の小型化を図ることができる。また、同一種類
の新規処理液とリサイクル液とを使用することができる
ので、処理液の有効利用を図ることができる。また、両
タンク内が空の状態においては、処理に供される新規処
理液を二重槽構造の一部を構成する内側タンク内に貯留
すると共に、内側タンクからオーバーフローさせて内側
タンクを収容する外側タンク内に貯留させ、処理初期時
に、上記外側タンク内の新規処理液を処理部に供給し、
処理部にて処理に供された処理液を上記外側タンク内に
戻し、その後、上記内側タンク内の新規処理液を処理部
に供給することができる（請求項１０）。

【００１６】請求項２記載の発明によれば、処理部に供
給される処理液を貯留する２つのタンクの一方を、他方
のタンク内に収容して二重槽構造とし、外側タンクの外
周に加熱手段を配設することにより、１つの加熱手段に
よって内外タンク内に貯留される処理液を加熱・保温す
ることができる。この場合、加熱手段の温度を検出する
加熱温度検出手段と、外側タンク内の処理液の温度を検
出する外側タンク液温検出手段と、加熱温度検出手段と
外側タンク液温からの検出信号に基づいて加熱手段の加
熱温度を制御する温度制御手段とを具備することによ
り、外側タンク内及び内側タンク内の処理液の温度を所
定温度に制御することができる（請求項３，１２）。ま
た、加熱手段を、外側タンクを囲繞する複数に分割され
た加熱体にて形成すると共に、隣接する加熱体同士を接
離可能に連結することにより、加熱体を、加熱手段の加
熱によるタンクの膨脹に追従させてタンクに近接させる
ことができるので、加熱効率の向上を図ることができる
（請求項４）。

【００１７】請求項６記載の発明によれば、外側タンク
の開口部における内側タンクとの隙間を可及的に狭くす
ることにより、外側タンク内に貯留された処理液が外気
と接触する面積を少なくすることができるので、処理液
の空気との接触による化学反応や劣化を抑制することが
でき、処理液の品質や性能の維持を図ることができる。

【００１８】請求項７記載の発明によれば、内側及び外
側の両タンクと処理部とをそれぞれ接続する供給管路の
一部を、切換手段を介して共通の主供給管路にて形成
し、主供給管路に、処理液の供給ポンプを介設してなる
ので、供給管路や供給ポンプ等の供給系統の共通化が図
れると共に、装置の小型化及び装置の低廉化を図ること
ができる。この場合、主供給管路における供給ポンプの
吐出側と外側タンクに循環管路を配設することにより、
処理液の供給待機中に外側タンク内に貯留された処理液
を循環させることができるので、供給開始と同時に処理
液を処理部に供給することができる（請求項８）。した
がって、処理効率の向上を図ることができる。また、外
側タンク内の処理液を循環させることで、内側タンクと
外側タンク内の処理液の温度分布を均一にすることがで
きるので、この点においても処理性能の向上が図れると
共に、処理の信頼性の向上が図れる。

【００１９】また、主供給管路における供給ポンプの吐
出側に、この主供給管路から分岐され再び主供給管路に
接続するバイパス管路を配設すると共に、このバイパス
管路に切換手段及びフィルタを介設することにより、内
側タンク内の処理液と外側タンク内の処理液の供給経路
を切り換えることができる（請求項９）。したがって、
新規処理液と処理に供したリサイクル液の供給路を切り
換えて使用することができ、供給管路の寿命を増大させ
ることができる。

【００２０】

【発明の実施の形態】以下に、この発明の実施の形態を
図面に基づいて詳細に説明する。この実施形態では半導
体ウエハの洗浄・乾燥処理装置に適用した場合について
説明する。

【００２１】図１は、この発明に係る液処理装置を適用
した洗浄・乾燥処理装置の一例を示す概略構成図、図２
は、液処理装置における処理液の配管系統を示す概略配
管図である。

【００２２】上記液処理装置２０は、図１に示すよう
に、被処理体であるウエハＷを保持する回転可能な保持
手段例えばロータ２１と、このロータ２１を水平軸を中
心として回転駆動する駆動手段であるモータ２２と、ロ
ータ２１にて保持されたウエハＷを包囲する複数例えば
２つの処理部｛具体的には第１の処理室，第２の処理
室｝の内チャンバ２３，外チャンバ２４と、これら内チ
ャンバ２３又は外チャンバ２４内に収容されたウエハＷ
に対して処理液例えばレジスト剥離液，ポリマ除去液等
の薬液の供給手段５０、この薬液の溶剤例えばイソプロ
ピルアルコール（ＩＰＡ）の供給手段６０、リンス液例
えば純水等の供給手段（リンス液供給手段）７０又は例
えば窒素（Ｎ2）等の不活性ガスや清浄空気等の乾燥気
体（乾燥流体）の供給手段８０｛図１では薬液供給手段
５０と乾燥流体供給手段８０を示す。｝と、内チャンバ
２３を構成する内筒体２５と外チャンバ２４を構成する
外筒体２６をそれぞれウエハＷの包囲位置とウエハＷの
包囲位置から離れた待機位置に切り換え移動する移動手
段例えば第１，第２のシリンダ２７，２８及びウエハＷ
を図示しないウエハ搬送チャックから受け取ってロータ
２１に受け渡すと共に、ロータ２１から受け取ってウエ
ハ搬送チャックに受け渡す被処理体受渡手段例えばウエ
ハ受渡ハンド２９とで主要部が構成されている。

【００２３】上記のように構成される液処理装置２０に
おけるモータ２２、処理流体の各供給手段５０，６０，
７０，８０｛図１では薬液供給手段５０と乾燥流体供給
手段８０を示す。｝の供給部、ウエハ受渡ハンド２９等
は制御手段例えば中央演算処理装置３０（以下にＣＰＵ
３０という）によって制御されている。

