JP2002105077A - ヒダントサイジン製造中間体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】優れた除草活性及び植物成長抑制活性を有する
ヒダントサイジン及びチオヒダントサイジンを、安価な
試薬を用いながら、容易で、緩和で、しかも、収率よく
合成するための新規な中間体を見い出すことを目的とす
る。 【解決手段】下記の構造式（１）で表わされる化合物。 【化１】 （式中、Ｒ¹は、カルボキシ基の保護基を示し、Ｒ²、Ｒ
³及びＲ⁴は、同一又は異なって、水酸基の保護基を示す
か、或は、Ｒ²及びＲ³、又は、Ｒ³及びＲ⁴が一緒になっ
てジオールの保護基を示す。）

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、強い除草活性及び
植物成長抑制活性を有する化合物（ヒダントサイジン(H
ydantocidin)及びチオヒダントサイジン(Tiohydantocid
in)）を合成するための中間体に関する。

【０００２】

【従来の技術】ストレプトマイセス属に属する微生物が
強い除草活性及び植物成長抑制活性を有する化合物（ヒ
ダントサイジン(Hydantocidin)）を生産することが知ら
れており、該化合物は、特開昭62-12789号公報に開示さ
れている。また、チオヒダントサイジンは、このヒダン
トサイジンのジアザスピロ環の２個の酸素原子のうちの
１個が硫黄原子に置換した構造を持ち、ヒダントサイジ
ンと同等の強い活性をもつ化合物として知られている
（三共研究所年報第49巻91-119頁(1997年)）。

【０００３】ヒダントサイジンは、動物、魚類及び微生
物に対して際立った安全性を示し、また、土壌中で速や
かに分解されることから、環境にやさしい除草剤という
ことができるが、微生物を用いた醗酵によっては、実用
に供するほどの量を得ることが困難であった。

【０００４】一方、化学的な製造方法としては、次に示
すような方法が知られている。

【０００５】Shigeru Mio et al. ;Tetrahedron Vol.
47. No. 12/13. pp. 2133-2144, 1991 特開平2-85287号公報 特開平7-109280号公報 特開平7-196679号公報 特開平7-304791号公報 しかしながら、これらの合成方法はいずれも最終生成物
の収率において十分満足できるものではなく、また、工
業的に行うためには、大量合成の際にも容易でかつ緩和
に進行し、さらに、安価な試薬を用いる方法であること
が望まれていた。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、強い
除草活性及び植物成長抑制活性を有する化合物であるヒ
ダントサイジン及びチオヒダントサイジンを、除草剤と
して工業的に生産できるように、安価な試薬を用いなが
ら、容易で、緩和で、しかも、収率よく合成する方法を
見い出すことである。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記課題
を解決するために鋭意研究を続けた結果、優れた除草活
性及び植物成長抑制活性を有するヒダントサイジン及び
チオヒダントサイジンを、安価な試薬を用いながら、容
易で、緩和で、しかも、収率よく合成するための新規な
中間体を見い出し、本発明を完成した。

【０００８】本発明の新規な中間体は、 １）一般式

【０００９】

【化４】

【００１０】（式中、Ｒ¹は、カルボキシ基の保護基を
示し、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴は、同一又は異なって、水酸基
の保護基を示すか、或は、Ｒ²及びＲ³、又は、Ｒ³及び
Ｒ⁴が一緒になってジオールの保護基を示す。）で表わ
される化合物である。

【００１１】また、本発明の新規な製造方法は、 ２）一般式

【００１２】

【化５】

【００１３】（式中、Ｒ¹は、カルボキシ基の保護基を
示し、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴は、同一又は異なって、水酸基
の保護基を示すか、或は、Ｒ²及びＲ³、又は、Ｒ³及び
Ｒ⁴が一緒になってジオールの保護基を示す。）で表わ
される化合物に、アンモニアのメタノール溶液を作用さ
せて、一般式

【００１４】

【化６】

【００１５】（式中、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴は、上記と同義
である。）で表わされる化合物を製造する方法である。

【００１６】Ｒ¹の定義における「カルボキシ基の保護
基」としては、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピ
ル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓ−ブチ
ル、tert−ブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、２−
メチルブチル、ネオペンチル、１−エチルプロピル、ｎ
−ヘキシル、イソヘキシル、４−メチルペンチル、３−
メチルペンチル、２−メチルペンチル、１−メチルペン
チル、３，３−ジメチルブチル、２，２−ジメチルブチ
ル、１，１−ジメチルブチル、１，２−ジメチルブチ
ル、１，３−ジメチルブチル、２，３−ジメチルブチ
ル、２−エチルブチルのような「低級アルキル基」；エ
テニル、１−プロペニル、２−プロペニル、１−メチル
−２−プロペニル、１−メチル−１−プロペニル、２−
メチル−１−プロペニル、２−メチル−２−プロペニ
ル、２−エチル−２−プロペニル、１−ブテニル、２−
ブテニル、１−メチル−２−ブテニル、１−メチル−１
−ブテニル、３−メチル−２−ブテニル、１−エチル−
２−ブテニル、３−ブテニル、１−メチル−３−ブテニ
ル、２−メチル−３−ブテニル、１−エチル−３−ブテ
ニル、１−ペンテニル、２−ペンテニル、１−メチル−
２−ペンテニル、２−メチル−２−ペンテニル、３−ペ
ンテニル、１−メチル−３−ペンテニル、２−メチル−
３−ペンテニル、４−ペンテニル、１−メチル−４−ペ
ンテニル、２−メチル−４−ペンテニル、１−ヘキセニ
ル、２−ヘキセニル、３−ヘキセニル、４−ヘキセニ
ル、５−ヘキセニルのような「アルケニル基」；エチニ
ル、２−プロピニル、１−メチル−２−プロピニル、２
−メチル−２−プロピニル、２−エチル−２−プロピニ
ル、２−ブチニル、１−メチル−２−ブチニル、２−メ
チル−２−ブチニル、１−エチル−２−ブチニル、３−
ブチニル、１−メチル−３−ブチニル、２−メチル−３
−ブチニル、１−エチル−３−ブチニル、２−ペンチニ
ル、１−メチル−２−ペンチニル、２−メチル−２−ペ
ンチニル、３−ペンチニル、１−メチル−３−ペンチニ
ル、２−メチル−３−ペンチニル、４−ペンチニル、１
−メチル−４−ペンチニル、２−メチル−４−ペンチニ
ル、２−ヘキシニル、３−ヘキシニル、４−ヘキシニ
ル、５−ヘキシニルのような「アルキニル基」；トリフ
ルオロメチル、トリクロロメチル、ジフルオロメチル、
ジクロロメチル、ジブロモメチル、フルオロメチル、
２，２，２−トリフルオロエチル、２，２，２−トリク
ロロエチル、２−ブロモエチル、２−クロロエチル、２
−フルオロエチル、２−ヨードエチル、３−クロロプロ
ピル、４−フルオロブチル、６−ヨードヘキシル、２，
２−ジブロモエチルのような「ハロゲノ低級アルキル
基」；２−ヒドロキシエチル、２，３−ジヒドロキシプ
ロピル、３−ヒドロキシプロピル、３，４−ジヒドロキ
シブチル、４−ヒドロキシブチルのような「ヒドロキシ
低級アルキル基」；アセチルメチルのような「脂肪族ア
シル」−「低級アルキル基」；ベンジル、フェネチル、
３−フェニルプロピル、α−ナフチルメチル、β−ナフ
チルメチル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、
６−フェニルヘキシル、α−ナフチルジフェニルメチ
ル、９−アンスリルメチルのような「１乃至３個のアリ
−ル基で置換された低級アルキル基」、４−メチルベン
ジル、２，４，６−トリメチルベンジル、３，４，５−
トリメチルベンジル、４−メトキシベンジル、４−メト
キシフェニルジフェニルメチル、２−ニトロベンジル、
４−ニトロベンジル、４−クロロベンジル、４−ブロモ
ベンジル、４−シアノベンジル、４−シアノベンジルジ
フェニルメチル、ビス（２−ニトロフェニル）メチル、
ピペロニル、４−メトキシカルボニルベンジルのような
「低級アルキル、低級アルコキシ、ニトロ、ハロゲン、
シアノ、アルコキシカルボニル基でアリ−ル環が置換さ
れた１乃至３個のアリ−ル基で置換された低級アルキル
基」等の「アラルキル基」；トリメチルシリル、トリエ
チルシリル、イソプロピルジメチルシリル、tert−ブチ
ルジメチルシリル、メチルジイソプロピルシリル、メチ
ルジtert−ブチルシリル、トリイソプロピルシリル、メ
チルジフェニルシリル、イソプロピルジフェニルシリ
ル、ブチルジフェニルシリル、フェニルジイソプロピル
シリルのような「シリル基」をあげることができ、好適
には、「低級アルキル基」、「ハロゲノ低級アルキル
基」、「アラルキル基」であり、更に好適には、メチル
基、エチル基、ベンジル基である。

