JP2001151790A - セラミド脂質部位を有する新規なｇｌａ−６０類縁体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】生理活性と毒性とが分離された医薬として有用
な新規なＧＬＡ−６０類縁体を提供する。 【解決手段】 【化１】 ［式中、Ｒ¹、Ｒ²およびＲ³は、置換基Ｙ群より選択さ
れる同一、または異なる置換基を１乃至５個有していて
も良いＣ6−Ｃ20アルカノイル基を示し、Ｒ⁴は、置換基
Ｙ群より選択される同一又は異なる置換基を１乃至５個
有していてもよいＣ6−Ｃ20アルキル基を示し、Ａは水
酸基；ハロゲン原子；又はＣ1−Ｃ3アルコキシ基を示
し、Ｂは、単結合又は二重結合を示し、置換基Ｙ群は、
ハロゲン原子；水酸基；ハロゲン原子又は水酸基で置換
されていてもよいＣ6−Ｃ20アルカノイルオキシ基から
なる］であらわされる化合物、その薬理学上許容される
塩、そのエステル又はその他の誘導体並びにこれらを含
有する医薬組成物。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、新規なＧＬＡ−６
０誘導体またはその塩、及びそれらを有効成分とする医
薬組成物に関する。さらに、本発明は、該誘導体製造の
ための中間体に関する。

【０００２】

【従来の技術】腸内細菌から得られたグラム陰性菌の細
胞壁の最表層には菌体外に分泌されない毒成分（内毒
素）が含まれており、この内毒素は内毒素活性以外にも
生体の自己防衛にかかわる免疫自己アジュバント活性作
用、マクロファージ活性化作用、マクロファージ抑制作
用、マイトジェン活性作用、発熱作用、腫瘍壊死作用、
抗体産生増強作用またはＴＮＦ誘導作用等の多用な生理
活性を示す。

【０００３】この内毒素はリポ多糖よりなり、その脂質
部位であるリピッドＡと呼ばれる下記式（III)で表され
る部分が内毒素の活性中心であることが確認されてい
る。（井元ら、テトラへドロンレターズ、２６巻１５４
５（１９８５）） 一方、リピッドＡの右半分の構造を有する下記式（IV)
で表されるリピッドＸが、リピッドＡ生合成前駆体とし
て、E.coli 変異株より分離されている（木曽ら、アグ
リカルチュラル・バイオロジカル・ケミストリー、第４
８巻、２５１項(１９８４年)、木曽ら、カルボハイドレ
ート・リサーチ、第１６２項１２７項（１９８７
年））。また、リピッドＡの左半分の構造を有する下記
式（V)で表されるＧＬＡ−６０誘導体が合成されている
が（カルボハイドレート・リサーチ、第１６２項１２７
項（１９８７年））、これらのモノサッカライド類は、
リピッドＡと同様の活性を示すことが知られている（松
浦ら、フェブス・レターズ、第１６７巻、２２８項（１
９８４年））。

【０００４】一方、下記式（VI）で示されるセラミド
は、スフィンゴリン脂質やスフィンゴ糖脂質の構成成分
であり、スフィンゴシン又はその同族体のアミノ基に脂
肪酸が酸アミド結合したものである。セラミド誘導体の
うち、セラミドの水酸基と糖類とがエーテル結合して生
成した誘導体は多数合成されているが、本発明の化合物
のようなリン酸残基を有する、ＧＬＡ−６０のような糖
との誘導体の例はまだ見出されていない。

【０００５】

【化３】

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】上記リピッドＡ及びリ
ピッドＸは、前述したように強いマクロファージ活性化
作用を示し、免疫賦活剤または抗腫瘍剤としての可能性
を有している。また、人為的に合成されたリピッドＡ、
Ｘ又はＧＬＡ−６０の類縁化合物のあるものは、マクロ
ファージの活性化を抑える性質を有するものもあり、抗
炎症剤、抗自己免疫疾患剤、免疫抑制剤としての可能性
をも有しているが、一方では細菌の内毒素類似物質であ
ることによる発熱作用等の毒性を有していることから、
医薬品としての実用にはいたっていない。

【０００７】発明者の課題は、有用な生理活性（マクロ
ファージ抑制作用）と毒性とが分離された医薬として有
用なリピッドＡ、Ｘ又はＧＬＡ−６０の類縁化合物を開
発することである。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明者は上記した有用
なリピッドＡ、Ｘ又はＧＬＡ−６０の類縁体の探索研究
において、１位にセラミド脂質部位を有する新規ＧＬＡ
−６０の類縁体が、マクロファージ抑制作用を有するこ
とを見出し、本発明を完成した。

【０００９】即ち、本発明は、一般式（I）

【００１０】

【化４】

【００１１】［式中、Ｒ¹、Ｒ²およびＲ³は、置換基Ｙ
群より選択される同一、または異なる置換基を１乃至５
個有していても良いＣ6−Ｃ20アルカノイル基を示し、
Ｒ⁴は、置換基Ｙ群より選択される同一又は異なる置換
基を１乃至５個有していても良いＣ6−Ｃ20アルキル基
を示し、Ａは水酸基；ハロゲン原子；又はＣ1−Ｃ3アル
コキシ基を示し、Ｂは、単結合又は二重結合を示し、置
換基Ｙ群は、ハロゲン原子；水酸基；ハロゲン原子又は
水酸基で置換されていてもよいＣ6−Ｃ20アルカノイル
オキシ基からなる］であらわされる化合物、その薬理学
上許容される塩、そのエステル又はその他の誘導体を提
供するものである。

【００１２】また、本発明は、上記一般式(Ｉ)の化合物
を含有する医薬組成物である。

【００１３】本発明は、医薬組成物が、マクロファージ
抑制作用剤である医薬組成物である。

【００１４】また、本発明は、一般式（II）

【００１５】

【化５】

【００１６】［式中、Ｑは水素、アルキル基、シリル
基、またはアシル基を示し、Ｓはアジド基、アミノ基ま
たはアシル基か前記Ｒ³の置換基を有するアミノ基、Ｔ
はハロゲン原子で置換されていてもよいＣ2−Ｃ5アルコ
キシカルボニル基、水素または前記Ｒ¹を示し、Ｕは前
記Ｒ²、ＶはＣ1−Ｃ2アルキル基、Ｃ3−Ｃ4アルケニル
基、Ｃ6−Ｃ10アリール基、またはＣ7アラルキル基を示
し、Ｗは水酸基、シリル基で保護された水酸基、ハロゲ
ン原子、またはＣ1−Ｃ3アルコキシ基を示し、Ｒ⁴は、
前記置換基Ｙ群より選択される同一又は異なる置換基を
１乃至５個有していても良いＣ6−Ｃ20のアルコキシ基
を示し、Ｂは単結合又は二重結合を示し、Ｒ¹、Ｒ²、及
びＲ³が置換基として水酸基を有する場合、該水酸基は
保護されていても良く、該水酸基の保護基はアルキル
基、シリル基またはアシル基である］で表される化合物
である。

【００１７】

【発明の実施の形態】以下に、本発明を詳細に説明す
る。

【００１８】上記一般式（I)において、Ａ及び置換基Ｙ
群における「ハロゲン原子」は、フッ素原子；塩素原
子；臭素原子；ヨウ素原子を示すが、好適にはフッ素原
子又は塩素原子であり、更に好適にはフッ素原子であ
る。

【００１９】置換基Ｙ群のＣ6−Ｃ20アルカノイルオキ
シ基がハロゲン原子で置換される場合のハロゲン原子の
置換基数は、1乃至４個であり、好適には1乃至２個であ
り、特に好適には1個である。置換基Ｙ群のＣ6−Ｃ20ア
ルカノイル基におけるハロゲン原子の置換位置は、2
位、３位又は4位であるが、好適には2位又は3位であ
り、特に好適には2位である。

【００２０】置換基Ｙ群のＣ6−Ｃ20アルカノイル基が
水酸基で置換される場合の水酸基の置換基数は、１乃至
３個であり、好適には、１乃至２個である。置換基Ｙ群
のＣ6−Ｃ20アルカノイル基における水酸基の置換位置
は、１乃至５位であり、好適には、３位である。

【００２１】置換基Ｙ群における「Ｃ6−Ｃ20アルカノ
イルオキシ基」又はＲ¹、Ｒ²およびＲ³における、「Ｃ6
−Ｃ20アルカノイル基」は、例えば、ヘキサノイル（オ
キシ）、イソヘキサノイル（オキシ）、ヘプタノイル
（オキシ）、イソヘプタノイル（オキシ）、オクタノイ
ル、イソオクタノイル（オキシ）、ノナノイル（オキ
シ）、イソノナノイル（オキシ）デカノイル（オキ
シ）、イソデカノイル（オキシ）、ウンデシリル（オキ
シ）、イソウンデシリル（オキシ）、ラウロイル（オキ
シ）、イソラウロイル（オキシ）、トリデカノイル（オ
キシ）、イソトリデカノイル（オキシ）、ミリストイル
（オキシ）、ペンタデカノイル（オキシ）、パルミトイ
ル、ヘプタデカノイル、ステアロイル（オキシ）、ノナ
デカノイル又はエイコサノイルのような炭素数６乃至20
個の直鎖又は分枝鎖のアルカノイル（オキシ）が挙げら
る。

【００２２】好適な置換基Ｙ群中のアルカノイルオキシ
基は、Ｃ10−Ｃ18アルカノイルオキシ基であり、更に好
適には、Ｃ12−Ｃ16アルカノイルオキシ基であり、より
更に好適には、Ｃ12−Ｃ14アルカノイルオキシ基であ
り、特に好適には、ミリストイルオキシ基である。

【００２３】また、好適なＲ¹は、Ｃ2−Ｃ６又はＣ10−
Ｃ18アルカノイル基が挙げられ、更に好適には、Ｃ2−
Ｃ4又はＣ12−Ｃ16アルカノイル基であり、より更に好
適には、アセチル基又はＣ12−Ｃ14アルカノイル基であ
り、特に好適には、ミリストイル基である。

【００２４】好適なＲ²は、Ｃ10−Ｃ18アルカノイル基
であり、更に好適には、Ｃ12−Ｃ16アルカノイル基であ
り、より更に好適には、Ｃ12−Ｃ14アルカノイル基であ
り、特に好適には、ミリストイル基である。

【００２５】好適なＲ³は、Ｃ10−Ｃ20アルカノイル基
が挙げられ、更に好適には、Ｃ16−Ｃ20アルカノイル基
であり、特に好適には、オクタデカノイル基である。

【００２６】好適なＲ⁴のアルキル基としては、Ｃ10−
Ｃ16アルキル基が挙げられ、更に好適には、トリデシル
基が挙げられる。

【００２７】また、 Ｒ¹、Ｒ²およびＲ³における「Ｃ6
−Ｃ20アルカノイル基」の置換基Ｙ群より置換される場
合の選択される置換基の数は１乃至５個であるが、好ま
しくは、１乃至２個である。置換基のアルカノイル基に
おける置換位置は、１乃至５位が挙げられ、好ましくは
１乃至３位である。

【００２８】Ｒ¹、Ｒ²およびＲ³における「Ｃ6−Ｃ20ア
ルカノイル基」の置換基Ｙ群より選択される好ましい置
換基としては、水酸基、フッ素原子が挙げられる。

【００２９】また、Ｒ⁴における「Ｃ6−Ｃ20アルキル
基」の置換基Ｙ群より置換される場合の選択される置換
基の数は１乃至５個であるが、好ましくは、１乃至２個
である。置換基のアルキル基における置換位置は、５位
乃至７位が挙げられる。

【００３０】Ｒ⁴における「Ｃ6−Ｃ20アルキル基」の置
換基Ｙ群より選択される好ましい置換基としては、水酸
基、フッ素原子等が挙げられる。

【００３１】また、Ａにおける「Ｃ1−Ｃ3アルコキシ
基」とは、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシの
ような炭素数１乃至３個の直鎖又は分枝鎖のアルコキシ
基が挙げられる。好適には、メトキシ基である。

【００３２】また、Ｂは、単結合又は二重結合を示す。

【００３３】「その薬理上許容される塩」とは、本発明
の化合物(I)は、アミノ基のような塩基性の基を有する
場合には酸と反応させることにより、又、カルボキシ基
のような酸性基を有する場合には塩基と反応させること
により、塩にすることができるので、その塩を示す。

【００３４】塩基性基に基づく塩としては、好適には、
フッ化水素酸塩、塩酸塩、臭化水素酸塩、ヨウ化水素酸
塩のようなハロゲン化水素酸塩、硝酸塩、過塩素酸塩、
硫酸塩、燐酸塩等の無機酸塩；メタンスルホン酸塩、ト
リフルオロメタンスルホン酸塩、エタンスルホン酸塩の
ような低級アルカンスルホン酸塩、べンゼンスルホン酸
塩、p−トルエンスルホン酸塩のようなアリールスルホ
ン酸塩、酢酸塩、りんご酸塩、フマール酸塩、コハク酸
塩、クエン酸塩、アスコルビン酸塩、酒石酸塩、蓚酸
塩、マレイン酸塩等の有機酸塩；及び、グリシン塩、リ
ジン塩、アルギニン塩、オルニチン塩、グルタミン酸
塩、アスパラギン酸塩のようなアミノ酸塩を挙げること
ができる。

【００３５】一方、酸性基に基づく塩としては、好適に
は、ナトリウム塩、カリウム塩、リチウム塩のようなア
ルカリ金属塩、カルシウム塩、マグネシウム塩のような
アルカリ土類金属塩、アルミニウム塩、鉄塩等の金属
塩；アンモニウム塩のような無機塩、t−オクチルアミ
ン塩、ジべンジルアミン塩、モルホリン塩、グルコサミ
ン塩、フェニルグリシンアルキルエステル塩、エチレン
ジアミン塩、Ｎ−メチルグルカミン塩、グアニジン塩、
ジエチルアミン塩、トリエチルアミン塩、ジシクロヘキ
シルアミン塩、Ｎ,Ｎ'−ジべンジルエチレンジアミン
塩、クロロプロカイン塩、プロカイン塩、ジエタノール
アミン塩、Ｎ−べンジルフェネチルアミン塩、ピぺラジ
シ塩、テトラメチルアンモニウム塩、トリス(ヒドロキ
シメチル)アミノメタン塩のような有機塩等のアミン
塩；及び、グリシン塩、リジン塩、アルギニン塩、オル
チニン塩、グルタミン酸塩、アスパラギン酸塩のような
アミノ酸塩を挙げることができる。

【００３６】「そのエステル又はその他の誘導体」と
は、本発明の化合物が有する官能基（例えぱ、水酸基、
カルボキシ基、アミノ基など）を常法にしたがって、保
護基などで修飾することによって得られる化合物であっ
て、生体に投与することによって、本発明の化合物
（I）に変換される誘導体を示す。そのような誘導体か
否かは、その化合物をラットやマウスのような実験動物
に静脈内若しくは経口投与し、その後の動物の体液を調
べ、本発明の化合物（I）又はその薬理上許容される塩
を検出できることにより決定できる。

【００３７】「エステル」とは、本発明の化合物(I)
は、エステルにすることができるので、そのエステルを
いい、そのようなエステルとしては、「水酸基のエステ
ル」及び「カルボキシ基のエステル」を挙げることがで
き、各々のエステル残基が「一般的保護基」又は「生体
内で加水分解のような生物学的方法により開裂し得る保
護基」であるエステルをいう。

【００３８】「一般的保護基」とは、加水素分解、加水
分解、電気分解、光分解のような化学的方法により開裂
し得る保護基をいう。

【００３９】「水酸基のエステル」に斯かる「一般的保
護基」としては、好適には、ホルミル、アセチル、プロ
ピオニル、ブチリル、イソブチリル、ぺンタノイル、ピ
バロイル、バレリル、イソバレリル、オクタノイル、ノ
ナノイル、デカノイル、3−メチルノナノイル、8−メチ
ルノナノイル、3−エチルオクタノイル、3,7−ジメチル
オクタノイル、ウンデカノイル、ドデカノイル、トリデ
カノイル、テトラデカノイル、べンタデカノイル、へキ
サデカノイル、1−メチルぺンタデカノイル、14-メチル
べンタデカノイル、13,13−ジメチルテトラデカノイ
ル、へプタデカノイル、15−メチルヘキサデカノイル、
オクタデカノイル、1−メチルヘプタデカノイル、ノナ
デカノイル、アイコサノイル、へナイコサノイルのよう
なアルカノイル基、クロロアセチル、ジクロロアセチ
ル、トリクロロアセチル、トリフルオロアセチルのよう
なハロゲン化アルキルカルボニル基、メトキシアセチル
のような低級アルコキシアルキルカルボニル基、アクリ
ロイル、プロピオロイル、メタクリロイル、クロトノイ
ル、イソクロトノイル、(E)−2−メチル−2−ブテノイ
ルのような不飽和アルキルカルボニル基等の「脂肪族ア
シル基」(好適には、炭素数1乃至6個の低級脂肪族アシ
ル基である。)；べンゾイル、α−ナフトイル、β−ナ
フトイルのようなアリールカルボニル基、2−プロモべ
ンゾイル、4−クロロべンゾイルのようなハロゲン化ア
リールカルボニル基、2,4,6−トリメチルべンゾイル、4
−トルオイルのような低級アルキル化アリールカルボニ
ル基、4−アニソイルのような低級アルコキシ化アリー
ルカルボニル基、4−ニトロべンゾイル、2−ニトロべン
ゾイルのようなニトロ化アリールカルボニル基、2−(メ
トキシカルボニル)べンゾイルのような低級アルコキシ
カルボニル化アリールカルボニル基、4−フェニルべン
ゾイルのようなアリール化アリールカルボニル基等の
「芳香族アシル基」；メトキシカルボニル、エトキシカ
ルボニル、プロポキシカルボニル、ブトキシカルボニ
ル、s−ブトキシカルボニル、t−ブトキシカルボニル、
イソブトキシカルボニルのような低級アルコキシカルボ
ニル基、2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル、2−ト
リメチルシリルエトキシカルボニルのようなハロゲン又
はトリ低級アルキルシリル基で置換された低級アルコキ
シカルボニル基等の「アルコキシカルボニル基」；テト
ラヒドロピラン−2−イル、3−ブロモテトラヒドロピラ
ン−2−イル、4−メトキシテトラヒドロピラン−4−イ
ル、テトラヒドロチオピラン−2−イル、4−メトキシテ
トラヒドロチオピラン−4−イルのような「テトラヒド
ロピラニル又はテトラヒドロチオピラニル基」；テトラ
ヒドロフラン−2−イル、テトラヒドロチオフラン−2−
イルのような「テトラヒドロフラニル又はテトラヒドロ
チオフラニル基」；トリメチルシリル、トリエチルシリ
ル、イソプロピルジメチルシリル、t−ブチルジメチル
シリル、メチルジイソプロピルシリル、メチルジ−t−
ブチルシリル、トリイソプロピルシリルのようなトリ低
級アルキルシリル基、ジフェニルメチルシリル、ジフェ
ニルブチルシリル、ジフェニルイソプロピルシリル、フ
ェニルジイソプロピルシリルのような1乃至2個のアリー
ル基で置換されたトリ低級アルキルシリル基等の「シリ
ル基」；メトキシメチル、1,1−ジメチル−1−メトキシ
メチル、エトキシメチル、プロポキシメチル、イソプロ
ポキシメチル、ブトキシメチル、t−ブトキシメチルの
ような低級アルコキシメチル基、2−メトキシエトキシ
メチルのような低級アルコキシ化低級アルコキシメチル
基、2,2,2−トリクロロエトキシメチル、ビス(2−クロ
ロエトキシ)メチルのようなハロゲノ低級アルコキシメ
チル等の「アルコキシメチル基」；1−エトキシエチ
ル、1−(イソプロポキシ)エチルのような低級アルコキ
シ化エチル基、2,2,2−トリクロロエチルのようなハロ
ゲン化エチル基等の「置換エチル基」；べンジル、α−
ナフチルメチル、β−ナフチルメチル、ジフェニルメチ
ル、トリフェニルメチル、α−ナフチルジフェニルメチ
ル、9−アンスリルメチルのような1乃至3個のアリール
基で置換された低級アルキル基、4−メチルべンジル、
2,4,6−トリメチルべンジル、3,4,5−トリメチルべンジ
ル、4−メトキシべンジル、4−メトキシフェニルジフェ
ニルメチル、2−ニトロべンジル、4−ニトロべンジル、
4−クロロべンジル、4−ブロモべンジル、4−シアノべ
ンジルのような低級アルキル、低級アルコキシ、ニト
ロ、ハロゲン、シアノ基でアリール環が置換された1乃
至3個のアリール基で置換された低級アルキル基等の
「アラルキル基」；ビニルオキシカルボニル、アリルオ
キシカルボニルのような「アルケニルオキシカルボニル
基」；べンジルオキシカルボニル、4−メトキシべンジ
ルオキシカルボニル、3,4−ジメトキシべンジルオキシ
カルボニル、2−ニトロべンジルオキシカルボニル、4−
ニトロべンジルオキシカルボニルのような、1乃至2個の
低級アルコキシ又はニトロ基でアリール環が置換されて
いてもよい「アラルキルオキシカルボニル基」を挙げる
ことができる。