【００２４】また、上記ロータ２１は、水平に配設され
るモータ２２の駆動軸２２ａに片持ち状に連結されて、
ウエハＷの処理面が鉛直になるように保持し、水平軸を
中心として回転可能に形成されている。この場合、ロー
タ２１は、モータ２２の駆動軸２２ａにカップリング
（図示せず）を介して連結される回転軸（図示せず）を
有する第１の回転板２１ａと、この第１の回転板２１ａ
と対峙する第２の回転板２１ｂと、第１及び第２の回転
板２１ａ，２１ｂ間に架設される複数例えば４本の固定
保持棒３１と、これら固定保持棒３１に列設された保持
溝（図示せず）によって保持されたウエハＷの上部を押
さえる図示しないロック手段及びロック解除手段によっ
て押え位置と非押え位置とに切換移動する一対の押え棒
３２とで構成されている。この場合、モータ２２は、予
めＣＰＵ３０に記憶されたプログラムに基づいて所定の
高速回転と低速回転を選択的に繰り返し行い得るように
制御されている。

【００２５】一方、処理部例えば内チャンバ２３（第１
の処理室）は、第１の固定壁３４と、この第１の固定壁
３４と対峙する第２の固定壁３８と、これら第１の固定
壁３４及び第２の固定壁３８との間にそれぞれ第１及び
第２のシール部材４０ａ，４０ｂを介して係合する内筒
体２５とで形成されている。すなわち、内筒体２５は、
移動手段である第１のシリンダ２７の伸張動作によって
ロータ２１と共にウエハＷを包囲する位置まで移動され
て、第１の固定壁３４との間に第１のシール部材４０ａ
を介してシールされると共に、第２の固定壁３８との間
に第２のシール部材４０ｂを介してシールされた状態で
内チャンバ２３（第１の処理室）を形成する。また、第
１のシリンダ２７の収縮動作によって固定筒体３６の外
周側位置（待機位置）に移動されるように構成されてい
る。この場合、内筒体２５の先端開口部は第１の固定壁
３４との間に第１のシール部材４０ａを介してシールさ
れ、内筒体２５の基端部は固定筒体３６の中間部に周設
された第３のシール部材４０ｃを介してシールされて、
内チャンバ２３内に残存する薬液の雰囲気が外部に漏洩
するのを防止している。

【００２６】また、外チャンバ２４（第２の処理室）
は、待機位置に移動された内筒体２５との間にシール部
材４０ｂを介在する第１の固定壁３４と、第２の固定壁
３８と、第２の固定壁３８と内筒体２５との間にそれぞ
れ第４及び第５のシール部材４０ｄ，４０ｅを介して係
合する外筒体２６とで形成されている。すなわち、外筒
体２６は、移動手段である第２のシリンダ２８の伸張動
作によってロータ２１と共にウエハＷを包囲する位置ま
で移動されて、第２の固定壁３８との間に第４のシール
部材４０ｄを介してシールされると共に、内筒体２５の
先端部外方に位置する第５のシール部材４０ｅを介して
シールされた状態で、外チャンバ２４（第２の処理室）
を形成する。また、第２のシリンダ２８の収縮動作によ
って固定筒体３６の外周側位置（待機位置）に移動され
るように構成されている。この場合、外筒体２６と内筒
体２５の基端部間には第５のシール部材４０ｅが介在さ
れて、シールされている。したがって、内チャンバ２３
の内側雰囲気と、外チャンバ２４の内側雰囲気とは、互
いに気水密な状態に離隔されるので、両チャンバ２３，
２４内の雰囲気が混じることなく、異なる処理流体が反
応して生じるクロスコンタミネーションを防止すること
ができる。

【００２７】上記のように構成される内筒体２５と外筒
体２６は共に先端に向かって拡開するテーパ状に形成さ
れている。このように内筒体２５及び外筒体２６を、一
端に向かって拡開するテーパ状に形成することにより、
処理時に内筒体２５又は外筒体２６内でロータ２１が回
転されたときに発生する気流が拡開側へ渦巻き状に流
れ、内部の薬液等が拡開側へ排出し易くすることができ
る。また、内筒体２５と外筒体２６とを同一軸線上に重
合する構造とすることにより、内筒体２５と外筒体２６
及び内チャンバ２３及び外チャンバ２４の設置スペース
を少なくすることができると共に、装置の小型化が図れ
る。

【００２８】一方、上記処理液供給手段のうち、薬液例
えばポリマ除去液の供給手段５０は、図２に示すよう
に、処理部すなわち内筒体２５内に取り付けられる薬液
供給ノズル５１と、薬液供給部５２と、これら薬液供給
ノズル５１と薬液供給部５２とを接続する薬液供給管路
５３を具備してなる。

【００２９】上記薬液供給部５２は、図３に示すよう
に、薬液供給源３（液供給源）と、この薬液供給源３か
ら供給される新規の薬液を貯留すると共に、処理に供さ
れた薬液を貯留するタンク１０とで主要部が構成されて
いる。

【００３０】上記タンク１０は、薬液開閉弁３ａを介設
する薬液管路３ｂを介して薬液供給源３に接続する新液
を貯留する内側タンク１と、この内側タンク１を内方に
収容する外側タンク２とからなる二重槽構造に構成され
ている。この場合、内側タンク１は有底円筒状のステン
レス製容器にて形成されている。また、外側タンク２
は、大径の胴部２ａと小径の開口部２ｂと開口部２ｂ側
に向かって漸次狭小テーパ状の肩部２ｃとを有する有底
円筒状のステンレス製容器にて形成されている。ここ
で、肩部２ｃを開口部２ｂ側に向かって漸次狭小テーパ
状としたのは、外側タンク２内に貯留される薬液が開口
部２ｂに充満される過程で肩部２ｃに空気が溜まるのを
防止するためである。また、外側タンク２の外周面に
は、外側タンク２を囲繞するように加熱手段であるヒー
タ４が配設されている。