【００１７】Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴の定義における「水酸基の
保護基」としては、例えば、ホルミル、アセチル、プロ
ピオニル、ブチリル、イソブチリル、ペンタノイル、ピ
バロイル、バレリル、イソバレリル、オクタノイル、デ
カノイル、８−メチルノナノイル、３−エチルオクタノ
イル、３，７−ジメチルオクタノイル、ウンデカノイ
ル、トリデカノイル、ヘキサデカノイル、１４−メチル
ペンタデカノイル、１３，１３−ジメチルテトラデカノ
イル、１−メチルヘプタデカノイル、ノナデカノイル、
アイコサノイル及びヘナイコサノイルのようなアルキル
カルボニル基、スクシノイル、グルタロイル、アジポイ
ルのようなカルボキシ化アルキルカルボニル基、クロロ
アセチル、ジクロロアセチル、トリクロロアセチル、ト
リフルオロアセチルのようなハロゲノ低級アルキルカル
ボニル基、メトキシアセチルのような低級アルコキシ低
級アルキルカルボニル基、（Ｅ）−２−メチル−２−ブ
テノイルのような不飽和アルキルカルボニル基等の「脂
肪族アシル基」；ベンゾイル、α−ナフトイル、β−ナ
フトイルのようなアリールカルボニル基、２−ブロモベ
ンゾイル、４−クロロベンゾイルのようなハロゲノアリ
ールカルボニル基、２，４，６−トリメチルベンゾイ
ル、４−トルオイルのような低級アルキル化アリールカ
ルボニル基、４−アニソイルのような低級アルコキシ化
アリールカルボニル基、２−カルボキシベンゾイル、３
−カルボキシベンゾイル、４−カルボキシベンゾイルの
ようなカルボキシ化アリールカルボニル基、４−ニトロ
ベンゾイル、２−ニトロベンゾイルのようなニトロ化ア
リールカルボニル基、２−（メトキシカルボニル）ベン
ゾイルのような低級アルコキシカルボニル化アリールカ
ルボニル基、４−フェニルベンゾイルのようなアリール
化アリールカルボニル基等の「芳香族アシル基」；テト
ラヒドロピラン−２−イル、３−ブロモテトラヒドロピ
ラン−２−イル、４−メトキシテトラヒドロピラン−４
−イル、テトラヒドロチオピラン−２−イル、４−メト
キシテトラヒドロチオピラン−４−イルのような「テト
ラヒドロピラニル又はテトラヒドロチオピラニル基」；
テトラヒドロフラン−２−イル、テトラヒドロチオフラ
ン−２−イルのような「テトラヒドロフラニル又はテト
ラヒドロチオフラニル基」；トリメチルシリル、トリエ
チルシリル、イソプロピルジメチルシリル、ｔ−ブチル
ジメチルシリル、メチルジイソプロピルシリル、メチル
ジ−ｔ−ブチルシリル、トリイソプロピルシリルのよう
なトリ低級アルキルシリル基、ジフェニルメチルシリ
ル、ｔ−ブチルジフェニルシリル、ジフェニルイソプロ
ピルシリル、フェニルジイソプロピルシリルのような１
又は２個のアリール基で置換されたトリ低級アルキルシ
リル基等の「シリル基」；メトキシメチル、１，１−ジ
メチル−１−メトキシメチル、エトキシメチル、プロポ
キシメチル、イソプロポキシメチル、ブトキシメチル、
ｔ−ブトキシメチルのような「低級アルコキシメチル
基」；２−メトキシエトキシメチルのような「低級アル
コキシ化低級アルコキシメチル基」；２，２，２−トリ
クロロエトキシメチル、ビス（２−クロロエトキシ）メ
チルのような「ハロゲノ低級アルコキシメチル」；１−
エトキシエチル、１−（イソプロポキシ）エチルのよう
な「低級アルコキシ化エチル基」；２，２，２−トリク
ロロエチルのような「ハロゲン化エチル基」；ベンジ
ル、α−ナフチルメチル、β−ナフチルメチル、ジフェ
ニルメチル、トリフェニルメチル、α−ナフチルジフェ
ニルメチル、９−アンスリルメチルのような「１乃至３
個のアリール基で置換されたメチル基」、４−メチルベ
ンジル、２，４，６−トリメチルベンジル、３，４，５
−トリメチルベンジル、４−メトキシベンジル、４−メ
トキシフェニルジフェニルメチル、４，４’−ジメトキ
シトリフェニルメチル、４，４’，４”−トリメトキシ
トリフェニルメチル、２−ニトロベンジル、４−ニトロ
ベンジル、４−クロロベンジル、４−ブロモベンジル、
４−シアノベンジルのような「低級アルキル、低級アル
コキシ、ハロゲン、ニトロ、シアノ基でアリール環が置
換された１乃至３個のアリール基で置換されたメチル
基」等の「アラルキル基」；メトキシカルボニル、エト
キシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、イソブトキ
シカルボニルのような「低級アルコキシカルボニル
基」；２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル、２
−トリメチルシリルエトキシカルボニルのような「ハロ
ゲン又はトリ低級アルキルシリル基で置換された低級ア
ルコキシカルボニル基」；ビニルオキシカルボニル、ア
リルオキシカルボニルのような「アルケニルオキシカル
ボニル基」；ベンジルオキシカルボニル、４−メトキシ
ベンジルオキシカルボニル、３，４−ジメトキシベンジ
ルオキシカルボニル、２−ニトロベンジルオキシカルボ
ニル、４−ニトロベンジルオキシカルボニルのような
「１又は２個の低級アルコキシ又はニトロ基でアリール
環が置換されていてもよいアラルキルオキシカルボニル
基」をあげることができ、好適には、シリル基、アラル
キル基、脂肪族アシル基、芳香族アシル基であり、更に
好適には、アラルキル基であり、特に好適には、ベンジ
ル、トリフェニルメチル、４−メトキシベンジル、４，
４’−ジメトキシトリフェニルメチル、４，４’，４”
−トリメトキシトリフェニルメチル基である。

【００１８】Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴の定義における「ジオー
ルの保護基」とは、メチリデン、エチリデン、イソプロ
ピリデンのような低級アルキリデン基；ベンジリデンの
ようなアラルキリデン基；メトキシエチリデン、エトキ
シエチリデンのようなアルコキシ低級アルキリデン基又
はテトライソプロピルジシロキサンのようなジシロキサ
ン基をあげることができ、好適には、低級アルキリデン
基であり、更に好適には、イソプロピリデン基である。

【００１９】本発明の化合物（１）の具体例としては、
例えば、下記表１に示すような化合物をあげることがで
きるが、本発明の範囲は、これらに限定されるものでは
ない。

【００２０】また、表１中、「Ａｃ」は、アセチル基、
「Ｂｙｒ」は、ブチリル基、「Ｂｎ」は、ベンジル基、
「Ｅｔ」は、エチル基、「Ｍｅ」は、メチル基、「Ｐ
h」は、フェニル基、「ＰＭＢ」は、４−メトキシベン
ジル基、「Ｐｒｎ」は、プロピオニル基、「ｔＢｕ」
は、tert−ブチル基、「Ｔｒ」は、トリフェニルメチル
基、「−ＩＰＤ−」は、Ｒ²とＲ³が一緒になって、イソ
プロピリデン基、「ＴＭＳ」は、トリメチルシリル基、
「ＴＢＤＭＳ」は、tert−ブチルジメチルシリル基、
「ＴＢＤＰＳ」は、tert−ブチルジフェニルシリル基を
示す。

【００２１】

【化７】

【００２２】

【表１】 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 例示化合物 番 号 Ｒ¹ Ｒ² Ｒ³ Ｒ⁴ −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 1 Me −ＩＰＤ− Bn 2 Me −ＩＰＤ− PMB 3 Me −ＩＰＤ− Tr 4 Me −ＩＰＤ− Ac 5 Me −ＩＰＤ− Prn 6 Me −ＩＰＤ− Byr 7 Me −ＩＰＤ− TMS 8 Me −ＩＰＤ− TBDMS 9 Me −ＩＰＤ− TBDPS 10 Me Bn Bn Bn 11 Me Ac Ac Ac 12 Me TBDMS TBDMS TBDMS 13 Et −ＩＰＤ− Bn 14 Et −ＩＰＤ− PMB 15 Et −ＩＰＤ− Tr 16 Et −ＩＰＤ− Ac 17 Et −ＩＰＤ− TBDMS 18 Et Bn Bn Bn 19 Et Ac Ac Ac 20 Et TBDMS TBDMS TBDMS 21 tBu −ＩＰＤ− Bn 22 tBu −ＩＰＤ− Ac 23 Bn −ＩＰＤ− Bn 24 Bn Bn Bn Bn 25 Ph −ＩＰＤ− Bn 26 Ph −ＩＰＤ− Ac −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 上記表中、好適な化合物としては、例示化合物番号１、
２、４、１０及び１１の化合物があげられる。

【００２３】

【発明の実施の形態】本発明の化合物（１）は、以下に
記載するＡ法により、製造することができる。

【００２４】

【化８】

【００２５】上記工程表中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴は、
前述と同意義である。

【００２６】Ｘは、塩素原子、臭素原子のようなハロゲ
ン原子を示す。

【００２７】原料化合物（２）は、市販のＤ−リボノラ
クトンを出発原料にして、文献（F.Freeman and K. D.
Robarge, Carbohydrate Res., 137, 89 (1985)）の方法
に準じて製造することができる。

【００２８】以下、各工程につき、詳述する。

【００２９】Ａ法 （Ａ−１工程）本工程は、不活性溶剤中、塩基の存在
下、原料化合物（２）にハロゲン化メタンを反応させ、
化合物（３）を製造する工程である。

【００３０】使用される溶剤としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度以上溶解するものであれば特に
限定はなく、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイ
ン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼ
ン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メ
チレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロ
エタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハ
ロゲン化炭化水素類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プ
ロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル
類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエ
チレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル
類；ニトロベンゼンのようなニトロ化合物類；アセトニ
トリル、イソブチロニトリルのようなニトリル類；ホル
ムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ
−メチルピロリジノン、ヘキサメチルホスホロトリアミ
ドのようなアミド類；スルホランのようなスルホキシド
類；ピリジン類をあげることができるが、好適には、ハ
ロゲン化炭化水素類であり、更に好適には、メチレンク
ロリドである。

【００３１】使用される塩基としては、好適には、Ｎ−
メチルモルホリン、トリエチルアミン、トリプロピルア
ミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミ
ン、ジシクロヘキシルアミン、1,8-ジアザビシクロ［5.
4.0］ウンデク-7-エン（ＤＢＵ）、1,5-ジアザビシクロ
［4.3.0］ノン-5-エン（ＤＢＮ）、1,4-ジアザビシクロ
［2.2.2］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、Ｎ−メチルピペリ
ジン、ヘキサメチルホスフォラストリアミドのような有
機塩基類であり、更に好適には、ヘキサメチルホスフォ
ラストリアミドである。

【００３２】使用されるハロゲン化メタンとしては、好
適には、四塩化炭素、四塩化臭素、ブロモトリクロロメ
タンであり、更に好適には、ブロモトリクロロメタンで
ある。

