JP3242994B2 - Ｄｃ−５２誘導体 - Google Patents
Ｄｃ−５２誘導体Info
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- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は抗腫瘍活性を有する新規
なＤＣ−５２誘導体に関する。
なＤＣ−５２誘導体に関する。
【０００２】
【従来の技術】ＤＣ−５２は特開昭５７−１７０１８９
号に開示されている下式で示される抗生物質である。
号に開示されている下式で示される抗生物質である。
【０００３】
【化２】
【０００４】ＤＣ−５２は各種細菌に抗菌活性を持つほ
か、リンホサイティック・リューケミアＰ−３８８など
に抗腫瘍活性を有する物質である。
か、リンホサイティック・リューケミアＰ−３８８など
に抗腫瘍活性を有する物質である。
【０００５】一方、抗腫瘍活性を有するＤＣ−５２の誘
導体として下式で示されるＤＸ−５２−１（特開昭５９
−２１００８６号）、
導体として下式で示されるＤＸ−５２−１（特開昭５９
−２１００８６号）、
【０００６】
【化３】
【０００７】あるいは下式で示されるＤＣ−５２誘導体
（特開昭６３−１８３５８３号）が知られている。
（特開昭６３−１８３５８３号）が知られている。
【０００８】
【化４】 （式中、Ｒ1は水素、アルカノイルオキシ等を表し、Ｒ2
はシアノまたはヒドロキシを表す）
はシアノまたはヒドロキシを表す）
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】他の抗腫瘍抗生物質と
同様、さらに優れた抗腫瘍活性を有するＤＣ−５２誘導
体の出現が望まれている。
同様、さらに優れた抗腫瘍活性を有するＤＣ−５２誘導
体の出現が望まれている。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明は優れた抗腫瘍活
性を有するＤＣ−５２誘導体またはその薬理上許容され
る塩を提供する。
性を有するＤＣ−５２誘導体またはその薬理上許容され
る塩を提供する。
【００１１】本発明のＤＣ−５２誘導体は以下の式
（Ｉ）で表される。
（Ｉ）で表される。
【化５】 （式中、Ｘはヒドロキシメチル、アルカノイルオキシメ
チルまたはホルミルを表し、Ｙはシアノまたはヒドロキ
シを表す）（以下、化合物（Ｉ）といい、他の式番号に
ついても同様）
チルまたはホルミルを表し、Ｙはシアノまたはヒドロキ
シを表す）（以下、化合物（Ｉ）といい、他の式番号に
ついても同様）
【００１２】式（Ｉ）のＸの定義中、アルカノイルオキ
シメチルにおけるアルカノイルは炭素数１〜１８の直鎖
状または分岐鎖状のものをいい、例えば、ホルミル、ア
セチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレ
リル、ｎ−ヘキサノイル、ｎ−ヘプタノイル、ｎ−オク
タノイル、ｎ−ノナノイル、ｎ−デカノイル、ｎ−ウン
デカノイル、ラウロイル、ミリストイル、パルミトイ
ル、ステアロイルなどを包含する。
シメチルにおけるアルカノイルは炭素数１〜１８の直鎖
状または分岐鎖状のものをいい、例えば、ホルミル、ア
セチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレ
リル、ｎ−ヘキサノイル、ｎ−ヘプタノイル、ｎ−オク
タノイル、ｎ−ノナノイル、ｎ−デカノイル、ｎ−ウン
デカノイル、ラウロイル、ミリストイル、パルミトイ
ル、ステアロイルなどを包含する。
【００１３】化合物（Ｉ）の薬理上許容される塩も化合
物（Ｉ）と同様に優れた抗腫瘍活性を有する。かかる塩
は薬理上許容される酸付加塩を包含する。薬理上許容さ
れる酸付加塩は薬理上許容される無機酸付加塩、例え
ば、塩酸塩、臭化水素酸塩、ヨウ化水素酸塩、硫酸塩、
リン酸塩、硝酸塩など、および薬理上許容される有機酸
付加塩、例えば、酢酸塩、安息香酸塩、マレイン酸塩、
フマル酸塩、コハク酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩、シュ
ウ酸塩、グリオキシル酸塩、アスパラギン酸塩、メタン
スルホン酸塩、エタンスルホン酸塩、プロパンスルホン
酸塩、メタンジスルホン酸塩、α,β−エタンジスルホ
ン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩などを包含する。
物（Ｉ）と同様に優れた抗腫瘍活性を有する。かかる塩
は薬理上許容される酸付加塩を包含する。薬理上許容さ
れる酸付加塩は薬理上許容される無機酸付加塩、例え
ば、塩酸塩、臭化水素酸塩、ヨウ化水素酸塩、硫酸塩、
リン酸塩、硝酸塩など、および薬理上許容される有機酸
付加塩、例えば、酢酸塩、安息香酸塩、マレイン酸塩、
フマル酸塩、コハク酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩、シュ