【００３１】この場合、内側タンク１の上端部には、こ
の内側タンク１からオーバーフローする薬液を外側タン
ク２内に供給するオーバーフロー管路５が配設されてい
る（図４参照）。したがって、薬液供給源３から内側タ
ンク１内に供給される新規の薬液が内側タンク１内に充
満された後、オーバーフロー管路５を介して外側タンク
２内に供給される。また、図３及び図４に示すように、
外側タンク２の開口部２ｂにおける内側タンク１との隙
間Ｓが狭く形成されている。この隙間Ｓは外側タンク２
内に貯留される薬液の液面が検出できる面積であれば可
及的に狭い方がよい。その理由は、内側タンク１と外側
タンク２の隙間Ｓが狭い程、外側タンク２内に貯留され
る薬液の液面の外気と接触する面積を少なくすることが
できるので、薬液の空気との接触による化学反応や劣化
を抑制することができ、薬液の品質や性能の維持を図る
ことができるからである。

【００３２】なお、内側タンク１及び外側タンク２の開
口部には、パージガス供給管路６とガス抜き管路６Ａが
接続されており、両タンク１，２内に貯留される薬液が
外気に晒されて雰囲気が変化するのを防止するために、
図示しない不活性ガス例えばＮ2ガス等のパージガス供
給源に接続するパージガス供給管路６からパージガス例
えばＮ2ガスが供給されるようになっている。なお、外
側タンク２の外方近接部にはそれぞれ静電容量型の上限
センサ７ａ，秤量センサ７ｂ，ヒータオフ下限センサ７
ｃ及び下限センサ７ｄが配設されており、これらセンサ
７ａ〜７ｄは制御部３０（ＣＰＵ）に接続されている。
この場合、センサ７ａ〜７ｄは必ずしも静電容量型であ
る必要はなく、液面を検出できるものであればその他の
形式のセンサであってもよい。これらセンサ７ａ〜７ｄ
のうち、上限センサ７ａと下限センサ７ｄは、外側タン
ク２内に貯留される薬液の上限液面と下限液面を検出
し、秤量センサ７ｂは、外側タンク２内に実際に貯留さ
れている薬液の量を検出し、また、ヒータオフ下限セン
サ７ｃは、ヒータ４による加熱可能な薬液量を検出し得
るようになっている。なお、内側タンク１の上端部に
は、薬液満杯センサ７ｅが配設されており、この薬液満
杯センサ７ｅによって内側タンク１内から外側タンク２
内に流れる薬液の状態を監視することができるようにな
っている。すなわち、薬液満杯センサ７ｅと上記秤量セ
ンサ７ｂからの検出信号に基づいて制御部３０（ＣＰ
Ｕ）からの制御信号を薬液開閉弁３ａに伝達すること
で、内側タンク１及び外側タンク２内の薬液の液量を管
理することができる。

【００３３】また、内側タンク１内に貯留される薬液
と、外側タンク２内に貯留される薬液は、外側タンク２
の外方近接部に配設される１つのヒータ４によって加熱
・保温されるようになっている。この場合、内側タンク
１内の薬液の温度は、内側タンク薬液温度センサＴａに
よって検出され、外側タンク２内の薬液の温度は、外側
タンク薬液温度センサＴｂによって検出され、また、ヒ
ータ４の温度は、コントロール温度センサＴｃと、オー
バーヒート温度センサＴｄによって検出されるようにな
っている。これら温度センサＴａ〜Ｔｄのうち、外側タ
ンク薬液温度センサＴｂ、コントロール温度センサＴｃ
及びオーバーヒート温度センサＴｄの検出信号を温度制
御部Ｃ1〜Ｃ3で制御して、外側タンク２内の薬液温度、
ヒータ４の加熱温度を所定温度に設定できるようになっ
ている。すなわち、図５に示すように、外側タンク薬液
温度センサＴｂによって検出された検出信号を温度制御
部Ｃ1に伝達して、この温度制御部Ｃ1で外側タンク２内
の温度Ｔ１が例えば８０℃以下であるか否かが判別され
てその信号がＡＮＤ回路部８を介してヒータ４と電源９
とを接続するリード線１１に介設されるソリッド・ステ
ート・リレー１２（ＳＳＲ）に伝達される。一方、コン
トロール温度センサＣ2によって検出された検出信号を
温度制御部Ｃ2に伝達して、この温度制御部Ｃ2でヒータ
４の加熱温度Ｔ２が例えば１５０℃以下であるか否かが
判別されてその信号がＡＮＤ回路部８を介してＳＳＲ１
２に伝達されることで、外側タンク２内の温度Ｔ１＜８
０℃、ヒータ４の加熱温度Ｔ２＜１５０℃のとき、ヒー
タ４がＯＮ状態となり、また、外側タンク２内の温度Ｔ
１≧８０℃又はヒータ４の加熱温度Ｔ２≧１５０℃のと
き、ヒータ４がＯＦＦ状態となるように制御されてい
る。なお、オーバーヒート温度センサＴｄによって検出
された検出信号は温度制御部Ｃ3に伝達されて、温度制
御部Ｃ3によってヒータ温度Ｔ3が例えば２００℃より高
いか低いかが判別され、Ｔ3＞２００℃のとき、その信
号がリード線１１に介設されるマグネット・コンダクタ
１３に伝達されて、ヒータ４への通電が遮断されるよう
になっている。

【００３４】上記のようにして温度センサＴｂ〜Ｔｄで
検出された検出信号を温度制御部Ｃ1〜Ｃ3で制御するこ
とにより、外側タンク２内の薬液の温度Ｔ1を所定温
度、すなわち、８０℃＜Ｔ1＜１５０℃に制御すること
で、内側タンク１内の薬液の温度Ｔ０を外側タンク２内
の薬液の温度Ｔ1の熱容量によってＴ1とほぼ等しい温度
に設定することができる。