【００３３】反応温度は、−７８℃乃至５０℃であり、
好適には、室温である。

【００３４】反応時間は、１乃至２４時間であり、好適
には、３乃至１６時間である。

【００３５】反応終了後、本反応の目的化合物（３）は
常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、塩
化メチレンのような水と混和しない有機溶剤を加えて、
水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マ
グネシウム等で乾燥した後、溶剤を留去することで得ら
れる。

【００３６】得られた化合物は、必要ならば、常法、例
えば、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等によって
更に精製できる。

【００３７】（Ａ−２ａ工程）本工程は、化合物（３）
から化合物（４）を製造する工程であり、対応のアルコ
ールを加えた不活性溶剤中、ヒドロキノン存在下、化合
物（３）に有機過酸化物を反応させ、化合物（４）を製
造する。

【００３８】使用される溶剤としては、例えば、ヘキサ
ン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪
族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような
芳香族炭化水素類；メチレンクロリド、クロロホルム、
四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロ
ロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；蟻酸エチ
ル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエ
チルのようなエステル類をあげることができるが、好適
には、ハロゲン化炭化水素類であり、更に好適には、メ
チレンクロリド又はクロロホルムである。

【００３９】溶剤に加えるアルコールとしては、例え
ば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノー
ル、ベンジルアルコール、フェノールをあげることがで
き、好適には、メタノールである。

【００４０】有機過酸化物としては、例えば、過酸化水
素、３−クロロ過酸化安息香酸、過フタル酸、過ぎ酸、
過酢酸、過酸化ｔ−ブタノールをあげることができる
が、好適には、３−クロロ過酸化安息香酸である。

【００４１】また、ヒドロキノンを加えることによっ
て、有機過酸化物の副反応であるラジカル反応をおさ
え、目的物の収率をあげることができる。

【００４２】反応温度は、０℃乃至１００℃であり、好
適には、室温である。

【００４３】反応時間は、３０分間乃至２４時間であ
り、好適には、３乃至１６時間である。

【００４４】反応終了後、本反応の目的化合物（４）は
常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、塩
化メチレンのような水と混和しない有機溶剤を加えて、
水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マ
グネシウム等で乾燥した後、溶剤を留去することで得ら
れる。

【００４５】得られた化合物は、シリカゲルカラムクロ
マトグラフィー等によって更に精製でき、２つのエピマ
ーを分取することができる。

【００４６】（Ａ−２ｂ工程）

【００４７】

【化９】

【００４８】本工程は、前記（Ａ−２ａ工程）の別法で
あり、カルボン酸を経由する方法である。本工程は、次
の（Ａ−２ｂ−１工程）及び（Ａ−２ｂ−２工程）の２
工程からなる。

【００４９】（Ａ−２ｂ−１工程）本工程は、含水不活
性溶剤中、ヒドロキノン存在下、化合物（３）に有機過
酸化物を反応させ、カルボン酸（４ａ）を製造する工程
であり、含水溶剤を使用する以外は、上記（Ａ−２ａ工
程）と同様に行うことができる。

【００５０】（Ａ−２ｂ−２工程）本工程は、カルボン
酸（４ａ）を保護して化合物（４）を製造する工程であ
り、周知の方法、例えば、文献（T. W. Greene, Protec
tive Groups in Organic Synthesis）に記載の方法に従
って、所望のカルボキシ基の保護基を導入することがで
きる。

【００５１】（Ａ−３工程）本工程は、不活性溶剤中、
化合物（４）にチオシアン酸カリウム（KN=C=S）を反応
させ、化合物（１）を製造する工程である。

【００５２】使用される溶剤としては、好適には、ホル
ムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ
−メチルピロリジノン、ヘキサメチルホスホロトリアミ
ドのようなアミド類であり、更に好適には、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルホルムアミドである。

【００５３】反応温度は、０℃乃至１５０℃であり、好
適には、５０℃乃至１００℃である。

【００５４】反応時間は、３０分間乃至１日間であり、
好適には、３乃至１５時間である。

【００５５】反応終了後、本反応の目的化合物（１）は
常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反
応混合物を濃縮し、酢酸エチルのような水と混和しない
有機溶剤を加えて、水洗後、目的化合物を含む有機層を
分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥した後、溶剤を
留去することで得られる。

【００５６】得られた化合物は、必要ならば、常法、例
えばシリカゲルカラムクロマトグラフィー等によって更
に精製できる。

【００５７】本発明の化合物（１）を用いて、以下に記
載するＢ法によりヒダントサイジン及びチオヒダントサ
イジンを製造することができる。

【００５８】

【化１０】

【００５９】Ｂ法 （Ｂ−１工程）本工程は、不活性溶剤中、化合物（１）
にアンモニアのメタノール溶液を反応させて閉環し、化
合物（５）を製造する工程である。

【００６０】使用される溶剤としては、例えば、ジエチ
ルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリ
コールジメチルエーテルのようなエーテル類；アセト
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イ
ソホロン、シクロヘキサノンのようなケトン類；メタノ
ール、エタノール、プロパノールのようなアルコール類
をあげることができるが、好適には、アルコール類であ
り、更に好適には、メタノールである。

【００６１】反応温度は、−１０℃乃至４０℃であり、
好適には、室温である。

【００６２】反応時間は、１０分間乃至１２時間であ
り、好適には、１乃至６時間である。

【００６３】反応終了後、本反応の化合物（５）は常法
に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混
合物を濃縮することで得られる。

【００６４】得られた化合物は、必要ならば、シリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー等によって更に精製でき
る。

【００６５】（Ｂ−２工程）本工程は、不活性溶剤中、
炭酸水素ナトリウム水溶液存在下、化合物（５）に過酸
化水素水を反応させ、化合物（５）のチオキソ基をオキ
ソ基に変換して、化合物（６）を製造する工程である。

【００６６】使用される溶剤としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解し、水と混合するものであ
れば特に限定はないが、好適には、アセトニトリル、イ
ソブチロニトリルのようなニトリル類、アセトンのよう
なケトン類、ＴＨＦのようなエーテル類、メタノールの
ようなアルコール類であり、更に好適には、アセトニト
リルである。

【００６７】反応温度は、０℃乃至５０℃であり、好適
には、室温である。

【００６８】反応時間は、５分間乃至３時間であり、好
適には、１０分間乃至１時間である。

【００６９】反応終了後、本反応の目的化合物（６）は
常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、酢
酸エチルのような水と混和しない有機溶剤を加えて、水
洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マグ
ネシウム等で乾燥した後、溶剤を留去することで得られ
る。

【００７０】得られた化合物は、必要ならば、常法、例
えば、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等によって
更に精製できる。

【００７１】（Ｂ−３工程）本工程は、不活性溶剤中、
化合物（６）の保護基を除去して、ヒダントサイジン
（７）を製造する工程である。

【００７２】保護基の除去はその種類によって異なる
が、一般にこの分野の技術において周知の方法によって
以下の様に実施される。

【００７３】水酸基の保護基として、シリル基を使用
した場合には、通常、弗化テトラブチルアンモニウム、
弗化水素酸、弗化水素酸−ピリジン、弗化カリウムのよ
うな弗素アニオンを生成する化合物で処理するか、又
は、酢酸、メタンスルホン酸、パラトルエンスルホン
酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸
のような有機酸又は塩酸のような無機酸で処理すること
により除去できる。

【００７４】尚、弗素アニオンにより除去する場合に、
蟻酸、酢酸、プロピオン酸のような有機酸を加えること
によって、反応が促進することがある。

【００７５】使用される溶剤としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ジエチルエーテル、ジイソプロピ
ルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメト
キシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルの
ようなエーテル類；アセトニトリル、イソブチロニトリ
ルのようなニトリル類；水；酢酸のような有機酸及びこ
れらの混合溶剤をあげることができる。

【００７６】反応温度及び反応時間は、特に限定はない
が、通常、０℃乃至１００℃（好適には、０℃乃至３０
℃）で、１乃至２４時間実施される。

【００７７】水酸基の保護基が、アラルキル基又はア
ラルキルオキシカルボニル基である場合には、通常、溶
剤中、還元剤と接触させることにより（好適には、触媒
下に常温にて接触還元）除去する方法、又は、酸化剤を
用いて除去する方法が好適である。

【００７８】接触還元による除去において使用される溶
剤としては、本反応に関与しないものであれば特に限定
はないが、メタノール、エタノール、イソプロパノール
のようなアルコール類、ジエチルエーテル、テトラヒド
ロフラン、ジオキサンのようなエーテル類、トルエン、
ベンゼン、キシレンのような芳香族炭化水素類、ヘキサ
ン、シクロヘキサンのような脂肪族炭化水素類、酢酸エ
チル、酢酸プロピルのようなエステル類、酢酸のような
脂肪酸類又はこれらの有機溶剤と水との混合溶剤が好適
である。

【００７９】使用される触媒としては、通常、接触還元
反応に使用されるものであれば、特に限定はないが、好
適には、パラジウム炭素、パラジウム黒、ラネーニッケ
ル、酸化白金、白金黒、ロジウム−酸化アルミニウム、
トリフェニルホスフィン−塩化ロジウム、パラジウム−
硫酸バリウムが用いられる。

【００８０】圧力は、特に限定はないが、通常１乃至１
０気圧で行なわれる。

【００８１】反応温度及び反応時間は、出発物質、溶剤
及び触剤の種類等により異なるが、通常、０℃乃至１０
０℃で、５分間乃至２４時間実施される。

【００８２】酸化による除去において使用される溶剤と
しては、本反応に関与しないものであれば特に限定はな
いが、好適には、含水有機溶剤である。

【００８３】このような有機溶剤として好適には、アセ
トンのようなケトン類、メチレンクロリド、クロロホル
ム、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類、アセト
ニトリルのようなニトリル類、ジエチルエーテル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチ
ルホスホロトリアミドのようなアミド類及びジメチルス
ルホキシドのようなスルホキシド類をあげることができ
る。