【００４０】「カルボキシ基のエステル」に斯かる「一
般的保護基」としては、好適には、前記「低級アルキル
基」；エテニル、1−プロぺニル、2−プロぺニル、1−
メチル−2−プロぺニル、1−メチル−1−プロぺニル、2
−メチル−1−プロぺニル、2−メチル−2−プロぺニ
ル、2−エチル−2−プロぺニル、1−ブテニル、2−ブテ
ニル、1−メチル−2−ブテニル、1−メチル−1−ブテニ
ル、3−メチル−2−ブテニル、1−エチル−2−ブテニ
ル、3−ブテニル、1−メチル−3−ブテニル、2−メチル
−3−ブテニル、1−エチル−3−ブテニル、1−ぺンテニ
ル、2−ぺンテニル、1−メチル−2−ペンテニル、2−メ
チル−2−ぺンテニル、3−ぺンテニル、1−メチル−3−
ぺンテニル、2−メチル−3−ペンテニル、4−ぺンテニ
ル、1−メチル−4−ぺンテニル、2−メチル−4−ぺンテ
ニル、1−ヘキセニル、2−へキセニル、3−ヘキセニ
ル、4−ヘキセニル、5−ヘキセニルのような低級アルケ
ニル基；エチニル、2−プロピニル、1−メチル−2−プ
ロピニル、2−メチル−2−プロピニル、2−エチル−2−
プロピニル、2−ブチニル、1−メチル−2−ブチニル、2
−メチル−2−ブチニル、1−エチル−2−ブチニル、3−
ブチニル、1−メチル−3−ブチニル、2−メチル−3−ブ
チニル、1−エチル−3−ブチニル、2−ぺンチニル、1−
メチル−2−ぺンチニル、2−メチル−2−ぺンチニル、3
−ぺンチニル、1−メチル−3−ペンチニル、2−メチル
−3−ぺンチニル、4−ペンチニル、1−メチル−4−ぺン
チニル、2−メチル−4−ぺンチニル、2−ヘキシニル、3
−へキシニル、4−へキシニル、5−へキシニルのような
低級アルキニル基；前記「ハロゲノ低級アルキル」；2
−ヒドロキシエチル、2,3−ジヒドロキシプロピル、3−
ヒドロキシプロピル、3,4−ジヒドロキシブチル、4−ヒ
ドロキシブチルのようなヒドロキシ「低級アルキル
基」；アセチルメチルのような「低級脂肪族アシル」−
「低級アルキル基」；前記「アラルキル基」；前記「シ
リル基」を挙げることができる。

【００４１】「生体内で加水分解のような生物学的方法
により開裂し得る保護基」とは、人体内で加水分解等の
生物学的方法により開裂し、フリーの酸又はその塩を生
成する保護基をいう。そのような誘導体か否かは、ラッ
トやマウスのような実験動物に静脈注射により投与し、
その後の動物の体液を調べ、もととなる化合物又はその
薬理学的に許容される塩を検出できることにより決定で
きる。

【００４２】「水酸基のエステル」に斯かる「生体内で
加水分解のような生物学的方法により開裂し得る保護
基」としては、好適には、ホルミルオキシメチル、アセ
トキシメチル、ジメチルアミノアセトキシメチル、プロ
ピオニルオキシメチル、ブチリルオキシメチル、ピバロ
イルオキシメチル、バレリルオキシメチル、インバレリ
ルオキシメチル、へキサノイルオキシメチル、1−ホル
ミルオキシエチル、1−アセトキシエチル、1−プロピオ
ニルオキシエチル、1−ブチリルオキシエチル、1−ピバ
ロイルオキシエチル、1−バレリルオキシエチル、1−イ
ソバレリルオキシエチル、1−へキサノイルオキシエチ
ル、1−ホルミルオキシプロピル、1−アセトキシプロピ
ル、1−プロピオニルオキシプロピル、1−ブチリルオキ
シプロピル、1−ピバロイルオキシプロピル、1−バレリ
ルオキシプロピル、1−イソバレリルオキシプロピル、1
−ヘキサノイルオキシプロピル、1−アセトキシブチ
ル、1−プロピオニルオキシブチル、1−ブチリルオキシ
ブチル、1−ピバロイルオキシブチル、1−アセトキシぺ
ンチル、1−プロピオニルオキシペンチル、1−ブチリル
オキシぺンチル、1−ピパロイルオキシペンチル、1−ピ
バロイルオキシヘキシルのような1−(「低級脂肪族アシ
ル」オキシ)「低級アルキル基」、シクロぺンチルカル
ボニルオキシメチル、シクロへキシルカルボニルオキシ
メチル、1−シクロぺンチルカルボニルオキシエチル、1
−シクロヘキシルカルボニルオキシエチル、1−シクロ
ペンチルカルボニルオキシプロピル、1−シクロへキシ
ルカルボニルオキシプロピル、1−シクロぺンチルカル
ボニルオキシブチル、1−シクロへキシルカルボニルオ
キシブチルのような1−(「シクロアルキル」カルボニル
オキシ)「低級アルキル基」、べンゾイルオキシメチル
のような1−(「芳香族アシル」オキシ)「低級アルキル
基」等の1−(アシルオキシ)「低級アルキル基」；メト
キシカルボニルオキシメチル、エトキシカルボニルオキ
シメチル、プロポキシカルボニルオキシメチル、イソプ
ロポキシカルボニルオキシメチル、ブトキシカルボニル
オキシメチル、イソブトキシカルボニルオキシメチル、
ペンチルオキシカルボニルオキシメチル、へキシルオキ
シカルボニルオキシメチル、シクロへキシルオキシカル
ボニルオキシメチル、シクロヘキシルオキシカルボニル
オキシ(シクロへキシル)メチル、1−(メトキシカルボニ
ルオキシ)エチル、1−(エトキシカルボニルオキシ)エチ
ル、1−(プロポキシカルボニルオキシ)エチル、1−(イ
ソプロポキシカルボニルオキシ)エチル、1−(ブトキシ
カルボニルオキシ)エチル、1−(イソブトキシカルボニ
ルオキシ)エチル、1−(t−ブトキシカルボニルオキシ)
エチル、1−(ぺンチルオキシカルボニルオキシ)エチ
ル、1−(へキシルオキシカルボニルオキシ)エチル、1−
(シクロぺンチルオキシカルボニルオキシ)エチル、1−
(シクロぺンチルオキシカルボニルオキシ)プロピル、1
−(シクロへキシルオキシカルボニルオキシ)プロピル、
1−(シクロペンチルオキシカルボニルオキシ)ブチル、1
−(シクロへキシルオキシカルボニルオキシ)ブチル、1
−(シクロヘキシルオキシカルボニルオキシ)エチル、1
−(エトキシカルボニルオキシ)プロピル、1−(メトキシ
カルボニルオキシ)プロピル、1−(エトキシカルボニル
オキシ)プロピル、1−(プロポキシカルボニルオキシ)プ
ロピル、1−(イソプロポキシカルボニルオキシ)プロピ
ル、1−(ブトキシカルボニルオキシ)プロピル、1−(イ
ソブ卜キシカルボニルオキシ)プロピル、1−(ペンチル
オキシカルボニルオキシ)プロピル、1−(へキシルオキ
シカルボニルオキシ)プロピル、1−(メトキシカルボニ
ルオキシ)ブチル、1−(エトキシカルボニルオキシ)ブチ
ル、1−(プロポキシカルボニルオキシ)ブチル、1−(イ
ソプロポキシカルボニルオキシ)ブチル、1−(ブトキシ
カルボニルオキシ)ブチル、1−(イソブトキシカルボニ
ルオキシ)ブチル、1−(メトキシカルボニルオキシ)ぺン
チル、1−(エトキシカルボニルオキシ)ぺンチル、1−
(メトキシカルボニルオキシ)へキシル、1−(エトキシカ
ルボニルオキシ)へキシルのような(低級アルコキシカル
ボニルオキシ)アルキル基；(5−フェニル−2−オキソ−
1,3−ジオキソレン−4−イル)メチル、〔5−（4−メチ
ルフェニル）−2−オキソ−1,3−ジオキソレン−4−イ
ル〕メチル、〔5−（4−メトキシフェニル)−2−オキソ
−1,3−ジオキソレン−4−イル〕メチル、〔5−（4−フ
ルオロフェニル）−2−オキソ−1,3−ジオキソレン−4
−イル〕メチル、〔5−（4−クロロフェニル)−2−オキ
ソ−1,3−ジオキソレン−4−イル〕メチル、（2−オキ
ソ−1,3−ジオキソレン−4−イル）メチル、（5−メチ
ル−2−オキソ−1,3−ジオキソレン−4−イル)メチル、
（5−エチル−2−オキソ−1,3−ジオキソレン−4−イ
ル)メチル、（5−プロピル−2−オキソ−1,3−ジオキソ
レン−4−イル)メチル、（5−イソプロピル−2−オキソ
−1,3−ジオキソレン−4−イル)メチル、（5−ブチル−
2−オキソ−1,3−ジオキソレン−4−イル)メチルのよう
なオキソジオキソレニルメチル基；等の「カルボニルオ
キシアルキル基」:フタリジル、ジメチルフタリジル、
ジメトキシフタリジルのような「フタリジル基」：前記
「低級脂肪族アシル基」：前記「芳香族アシル基」:
「コハク酸のハーフエステル塩残基」：「燐酸エステル
塩残基」：「アミノ酸等のエステル形成残基」：カルバ
モイル基：1乃至2個の低級アルキル基で置換されたカル
バモイル基：及び、ピバロイルオキシメチルオキシカル
ボニルのような「1−(アシルオキシ)アルキルオキシカ
ルボニル基」を挙げることができ、好適には、「カルボ
ニルオキシアルキル基」である。

【００４３】一方、「カルボキシ基のエステル」に斯か
る「生体内で加水分解のような生物学的方法により開裂
し得る保護基」としては、好適には、メトキシエチル、
1−エトキシエチル、1−メチル−1−メトキシエチル、1
−(イソプロポキシ)エチル、2−メトキシエチル、2−エ
トキシエチル、1,1−ジメチル−1−メトキシエチル、エ
トキシメチル、n−プロポキシメチル、イソプロポキシ
メチル、n−ブトキシメチル、t−ブトキシメチルのよう
な低級アルコキシ低級アルキル基、2−メトキシエトキ
シメチルのような低級アルコキシ化低級アルコキシ低級
アルキル基、フェノキシメチルのような「アリール」オ
キシ「低級アルキル基」、2,2,2−トリクロロエトキシ
メチル、ビス(2−クロロエトキシ)メチルのようなハロ
ゲン化低級アルコキシ低級アルキル基等の「アルコキシ
低級アルキル基」；メトキシカルボニルメチルのような
「「低級アルコキシ」カルボニル「低級アルキル
基」」；シアノメチル、2−シアノエチルのような「シ
アノ「低級アルキル基」；メチルチオメチル、エチルチ
オメチルのような「「低級アルキル」チオメチル基」；
フェニルチオメチル、ナフチルチオメチルのような
「「アリ―ル」チオメチル基」；2−メタンスルホニル
エチル、2−トリフルオロメタンスルホニルエチルのよ
うな「ハロゲンで置換されていてもよい「低級アルキ
ル」スルホニル「低級アルキル基」」；2−べンゼンス
ルホニルエチル、2−トルエンスルホニルエチルのよう
な「「アリール」スルホニル「低級アルキル基」」；前
記「1−(アシルオキシ)「低級アルキル基」」；前記
「フタリジル基」；前記「アリール基」；前記「低級ア
ルキル基」；カルボキシメチルのような「カルボキシア
ルキル基」；及びフェニルアラニンのような「アミノ酸
のアミド形成残基」を挙げることができる。

【００４４】「その他の誘導体」とは、本発明の化合物
(I)がアミノ基及び/又はカルボキシ基を有する場合、上
記「エステル」及び「薬理上許容される塩」以外の誘導
体にすることができるので、その誘導体を示す。そのよ
うな誘導体としては、例えばアミド誘導体を挙げること
ができる。

【００４５】また、本発明の一般式(I)で示される化合
物は、その分子内に不斉炭素原子が存在するので、種々
の異性体を有する。本発明の化合物においては、これら
の異性体およびこれらの異性体の混合物がすべて単一の
式、即ち一般式(I)で示されている。従って、本発明は
これらの異性体およびこれらの異性体の混合物をもすべ
て含むものである。

【００４６】本発明の一般式(I)で示される化合物は、
大気中に放置したり、又は、再結晶をすることにより、
水分を吸収し、吸着水が付いたり、水和物となる場合が
あり、そのような水和物も本発明に包含される。

【００４７】また、本発明は、上記一般式（I）で表さ
れる化合物を含有する医薬組成物である。本発明の医薬
組成物としては、マクロファージ抑制剤であるが、一般
式（I）の官能基及び立体構造の違いにより、マクロフ
ァージ活性化剤となりうることもある。

【００４８】さらに本発明は、一般式（I）を製造する
ための中間体であり、一般式（II）で表される化合物を
提供する。一般式（II）の化合物は、ＧＬＡ−６０の類
縁体の糖の１位にセラミド類縁体がグリコシド結合した
化合物である。

【００４９】上記一般式（II）の置換基は、最終目的
物、及び反応工程によって適宜選択されうる。

【００５０】Ｑは、温和な条件で選択的に除去可能な水
酸基の保護基であれば良く、そのような保護基として
は、メチル基、ベンジル基、４−メトキシベンジル基、
２−トリメチルシリルエチル基のような置換可Ｃ1−Ｃ2
アルキル系保護基；トリメチルシリル基、ｔ−ブチルジ
メチルシリル基、ｔ−ジフェニルシリル基のようなシリ
ル系保護基；アセチル基、ベンゾイル基、ピバロイル基
のようなアシル系保護基が挙げられる。好適には、シリ
ル系保護基であり、最も好適にはｔ−ブチルジメチルシ
リル基である。また、Ｑは遊離の水酸基としての、水素
であっても良い。

【００５１】Ｓは、アミノ基を保護するためのアジド
基；アミノ基；またはアシル基か前記Ｒ³の置換基を有
するアミノ基が挙げられる。アシル基としては、アミノ
基の保護基として通常用いられ、温和な条件で遊離のア
ミノ基を放出できる置換基であれば良い。

【００５２】Ｔは、ハロゲン原子で置換されていてもよ
いＣ2−Ｃ5アルコキシカルボニル基であり、例えば２，
２，２，−トリクロロカルボニル基が挙げられ；また水
素；前記Ｒ¹である。Ｔが、ハロゲン原子で置換されて
いてもよいアルコキシカルボニル基である場合、ハロゲ
ン原子は、フッ素原子；塩素原子；臭素原子；ヨウ素原
子を示す。

【００５３】Ｕは、前記Ｒ²である。Ｖは、リン酸の保
護基として通常用いられ、温和な条件で遊離リン酸基を
放出できる置換基であり、そのような置換基として、メ
チル基、２−シアノエチル基、２−ニトロエチル基、
２，２，２，−トリクロロエチル基、２−トリメチルシ
リルエチル基のような置換可Ｃ1−Ｃ2アルキル基；アリ
ル基、２−ブテニル基、２−イソブテニル基のようなＣ
3−Ｃ4アルケニル基；フェニル基、ナフチル基のような
Ｃ6−Ｃ10アリール基；又はベンジル基、４−メトキシ
ベンジル基のようなＣ7アラルキル基が挙げられる。好
適にはＣ3−Ｃ4アルケニル基であり、最も好適にはアリ
ル基である。

【００５４】Ｗは、水酸基；または適当な保護基で保護
された水酸基であり、保護基としてはトリエチルシリル
基、t−ブチルジメチルシリルのようなトリＣ1−Ｃ4ア
ルキルシリル基、又はt−ブチルジフェニルシリル基の
ようなモノＣ1−Ｃ4アルキルジモノＣ6アリールシリル
基があげられるが、好ましくは、t−ブチルジフェニル
シリル基である。また、Ｗはフッ素原子、塩素原子、臭
素原子、ヨウ素原子であるハロゲン原子；または例え
ば、メトキシ、エトキシ、プロポキシのような炭素数１
乃至３個の直鎖又は分枝鎖のＣ1−Ｃ3アルコキシ基であ
る。

【００５５】また、一般式（II）におけるＲ¹、Ｒ²、Ｒ
³、Ｒ⁴およびＢは、一般式（I）で前述したものと同意
義である。また、 Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³の置換基として水酸
基を有する場合、その水酸基は保護されていても良い。
そのＲ¹、Ｒ²およびＲ³が有する置換基Ｙ群の水酸基の
保護基としては、水酸基の保護基として通常用いられ、
温和な条件で遊離の水酸基を放出できる置換基があげら
れる。

【００５６】そのような例としてメチル、ベンジル、４
−メトキシベンジル、２−トリメチルシリルエチル基の
ような置換可Ｃ1−Ｃ2アルキル系保護基；トリメチルシ
リル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、ｔ−ブチルジフ
ェニルシリル基のようなシリル系保護基；アセチル基、
ベンゾイル基、ピバロイル基のようなアシル系保護基が
あげられる。好適にはシリル系保護基であり、特に好適
にはｔ−ブチルジメチルシリル基、ｔ−ブチルジフェニ
ルシリル基であり、最も好適にはｔ−ブチルジメチルシ
リル基である。

【００５７】一般式（II）における化合物の置換基は、
より詳しくは、後述のように反応工程表に基づいて説明
される。

【００５８】また、本発明の一般式（II）で示される化
合物は、その分子内に不斉炭素が存在するので、種々の
異性体を有する。本発明の化合物においては、これらの
異性体およびこれおらの異性体の混合物がすべて単一の
式、即ち一般式（II）で示されている。従って、本発明
はこれらの異性体およびこれらの異性体の混合物をもす
べて含むものである。