【００３５】上記ヒータ４は、図６及び図７に示すよう
に、外側タンク２を囲繞する複数例えば８個に分割され
た加熱体４ａにて形成されると共に、隣接する加熱体４
ａ同士が接離可能に連結されている。この場合、各加熱
体４ａは、一側に断面円弧状を有するアルミニウム製の
押出形材にて形成されており、その一端側にヒータ線４
ｃを埋設（貫挿）するヒータ取付部４ｂを有し、他端側
には連結用フランジ４ｄが形成されている。

【００３６】上記のように形成される各加熱体４ａのヒ
ータ取付部４ｂと連結用フランジ４ｄを当接し、そし
て、コイルばね４ｅを介在した連結ボルト４ｆで連結用
フランジ４ｄとヒータ取付部４ｂとを連結することで、
各加熱体４ａ同士を接離可能に連結する。

【００３７】上記のように、ヒータ４を、外側タンク２
を囲繞する複数例えば８個に分割された加熱体４ａにて
形成すると共に、隣接する加熱体４ａ同士が接離可能に
連結することにより、ヒータ４の加熱によって、外側タ
ンク２が膨張し、ヒータ４の停止時に元の状態に収縮し
ても、加熱体４ａを追従させて外側タンク２に近接させ
ることができる。したがって、ヒータ４からの熱を効率
よく外側タンク２に伝達することができる。

【００３８】一方、処理部すなわち内筒体２５内に取り
付けられる薬液供給ノズル５１と、薬液供給部５２とを
接続する薬液供給管路５３は、図１及び図３に示すよう
に、内側タンク１内の薬液を処理部側に供給する第１の
供給管路１４ａと、外側タンク２内の薬液を処理部側に
供給する第２の供給管路１４ｂと、これら第１及び第２
の供給管路１４ａ，１４ｂを連結して共通化する主供給
管路１４ｃとで主に構成されている。この場合、第１の
供給管路１４ａには第１の切換開閉弁１５ａが介設さ
れ、第２の供給管路１４ｂには第２の切換開閉弁１５ｂ
が介設されている。また、主供給管路１４ｃには例えば
ダイアフラム式の供給ポンプ１６が介設されると共に、
この供給ポンプ１６の吐出側に順次、第３の切換開閉弁
１５ｃ、フィルタ１７、第４の切換開閉弁１５ｄが介設
されている。

【００３９】また、主供給管路１４ｃにおける供給ポン
プ１６の吐出側と外側タンク２とは、第５の切換開閉弁
１５ｅを介設した循環管路１８が接続されており、外側
タンク２内から供給される薬液を循環し得るように構成
されている。

【００４０】また、主供給管路１４ｃにおける供給ポン
プ１６の吐出側｛具体的には供給ポンプ１６と第３の切
換開閉弁１５ｃとの間｝と、第３の第３の切換開閉弁１
５ｃの吐出側と循環管路１８の接続部との間には、主供
給管路１４ｃから分岐され再び主供給管路１４ｃに連結
するバイパス管路１９が接続されている。このバイパス
管路１９には、第６の切換開閉弁１５ｆ、フィルタ１９
ａ及び第７の切換開閉弁１５ｇが順次介設されている。
また、外側タンク２の開口部２ｂと処理部には、薬液の
戻り管路５６が接続されており、処理部で処理に供され
た薬液が外側タンク２内に貯留されて、リサイクルに供
されるようになっている。

【００４１】上記のようにして薬液供給管路５３を形成
することにより、外側タンク２内に貯留された薬液を第
２の供給管路１４ｂ、主供給管路１４ｃ、バイパス管路
１９及び主供給管路１４ｃを介して処理部側に供給する
ことができる。また、内側タンク１内に貯留された薬液
（新液）を第１の供給管路１４ａと主供給管路１４ｃを
介して処理部側に供給することができる。また、ウエハ
Ｗの処理の待機時には、外側タンク２内に貯留された薬
液を循環管路１８を介して循環することができる。

【００４２】なお、外側タンク２の底部には排液開閉弁
５７を介設した排液管路５８が接続されている（図３及
び図４参照）。

【００４３】一方、薬液の溶剤例えばＩＰＡの供給手段
６０は、図２に示すように、内筒体２５内に取り付けら
れる上記薬液供給ノズルを兼用する供給ノズル５１（以
下に薬液供給ノズル５１で代表する）と、溶剤供給部６
１と、この供給ノズル５１と薬液供給部５２とを接続す
るＩＰＡ供給管路６２に介設されるポンプ５４、フィル
タ５５、ＩＰＡ供給弁６３を具備してなる。この場合、
溶剤供給部６１は、溶剤例えばＩＰＡの供給源６４と、
このＩＰＡ供給源６４から供給される新規のＩＰＡを貯
留するＩＰＡ供給タンク６１ａと、処理に供されたＩＰ
Ａを貯留する循環供給タンク６１ｂとで構成されてお
り、両ＩＰＡ供給タンク６１ａ，６１ｂには、上記内チ
ャンバ２３の拡開側部位の下部に設けられた第１の排液
ポート４１に接続する第１の排液管４２に図示しない切
換弁（切換手段）を介して循環管路９０が接続されてい
る。図面では、ＩＰＡ供給タンク６１ａ，６１ｂを別個
に配置する場合について説明したが、上記内側タンク１
と外側タンク２と同様に、ＩＰＡ供給タンク６１ａ，６
１ｂを二重槽構造とする方が望ましい。