ウ酸塩、グリオキシル酸塩、アスパラギン酸塩、メタン
スルホン酸塩、エタンスルホン酸塩、プロパンスルホン
酸塩、メタンジスルホン酸塩、α,β−エタンジスルホ
ン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩などを包含する。
【００１４】次に、化合物（Ｉ）の製法について説明す
る。 （工程１）
る。 （工程１）
【化６】
【００１５】まず、ＤＸ−５２−１をメタノール中、酸
触媒の存在下でエステル化することにより化合物（II）
が得られる。酸触媒は塩酸、硫酸などの鉱酸、ＢＦ3−
Ｏ（Ｃ2Ｈ5）2などのルイス酸などを包含し、通常、Ｄ
Ｘ−５２−１の２〜２０当量使用する。反応は通常２０
〜６０℃で行い、３時間〜１日で終了する。化合物（I
I）は、また、ＤＸ−５２−１を含む不活性溶媒、例え
ば、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、ク
ロロホルム、塩化メチレンなどの単独もしくは組合せか
らなる溶液にジアゾメタンのエチルエーテル溶液を滴下
することによっても得られる。反応は０〜４０℃で窒素
ガスが発生しなくなるまで（通常、３０分〜３時間）行
う（なお、化合物（II）は特開昭５９−２１００８６号
に開示されている）。
触媒の存在下でエステル化することにより化合物（II）
が得られる。酸触媒は塩酸、硫酸などの鉱酸、ＢＦ3−
Ｏ（Ｃ2Ｈ5）2などのルイス酸などを包含し、通常、Ｄ
Ｘ−５２−１の２〜２０当量使用する。反応は通常２０
〜６０℃で行い、３時間〜１日で終了する。化合物（I
I）は、また、ＤＸ−５２−１を含む不活性溶媒、例え
ば、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、ク
ロロホルム、塩化メチレンなどの単独もしくは組合せか
らなる溶液にジアゾメタンのエチルエーテル溶液を滴下
することによっても得られる。反応は０〜４０℃で窒素
ガスが発生しなくなるまで（通常、３０分〜３時間）行
う（なお、化合物（II）は特開昭５９−２１００８６号
に開示されている）。
【００１６】（工程２）
【化７】
【００１７】次に、化合物（II）を不活性溶媒中、還元
剤、例えばリチウムアルミニウムハイドライドなどで処
理することにより、化合物（Ｉ）−ａが得られる。通
常、還元剤は化合物（II）に対して２当量〜大過剰使用
する。不活性溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジメ
トキシエタン、ジエチルエーテル、塩化メチレンなどが
用いられる。反応は通常０〜２０℃で行い、１０分〜２
時間で終了する。
剤、例えばリチウムアルミニウムハイドライドなどで処
理することにより、化合物（Ｉ）−ａが得られる。通
常、還元剤は化合物（II）に対して２当量〜大過剰使用
する。不活性溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジメ
トキシエタン、ジエチルエーテル、塩化メチレンなどが
用いられる。反応は通常０〜２０℃で行い、１０分〜２
時間で終了する。
【００１８】（工程３）
【化８】
【００１９】化合物（II）を不活性溶媒中、イミダゾー
ル等の塩基の存在下、シリル化剤、例えばtert−ブチル
ジメチルシリルクロライドなどと反応させることによ
り、化合物（III）が得られる。不活性溶媒としては、
Ｎ,Ｎ'−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシ
ド、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタンなどが用い
られる。通常、シリル化剤は、化合物（II）に対して１
〜１０当量使用する。反応は通常０〜３０℃で行い、３
０分〜４時間で終了する。
ル等の塩基の存在下、シリル化剤、例えばtert−ブチル
ジメチルシリルクロライドなどと反応させることによ
り、化合物（III）が得られる。不活性溶媒としては、
Ｎ,Ｎ'−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシ
ド、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタンなどが用い
られる。通常、シリル化剤は、化合物（II）に対して１
〜１０当量使用する。反応は通常０〜３０℃で行い、３
０分〜４時間で終了する。
【００２０】（工程４）
【化９】
【００２１】化合物（III）を不活性溶媒中、還元剤、
例えばリチウムアルミニウムハイドライドなどで処理す
ることにより、化合物（IV）が得られる。通常、還元剤
は化合物（III）に対して２当量〜大過剰使用する。不
活性溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジメトキシエ
タン、ジエチルエーテル、塩化メチレンなどが用いられ
る。反応は通常０〜２０℃で行い、１０分〜２時間で終
了する。
例えばリチウムアルミニウムハイドライドなどで処理す
ることにより、化合物（IV）が得られる。通常、還元剤
は化合物（III）に対して２当量〜大過剰使用する。不
活性溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジメトキシエ
タン、ジエチルエーテル、塩化メチレンなどが用いられ
る。反応は通常０〜２０℃で行い、１０分〜２時間で終
了する。
【００２２】（工程５）
【化１０】 （式中、Ｒはアルカノイルを表す）
【００２３】化合物（IV）と式（VI）： ＲＯＨ （ＶＩ） （式中、Ｒは前記定義に同じ）で表されるカルボン酸の
反応性誘導体とを、不活性溶媒中、塩基の存在下で反応
させることにより化合物（Ｖ）が得られる。
反応性誘導体とを、不活性溶媒中、塩基の存在下で反応
させることにより化合物（Ｖ）が得られる。
【００２４】反応性誘導体は酸クロライド、酸無水物
（Ｎ,Ｎ'−ジシクロヘキシルカルボジイミド等により生
成される酸無水物、市販の酸無水物等）、活性エステル
（ｐ−ニトロフェニルエステル、Ｎ−オキシコハク酸イ
ミドエステル等）、混合酸無水物（炭酸モノエチルエス
テル、炭酸モノイソブチルエステル等との混合酸無水
物）等を包含する。
（Ｎ,Ｎ'−ジシクロヘキシルカルボジイミド等により生
成される酸無水物、市販の酸無水物等）、活性エステル
（ｐ−ニトロフェニルエステル、Ｎ−オキシコハク酸イ
ミドエステル等）、混合酸無水物（炭酸モノエチルエス
テル、炭酸モノイソブチルエステル等との混合酸無水
物）等を包含する。
【００２５】反応性誘導体の使用量は化合物（IV）の１
〜２当量が適当である。塩基はピリジン、トリエチルア
ミン、ジメチルアミノピリジン等を包含し、通常、化合
物（IV）の１〜２当量使用する。不活性溶媒としては、
塩化メチレン、クロロホルム、トルエン、テトラヒドロ
フラン、ピリジン、アセトニトリル等が、単独あるいは
混合して用いられる。反応は通常０〜５０℃で行い、３
０分〜１日で終了する。
〜２当量が適当である。塩基はピリジン、トリエチルア
ミン、ジメチルアミノピリジン等を包含し、通常、化合
物（IV）の１〜２当量使用する。不活性溶媒としては、
塩化メチレン、クロロホルム、トルエン、テトラヒドロ
フラン、ピリジン、アセトニトリル等が、単独あるいは
混合して用いられる。反応は通常０〜５０℃で行い、３
０分〜１日で終了する。
【００２６】（工程６）
【化１１】
【００２７】化合物（ＩV)を不活性溶媒中、適当な酸化
剤で処理することにより化合物（VII）が得られる。酸
化剤としては、例えば、ジメチルスルホキシド−オキザ
リルクロライド活性体が挙げられる。通常、酸化剤は化
合物（IV）に対して１.２〜５当量用いられる。不活性
溶媒としては、塩化メチレン、クロロホルム、トルエ
ン、アセトニトリルなどが用いられる。反応は通常−７
０〜０℃で行い、３０分〜１時間で終了する。
剤で処理することにより化合物（VII）が得られる。酸
化剤としては、例えば、ジメチルスルホキシド−オキザ
リルクロライド活性体が挙げられる。通常、酸化剤は化
合物（IV）に対して１.２〜５当量用いられる。不活性
溶媒としては、塩化メチレン、クロロホルム、トルエ
ン、アセトニトリルなどが用いられる。反応は通常−７
０〜０℃で行い、３０分〜１時間で終了する。
【００２８】（工程７）
【化１２】 （式中、Ｒは前記定義に同じ）
【００２９】化合物（Ｖ）を不活性溶媒中、脱シリル化
剤、例えば、テトラブチルアンモニウムフルオライドな
どで処理することにより化合物（Ｉ）−ｂが得られる。
不活性溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジエチルエ
ーテルなどが用いられる。通常、脱シリル化剤は化合物
（Ｖ）に対して１〜１０当量用いられる。反応は通常０
〜５０℃で行い、３０分〜５時間で終了する。
剤、例えば、テトラブチルアンモニウムフルオライドな
どで処理することにより化合物（Ｉ）−ｂが得られる。
不活性溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジエチルエ
ーテルなどが用いられる。通常、脱シリル化剤は化合物
（Ｖ）に対して１〜１０当量用いられる。反応は通常０
〜５０℃で行い、３０分〜５時間で終了する。
【００３０】（工程８）
【化１３】
【００３１】化合物（VII）を不活性溶媒中、脱シリル
化剤、例えば、テトラブチルアンモニウムフルオライド
などで処理することにより化合物（Ｉ）−ｃが得られ
る。不活性溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジエチ
ルエーテルなどが用いられる。通常、脱シリル化剤は化
合物（VII）に対して１〜１０当量用いられる。反応は