【００５９】本発明の一般式（II）で示される化合物
は、大気中に放置したり、又は再結晶をすることによ
り、水分を吸収し、吸着水が付いたり、水和物となる場
合があり、そのような水和物も本発明に含有される。

【００６０】以下に一般式（I）で表される好適な化合
物を以下に挙げる。 １）Ｒ¹が、置換基Ｙ₁群より選択される同一又は異なる
置換基を１乃至３個有していても良いＣ2−Ｃ６又はＣ1
0−Ｃ18アルカノイル基である化合物であり、置換基Ｙ₁
群はフッ素原子；塩素原子；水酸基；フッ素原子、塩素
原子及び水酸基からなる群から選択される基で置換され
ていてもよいＣ10−Ｃ18アルカノイルオキシ基；からな
る。 ２）Ｒ¹が、置換基Ｙ₂群より選択される同一又は異なる
置換基を１乃至３個有していても良いＣ2−Ｃ４又はＣ1
2−Ｃ16アルカノイル基である化合物であり、置換基Ｙ₂
群はフッ素原子；塩素原子；水酸基；フッ素原子又は水
酸基で置換されていてもよいＣ12−Ｃ16アルカノイルオ
キシ基；からなる。 ３）Ｒ¹が、置換基Ｙ₃群より選択される同一又は異なる
置換基を１又は２個有していても良いアセチル又はＣ12
−Ｃ14アルカノイル基である化合物であり、置換基Ｙ₃
群は、フッ素原子；水酸基；フッ素原子又は水酸基で置
換されていてもよいＣ12−Ｃ14アルカノイルオキシ基；
からなる。 ４）Ｒ¹が、置換基Ｙ₄群より選択される同一又は異なる
置換基を１又は２個有していても良いミリストイル基で
ある化合物であり、置換基Ｙ₄群はフッ素原子；水酸
基；フッ素原子で置換されていてもよいミリストイルオ
キシ基；からなる。 ５）Ｒ²が、置換基Ｙ₁群より選択される同一又は異なる
置換基を１乃至３個有していても良いＣ10−Ｃ18アルカ
ノイル基である化合物であり、置換基Ｙ₁群はフッ素原
子；塩素原子；水酸基；フッ素原子、塩素原子及び水酸
基からなる群から選択される基で置換されていてもよい
Ｃ10−Ｃ18アルカノイルオキシ基；からなる。 ６）Ｒ²が、置換基Ｙ₂群より選択される同一又は異なる
置換基を１乃至３個有していても良いＣ12−Ｃ16アルカ
ノイル基である化合物であり、置換基Ｙ₂群はフッ素原
子；塩素原子；水酸基；フッ素原子又は水酸基で置換さ
れていてもよいＣ12−Ｃ16アルカノイルオキシ基；から
なる。 ７）Ｒ²が、置換基Ｙ₃群より選択される同一又は異なる
置換基を１又は２個有していても良いＣ12−Ｃ14アルカ
ノイル基である化合物であり、置換基Ｙ₃群はフッ素原
子；水酸基；フッ素原子又は水酸基で置換されていても
よいＣ12−Ｃ14アルカノイルオキシ基；からなる。 ８）Ｒ²が、置換基Ｙ₄群より選択される同一又は異なる
置換基を１又は２個有していても良いミリストイル基で
ある化合物であり、置換基Ｙ₄群はフッ素原子；水酸
基；フッ素原子又は水酸基で置換されていてもよいミリ
ストイルオキシ基；からなる。 ９）Ｒ³が、置換基Ｙ₁群より選択される同一又は異なる
置換基を１乃至３個有していても良いＣ10−Ｃ20アルカ
ノイル基である化合物であり、置換基Ｙ₁群はフッ素原
子；塩素原子；水酸基；シリルオキシ基；フッ素原子、
塩素原子及びシリルオキシ基からなる群から選択される
基で置換されていてもよいＣ10−Ｃ20アルカノイル基；
からなる。 １０）Ｒ³がＣ16−Ｃ18アルカノイル基である化合物。 １１）Ｒ³がオクタデカノイル基である化合物。 １２）Ｒ⁴がトリデシル基である化合物。 １３）Ａが水酸基、フッ素原子、塩素原子又はメトキシ
基である化合物。 １４）Ａが水酸基又はメトキシ基である化合物。 １５）Ａが水酸基である化合物。 １６）Ｂが二重結合である化合物。 １７）Ｒ¹が、置換基Ｙ₁群より選択される同一又は異な
る置換基を１乃至３個有していても良いＣ2−Ｃ6又はＣ
10−Ｃ18アルカノイル基であり、Ｒ²が、置換基Ｙ₁群よ
り選択される同一又は異なる置換基を１乃至３個有して
いても良いＣ10−Ｃ18アルカノイル基であり、Ｒ³が、
置換基Ｙ₁群より選択される同一又は異なる置換基を１
乃至３個有していても良いＣ10−Ｃ20アルカノイル基で
あり、Ａが水酸基、フッ素原子、塩素原子又はメトキシ
基である化合物であり、置換基Ｙ₁群はフッ素原子；塩
素原子；水酸基；シリルオキシ基；フッ素原子、塩素原
子及びシリルオキシ基からなる群から選択される基で置
換されていてもよいＣ10−Ｃ20アルカノイル基；からな
る。 １８）Ｒ¹及びＲ²が、置換基Ｙ₄群より選択される同一
又は異なる置換基を１又は２個有していても良いミリス
トイル基であり、Ｒ³がオクタデカノイル基であり、 Ｒ
⁴がトリデシル基であり、Ａが水酸基又はメトキシ基で
あり、Ｂが二重結合である化合物。置換基Ｙ₄群はフッ
素原子；水酸基；フッ素原子又は水酸基で置換されてい
てもよいミリストイルオキシ基；からなる。

【００６１】本発明の代表的な化合物（I）としては、
例えば、下記式（I'）の化合物を挙げることができる。
（下表においては、好適な置換基としてＲ³＝ＣＯＣ₁₇
Ｈ₃₅、Ｒ⁴＝Ｃ₁₃Ｈ₂₇およびＢが二重結合に限定してい
るが、本発明は、これらの化合物に限定されるものでは
ない。）

【００６２】

【化６】

【００６３】

【表１】 ──────────────────────────────────── 番号 Ａ Ｒ¹ Ｒ² ──────────────────────────────────── 1 OH C(O)CH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ C(O)CH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ 2 OH C(O)CH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ C(O)CH₂CH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ 3 OH C(O)CH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ C(O)CHFCH(OH)C₁₁H₂₃ 4 OH C(O)CH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ C(O)CHFCH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ 5 OH C(O)CH₃ C(O)CH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ 6 OH C(O)CH₃ C(O)CH₂CH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ 7 OH C(O)CH₃ C(O)CHFCH(OH)C₁₁H₂₃ 8 OH C(O)CH₃ C(O)CHFCH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ 9 OH C(O)CF₃ C(O)CH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ 10 OH C(O)CF₃ C(O)CH₂CH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ 11 OH C(O)CF₃ C(O)CHFCH(OH)C₁₁H₂₃ 12 OH C(O)CF₃ C(O)CHFCH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ 13 OH C(O)C₂H₅ C(O)CH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ 14 OH C(O)C₂H₅ C(O)CH₂CH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ 15 OH C(O)C₂H₅ C(O)CHFCH(OH)C₁₁H₂₃ 16 OH C(O)C₂H₅ C(O)CHFCH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ 17 OH C(O)C₃H₇ C(O)CH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ 18 OH C(O)C₃H₇ C(O)CH₂CH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ 19 OH C(O)C₃H₇ C(O)CHFCH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ 21 OH C(O)C₅H₁₁ C(O)CH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ 22 OH C(O)C₅H₁₁ C(O)CH₂CH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ 23 OH C(O)C₅H₁₁ C(O)CHFCH(OH)C₁₁H₂₃ 24 OH C(O)C₅H₁₁ C(O)CHFCH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ 25 OH C(O)C₇H₁₅ C(O)CH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ 26 OH C(O)C₇H₁₅ C(O)CH₂CH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ 27 OH C(O)C₇H₁₅ C(O)CHFCH(OH)C₁₁H₂₃ 28 OH C(O)C₉H₁₉ C(O)CH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ 30 OH C(O)C₉H₁₉ C(O)CH₂CH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ 31 OH C(O)C₉H₁₉ C(O)CHFCH(OH)C₁₁H₂₃ 32 OH C(O)C₉H₁₉ C(O)CHFCH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ 33 OH C(O)C₁₁H₂₃ C(O)CH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ 34 OH C(O)C₁₁H₂₃ C(O)CH₂CH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ 35 OH C(O)C₁₁H₂₃ C(O)CHFCH(OH)C₁₁H₂₃ 36 OH C(O)C₁₁H₂₃ C(O)CHFCH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ 37 OH C(O)C₁₃H₂₇ C(O)CH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ 38 OH C(O)C₁₃H₂₇ C(O)CH₂CH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ 39 OH C(O)C₁₃H₂₇ C(O)CHFCH(OH)C₁₁H₂₃ 40 OH C(O)C₁₃H₂₇ C(O)CHFCH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ 41 OH C(O)C₁₅H₃₁ C(O)CH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ 42 OH C(O)C₁₅H₃₁ C(O)CH₂CH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ 43 OH C(O)C₁₅H₃₁ C(O)CHFCH(OH)C₁₁H₂₃ 44 OH C(O)C₁₅H₃₁ C(O)CHFCH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ 45 F C(O)CH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ C(O)CH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ 46 F C(O)CH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ C(O)CH₂CH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ 47 F C(O)CH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ C(O)CHFCH(OH)C₁₁H₂₃ 48 F C(O)CH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ C(O)CHFCH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ 49 F C(O)CH₃ C(O)CH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ 50 F C(O)CH₃ C(O)CH₂CH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ 51 F C(O)CH₃ C(O)CHFCH(OH)C₁₁H₂₃ 52 F C(O)CH₃ C(O)CHFCH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ 53 F C(O)CF₃ C(O)CH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ 54 F C(O)CF₃ C(O)CH₂CH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ 55 F C(O)CF₃ C(O)CHFCH(OH)C₁₁H₂₃ 56 F C(O)CF₃ C(O)CHFCH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ 57 F C(O)C₂H₅ C(O)CH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ 58 F C(O)C₂H₅ C(O)CH₂CH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ 59 F C(O)C₂H₅ C(O)CHFCH(OH)C₁₁H₂₃ 60 F C(O)C₂H₅ C(O)CHFCH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ 61 F C(O)C₃H₇ C(O)CH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ 62 F C(O)C₃H₇ C(O)CH₂CH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ 63 F C(O)C₃H₇ C(O)CHFCH(OH)C₁₁H₂₃ 64 F C(O)C₃H₇ C(O)CHFCH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ 65 F C(O)C₅H₁₁ C(O)CH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ 66 F C(O)C₅H₁₁ C(O)CH₂CH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ 67 F C(O)C₅H₁₁ C(O)CHFCH(OH)C₁₁H₂₃ 68 F C(O)C₅H₁₁ C(O)CHFCH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ 69 F C(O)C₇H₁₅ C(O)CH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ 70 F C(O)C₇H₁₅ C(O)CH₂CH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ 71 F C(O)C₇H₁₅ C(O)CHFCH(OH)C₁₁H₂₃ 72 F C(O)C₇H₁₅ C(O)CHFCH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ 73 F C(O)C₉H₁₉ C(O)CH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ 74 F C(O)C₉H₁₉ C(O)CH₂CH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ 75 F C(O)C₉H₁₉ C(O)CHFCH(OH)C₁₁H₂₃ 76 F C(O)C₉H₁₉ C(O)CHFCH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ 77 F C(O)C₁₁H₂₃ C(O)CH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ 78 F C(O)C₁₁H₂₃ C(O)CH₂CH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ 79 F C(O)C₁₁H₂₃ C(O)CHFCH(OH)C₁₁H₂₃ 80 F C(O)C₁₁H₂₃ C(O)CHFCH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ 81 F C(O)C₁₃H₂₇ C(O)CH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ 82 F C(O)C₁₃H₂₇ C(O)CH₂CH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ 83 F C(O)C₁₃H₂₇ C(O)CHFCH(OH)C₁₁H₂₃ 84 F C(O)C₁₃H₂₇ C(O)CHFCH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ 85 F C(O)C₁₅H₃₁ C(O)CH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ 86 F C(O)C₁₅H₃₁ C(O)CH₂CH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ 87 F C(O)C₁₅H₃₁ C(O)CHFCH(OH)C₁₁H₂₃ 88 F C(O)C₁₅H₃₁ C(O)CHFCH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ 89 OMe C(O)CH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ C(O)CH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ 90 OMe C(O)CH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ C(O)CH₂CH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ 91 OMe C(O)CH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ C(O)CHFCH(OH)C₁₁H₂₃ 92 OMe C(O)CH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ C(O)CHFCH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ 93 OMe C(O)CH₃ C(O)CH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ 94 OMe C(O)CH₃ C(O)CH₂CH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ 95 OMe C(O)CH₃ C(O)CHFCH(OH)C₁₁H₂₃ 96 OMe C(O)CH₃ C(O)CHFCH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ 97 OMe C(O)CF₃ C(O)CH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ 98 OMe C(O)CF₃ C(O)CH₂CH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ 99 OMe C(O)CF₃ C(O)CHFCH(OH)C₁₁H₂₃ 100 OMe C(O)CF₃ C(O)CHFCH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ 101 OMe C(O)C₂H₅ C(O)CH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ 102 OMe C(O)C₂H₅ C(O)CH₂CH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ 103 OMe C(O)C₂H₅ C(O)CHFCH(OH)C₁₁H₂₃ 104 OMe C(O)C₂H₅ C(O)CHFCH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ 105 OMe C(O)C₃H₇ C(O)CH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ 106 OMe C(O)C₃H₇ C(O)CH₂CH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ 107 OMe C(O)C₃H₇ C(O)CHFCH(OH)C₁₁H₂₃ 108 OMe C(O)C₃H₇ C(O)CHFCH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ 109 OMe C(O)C₅H₁₁ C(O)CH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ 110 OMe C(O)C₅H₁₁ C(O)CH₂CH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ 111 OMe C(O)C₅H₁₁ C(O)CHFCH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ 113 OMe C(O)C₇H₁₅ C(O)CH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ 114 OMe C(O)C₇H₁₅ C(O)CH₂CH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ 115 OMe C(O)C₇H₁₅ C(O)CHFCH(OH)C₁₁H₂₃ 116 OMe C(O)C₇H₁₅ C(O)CHFCH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ 117 OMe C(O)C₉H₁₉ C(O)CH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ 118 OMe C(O)C₉H₁₉ C(O)CH₂CH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ 119 OMe C(O)C₉H₁₉ C(O)CHFCH(OH)C₁₁H₂₃ 120 OMe C(O)C₉H₁₉ C(O)CHFCH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ 121 OMe C(O)C₁₁H₂₃ C(O)CH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ 122 OMe C(O)C₁₁H₂₃ C(O)CH₂CH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ 123 OMe C(O)C₁₁H₂₃ C(O)CHFCH(OH)C₁₁H₂₃ 124 OMe C(O)C₁₁H₂₃ C(O)CHFCH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ 125 OMe C(O)C₁₃H₂₇ C(O)CH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ 126 OMe C(O)C₁₃H₂₇ C(O)CH₂CH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ 127 OMe C(O)C₁₃H₂₇ C(O)CHFCH(OH)C₁₁H₂₃ 128 OMe C(O)C₁₃H₂₇ C(O)CHFCH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ 129 OMe C(O)C₁₅H₃₁ C(O)CH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ 130 OMe C(O)C₁₅H₃₁ C(O)CH₂CH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ 131 OMe C(O)C₁₅H₃₁ C(O)CHFCH(OH)C₁₁H₂₃ 132 OMe C(O)C₁₅H₃₁ C(O)CHFCH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ ──────────────────────────────────── 上記化合物のうち、マクロファージ抑制作用において、
好適には、化合物番号2,4,6,8,14,16,18,46,48,50,52,5
8,60,62,64,94,96の化合物であり、更に好適には、化合
物番号2,6,14,18,46,50,58,62,94の化合物であり、特に
好適には、化合物番号94の化合物である。

【００６４】以下、本発明を好適な例を挙げてさらに詳
細に説明する。

【００６５】本発明の一般式（I）で表される化合物
は、例えば以下に記載する３方法によって製造すること
ができる。

【００６６】

【化７】

【００６７】

【化８】

【００６８】本発明の中間体とは、上記工程中の糖部分
とセラミド類縁体がグリコシド結合した化合物であっ
て、一般式（I）（上記工程中ではIa、Ib、Icを示す）
を製造するための、一般式（II）で表される化合物であ
る。このことから一般式（II）は、上記Ａ工程中におい
ては、XII、XIII、XIV、XV、XVIで表される。Ｂ工程、
Ｃ工程においても同様である（化合物の記載はない）。
なお、一般式（I）および一般式（II）におけるＢおよ
びＲ⁴は、上記工程中では、Ｂが二重結合、Ｒ⁴＝Ｃ₁₃Ｈ
₂₇である。

【００６９】また、化学式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＡは
前述したものと同意義である。

【００７０】上記工程中の化学式中のＲ⁵及びＲ⁶は水素
原子、メチル基及びフェニル基からなる群から選択され
る同一または異なる置換基を示し、Ｒ⁷はＣ3−Ｃ5アル
ケニル基を示す。 Ｒ⁸はハロゲン原子で置換されていて
も良いＣ2−Ｃ5アルコキシカルボニル基を示す。

【００７１】Ｒ⁹は、トリエチルシリル基、t−ブチルジ
メチルシリルのようなトリＣ1−Ｃ4アルキルシリル基、
又はt−ブチルジフェニルシリル基のようなモノＣ1−Ｃ
4アルキルジモノＣ6アリールシリル基があげられる。

【００７２】Ｒ¹⁰はリン酸の保護基として通常用いら
れ、温和な条件で遊離リン酸基を放出できる置換基であ
り、そのような置換基としてメチル基、２−シアノエチ
ル基、２−ニトロエチル基、２，２，２−トリクロロエ
チル基、２−トリメチルシリルエチル基のような置換可
Ｃ1−Ｃ2アルキル基；アリル基、２−ブテニル基、２−
イソブテニル基のようなＣ3−Ｃ4アルケニル基；フェニ
ル基、ナフチル基のようなＣ6−Ｃ10アリール基；又は
ベンジル基、４−メトキシベンジル基のようなＣ7アラ
ルキル基があげられるが、好適にはＣ3−Ｃ4アルケニル
基である。

【００７３】Ｒ¹¹は、トリエチルシリル基のようなトリ
Ｃ1−Ｃ4アルキルシリル基、又はt−ブチルジフェニル
シリル基のようなモノＣ1−Ｃ4アルキルジモノＣ6アリ
ールシリル基が挙げられる。

【００７４】Ｒ¹²はＣ1−Ｃ3アルコキシ基を示し、Ｘは
ハロゲンを示す。

【００７５】Ｒ¹'、Ｒ²'及びＲ³'は前述のＲ¹、Ｒ²及び
Ｒ³を示し、置換基として水酸基を有する場合、その水
酸基が保護されているのが好ましい。この水酸基におけ
る保護基としては、温和な条件下で選択的に除去可能な
ものが好適であり、そのような例としてトリメチルシリ
ル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、ｔ−ブチルジフェ
ニルシリル基のようなシリルエーテル系保護基が挙げら
れるが、好適にはｔ−ブチルジメチルシリル基、ｔ−ブ
チルジフェニルシリル基である。

【００７６】１．Ａ法 本方法は、一般式（I）の化合物の６位が遊離水酸基で
ある場合の反応工程例である。 （第Ａ１工程）本工程は公知化合物（VII）の６、４位
の保護基を除去し、続いて６位の１級水酸基を選択的に
保護することにより、６位水酸基の保護化合物（VIII)
を製造する工程である。