【００８４】使用される酸化剤としては、酸化に使用さ
れる化合物であれば特に限定はないが、好適には、過硫
酸カリウム、過硫酸ナトリウム、アンモニウムセリウム
ナイトレイト(CAN)、2,3-ジクロロ-5,6-ジシアノ-p-ベ
ンゾキノン(DDQ)が用いられる。

【００８５】反応温度及び反応時間は、出発物質、溶剤
及び触媒の種類等により異なるが、通常、０℃乃至１５
０℃で、１０分間乃至２４時間実施される。

【００８６】又、液体アンモニア中若しくはメタノー
ル、エタノールのようなアルコール中において、−７８
℃乃至−２０℃で、金属リチウム、金属ナトリウムのよ
うなアルカリ金属類を作用させることによっても除去で
きる。

【００８７】更に、アセトニトリルのようなニトリル
類、メチレンクロリド、クロロホルムのようなハロゲン
化炭化水素類又はこれらの混合溶剤中において、０℃乃
至５０℃で、塩化アルミニウム−沃化ナトリウム、又は
トリメチルシリルイオダイドのようなアルキルシリルハ
ライド類を作用させることによっても除去することがで
きる。

【００８８】水酸基の保護基が、脂肪族アシル基、芳
香族アシル基、アルコキシカルボニル基又はアルケニル
オキシカルボニル基である場合には、通常、水性溶剤の
存在下に、塩基で処理することにより除去することがで
きる。

【００８９】使用される塩基としては、化合物の他の部
分に影響を与えないものであれば特に限定はないが、好
適には、ナトリウムメトキシドのような金属アルコキシ
ド類、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウムの
ようなアルカリ金属炭酸塩類、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、水酸化リチウムのようなアルカリ金属水酸
化物類又はアンモニア水、アンモニア−メタノールのよ
うなアンモニア類が用いられる。尚、塩基による加水分
解では異性化が起こることがある。

【００９０】使用される溶剤としては、通常の加水分解
反応に使用されるものであれば特に限定はなく、水；メ
タノール、エタノール、n-プロパノールのようなアルコ
ール類、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエー
テル類等の有機溶剤又は水と上記有機溶剤との混合溶剤
が好適である。

【００９１】反応温度及び反応時間は、出発物質、溶剤
及び使用される酸若しくは塩基等により異なり、特に限
定はないが、副反応を抑制するために、通常は０℃乃至
１５０℃で、１乃至１０時間実施される。

【００９２】水酸基の保護基が、アリルオキシカルボ
ニルの場合は、特にパラジウム、及びトリフェニルホス
フィン、又はビス（メチルジフェニルホスフィン）
（１，５−シクロオクタジエン）イリジウム（Ｉ）・ヘ
キサフルオロホスフェートを使用して除去する方法が簡
便で、副反応が少なく実施することができる。

【００９３】水酸基の保護基が、アルコキシメチル
基、テトラヒドロピラニル基、テトラヒドロチオピラニ
ル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロチオフラ
ニル基又は置換されたエチル基である場合、及びジオー
ルの保護基である場合には、通常、溶剤中、酸で処理す
ることにより除去される。

【００９４】使用される酸としては、通常、ブレンステ
ッド酸又はルイス酸として使用されるものであれば特に
限定はなく、好適には、塩化水素；塩酸、硫酸、硝酸の
ような無機酸；又は酢酸、トリフルオロ酢酸、メタンス
ルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸のような有機酸等の
ブレンステッド酸：三弗化ホウ素のようなルイス酸であ
るが、ダウエックス５０Ｗのような強酸性の陽イオン交
換樹脂も使用することができる。

【００９５】使用される溶剤としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ヘキサン、ヘプタン、リグロイ
ン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼ
ン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メ
チレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロ
エタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハ
ロゲン化炭化水素類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プ
ロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル
類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエ
チレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル
類；メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソ
プロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、tert
−ブタノール、イソアミルアルコール、ジエチレングリ
コール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノー
ル、メチルセロソルブ、のようなアルコール類；アセト
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イ
ソホロン、シクロヘキサノンのようなケトン類；水、又
は、これらの混合溶剤が好適であり、更に好適には、ハ
ロゲン化炭化水素類、エステル類又はエーテル類であ
る。

【００９６】反応温度及び反応時間は、出発物質、溶剤
及び使用される酸の種類・濃度等により異なるが、通常
は−１０℃乃至１００℃（好適には、−５℃乃至５０
℃）で、５分間乃至４８時間（好適には、３０分間乃至
１０時間）である。

【００９７】反応終了後、本反応の目的化合物（９）は
常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反
応混合物を濃縮し、酢酸エチルのような水と混和しない
有機溶剤を加えて、水洗後、目的化合物を含む有機層を
分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥した後、溶剤を
留去することで得られる。

【００９８】得られた化合物は、必要ならば、常法、例
えば再結晶、またはシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー等によって更に精製できる。

【００９９】（Ｂ−４工程）本工程は、不活性溶剤中、
化合物（５）の保護基を除去して、チオヒダントサイジ
ン（８）を製造する工程であり、上記（Ｂ−３工程）と
同様にして行うことができる。

【０１００】本発明の新規な中間体は、優れた除草活性
及び植物成長抑制活性を有するヒダントサイジン及びチ
オヒダントサイジンを収率よく合成するために有用であ
る。

【０１０１】以下に、実施例及び参考例を示し、本発明
をさらに詳細に説明するが、本発明の範囲は、これらに
限定されるものではない。

【０１０２】

【実施例】

【０１０３】

【実施例１】メチル ６−Ｏ−ベンジル−２−デオキシ
−３，４−Ｏ−イソプロピリデン−２−イソチオシアナ
ト−β−Ｄ−リボ−２−ヘキスロフラノソネート 及
び、その ２−エピマー（例示化合物番号１の化合物） （ａ）２，５−アンヒドロ−６−Ｏ−ベンジル−１，１
−ジクロロ−１−デオキシ−３，４−Ｏ−イソプロピリ
デン−Ｄ−リボ−ヘキセ−１−エニトール５−Ｏ−ベン
ジル−２，３−Ｏ−イソプロピリデン−Ｄ−リボノラク
トン(2.78 g, 10.0 mmol)(F. Freeman and K. D. Robar
ge, Carbohydrate Res., 137, 89(1985))とブロモトリ
クロロメタン(9.92 g, 50.0 mmol)の塩化メチレン(30 m
l)溶液に、ヘキサメチルホスフォラストリアミド(16.3
g, 100 mmol)の塩化メチレン(20 ml)溶液を−７８℃で
３時間かけて滴加した。温度を徐々に２４℃にあげ、１
６時間攪拌した。反応混合物を塩化メチレン(300 ml)で
稀釈し、１Ｍ塩酸、水、炭酸水素ナトリウム、食塩水で
洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶液をろ過し
て、減圧下濃縮し、得られた混合物をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー（展開溶媒；シクロヘキサン：酢酸
エチル＝１：１）で精製し、目的化合物[1](2.65 g, 77
%)を得た。

【０１０４】¹H-NMR (400 MHz, CDCl₃) δ 1.39 (3H,
s), 1.49 (3H, s), 3.65 (2H, s), 4.51 (2H, s), 4.65
(1H, s), 4.80, 5.26 (2H, AB-q, J=6.0Hz), 7.27-7.4
0 (5H, m). （ｂ）メチル ６−Ｏ−ベンジル−２−クロロ−２−デ
オキシ−３，４−Ｏ−イソプロピリデン−α−Ｄ−リボ
−２−ヘキスロフラノソネート 及び、その ２−エピ
マー 実施例１（ａ）で得られた化合物[1](345 mg, 1.00 mmo
l)を塩化メチレン(20ml)及びメタノール(0.38 ml(300 m
g))に溶解し、窒素気流下、室温で、ヒドロキノン(50 m
g)及び３−クロロ過酸化安息香酸(純度77％以下 1.20
g)を加えた。室温で１６時間攪拌した後、反応混合物を
塩化メチレン(100 ml)で稀釈し、１０％亜硫酸水素ナト
リウム水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和
食塩水でそれぞれ２回ずつ洗浄し、硫酸マグネシウムで
乾燥した。乾燥剤をろ去し、ろ液を減圧下濃縮し、残渣
を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶
媒；シクロヘキサン：酢酸エチル＝３：１）で精製して
目的化合物を２つのエピマー([2] 194 mg, 54 %, Rf =
0.398;[2]’51 mg, 14 %, Rf = 0.508)として得た。

【０１０５】Physical data of [2]:¹ H-NMR (270 MHz, CDCl₃) δ 1.40 (3H, s), 1.70 (3H,
s), 3.69 (1H, dd, J= 3.2, 11.3 Hz, C6-H), 3.73 (1
H, dd, J = 3.2, 11.3 Hz, C6-H), 3.83 (3H,s), 4.53,
4.58 (2H, AB-q, J = 12.2 Hz), 4.59 (1H, q, J = 3.
2 Hz, C5-H),4.81 (1H, dd, J = 3.2, 7.1 Hz, C4-H),
5.02 (1H, d, J = 7.1 Hz, C3-H), 7.28-7.39 (5H, m). IR νmax (film): 3089-2867, 1750 cm^-1. Physical data of [2]': IR νmax (KBr): 1767, 1737 cm^-1. MS (FAB) 379[M+H]⁺ （ｃ）メチル ６−Ｏ−ベンジル−２−デオキシ−３，
４−Ｏ−イソプロピリデン−２−イソチオシアナト−β
−Ｄ−リボ−２−ヘキスロフラノソネート 及び、その
２−エピマー 実施例１（ｂ）で得られた化合物[2](357 mg, 1.00 mmo
l)のジメチルホルムアミド(5 ml)溶液に、チオシアン酸
カリウム（KN=C=S）(292 mg, 3.00 mmol)を加えた。80
℃で５時間攪拌した後、反応混合物を酢酸エチルで希釈
し、水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥
した。乾燥剤をろ去し、ろ液を減圧下濃縮し、更にポン
プで濃縮し、残渣を得た。これをシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（展開溶媒；シクロヘキサン：酢酸エチ
ル＝２：１）で精製して、目的化合物(314mg, 83%)を２
つのエピマー（[3]及び[3]'）の４：１の混合物として
得た。

