JPH02207094A - 新規化合物、その製法及びそれを含む医薬組成物 - Google Patents
新規化合物、その製法及びそれを含む医薬組成物Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07H—SUGARS; DERIVATIVES THEREOF; NUCLEOSIDES; NUCLEOTIDES; NUCLEIC ACIDS
- C07H15/00—Compounds containing hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals directly attached to hetero atoms of saccharide radicals
- C07H15/02—Acyclic radicals, not substituted by cyclic structures
- C07H15/04—Acyclic radicals, not substituted by cyclic structures attached to an oxygen atom of the saccharide radical
- C07H15/08—Polyoxyalkylene derivatives
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07H—SUGARS; DERIVATIVES THEREOF; NUCLEOSIDES; NUCLEOTIDES; NUCLEIC ACIDS
- C07H17/00—Compounds containing heterocyclic radicals directly attached to hetero atoms of saccharide radicals
- C07H17/04—Heterocyclic radicals containing only oxygen as ring hetero atoms
- C07H17/08—Hetero rings containing eight or more ring members, e.g. erythromycins
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P31/00—Antiinfectives, i.e. antibiotics, antiseptics, chemotherapeutics
- A61P31/04—Antibacterial agents
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Saccharide Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は新規化合物、それらの製造方法、並びにヒトを
含めた動物における真菌感染症を治療するためのそれら
の使用に関する。
含めた動物における真菌感染症を治療するためのそれら
の使用に関する。
ストレプトミセス・ノドスス(Streptomyce
snodosus)によって産生されるポリエンマクロ
ライド系抗生物質のアンホテリシン(amphoter
icin)Bは真菌感染症の治療に広範囲に用いられて
いる。
snodosus)によって産生されるポリエンマクロ
ライド系抗生物質のアンホテリシン(amphoter
icin)Bは真菌感染症の治療に広範囲に用いられて
いる。
アンホテリシンBはその分子構造および絶対配置がXa
結晶解析によって明確に定められた唯一の複合ポリエン
マクロライドである。アンホテリシンBは式(A): で表される。16位に低級アルキルエステル基を有する
アンホテリシンBの誘導体および糖成分の第一アミン基
によシ形成される酸付加塩が、アンホテリシンBよりも
毒性の少ない抗真菌薬の必要性を満たすために製造され
た。この種の誘導体は例えば欧州特許第0010297
号(Schering)および米国特許第423599
3号(Squi bb)K開示されている。
結晶解析によって明確に定められた唯一の複合ポリエン
マクロライドである。アンホテリシンBは式(A): で表される。16位に低級アルキルエステル基を有する
アンホテリシンBの誘導体および糖成分の第一アミン基
によシ形成される酸付加塩が、アンホテリシンBよりも
毒性の少ない抗真菌薬の必要性を満たすために製造され
た。この種の誘導体は例えば欧州特許第0010297
号(Schering)および米国特許第423599
3号(Squi bb)K開示されている。
16位のカルボキシル基がよシ低い散化状態の官能基で
置換された新規なアンホテリシンB誘導体が製造され、
この誘導体は抗真菌活性を示し、抗真麺薬としての利用
可能性を有することが見出された。
置換された新規なアンホテリシンB誘導体が製造され、
この誘導体は抗真菌活性を示し、抗真麺薬としての利用
可能性を有することが見出された。
従って、本発明は式(I):
〔式中、R1は基−X−Y(ここでXはカルボニル基で
あり、Yは水素原子、C1mアルキル、C2−8フルケ
ニル、または場合により置換されたアリールもしくはヘ
テロアリールである)であり;R鵞はヒドロキシまたは
Ct−sアルコキシであり;R1は水素原子またはアミ
ン保饅基であり;そしてR4はそれぞれ水素原子である
〕 で表される化合物またはその薬学的に許容しうる塩を提
供する。
あり、Yは水素原子、C1mアルキル、C2−8フルケ
ニル、または場合により置換されたアリールもしくはヘ
テロアリールである)であり;R鵞はヒドロキシまたは
Ct−sアルコキシであり;R1は水素原子またはアミ
ン保饅基であり;そしてR4はそれぞれ水素原子である
〕 で表される化合物またはその薬学的に許容しうる塩を提
供する。
特に提定しない限シ、アルキルまたはアルケニル基は好
ましくは1〜6個の炭素原子、より好ましくは1〜4個
の炭素原子を有し、直鎖または分枝鎖でありうる。
ましくは1〜6個の炭素原子、より好ましくは1〜4個
の炭素原子を有し、直鎖または分枝鎖でありうる。
本明細書中で用いる場合、′アリール”なる用語はフェ
ニルおよびナフチルのような炭素環式基を含み、好まし
くはフェニルを意味する。°ヘテロアリール2なる用語
は5′または6員の単環式へテロアリールおよび9また
は10員の二環式ヘテロアリールを含む。さらに、5ま
たは6員単環式へテロアリールおよび9または10員二
環式へテロアリールは好ましくは窒素、酸素および硫黄
から選択されるヘテロ原子を1個または2個含み、ヘテ
ロ原子が2個以上存在する場合、それらは同一であって
も異なっていてもよい、、9または10員二環式へテロ
アリールである場合、その二環は好ましくは1個のへテ
ロ原子を含む5または6員環と縮合される。
ニルおよびナフチルのような炭素環式基を含み、好まし
くはフェニルを意味する。°ヘテロアリール2なる用語
は5′または6員の単環式へテロアリールおよび9また
は10員の二環式ヘテロアリールを含む。さらに、5ま
たは6員単環式へテロアリールおよび9または10員二
環式へテロアリールは好ましくは窒素、酸素および硫黄
から選択されるヘテロ原子を1個または2個含み、ヘテ
ロ原子が2個以上存在する場合、それらは同一であって
も異なっていてもよい、、9または10員二環式へテロ
アリールである場合、その二環は好ましくは1個のへテ
ロ原子を含む5または6員環と縮合される。
アリールおよびヘテロアリール基のための任意の置換基
はOH,Ct−@アルキル、C1−6フルコキシ、ハロ
ゲン、および場合によ#)C1−mアルキルで置換され
たアミノから選択きれる。
はOH,Ct−@アルキル、C1−6フルコキシ、ハロ
ゲン、および場合によ#)C1−mアルキルで置換され
たアミノから選択きれる。
R,の例にはホルミルおよびアセチルのよりなCt−S
アルカノイル、ペント−4−エノイルのよ’)fkcz
−aアルケノイル、ベンゾイルのようなアロイル、およ
び2−ピロリルカルボニルのようなヘテロアロイルが含
まれる。
アルカノイル、ペント−4−エノイルのよ’)fkcz
−aアルケノイル、ベンゾイルのようなアロイル、およ
び2−ピロリルカルボニルのようなヘテロアロイルが含