【００７７】化合物VIIを不活性溶剤中、酸触媒存在下
で反応処理後、塩基存在下でシリル化剤と反応させるこ
とによって達成される。

【００７８】本発明の一般式（VII）で表される出発化
合物のうち、化合物VIIa（Ｒ⁵,Ｒ⁶=メチル、Ｒ⁷＝アリ
ル、Ｒ⁸＝トリクロロエトキシカルボニル）はブレティ
ン・ケミカル・ソサエティー・オブ・ジャパン［Bull.C
hem.Soc.Jpn., 60,2205, (1987)］に記載の方法によっ
て製造できるが、他の一般式VIIで表される化合物も上
記先行技術を参考にして公知の方法により製造可能であ
る。例えば、グルコサミンを出発原料として使用し、２
位のアミノ基を２，２，２−トリクロロエトキシカルボ
ニルクロリド、tert−ブトキシカルボニルクロリドのよ
うなＣ1−Ｃ3アルコキシカルボニルハライドで処理して
保護し、1位の水酸基を酸触媒の存在下、アリルアルコ
ール、ベンジルアルコール、トリメチルシリルエタノー
ルのようなアルコールと反応させることにより保護、６
位と４位の水酸基をジメトキシプロパン又はベンズアル
デヒドジメチルアセタールのようなアセタール類；アセ
トンのようなケトン類で架橋保護することにより製造可
能である。

【００７９】６、４位の保護基の脱保護に使用する溶媒
としては、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解す
るものであれば特に限定はないが、メタノール、エタノ
ール、プロパノール、ブタノールのようなアルコール
類；アルコール類とジエチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサンのようなエーテル類との混合溶媒等が
挙げられ、好適にはアルコール類とエーテル類との混合
溶媒であり、もっとも好適にはメタノールとテトラヒド
ロフランの混合溶媒である。

【００８０】使用する酸触媒としてはｐ−トルエンスル
ホン酸、カンファースルホン酸、酢酸、トリフルオロ酢
酸のような有機酸が挙げられるが、最も好適にはp−ト
ルエンスルホン酸である。

【００８１】反応温度は反応物質、試薬、溶媒等により
異なるが通常−４０℃乃至１００℃で行われ、好適には
０℃乃至２５℃である。

【００８２】反応時間は反応温度、試薬、溶媒等により
異なるが通常１０分乃至１０時間であり、好適には２時
間乃至８時間である。

【００８３】反応後の処理は通常の方法により行われ
る。得られた化合物は必要ならば再結晶、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー等により精製できる。

【００８４】６位水酸基の保護に用いる溶媒としては反
応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれ
ば特に限定はないが、好適にはアセトニトリルのような
ニトリル類；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、
ジオキサンのようなエーテル類；ジクロロメタン、クロ
ロホルムのようなハロゲン化炭化水素類；ジメチルホル
ムアミド、ジメチルアセトアミドのようなアミド類が挙
げられるが、好適にはアミド類であり、最も好適にはジ
メチルホルムアミドである。

【００８５】６位の１級水酸基の保護に使用する保護化
試薬としては、トリエチルシリルクロリド、t−ブチル
ジメチルシリルクロリドのようなトリＣ1−Ｃ4アルキル
シリルハライド；t−ブチルジフェニルシリルクロリド
のようなモノＣ1−Ｃ4アルキルジフェニルシリルハライ
ド；トリエチルシリルトリフレート、t−ブチルジメチ
ルシリルトリフレートのようなトリＣ1−Ｃ4アルキルト
リフレート；t−ブチルジフェニルシリルトリフレート
のようなモノＣ1−Ｃ4アルキルジフェニルトリフレート
のようなシリル化剤を挙げることができる。好適にはト
リＣ1−Ｃ4アルキルシリルハライド又はモノＣ1−Ｃ4ア
ルキルジフェニルシリルハライドであり、更に好適に
は、t−ブチルジフェニルシリルクロリドである。

【００８６】保護化の際に用いる塩基としては、トリエ
チルアミン、トリプロピルアミン、ジイソプロピルエチ
ルアミン、トリブチルアミンのような３級アミン；ピリ
ジン、２,６−ジメチルピリジン、イミダゾールのよう
な複素環アミンが挙げられるが、好適には、複素環アミ
ンであり、最も好適にはイミダゾールである。

【００８７】保護化工程における反応温度は、反応物
質、試薬、溶媒等により異なるが、通常０℃乃至１００
℃で行われ、好適には１０℃乃至４０℃である。

【００８８】反応時間は反応温度、試薬、溶媒等により
異なるが通常１０分乃至１０時間であり、好適には２時
間乃至８時間である。

【００８９】反応後の処理は通常の方法により行われ
る。得られた化合物は必要ならば再結晶、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー等により精製できる。 （第Ａ２工程）本工程は化合物（VIII)の１位水酸基の
保護基である１−アルケニル基を異性化し、エノールエ
ーテル化物とした後、４位水酸基を亜リン酸エステル化
し、続いて亜リン酸エステル部位を酸化してリン酸エス
テル化物（IX）へと変換する工程である。

【００９０】化合物（VIII)を不活性溶剤中、適当な触
媒で処理した後、酸触媒存在下で亜リン酸エステル化剤
と反応させ、更に酸化剤で処理することにより達成され
る。

【００９１】１位−アルケニル基の二重結合異性化に用
いる溶剤としては反応を阻害せず、出発物質をある程度
溶解するものであれば特に限定はないが、好適にはジエ
チルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのよう
なエーテル類が挙げられ、好適にはテトラヒドロフラン
である。

【００９２】１位−アルケニル基の二重結合の異性化に
用いる試薬としては、カリウムt−ブトキシドのような
強塩基、パラジウム、ロジウム、イリジウムなどの遷移
金属錯体等が挙げられるが、好適には（１,５−シクロ
オクタジエン）ビス（メチルジフェニルホスフィン）イ
リジウム（I）ヘキサフルオロホスフェート（［Ir(COD)
(PMePh₂)₂］PF₆）である。

【００９３】２重結合の異性化工程における反応温度
は、反応物質、試薬、溶媒等により異なるが、通常０℃
乃至１００℃であり、好適には２０℃乃至６０℃であ
る。

【００９４】反応時間は反応温度、試薬、溶媒等により
異なるが、通常１日乃至１週間であり、好適には２日乃
至３日である。

【００９５】反応後の処理は通常の方法により行われ
る。得られた化合物は必要ならば再結晶、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー等により精製できる。

【００９６】４位水酸基の亜リン酸エステル化に用いる
溶剤としては反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解
するものであれば特に限定はないが、好適にはジエチル
エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエ
ーテル類が挙げられ、好適にはテトラヒドロフランであ
る。

【００９７】４位水酸基の亜リン酸エステル化に用いる
試薬としては、例えば、ビス（アリルオキシ）クロロホ
スファイトのようなハロビスアリルオキシホスファイ
ト；又は例えば、ビス（フェニルオキシ）ホスホロアミ
ダイト基のようなビスアリルオキシホスホロアミダイト
類が挙げられるが、好適にはホスホロアミダイト類であ
り、特に好適には、ビス（アリルオキシ）ホスホロアミ
ダイトである。

【００９８】その際用いる酸触媒としては、例えば、メ
タンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンス
ルホン酸のような有機酸が挙げられるが、好適には１Ｈ
−テトラゾールである。

【００９９】亜リン酸エステル化物をリン酸エステル化
物へ変換するための酸化剤としては、過酸化水素水溶
液、ｔ−ブチルパーオキシド、ｍ−ＣＰＢＡ等の有機過
酸化物が挙げられるが、好適には３０％過酸化水素水溶
液である。

【０１００】反応温度は、反応物質、試薬、溶媒等によ
り異なるが、通常０℃乃至１００℃であり、好適には０
℃乃至４０℃である。

【０１０１】反応時間は反応温度、試薬、溶媒等により
異なるが通常2時間ないし6時間であり、好適には3時間
乃至4時間である。 （第Ａ３工程）本工程は化合物（IX)の１位の保護基を
除去した化合物（X）を得る工程であり、化合物（IX)を
不活性溶剤中、酸触媒存在下で処理することによって達
成される。

【０１０２】１−アルケニル保護基の除去に使用する溶
媒としては、反応を阻害せず出発物質をある程度溶解す
るものであれば特に限定はないが、好適には水；メタノ
ール、エタノール、プロパノール、ブタノールのような
アルコール類；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサンのようなエーテル類；さらにこれらの溶
媒の２種の混合溶媒が挙げらる。好適には、アルコール
類と水又はエーテル類と水との混合溶媒であり、特に好
適には、エーテル類と水との混合溶媒であり、最も好適
にはテトラヒドロフランと水との混合溶媒である。

【０１０３】１−アルケニル保護基の除去に使用する酸
触媒としては、ｐ−トルエンスルホン酸、カンファース
ルホン酸、酢酸、トリフルオロ酢酸のような有機酸、塩
酸、硫酸のような無機酸、ヨウ素、臭素のようなハロゲ
ン等が挙げられ、好適にはハロゲンであり、最も好適に
はヨウ素である。

【０１０４】反応温度は、反応物質、試薬、溶媒等によ
り異なるが、通常０℃乃至１００℃であり、好適には０
℃乃至４０℃である。

【０１０５】反応時間は反応温度、試薬、溶媒等により
異なるが通常３０分乃至３時間であり、好適には1時間
乃至２時間である。 （第Ａ４工程）本工程は化合物（X)の１位水酸基をトリ
クロロイミド化し、１−イミデート（XI)を得る工程で
あり、化合物（X)に不活性溶剤中、塩基存在下、トリク
ロロアセトニトリルを作用させることによって達成され
る。

【０１０６】使用する溶剤としては反応を阻害せず、出
発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はない
が好適にはジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭
素、１,２−ジクロロエタンのようなハロゲン化炭化水
素；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ンのようなエーテル類が挙げられるが、好適にはハロゲ
ン化炭化水素類であり、最も好適にはジクロロメタンで
ある。

【０１０７】使用する塩基としては、１,８−ジアザビ
シクロ［５,４,０］−７−ウンデセン（ＤＢＵ）などの
有機塩基；もしくは水素化ナトリウム、炭酸カリウム、
炭酸セシウムのような無機塩基が用いられるが、好適に
は有機塩基であり、最も好適にはＤＢＵである。

【０１０８】反応温度は、反応物質、溶媒等により異な
るが、通常−２０℃乃至１００℃であり、好適には０℃
乃至３０℃である。

【０１０９】反応時間は反応温度、試薬、溶媒等により
異なるが通常３０分乃至５時間であり、好適には１時間
乃至３時間である。

【０１１０】反応後の処理は通常の方法により行われ
る。得られた化合物は必要ならば再結晶、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー等により精製できる。 （第Ａ５工程）本工程は先の工程で得られたトリクロロ
イミデート体（XI)をスフィンゴシン誘導体でグリコシ
ル化し、スフィンゴシン化ＧＬＡ−６０誘導体（XII)を
得る工程であり、トリクロロイミデート体（XI)を不活
性溶剤中、酸触媒存在下でスフィンゴシン誘導体と反応
させることによって達成される。

【０１１１】使用する溶剤としては反応を阻害せず、出
発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はない
が、好適にはジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭
素、１,２−ジクロロエタンのようなハロゲン化炭化水
素；アセトニトリル、プロピオニトリルのようなニトリ
ル系溶媒が挙げられるが、好適にはハロゲン化炭化水素
であり、最も好適にはジクロロメタンである。

【０１１２】使用する酸触媒としては、ルイス酸であ
り、三フッ化ホウ素エーテル錯体、トリメチルシリルト
リフラート、臭化亜鉛等が挙げられるが、好適には三フ
ッ化ホウ素エーテル錯体である。

【０１１３】反応温度は、反応物質、試薬、溶媒等によ
り異なるが、通常−78℃乃至２５℃で行われるが、好適
には−30℃乃至０℃である。

【０１１４】反応時間は、反応温度、試薬、溶媒等によ
り異なるが通常2時間乃至6時間であり、好適には３時間
乃至５時間である。

【０１１５】使用するスフィンゴシン誘導体について
は、スフィンゴシン２位のアミノ基、および３位の水酸
基が適当な保護基で保護されていればよく、そのような
例として２−アジド−３−Ｏ−ｔ−ブチルジメチルシリ
ルスフィンゴシン（Ｋ．Ｃ．ニコラウら、カルボハイド
レート・リサーチ １９９０年２０２巻１７７項）が挙
げられる。

【０１１６】以下に続く工程は、２位アミノ基と３位水
酸基が上記保護基で保護されたスフィンゴシン誘導体を
用いた場合の工程を示す。

【０１１７】反応後の処理は、通常の方法により行われ
る。得られた化合物は必要ならば再結晶、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー等により精製できる。 （第Ａ６工程）本工程は、化合物（XII)のアジド部位を
還元してアミンとした後、アシル化してアミド化合物
（XIII)を得る工程であり、化合物（XII)を不活性溶剤
中、還元剤で処理した後、塩基存在下でアシル化剤と反
応させることにより達成される。

【０１１８】アジド還元工程で用いる溶剤としては、反
応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれ
ば特に限定はないが好適にはジエチルエーテル、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類；メタノ
ール、エタノールのようなアルコール類；ジクロロメタ
ン、クロロホルム、四塩化炭素、１,２−ジクロロエタ
ンのようなハロゲン化炭化水素が挙げられるが、好適に
はエーテル類であり、最も好適にはテトラヒドロフラン
である。

【０１１９】使用する還元剤としては、水素化ホウ素ナ
トリウム、水素化アルミニウムリチウムのような水素化
金属、水素雰囲気下でのパラジウム−炭素、Lindlar触
媒のような接触水素添加触媒、またトリフェニルホスフ
ィン、硫化水素のような還元能を持つ化合物が挙げられ
る。好適には還元能を持つ有機化合物であり、最も好適
にはトリフェニルホスフィンである。

【０１２０】反応温度は、反応物質、試薬、溶媒等によ
り異なるが、通常２５℃乃至１００℃であり、好適には
３０℃乃至８０℃である。

【０１２１】反応時間は、反応温度、試薬、溶媒等によ
り異なるが通常2時間乃至２４時間であり、好適には４
時間乃至１０時間である。

【０１２２】反応後の処理は、通常の方法により行われ
る。得られた化合物は必要ならば再結晶、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー等により精製できる。

【０１２３】アミド化工程で用いる溶剤としては、反応
を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば
特に限定はないが好適にはジエチルエーテル、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類；ジクロロ
メタン、クロロホルム、四塩化炭素、１,２−ジクロロ
エタンのようなハロゲン化炭化水素；アセトニトリル、
プロピオニトリルのようなニトリル系溶媒が挙げられる
が、好適にはハロゲン化炭化水素類であり、最も好適に
はジクロロメタンである。

【０１２４】使用する塩基としては、トリエチルアミ
ン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンの
ような３級アミンが挙げられるが、好適にはトリエチル
アミンである。

【０１２５】使用するアシル化剤としては酸クロリドが
挙げられ、適当な長さを持つ一般式：Ｒ³'Ｘ[式中、
Ｒ³'はＲ³を示し、Ｒ³が置換基として水酸基を有する場
合、前述したようにその水酸基は保護されているのが好
ましい。Ｘはハロゲン原子を示す。]で表される脂肪酸
の酸クロリド、例えば、Ｃ10−Ｃ20の酸クロリドが挙げ
られる。好適にはＣ14−Ｃ18の酸クロリドであり、最も
好適にはステアロイルクロリドである。

【０１２６】反応温度は、反応物質、試薬、溶媒等によ
り異なるが、通常０℃乃至５０℃であり、好適には０℃
乃至２５℃である。

【０１２７】反応時間は、反応温度、試薬、溶媒等によ
り異なるが通常１０分乃至３時間であり、好適には３０
分乃至２時間である。

【０１２８】反応後の処理は、通常の方法により行われ
る。得られた化合物は必要ならば再結晶、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー等により精製できる。 （第Ａ７工程）本工程は、化合物（XIII)の２位アミノ
基の保護基を除去し、２位アミン化合物（XIV)を得る工
程であり、化合物（XIII）を不活性溶剤中、強酸を作用
させる、もしくは弱酸存在下で還元能を持つ金属粉末を
作用させることにより達成される。

【０１２９】用いる溶剤としては、反応を阻害せず、出
発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はない
が、好適にはジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、
ジオキサンのようなエーテル類；ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミドのようなアミド類が挙げられ
る。好適にはアミド類であり、最も好適にはジメチルホ
ルムアミドである。

【０１３０】使用する酸としては、硫酸、塩酸のような
強酸、もしくは酢酸、フマル酸のような有機酸、希塩
酸、塩化アンモニウムのような弱酸が挙げられるが、好
適には弱酸であり、最も好適には飽和塩化アンモニウム
である。

【０１３１】金属粉末としては亜鉛粉末、カドミウム粉
末等が挙げられるが、好適には亜鉛粉末である。

【０１３２】反応温度は反応物質、試薬、溶媒等により
異なるが、通常０℃乃至８０℃であり、好適には２０℃
乃至５０℃である。

【０１３３】反応時間は反応温度、試薬、溶媒等により
異なるが、通常１２時間乃至４８時間であり、好適には
２０時間乃至３０時間である。

【０１３４】反応後の処理は通常の方法により行われ
る。得られた化合物は必要ならば再結晶、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー等により精製できる。 （第Ａ８工程）本工程は２−アミン化合物（XIV）の２
−アミド誘導体（XV)を得る工程であり、アミン化合物
（XIV）を不活性溶剤中塩基存在下で、アシル化剤を作
用させることにより達成される。

【０１３５】使用する溶剤としては反応を阻害せず、出
発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はない
が、好適にはジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、
ジオキサンのようなエーテル類；ジクロロメタン、クロ
ロホルム、四塩化炭素、１,２−ジクロロエタンのよう
なハロゲン化炭化水素；アセトニトリル、プロピオニト
リルのようなニトリル系溶媒が挙げられるが、好適には
ハロゲン化炭化水素類であり、最も好適にはジクロロメ
タンである。

【０１３６】用いるアシル化剤は、一般式：Ｒ¹'Ｘ(式
中、Ｒ¹'はＲ¹を示し、 Ｒ¹が置換基として水酸基を有
する場合、この水酸基は前述したように保護されている
のが好ましい。Ｘはハロゲン原子を示す。）で表される
脂肪酸ハライドもしくは一般式：Ｒ^1'ＯＨ(式中、Ｒ¹'
は前記と同意義である。)で表される脂肪酸である。

【０１３７】脂肪酸ハライドは上記不活性溶剤中、塩基
との組み合わせで用いることができ、脂肪酸はジシクロ
ヘキシルカルボジイミドの組み合わせで用いることがで
きる。

【０１３８】使用する塩基としては、トリエチルアミ
ン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンの
ような３級アミンが挙げられるが、好適にはトリエチル
アミンである。

【０１３９】アシル化剤として用いる脂肪酸ハライドと
しては、例えば、アセチルクロリド、プロピオニルクロ
リド又はトリフルオロアセチルクロリドを挙げることが
でき、脂肪酸としては、例えば、ラウリン酸、３−
（R）−（t−ブチルジメチルシロキシ）−ラウリン酸、
ミリスチン酸、３−（R）−（t−ブチルジメチルシロキ
シ）−ミリスチン酸等を挙げることができる。