【００４４】一方、リンス液例えば純水の供給手段７０
は、図２に示すように、第２の固定壁３８に取り付けら
れる純水供給ノズル７１と、純水供給源７２と、純水供
給ノズル７１と純水供給源７２とを接続する純水供給管
路７３に介設される供給ポンプ７４、純水供給弁７５と
を具備してなる。この場合、純水供給ノズル７１は、内
チャンバ２３の外側に位置すると共に、外チャンバ２４
の内側に位置し得るように配設されており、内筒体２５
が待機位置に後退し、外筒体２６がロータ２１とウエハ
Ｗを包囲する位置に移動して外チャンバ２４を形成した
際に、外チャンバ２４内に位置して、ウエハＷに対して
純水を供給し得るように構成されている。なお、純水供
給ノズル７１は、外チャンバ２４に取り付けられるもの
であってもよい。

【００４５】また、外チャンバ２４の拡開側部位の下部
には、第２の排液ポート４５が設けられており、この第
２の排液ポート４５には、図示しない開閉弁を介設した
第２の排液管４６が接続されている。なお、第２の排液
管４６には、純水の比抵抗値を検出する比抵抗計４７が
介設されており、この比抵抗計４７によってリンス処理
に供された純水の比抵抗値を検出し、その信号を上記Ｃ
ＰＵ３０に伝達するように構成されている。したがっ
て、この比抵抗計４７でリンス処理の状況を監視し、適
正なリンス処理が行われた後、リンス処理を終了するこ
とができる。

【００４６】なお、上記外チャンバ２４の拡開側部位の
上部には、第２の排気ポート４８が設けられており、こ
の第２の排気ポート４８には、図示しない開閉弁を介設
した第２の排気管４９が接続されている。

【００４７】また、乾燥流体供給手段８０は、図１及び
図２に示すように、第２の固定壁３８に取り付けられる
乾燥流体供給ノズル８１と、乾燥流体例えば窒素（Ｎ
2）供給源８２と、乾燥流体供給ノズル８１とＮ2供給源
８２とを接続する乾燥流体供給管路８３に介設される開
閉弁８４、フィルタ８５、Ｎ2温度調整器８６とを具備
してなり、かつ乾燥流体供給管路８３におけるＮ2温度
調整器８６の二次側に切換弁８７を介して上記ＩＰＡ供
給管路６２から分岐される分岐管路８８を接続してな
る。この場合、乾燥流体供給ノズル８１は、上記純水供
給ノズル７１と同様に内チャンバ２３の外側に位置する
と共に、外チャンバ２４の内側に位置し得るように配設
されており、内筒体２５が待機位置に後退し、外筒体２
６がロータ２１とウエハＷを包囲する位置に移動して外
チャンバ２４を形成した際に、外チャンバ２４内に位置
して、ウエハＷに対してＮ2ガスとＩＰＡの混合流体を
霧状に供給し得るように構成されている。この場合、Ｎ
2ガスとＩＰＡの混合流体で乾燥した後に、更にＮ2ガス
のみで乾燥する。なお、ここでは、乾燥流体がＮ2ガス
とＩＰＡの混合流体である場合について説明したが、こ
の混合流体に代えてＮ2ガスのみを供給するようにして
もよい。

【００４８】なお、上記薬液供給手段５０、ＩＰＡ供給
手段６０、純水供給手段７０及び乾燥流体供給手段８０
における供給ポンプ１６，５４、薬液供給部５２の第１
〜第７の切換開閉弁１５ａ〜１５ｇ、温度調整器５６，
Ｎ2温度調整器８６、ＩＰＡ供給弁６３及び切換弁８７
は、ＣＰＵ３０によって制御されている（図１参照）。

【００４９】次に、この発明に係る洗浄・乾燥処理装置
の動作態様について説明する。まず、搬入・搬出部（図
示せず）側からウエハ搬送チャックによって搬送される
ウエハＷを処理装置２０の上方、すなわち、内筒体２５
及び外筒体２６が待機位置に後退した状態のロータ２１
の上方位置まで搬送する。すると、ウエハ受渡ハンド２
９が上昇して、ウエハ搬送チャック１０にて搬送された
ウエハＷを受け取り、その後、下降してウエハＷをロー
タ２１の固定保持棒３１上に受け渡した後、ウエハ受渡
ハンド２９は元の位置に移動する。ロータ２１の固定保
持棒３１上にウエハＷを受け渡した後、図示しないロッ
ク手段が作動してウエハ押え棒３２がウエハＷの上側縁
部まで移動してウエハＷの上部を保持する。

【００５０】上記のようにしてロータ２１にウエハＷが
セットされると、内筒体２５及び外筒体２６がロータ２
１及びウエハＷを包囲する位置まで移動して、内チャン
バ２３内にウエハＷを収容する。この状態において、ま
ず、ウエハＷに薬液を供給して薬液処理を行う。この薬
液処理は、ロータ２１及びウエハＷを低速回転例えば１
〜５００ｒｐｍで回転させた状態で所定時間例えば数十
秒間薬液を供給した後、薬液の供給を停止し、その後、
ロータ２１及びウエハＷを数秒間高速回転例えば１００
〜３０００ｒｐｍで回転させてウエハＷ表面に付着する
薬液を振り切って除去する。この薬液供給工程と薬液振
り切り工程を数回から数千回繰り返して薬液処理を完了
する。

【００５１】上記薬液処理工程において、内側タンク１
及び外側タンク２内に薬液が貯留された状態の通常の処
理では、最初に供給される薬液は、外側タンク２内に貯
留された薬液が使用される。すなわち、第２，第６，第
７及び第４の切換開閉弁１５ｂ，１５ｆ，１５ｇ，１５
ｄが開いた状態で供給ポンプ１６が作動することによ
り、外側タンク２内の薬液は、第２の供給管路１４ｂ、
主供給管路１４ｃ、バイパス管路１９及び主供給管路１
４ｃを流れて処理部側に供給される。この際、供給ポン
プ１６を通過した薬液はフィルタ１９ａによって濾過さ
れ、薬液中に混入する不純物や夾雑物等が除去される。
ある一定時間内最初に使用された薬液は第１の排液管４
２から廃棄される。それ以外の薬液は一定時間処理に供
された後、外側タンク２内に戻されて、以後循環供給さ
れる。