まれる。
R2の例にはヒドロキシおよびメトキシが含まれ、好マ
しくはヒドロキシである。
しくはヒドロキシである。
R8の例には水素原子、アセチル、トリフルオロアセチ
ル、9〜フルオレニルメトキシカルボニル、)’Jジク
ロロトキシカルボニル、2−メチルスルホニルエトキシ
カルボニル、および2−1メチルシリルエトキシカルボ
二ルが含まれる。好ましくはR3は水素原子、アセチル
、トリフルオロアセチルまたは9−フルオレニルメトキ
シカルボニルである。よシ好ましくはR5は水素原子で
ある。
ル、9〜フルオレニルメトキシカルボニル、)’Jジク
ロロトキシカルボニル、2−メチルスルホニルエトキシ
カルボニル、および2−1メチルシリルエトキシカルボ
二ルが含まれる。好ましくはR3は水素原子、アセチル
、トリフルオロアセチルまたは9−フルオレニルメトキ
シカルボニルである。よシ好ましくはR5は水素原子で
ある。
さらに、R3がアミン保護基である化合物の範囲には別
のアミノ基誘導体が含まれ、と9わけN−D −!jシ
ルおよびN−D−オルニチル誘導体のような塩基性置換
基を有するアシル誘導体、グアニジン誘導体、並び・に
N−グリコジル誘導体が含まれる。これらの別のアミノ
基誘導体の製法は欧州特許第0010297号(S’c
hering)、欧州特許第0031722号(Dum
ex)および米国特許第4195172号に開示されて
いる。
のアミノ基誘導体が含まれ、と9わけN−D −!jシ
ルおよびN−D−オルニチル誘導体のような塩基性置換
基を有するアシル誘導体、グアニジン誘導体、並び・に
N−グリコジル誘導体が含まれる。これらの別のアミノ
基誘導体の製法は欧州特許第0010297号(S’c
hering)、欧州特許第0031722号(Dum
ex)および米国特許第4195172号に開示されて
いる。
1薬学的に許容しうる塩”という表現は溶媒和物と水和
物を含むものである。従って、式(1)の化合物または
その薬学的に許容しうる塩が溶媒和物もしくは水和物を
形成する場合、これらもまた本発明の一面を構成する。
物を含むものである。従って、式(1)の化合物または
その薬学的に許容しうる塩が溶媒和物もしくは水和物を
形成する場合、これらもまた本発明の一面を構成する。
R3が水素原子である式(I)の化合物は、通常の薬学
的に許容しうる酸、例えば塩酸、臭化水素酸、リン酸、
酢酸、フマル酸、サリチル酸、クエン酸、乳酸、マンデ
ル酸、酒石酸、蓚酸、メタンスルホン酸、アスパラギン
酸およびアスコルビン酸トの酸付加塩を形成することが
できる。また、本発明は四級塩をも包含する。
的に許容しうる酸、例えば塩酸、臭化水素酸、リン酸、
酢酸、フマル酸、サリチル酸、クエン酸、乳酸、マンデ
ル酸、酒石酸、蓚酸、メタンスルホン酸、アスパラギン
酸およびアスコルビン酸トの酸付加塩を形成することが
できる。また、本発明は四級塩をも包含する。
本発明はさらに式(1)の化合物の製造方法を央・共し
、その方法は式(!D= 〔式中、RlIは活性化されたカルボン酸銹導体であF
) ; Rx’はC1−8アルコキシであり且つR1は
水素原子であるか、またはRlIおよびRIIは一緒に
なって単結合を形成し;R3′はアミン保護基であυ;
そしてR4’はそれぞれシリル保護基である〕の化合物
を、(&)有機金属試薬Y−M(ここでYはC1−5ア
ルキルs et−1アルケニル、または場合によりft
換されたアリールもしくはヘテロアリールであり、Mは
金属残基である)と反応させて式(): 〔式中、RlIは基−X−Y(ここでXはカルボニル基
であり、YはCl−5アルキルs et−sアルケニル
、または場合によジ置換されたアリールもしくはヘテロ
アリールである)でありp R2’ s B、I、R,
/およびR4/は式Ql) iこおいて定義した通りで
ある〕の化合物を得る;か、あるいは(b)還元剤と反
応源せてR11が−CHz OHであり且つR,’ 、
H,#、R、/およびR4′が式(I[)において定義
した通りである式(瓜)の化合物を形成し、次にR1’
CHtOH基を酸化してR,rが−CH0であり且つ
R1’、R,’R3′およびR4’が式(II)におい
て定義した通りである式(1)の化合物を得;その後、
場合により又は必要に応じて、適当な順序でs R1’
をR1へ転換し、RlIが水素原子である場合はRlI
をR2へ転換し、あるいはR3′およびR8′が一緒に
なって単結合を形成する場合はR,/をR鵞へ及びR1
1を水素原子へ転換し、R3′をR3へ転換し、R4′
シリル保護基を除去し、R1を相互転換し、R1を相互
転換し、そして薬学的に許容しうる塩を形成することか
ら成っている。
、その方法は式(!D= 〔式中、RlIは活性化されたカルボン酸銹導体であF
) ; Rx’はC1−8アルコキシであり且つR1は
水素原子であるか、またはRlIおよびRIIは一緒に
なって単結合を形成し;R3′はアミン保護基であυ;
そしてR4’はそれぞれシリル保護基である〕の化合物
を、(&)有機金属試薬Y−M(ここでYはC1−5ア
ルキルs et−1アルケニル、または場合によりft
換されたアリールもしくはヘテロアリールであり、Mは
金属残基である)と反応させて式(): 〔式中、RlIは基−X−Y(ここでXはカルボニル基
であり、YはCl−5アルキルs et−sアルケニル
、または場合によジ置換されたアリールもしくはヘテロ
アリールである)でありp R2’ s B、I、R,
/およびR4/は式Ql) iこおいて定義した通りで
ある〕の化合物を得る;か、あるいは(b)還元剤と反
応源せてR11が−CHz OHであり且つR,’ 、
H,#、R、/およびR4′が式(I[)において定義
した通りである式(瓜)の化合物を形成し、次にR1’
CHtOH基を酸化してR,rが−CH0であり且つ
R1’、R,’R3′およびR4’が式(II)におい
て定義した通りである式(1)の化合物を得;その後、
場合により又は必要に応じて、適当な順序でs R1’
をR1へ転換し、RlIが水素原子である場合はRlI
をR2へ転換し、あるいはR3′およびR8′が一緒に
なって単結合を形成する場合はR,/をR鵞へ及びR1
1を水素原子へ転換し、R3′をR3へ転換し、R4′
シリル保護基を除去し、R1を相互転換し、R1を相互
転換し、そして薬学的に許容しうる塩を形成することか
ら成っている。
方法(a)または(b)に関して本明細書中で用いる1
活性化されたカルボン酸誘導体“という表現は、その特
定方法において指定された変換を受けることが可能な活
性形態へ化学反応によって修飾されたカルボン酸を含む
ことが理解されるであろう。
活性化されたカルボン酸誘導体“という表現は、その特
定方法において指定された変換を受けることが可能な活
性形態へ化学反応によって修飾されたカルボン酸を含む
ことが理解されるであろう。
“活性化されたカルボン酸誘導体”なる用語にはアルキ
ルエステル、アリールエステル、ヘテロアリールエステ
ル、チオエステル、酸ハロゲン化物、酸無水物、および
アミド(例えばN−メチル−N−メトキシアミド)が含
まれる。
ルエステル、アリールエステル、ヘテロアリールエステ
ル、チオエステル、酸ハロゲン化物、酸無水物、および
アミド(例えばN−メチル−N−メトキシアミド)が含
まれる。
有機金属試薬または還元剤との反応のために活性化され
たR1/カルボン酸誘導体は適当にはチオエステルであ
り、好ましくはピリジルチオエステルのようなヘテロア
リールチオエステルである。
たR1/カルボン酸誘導体は適当にはチオエステルであ
り、好ましくはピリジルチオエステルのようなヘテロア
リールチオエステルである。
有利には、RlIは2−ピリジルチオエステルである。
有機金属試薬または還元剤との反応は、R2′がc、−
I+アルコキシ(好ましくはメトキシまたはエトキシ)
であ夛且つRt’が水素原子である式(IDの化合物を
用いるか、あるいはRlIおよびR2′が一緒になって
単結合を形成する式(IN)の化合物を用いるか、もし
くはこれらの混合物を用いて実施される。有利には、R
,’とR1が一緒になって単結合を形成する式(IN)
の化合物が用いられる。
I+アルコキシ(好ましくはメトキシまたはエトキシ)
であ夛且つRt’が水素原子である式(IDの化合物を