【０１４０】反応温度は、反応物質、試薬、溶媒等によ
り異なるが、通常０℃乃至８０℃であり、好適には２０
℃乃至５０℃である。

【０１４１】反応時間は、反応温度、試薬、溶媒等によ
り異なるが通常１２時間乃至４８時間であり、好適には
２０時間乃至３０時間である。

【０１４２】反応後の処理は通常の方法により行われ
る。得られた化合物は必要ならば再結晶、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー等により精製できる。 （第Ａ９工程）本工程は化合物（XV)のシリル基を脱保
護した化合物（XVI)を製造する工程であり、化合物（X
V)を不活性溶剤中、脱シリル化剤と処理することにより
達成される。

【０１４３】使用する溶剤は反応を阻害せず、出発物質
をある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好
適にはジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サンのようなエーテル類；ジクロロメタン、クロロホル
ム、四塩化炭素、１,２−ジクロロエタンのようなハロ
ゲン化炭化水素；アセトニトリル、プロピオニトリルの
ようなニトリル系溶媒が挙げられる。好適にはエーテル
類であり、最も好適にはテトラヒドロフランである。

【０１４４】用いる脱シリル化剤としては、テトラブチ
ルアンモニウムフルオライド、フッ化セシウム、フッ化
カリウムのようなフッ素化塩；フッ化水素、フッ化水素
ピリジン錯体、塩酸、硫酸のような強酸が挙げられる。
好適にはフッ化水素、フッ化水素ピリジン錯体であり、
最も好適にはフッ化水素ピリジン錯体である。

【０１４５】反応温度は、反応物質、試薬、溶媒等によ
り異なるが、通常−２０℃乃至５０℃で行われるが、好
適には０℃乃至４０℃である。

【０１４６】反応時間は、反応温度、試薬、溶媒等によ
り異なるが通常１２時間乃至４８時間であり、好適には
２０時間乃至３０時間である。

【０１４７】反応後の処理は通常の方法により行われ
る。得られた化合物は必要ならば再結晶、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー等により精製できる。 （第Ａ１０工程）本工程は化合物（XVI)のリン酸保護基
を脱保護した化合物（Ia)を製造する工程であり、化合
物（XVI)を不活性溶剤中、リン酸の脱保護剤と処理する
ことにより達成される。

【０１４８】リン酸エステルの脱保護に使用する溶剤と
しては反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するも
のであれば特に限定はないが、好適にはジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル
類；ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１,
２−ジクロロエタンのようなハロゲン化炭化水素；アセ
トニトリル、プロピオニトリルのようなニトリル系溶媒
が挙げられる。好適にはエーテル類であり、最も好適に
はテトラヒドロフランである。

【０１４９】例えばリン酸保護基がアリル基である場
合、用いる脱アリル化剤としては、パラジウム、ロジウ
ムの様な遷移金属触媒；ブロモカテコールボラン、３臭
化ホウ素のようなルイス酸が挙げられるが、好適には遷
移金属触媒であり、最も好適にはテトラキストリフェニ
ルホスフィンパラジウムである。

【０１５０】反応温度は、反応物質、試薬、溶媒等によ
り異なるが、通常２０℃乃至８０℃で行われ、好適には
４０℃乃至６０℃である。

【０１５１】反応時間は反応温度、試薬、溶媒等により
異なるが通常２時間乃至５時間であり、好適には３時間
乃至４時間である。

【０１５２】反応後の処理は通常の方法により行われ
る。得られた化合物は必要ならば再結晶、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー等により精製できる。 ２）Ｂ法 本方法は、一般式（I）の化合物の６位がアルコキシ基
である場合の反応工程例である。 (第Ｂ１工程）本工程は化合物（IX)の６位の保護基（シ
リル基）を脱保護し、６位水酸基をフリーにした化合物
（XVII)を製造する工程であり、化合物（IX)を不活性溶
剤中、脱シリル化剤と処理することにより達成される。

【０１５３】６位水酸基の保護基（シリル基）を除去す
る際に用いる溶媒としては、反応を阻害せず、出発物質
をある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好
適にはジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サンのようなエーテル類；アセトニトリル、プロピオニ
トリルの様なニトリル類が挙げられる。好適にはエーテ
ル類であり、最も好適にはテトラヒドロフランである。

【０１５４】脱シリル化試薬として用いる試薬は、テト
ラブチルアンモニウムフルオライド、フッ化セシウム、
フッ化カリウムのようなフッ素化塩、フッ化水素、フッ
化水素ピリジン錯体、塩酸、硫酸のような強酸が挙げら
れる。好適にはフッ化水素、フッ化水素ピリジン錯体で
あり、最も好適にはフッ化水素ピリジン錯体である。

【０１５５】反応温度は反応物質、試薬、溶媒等により
異なるが、通常０℃乃至４０℃であり、好適には０℃乃
至２５℃である。

【０１５６】反応時間は反応温度、試薬、溶媒等により
異なるが通常３時間乃至１２時間であり、好適には５時
間乃至１０時間である。

【０１５７】反応後の処理は通常の方法により行われ
る。得られた化合物は必要ならば再結晶、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー等により精製できる。 (第Ｂ２工程）本工程は化合物（XVII)の６位の水酸基を
アルキル化し、６位をアルキルした化合物（XVIII)を製
造する工程であり、化合物（XVII)を不活性溶剤中、ア
ルキル化剤と処理することにより達成される。

【０１５８】アルキル化に用いる溶媒としては、反応を
阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特
に限定はないが、好適にはジエチルエーテル、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類；ジクロロ
メタン、クロロホルム、１,２−ジクロロエタンのよう
なハロゲン化炭化水素である。好適にはエーテル類であ
り、最も好適にはジエチルエーテルである。

【０１５９】用いるアルキル化剤としては、ヨウ化メチ
ル、ジメチル硫酸、ジアゾメタン、ヨウ化エチル、ジエ
チル硫酸、ジアゾエタン、ヨウ化プロピル、臭化ブチ
ル、ヨウ化ペンチルのようなアルキル化剤が挙げられ
る。好適には、メチル化剤であり、更に好適には、ヨウ
化メチルである。

【０１６０】反応後の処理は通常の方法により行われ
る。得られた化合物は必要ならば再結晶、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー等により精製できる。 （第Ｂ３乃至第Ｂ１０工程）第Ｂ２工程で得られた化合
物（XVIII）より、６位水酸基がアルキル化された目的
化合物（Iｂ）を得る工程であり、化合物（XVIII）に第
Ａ３工程以下第１０工程迄と同様の処理を施すことによ
り、達成される。 ３．Ｃ法 本方法は、一般式（I）の化合物の６位がハロゲン原子
である場合の反応工程例である。 (第Ｃ１工程）本工程は第Ｂ２工程で得られた化合物（X
VII)の６位の水酸基をハロゲン化し、６位ハロゲン化合
物（XIX)を製造する工程であり、化合物（XVII)を不活
性溶剤中、ハロゲン化剤と処理することにより達成され
る。

【０１６１】ハロゲン化に用いる溶媒としては、反応を
阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特
に限定はないが、好適にはジエチルエーテル、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類；ジクロロ
メタン、クロロホルム、１,２−ジクロロエタンのよう
なハロゲン化炭化水素である。好適にはエーテル類であ
り、最も好適にはジエチルエーテルである。

【０１６２】用いるハロゲン化剤としては、例えば、Ｄ
ＡＳＴ（ジエチルアミノサルファトリフルオライド）、
ヤロベンコ試薬（２−クロロ−１，１，２−トリフルオ
ロエチルジエチルアミン）のようなフッ素化剤、塩化水
素、３塩化りんのような塩素化剤、又は臭化水素、３臭
化りんのような臭素化剤が挙げられる。好適には、フッ
素化剤であり、更に好適にはＤＡＳＴである。

【０１６３】反応温度は、反応物質、試薬、溶媒等によ
り異なるが、通常０℃乃至４０℃であり、好適には０℃
乃至２５℃である。

【０１６４】反応時間は反応温度、試薬、溶媒等により
異なるが通常１０分ないし１０時間であり、好適には２
時間乃至８時間である。

【０１６５】反応後の処理は通常の方法により行われ
る。得られた化合物は必要ならば再結晶、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー等により精製できる。 （第Ｃ２工程）第Ｃ１工程で得られた化合物（XIX）よ
り６位水酸基がハロゲン化された目的化合物（Ｉc）を
得る工程であり、化合物（XIX）に第Ａ２工程以下第９
工程迄と同様の処理を施すことにより、達成される。

【０１６６】

【実施例】以下に本発明を実施例により、さらに具体的
に説明する。

【０１６７】

【実施例１】（ａ）アリル−２−デオキシ−３−Ｏ−
［（Ｒ）−３−テトラデカノイルオキシテトラデカノイ
ル］−６−Ｏ−（ｔ−ブチルジフェニルシリル）−２−
（２，２，２−トリクロロエトキシカルボニルアミノ）
−α−Ｄ−グルコピラノシド（VIIIa）の製造 乾燥、窒素置換した二口フラスコ（50 ml）中、アリル
−２−デオキシ−４，６−O−イソプロピリデン−３−
Ｏ−［（Ｒ）−３−テトラデカノイルオキシテトラデカ
ノイル］−２−（２，２，２−トリクロロエトキシカル
ボニルアミノ）−α−Ｄ−グルコピラノシド （VIIa）
［Bull.Chem.Soc.Jpn.60, 2205, 1987］(9.12 g, 10.5
mmol) を、メタノール 10 mlおよびテトラヒドロフラン
5 ml の混合液に溶解した。更にｐ−トルエンスルホン
酸 (27 mg, 0.1 mmol) を加え、室温で７時間攪拌し
た。反応終了後、トリエチルアミン (2 ml) を加え、減
圧下溶媒を留去した。得られた粗生成物にジメチルホル
ムアミド (25 ml) を加えて溶解した。さらにイミダゾ
ール (2.1 g, 31.5 mmol)、およびt−ブチルジフェニル
シリルクロリド (2.7 ml, 10.5 mmol) を加え、室温で
17 時間攪拌した。反応終了後、飽和重曹水 (5 ml) を
加え更にエーテルを加えて分液し、エーテル層を硫酸マ
グネシウムで乾燥した。得られたエーテル溶液の溶媒を
減圧下留去し、粗生成物を得た。得られた粗生成物をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー (溶出剤；酢酸エチ
ル : ヘキサン = 8 : 92 - 10 : 90) で精製し、標記化
合物（VIIIa） (9.46 g, 9.24 mmol) を無色油状物質と
して得た。 1H NMR (270 MHz, CDCl₃) d 0.88 (t, 6 H, J = 7.2 H
z), 1.06 (s, 9 H), 1.15- 1.40 (m, 38 H), 1.50 -1.6
8 (m, 2 H), 2.27 (t, 2 H, J = 7.2 Hz), 2.50(dd, 1
H, J = 15.1 Hz, 5.5 Hz), 2.60 (dd, 2 H, J = 15.1 H
z, 8.2 Hz), 3.16 ( d, 1 H, J = 2.8 Hz), 3.65 - 3.8
1 (m, 2 H), 3.82 - 4.02 (m, 3 H), 4.16 (dd, 1 H, J
= 11.9 Hz, 5.5 Hz), 4.68 (d, 1 H, J = 11.9 Hz),
4.76 (d, 1H, J = 11.9 Hz), 4.90 (d, 1 H, J = 4.9 H
z), 5.08 - 5.32 (m, 5 H), 5.41(d, 1 H, J = 9.8 H
z), 5.87 (ddt, 2 H, J = 18.1 Hz, 11.0 Hz, 5.5 Hz),
7.33 - 7.48 (m, 6 H), 7.62 - 7.76 (m, 4 H) IR (CHCl₃) 3502, 3431, 1742, 1515, 1465 cm-1 HRMS C56H88Cl3NO10SiNa (M + Na)+ ; calcd for 1090.
5141; obs 1090.5110 （ｂ）２−デオキシ−４−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−
［（Ｒ）−３−テトラデカノイルオキシテトラデカノイ
ル］−６−Ｏ−ｔ−ブチルジフェニルシリル−２−
（２，２，２−トリクロロエトキシカルボニルアミノ）
−α−Ｄ−グルコピラノシド（Xa）の製造 乾燥、窒素置換した二口フラスコ（25 ml）中、（ａ）
で得られた化合物（VIIIa） (2.80 g, 2.73 mmol) を、
テトラヒドロフラン 6 ml に溶解した。さらにイリジウ
ム錯体 (20 mg, 0.02 mmol ) を加え、系を水素置換し
たあと、溶液が黄透明になるまで攪拌した。その後再び
系を窒素置換し、そのまま２日間攪拌した。

【０１６８】原料が消失したことを ¹H-NMR で確認した
後、反応溶液に対してビス（アリロキシ）N,N - ジイソ
プロピルホスホロアミダイト (0.88 ml, 3.28 mmol) 、
1H−テトラゾール (0.23 g, 3.28 mmol) を加え、室温
下５時間攪拌した。さらに反応溶液を 0 ℃に冷却した
後、30%過酸化水素水溶液 (2 ml) を加え、ゆっくり室
温に戻した。６時間攪拌した後、飽和チオ硫酸ナトリウ
ム水溶液 (2 ml) を加えた。エーテルを加え分液し、エ
ーテル層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、得られたエ
ーテル層の溶媒を減圧下留去した。得られた粗生成物に
テトラヒドロフラン (4 ml) を加え溶解し、水 (1 m
l)、ヨウ素 (1.5 g, 6.0 mmol) を加え、室温下４時間
攪拌した。反応終了後飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液
(3 ml) を加えた。エーテルを加え分液し、エーテル層
を硫酸マグネシウムで乾燥した後、得られたエーテル層
の溶媒を減圧下留去した。得られた粗生成物をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー (溶出剤；酢酸エチル :
ヘキサン = 10 : 90 - 20 : 80) で精製し、標記化合物
（Xa） (1.32 g, 1.21 mmol) を無色油状物質として得
た。(4 steps 41%) 1H NMR (270 MHz, CDCl₃) d 0.88 (t, 6 H, J = 7.7 H
z), 1.07 (s, 9 H), 1.10- 1.37 (m, 40 H), 1.48 - 1.
65 (m, 4 H), 2.23 (t, 2 H, J = 7.7 Hz), 2.57(dd, 1
H, J = 16.4 Hz, 4.1 Hz), 2.69 (dd, 1 H, J = 16.4
Hz, 7.4 Hz), 2.90 (br, 1 H), 3.80 - 4.10 (m, 3 H),
4.25 - 4.50 (m, 4 H), 4.64 (d, 1 H,J = 12.6 Hz),
4.77 (d, 1 H, J = 12.6 Hz), 5.10 - 5.43 (m, 7 H),
5.54 (d,1 H, J = 7.1 Hz), 5.68 - 5.95 (m, 2 H), 7.
32 - 7.47 (m, 6 H), 7.63 -7.75 (m, 4 H) IR (CHCl₃) 3434, 3327, 1746, 1516, 1465, 1428 cm-1 HRMS C59H93Cl3NO13PSiNa (M + Na)+ ; calcd for 121
0.5117; obs 1210.5144 （ｃ）２，２，２−トリクロロエチルイミドイル−２−
デオキシ−４−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−
３−テトラデカノイルオキシテトラデカノイル］−６−
Ｏ−（ｔ−ブチルジフェニルシリル）−２−（２，２，
２−トリクロロエトキシカルボニルアミノ）−α−Ｄ−
グルコピラノシド（XIa）の製造 乾燥、窒素置換した 25 ml 二口フラスコ中、（ｂ）で
得られた化合物（Xa）(1.15 g, 0.98 mmol) を、メチレ
ンクロライド (3 ml) に溶解した。トリクロロアセトニ
トリル (0.20 ml, 1.95 mmol)、ジアザビシクロ[4,3,0]
ウンデセン (14.9 ml, 0.1 mmol) を加え、室温下２時
間攪拌した後、水 (0.5 ml)、エーテルを加え分液し、
エーテル層を硫酸マグネシウムで乾燥した。得られたエ
ーテル溶液の溶媒を減圧下留去し粗生成物を得た。シリ
カゲルカラムクロマトグラフィー(溶出剤；酢酸エチ
ル：ヘキサン = 15 : 85) で精製し、イミデート（XI
a） (1.22 g, 0.93 mmol) を無色油状物質として得る。
(95%) 1H NMR (270 MHz, CDCl₃) d 0.89(t, 6 H, J = 7.9 H
z), 1.06 (s, 9 H), 1.12- 1.40 (m, 38 H), 1.48 - 1.
67 (m, 4 H), 2.25 (t, 2 H, J = 7.9 Hz), 2.63(dd, 1
H, J = 15.8 Hz, 6.3 Hz), 2.72 (dd, 1 H, J = 15.8
Hz, 7.6 Hz), 3.83 - 4.21 (m, 5 H), 4.24 - 4.50 (m,
5 H), 4.62 (d, 1 H, J = 12.8 Hz), 4.82 (d, 1 H, 1
2.8 Hz), 5.10 - 5.47 (m, 5 H), 5.55 (d, 1 H, J =
9.2 Hz), 5.66 - 5.95 (m, 2 H), 6.52 (d, 1 H, J =
3.6 Hz), 7.30 - 7.45 (m, 6 H), 7.63 - 7.75 (m, 4
H), 8.74 (s, 1 H) IR (CHCl₃) 3431, 3346, 1749, 1677, 1516, 1465, 142
8 cm-1 HRMS C61H93Cl6N2O13PSiK (M + K)+ ; calcd for 1369.
53; obs 1369.3949 （ｄ）２−デオキシ−４−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−
［（Ｒ）−３−テトラデカノイルオキシテトラデカノイ
ル］−６−Ｏ−（ｔ−ブチルジフェニルシリル）−２−
（２，２，２−トリクロロエトキシカルボニルアミノ）
−β−Ｄ−グルコピラノシド−（１→１'）−（２'Ｓ,
３'Ｒ,４'Ｅ）−２'−アジド−３'−Ｏ−ｔ−ブチルジ
メチルシリル−４'−オクタデセン−１'，３'−ジオー
ル（XIIa）の製造 乾燥、窒素置換された二口フラスコ（25 ml）中、MS4A
powder (0.1 g) をとり、減圧下強熱し乾燥した。
（ｃ）で得られた化合物（XIa）(0.62 g, 0.47 mmol)
のメチレンクロライド溶液 1 ml、（２Ｓ,３Ｒ,４Ｅ）
−２−アジド−３−Ｏ−ｔ−ブチルジメチルシリル−４
−オクタデセン−１，３−ジオール (0.22 g,0.52 mmo
l) のメチレンクロライド溶液 1 ml をそれぞれ加え、
懸濁した状態で2時間攪拌した。