【０１０６】この混合物は、物理データ測定のためにＴ
ＬＣプレート上で（展開溶媒；シクロヘキサン：酢酸エ
チル＝３：１）一部分分離された([3], Rf=0.500;
[3]', Rf=0.467)。

【０１０７】Physical data of [3]: [α]_D ²⁴ -118.8 (c=3.9, CHCl₃). IR νmax (film) 3090-2860, 2016, 1773, 1756 cm^-1.¹ H-NMR (400 MHz, CDCl₃) δ 1.30 (3H, s), 1.44 (3H,
s), 3.60-3.68 (2H,m), 3.89 (3H, s), 4.55, 4.65 (2
H, AB-q, J=11.7 Hz), 4.64 (1H, m), 4.89-4.92 (2H,
m), 7.30-7.37 (5H, m). MS (FAB) m/z: 402 [M+Na]+, 380 [M+H]+. Anal. Calc
d for C₁₈H₂₁NO₆S: C,56.98; H, 5.58; N, 3.69; S, 8.
45. Found: C, 57.19; H, 5.57; N,.3.17; S, 7.17. Physical data of [3]': [α]_D ²⁴ -36.3 (c=0.2, CHCl₃).¹ H-NMR (400 MHz, CDCl₃) δ 1.39 (3H, s), 1.69 (3H,
s), 3.63-3.70 (2H,m), 3.79 (3H, s), 4.50 (1H, m),
4.51, 4.57 (2H, AB-q, J=12.0 Hz), 4.78 (1H, m),
5.03 (1H, d, J=6.6 Hz), 7.30-7.42 (5H, m). MS (FAB) m/z: 402 [M+Na]⁺, 380 [M+H]⁺. HR-MS (FAB) calcd for C₁₈H₂₂NO₆S: 380.1168, found:
3870.1169.

【０１０８】

【実施例２】メチル ６−Ｏ−アセチル−２−デオキシ
−３，４−Ｏ−イソプロピリデン−２−イソチオシアナ
ト−β−Ｄ−リボ−２−ヘキスロフラノソネート 及
び、その ２−エピマー（例示化合物番号４の化合物） （ａ）メチル ６−Ｏ−アセチル−２−クロロ−２−デ
オキシ−３，４−Ｏ−イソプロピリデン−α−Ｄ−リボ
−２−ヘキスロフラノソネート 実施例１（ｂ）で得られた化合物[2](350 mg, 0.981 mm
ol)の酢酸エチル(25 ml)溶液を、10%パラジウム炭素(50
mg)を触媒として用いて、室温で20分間水素添加した。
触媒を濾去し、濾液にジアセチルエーテル(2 ml)とピリ
ジン(1 ml)を加えた。この溶液を室温で15時間攪拌した
後、減圧下濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（展開溶媒；シクロヘキサン：酢酸エチル＝
１：１）で精製して、目的化合物[8](273 mg, 90%)を固
体として得た。

【０１０９】mp 105-107 ℃ (from EtOAc-hexane). IR νmax (film) 3000-2950, 1743 cm^-1.¹ H-NMR (500 MHz,CDCl₃) δ 1.41 (3H, s), 1.71 (3H,
s), 2.10 (3H, s), 3.89 (3H, s), 4.29 (1H, dd, J=4.
9, 12.2 Hz), 4.38 (1H, dd, J=3.9, 12.2 Hz), 4.64
(1H, dd, J=3.9, 7.8 Hz), 4.71 (1H, dd, J=3.9, 6.8
Hz), 5.03 (1H,d, J=7.8 Hz). Anal. Calcd. for C₁₂H
₁₇O₇Cl: C, 46.69; H, 5.55; Cl, 11.48.Found: C, 46.
78; H, 5.53; Cl, 11.39. （ｂ）メチル ６−Ｏ−アセチル−２−デオキシ−３，
４−Ｏ−イソプロピリデン−２−イソチオシアナト−β
−Ｄ−リボ−２−ヘキスロフラノソネート 及び、その
２−エピマー 実施例２（ａ）で得られた化合物[8](100 mg, 0.324 mm
ol)のジメチルホルムアミド(2 ml)溶液に、チオシアン
酸カリウム（KN=C=S）(94 mg, 0.972 mmol)を加えた。8
0℃で15時間攪拌した後、反応混合物を酢酸エチルで希
釈し、水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾
燥した。乾燥剤をろ去し、ろ液を減圧下濃縮し、更にポ
ンプで濃縮し、残渣を得た。これをシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（展開溶媒；シクロヘキサン：酢酸エ
チル＝２：１）で精製して、目的化合物[9](73 mg, 68
%, Rf=0.547) 及び [9]'(14 mg, 13%, Rf=0.453)を得
た。

【０１１０】Physical data of [9]: IR νmax (film) 2990-2950, 2011, 1773, 1749 cm^-1.¹ H-NMR (400 MHz, CDCl₃) δ 1.33 (3H, s), 1.46 (3H,
s), 2.14 (3H, s), 3.91 (3H, s), 4.20 (1H, dd, J=
5.9, 12.1 Hz), 4.31 (1H, dd, J=5.9, 12.1 Hz), 4.68
(1H, ddd, J=1.5, 5.1, 5.9 Hz), 4.86 (1H, dd, J=1.
5, 5.9 Hz), 4.94 (1H, d, J=5.1 Hz). Anal. Calcd. for C₁₃H₁₇NO₇S: C, 47.12; H, 5.17; N,
4.23; S, 9.68. Found: C, 47.27; H, 5.15; N, 4.21;
S, 9.33. Physical data of [9]': IR νmax (film) 2990-2950, 2022, 1750 cm^-1.¹ H-NMR (400 MHz, CDCl₃) δ 1.40 (3H, s), 1.70 (3H,
s), 2.12 (3H, s), 3.89 (3H, s), 4.18 (1H, dd, J=
4.8, 12.1 Hz), 4.37 (1H, dd, J=3.7, 12.1 Hz), 4.54
(1H, m), 4.71 (1H, dd, J=2.8, 6.9 Hz), 5.02 (1H,
d, J=7.3 Hz).

【０１１１】

【参考例１】［５Ｓ−（５α，７α，８β，９β）］−
７−ベンジルオキシメチル−８，９−イソプロピリデン
ジオキシ−６−オキサ−２−チオキソ−１，３−ジアザ
スピロ［４．４］ノナ−４−オン 及び、その Ｃ２−
エピマー 実施例１（ｃ）で得られた化合物[3]及び[3]'の４：１
の混合物(600 mg, 1.58mmol)のメタノール(6.0 ml)溶液
に、24℃で攪拌しながら、２Ｍアンモニアのメタノール
(2.0 ml)溶液を加えた。２時間後、反応混合物を減圧下
濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（展開溶媒；シクロヘキサン：酢酸エチル＝３：１）で
精製して、目的化合物[4](464 mg, 80.5%; Rf=0.359
(シクロヘキサン：酢酸エチル＝２：１))及び[4]'(113
mg, 19.6%; Rf=0.449 (シクロヘキサン：酢酸エチル＝
２：１))を得た。

【０１１２】Physical data of [4]: [α]_D ²⁴ -169.7 (c=3.7, CHCl₃). IR νmax (KBr) 3400-2860, 1781, 1498 cm^-1.¹ H-NMR (400 MHz, CDCl₃) δ 1.30 (3H, s), 1.61 (3H,
s), 3.62 (1H, dd, J=1.5, 10.3 Hz), 3.78 (1H, dd,
J=1.5, 10.3 Hz), 4.56, 4.64 (2H, AB-q, J=11.4 Hz),
4.61 (1H, t, J=1.5 Hz), 4.78 (1H, d, J=5.9 Hz),
4.81 (1H, d, J=5.9 Hz), 7.38-7.47 (5H, m), 7.78 (1
H, s, NH, D₂O exchanged), 8.16 (1H, s, NH, D₂O exc
hanged). MS (FAB) m/z: 365 [M+H]⁺. HR-MS (FAB) calcd for C₁₇H₂₁N₂O₅S: 365.1171, foun
d: 365.1167. Anal. Calcd for C₁₇H₂₀N₂O₅S: C, 56.0
3; H, 5.53; N, 7.69; S, 8.80. Found: C, 55.57; H,
5.67; N, 7.44; S, 8.56. Physical data of [4]': [α]_D ²⁴ -61.5 (c=1.3, CHCl₃). IR νmax (KBr) 3450-2850, 1755, 1505 cm^-1.¹ H-NMR (400 MHz, CDCl₃) δ 1.36 (3H, s), 1.59 (3H,
s), 3.62 (1H, dd, J=6.2, 10.4 Hz), 3.67 (1H, dd,
J=6.2, 10.4 Hz), 4.43 (1H, t, J=6.2 Hz), 4.59 (2H,
s), 4.81 (2H, s), 7.26 (1H, bs, NH, D₂O exchange
d), 7.28-7.36 (5H, m), 8.39 (1H, bs, NH, D₂O excha
nged). MS (FAB) m/z: 365 [M+H]⁺. HR-MS (FAB) calcd for C₁₇H₂₁N₂O₅S: 365.1171, foun
d: 365.1183. Anal. Calcd for C₁₇H₂₀N₂O₅S: C, 56.0
3; H, 5.53; N, 7.69; S, 8.80. Found: C, 56.43; H,
5.46; N, 7.44; S, 8.50.