用いるか、あるいはRlIおよびR2′が一緒になって
単結合を形成する式(IN)の化合物を用いるか、もし
くはこれらの混合物を用いて実施される。有利には、R
,’とR1が一緒になって単結合を形成する式(IN)
の化合物が用いられる。
R3’アミン保護基はそれらが有機金属試薬、還元剤ま
たは酸化剤と不利に反応しないように選折される。好ま
しくは、R3′アミン保護基は方法(a)または(b)
において指定された変換のあとで容易に除去されて、R
3が水素原子である式(1)の化合物を与えるものであ
る。Rs’の例にはアセチル、トリフルオロアセチル、
9−フルオレニルメトキシカルボニル、トリクロロエト
キシカルボニル、2−メチルスルホニルエトキシカルポ
ニル、および2−トリメチルシリルエトキシカルボニル
が含まれる。
たは酸化剤と不利に反応しないように選折される。好ま
しくは、R3′アミン保護基は方法(a)または(b)
において指定された変換のあとで容易に除去されて、R
3が水素原子である式(1)の化合物を与えるものであ
る。Rs’の例にはアセチル、トリフルオロアセチル、
9−フルオレニルメトキシカルボニル、トリクロロエト
キシカルボニル、2−メチルスルホニルエトキシカルポ
ニル、および2−トリメチルシリルエトキシカルボニル
が含まれる。
方法(a) VCおいて、R3′は適当にはアセチルま
たはトリフルオロアセチルでちゃ、好ましくはトリフル
オロアセチルである。
たはトリフルオロアセチルでちゃ、好ましくはトリフル
オロアセチルである。
方法(b)において、R3,’は適当にはアセチルまた
は9−フルオレニルメトキシカルボニルであり、好tし
くは9−フルオレニルメトキシカルボニルである。
は9−フルオレニルメトキシカルボニルであり、好tし
くは9−フルオレニルメトキシカルボニルである。
適当なR4/シリル保護基はトリメチルシリル、トリエ
チルシリルおよびt−ブチルジメチルシリルである。好
ましくは、R4′はトリエチルシリルである。
チルシリルおよびt−ブチルジメチルシリルである。好
ましくは、R4′はトリエチルシリルである。
方法(a)に従って式(n)の化合物と反応させる有機
金属試薬(Y−M)には、金属残基(M)の金属元素が
マグネシウム、リチウム、鍋、亜鉛、マンシウムすなわ
ちグリニヤール試薬でアリ、例えば臭化メチルマグネシ
ウム讐(−A化フェニルマグネシウムまたは臭化ピロリ
ルマグネシウムのような臭化またはヨウ化有機マグネシ
ウムである。
金属試薬(Y−M)には、金属残基(M)の金属元素が
マグネシウム、リチウム、鍋、亜鉛、マンシウムすなわ
ちグリニヤール試薬でアリ、例えば臭化メチルマグネシ
ウム讐(−A化フェニルマグネシウムまたは臭化ピロリ
ルマグネシウムのような臭化またはヨウ化有機マグネシ
ウムである。
有機金属試薬との反応はこの種の反応のために通常用い
られる条件下で、例えば不活性雰囲気下に低温で無水の
試薬類を用いて行われる。
られる条件下で、例えば不活性雰囲気下に低温で無水の
試薬類を用いて行われる。
式(損の化合物は好ましくはテトラヒドロフランまたは
ジエチルエーテルのような不活性溶媒中で過剰のグリニ
ヤール試薬(例えば2〜30モル当量、有利には5〜1
5モル当量)と反応させる。
ジエチルエーテルのような不活性溶媒中で過剰のグリニ
ヤール試薬(例えば2〜30モル当量、有利には5〜1
5モル当量)と反応させる。
この反応は一般に一78℃ないし室温(好ましくは一2
0℃ないし室温)の範囲の低温において行われる。反応
時間は0.1〜6時間の範囲で変化しうるが1、一般に
は0.1〜1時間の反応時間で十分である。
0℃ないし室温)の範囲の低温において行われる。反応
時間は0.1〜6時間の範囲で変化しうるが1、一般に
は0.1〜1時間の反応時間で十分である。
グリニヤール試薬がハロゲン化アルケニルマグネシウム
であり且つ過剰モル量で存在する場合、二重結合に別の
グリニヤール試薬が付加して鎖伸長アルケニル部分をも
たらすことが理解されるであろう。
であり且つ過剰モル量で存在する場合、二重結合に別の
グリニヤール試薬が付加して鎖伸長アルケニル部分をも
たらすことが理解されるであろう。
方法(b)に従って式(II)の化合物と反応きせるた
めの適当な還元剤は水素化ホウ素すチクムである。
めの適当な還元剤は水素化ホウ素すチクムである。
この反応はジエチルエーテルまたはテトラヒドロフラン
(好ましくはジエチルエーテル)のような不活性溶媒中
で行われる。
(好ましくはジエチルエーテル)のような不活性溶媒中
で行われる。
生成するR1’−CThOH基の酸化はジクロロメタン
中の無水トリフルオロ酢酸、ジメチルスルホキシド、ト
リエチルアミンおよび1.1.3.3−テトラメチル原
票の混合物のような改変されたスワーン(Swern)
酸化条件を用いて実施される。
中の無水トリフルオロ酢酸、ジメチルスルホキシド、ト
リエチルアミンおよび1.1.3.3−テトラメチル原
票の混合物のような改変されたスワーン(Swern)
酸化条件を用いて実施される。
R,/がCt−sアルコキシであり且つR,tが水素原
子である式(IIりの化合物において、R2′はR4′
シリル保鯵基の除去後に、溶媒として水または水とテト
ラヒドロフランの混合物(好ましくは、10〜50チ水
−テトラヒドロフランの混合溶媒)を用いて、酸触媒条
件下でR2ヒドロキシ基に転換される。
子である式(IIりの化合物において、R2′はR4′
シリル保鯵基の除去後に、溶媒として水または水とテト
ラヒドロフランの混合物(好ましくは、10〜50チ水
−テトラヒドロフランの混合溶媒)を用いて、酸触媒条
件下でR2ヒドロキシ基に転換される。
同様に、R2′およびR1が一緒になって単結合を形成
する式(III)の化合物は酸触媒条件下で水和されて
、R鵞がヒドロキシである式(1)の化合物を与える。
する式(III)の化合物は酸触媒条件下で水和されて
、R鵞がヒドロキシである式(1)の化合物を与える。
これらの反応′VC適した酸触媒は10−ショウノウス
ルホン酸またはp−)ルエンスルホン酸ピリジニウムで
ある。
ルホン酸またはp−)ルエンスルホン酸ピリジニウムで
ある。
R2′およびR1が一緒になって単結合を形成する式(
1)の化合物は、適当なC,−Sアルキルアルコールの
酸触媒付加によってR?がC1−8アルコキシである式
(1)の化合物に直接転換することができ、あるいは別
法として二重結合を初めに水和し、その後形成されたR
:ヒドロキシル基を適当なCl−5アルキルアルコール
を用いて交換することによυ間接的に転換することがで
きる。これらの転換反応は無水条件下で、適当には10
−ショウノウスルホン酸管たはp−)ルエンスルホン酸
ビリ8ムの存在下に行われる。
1)の化合物は、適当なC,−Sアルキルアルコールの
酸触媒付加によってR?がC1−8アルコキシである式
(1)の化合物に直接転換することができ、あるいは別
法として二重結合を初めに水和し、その後形成されたR
:ヒドロキシル基を適当なCl−5アルキルアルコール
を用いて交換することによυ間接的に転換することがで
きる。これらの転換反応は無水条件下で、適当には10
−ショウノウスルホン酸管たはp−)ルエンスルホン酸
ビリ8ムの存在下に行われる。
式(1)の化合物中のR3が水素原子である場合、容易
に除去しうるR、 /アミン保護基をR3水素原子へ転
換する反応は塩基性条件下で実施される。
に除去しうるR、 /アミン保護基をR3水素原子へ転
換する反応は塩基性条件下で実施される。
トリフルオロアセチルのようなRs’アミン保護基は無
水メタノール中の炭酸カリウムまたはアンモニアのよう
な塩基を用いて除去できる。9−フルオレニルメトキシ
カルボニルのようなR3’アミン保護基は、メタノール
性ジメチルスルホキシドのような溶媒中で塩基性条件下
に除去される。アミン保脛基除去用の適当な塩基はアン
モニア、ジアルキルアミン(例、ジメチルアミンおよび
ジエチルアミン)、トリアルキルアミン(例、トリエチ
ルアミンン、環式アミン、特に環式第二アミン(例、モ
ルホリン、ピペラジン、とシわけピペリジン)、および
ジアザニ環式塩基(例、1.5−ジアザビシフClC4
,3,Olノン−5−エン(DBN)、好ましくは1.