【００５２】所定時間薬液を循環供給して処理を行った
後、内側タンク１内の新規薬液が処理部側に供給されて
薬液処理が終了する。内側タンク１内の新規薬液を処理
部側へ供給する場合には、上記第２，第６及び第７の切
換開閉弁１５ｂ，１５ｆ，１５ｇが閉じ、第１，第３及
び第４の切換開閉弁１５ａ，１５ｃ，１５ｄが開く。こ
の状態で供給ポンプ１６が作動することにより、内側タ
ンク１内の新規薬液は、第１の供給管１４ａ及び主供給
管１４ｃを流れて処理部側に供給される。この際、供給
ポンプ１６を通過した新規薬液はフィルタ１７によって
濾過され、薬液中に混入する不純物や夾雑物等が除去さ
れる。また、前回の処理時に供給され、主供給管路１４
ｃに残留した新規薬液は、次回の新規薬液と共にフィル
タ１７によって濾過される。なお、処理に供された新規
薬液は戻り管路５６を介して外側タンク２内に貯留され
る。

【００５３】上記説明では、内側タンク１内と外側タン
ク２内に薬液が貯留された状態の通常の薬液処理につい
て説明したが、内側タンク１及び外側タンク２内に薬液
が貯留されていない空の状態では、以下のようにして薬
液処理を行う。

【００５４】まず、薬液開閉弁３ａを開いて薬液供給源
３から薬液を内側タンク１内に供給すると共に、内側タ
ンク１からオーバーフロー管路５を介して外側タンク２
内に所定量の薬液を貯留する。そして、処理初期時に、
外側タンク２内の新規薬液を処理部側に供給して最初の
薬液処理を行う。その後は、上記通常の薬液処理と同様
に、外側タンク２内の薬液を循環供給した後、内側タン
ク１内の新規薬液を処理部側に供給して、薬液処理を終
了する。

【００５５】なお、薬液処理工程の際には、薬液処理に
供された薬液は第１の排液ポート４１に排出され、切換
弁（図示せず）の動作によって戻り管路５６を介して薬
液供給部５２に循環又は第１の排液管４２に排出される
一方、薬液から発生するガスは第１の排気ポート４３を
介して第１の排気管４４から排気される。

【００５６】薬液処理を行った後、内チャンバ２３内に
ウエハＷを収容したままの状態で、ＩＰＡ供給手段６０
のＩＰＡの供給ノズルを兼用する薬液供給ノズル５１か
ら低速回転例えば１〜５００ｒｐｍで回転させた状態で
所定時間例えば数十秒間ＩＰＡを供給した後、ＩＰＡの
供給を停止し、その後、ロータ２１及びウエハＷを数秒
間高速回転例えば１００〜３０００ｒｐｍで回転させて
ウエハＷ表面に付着するＩＰＡを振り切って除去する。
このＩＰＡ供給工程とＩＰＡ振り切り工程を数回から数
千回繰り返して薬液除去処理を完了する。この薬液除去
処理においても、上記薬液処理工程と同様に、最初に供
給されるＩＰＡは、循環供給タンク６１ｂ内に貯留され
たＩＰＡが使用され、この最初に使用されたＩＰＡは第
１の排液管４２から廃棄され、以後の処理に供されるＩ
ＰＡは供給タンク６１ｂ内に貯留されたＩＰＡを循環供
給する。そして、薬液除去処理の最後に、ＩＰＡ供給源
６４から供給タンク６１ａ内に供給された新規のＩＰＡ
が使用されて、薬液除去処理が終了する。

【００５７】なお、薬液除去処理において、薬液除去処
理に供されたＩＰＡは第１の排液ポート４１に排出さ
れ、切換弁（図示せず）の動作によって溶剤供給部６１
の循環管路９０又は第１の排液管４２に排出される一
方、ＩＰＡガスは第１の排気ポート４３を介して第１の
排気管４４から排気される。

【００５８】薬液処理及びリンス処理が終了した後、内
筒体２５が待機位置に後退して、ロータ２１及びウエハ
Ｗが外筒体２６によって包囲、すなわち外チャンバ２４
内にウエハＷが収容される。したがって、内チャンバ２
３内で処理されたウエハＷから液がしたたり落ちても外
チャンバ２４で受け止めることができる。この状態にお
いて、まず、リンス液供給手段の純水供給ノズル７１か
ら回転するウエハＷに対してリンス液例えば純水が供給
されてリンス処理される。このリンス処理に供された純
水と除去されたＩＰＡは第２の排液ポート４５を介して
第２の排液管４６から排出される。また、外チャンバ２
４内に発生するガスは第２の排気ポート４８を介して第
２の排気管４９から外部に排出される。

【００５９】このようにしてリンス処理を所定時間行っ
た後、外チャンバ２４内にウエハＷを収容したままの状
態で、乾燥流体供給手段８０のＮ2ガス供給源８２及び
ＩＰＡ供給源６４からＮ2ガスとＩＰＡの混合流体を回
転するウエハＷに供給して、ウエハ表面に付着する純水
を除去することで、ウエハＷと外チャンバ２４内の乾燥
を行うことができる。また、Ｎ2ガスとＩＰＡの混合流
体によって乾燥処理した後、Ｎ2ガスのみをウエハＷに
供給することで、ウエハＷの乾燥と外チャンバ２４内の
乾燥をより一層効率よく行うことができる。

【００６０】上記のようにして、ウエハＷの薬液処理、
薬液除去処理、リンス処理及び乾燥処理が終了した後、
外筒体２６が内筒体２５の外周側の待機位置に後退する
一方、図示しないロック解除手段が動作してウエハ押え
棒３２をウエハＷの押え位置から後退する。すると、ウ
エハ受渡ハンド２９が上昇してロータ２１の固定保持棒
３１にて保持されたウエハＷを受け取って処理装置２０
の上方へ移動する。処理装置の上方へ移動されたウエハ
Ｗはウエハ搬送チャックに受け取られて搬入・搬出部に
搬送された後、装置外部に搬送される。