通常０〜５０℃で行い、３０分〜５時間で終了する。
化剤、例えば、テトラブチルアンモニウムフルオライド
などで処理することにより化合物（Ｉ）−ｃが得られ
る。不活性溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジエチ
ルエーテルなどが用いられる。通常、脱シリル化剤は化
合物（VII）に対して１〜１０当量用いられる。反応は
通常０〜５０℃で行い、３０分〜５時間で終了する。
【００３２】Ｙがヒドロキシである化合物（Ｉ）［以
下、化合物（Ｉ）−ｄという］は、Ｙがシアノである化
合物（Ｉ）を、水または有機溶媒中、銀塩の存在下に保
持し、その後必要に応じ反応液を水または塩酸で処理す
ることにより得られる。有機溶媒はアセトニトリル、メ
タノール、エタノール、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン等を包含し、これらは単独あるいは混合して用いられ
る。銀塩は硝酸銀、塩素酸銀、過塩素酸銀、フッ化銀等
を包含する。銀塩の使用量は、通常、Ｙがシアノである
化合物（Ｉ）に対して１当量でよいが、反応時間の短
縮、化合物（Ｉ）−ｄの収率向上のために、３当量くら
いまで過剰に用いることができる。反応は通常０〜５０
℃で行い、３０分〜数時間で終了する。
下、化合物（Ｉ）−ｄという］は、Ｙがシアノである化
合物（Ｉ）を、水または有機溶媒中、銀塩の存在下に保
持し、その後必要に応じ反応液を水または塩酸で処理す
ることにより得られる。有機溶媒はアセトニトリル、メ
タノール、エタノール、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン等を包含し、これらは単独あるいは混合して用いられ
る。銀塩は硝酸銀、塩素酸銀、過塩素酸銀、フッ化銀等
を包含する。銀塩の使用量は、通常、Ｙがシアノである
化合物（Ｉ）に対して１当量でよいが、反応時間の短
縮、化合物（Ｉ）−ｄの収率向上のために、３当量くら
いまで過剰に用いることができる。反応は通常０〜５０
℃で行い、３０分〜数時間で終了する。
【００３３】また、化合物（Ｉ）−ｄは、Ｙがシアノで
ある化合物（Ｉ）を、水または含水の親水性溶媒中、塩
化水素の存在下に保持することによっても得られる。塩
酸は、通常、０.１〜１２規定で用いる。親水性溶媒は
メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン等を包含
する。反応は通常室温〜１００℃で行い、１時間〜１日
で終了する。
ある化合物（Ｉ）を、水または含水の親水性溶媒中、塩
化水素の存在下に保持することによっても得られる。塩
酸は、通常、０.１〜１２規定で用いる。親水性溶媒は
メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン等を包含
する。反応は通常室温〜１００℃で行い、１時間〜１日
で終了する。
【００３４】前記各反応において、目的生成物は反応液
を直接減圧濃縮するか、酢酸エチル、塩化メチレン、ク
ロロホルム、ｎ−ヘキサン、トルエン等の有機溶媒を単
独または混合した溶液による抽出後、抽出液を減圧濃縮
し、残渣をシリカゲルを用いるカラムクロマトグラフィ
ーに付して精製することができる。
を直接減圧濃縮するか、酢酸エチル、塩化メチレン、ク
ロロホルム、ｎ−ヘキサン、トルエン等の有機溶媒を単
独または混合した溶液による抽出後、抽出液を減圧濃縮
し、残渣をシリカゲルを用いるカラムクロマトグラフィ
ーに付して精製することができる。
【００３５】化合物（Ｉ）およびその薬理上許容される
塩は、ヒト子宮頸癌ヘラ（ＨｅＬａ）細胞に対して顕著
な細胞生育阻害活性を示し、ヒトを含めた哺乳動物の抗
腫瘍剤として有用である。
塩は、ヒト子宮頸癌ヘラ（ＨｅＬａ）細胞に対して顕著
な細胞生育阻害活性を示し、ヒトを含めた哺乳動物の抗
腫瘍剤として有用である。
【００３６】次に、化合物（Ｉ）の薬理活性を実験例に
より説明する。実験例 ＨｅＬａＳ3細胞生育阻害試験： １０％牛胎児血清、２ｍＭグルタミンを含むＭＥＭ培地
で３×１０4個／ｍｌに調製したＨｅＬａＳ3細胞を０.
１ｍｌずつ９６穴マイクロタイタープレートの各ウエル
に分注する。
より説明する。実験例 ＨｅＬａＳ3細胞生育阻害試験： １０％牛胎児血清、２ｍＭグルタミンを含むＭＥＭ培地
で３×１０4個／ｍｌに調製したＨｅＬａＳ3細胞を０.
１ｍｌずつ９６穴マイクロタイタープレートの各ウエル
に分注する。
【００３７】炭酸ガスインキュベーター内で３７℃にて
一晩培養後、培養液により適宜希釈した被験サンプルを
０.０５ｍｌずつ加える。
一晩培養後、培養液により適宜希釈した被験サンプルを
０.０５ｍｌずつ加える。
【００３８】炭酸ガスインキュベーター内で細胞を培養
後、培養上清を除去し、ＰＢＳ（−）（組成：ＮａＣｌ
８ｇ／ｌ、ＫＣｌ ０.２ｇ／ｌ、Ｎａ2ＨＰＯ4 １.