8−ジアザビシクロ[5,4,0]ウンデク−7−エン
(DBU))などである。
水メタノール中の炭酸カリウムまたはアンモニアのよう
な塩基を用いて除去できる。9−フルオレニルメトキシ
カルボニルのようなR3’アミン保護基は、メタノール
性ジメチルスルホキシドのような溶媒中で塩基性条件下
に除去される。アミン保脛基除去用の適当な塩基はアン
モニア、ジアルキルアミン(例、ジメチルアミンおよび
ジエチルアミン)、トリアルキルアミン(例、トリエチ
ルアミンン、環式アミン、特に環式第二アミン(例、モ
ルホリン、ピペラジン、とシわけピペリジン)、および
ジアザニ環式塩基(例、1.5−ジアザビシフClC4
,3,Olノン−5−エン(DBN)、好ましくは1.
8−ジアザビシクロ[5,4,0]ウンデク−7−エン
(DBU))などである。
アミン保護基の除去は1〜10当量の塩基(好ましくは
1〜2当量)を用いて、低温または昇温(例えば−30
℃ないし50℃、好ましくは0℃ないし室温)で1分な
いし5時間(好ましくは30分ないし2.5時間)にわ
たって行われる。
1〜2当量)を用いて、低温または昇温(例えば−30
℃ないし50℃、好ましくは0℃ないし室温)で1分な
いし5時間(好ましくは30分ないし2.5時間)にわ
たって行われる。
式(III)の化合物中のH4zシリル保護基は既知の
脱保護法を用いて除去することができ、例えばテトラヒ
ドロフラン中のフッ化水素−ピリジンの溶液を用いて、
常温または低温(例えば−10℃ないし50℃、好まし
くは0℃ないし室温)で最高60時間(好ましくは4〜
24時間)Kわたって除去される。
脱保護法を用いて除去することができ、例えばテトラヒ
ドロフラン中のフッ化水素−ピリジンの溶液を用いて、
常温または低温(例えば−10℃ないし50℃、好まし
くは0℃ないし室温)で最高60時間(好ましくは4〜
24時間)Kわたって除去される。
式(IQの中間体化合物は以下の工程を適当な順序で行
うことによシ天然産物のアンホテリシンBから製造され
る: (a)16位のカルボキシ基を活性化してR1F活性化
力ルボン酸誘導体を形成する工程; (b)13位のアノマーヒドロキシル基を選択的に交換
してR1’ CI−gアルコキシ基を形成するか、また
はRltおよびl、tが一緒になって単結合を形成する
化合物を製造する工程; (e)19位の糖成分のアミン官能基をR3/アミン保
護基で保護する工程; (d) 遊離ヒドロキシル基を一0R4’(ここでR
4tはシリル保護基である)に転換する工程。
うことによシ天然産物のアンホテリシンBから製造され
る: (a)16位のカルボキシ基を活性化してR1F活性化
力ルボン酸誘導体を形成する工程; (b)13位のアノマーヒドロキシル基を選択的に交換
してR1’ CI−gアルコキシ基を形成するか、また
はRltおよびl、tが一緒になって単結合を形成する
化合物を製造する工程; (e)19位の糖成分のアミン官能基をR3/アミン保
護基で保護する工程; (d) 遊離ヒドロキシル基を一0R4’(ここでR
4tはシリル保護基である)に転換する工程。
16位のカルボキシル基はテトラヒドロフラン、ジエチ
ルエーテルまたはジクロロメタンのような不活性溶媒(
好ましくはジエチルエーテル)中で低温ないし昇温(例
えば−20℃ないし50℃、好ましくは0℃ないし室温
)にて2−チオピリジルクロロホルメートを用いてR1
′2−ピリジルチオエステルに転換することができる。
ルエーテルまたはジクロロメタンのような不活性溶媒(
好ましくはジエチルエーテル)中で低温ないし昇温(例
えば−20℃ないし50℃、好ましくは0℃ないし室温
)にて2−チオピリジルクロロホルメートを用いてR1
′2−ピリジルチオエステルに転換することができる。
13位のマノマーヒドロキシル基は10−ショウノウス
ルホン酸1 t、:ハル −)ルエンスルホン酸ピリジ
ニウムのような酸触媒の存在下に無水条件下で適当なC
l−5アルキルアルコールを用いて選択的に交換される
。この反応はテトラヒドロフランのような不活性溶媒中
で行われ、アルコールを溶媒の一部または全部として用
いてもよい。この反応は有利にはモレキュラーシープの
よりなH!0掃去剤の存在下にかつ/まだ不活性雰囲気
下で実施される。
ルホン酸1 t、:ハル −)ルエンスルホン酸ピリジ
ニウムのような酸触媒の存在下に無水条件下で適当なC
l−5アルキルアルコールを用いて選択的に交換される
。この反応はテトラヒドロフランのような不活性溶媒中
で行われ、アルコールを溶媒の一部または全部として用
いてもよい。この反応は有利にはモレキュラーシープの
よりなH!0掃去剤の存在下にかつ/まだ不活性雰囲気
下で実施される。
R3′アミン保護基は標準方法に従って導入される。例
えば、R3′アセチルまたはトリフルオロアセチルアミ
ン保護基は、メタノール−ジメチルスルホキシドまたは
メタノール−ジメチルホルムアミド混合溶媒中で低温な
いし常m(例えば0℃)にてジイソプロピルエチルアミ
ンのような塩基の存在下に、第一アミンと無水酢酸また
はトリフルオロ酢酸エチルとを反応させることにより導
入できる。
えば、R3′アセチルまたはトリフルオロアセチルアミ
ン保護基は、メタノール−ジメチルスルホキシドまたは
メタノール−ジメチルホルムアミド混合溶媒中で低温な
いし常m(例えば0℃)にてジイソプロピルエチルアミ
ンのような塩基の存在下に、第一アミンと無水酢酸また
はトリフルオロ酢酸エチルとを反応させることにより導
入できる。
R5′9−フルオレニルメトキシカルボニルアミン保護
基は、無水条件下炭酸カリウムのような塩基の存在下で
、メタノール−ジメチルホルムアミド中の第一アミンの
溶液に9−フルオレニルメチルクロロホルメートを添加
することによって導入される。また R,79−フルオ
レニルメトキシカルボニル基は、無水条件下ピリジンの
ような塩基の存在下で、メタノール−ジメチルホルムア
ミド中の第一アミンのスラリーKN−<9−フルオレニ
ルメトキシカルボニルオキシ)スクシンイミドを添加す
ることによって導入することができる。
基は、無水条件下炭酸カリウムのような塩基の存在下で
、メタノール−ジメチルホルムアミド中の第一アミンの
溶液に9−フルオレニルメチルクロロホルメートを添加
することによって導入される。また R,79−フルオ
レニルメトキシカルボニル基は、無水条件下ピリジンの
ような塩基の存在下で、メタノール−ジメチルホルムア
ミド中の第一アミンのスラリーKN−<9−フルオレニ
ルメトキシカルボニルオキシ)スクシンイミドを添加す
ることによって導入することができる。
遊離ヒドロキシル基は標準方法を用いてシリル化し得る
。トリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリルおよ
びトリフルオロメタンスルホン酸トリエチルシリルのよ
うなシリル化剤との反応は、不活性溶媒(例えばジクロ
ロメタン、ヘキサンまたはジエチルエーテル)中低温(
例えば0〜5℃)で不活性雰囲気下に行われる。この反
応は有利には弱塩基(例えば2.6−ルチジンのような
ピリジン誘導体)の存在下に過剰量のシリル化剤を用い
て行われる。また、その塩基が液体であるときは、塩基
を溶媒としそ用いてもよい。反応時間はシリル基の大き
さに左右され、トリメチルシリル基に対する2、3分か
らより大きいシリル基に対する数時間までの範囲に及ぶ
。
。トリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリルおよ
びトリフルオロメタンスルホン酸トリエチルシリルのよ
うなシリル化剤との反応は、不活性溶媒(例えばジクロ
ロメタン、ヘキサンまたはジエチルエーテル)中低温(
例えば0〜5℃)で不活性雰囲気下に行われる。この反
応は有利には弱塩基(例えば2.6−ルチジンのような
ピリジン誘導体)の存在下に過剰量のシリル化剤を用い
て行われる。また、その塩基が液体であるときは、塩基
を溶媒としそ用いてもよい。反応時間はシリル基の大き
さに左右され、トリメチルシリル基に対する2、3分か
らより大きいシリル基に対する数時間までの範囲に及ぶ
。
R4’シリル保護基の導入は、式(II)の化合物にお
いてR鵞′およびR,tがそれぞれCt−Sアルコキシ
および水素であるか、またはR1/とR;が−緒になっ
て単結合を形成するように13位置換基の除去もしくは
部分的除去によって達成される。除去の程度は溶媒によ
シ変化し、解媒がジクロロメタンである場合は顕著であ
るが、溶媒がn−ヘキサンまたはジエチルエーテルでち
る場合は無視できる程度である。
いてR鵞′およびR,tがそれぞれCt−Sアルコキシ
および水素であるか、またはR1/とR;が−緒になっ
て単結合を形成するように13位置換基の除去もしくは
部分的除去によって達成される。除去の程度は溶媒によ
シ変化し、解媒がジクロロメタンである場合は顕著であ
るが、溶媒がn−ヘキサンまたはジエチルエーテルでち
る場合は無視できる程度である。
シリル化反応が化合物の混合物をもたらす場合、これら
はクロマトグラフィーの手法により分離し得る。また、
式(1)の化合物の製造は式(山の化合物の混合物を用
いても進行する。
はクロマトグラフィーの手法により分離し得る。また、
式(1)の化合物の製造は式(山の化合物の混合物を用
いても進行する。
アンホテリシンBから製造された式(IDおよび式Cm
)のいくつかの中間体化合物並びにその前駆化合物は新
規であり、それ自体で本発明の一部を構成する。
)のいくつかの中間体化合物並びにその前駆化合物は新
規であり、それ自体で本発明の一部を構成する。
必要に応じて、R2がヒドロキシでありおよび/または
Rsが水素原子である式(1)の化合物は、式([I)
の中間体化合物の製造に関して先に記載した工程(b)
および(e)を用いて、Rxが01−8アルコキシでs
bおよび/′またはR3がアミン保護基である式(1)
の化合物に転換することができる。
Rsが水素原子である式(1)の化合物は、式([I)
の中間体化合物の製造に関して先に記載した工程(b)
および(e)を用いて、Rxが01−8アルコキシでs
bおよび/′またはR3がアミン保護基である式(1)
の化合物に転換することができる。
式(1)の化合物およびそれらの薬学的に許容しうる塩
は、ヒトを含む動物における真菌感染(fungal
1nfections)を撲滅するのに有用な抗真薗
薬である。例えば、それらはと9わけカンジダ属(Ca
nd i da )、白#1属(Trichophyt
on)、小胞子菌属(Mi crosporum)%ま
たは表皮糸状菌属(Epidermophyton)の
菌種によって引き起こされるヒトの代表的な真菌感染症
、もしくはカンシタ# 7.11/ビカン、X (Ca
ndida albicans)&Cよって起こる粘膜
の感染症(例えば、l01および腟カンジダ症)を治療
するのに有用でありうる。
は、ヒトを含む動物における真菌感染(fungal
1nfections)を撲滅するのに有用な抗真薗
薬である。例えば、それらはと9わけカンジダ属(Ca
nd i da )、白#1属(Trichophyt
on)、小胞子菌属(Mi crosporum)%ま
たは表皮糸状菌属(Epidermophyton)の
菌種によって引き起こされるヒトの代表的な真菌感染症
、もしくはカンシタ# 7.11/ビカン、X (Ca
ndida albicans)&Cよって起こる粘膜
の感染症(例えば、l01および腟カンジダ症)を治療
するのに有用でありうる。
それらはまた、例えばカンジダφアルビカンス、クリプ
トコックス・ネオフオルマンス (Cryptococcus neoformans)
、アスペルギルス117ミガツ、X、 (Asperg
iilua fumigatus)、コクシジオイデス
属(Coccfdioide+s)、バラコクシジオイ
デス属(Paracoccidioides)、ヒスト
プラスマ属(Histopla3ma) またはプラ
ストミセス’fA (Blaatmyces)の菌種に
よって引き起こされる全身的な真菌感染症の治療に有用
でありうる。さらに、それらは真菌腫(eumycot
temy c e t oma )、クロモブラストミ
コーシス(chramoblastomycosis)
、およびフィコミコー7、z (phycomycos
is)の治療にも有用でありうる0 本発明は、式(1)の化合物またはその薬学的に許容し
うる塩および製剤学的に許容しうる希釈剤もし、〈は担
体を含有する薬剤組成物をさらに提供する。本組成物は
好ましくは錠剤、カプセル剤、注射用製剤またはクリー
ム剤としてヒトに対して用いられる。
トコックス・ネオフオルマンス (Cryptococcus neoformans)
、アスペルギルス117ミガツ、X、 (Asperg
iilua fumigatus)、コクシジオイデス
属(Coccfdioide+s)、バラコクシジオイ
デス属(Paracoccidioides)、ヒスト
プラスマ属(Histopla3ma) またはプラ
ストミセス’fA (Blaatmyces)の菌種に
よって引き起こされる全身的な真菌感染症の治療に有用
でありうる。さらに、それらは真菌腫(eumycot
temy c e t oma )、クロモブラストミ
コーシス(chramoblastomycosis)
、およびフィコミコー7、z (phycomycos
is)の治療にも有用でありうる0 本発明は、式(1)の化合物またはその薬学的に許容し
うる塩および製剤学的に許容しうる希釈剤もし、〈は担
体を含有する薬剤組成物をさらに提供する。本組成物は
好ましくは錠剤、カプセル剤、注射用製剤またはクリー
ム剤としてヒトに対して用いられる。
ヒトに適用する場合、式(1)の抗真菌化合物またはそ
の薬学的に許容しうる塩は単独で投与することができる
が、一般には意図する投与経路および標準的な製剤化方
法を考慮して選ばれた担体と混合することによシ投与さ
れるであろう。例えば、それらはデンプンや乳糖のよう
な賦形剤を含む錠剤の形で、あるいは単独または賦形剤
と混合したカプセル剤もしくは小卵剤(ovule)と
して、あるいは香味剤や着色剤を含むエリキシル剤もし
くは懸濁剤の形で経口投与される。それらは非経口的に
、例えば静脈内、筋肉内または皮下に、投与することも
できる。非経口投与の場合は無菌の水溶液の形で投与す
るのが最適であり、この水溶液は等張となるのに十分な
量の塩またはグルコースのような他の物質を含んでいて
もよい。
の薬学的に許容しうる塩は単独で投与することができる
が、一般には意図する投与経路および標準的な製剤化方
法を考慮して選ばれた担体と混合することによシ投与さ
れるであろう。例えば、それらはデンプンや乳糖のよう
な賦形剤を含む錠剤の形で、あるいは単独または賦形剤
と混合したカプセル剤もしくは小卵剤(ovule)と
して、あるいは香味剤や着色剤を含むエリキシル剤もし
くは懸濁剤の形で経口投与される。それらは非経口的に