【０１６９】−23 ℃に冷却した後、３フッ化ホウ素エ
ーテル錯体 (6.1 ml, 0.05 mmol) を加え、４時間攪拌
した。反応終了後、飽和重曹水 (0.5 ml) およびエーテ
ルを加えて、セライトろ過し、水、エーテルを加え分液
した。エーテル層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、得
られたエーテル層の溶媒を減圧下留去し、粗生成物を得
た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー (溶出剤；酢
酸エチル : ヘキサン =15 : 85) で精製し、標記化合物
（XIIa） (0.65 g, 0.41 mmol) を無色油状物質として
得た。(87%) 1H NMR (400 MHz, CDCl₃) d 0.03 (s, 3 H), 0.06 (s,
3 H), 0.88 (t, 9 H, J= 6.3 Hz), 1.06 (s, 18 H),
1.18 - 1.32 (m, 68 H), 2.01 (q, 2 H, J = 6.9Hz),
2.28 (t, 2 H, J = 7.6 Hz), 2.58 (dd, 1 H, J = 15.3
Hz, 8.2 Hz), 2.65 (dd, 1 H, 1 H, J = 14.8 Hz, 4.3
Hz), 3.48 - 3.60 (m, 3 H), 3.85 - 4.00 (m, 3 H),
4.14 - 4.19 (m, 1 H), 4.24 - 4.30 (m, 1 H), 4.32 -
4.40 (m,3 H), 4.60 (d, 1 H, J = 12.4 Hz), 4.81
(d, 1 H, J = 12.4 Hz), 4.87 (d, 1H, J = 8.6 Hz),
5.13 (dd, 1 H, J = 10.8 Hz, 1.4 Hz), 5.19 (dd, 1
H, J =16.6 Hz, 1.8 Hz), 5.21 (dd, 1 H, J = 10.8 H
z, 1.4 Hz), 5.29 (dd, 1 H, J= 17.2 Hz, 1.6 Hz), 5.
40 (dd, 1 H, J = 15.6 Hz, 7.7 Hz), 5.55 (d, 1 H,J
= 8.4 Hz), 5.59 - 5.75 (m, 2 H), 5.84 (ddt, 1 H, J
= 16.6 Hz, 10.8 Hz,5.2 Hz), 7.34 - 7.44 (m, 6 H),
7.67 - 7.75 (m, 4 H) IR (neat) 3350, 2100, 1749, 1538, 1465 cm-1 HRMS C83H140Cl3N4O14PSi2Na (M + Na)+ ; calcd for 1
647.8345; obs 1647.8369 （ｅ）２−デオキシ−４−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−
［（Ｒ）−３−テトラデカノイルオキシテトラデカノイ
ル］−６−Ｏ−（ｔ−ブチルジフェニルシリル）−２−
（２，２，２−トリクロロエトキシカルボニルアミノ）
−β−Ｄ−グルコピラノシド−（１→１'）−（２'Ｓ,
３'Ｒ,４'Ｅ）−２'−オクタデカノイルアミノ−３'−
Ｏ−ｔ−ブチルジメチルシリル−４'−オクタデセン−
１'，３'−ジオール （XIIIa）の製造 乾燥、窒素置換した２口フラスコ（5 ml）中、（ｄ）で
得られた化合物化合物（XIIa）(0.28 g, 0.18 mmol) を
加え、ベンゼン (1 ml) に溶解した。トリフェニルホス
フィン (92.1 mg, 0.35 mmol) を加え、60℃で７時間攪
拌した。水 (0.1 ml) を加え、さらに 60 ℃で 17 時間
攪拌した後、減圧下溶媒を留去した。得られた組成生物
をメチレンクロライド (0.5 ml) に溶解し、ジメチルア
ミノピリジン (2.4 mg, 0.02 mmol)、トリエチルアミン
(74.4 ml, 0.53 mmol)、ステアリン酸クロリド (63.6
mg, 0.21 mmol) をそれぞれ加え、室温下１時間攪拌し
た。反応終了後、飽和重曹水 (0.2 ml) およびエーテル
を加え分液した。得られたエーテル層を硫酸マグネシウ
ムで乾燥した後、エーテル層の溶媒を減圧下留去する。
シリカゲルカラムクロマトグラフィー (溶出剤；酢酸エ
チル : ヘキサン =8 : 92 - 20 : 80) で精製し、化合
物（XIIIa） (0.28 g, 0.15 mmol) を無色油状物質とし
て得た。(2 steps 86%) 1H NMR (400 MHz, CDCl₃) d 0.01 (s, 3 H), 0.04 (s,
3 H), 0.88 (t, 12 H, J= 6.4 Hz), 1.07 (s, 18 H),
1.14 - 1.38 (m, 91 H), 1.50 - 1.70 (m, 6 H),1.92
(q, 2 H, J = 6.9 Hz), 2.09 (dd, 1 H, J = 15.8 Hz,
7.8 Hz), 2.24 (dd, 1 H, J = 15.8 Hz, 7.3 Hz), 2.28
(t, 2 H, J = 7.3 Hz), 2.62 (d, 2 H, J= 6.0 Hz),
3.46 - 3.56 (m, 2 H), 3.70 (dd, 1 H, J = 11.0 Hz,
4.2 Hz), 3.90 (dd, 1 H, J = 11.6 Hz, 5.3 Hz), 3.93
- 4.03 (m, 2 H), 4.07 - 4.18 (m, 2 H), 4.21 - 4.2
9 (m, 1 H), 4.31 - 4.41 (m, 2 H), 4.62 (d, 1 H, J
= 11.5 Hz), 4.78 (d, 1 H, J = 11.5 Hz), 4.81 (d, 1
H, J = 7.3 Hz), 5.12 (dd,1 H, J = 10.7 Hz, 1.3 H
z), 5.15 - 5.35 (m, 6 H), 5.58 (dt, 1 H, J = 15.4
Hz, 6.3 Hz), 5.65 - 5.78 (m, 2 H), 5.84 (ddt, 1 H,
J = 15.4 Hz, 10.7 Hz, 5.8 HZ), 7.32 - 7.45 (m, 6
H), 7.70 - 7.75 (m, 4 H) IR (CHCl₃) 3294, 1740, 1660, 1539, 1460 cm^-1 HRMS C101H176Cl3N2O15PSi2Na (M + Na)+ ; calcd for
1872.1310; obs 1872.1379 （ｆ）２−デオキシ−２−アミノ−４−ジアリルホスホ
ノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−テトラデカノイルオキシテ
トラデカノイル］−６−Ｏ−（ｔ−ブチルジフェニルシ
リル）−β−Ｄ−グルコピラノシド−（１→１'）−
（２'Ｓ,３'Ｒ,４'Ｅ）−２'−オクタデカノイルアミノ
−３'−Ｏ−ｔ−ブチルジメチルシリル−４'−オクタデ
セン−１'，３'−ジオール （XIVa）の製造 なすフラスコ（25 ml）中、（ｅ）で得られた化合物化
合物（XIIIa） (0.19 g, 0.10 mmol) をとり、ジメチル
ホルムアミド (1.5 ml) を加え溶解した。飽和塩化アン
モニウム水溶液 (0.2 ml)、亜鉛粉末 (0.13 g, 2.0 mmo
l) を加え、室温下１時間攪拌した。反応終了後、飽和
ロッシェル塩水溶液 (0.2 ml) を加え、１時間攪拌した
後、エーテルを加え分液した。得られたエーテル層を硫
酸マグネシウムで乾燥した後、エーテル層の溶媒を減圧
下留去した。シリカゲルカラムクロマトグラフィー (溶
出剤；酢酸エチル : ヘキサン= 10 : 90 - 20 : 80) で
精製し、化合物（XIVa） (99.2 mg, 0.06 mmol) を無色
油状物質として得た。(60%) 1H NMR (270 MHz, CDCl₃) d 0.01 (s, 3 H), 0.04 (s,
3 H), 0.88 (t, 12 H, J= 6.4 Hz), 1.06 (s, 18 H),
1.16 - 1.36 (m, 98 H), 1.50 - 1.66 (m, 6 H),1.96
(q, 2 H, J = 7.2 Hz), 2.09 (dd, 1 H, J = 14.7 Hz,
8.1 Hz), 2.16 (dd, 1 H, J = 14.7 Hz, 8.0 Hz), 2.26
(t, 2 H, J = 7.7 Hz), 2.59 (dd, 1 H,J = 10.2 Hz,
8.1 Hz), 2.72 (dd, 1 H, J = 14.7 Hz, 4.2 Hz), 2.85
(dd, 1 H, J = 10.2 Hz, 8.1 Hz), 3.45 - 3.52 (m, 1
H), 3.64 (d, 1 H, J = 7.5 Hz),3.86 (dd, 1 H, J =
11.0 Hz, 5.6 Hz), 3.99 (d, 1 H, J = 11.0 Hz), 4.07
-4.40 (m, 8 H), 4.99 (t, 1 H, J = 9.9 Hz), 5.10
(dd, 1 H, J = 10.3 Hz, 1.4 Hz), 5.29 (dd, 1 H, J =
16.9 Hz, 1.4 Hz), 5.38 (dd, 1 H, J = 14.8 Hz,5.8
Hz), 6.12 (d, 1 H, J = 8.7 Hz), 7.35 - 7.43 (m, 6
H), 7.67 - 7.75 (m, 4 H) IR (neat) 3318, 1738, 1654, 1540, 1465, 1275, 1258
cm^-1 HRMS C98H176N2O13PSi2 (M + H)+ ; calcd for 1676.24
49; obs 1676.2445 （ｇ）２−デオキシ−４−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−
［（Ｒ）−３−テトラデカノイルオキシテトラデカノイ
ル］−６−Ｏ−（ｔ−ブチルジフェニルシリル）−２−
［（Ｒ）−３−ｔ−ブチルジメチルシリロキシテトラデ
カノイルアミノ］−β−Ｄ−グルコピラノシド−（１→
１'）−（２'Ｓ,３'Ｒ,４'Ｅ）−２'− オクタデカノイ
ルアミノ−３'−Ｏ−ｔ−ブチルジメチルシリル−４'−
オクタデセン−１'，３'−ジオール （XVa）の製造 乾燥、窒素置換された二口フラスコ（5 ml）中、（ｆ）
で得られた化合物（XIVa） (83.0 mg, 0.05 mmol) をと
り、1,2−ジクロロエタン (0.3 ml) を加え溶解した。
（R）−３−t−ブチルジメチルシリロキシテトラデカノ
イックアシッド(26.9 mg, 0.075 mmol)、ジメチルアミ
ノピリジン (9.2 mg, 0.075 mmol)、ジシクロヘキシル
カルボジイミド (15.5 mg, 0.075 mmol) をそれぞれ加
え、50 ℃で１日攪拌した。反応終了後、室温に戻し、
飽和重曹水 (0.1 ml) 、エーテルを加え分液した。得ら
れたエーテル層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、エー
テル層の溶媒を減圧下留去した。シリカゲルカラムクロ
マトグラフィー (溶出剤；酢酸エチル : ヘキサン = 7
: 93 - 12 : 88) で精製し、標記化合物（XVa） (60.3
mg, 0.03 mmol) を無色油状物質として得た。(60%) 1H NMR (400 MHz, CDCl₃) d 0.00 (s, 3 H), 0.03 (s,
3 H), 0.06 (s, 3 H), 0.08 (s, 3 H), 0.87 (t, 15 H,
J = 7.7 Hz), 1.06 (s, 27 H), 1.16 - 1.36 (m, 109
H), 1.37 - 1.46 (m, 2 H), 1.50 - 1.65 (m, 8 H), 1.
86 (q, 2 H, J =7.3 Hz), 2.13 (dt, 1 H, J = 14.8 H
z, 7.6 Hz), 2.20 - 2.28 (m, 4 H), 2.34(dt, 1 H, J
= 14.8 Hz, 7.6 Hz), 2.57 (dd, 1 H, J = 16.8 Hz, 5.
8 Hz), 2.69 (dd, 1 H, J = 16.8 Hz, 7.5 Hz), 3.50
(m, 1 H), 3.78 - 3.98 (m, 4 H),4.05 - 4.16 (m, 2
H), 4.21 - 4.45 (m, 3 H), 4.74 (d, 1 H, 8.8 Hz),
5.10- 5.32 (m, H), 5.58 (dt, 1 H, J = 15.1 Hz, 7.6
Hz), 5.71 (ddt, 1 H, J =17.6 Hz, 11.2 Hz, 6.16 H
z), 5.84 (ddt, 1 H, J = 16.8 Hz, 10.9 Hz, 5.6 Hz),
5.90 (d, 1 H, J = 9.0 Hz), 6.61 (d, 1 H, J = 9.0
Hz), 7.32 - 7.45 (m,6 H), 7.67 - 7.75 (m, 4 H) IR (CHCl₃) 3308, 1739, 1683, 1658, 1538, 1465 cm^-1 HRMS C118H215N2O15PSi3Na (M + Na)+ ; calcd for 203
8.5066; obs 2038.5096 （ｈ）２−デオキシ−４−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−
［（Ｒ）−３−テトラデカノイルオキシテトラデカノイ
ル］−２−［（Ｒ）−３−ヒドロキシテトラデカノイル
アミノ］−β−Ｄ−グルコピラノシド−（１→１'）−
（２'Ｓ,３'Ｒ,４'Ｅ）−２'− オクタデカノイルアミ
ノ−４'−オクタデセン−１'，３'−ジオール （XVIa）
の製造 乾燥、窒素置換されたなすフラスコ（10 ml）に（ｇ）
で得られた化合物（XVa） (24.3 mg, 0.012 mmol) をと
り、テトラヒドロフラン (0.3 ml) を加え溶解した。フ
ッ化水素−ピリジン錯体 (2 滴)をくわえ、室温で１日
攪拌した。反応終了後飽和重曹水 (0.2 ml) 、エーテル
を加え分液した。得られたエーテル層を硫酸マグネシウ
ムで乾燥した後、エーテル層の溶媒を減圧下留去した。
シリカゲルカラムクロマトグラフィー (溶出剤；酢酸エ
チル : ヘキサン = 50 : 50, 後にメタノール : クロロ
ホルム = 2 : 98) で精製し、化合物（XVIa） (10.0 m
g,0.0065 mmol) を白色固体として得た。（54%） 1H NMR (270 MHz, CDCl₃) d 0.88 (t, 15 H, J = 7.3 H
z), 1.19 - 1.42 (m, 108 H), 1.50 - 1.70 (m, 10 H),
2.00 - 2.08 (m, 1 H), 2.13 (dd, 1 H, J = 15.1 Hz,
10.4 Hz), 2.22 (dt, 1 H, J = 7.3 Hz, 2.0 Hz), 2.2
8 (t, 2 H, J = 7.4 Hz), 2.39 (dd, 1 H, J = 15.1 H
z, 2.2 Hz), 2.49 - 2.54 (m, 2 H), 3.13(d, 1 H, 10.
8 Hz), 3.38 (d, 1 H, J = 10.3 Hz), 3.55 - 3.62 (m,
2 H), 3.80 - 3.98 (m, 3 H), 4.03 - 4.25 (m, 5 H),
4.38 (d, 1 H, J = 8.4 Hz), 4.48- 4.56 (m, 3 H),
5.08 - 5.15 (m, 2 H), 5.28 (ddd, 2 H, J = 11.8 Hz,
7.1Hz, 2.3 Hz), 5.38 (ddd, 2 H, J = 17.9 Hz, 5.3
Hz, 2.3 Hz), 5.49 (dd, 1H, J = 15.9 Hz, 7.6 Hz),
5.73 (dt, 1 H, J = 15.9 Hz, 6.8 Hz), 5.85 - 5.96
(m, 2 H), 6.23 (d, 1 H, J = 8.5 Hz), 6.83 (d, 1 H,
J = 8.6 Hz) IR (CHCl₃) 3298, 1740, 1646, 1550, 1468 cm^-1 HRMS C90H169N2O15PNa (M + Na)+ ; calcd for 1572.21
58; obs 1572.2191 （ｉ）２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−テトラデ
カノイルオキシテトラデカノイル］−２−［（Ｒ）−３
−ヒドロキシテトラデカノイルアミノ］−４−ホスホノ
−β−Ｄ−グルコピラノシド−（１→１'）−（２'Ｓ,
３'Ｒ,４'Ｅ）−２'− オクタデカノイルアミノ−４'−
オクタデセン−１'，３'−ジオール （Ia）の製造 乾燥、窒素置換された反応容器中、（ｈ）で得られた化
合物（XVIa） (26.4 mg, 0.017 mmol) をとり、テトラ
ヒドロフラン 0.2 ml を加え溶解した。トリエチルアミ
ン (11.8 ml, 0.085 mmol), トリフェニルホスフィン
(2.2 mg, 0.0085mmol)、ギ酸 (6.4 ml, 0.17 mmol)、テ
トラキストリフェニルホスフィンパラジウム (0.2 mg,
0.0002 mmol) をそれぞれ加え、50℃で３時間攪拌し
た。反応終了後、減圧下溶媒を留去し、粗性生物を得
た。Sephadex LH20 カラムクロマトグラフィー (溶出
剤；クロロホルム) で精製し、標記化合物（Ia）のトリ
エチルアンモニウム塩(21.1 mg, 0.014 mmol) を得た。
得られたトリエチルアンモニウム塩をクロロホルム−メ
タノール溶液 (1 : 2, 3 ml) に溶解し、0.1 N 塩酸水
溶液、クロロホルムを加え分液する。得られたクロロホ
ルム層の溶媒を減圧下留去し、標記化合物（Ia） (19.5
mg, 0.013 mmol) を白色固体として得た。(76%) 1H NMR (400 MHz, CDCl₃) d 0.89 (t, 15 H, J = 6.8 H
z), 1.20 - 1.48 (m, 106 H), 1.51 - 1.66 (m, 10 H),
2.03 (q, 2 H, J = 7.1 Hz), 2.12 -2.22 (m, 3H), 2.
313 (t, 2 H, J = 7.4 Hz), 2.33 (dd, 1 H, J = 14.6
Hz, 2.6 Hz), 2.56 (dd, 1 H, J = 15.3 Hz, 5.4 Hz),
2.66 (dd, 1 H, J = 15.4 Hz, 7.0 Hz),3.45 (d, 1 H,
J = 9.4 Hz), 3.57 (dd, 1 H, J = 9.9 Hz, 2.7 Hz),
3.80 - 4.02 (m, 3 H), 4.03 - 4.14 (m, 2 H), 4.24 -
4.33 (m, 1 H), 4.44 (d, 1 H, J= 8.4 Hz), 5.11 -
5.20 (m, 2 H), 5.43 (dd, 1 H, J = 15.4 Hz, 7.4 H
z), 5.70 (dt, 1 H, J = 15.4 Hz, 6.5 Hz), 7.27 (d,
1 H, J = 9.2 Hz), 7.63 (d,1 H, J = 9.5 Hz) IR (CHCl₃) 3286, 1733, 1650, 1468 cm^-1 HRMS C84H161N2O15PK (M + K)+ ; calcd for 1508.127
2; obs 1508.1317