【０１１３】

【参考例２】［５Ｓ−（５α，７α，８β，９β）］−
７−ベンジルオキシメチル−８，９−イソプロピリデン
ジオキシ−６−オキサ−１，３−ジアザスピロ［４．
４］ノナ−２，４−ジオン 参考例１で得た化合物[4](100 mg, 0.274 mmol)のアセ
トニトリル(3 ml)溶液及び１Ｍ炭酸水素ナトリウム水溶
液(2 ml)に、室温で、３０％過酸化水素水(0.3ml)を加
えた。混合物を15分間攪拌した後、酢酸エチルで希釈
し、１０％亜硫酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水
で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、乾燥剤をろ去し
た。ろ液を減圧下濃縮し、目的化合物[5](96 mg, 定量
的)を結晶として得た。

【０１１４】mp 164-166 ℃ IR νmax (KBr) 3410-2870, 1786, 1734 cm^-1.¹ H-NMR (400 MHz, CDCl₃) δ 1.31 (3H, s), 1.61 (3H,
s), 3.60 (1H, dd, J= 1.9, 10.5 Hz), 3.75 (1H, dd,
J = 1.9, 10.5 Hz), 4.53, 4.63 (2H, AB-q,J = 11.4
Hz), 4.59 (1H, m), 4.77 (1H, d, J = 5.7 Hz), 4.80
(1H, d, J =5.7 Hz), 6.31 (1H, bs, NH), 7.31-7.45
(5H, m), 7.68 (1H, bs, NH). FAB MS (positive) m/z 349 [M+H]⁺.

【０１１５】

【参考例３】［５Ｓ−（５α，７α，８β，９β）］−
８，９−イソプロピリデンジオキシ−７−ヒドロキシメ
チル−６−オキサ−１，３−ジアザスピロ［４．４］ノ
ナ−２，４−ジオン 参考例２で得た化合物[5]（50 mg, 0.14 mmol）の酢酸
エチル（10 ml）溶液に、１０％パラジウム炭素（25 m
g）を加え、水素気流下、室温にて３０分間攪拌した。
反応混合物を濾過した後、ろ液を減圧下濃縮して目的化
合物[6]（37 mg,定量的）を得た。

【０１１６】¹H-NMR (400 MHz, CD₃OD) δ 1.32 (3H,
s), 1.54 (3H, s), 3.68 (1H, dd, J= 3.4, 11.9 Hz),
3.71 (1H, dd, J = 3.3, 11.9 Hz), 4.46 (1H, m), 4.8
1-4.93(2H, m).

【０１１７】

【参考例４】［５Ｓ−（５α，７α，８β，９β）］−
８，９−ジヒドロキシ−７−ヒドロキシメチル−６−オ
キサ−１，３−ジアザスピロ［４．４］ノナ−２，４−
ジオン（ヒダントサイジン） 参考例３で得た化合物[6](31 mg, 0.12 mmol)のトリフ
ルオロ酢酸−水(1:3, 5ml)溶液を０℃で２時間攪拌した
後、減圧下濃縮して、目的化合物[7](26 mg,定量的)を
得た。

【０１１８】¹H-NMR (400 MHz, D₂O, Me₃SiCD₂CD₂COONa
as an internatal standard) δ 3.68 (1H, dd, J =
4.6, 12.7 Hz), 3.78 (1H, dd, J = 3.0, 12.7 Hz), 4.
22 (1H, dd, J = 4.4, 5.8 Hz), 4.34 (1H, m), 4.40(1
H, d, J = 5.8 Hz).

【０１１９】

【参考例５】［２Ｒ−（２α，３β，４β，５α）］−
６，８−ジアザ−２−ヒドロキシメチル−３，４−イソ
プロピリデンジオキシ−１−オキサ−７−チオキソスピ
ロ［４．４］ノナ−９−オン （２，３−Ｏ−イソプロ
ピリデン−２’−チオヒダントサイジン） 実施例２（ｂ）で得られた化合物[9](18 mg, 0.054 mmo
l)のメタノール(1 ml)溶液に、２Ｍアンモニアのメタノ
ール(0.5 ml)溶液を加えた。この溶液を室温で６時間攪
拌後、減圧下濃縮し、目的化合物[10]を定量的に、粉末
として得た。

【０１２０】IR νmax (KBr) 3500-3000, 1763, 1509 c
m^-1.¹ H-NMR (400 MHz, CDCl₃+D₂O) δ 1.34 (3H, s), 1.64
(3H, s), 3.87 (1H, dd, J=1.8, 11.4 Hz), 3.93 (1H,
dd, J=1.8, 11.4 Hz), 4.63 (1H, s), 4.92 (1H, d, J=
5.9 Hz), 4.95 (1H, d, J=5.9 Hz). FAB MS m/z 275 [M+H]⁺.

【０１２１】

【参考例６】［２Ｒ−（２α，３β，４β，５α）］−
６，８−ジアザ−３，４−ジオキシ−２−ヒドロキシメ
チル−１−オキサ−７−チオキソスピロ［４．４］ノナ
−９−オン （２’−チオヒダントサイジン） 参考例５で得られた化合物[10](27.4 mg, 0.100 mmol)
のトリフルオロ酢酸−水(1:3, 2 ml)溶液を０℃で２時
間攪拌した。この溶液を減圧下濃縮し、目的化合物[11]
(20 mg, 定量的)を粉末として得た。

【０１２２】IR νmax (KBr) 3450-3000, 1750 cm^-1.¹ H-NMR (400 MHz, CD₃OD) δ 3.61 (1H, dd, J = 4.2,
12.0 Hz), 3.66 (1H,dd, J = 3.8, 12.0 Hz), 4.07 (1
H, dd, J = 2.6, 5.6 Hz), 4.25 (1H, m), 4.30 (1H,
d, J = 5.6 Hz). FAB MS m/z 325 [M+H]⁺.

【０１２３】

【実施例３】メチル ２−デオキシ−３，４−Ｏ−イソ
プロピリデン−２−イソチオシアナト−６−Ｏ−（４−
メトキシベンジル）−β−Ｄ−リボ−２−ヘキスロフラ
ノソネート（化合物[15]） 及び、その ２−エピマー
（化合物[15]'）（例示化合物番号２の化合物） （ａ）２，３−Ｏ−イソプロピリデン−５−Ｏ−（４−
メトキシベンジル）−Ｄ−リボニック アシッド γ−
ラクトン（化合物[12]） ２，３−Ｏ−イソプロピリデン−Ｄ−リボノラクトン
(8.20 g, 43,57 mmol)(Masao Shiozaki et al. J. Org.
Chem. 1994, 59, 4450-4460)と塩化４−メトキシベン
ジル(8.20 g, 52.36 mmol)のジメチルホルムアミド(以
下、ＤＭＦ。30 ml)溶液に、水素化ナトリウム(60-70%
油性, 2.09 g)を氷冷下加えた。この混合物を室温で１
６時間攪拌し、酢酸エチルで稀釈し、水、飽和食塩水で
洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、活性炭で脱色し、
溶液をろ過して、減圧下濃縮し、油状混合物を得た。得
られた混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）で精製
し、目的化合物[12](10.37 g, 77%)を得た。

【０１２４】IR νmax (film): 3030-2840, 1785, 161
4, 1587, 1515 cm^-1.¹ H-NMR (400 MHz, CDCl₃) δ 1.36 (3H, s), 1.47 (3H,
s), 3.64 (1H, dd, J=1.0, 10.3 Hz), 3.68 (1H, dd,
J=1.8, 10.3 Hz), 3.81 (3H, s), 4.40, 4.48(2H, AB-
q, J=11.7 Hz), 4.63 (1H, dd, J=1.0, 1.8 Hz), 4.68
(1H, d, J=5.5Hz), 4.76 (1H, d, J=5.5 Hz), 6.88 (2
H, d, J=8.4 Hz), 7.18 (2H, d, J=8.4Hz). Anal. Calcd for C₁₆H₂₀O₆: C, 62.33; H, 6.54. Foun
d: C, 61.75; H, 6.75. （ｂ）２，５−アンヒドロ−１，１−ジクロロ−１−デ
オキシ−３，４−Ｏ−イソプロピリデン−６−Ｏ−（４
−メトキシベンジル）−Ｄ−リボ−ヘキサ−１−エニト
ール（化合物[13]） 実施例３（ａ）で得られた化合物[12](4.77 g, 15.47 m
mol)とブロモトリクロロメタン(15.34 g, 77.36 mmol)
の塩化メチレン(40 ml)溶液に、ヘキサメチルホスフォ
ラストリアミド(25.24 g, 154.6 mmol)の塩化メチレン
(30 ml)溶液を窒素雰囲気下−７８℃で２時間かけて滴
加した。攪拌しながら４時間かけて温度を徐々に−５０
℃に上げ、１６時間かけて室温に上げた。反応混合物を
塩化メチレン(400 ml)で稀釈し、１Ｍ塩酸、水、炭酸水
素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネ
シウムで乾燥した。溶液をろ過して、減圧下濃縮し、得
られた混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（展開溶媒；シクロヘキサン：酢酸エチル＝２：１）で
精製し、目的化合物[13](5.54 g, 95%)を融点が62-65℃
の固体（酢酸エチル−ヘキサンから再結晶した綿状針状
結晶）として得た。