、例えば静脈内、筋肉内または皮下に、投与することも
できる。非経口投与の場合は無菌の水溶液の形で投与す
るのが最適であり、この水溶液は等張となるのに十分な
量の塩またはグルコースのような他の物質を含んでいて
もよい。
ヒト患者への経口および非経口投与の場合、式(1)の
抗真菌化合物の一日の投与量は0.1〜1〜/−(分割
用量で)であるだろう。従って、本発明化合物の錠剤ま
たはカプセル剤は、適宜に一度に1個または2個以上を
投与する場合、活性化合物を5η〜0.52含むと予想
される。どのような事態でも医師は個々の患者に最も適
した実際の投与量(患者の年齢、体重および応答によシ
変化する)を決定するであろう。前記投与量は通常の場
合の例である。もちろん、よシ高い又はよシ低い投与量
範囲が効果的である場合本あシ、このような場合も本発
明の範囲内に含まれるものである。
抗真菌化合物の一日の投与量は0.1〜1〜/−(分割
用量で)であるだろう。従って、本発明化合物の錠剤ま
たはカプセル剤は、適宜に一度に1個または2個以上を
投与する場合、活性化合物を5η〜0.52含むと予想
される。どのような事態でも医師は個々の患者に最も適
した実際の投与量(患者の年齢、体重および応答によシ
変化する)を決定するであろう。前記投与量は通常の場
合の例である。もちろん、よシ高い又はよシ低い投与量
範囲が効果的である場合本あシ、このような場合も本発
明の範囲内に含まれるものである。
そのほかに、式(1)の抗真函化合物は座剤またはペッ
サリーの形で投与することができ、また、ローション剤
、溶液剤、クリーム剤、軟膏もしくは散剤として局所的
に適用することもできる。例えば、それらはポリエチレ
ングリコールまたは流動パラフィンの水性エマルジョン
から成るクリーム剤に配合され、あるいは、それらは1
〜10チの濃度でホワイトワックスまたは白色軟ロウ基
剤と必要に応じて安定剤および防腐剤とから成る軟膏に
配合される。
サリーの形で投与することができ、また、ローション剤
、溶液剤、クリーム剤、軟膏もしくは散剤として局所的
に適用することもできる。例えば、それらはポリエチレ
ングリコールまたは流動パラフィンの水性エマルジョン
から成るクリーム剤に配合され、あるいは、それらは1
〜10チの濃度でホワイトワックスまたは白色軟ロウ基
剤と必要に応じて安定剤および防腐剤とから成る軟膏に
配合される。
先に示した投与量の範囲内において、本発明化合物には
、真−感染症の治療のためにそれらを患者に投与するの
を妨げる有害な副作用が全く観察されなかった。
、真−感染症の治療のためにそれらを患者に投与するの
を妨げる有害な副作用が全く観察されなかった。
本発明はさらに活性治療物質として使用するための式(
1)の化合物またはその薬学的に許容しうる塩を提供す
る。活性治療物質として使用する化合物は、ヒトを含む
動物における疾患の治療に用いることを意図されている
。先に述べたように、式(1)の化合物およびそれらの
薬学的に許容しうる塩は抗真劇作用を有し、ヒトを含む
動物における真菌感染を撲滅するのに有用でありうる。
1)の化合物またはその薬学的に許容しうる塩を提供す
る。活性治療物質として使用する化合物は、ヒトを含む
動物における疾患の治療に用いることを意図されている
。先に述べたように、式(1)の化合物およびそれらの
薬学的に許容しうる塩は抗真劇作用を有し、ヒトを含む
動物における真菌感染を撲滅するのに有用でありうる。
従って、本発明は真因感染症の治療に用いるための式(
1)の化合物またはその薬学的に許容しうる塩を提供す
る。
1)の化合物またはその薬学的に許容しうる塩を提供す
る。
本発明はさらに、有効な抗真鉋量の式(1)の化合物ま
たはその薬学的に許容しうる塩をヒトを含む動物に投与
することから成る、真1感染症の治療方法を提供する。
たはその薬学的に許容しうる塩をヒトを含む動物に投与
することから成る、真1感染症の治療方法を提供する。
本発明はまた、ヒトを含む動物における真菌感染症の治
療に活性治療物質として使用する医薬を製造するための
式(1)の化合物またはその薬学的に許容しうる塩を提
供する。
療に活性治療物質として使用する医薬を製造するための
式(1)の化合物またはその薬学的に許容しうる塩を提
供する。
以下の実施例は本発明化合物の製造を示し、そして以下
の製造例はそれらの中間体の製造を示すものである。
の製造例はそれらの中間体の製造を示すものである。
製造例I
N−アセチル−13−O−メチル−アンホテリシンB
(DI) メタノール15Wtと乾燥テトラヒドロフラン2.5−
の混合物中で窒素下に室温にて0.5時間攪拌した。ト
リエチルアミン0.03 f (0,04d、 0.2
6ミリモル)を加え、この混合物を約3艷になるまで濃
縮し、その後ジエチルエーテル400mに加えた。沈殿
物を戸取し、酢酸エチルで洗って表題化合物(Dl)を
黄色の粉末として得た。
(DI) メタノール15Wtと乾燥テトラヒドロフラン2.5−
の混合物中で窒素下に室温にて0.5時間攪拌した。ト
リエチルアミン0.03 f (0,04d、 0.2
6ミリモル)を加え、この混合物を約3艷になるまで濃
縮し、その後ジエチルエーテル400mに加えた。沈殿
物を戸取し、酢酸エチルで洗って表題化合物(Dl)を
黄色の粉末として得た。
HPLC:逆相ODS 5μ250X4.6mカラム
;溶離剤78%メタノール−22%リン酸綴衝沿(pH
3ン一1Ili/分; 検出波長350nm;保持時間
4.8分。
;溶離剤78%メタノール−22%リン酸綴衝沿(pH
3ン一1Ili/分; 検出波長350nm;保持時間
4.8分。
’N1eolaou゛etal、 、 J、 Amer
ican (’hem、 3oc、。
ican (’hem、 3oc、。
1唾、 4660. (i988)。
製造例2
(DI )
Qs==C−M@
N−7セチルアンホテリシンB!0.70F(o、rx
ミリモル)および無水d−10−ショウノウスルホン酸
0.06F(0,25ミリモル)を乾燥リルー13 14−アンヒドロアンホテリシンB (2−ピリジルチオ)エステル(D2)N−アセチル−
13−0−メチルアンホテリシンB (DI)0.94
F (0,95ミリモル)を窒素雰囲気下0℃で乾燥
ジクロロメタン5〇−中に懸濁し、2.6−ルチジン1
.98 f (2,15sd、18.50ミリモル)次
いでトリフルオロメタンスルホン酸トリエチルシリル3
.76 t (3,22m、 14.00ミリモル)
をシリンジから加えた。0℃で40分攪拌後、この混合
物をジエチルエーテル/氷冷0.2M重硫酸ナトリウム
溶液中に注いだ。生成物はジエチルエーテルに抽出され
、有機抽出物を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、テ遇し
、真空蒸発させたO 粗生成物は乾燥ジエチルエーテル15d中0℃で攪拌し
、トリエチルアミン106 WIl(0,15m+/。
ミリモル)および無水d−10−ショウノウスルホン酸
0.06F(0,25ミリモル)を乾燥リルー13 14−アンヒドロアンホテリシンB (2−ピリジルチオ)エステル(D2)N−アセチル−
13−0−メチルアンホテリシンB (DI)0.94
F (0,95ミリモル)を窒素雰囲気下0℃で乾燥
ジクロロメタン5〇−中に懸濁し、2.6−ルチジン1
.98 f (2,15sd、18.50ミリモル)次
いでトリフルオロメタンスルホン酸トリエチルシリル3
.76 t (3,22m、 14.00ミリモル)