１５ｇ／ｌ、ＫＨ2ＰＯ4 ０.２ｇ／ｌ）で一回洗浄
後、新鮮な培地を０.１ｍｌずつ各ウエルに加え、炭酸
ガスインキュベーター内で３７℃にて７２時間培養す
る。培養上清を除去後、０.０２％ニュートラルレッド
を含む培養液を０.１ｍｌずつ各ウエルに加え、３７℃
にて１時間炭酸ガスインキュベーター内で培養して細胞
を染色する。培養上清を除去後、生理食塩水で１回洗浄
し、０.００１Ｎ ＨＣｌ／３０％エタノールで色素を
抽出後、マイクロプレートリーダーにより抽出液の５５
０ｎｍの吸収を測定する。無処理細胞と既知濃度の薬剤
で処理した細胞の吸収を比較することにより、細胞の増
殖を５０％阻害する薬剤濃度を算出し、それをＩＣ50と
する。
後、培養上清を除去し、ＰＢＳ（−）（組成：ＮａＣｌ
８ｇ／ｌ、ＫＣｌ ０.２ｇ／ｌ、Ｎａ2ＨＰＯ4 １.
１５ｇ／ｌ、ＫＨ2ＰＯ4 ０.２ｇ／ｌ）で一回洗浄
後、新鮮な培地を０.１ｍｌずつ各ウエルに加え、炭酸
ガスインキュベーター内で３７℃にて７２時間培養す
る。培養上清を除去後、０.０２％ニュートラルレッド
を含む培養液を０.１ｍｌずつ各ウエルに加え、３７℃
にて１時間炭酸ガスインキュベーター内で培養して細胞
を染色する。培養上清を除去後、生理食塩水で１回洗浄
し、０.００１Ｎ ＨＣｌ／３０％エタノールで色素を
抽出後、マイクロプレートリーダーにより抽出液の５５
０ｎｍの吸収を測定する。無処理細胞と既知濃度の薬剤
で処理した細胞の吸収を比較することにより、細胞の増
殖を５０％阻害する薬剤濃度を算出し、それをＩＣ50と
する。
【００３９】代表的化合物（Ｉ）のＨｅＬａＳ3細胞に
対する生育阻害活性を表１に示す。
対する生育阻害活性を表１に示す。
【表１】
【００４０】化合物（Ｉ）またはその薬理上許容される
塩は単独でまたは通常少なくとも１種の製剤上許容され
る補助剤と共に抗腫瘍組成物として用いることができ
る。例えば、化合物（Ｉ）またはその塩を生理食塩水や
グルコース、ラクトース、マンニトールなどの水溶液に
溶解して注射剤に適する医薬組成物とする。あるいは、
化合物（Ｉ）またはその塩を常法に従って凍結乾燥し、
これに塩化ナトリウムを加えることによって粉末注射剤
を調製する。本医薬組成物は必要に応じ、製剤分野で周
知の添加剤、例えば製剤上許容される塩などを含有させ
ることができる。
塩は単独でまたは通常少なくとも１種の製剤上許容され
る補助剤と共に抗腫瘍組成物として用いることができ
る。例えば、化合物（Ｉ）またはその塩を生理食塩水や
グルコース、ラクトース、マンニトールなどの水溶液に
溶解して注射剤に適する医薬組成物とする。あるいは、
化合物（Ｉ）またはその塩を常法に従って凍結乾燥し、
これに塩化ナトリウムを加えることによって粉末注射剤
を調製する。本医薬組成物は必要に応じ、製剤分野で周
知の添加剤、例えば製剤上許容される塩などを含有させ
ることができる。
【００４１】本組成物の投与量は患者の年令、症状など
によって異なるが、ヒトを含めた哺乳動物に対し化合物
（Ｉ）として０.００３〜１ｍｇ／ｋｇ／日投与する。
投与は、例えば１日１回（単回投与または連日投与）ま
たは間欠的に１週間に１〜３回、２、３週間に１回静脈
注射により投与する。望まれる場合は、同様の投与量、
投与方法による経口投与も可能である。経口投与形態は
錠剤、カプセル剤、粉末剤、顆粒剤、アンプル剤などを
包含し、これらは製剤分野で周知の医薬補助剤を含む。
また、望まれる場合は、同様の投与量、投与形態による
動脈内投与、腹腔内投与、胸腔内投与なども可能であ
る。
によって異なるが、ヒトを含めた哺乳動物に対し化合物
（Ｉ）として０.００３〜１ｍｇ／ｋｇ／日投与する。
投与は、例えば１日１回（単回投与または連日投与）ま
たは間欠的に１週間に１〜３回、２、３週間に１回静脈
注射により投与する。望まれる場合は、同様の投与量、
投与方法による経口投与も可能である。経口投与形態は
錠剤、カプセル剤、粉末剤、顆粒剤、アンプル剤などを
包含し、これらは製剤分野で周知の医薬補助剤を含む。
また、望まれる場合は、同様の投与量、投与形態による
動脈内投与、腹腔内投与、胸腔内投与なども可能であ
る。
【００４２】本抗腫瘍組成物はヒトを含めた哺乳動物の
白血病、胃癌、大腸癌、肺癌、乳癌、子宮癌などに効果
があると期待される。
白血病、胃癌、大腸癌、肺癌、乳癌、子宮癌などに効果
があると期待される。
【００４３】
【実施例】以下に参考例および実施例を挙げて本発明を
さらに詳しく説明する。なお、実施例１および２で合成
した代表的な本発明化合物（Ｉ）の構造および化合物番
号を表２に示す。
さらに詳しく説明する。なお、実施例１および２で合成
した代表的な本発明化合物（Ｉ）の構造および化合物番
号を表２に示す。
【表２】
【００４４】参考例１ 化合物IIの合成 ＤＸ−５２−１ ５.００ｇを無水メタノール１００ｍ
ｌに懸濁させ、三フッ化ホウ素エーテル錯体１０.４ｍ
ｌを加え、５０℃にて１４時間加熱撹拌した。反応混合