【０１２５】[α]_D ²⁴ -147.3 (c=1.06, CHCl₃). IR νmax (KBr): 3040-2830, 1733, 1664, 1610, 1585,
1513 cm^-1.¹ H-NMR (400 MHz, CDCl₃) δ 1.38 (3H, s), 1.48 (3H,
s), 3.59 (1H, dd, 2.9, 11.0 Hz), 3.63 (1H, dd, J=
2.9, 11. 0 Hz), 3.82 (3H, s), 4.42, 4.45 (2H, AB-
q, J=11.7 Hz), 4.64 (1H, t, J=2.9 Hz), 4.77 (1H,
d, J=5.9 Hz), 5.23 (1H, d, J=5.9 Hz), 6.88-6.90 (2
H, m), 7.18-7.21 (2H, m). FAB MS (positive) m/z 374 [M^+・]. HRMS (FAB) calcd for C₁₇H₂₀O₅ ³⁵Cl₂: 374.0688, foun
d: 374.0691. Anal. Calcd for C₁₇H₂₀O₅Cl₂: C, 54.4
1; H, 5.37; Cl, 18.90. Found: C, 54.30; H,5.38; C
l, 18.66. （ｃ）メチル ２−クロロ−２−デオキシ−３，４−Ｏ
−イソプロピリデン−６−Ｏ−（４−メトキシベンジ
ル）−β−Ｄ−リボ−２−ヘキスロフラノソネート（化
合物[14]） 及び、その ２−エピマー（化合物[1
4]'） 実施例３（ｂ）で得られた化合物[13](3.75 g, 10.0 mm
ol)を塩化メチレン(150 ml)及びメタノール(5 ml)に溶
解し、窒素気流下、室温で、ヒドロキノン(0.50g)及び
３−クロロ過酸化安息香酸(純度77％以下 15.0 g)を加
えた。室温で１６時間攪拌した後、反応混合物を塩化メ
チレン(150 ml)で稀釈し、１０％亜硫酸水素ナトリウム
水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水
でそれぞれ２回ずつ洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し
た。乾燥剤をろ去し、ろ液を減圧下濃縮し、残渣を得
た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；
シクロヘキサン：酢酸エチル＝２：１）で精製して目的
化合物を２つのエピマー([14]' 0.51 g, 13 %, Rf = 0.
581, 油状物;[14] 2.07 g, 54 %, Rf = 0.500, 油状物)
として得た。

【０１２６】Physical data of [14]': IR νmax (film): 3000-2830, 1766, 1613, 1587, 1514
cm^-1.¹ H-NMR (400 MHz, CDCl₃) δ 1.33 (3H, s), 1.43 (3H,
s), 3.71 (2H, d, J=7.2 Hz), 3.81 (3H, s), 3.89 (3
H, s), 4.50, 4.53 (2H, AB-q, J=11.0 Hz), 4.63 (1H,
dt, J=1.6, 7.2 Hz), 4.92 (1H, dd, J=1.8, 5.6 Hz),
5.13 (1H, d,J=5.6 Hz), 6.88 (2H, d, J=8.8 Hz), 7.
27 (2H, d, J=8.8 Hz). MS (FAB) 386 (³⁵Cl) [M^+・]. HRMS (FAB) calcd for C₁₈H₂₃O₇ ³⁵Cl: 386.1132, foun
d: 386.1125. Physical data of [14]: IR νmax (film): 2990-2860, 1762, 1751, 1613, 158
7, 1514 cm^-1.¹ H-NMR (500 MHz, CDCl₃) δ 1.39 (3H, s), 1.70 (3H,
s), 3.63-3.70 (2H,m), 3.81 (3H, s), 3.83 (3H, s),
4.45, 4.51 (2H, AB-q, J=11.7 Hz), 4.57 (1H, dd, J
=2.9, 5.8 Hz), 4.78 (1H, dd, J=2.9, 6.8 Hz, C4-H),
5.00 (1H, d,J=7.8 Hz), 6.88 (2H, d, J=8.8 Hz), 7.
22 (2H, d, J=8.8 Hz). MS (FAB) 386 (³⁵Cl) [M^+・], 387 [M+H]⁺; 425 [M+K]⁺
(on addition of aqueous 1 M KI). HRMS (FAB) calcd. for C₁₈H₂₃O₇ ³⁵ClK: 425.0770, fou
nd: 425.0779 （ｄ）メチル ２−デオキシ−３，４−Ｏ−イソプロピ
リデン−２−イソチオシアナト−６−Ｏ−（４−メトキ
シベンジル）−β−Ｄ−リボ−２−ヘキスロフラノソネ
ート（化合物[15]） 及び、その ２−エピマー（化合
物[15]'） 実施例３（ｃ）で得られた化合物[14](193 mg, 0.500 m
mol)のジメチルホルムアミド(2 ml)溶液に、チオシアン
酸カリウム（KN=C=S）(146 mg, 1.500 mmol)を加えた。
80℃で４時間攪拌した後、反応混合物を酢酸エチルで希
釈し、水（２回）、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシ
ウムで乾燥した。乾燥剤をろ去し、ろ液を減圧下濃縮
し、残渣を得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（展開溶媒；シクロヘキサン：酢酸エチル＝３：
１）で精製して、目的化合物(149mg, 73%, Rf=0.469)を
２つのエピマー（[15]及び[15]'）の５：１の混合物と
して得た。

【０１２７】Physical data of [15]:¹ H-NMR (400 MHz, CDCl₃) δ 1.29 (3H, s), 1.43 (3H,
s), 3.57-3.63 (2H,m), 3.82 (3H, s), 3.88 (3H, s),
4.49, 4.57 (2H, AB-q, J=11.7 Hz), 4.63 (1H, dt, J
=1.0, 4.8 Hz), 4.87 (1H, dd, J=1.0, 5.7 Hz), 4.89
(1H, d, J=5.7Hz), 6.89 (2H, d, J=8.7 Hz), 7.28 (2
H, d, J=8.7 Hz). Physical data of [15]':¹ H-NMR (400 MHz, CDCl₃) δ 1.38 (3H, s), 1.68 (3H,
s), 3.57-3.63 (2H,m), 3.81 (3H, s), 3.82 (3H, s),
4.43, 4.50 (2H, AB-q, J=11.7 Hz), 4.48 (1H, m),
4.75 (1H, dd, J=2.5, 6.6 Hz), 5.02 (1H, d, J=6.6 H
z), 6.88 (2H,d, J=8.7 Hz), 7.21 (2H, d, J=8.7 Hz). Physical data of a mixture of [15] and [15]': Anal. Calcd. for C₁₉H₂₃NO₇S: C, 55.73; H, 5.66; N,
3.42; S, 7.83. Found: C, 55.29; H, 5.78; N, 3.24;
S, 7.70.

【０１２８】

【実施例４】メチル ２−デオキシ−３，４−Ｏ−イソ
プロピリデン−２−イソチオシアナト−６−Ｏ−（４−
メトキシベンジル）−β−Ｄ−リボ−２−ヘキスロフラ
ノソネート（化合物[15]） 及び、その ２−エピマー
（化合物[15]'）（例示化合物番号２の化合物） 実施例３（ｄ）において、出発物質を実施例３（ｃ）で
得られた化合物[14]'(50 mg, 0.13 mmol)とした以外
は、実施例３（ｄ）と同様にして、目的化合物(38mg, 7
2%)を２つのエピマー（[15]及び[15]'）の３：１の混合
物として得た。

【０１２９】

【実施例５】メチル ２−デオキシ−３，４−Ｏ−イソ
プロピリデン−２−イソチオシアナト−６−Ｏ−（４−
メトキシベンジル）−β−Ｄ−リボ−２−ヘキスロフラ
ノソネート（化合物[15]） 及び、その ２−エピマー
（化合物[15]'）（例示化合物番号２の化合物） 実施例３（ｄ）において、出発物質を実施例３（ｃ）で
得られた化合物[14]及び[14]'の２：３の混合物(720 m
g, 1.87 mmol)とした以外は、実施例３（ｄ）と同様に
して、目的化合物(561mg, 74%)を２つのエピマー（[15]
及び[15]'）の７：１の混合物として得た。

【０１３０】化合物[15]及び[15]'はＤＭＦ中８０℃
で、約３：１の平衡がある。従って、化合物[15]及び[1
5]'のチオシアン酸カリウムとの反応性は異なり、化合
物[15]が化合物[15]'よりもチオシアン酸カリウムとの
反応性が高い。

【０１３１】

【参考例７】［５Ｓ−（５α，７α，８β，９β）］−
８，９−イソプロピリデンジオキシ−７−［（４−メト
キシベンジルオキシ）メチル］−６−オキサ−２−チオ
キソ−１，３−ジアザスピロ［４．４］ノナン−４−オ
ン ｛化合物[16]、５−Ｏ−（４−メトキシベンジル）
−２，３−Ｏ−イソプロピリデン−２’−チオヒダント
サイジン｝ 及び その２−エピマー（化合物[16]'） 実施例３（ｃ）で得られた化合物[15]及び[15]'の５：
１の混合物(130 mg, 0.317 mmol)のメタノール(3 ml)溶
液に、２Ｍアンモニアのメタノール溶液(1.0 ml, 2.0 m
mol)を加えた。室温で、２時間攪拌した後、反応混合物
を減圧下濃縮し、残渣を得た。これをシリカゲルカラム
クロマトグラフィー（展開溶媒；シクロヘキサン：酢酸
エチル＝３：２）で精製して、目的化合物を２つのエピ
マー([16]' 20 mg, 16 %, Rf = 0.474, ガム状;[16] 10
5 mg, 84 %, Rf = 0.382, ガム状)として得た。

【０１３２】Physical data of [16]': [α]_D ²⁴ -58.1 (c=0.32, CHCl₃). IR νmax (film): 3226, 2993-2838, 1768, 1613, 158
7, 1513, 1465 cm^-1.¹H-NMR (400 MHz, CDCl₃) δ 1.36
(3H, s), 1.59 (3H, s), 3.58-3.65 (2H,m), 3.80 (3
H, s), 4.41 (1H, m), 4.52 (2H, s), 4.77-4.81 (2H,
m), 6.88 (2H, d, J=8.8 Hz), 7.28 (2H, d, J=8.8 H
z), 7.40 (1H, bs, NH), 8.79 (1H, broad, NH). FAB MS (positive); m/z 395 [M+H]⁺. HRMS (FAB); calcd. for C₁₈H₂₃N₂O₆S: 395.1277; foun
d: 395.1274. Anal. Calcd. for C₁₈H₂₂N₂O₆S (394.4):
C, 54.81; H, 5.62; N, 7.10; S, 8.13. Found: C, 5
4.77; H, 5.60; N, 6.58; S, 7.83. Physical data of [16]: [α]_D ²⁴ -154.4 (c=1.34, CHCl₃). IR νmax (film): 3392, 3225, 2986-2838, 1781, 161
3, 1586, 1513, 1500 cm^-1.¹ H-NMR (400 MHz, CDCl₃) δ 1.30 (3H, s), 1.61 (3H,
s), 3.60 (1H, dd, J=1.8, 10.6 Hz), 3.75 (1H, dd,
J=1.8, 10.6 Hz), 3.84 (3H, s), 4.50, 4.56(2H, AB-
q, J=11.0 Hz), 4.61 (1H, m), 4.76 (1H, d, J=5.5 H
z), 4.80 (1H, dd, J=5.5 Hz), 6.96 (2H, d, J=8.8 H
z), 7.31 (2H, d, J=8.8 Hz), 7.80 (1H,s, NH), 8.35
(1H, broad, NH). FAB MS (positive); m/z 395 [M+H]⁺. HRMS (FAB); calcd. for C₁₈H₂₃N₂O₆S: 395.1277; foun
d: 395.1279. Anal. Calcd. for C₁₈H₂₂N₂O₆S (394.4):
C, 54.81; H, 5.62; N, 7.10; S, 8.13. Found: C, 5
4.54; H, 5.61; N, 7.01; S, 8.06.