をシリンジから加えた。0℃で40分攪拌後、この混合
物をジエチルエーテル/氷冷0.2M重硫酸ナトリウム
溶液中に注いだ。生成物はジエチルエーテルに抽出され
、有機抽出物を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、テ遇し
、真空蒸発させたO 粗生成物は乾燥ジエチルエーテル15d中0℃で攪拌し
、トリエチルアミン106 WIl(0,15m+/。
X、O+ミリモル)次いで2−チオピリジルクロロホル
メート1soq(1,o4ミリモル)(ジクロoメタン
中の35Wq/d溶液5.3 d )で処理した。0℃
で30分攪拌後、との混合物をジエチルエーテル50a
dで希釈し、無水硫酸マグネジ9ムで乾燥し、F遇し、
真空蒸発させた。シリカゲルによるフラッシュクロマト
グラフィーにかけ、n−ヘキサン/酢酸エチル混合溶剤
で溶出して表題化合物の混合物を黄色の泡状物として得
た。
メート1soq(1,o4ミリモル)(ジクロoメタン
中の35Wq/d溶液5.3 d )で処理した。0℃
で30分攪拌後、との混合物をジエチルエーテル50a
dで希釈し、無水硫酸マグネジ9ムで乾燥し、F遇し、
真空蒸発させた。シリカゲルによるフラッシュクロマト
グラフィーにかけ、n−ヘキサン/酢酸エチル混合溶剤
で溶出して表題化合物の混合物を黄色の泡状物として得
た。
HPLC:標準相−Wa t e r s半径方向圧縮
シリカカラム;溶離剤15チ酢醒エチル−n−ヘキサン
−2−/分;検出波長406nm;保持時間:主生成物
(13−0−メチル誘導体)6.3分、副生成物(13
,14−アンヒドロ誘導体)7.0分。
シリカカラム;溶離剤15チ酢醒エチル−n−ヘキサン
−2−/分;検出波長406nm;保持時間:主生成物
(13−0−メチル誘導体)6.3分、副生成物(13
,14−アンヒドロ誘導体)7.0分。
製造例3
および
(D3)
製造例2の生成物の混合物を乾燥テトラヒドロフラン5
−中O℃で窒素雰囲気下に攪拌し、臭化メチルマグネシ
ウム(ジエチルエーテル中の3M溶液)0.37m(1
,11ミリモル)をシリンジから加えた。0℃で15分
後、追加の臭化メチルマグネジ9ム溶液0.37−を加
え、この混合物を0℃で嘔らに10分間攪拌した。この
混合物をジエチルエーテル/水中に注ぎ、生成物をジエ
チルエーテルに抽出した。合わせた有機抽出物は無水硫
酸マグネシウムで乾燥し、テ遇し、真空濃縮した。
−中O℃で窒素雰囲気下に攪拌し、臭化メチルマグネシ
ウム(ジエチルエーテル中の3M溶液)0.37m(1
,11ミリモル)をシリンジから加えた。0℃で15分
後、追加の臭化メチルマグネジ9ム溶液0.37−を加
え、この混合物を0℃で嘔らに10分間攪拌した。この
混合物をジエチルエーテル/水中に注ぎ、生成物をジエ
チルエーテルに抽出した。合わせた有機抽出物は無水硫
酸マグネシウムで乾燥し、テ遇し、真空濃縮した。
シリカゲルによるフラッシュクロマトグラフィ−にかけ
、4%ジエチルエーテル−ジクロロメタンで溶出して表
題化合物の混合物を得た。
、4%ジエチルエーテル−ジクロロメタンで溶出して表
題化合物の混合物を得た。
HPLC:標準相−製造例2と同じ条件:保持時間:製
造例4 ミリモル)の溶液に、窒素雰囲気下O℃で、固体の9−
フルオレニルメチルクロロホルメート0.211(0,
81ミリモル)を加えた。1時間攪拌後、追加の9−フ
ルオレニルメチルクロロホルメー) 0.04’P (
0,17ミリモル)を加えた。
造例4 ミリモル)の溶液に、窒素雰囲気下O℃で、固体の9−
フルオレニルメチルクロロホルメート0.211(0,
81ミリモル)を加えた。1時間攪拌後、追加の9−フ
ルオレニルメチルクロロホルメー) 0.04’P (
0,17ミリモル)を加えた。
0.25時間後、この反応混合物を蒸留水20〇−中に
注いだ。沈殿物を遠心分離して集め、メタノールに溶解
し、その後真空蒸発させた。残留物は少量のテトラヒド
ロフラン−メタノール1:1混合溶媒に溶かし、蒸留水
(氷酢酸の添加によりpI(3,2に調整したもの)2
00d中に注いだ。沈殿物を遠心分離し、水で洗い、減
圧下で乾燥して表題化合物(D4)を得た。生成物はこ
れ以上精製することなく使用した。
注いだ。沈殿物を遠心分離して集め、メタノールに溶解
し、その後真空蒸発させた。残留物は少量のテトラヒド
ロフラン−メタノール1:1混合溶媒に溶かし、蒸留水
(氷酢酸の添加によりpI(3,2に調整したもの)2
00d中に注いだ。沈殿物を遠心分離し、水で洗い、減
圧下で乾燥して表題化合物(D4)を得た。生成物はこ
れ以上精製することなく使用した。
製造例5
乾燥ジメチルスルホキシド10dおよび乾燥メタノール
2−中のアンホテリシンB O,50F (0,54ミ
リモル)および無水炭酸カリウム0.17(1,2N−
(9−フルオレニルメトキシカルボニル)アンホテリシ
ン81.85F(1,61ミリモル)およびd−10−
ショウノウスルホン酸156岬(0,67ミリそル)を
乾燥テトラヒドロフラン10−/メタノール60tR1
,中で窒素雰囲気下に室温にて攪拌した。15分後、ト
リエチルアミン0、14 ml (102岬、1.01
ミリモル)を加え、この混合物を濾過し、約10−にな
るまで濃縮し、セしてジエチルエーテル/n−ヘキサン
(1:1)80〇−中に注いだ。沈殿した生成物は遠心
分離によシ集め、ジエチルエーテル/酢酸エチル(1:
1)で洗い、乾燥して表題化合物(D5)を黄色の粉末
として得た。
2−中のアンホテリシンB O,50F (0,54ミ
リモル)および無水炭酸カリウム0.17(1,2N−
(9−フルオレニルメトキシカルボニル)アンホテリシ
ン81.85F(1,61ミリモル)およびd−10−
ショウノウスルホン酸156岬(0,67ミリそル)を
乾燥テトラヒドロフラン10−/メタノール60tR1
,中で窒素雰囲気下に室温にて攪拌した。15分後、ト
リエチルアミン0、14 ml (102岬、1.01
ミリモル)を加え、この混合物を濾過し、約10−にな
るまで濃縮し、セしてジエチルエーテル/n−ヘキサン
(1:1)80〇−中に注いだ。沈殿した生成物は遠心
分離によシ集め、ジエチルエーテル/酢酸エチル(1:
1)で洗い、乾燥して表題化合物(D5)を黄色の粉末
として得た。
方法B
N−(9−フルオレニルメトキシカルボニル)アンホテ
リシンB4.99F(4,35ミリモル)およびp−)
ルエンスルホン酸ピリジニウム5.04F(20,1ミ
リモル)をメタノール450d/テトラヒドロフラン1
5〇−中で室温にて1.5時間攪拌した。トリエチルア
ミン2.65 t (3,65m。
リシンB4.99F(4,35ミリモル)およびp−)
ルエンスルホン酸ピリジニウム5.04F(20,1ミ
リモル)をメタノール450d/テトラヒドロフラン1
5〇−中で室温にて1.5時間攪拌した。トリエチルア
ミン2.65 t (3,65m。
26.2ミリモルラを加え、この混合物を30−になる
まで濃縮し、そして飽和炭酸水素ナトリウム溶液2tに
加えた1、沈殿した生成物は戸取し、水で洗い、乾燥し
て表題化合物(D5)を黄色の粉末として得た。
まで濃縮し、そして飽和炭酸水素ナトリウム溶液2tに
加えた1、沈殿した生成物は戸取し、水で洗い、乾燥し
て表題化合物(D5)を黄色の粉末として得た。
HPLC:逆相ODS 5μ 250X4.6カラム
;溶離剤80%メタノール−20%リン酸緩衝液(PH
3)−1m//分;検出波長350nm;保持時間7.