物を酢酸エチル５００ｍｌで希釈し、飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液２５０ｍｌで洗浄した。有機層を乾燥後、
減圧濃縮して粗生成物を得た。この粗生成物をクロロホ
ルム−ヘキサンにより結晶化して化合物IIの無色結晶
４.６６ｇを得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3；ｐｐｍ） ７.１５（１Ｈ，
ｍ）、６.７２（２Ｈ，ｄ）、４.２９（１Ｈ，ｄｄ）、
４.０５（１Ｈ，ｄ）、３.７９（３Ｈ，ｓ）、３.７３
（３Ｈ，ｓ）、３.８−３.６（２Ｈ，ｍ）、３.５−３.
３（２Ｈ，ｍ）、３.３−２.９（２Ｈ，ｍ）、２.８−
２.４（３Ｈ，ｍ）、２.３３（３Ｈ，ｓ）、２.００
（１Ｈ，ｄｄ） ＩＲ（ＣＨＣｌ3；ｃｍ-1） ３５００−３２００、３
０３０、２９６０、２３４０、１７３５、１５９５、１
４７８、１４６２、１４３９、１２７０、１２１０、１
０７９
ｌに懸濁させ、三フッ化ホウ素エーテル錯体１０.４ｍ
ｌを加え、５０℃にて１４時間加熱撹拌した。反応混合
物を酢酸エチル５００ｍｌで希釈し、飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液２５０ｍｌで洗浄した。有機層を乾燥後、
減圧濃縮して粗生成物を得た。この粗生成物をクロロホ
ルム−ヘキサンにより結晶化して化合物IIの無色結晶
４.６６ｇを得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3；ｐｐｍ） ７.１５（１Ｈ，
ｍ）、６.７２（２Ｈ，ｄ）、４.２９（１Ｈ，ｄｄ）、
４.０５（１Ｈ，ｄ）、３.７９（３Ｈ，ｓ）、３.７３
（３Ｈ，ｓ）、３.８−３.６（２Ｈ，ｍ）、３.５−３.
３（２Ｈ，ｍ）、３.３−２.９（２Ｈ，ｍ）、２.８−
２.４（３Ｈ，ｍ）、２.３３（３Ｈ，ｓ）、２.００
（１Ｈ，ｄｄ） ＩＲ（ＣＨＣｌ3；ｃｍ-1） ３５００−３２００、３
０３０、２９６０、２３４０、１７３５、１５９５、１
４７８、１４６２、１４３９、１２７０、１２１０、１
０７９
【００４５】参考例２ 化合物IIIの合成 化合物II １ｇを無水Ｎ,Ｎ'−ジメチルホルムアミド４
ｍｌに溶解し、室温で撹拌下、イミダゾール９８２ｍ
ｇ、tert−ブチルジメチルシリルクロライド１０８２ｍ
ｇを添加した。室温で２時間撹拌した後、反応液にクロ
ロホルム−水を加え、２度抽出を行った。有機層を２度
水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下で
留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィ
ー（ヘキサン：酢酸エチル＝３：１、シリカゲル２００
ｍｌ）により精製し、化合物IIIを１１８２ｍｇ得た。 ＩＲ（ＫＢｒ；ｃｍ-1） ２８６０、２８２０、１７２
０、１５９０、１４７０、１４３０、１３８０、１２５
５、１０９０、１０４０、９４０、８３０、７７０
ｍｌに溶解し、室温で撹拌下、イミダゾール９８２ｍ
ｇ、tert−ブチルジメチルシリルクロライド１０８２ｍ
ｇを添加した。室温で２時間撹拌した後、反応液にクロ
ロホルム−水を加え、２度抽出を行った。有機層を２度
水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下で
留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィ
ー（ヘキサン：酢酸エチル＝３：１、シリカゲル２００
ｍｌ）により精製し、化合物IIIを１１８２ｍｇ得た。 ＩＲ（ＫＢｒ；ｃｍ-1） ２８６０、２８２０、１７２
０、１５９０、１４７０、１４３０、１３８０、１２５
５、１０９０、１０４０、９４０、８３０、７７０
【００４６】参考例３ 化合物ＩＶの合成 化合物III ２５６ｍｇを無水テトラヒドロフラン６.８
ｍｌに溶解し、氷冷撹拌下、リチウムアルミニウムハイ
ドライド３４ｍｇを添加した。同温度で３０分撹拌後、
氷を加え、反応混合物をクロロホルムで２度抽出した。
クロロホルム層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を
留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィ
ー（クロロホルム：メタノール＝５０：１、シリカゲル
３０ｍｌ）により精製し、化合物ＩＶを１７０ｍｇ得
た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3−ＣＤ3ＯＤ；ｐｐｍ） ０.８
７（９Ｈ，ｓ）、１.７３−３.９３（１２Ｈ，ｍ）、
２.５３（３Ｈ，ｓ）、３.８３（３Ｈ，ｓ）、４.１７
−４.４３（２Ｈ，ｍ）、６.６３−７.２６（３Ｈ，
ｍ） ＩＲ（ＫＢｒ；ｃｍ-1） ３４３０、１５９０、１４７
０、１２５５、１０９５、１０７０、８３０、７７０