【０１３３】

【参考例８】［５Ｓ−（５α，７α，８β，９β）］−
８，９−イソプロピリデンジオキシ−７−ヒドロキシメ
チル−６−オキサ−２−チオキソ−１，３−ジアザスピ
ロ［４．４］ノナ−４−オン （化合物[17]、２，３−
Ｏ−イソプロピリデン−２’−チオヒダントサイジン） 参考例７で得られた化合物[16](64 mg, 0.160 mmol)及
びチオフェノール(45 mg, 0.136 mmol)の塩化メチレン
(4 ml)溶液に、窒素雰囲気下、−７８℃で塩化スズ（Ｖ
Ｉ）(1M塩化メチレン溶液, 0.40 ml)を加え、この溶液
を３０分間攪拌した。反応混合物を酢酸エチルで稀釈
し、反応混合物全体を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、
飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。乾
燥剤をろ去し、ろ液を減圧下濃縮し、残渣を得た。これ
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；シ
クロヘキサン：酢酸エチル＝２：１、次いで１：２に変
更）で精製して、４−メトキシベンジル フェニル ス
ルフィド(25 mg)、化合物[16](4 mg, 6%回収)、未同定
物質(1 mg)及び目的化合物[17](＝[10], 36mg, 81%, 及
び未反応の[16]との混合物86%)を得た。

【０１３４】Physical data of [17]: mp: 158-161℃(from CHCl₃). [α]_D ²⁴ -174.9 (c=0.3, MeOH). HRMS (FAB); calcd. for C₁₀H₁₅N₂O₅S: 275.0702; foun
d: 275.0705.

【０１３５】

【参考例９】［５Ｒ−（５α，７β，８α，９α）］−
８，９−イソプロピリデンジオキシ−７−ヒドロキシメ
チル−６−オキサ−２−チオキソ−１，３−ジアザスピ
ロ［４．４］ノナ−４−オン （化合物[17]'、１−エ
ピ−２，３−Ｏ−イソプロピリデン−２’−チオヒダン
トサイジン） 実施例８において、出発物質を参考例７で得られた化合
物[16]'(32 mg, 0.080mmol)とした以外は、実施例８と
同様にして、化合物[16]'(4 mg, 13%回収)及び目的化合
物[17]'(17mg, 76%, 粉状, 及び未反応の[16]'との混合
物87%)を得た。

【０１３６】Physical data of [17]': [α]_D ²⁴ -43.6 (c=0.47, MeOH).¹ H-NMR (400 MHz, CDCl₃) δ 1.39 (3H, s), 1.71 (3H,
bd, J=13.2 Hz, changed to dd, J=2.9, 13.2 Hz, on
addition of D₂O), 3.87 (1H, dd, J=2.2, 13.2 Hz),
4.08 (1H, bs, OH), 4.51 (1H, m), 4.92 (1H, d, J=5.
9 Hz), 5.04 (1H, dd, J=1.5, 5.9 Hz), 7.31 (1H, s,
NH), 9.23 (1H, bs, NH). FAB MS: m/z 275 [M+H]⁺. HRMS (FAB); calcd. for C₁₀H₁₅N₂O₅S: 275.0702; foun
d: 275.0707.

【０１３７】

【参考例１０】［５Ｓ−（５α，７α，８β，９β）］
−８，９−ジオキシ−７−ヒドロキシメチル−６−オキ
サ−２−チオキソ−１，３−ジアザスピロ［４．４］ノ
ナ−４−オン （化合物[18]、２’−チオヒダントサイ
ジン） 及び その２−エピマー（化合物[18]'） 参考例８で得られた化合物[17] (18 mg, 0.066 mmol)の
トリフルオロ酢酸−水(1:3, 0.3 ml)溶液を−５℃で１
６時間攪拌した。この溶液を減圧下濃縮し、残渣（[α]
_D ²⁴ of [18]: -30 (c=0.1, MeOH)）を得た。これを分取
薄層シリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒；酢酸エ
チル：メタノール＝９：１）で精製して、化合物[18]'
(2.4mg, 16%, Rf=0.500)及び化合物[18](＝[11], 9.4 m
g, 61%, Rf=0.413)を得た。

【０１３８】

【参考例１１】［５Ｓ−（５α，７α，８β，９β）］
−８，９−ジオキシ−７−ヒドロキシメチル−６−オキ
サ−２−チオキソ−１，３−ジアザスピロ［４．４］ノ
ナ−４−オン （化合物[18]、２’−チオヒダントサイ
ジン） 参考例１０において、化合物[17]の量を(1 mgとし、ト
リフルオロ酢酸−水(1:3)の量を0.05 mlとした以外は参
考例１０に準じて、化合物[18]を定量的に得た。化合物
[18]'は得られなかった。

【０１３９】

【参考例１２】［５Ｒ−（５α，７β，８α，９α）］
−８，９−ジオキシ−７−ヒドロキシメチル−６−オキ
サ−２−チオキソ−１，３−ジアザスピロ［４．４］ノ
ナ−４−オン （化合物[18]'、１−エピ−２’−チオ
ヒダントサイジン） 参考例１０において、化合物[17]を参考例９において得
られた化合物[17]'(5.0 mg)とした以外は、参考例１０
に準じて、化合物[18]'(4 mg, 94%)を粉末として得た。

【０１４０】[α]_D ²⁴ +35 (c=0.4, MeOH). (lit. Hirom
i Sano et al. Tetrahedron, 1995,51, 12563-12572; +
36.8 (0.9, MeOH)).¹ H-NMR (400 MHz, CD₃OD) δ 3.60 (1H, dd, J=5.1, 1
2.4 Hz), 3.66 (1H, dd, J=4.0, 12.4 Hz), 4.13 (1H,
m), 4.18 (1H, dd, J=3.7, 4.4 Hz), 4.28 (1H,d, J=4.
4 Hz). FAB MS: m/z 235 [M+H]⁺.

【０１４１】

【発明の効果】本発明の新規な中間体は、優れた除草活
性及び植物成長抑制活性を有するヒダントサイジン及び
チオヒダントサイジンを、容易で、緩和で、しかも、収
率よく合成するために有用である。

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】一般式 【化１】 （式中、 Ｒ¹は、カルボキシ基の保護基を示し、 Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴は、同一又は異なって、水酸基の保護
   基を示すか、或は、Ｒ²及びＲ³、又は、Ｒ³及びＲ⁴が一
   緒になってジオールの保護基を示す。）で表わされる化
   合物。
2. 【請求項２】Ｒ¹が、低級アルキル基、アルケニル基、
   アルキニル基、ハロゲノ低級アルキル基、ヒドロキシ低
   級アルキル基、脂肪族アシル低級アルキル基、アラルキ
   ル基又はシリル基であり、 Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴が、同一又は異なって、脂肪族アシル
   基、芳香族アシル基、テトラヒドロピラニル若しくはテ
   トラヒドロチオピラニル基、テトラヒドロフラニル若し
   くはテトラヒドロチオフラニル基、シリル基、低級アル
   コキシメチル基、低級アルコキシ化低級アルコキシメチ
   ル基、ハロゲノ低級アルコキシメチル、低級アルコキシ
   化エチル基、ハロゲン化エチル基、アラルキル基、低級
   アルコキシカルボニル基、ハロゲン若しくはトリ低級ア
   ルキルシリル基で置換された低級アルコキシカルボニル
   基、アルケニルオキシカルボニル基又は１若しくは２個
   の低級アルコキシ若しくはニトロ基でアリール環が置換
   されていてもよいアラルキルオキシカルボニル基である
   か、或は、Ｒ²及びＲ³、又は、Ｒ³及びＲ⁴が一緒になっ
   て、低級アルキリデン基、アラルキリデン基、アルコキ
   シ低級アルキリデン基又はジシロキサン基である、請求
   項１に記載の化合物。
3. 【請求項３】Ｒ¹が、低級アルキル基、ハロゲノ低級ア
   ルキル基又はアラルキル基であり、 Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴が、同一又は異なって、シリル基、ア
   ラルキル基、脂肪族アシル基又は芳香族アシル基である
   か、或は、Ｒ²及びＲ³、又は、Ｒ³及びＲ⁴が一緒になっ
   て、低級アルキリデン基である、請求項１に記載の化合
   物。
4. 【請求項４】Ｒ¹が、メチル、エチル又はベンジル基で
   あり、 Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴が、同一又は異なって、ベンジル、ト
   リフェニルメチル、４−メトキシベンジル、４，４'−
   ジメトキシトリフェニルメチル、４，４'，４"−トリメ
   トキシトリフェニルメチル基であるか、或は、Ｒ²及び
   Ｒ³が一緒になって、イソプロピリデン基である、請求
   項１に記載の化合物。
5. 【請求項５】一般式 【化２】 （式中、 Ｒ¹は、カルボキシ基の保護基を示し、 Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴は、同一又は異なって、水酸基の保護
   基を示すか、或は、Ｒ²及びＲ³、又は、Ｒ³及びＲ⁴が一
   緒になってジオールの保護基を示す。）で表わされる請
   求項１に記載の化合物に、アンモニアのメタノール溶液
   を作用させて、 一般式 【化３】 （式中、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴は、上記と同義である。）で
   表わされる化合物を製造する方法。