【０１７０】

【実施例２】（ｊ）２−デオキシ−２−アセチルアミノ
−４−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−テト
ラデカノイルオキシテトラデカノイル］−６−Ｏ−（ｔ
−ブチルジフェニルシリル）−β−Ｄ−グルコピラノシ
ド−（１→１'）−（２'Ｓ,３'Ｒ,４'Ｅ）−２'−オク
タデカノイルアミノ−３'−Ｏ−ｔ−ブチルジメチルシ
リル−４'−オクタデセン−１'，３'−ジオール（XV
a'）の製造 乾燥、窒素置換された反応容器に（ｆ）で得られた化合
物（XIVa）をとり、メチレンクロライド 0.5 ml を加え
溶解した。ジメチルアミノピリジン (2.0 mg,0.016 mmo
l), トリエチルアミン (67.4 ml, 0.48 mmol), アセチ
ルクロリド (17.1 ml, 0.24 mmol) をそれぞれくわえ、
室温で３時間攪拌した。反応終了後、飽和重曹水 0.2 m
l 、エーテルを加え分液した。得られたエーテル層を硫
酸マグネシウムで乾燥し、エーテル層の溶媒を減圧下留
去した。シリカゲルカラムクロマトグラフィー (溶出
剤；酢酸エチル : ヘキサン= 10 : 90 - 20 : 80) で精
製し、標記化合物（XVa'） (0.23 g, 0.14 mmol) を無
色油状物質として得た。（85%） 1H NMR (400 MHz, CDCl₃) d 0.01 (s, 3 H), 0.04 (s,
3 H), 0.88 (t, 12 H, J= 6.5 Hz), 1.07 (s, 18 H),
1.17 - 1.49 (m, 90 H), 1.50 - 1.67 (m, 6 H),1.93
(s, 3 H), 2.09 - 2.23 (m, 2 H), 2.27 (t, 2 H, J =
7.3 Hz), 2.59 -2.65 (m, 2 H), 3.49 - 3.59 (m, 1
H), 3.73 - 3.82 (m, 2 H), 3.87 - 4.00 (m, 4 H), 4.
05 - 4.18 (m, 2 H), 4.22 (t, 1 H, J = 6.4 Hz), 4.2
5 - 4.32 (m, 1 H), 4.34 - 4.45 (m, 4 H), 4.76 (d,
1 H, J = 8.0 Hz), 5.13 (dd, 1 H,J = 10.6 Hz, 1.2 H
z), 5.17 - 5.25 (m, 2 H), 5.26 - 5.36 (m, 2 H), 5.
59 (dt, 1 H, J = 15.6 Hz, 6.6 Hz), 5.72 (ddt, 1 H,
J = 17.2 Hz, 10.6 Hz, 6.1Hz), 5.84 (ddt, 1 H, J =
17.1 Hz, 10.6 Hz, 6.0 Hz), 5.94 (d, 1 H, J = 9.0
Hz), 6.17 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 7.30 - 7.50 (m, 6
H), 7.62 - 7.80 (m,4 H) IR (CHCl₃) 3307, 1738, 1669, 1543, 1465 cm^-1 HRMS C100H177Cl3N2O14PSi2K (M + K)+ ; calcd for 17
56.2113; obs 1756.2123 （ｋ）２−デオキシ−４−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−
［（Ｒ）−３−テトラデカノイルオキシテトラデカノイ
ル］−２−（アセチルアミノ）−β−Ｄ−グルコピラノ
シド−（１→１'）−（２'Ｓ,３'Ｒ,４'Ｅ）−２'− オ
クタデカノイルアミノ−４'−オクタデセン−１'，３'
−ジオール（XVIa'）の製造 乾燥、窒素置換されたナスフラスコ（10 ml）に（ｊ）
で得られた化合物（XVa'） (0.13 g, 0.077 mmol) をと
り、テトラヒドロフラン 0.5 ml を加え溶解した。フッ
化水素−ピリジン錯体 (6 滴)をくわえ、室温で１日攪
拌した。反応終了後、飽和重曹水 0.3 ml、エーテルを
加え分液した。得られたエーテル層を硫酸マグネシウム
で乾燥した後、エーテル層の溶媒を減圧下留去した。シ
リカゲルカラムクロマトグラフィー (溶出剤；酢酸エチ
ル：ヘキサン = 50 : 50,後に メタノール : クロロホ
ルム = 2 : 98) で精製し、化合物（XVIa'） (64.0 mg,
0.047 mmol) を白色固体として得た。（61%） 1H NMR (400 MHz, CDCl₃) d 0.88 (t, 12 H, J = 7.4 H
z), 1.20 - 1.34 (m, 95H), 1.52 - 1.66 (m, 6 H), 1.
94 (s, 3 H), 2.03 (q, 2 H, J = 7.4 Hz), 2.20 (t, 2
H, J = 7.7 Hz), 2.28 (t, 2 H, J = 7.5 Hz), 2.51
(dd, 1 H, J = 15.3 Hz, 8.2 Hz), 2.57 (dd, 1 H, J =
15.3 Hz, 4.4 Hz), 3.47 (d, 1 H, J = 9.9 Hz), 3.70
(d, 1 H, J = 8.4 Hz), 3.72 - 3.80 (m, 1 H), 3.81
- 3.93 (m,2 H), 3.98 - 4.08 (m, 2 H), 4.12 (t, 1
H, J = 6.4 Hz), 4.46 - 4.58 (m,3 H), 4.74 (d, 1 H,
J = 8.6 Hz), 5.13 - 5.32 (m, 3 H), 5.37 (ddt, 2
H,J = 17.0 Hz, 1.7 Hz, 1.6 Hz), 5.48 (dd, 1 H, J =
15.7 Hz, 6.8 Hz), 5.72(dt, 1 H, J = 15.7 Hz, 6.7
Hz), 6.23 (d, 1 H, J = 7.6 Hz), 6.34 (d, 1 H,J =
7.7 Hz) IR (CHCl₃) 3431, 3386, 1743, 1727, 1519, 1467 cm^-1 HRMS C78H145N2O14PNa (M + Na)+ ; calcd for 1388.03
31; obs 1388.0328 （ｌ）２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−テトラデ
カノイルオキシテトラデカノイル］−２−（アセチルア
ミノ）−β−Ｄ−グルコピラノシド−（１→１'）−
（２'Ｓ,３'Ｒ,４'Ｅ）−２'−オクタデカノイルアミノ
−４'−オクタデセン−１'，３'−ジオール−４−ホス
フェート（Ia'）の製造 乾燥、窒素置換された反応容器中、（ｋ）で得られた化
合物（XVIa'） (28.7mg, 0.021 mmol) をとり、テトラ
ヒドロフラン 0.2 ml を加え溶解した。トリエチルアミ
ン (14.6 ml, 0.105 mmol), トリフェニルホスフィン
(2.6 mg, 0.010mmol)、ギ酸 (7.9 ml, 0.21 mmol)、テ
トラキストリフェニルホスフィンパラジウム (0.2 mg,
0.0002 mmol) をそれぞれ加え、50℃で３時間攪拌し
た。反応終了後、減圧下溶媒を留去し、粗性生物を得
た。Sephadex LH20 カラムクロマトグラフィー (溶出
剤；クロロホルム) で精製し、化合物（Ia'）のトリエ
チルアンモニウム塩(29.0 mg, 0.021 mmol) を得た。得
られたトリエチルアンモニウム塩をクロロホルム−メタ
ノール溶液 (1 : 2, 3 ml) に溶解し、0.1 N 塩酸水溶
液1 ml、クロロホルムを加え分液した。得られたクロロ
ホルム層の溶媒を減圧下留去し、標記化合物（Ia'） (2
7.6 mg, 0.020 mmol) を白色固体として得た。(96%) 1H NMR (270 MHz, CDCl₃) d 0.88 (t, 12 H, J = 7.5 H
z), 1.04 - 1.44 (m, 92H), 1.50 - 1.66 (m, 6 H), 1.
93 (s, 3 H), 1.97 - 2.06 (m, 2 H), 2.16 (t,2 H, J
= 8.0 Hz), 2.30 (t, 2 H, J = 7.8 Hz), 2.55 (dd, 1
H, J = 16.5 Hz, 6.1 Hz), 2.66 (dd, 1 H, J = 16.5 H
z, 7.2 Hz), 3.37 (m, 1 H), 3.45 (d,1 H, J = 9.7 H
z), 3.63 (dd, 1 H, J = 10.0 Hz, 3.3 Hz), 3.82 - 3.
94 (m, 4H), 4.47 (d, 1 H, J = 8.6 Hz), 5.10 - 5.20
(m, 2 H), 5.42 (dd, 1 H, J =15.6 Hz, 7.7 Hz), 5.7
1 (dt, 1 H, J = 15.6 Hz, 7.4 Hz) IR (CHCl₃) 3300, 1737, 1657, 1554, 1467, 1376 cm^-1 HRMS C72H137N2O14PNa (M + Na)+ ; calcd for 1307.97
05; obs 1307.9700

【０１７１】

【実施例３】（ｍ）アリル２−デオキシ−３−Ｏ−
［（Ｒ）−３−テトラデカノイルオキシテトラデカノイ
ル］−６−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−２−
（２，２，２−トリクロロエトキシカルボニルアミノ）
−α−Ｄ−グルコピラノシド（VIIIb）の製造 乾燥、窒素置換された反応容器中、アリル−２−デオキ
シ−４，６−O−イソプロピリデン−３−Ｏ−［（Ｒ）
−３−テトラデカノイルオキシテトラデカノイル］−２
−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボニルアミ
ノ）−α−Ｄ−グルコピラノシド（VIIa）(1.22 g, 1.3
5 mmol) をとり、メタノール 2 ml、およびテトラヒド
ロフラン 1 ml の混合液に溶解した。p−トルエンスル
ホン酸 (20.0 mg, 0.13 mmol) を加え２時間攪拌した。
反応終了後トリエチルアミン 1 mlを加え、減圧下溶媒
を留去し、得られた粗生成物をジメチルホルムアミド 3
mlに溶解した。イミダゾール(0.28 g, 4.1 mmol)、t−
ブチルジメチルシリルクロリド(0.23 g, 1.65 mmol) を
それぞれ加え、室温下１２時間攪拌した。反応終了後、
飽和重曹水 1 ml 、およびエーテルをくわえ、分液し
た。得られたエーテル層を硫酸マグネシウムで乾燥した
後、エーテル層の溶媒を減圧下留去した。シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー (溶出剤；酢酸エチル：ヘキサ
ン= 10 : 90)で精製し、化合物（VIIIb） (1.26 g, 1.2
8 mmol) を白色固体として得た。（95%） 1H NMR (270 MHz, CDCl₃) d 0.00 (s, 6 H), 0.80 (t,
6 H, J = 7.8 Hz), 0.82(s, 9 H), 1.10 - 1.26 (m,
H), 1.44 1.56 (m, 4 H), 2.20 (t, 2 H, J = 7.5 H),
2.44 (dd, 1 H, J = 15.7 Hz, 4.3 Hz), 2.52 (t, 2
H, J = 15.7 Hz, 7.5 Hz), 3.28 3.35 (m, 1 H), 3.46
3.62 (m, 2 H), 3.76 3.86 (m, 2 H), 3.98 (dd, 1
H, J = 13.2 Hz, 6.4 Hz), 4.24 (dd, 1 H, J = 13.2 H
z, 5.9 Hz),4.46 (d, 1 H, J = 9.0 Hz), 4.60 (d, 1
H, J = 11.5 Hz), 4.65 (d, 1 H, J =11.5 Hz), 4.98
(t, 1 H, J = 9.1 Hz), 5.04 5.12 (m, 2 H), 5.17
(d, 1 H,J = 16.0 Hz), 5.30 (d, 1 H, J = 9.1 Hz),
5.75 (ddt, 1 H, J = 16.0 Hz, 5.8 Hz, 4.8 Hz) IR (CHCl₃) 3495, 3336, 1737, 1543, 1464 cm-1 HRMS C46H84NO10Cl3SiNa (M + Na)+ ; calcd for 966.4
828; obs 966.4809 （ｎ）（１−プロペニル）−２−デオキシ−４−ジアリ
ルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−テトラデカノイル
オキシテトラデカノイル］−６−Ｏ−（ｔ−ブチルジメ
チルシリル）−２−（２，２，２−トリクロロエトキシ
カルボニルアミノ）−α−Ｄ−グルコピラノシド（IX
b）の製造 乾燥、窒素置換した反応容器に（ｍ）で得られた化合物
（VIIIb）(1.22 g, 1.24 mmol) をとり、THF 3 ml を加
え溶解した。イリジウム錯体 (8.4 mg, 0.01 mmol) を
加え、系を水素置換したあと、溶液が黄透明になるまで
攪拌した。そのあと再び系を窒素置換し、そのまま24時
間攪拌した。

【０１７２】原料が消失したことを ¹H-NMR で確認した
後、ビス（アリロキシ）N,N - ジイソプロピルホスホロ
アミダイト (0.51 ml, 1.90 mmol) 、1H−テトラゾール
(0.13 g, 1.90 mmol) をそれぞれ加え、室温下５時間
攪拌した。反応溶液を 0 ℃に冷却した後、30%過酸化水
素水溶液 (2 ml) を加え、ゆっくり室温に戻し６時間攪
拌した。反応終了後、飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液 2
ml 、エーテルを加え分液した。得られたエーテル層を
硫酸マグネシウムで乾燥した後、エーテル層の溶媒を減
圧下留去した。シリカゲルカラムクロマトグラフィー
(溶出剤；酢酸エチル：ヘキサン = 10 : 90) で精製
し、化合物（IXb） (1.05 g, 0.94 mmol) を無色油状物
質として得た。(3 steps 77%) 1H NMR (400MHz, CDCl₃) d 0.00 (s, 3 H), 0.02 (s, 3
H), 0.83 (t, 6 H, J =7.8 Hz), 0.85 (s, 9 H), 1.10
1.30 (m, H), 1.47 (d, 3 H, J = 6.9 Hz), 1.48 1.
60 (m, 4 H), 2.16 2.30 (m, 2 H), 2.53 (dd, 1 H, J
= 15.9 Hz, 8.1Hz), 2.61 (dd, 1 H, J = 15.9 Hz, 4.
3 Hz), 3.37 (q, 1 H, J = 9.1 Hz), 3.47 3.55 (m, 1
H), 3.74 (dd, 1 H, J = 11.7 Hz, 6.1 Hz), 3.93 (d,
1 H, J= 11.7 Hz), 4.42 (t, 2 H, J = 6.9 Hz), 4.48
(t, 2 H, J = 6.1 Hz), 4.60 (d, 1 H, J = 12.0 Hz),
4.74 (d, 1 H, J = 12.0 Hz), 4.98 5.12 (m, 2 H),
5.17 5.30 (m, 3 H), 5.32 (d, 1 H, J = 6.2 Hz), 5.
43 (t, 1 H, J = 9.9 Hz), 5.54 (d, 1 H, J = 7.6 H
z), 5.79 - 5.92 (m, 2 H), 6.13 (d, 1 H, J = 11.7 H
z) IR (CHCl₃) 3333, 1740, 1543, 1464 cm-1 HRMS C46H84NO10Cl3SiNa (M + Na)+ ; calcd for 966.4
828; obs 966.4809 （ｏ）（１−プロペニル）−２−デオキシ−４−ジアリ
ルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−テトラデカノイル
オキシテトラデカノイル］−２−（２，２，２−トリク
ロロエトキシカルボニルアミノ）−α−Ｄ−グルコピラ
ノシド（XVIIb）の製造 乾燥、窒素置換された反応容器に（ｎ）で得られた化合
物（IXb） (1.05 g, 0.95 mmol)をとり、THF 3 ml を加
え溶解した。フッ化水素−ピリジン錯体 (20滴)を加
え、室温下８時間攪拌した。反応終了後、飽和重曹水1
ml をゆっくり加え、エーテルを加えて分液する。得ら
れたエーテル層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、エー
テル層の溶媒を減圧下留去する。シリカゲルカラムクロ
マトグラフィー (溶出剤；酢酸エチル：ヘキサン = 20
: 80 - 25 : 75) で精製し、化合物（XVIIb） (0.89
g, 0.90 mmol) を無色油状物質として得た。(95%) 1H NMR (270 MHz, CDCl₃) d 0.88 (t, 6 H, J = 7.6 H
z), 1.20 - 1.36 (m, 41H), 1.50 - 1.64 (m, 7 H, inv
olving a doublet at d 1.53, J = 7.2 Hz), 2.28 (t,
2 H, J = 7.4 Hz), 2.55 (dd, 1 H, J = 13.8 Hz, 3.1
Hz), 2.60 (d, 1H, J = 13.8 Hz), 3.32 3.56 (m, 3
H), 3.84 3.94 (br, 2 H), 4.44 4.58 (m, 4 H), 4.6
5 (d, 1 H, J = 12.2 Hz), 4.78 (d, 1 H, J = 12.2 H
z), 5.04 5.16 (m, 2 H), 5.20 5.32 (m, 3 H), 5.38
(d, 2 H, J = 16.4 Hz), 5.53 (t,1 H, J = 9.5 Hz),
5.59 (d, 1 H, J = 7.9 Hz), 5.92 (ddt, 2 H, J = 16.
4 Hz, 11.8 Hz, 6.4 Hz), 6.18 (d, 1 H, J = 11.4 Hz) IR (CHCl₃) 3449, 3424, 1750, 1517, 1464 cm^-1 HRMS C52H93NO13Cl3SiPNa (M + Na)+ ; calcd for 112
6.5117; obs 1126.5104 （ｐ）２−デオキシ−４−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−
［（Ｒ）−３−テトラデカノイルオキシテトラデカノイ
ル］−２−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボニ
ルアミノ）−６−Ｏ−メチル−α−Ｄ−グルコピラノシ
ド（XVIIIb）の製造 2口フラスコ（25 ml）に（ｏ）で得られた化合物（XVII
b）(76.1 mg, 0.077 mmol) をとり、エーテル 0.1 ml
を加え溶解した。別途調整されたジアゾメタン／エーテ
ル溶液をくわえ、0度に冷やした後３フッ化ホウ素エー
テル錯体 (20 ml, 0.16 mmol) を加え攪拌した。