【００６１】なお、上記実施形態では、この発明に係る
液処理装置及び液処理方法を半導体ウエハの洗浄・乾燥
処理装置に適用した場合について説明したが、半導体ウ
エハ以外のＬＣＤ用ガラス基板等にも適用できることは
勿論であり、また、洗浄・乾燥処理装置以外の薬液等の
処理液を用いた液処理装置にも適用できることは勿論で
ある。

【００６２】

【発明の効果】以上に説明したように、この発明によれ
ば、上記のように構成されているので、以下のような効
果が得られる。

【００６３】１）請求項１，５，１０，１１記載の発明
によれば、処理に供される処理液を二重槽構造の一部を
構成する内側タンク内に貯留すると共に、内側タンクを
収容する外側タンク内に貯留させ、処理初期時に、外側
タンク内の処理液を処理部に供給し、処理部にて処理に
供された処理液を外側タンク内に戻し、その後、内側タ
ンク内の新規処理液を処理部に供給することができるの
で、複数のタンクの設置スペースを小さくすることがで
きると共に、配管スペースを小さくすることができ、装
置の小型化を図ることができる。また、同一種類の新規
処理液とリサイクル液とを使用することができるので、
処理液の有効利用を図ることができる。

【００６４】２）請求項２記載の発明によれば、処理部
に供給される処理液を貯留する２つのタンクの一方を、
他方のタンク内に収容して二重槽構造とし、外側タンク
の外周に加熱手段を配設するので、１つの加熱手段によ
って内外タンク内に貯留される処理液を加熱・保温する
ことができる。

【００６５】３）請求項３，１２記載の発明によれば、
加熱手段の温度を検出する加熱温度検出手段と、外側タ
ンク内の処理液の温度を検出する外側タンク液温検出手
段と、加熱温度検出手段と外側タンク液温からの検出信
号に基いて加熱手段の加熱温度を制御する温度制御手段
とを具備するので、上記２）に加えて外側タンク内及び
内側タンク内の処理液の温度を所定温度に制御すること
ができる。

【００６６】４）請求項４記載の発明によれば、加熱手
段を、外側タンクを囲繞する複数に分割された加熱体に
て形成すると共に、隣接する加熱体同士を接離可能に連
結することにより、加熱体を、加熱手段の加熱によるタ
ンクの膨脹に追従させてタンクに近接させることができ
るので、上記２）に加えて加熱効率の向上を図ることが
できる。

【００６７】５）請求項６記載の発明によれば、外側タ
ンクの開口部における内側タンクとの隙間を可及的に狭
くすることにより、外側タンク内に貯留された処理液が
外気と接触する面積を少なくすることができるので、上
記１）、２）に加えて処理液の空気との接触による化学
反応や劣化を抑制することができ、処理液の品質や性能
の維持を図ることができる。

【００６８】６）請求項７記載の発明によれば、内側及
び外側の両タンクと処理部とをそれぞれ接続する供給管
路の一部を、切換手段を介して共通の主供給管路にて形
成し、主供給管路に、処理液の供給ポンプを介設してな
るので、上記１）、２）に加えて供給管路や供給ポンプ
等の供給系統の共通化が図れると共に、装置の小型化及
び装置の低廉化を図ることができる。

【００６９】７）請求項８記載の発明によれば、主供給
管路における供給ポンプの吐出側と外側タンクに循環管
路を配設することにより、処理液の供給待機中に外側タ
ンク内に貯留された処理液を循環させることができるの
で、供給開始と同時に処理液を処理部に供給することが
できる。したがって、上記６）に加えて処理効率の向上
を図ることができる。また、外側タンク内の処理液を循
環させることで、内側タンクと外側タンク内の処理液の
温度分布を均一にすることができるので、この点におい
ても処理性能の向上が図れると共に、処理の信頼性の向
上が図れる。

【００７０】８）請求項９記載の発明によれば、主供給
管路における供給ポンプの吐出側に、この主供給管路か
ら分岐され再び主供給管路に接続するバイパス管路を配
設すると共に、このバイパス管路に切換手段及びフィル
タを介設することにより、内側タンク内の処理液と外側
タンク内の処理液の供給経路を切り換えることができる
ので、上記６）、７）に加えて新規処理液と処理に供し
たリサイクル液の供給路を切り換えて使用することがで
き、供給管路の寿命を増大させることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明に係る処理装置を適用した洗浄・乾燥
処理装置の概略構成図である。

【図２】この発明に係る処理装置における処理液の配管
系統を示す概略配管図である。

【図３】この発明に係る液処理装置の要部を示す概略構
成図である。

【図４】この発明におけるタンクを示す断面図である。

【図５】この発明におけるヒータの制御部を示す概略断
面図である。

【図６】この発明におけるヒータの取付状態を示す平面
図（ａ）及び側面図（ｂ）である。

【図７】上記ヒータの取付部の拡大断面図である。

【符号の説明】

１ 内側タンク ２ 外側タンク ２ｂ 開口部 ３ 薬液供給源 ４ ヒータ ４ａ 加熱体 ４ｅ コイルばね ４ｆ 連結ボルト ５ オーバーフロー管路 ８ ＡＮＤ回路部 １４ａ 第１の供給管路 １４ｂ 第２の供給管路 １４ｃ 主供給管路 １５ａ〜１５ｇ 第１〜第７の切換開閉弁 １６ 供給ポンプ １７ フィルタ １８ 循環管路 １９ バイパス管路 １９ａ フィルタ ２３ 内チャンバ（処理部） ２４ 外チャンバ（処理部） Ｓ 隙間 Ｔａ 内側タンク薬液温度センサ Ｔｂ 外側タンク薬液温度センサ（外側タンク液温検出
手段） Ｔｃ コントロール温度センサ（加熱温度検出手段） Ｔｄ オーバーヒート温度センサ Ｃ１〜Ｃ３ 温度制御部（温度制御手段）