ｍｌに溶解し、氷冷撹拌下、リチウムアルミニウムハイ
ドライド３４ｍｇを添加した。同温度で３０分撹拌後、
氷を加え、反応混合物をクロロホルムで２度抽出した。
クロロホルム層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を
留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィ
ー（クロロホルム：メタノール＝５０：１、シリカゲル
３０ｍｌ）により精製し、化合物ＩＶを１７０ｍｇ得
た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3−ＣＤ3ＯＤ；ｐｐｍ） ０.８
７（９Ｈ，ｓ）、１.７３−３.９３（１２Ｈ，ｍ）、
２.５３（３Ｈ，ｓ）、３.８３（３Ｈ，ｓ）、４.１７
−４.４３（２Ｈ，ｍ）、６.６３−７.２６（３Ｈ，
ｍ） ＩＲ（ＫＢｒ；ｃｍ-1） ３４３０、１５９０、１４７
０、１２５５、１０９５、１０７０、８３０、７７０
【００４７】参考例４ 化合物ＶＩＩの合成 無水塩化メチレン８５０μｌにオキザリルクロライド３
５μｌを溶解後、−６０℃に冷却し、無水塩化メチレン
５５０μｌおよびジメチルスルホキシド２２５μｌから
なる溶液を、撹拌下に滴下した。１０分撹拌後、無水塩
化メチレン１.７ｍｌに溶解させた化合物ＩＶ１１０ｍ
ｇを加えた。−４８℃で１５分撹拌後、トリエチルアミ
ン２４０μｌを加え、その後室温に戻して、反応液に水
１ｍｌを加えた。反応混合物をクロロホルムで抽出後、
クロロホルム層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を
留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィ
ー（ヘキサン：酢酸エチル＝２：１、シリカゲル２０ｍ
ｌ）により精製し、化合物ＶＩＩを９３ｍｇ得た。 ＩＲ（ＫＢｒ；ｃｍ-1） ２８８０、２８７０、２８２
０、１７１０、１５９０、１４７０、１２６０、１０９
０、８３０、８１０、７８０
５μｌを溶解後、−６０℃に冷却し、無水塩化メチレン
５５０μｌおよびジメチルスルホキシド２２５μｌから
なる溶液を、撹拌下に滴下した。１０分撹拌後、無水塩
化メチレン１.７ｍｌに溶解させた化合物ＩＶ１１０ｍ
ｇを加えた。−４８℃で１５分撹拌後、トリエチルアミ
ン２４０μｌを加え、その後室温に戻して、反応液に水
１ｍｌを加えた。反応混合物をクロロホルムで抽出後、
クロロホルム層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を
留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィ
ー（ヘキサン：酢酸エチル＝２：１、シリカゲル２０ｍ
ｌ）により精製し、化合物ＶＩＩを９３ｍｇ得た。 ＩＲ（ＫＢｒ；ｃｍ-1） ２８８０、２８７０、２８２
０、１７１０、１５９０、１４７０、１２６０、１０９
０、８３０、８１０、７８０
【００４８】実施例１ 化合物１の合成 参考例１で得られた化合物II ２２３ｍｇを無水テトラ
ヒドロフラン６ｍｌに溶解し、氷冷撹拌下、リチウムア
ルミニウムハイドライド４６ｍｇを添加した。同温度で
１時間撹拌後、氷を加え、反応混合物をクロロホルムで
２度抽出した。クロロホルム層を無水硫酸ナトリウムで
乾燥後、溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルク
ロマトグラフィー（クロロホルム：メタノール＝２０：
１、シリカゲル５０ｍｌ）により精製し、化合物１を１
２９ｍｇ得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3−ＣＤ3ＯＤ；ｐｐｍ） １.７
３−３.８０（１２Ｈ，ｍ）、２.５３（３Ｈ，ｓ）、
４.１２−４.３０（２Ｈ，ｍ）、３.８３（３Ｈ，
ｓ）、６.６６−７.２６（３Ｈ，ｍ） ＩＲ（ＫＢｒ；ｃｍ-1） ３４５０、１５８５、１４７
０、１４６０、１２６０、１０７０
ヒドロフラン６ｍｌに溶解し、氷冷撹拌下、リチウムア
ルミニウムハイドライド４６ｍｇを添加した。同温度で
１時間撹拌後、氷を加え、反応混合物をクロロホルムで
２度抽出した。クロロホルム層を無水硫酸ナトリウムで
乾燥後、溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルク
ロマトグラフィー（クロロホルム：メタノール＝２０：
１、シリカゲル５０ｍｌ）により精製し、化合物１を１
２９ｍｇ得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3−ＣＤ3ＯＤ；ｐｐｍ） １.７
３−３.８０（１２Ｈ，ｍ）、２.５３（３Ｈ，ｓ）、
４.１２−４.３０（２Ｈ，ｍ）、３.８３（３Ｈ，
ｓ）、６.６６−７.２６（３Ｈ，ｍ） ＩＲ（ＫＢｒ；ｃｍ-1） ３４５０、１５８５、１４７
０、１４６０、１２６０、１０７０