【０１７３】反応終了後、飽和重曹水 0.1 ml 、エーテ
ルを加え分液した。得られたエーテル層を硫酸マグネシ
ウムで乾燥したあと、エーテル層の溶媒を減圧下留去し
た。得られた粗生成物を再びエーテルで希釈した後、上
記した同様の操作をもう一度行った。２度目の粗生成物
をナスフラスコ（25 ml）にとり、THF 0.5 ml を加え溶
解した。水0.1 ml、ヨウ素 (38.1 mg, 0.15 mmol) を加
え、室温下 30分攪拌した。反応終了後、飽和チオ硫酸
ナトリウム水溶液 0.1 ml 、エーテルを加え分液した。
得られたエーテル層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、
エーテル層の溶媒を減圧下留去した。シリカゲルカラム
クロマトグラフィー (溶出剤；酢酸エチル：ヘキサン =
30 : 70) で精製し、標記化合物（XVIIIb） (38.8 mg,
0.040 mmol) を無色油状物質として得た。(52%) 1H NMR (270 MHz, CDCl₃) d 0.88 (t, 6 H, J = 7.6 H
z), 1.18 1.36 (m, H),1.50 1.64 (m, 4 H), 2.25
(t, 2 H, J = 7.1 Hz), 2.56 (dd, 1 H, J = 16.3Hz,
5.5 Hz), 2.64 (dd, 1 H, J = 16.3 Hz, 7.4 Hz), 3.39
(s, 3 H), 3.59 3.76 (m, H), 3.96 (dt, 1 H, J =
3.5 Hz, 10.0 Hz), 4.15 4.21 (m, 1 H), 4.34 (br, 1
H), 4.46 4.58 (m, H), 4.69 (s, 3 H), 5.10 5.22
(m, 2 H), 5.28 (d, 2 H, J = 10.7 Hz), 5.31 5.42
(m, 4 H), 5.70 (d, 1 H, J = 9.9 Hz),5.93 (ddt, 2
H, J = 17.3 Hz, 11.0 Hz, 5.6 Hz) IR (CHCl₃) 3598, 3530, 3423, 3354, 1743, 1516, 146
6 cm-1 HRMS C44H78NO13Cl3P (M + H)+ ; calcd for 964.4276;
obs 964.4285 （ｑ）（２，２，２−トリクロロエチルイミドイル）−
２−デオキシ−４−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−
［（Ｒ）−３−テトラデカノイルオキシテトラデカノイ
ル］−６−Ｏ−メチル−２−（２，２，２−トリクロロ
エトキシカルボニルアミノ）−１−（トリクロロアセチ
ミダトイル）−α−Ｄ−グルコピラノシドの製造乾燥、
窒素置換した反応容器に（ｐ）で得られた化合物（XVII
Ib）(33.6 mg,0.035 mmol) をとり、メチレンクロライ
ド 0.5 ml を加え溶解した。トリクロロアセトニトリル
(5.4 ml, 0.053 mmol), DBU (0.8 ml, 0.004 mmol) を
それぞれ加え、室温下８時間攪拌した。反応終了後、飽
和重曹水0.1 ml、エーテルを加え分液した。得られたエ
ーテル層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、エーテル層
の溶媒を減圧下留去した。シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー (溶出剤；酢酸エチル：ヘキサン = 20 : 80)
で精製し、化合物(26.3 mg, 0.024 mmol) を無色油状物
質として得た。(68%) 1H NMR (270 MHz, CDCl₃) d 0.89 (t, 6 H, J = 7.8 H
z), 1.19 1.36 (m, H),1.50 1.63 (m, 4 H), 2.26
(t, 2 H, J = 8.1 Hz), 2.63 (dd, 1 H, J = 15.9Hz,
5.8 Hz), 2.68 (dd, 1 H, J = 15.9 Hz, 8.3 Hz), 3.40
(s, 3 H), 3.63 3.73 (m, 2 H), 4.03 (d, 1 H, J =
10.3 Hz), 4.13 4.22 (m, 1 H), 4.46 4.72 (m, H),
4.77 (d, 1 H, J = 11.9 Hz), 5.18 (t, 1 H, J = 6.8
Hz), 5.28 (d, 2 H, J = 10.6 Hz), 5.32 5.44 (m, 3
H, involving a doublet at d 5.38,J = 17.4 Hz), 5.6
2 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 5.94 (ddt, 2 H, J = 17.4 H
z, 10.6 Hz, 5.3 Hz), 6.48 (d, 1 H, J = 4.0 Hz), 8.
76 (s, 1 H) IR (CHCl₃) 3598, 3518, 3424, 3405, 3347, 1740, 167
8, 1580, 1517, 1466 cm-1 HRMS C46H77N2O13Cl6SiPNa (M + Na)+ ; calcd for 112
9.3193; obs 1129.3156 （ｒ）２−デオキシ−４−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−
［（Ｒ）−３−テトラデカノイルオキシテトラデカノイ
ル］−６−Ｏ−メチル−２−（２，２，２−トリクロロ
エトキシカルボニルアミノ）−β−Ｄ−グルコピラノシ
ド−（１→１'）−（２'Ｓ,３'Ｒ,４'Ｅ）−２'−アジ
ド−３'−Ｏ−ｔ−ブチルジメチルシリル−４'−オクタ
デセン−１'，３'−ジオールの製造 乾燥された反応容器にMS4A (0.1 g) をとり、減圧下ヒ
ートガンで強熱し乾燥した。窒素置換した後、（２Ｓ,
３Ｒ,４Ｅ）−２−アジド−３−Ｏ−ｔ−ブチルジメチ
ルシリル−４−オクタデセン−１，３−ジオール (22.9
mg, 0.052 mmol)のメチレンクロライド溶液 0.3 ml、
（ｑ）で得られた化合物 (52.8 mg, 0.048mmol) のメチ
レンクロライド溶液 0.4 ml をそれぞれ加えた。室温下
２時間攪拌した後、−23度に冷却し、３フッ化ホウ素エ
ーテル錯体(0.6 ml, 0.005 mmol)をくわえ、１時間攪拌
した。反応終了後、飽和重曹水0.2 ml 、エーテルを加
え分液した。得られたエーテル層を硫酸マグネシウムで
乾燥した後、エーテル層の溶媒を減圧下留去する。シリ
カゲルカラムクロマトグラフィー (溶出剤；酢酸エチ
ル：ヘキサン = 7 : 93 - 12 : 88) で精製し、化合物
(34.5 mg, 0.025 mmol) を白色固体として得た。(52%) 1H NMR (400 MHz, CDCl₃) d 0.03 (s, 3 H), 0.07 (s,
3 H), 0.89 (t, 9 H, J= 7.8 Hz), 1.20 - 1.44 (m,
H), 1.52 - 1.64 (m, 4 H), 1.66 - 1.74 (m, 2 H), 2.
04 (q, 2 H, J = 7.0 Hz), 2.29 (t, 2 H, J = 7.8 H
z), 2.58 (dd, 1 H,J = 15.2 Hz, 8.2 Hz), 2.65 (dd,
1 H, J = 15.2 Hz, 5.1 Hz), 3.39 (s, 3 H), 3.40 3.
48 (m, 1 H), 3.55 3.65 (m, 3 H), 3.69 3.75 (m, 1
H), 3.89 (dd, 1 H, J = 11.0 Hz, 6.6 Hz), 4.18 (t,
1 H, J = 6.4 Hz), 4.40 4.56 (m,4 H), 4.59 (d, 1
H, J = 12.2 Hz), 4.79 (d, 1 H, J = 12.2 Hz), 4.87
(d, 1H, J = 8.3 Hz), 5.24 5.31 (m, 2 H), 5.32 5.
50 (m, 3 H), 5.65 (dt, 1 H, J = 15.5 Hz, 6.8 Hz),
5.85 5.98 (m, 2 H) IR (CHCl₃) 3366, 3323, 3193, 2101, 1741, 1540, 146
5 cm-1 HRMS C68H124N4O14Cl3SiPNa (M + Na)+ ; calcd for 14
07.7584; obs 1407.7551 （ｓ）２−デオキシ−４−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−
［（Ｒ）−３−テトラデカノイルオキシテトラデカノイ
ル］−６−Ｏ−メチル−２−（２，２，２−トリクロロ
エトキシカルボニルアミノ）−β−Ｄ−グルコピラノシ
ド−（１→１'）−（２'Ｓ,３'Ｒ,４'Ｅ）−２'− オク
タデカノイルアミノ−３'−Ｏ−ｔ−ブチルジメチルシ
リル−４'−オクタデセン−１'，３'−ジオールの製造 乾燥、窒素置換した反応容器に（ｒ）で得られた化合物
(55.5 mg, 0.040 mmol) をとり、THF 0.3 mlを加え溶
解した。トリフェニルホスフィン (21.0 mg, 0.080 mmo
l) を加え、オイルバスで５０度に加熱し、５時間攪拌
した。反応終了後、反応溶液を室温に冷やし、40％アン
モニア水溶液50 ml を加え、１８時間攪拌した。反応終
了後、飽和食塩水0.1 ml、エーテルを加え分液した。得
られたエーテル層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、エ
ーテル層の溶媒を減圧下留去した。得られた粗生成物を
乾燥した反応容器にとり、メチレンクロライド 0.3 ml
を加え溶解した。トリエチルアミン (11.2 ml, 0.080 m
mol) 、ステアロイルクロリド (20.3 ml, 0.060 mmol)
をそれぞれくわえ、室温下１時間攪拌した。反応終了
後、飽和重曹水0.1 ml、エーテルを加え分液した。得ら
れたエーテル層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、エー
テル層の溶媒を減圧下留去した。シリカゲルカラムクロ
マトグラフィー (溶出剤；酢酸エチル：ヘキサン = 15
: 85 - 20 : 80) で精製し、化合物 (26.8 mg, 0.016
mmol) を白色固体として得た。(41%) 1H NMR (270 MHz, CDCl₃) d 0.00 (s, 3 H), 0.33 (s,
3 H), 0.89 (t, 9 H, J= 7.8 Hz), 1.20 - 1.44 (m,
H), 1.52 - 1.64 (m, 4 H), 1.66 - 1.74 (m, 2 H), 2.
00 (q, 2 H, J = 7.2 Hz), 2.03 - 2.12 (m, 1 H), 2.1
5 - 2.24 (m, 1 H), 2.28 (t, 2 H, J = 7.7 Hz), 2.62
(d, 2 H, J = 6.8 Hz), 3.38 (s, 3 H), 3.42 3.53
(m, 1 H), 3.56 3.66 (m, 2 H), 3.67 3.76 (m, 2
H), 3.97 (dd,1 H, J = 10.5 Hz, 6.8 Hz), 4.01 4.10
(m, 1 H), 4.17 4.24 (m, 1 H), 4.46 4.64 (m, H),
4.78 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 5.23 5.32 (m, 2 H),
5.32 5.44 (m, 4 H), 5.61 (dt, 1 H, J = 15.7 Hz,
6.9 Hz), 5.76 6.00 (m, 4 H) IR (CHCl₃) 3305, 1745, 1657, 1538, 1466 cm-1 HRMS C86H160N2O15Cl3SiPNa (M + Na)+ ; calcd for 16
48.0285; obs 1648.0273 （ｔ）２−デオキシ−２−アセチルアミノ−４−ジアリ
ルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−テトラデカノイル
オキシテトラデカノイル］−６−Ｏ−メチル−β−Ｄ−
グルコピラノシド−（１→１'）−（２'Ｓ,３'Ｒ,４'
Ｅ）−２'− オクタデカノイルアミノ−４'−オクタデ
セン−１'，３'−ジオールの製造 反応容器に（ｓ）で得られた化合物 (21.9 mg, 0.0135
mmol) をとり、ジメチルホルムアミド 0.4 ml を加え溶
解した。飽和塩化アンモニウム水溶液 0.1 ml、亜鉛粉
末 (17.7 mg, 0.27 mmol) をそれぞれ加え、室温下４時
間攪拌した。反応終了後水、エーテルを加え分液した。
得られたエーテル層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、
エーテル層の溶媒を減圧下留去した。得られた粗生成物
を乾燥、窒素置換した反応容器にとり、メチレンクロラ
イド 0.2 ml を加え溶解した。トリエチルアミン (7.5
ml, 0.054 mmol)、アセチルクロライド (1.9 ml, 0.027
mmol) をくわえ、室温下１時間攪拌した。反応終了
後、飽和重曹水 0.1 ml、エーテルを加え分液した。得
られたエーテル層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、エ
ーテル層の溶媒を減圧下留去する。この得られた粗生成
物はさらに精製することなく、乾燥、窒素置換した反応
容器に取り、テトラヒドロフラン 0.2 ml を加え溶解す
る。フッ化水素−ピリジン錯体 (1 滴)をくわえ、室温
下２時間攪拌した。反応終了後、飽和重曹水 0.1 ml、
エーテルを加え、分液した。えられたエーテル層を硫酸
マグネシウムで乾燥した後、エーテル層の溶媒を減圧下
留去する。シリカゲルカラムクロマトグラフィー (溶出
剤；メタノール : クロロホルム =2 : 98) で精製し、
化合物 (4.9 mg, 0.0035 mmol) を白色固体として得
た。(3steps 26%) 1H NMR (270 MHz, CDCl₃) d 0.88 (t, 12 H, J = 7.8 H
z), 1.04 - 1.38 (m, H), 1.50 - 1.86 (m, 6 H), 1.94
(s, 3 H), 2.02 (q, 2 H, J = 6.93 Hz), 2.20(t, 2
H, J = 7.6 Hz), 2.28 (dd, 2 H, J = 8.4 Hz, 6.9 H
z), 2.52 (dd, 1 H,J = 16.4 Hz, 7.9 Hz), 2.65 (dd,
1 H, J = 16.4 Hz, 3.7 Hz), 3.39 (s, 3 H), 3.57 3.
75 (m, 5 H), 3.96 4.04 (m, 1 H), 4.06 4.14 (m, 2
H), 4.444.56 (m, 4 H), 4.83 (d, 1 H, J = 8.4 Hz),
5.14 5.22 (m, 1 H), 5.22 5.30 (m, 2 H), 5.34 (d
d, 2 H, J = 7.1 Hz, 1.6 Hz), 5.38 (dd, 2 H, J = 8.
4 Hz, 1.6 Hz), 5.48 (dd, 1 H, J = 15.7 Hz, 6.8 H
z), 5.71 (dt, 1 H, J = 15.7Hz, 6.9 Hz), 5.84 5.98
(m, 2 H), 6.23 (d, 1 H, J = 7.5 Hz), 6.42 (d, 1H,
J = 8.5 Hz) IR (CHCl₃) 1725, 1677 cm-1 HRMS C79H147N2O14PNa (M + Na)+ ; calcd for 1402.04
88; obs 1402.0465 （ｕ）２−デオキシ−２−アセチルアミノ−３−Ｏ−
［（Ｒ）−３−テトラデカノイルオキシテトラデカノイ
ル］−４−ホスホノ−６−Ｏ−メチル−β−Ｄ−グルコ
ピラノシド−（１→１'）−（２'Ｓ,３'Ｒ,４'Ｅ）−
２'− オクタデカノイルアミノ−４'−オクタデセン−
１'，３'−ジオール（Ib）の製造 乾燥、窒素置換した反応容器に（ｔ）で得られた化合物
(3.9 mg, 0.00283 mmol) を取り、テトラヒドロフラン
0.2 ml を加え溶解する。トリフェニルホスフィン (0.
4 mg, 0.0014 mmol)、トリエチルアミン (2.0 ml, 0.01
4 mmol)、ギ酸(1 ml, 0.028 mmol)、テトラキストリフ
ェニルホスフィンパラジウム (0.3 mg,0.0003 mmol) を
それぞれ加え、オイルバスで４０度に加熱し、４時間攪
拌した。反応終了後、反応溶液を室温に冷やし、減圧下
溶媒を留去した。Sephadex LH20 カラムクロマトグラフ
ィー (溶出剤；クロロホルム) で精製し、化合物（Ib）
のトリエチルアンモニウム塩(2.8 mg, 0.002 mmol) を
得た。 1H NMR (270 MHz, CDCl₃) d 0.89 (t, 30 H, J = 7.8 H
z), 1.22 - 1.40 (m, H), 1.52 - 1.66 (m, 6 H), 1.93
(s, 3 H), 2.02 (q, 2 H, J = 7.4 Hz), 2.20 (s, 3
H), 2.26 - 2.72 (m, H), 3.10 (q, 12 H, J = 8.1 H
z), 3.36 (s, 3 H),3.58 3.74 (m, H), 3.84 3.96
(m, 2 H), 4.02 (dd, 1 H, J = 10.6 Hz, 3.8Hz), 4.09
(t, 1 H, J = 8.3 Hz), 4.48 (d, 1 H, J = 8.3 Hz),
5.08 5.18 (m, 2 H), 5.43 (dd, 1 H, J = 15.3 Hz,
7.4 Hz), 5.69 (dt, 1 H, J = 15.3 Hz,6.4 Hz), 7.23
(d, 1 H, J = 7.6 Hz) IR (CHCl₃) 3631, 3482, 1729, 1667, 1602, 1519, 14
65 cm-1 HRMS C73H139N2O14PNa (M + Na)+ ; calcd for 1321.98
02; obs 1321.9832

【０１７４】

【実施例４】LPS存在下又は非存在下ヒトモノブラストU
937細胞でのＴＮＦ生産における本発明物質の効果 LPS 0ng/ml、 LPS 10ng/ml、 LPS 50ng/mlを添加したヒ
トモノブラストU937細胞を用いて、本発明の化合物（実
施例２で得られた化合物(I'a)）のＴＮＦα生産に対す
る効果を表２に示した0.001〜100μMのドーズで調べ
た。

【０１７５】その結果を表２に示した。

【０１７６】

【表２】 TNFα(pg/ml) I'a LPS LPS LPS (μM) (−) Δ (10) Δ % Inh. (50) Δ % Inh. 100 8 0 13 5 94 70 62 66 10 8 0 33 25 70 161 153 16 1 7 -1 85 77 8 180 172 6 0.1 7 -1 61 53 37 199 191 -4 0.01 7 -1 68 60 29 198 190 -4 0.1 7 -1 64 56 33 190 182 1 表２に示されるように、LPS非存在下では本発明物質の
濃度変化によりＴＮＦα生産量は変化しない。つまり、
ＴＮＦα生産量に対し、アゴニスト的な作用はなかっ
た。

【０１７７】また、 LPS 10ng/ml、 LPS 50ng/ml存在下
では本発明物質は、ドーズディペンデントにＴＮＦαの
生産量を阻害した。このことから、本発明物質は、 LPS
によるＴＮＦα生産において、アンタゴニストとして作
用していることが示された。つまり、本発明の実施例２
化合物は、アンタゴニスト的に作用してマクロファージ
抑制作用を有する。

【０１７８】その阻害率は、 LPS 10ng/mlではIC₅₀=4.7
μM、 LPS 50ng/mlではIC₅₀=47.4μMであった。

【０１７９】

【発明の効果】本発明により、新規なＧＬＡ−６０誘導
体が提供される。一般式（I）で表される１位にセラミ
ド脂質部位を有する本発明のＧＬＡ−６０誘導体は、マ
クロファージ抑制作用を示しているので、抗炎症剤、抗
自己免疫疾患剤又は免疫抑制剤として有用である。

【０１８０】また、一般式（II）で表される本発明の化
合物は、一般式（I）で表される１位にセラミド脂質部
位を有するＧＬＡ−６０誘導体を製造するための中間体
として有用である。

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０７Ｈ 15/04 Ｃ０７Ｈ 15/04 Ｅ (72)発明者 西島 正弘 神奈川県川崎市宮前区宮前平１−４−29− Ａ−101 Ｆターム(参考） 4C057 BB02 CC03 DD01 JJ09 JJ12 4C086 AA01 AA02 AA03 EA06 MA04 NA14 ZB07 ZB11 ZC02

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】下記一般式（I) 【化１】 ［式中、Ｒ¹、Ｒ²およびＲ³は、置換基Ｙ群より選択さ
   れる同一、または異なる置換基を１乃至５個有していて
   も良いＣ6−Ｃ20アルカノイル基を示し、Ｒ⁴は、置換基
   Ｙ群より選択される同一又は異なる置換基を１乃至５個
   有していても良いＣ6−Ｃ20アルキル基を示し、Ａは水
   酸基；ハロゲン原子；又はＣ1−Ｃ3アルコキシ基を示
   し、Ｂは、単結合又は二重結合を示し、置換基Ｙ群は、
   ハロゲン原子；水酸基；ハロゲン原子又は水酸基で置換
   されていてもよいＣ6−Ｃ20アルカノイルオキシ基から
   なる］であらわされる化合物、その薬理学上許容される
   塩、そのエステル又はその他の誘導体。
2. 【請求項２】請求項１に記載の式Ｉの化合物を含有する
   医薬組成物。
3. 【請求項３】医薬組成物が、マクロファージ抑制剤であ
   る請求項２に記載の医薬組成物。
4. 【請求項４】下記一般式（II） 【化２】 ［式中、Ｑは水素；アルキル基；シリル基；又はアシル
   基を示し、Ｓはアジド基；アミノ基；又はアシル基か前
   記Ｒ³の置換基を有するアミノ基、Ｔはハロゲン原子で
   置換されていてもよい（Ｃ2−Ｃ5）アルコキシカルボニ
   ル基；水素；又は前記Ｒ¹を示し、Ｕは前記Ｒ²、Ｖは
   （Ｃ1−Ｃ2）アルキル基；（Ｃ3−Ｃ4）アルケニル基；
   （Ｃ6−Ｃ10）アリール基；又は（Ｃ7）アラルキル基を
   示し、Ｗは水酸基；シリル基で保護された水酸基；ハロ
   ゲン原子；又は（Ｃ1−Ｃ3）アルコキシ基を示し、Ｒ⁴
   は、前記置換基Ｙ群より選択される同一又は異なる置換
   基を１乃至５個有していても良いＣ6−Ｃ20のアルコキ
   シ基を示し、Ｂは単結合又は二重結合を示し、Ｒ¹、
   Ｒ²、及びＲ³が置換基として水酸基を有する場合、該水
   酸基は保護されていても良く、該水酸基の保護基はアル
   キル基；シリル基；又はアシル基である］であらわされ
   る化合物。