─────────────────────────────────────────────────────

【手続補正書】

【提出日】平成１２年２月９日（２０００．２．９）

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００２４

【補正方法】変更

【補正内容】

【００２４】また、上記ロータ２１は、水平に配設され
るモータ２２の駆動軸２２ａに片持ち状に連結されて、
ウエハＷの処理面が鉛直になるように保持し、水平軸を
中心として回転可能に形成されている。この場合、ロー
タ２１は、モータ２２の駆動軸２２ａにカップリング
（図示せず）を介して連結される回転軸（図示せず）を
有する第１の回転板２１ａと、この第１の回転板２１ａ
と対峙する第２の回転板２１ｂと、第１及び第２の回転
板２１ａ，２１ｂ間に架設される複数例えば４本の固定
保持棒３１と、これら固定保持棒３１に列設された保持
溝（図示せず）によって保持されたウエハＷの上部を押
さえる図示しないロック手段及びロック解除手段によっ
て押え位置と非押え位置とに切換移動する一対の押え棒
３２とで構成されている。この場合、モータ２２は、予
めＣＰＵ３０に記憶されたプログラムに基づいて所定の
高速回転と低速回転を選択的に繰り返し行い得るように
制御されている。なお、モータ２２は冷却手段３７によ
って過熱が抑制されるようになっている。この場合、冷
却手段３７は、冷却パイプ３７ａと、冷却水供給パイプ
３７ｂと、熱交換器３７ｃとを具備してなる（図１参
照）。

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 処理部に供給される処理液を貯留する２
   つのタンクの一方を、他方のタンク内に収容して二重槽
   構造とし、 上記両タンクと上記処理部とをそれぞれ供給管路を介し
   て接続すると共に、上記外側のタンクと処理部とを戻り
   管路を介して接続してなる、ことを特徴とする液処理装
   置。
2. 【請求項２】 処理部に供給される処理液を貯留する２
   つのタンクの一方を、他方のタンク内に収容して二重槽
   構造とし、 上記外側タンクの外周に加熱手段を配設してなる、こと
   を特徴とする液処理装置。
3. 【請求項３】 請求項２記載の液処理装置において、 上記加熱手段の加熱温度を検出する加熱温度検出手段
   と、外側タンク内の処理液の温度を検出する外側タンク
   液温検出手段と、上記加熱温度検出手段と外側タンク液
   温からの検出信号に基づいて上記加熱手段の加熱温度を
   制御する温度制御手段とを具備する、ことを特徴とする
   液処理装置。
4. 【請求項４】 請求項２記載の液処理装置において、 上記加熱手段を、外側タンクを囲繞する複数に分割され
   た加熱体にて形成すると共に、隣接する加熱体同士を接
   離可能に連結してなる、ことを特徴とする液処理装置。
5. 【請求項５】 請求項１又は２記載の液処理装置におい
   て、 上記内側タンクと液供給源とを液供給管路を介して接続
   すると共に、内側タンクの上端部に、この内側タンクか
   らオーバーフローする処理液を外側タンク内に供給する
   オーバーフロー管路を配設してなる、ことを特徴とする
   液処理装置。
6. 【請求項６】 請求項１、２又は５記載の液処理装置に
   おいて、 上記外側タンクの開口部における内側タンクとの隙間を
   可及的に狭くした、ことを特徴とする液処理装置。
7. 【請求項７】 請求項１又は２記載の液処理装置におい
   て、 上記両タンクと処理部とをそれぞれ接続する供給管路の
   一部を、切換手段を介して共通の主供給管路にて形成
   し、上記主供給管路に、処理液の供給ポンプを介設して
   なる、ことを特徴とする液処理装置。
8. 【請求項８】 請求項７記載の液処理装置において、 上記主供給管路における供給ポンプの吐出側と外側タン
   クに循環管路を配設してなる、ことを特徴とする液処理
   装置。
9. 【請求項９】 請求項７又は８記載の液処理装置におい
   て、 上記主供給管路における供給ポンプの吐出側に、この主
   供給管路から分岐され再び主供給管路に接続するバイパ
   ス管路を配設すると共に、このバイパス管路に切換手段
   及びフィルタを介設してなる、ことを特徴とする液処理
   装置。
10. 【請求項１０】 処理に供される新規処理液を二重槽構
    造の一部を構成する内側タンク内に貯留すると共に、内
    側タンクからオーバーフローさせて内側タンクを収容す
    る外側タンク内に貯留させ、 処理初期時に、上記外側タンク内の新規処理液を処理部
    に供給し、処理部にて処理に供された処理液を上記外側
    タンク内に戻し、その後、上記内側タンク内の新規処理
    液を処理部に供給する、ことを特徴とする液処理方法。
11. 【請求項１１】 処理に供される新規処理液を二重槽構
    造の一部を構成する内側タンク内に貯留し、 少なくとも一度処理に供された処理液を二重槽構造の一
    部を構成する外側タンク内に貯留し、 処理初期時に、上記外側タンク内の処理液を処理部に供
    給し、その後、上記内側タンク内の新規処理液を処理部
    に供給する、ことを特徴とする液処理方法。
12. 【請求項１２】 請求項１０又は１１記載の液処理方法
    において、 上記外側タンクの外周部に配設される加熱手段によって
    外側タンク内の処理液を加熱すると共に、この加熱され
    た処理液の熱容量を利用して内側タンク内の処理液を加
    熱するようにし、 上記加熱手段の温度を検出する加熱温度検出手段と、上
    記外側タンク内の処理液の温度を検出する外側タンク液
    温検出手段からの検出信号に基づいて上記外側タンク内
    及び内側タンク内の処理液の温度を所定温度に制御す
    る、ことを特徴とする液処理方法。