【００４９】実施例２ 化合物２の合成 参考例４で得られた化合物ＶＩＩ １３２ｍｇを無水テ
トラヒドロフラン２.６ｍｌに溶解し、室温で撹拌下、
１Ｍテトラブチルアンモニウムフルオライドのテトラヒ
ドロフラン溶液０.３ｍｌを加えた。１時間３０分撹拌
後、反応混合物をクロロホルムで抽出した。クロロホル
ム層を水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を留
去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー
（ヘキサン：酢酸エチル＝１：１、シリカゲル２０ｍ
ｌ）により精製し、化合物２を７５ｍｇ得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3；ｐｐｍ） １.６７−２.１０
（１Ｈ，ｍ）、２.１６（３Ｈ，ｓ）、２.３０−３.５
３（７Ｈ，ｍ）、３.５６−３.７３（２Ｈ，ｍ）、３.
８０（３Ｈ，ｓ）、４.０５（１Ｈ，ｄ）、４.２６（１
Ｈ，ｔ）、６.６０−７.２０（３Ｈ，ｍ）、９.８０
（１Ｈ，ｓ） ＩＲ（ＫＢｒ；ｃｍ-1） ３４２０、１７１５、１５９
０、１４７０、１２６０、１０７０
トラヒドロフラン２.６ｍｌに溶解し、室温で撹拌下、
１Ｍテトラブチルアンモニウムフルオライドのテトラヒ
ドロフラン溶液０.３ｍｌを加えた。１時間３０分撹拌
後、反応混合物をクロロホルムで抽出した。クロロホル
ム層を水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を留
去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー
（ヘキサン：酢酸エチル＝１：１、シリカゲル２０ｍ
ｌ）により精製し、化合物２を７５ｍｇ得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3；ｐｐｍ） １.６７−２.１０
（１Ｈ，ｍ）、２.１６（３Ｈ，ｓ）、２.３０−３.５
３（７Ｈ，ｍ）、３.５６−３.７３（２Ｈ，ｍ）、３.
８０（３Ｈ，ｓ）、４.０５（１Ｈ，ｄ）、４.２６（１
Ｈ，ｔ）、６.６０−７.２０（３Ｈ，ｍ）、９.８０
（１Ｈ，ｓ） ＩＲ（ＫＢｒ；ｃｍ-1） ３４２０、１７１５、１５９
０、１４７０、１２６０、１０７０
【００５０】
【発明の効果】本発明により、優れた抗腫瘍活性を有す
るＤＣ−５２誘導体が提供される。
るＤＣ−５２誘導体が提供される。
Claims (3)
- 【請求項１】 式（Ｉ）： 【化１】 （式中、Ｘはヒドロキシメチルまたはホルミルを表し、
Ｙはシアノまたはヒドロキシを表す） で表されるＤＣ−５２誘導体またはその薬理上許容され
る塩。 - 【請求項２】 請求項１記載のＤＣ−５２誘導体または
その薬理上許容される塩を含有する医薬。 - 【請求項３】 請求項１記載のＤＣ−５２誘導体または
その薬理上許容される塩を含有する抗腫瘍剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17262592A JP3242994B2 (ja) | 1992-06-30 | 1992-06-30 | Ｄｃ−５２誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17262592A JP3242994B2 (ja) | 1992-06-30 | 1992-06-30 | Ｄｃ−５２誘導体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH069632A JPH069632A (ja) | 1994-01-18 |
| JP3242994B2 true JP3242994B2 (ja) | 2001-12-25 |
Family
ID=15945350
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17262592A Expired - Fee Related JP3242994B2 (ja) | 1992-06-30 | 1992-06-30 | Ｄｃ−５２誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3242994B2 (ja) |
-
1992
- 1992-06-30 JP JP17262592A patent/JP3242994B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH069632A (ja) | 1994-01-18 |
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|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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