6分。
;溶離剤80%メタノール−20%リン酸緩衝液(PH
3)−1m//分;検出波長350nm;保持時間7.
6分。
製造例6
l3−0−メチル−3,5,8,9,11,15゜0T
KS 13.14−アンヒドロアンホテリシンB (D6ン方
法人 製造例5の生成物1.522を乾燥ジクロロメタン60
d中に窒素雰囲気下0℃で懸濁させ、2゜6−ルチジン
2.55 F (2,76m、 23.8 Qミリモ
ル)次いでトリフルオロメタンスルホン酸トリエチルシ
リル4.89 ? (4,18n1t、 18.50
ミリモV)をシリンジから加えた。0℃で30分攪拌後
、溶媒を蒸発させ、残留物をn−ヘキサンに溶かし、P
遇し、P液を再濃縮して褐色の油を得た。
KS 13.14−アンヒドロアンホテリシンB (D6ン方
法人 製造例5の生成物1.522を乾燥ジクロロメタン60
d中に窒素雰囲気下0℃で懸濁させ、2゜6−ルチジン
2.55 F (2,76m、 23.8 Qミリモ
ル)次いでトリフルオロメタンスルホン酸トリエチルシ
リル4.89 ? (4,18n1t、 18.50
ミリモV)をシリンジから加えた。0℃で30分攪拌後
、溶媒を蒸発させ、残留物をn−ヘキサンに溶かし、P
遇し、P液を再濃縮して褐色の油を得た。
シリカゲルによるカラムクロマトグラフィーKかけ、n
−ヘキサン/酢酸エチル混合溶剤で溶出して2種類の主
生成物を得た。
−ヘキサン/酢酸エチル混合溶剤で溶出して2種類の主
生成物を得た。
極性のより大きい13.14−アンヒドロ生成物を含む
両分は氷/ 0.2 M硫酸水素ナトリウム溶液で洗っ
てルチジンを除き、無水硫酸マグネジ9ムで乾かし、濾
過し、蒸発させた。
両分は氷/ 0.2 M硫酸水素ナトリウム溶液で洗っ
てルチジンを除き、無水硫酸マグネジ9ムで乾かし、濾
過し、蒸発させた。
極性のよυ小さいN−(9−フルオレニルメトキシカル
ボニル)−13−0−メチル−3,5゜8、 9. 1
1.15.35.2’、 4’−ノナ−0−トリエチル
シリルアンホテリシンBは次の通りであった: Rfo、54(シリカ)−25%酢酸エチル/ n −
ヘキサン。
ボニル)−13−0−メチル−3,5゜8、 9. 1
1.15.35.2’、 4’−ノナ−0−トリエチル
シリルアンホテリシンBは次の通りであった: Rfo、54(シリカ)−25%酢酸エチル/ n −
ヘキサン。
δH400MHz((CDs)*CO): 7.88
(2H,d。
(2H,d。
J 7.5Hz )、 7.70 (2H,d
、 J 7.4H1,7,43(2H。
、 J 7.4H1,7,43(2H。
t、 J 7.5Hz)、 7.34(2H,t
、 J 7.5Hz)、 6.63−6.10(1
2H,連続m)、 5.97(IH,dd、 J
5.3゜15.7Hz)、5.50(IH,dd、J
9.5,14.8Hz)。
、 J 7.5Hz)、 6.63−6.10(1
2H,連続m)、 5.97(IH,dd、 J
5.3゜15.7Hz)、5.50(IH,dd、J
9.5,14.8Hz)。
5.37(IH,d、J 9.8Hz)、4.75−
4.62(2H,m)。
4.62(2H,m)。
4.53(IH,8)、4.51(IH,dd、J6.
4,10.4Hz)。
4,10.4Hz)。
4.44(IH,dt、J 4.6,10.3Hz)
、4.35(IH。
、4.35(IH。
dd、J 6.5,10.4Hz)、4.28−4.
18(2H,m)。
18(2H,m)。
4.14(II(、m)、4.06−3.96(2H,
m)、3.90(IH,d、 J 2.6Hz)、
3.86(IHdd、 J 2.5゜8.8H
z)3.71(IH,m)、3.65−3.56(2H
,m)。
m)、3.90(IH,d、 J 2.6Hz)、
3.86(IHdd、 J 2.5゜8.8H
z)3.71(IH,m)、3.65−3.56(2H
,m)。
3.46(IH,t、 J 9.IHz)、 3
.31 (IH,m)、 3.14(3H,s)、2
.65−2.52(2H,m)、2.44(IH,m)
。
.31 (IH,m)、 3.14(3H,s)、2
.65−2.52(2H,m)、2.44(IH,m)
。
2.32(IH,t、J 10.4Hz)、2.20
−1.47(15H。
−1.47(15H。
連続rn)、1.25(3H,d、J6.IHz)、1
.18(3H。
.18(3H。
d、J 6.0Hz)、1.11−0.88(87H,
連続mン。
連続mン。
0.82−0.53(54H,連続m)ppm。カルホ
ン酸+7)プロトンは観察されなかった。
ン酸+7)プロトンは観察されなかった。
IR’max(薄膜ン: 3945,3500−250
0(巾広0弱い)e 2958,2915,2880
.1733(1720,1710に肩)、1509,1
459,1413゜1379.1308,1237,1
190,1108,1077゜1004.901,86
0,830,739cm ’質量スペクトル: FAB
(3−NOBAマトリックス)実測値MH”2187.
理論値(C11)HzuNO1* S t sH+)極
性のより大きい生成物N−(9−フルオレニルメトキシ
カルボニル) −3,5,8,9,11゜15.35.
2’ 4’−ノナ−0−トリエチルシリル−13,1
4−アンヒドロアンホテリシンBは次の通りであった: Rfo、40(シリカ)−25%酢酸エチA/ / n
−ヘキサン。
0(巾広0弱い)e 2958,2915,2880
.1733(1720,1710に肩)、1509,1
459,1413゜1379.1308,1237,1
190,1108,1077゜1004.901,86
0,830,739cm ’質量スペクトル: FAB
(3−NOBAマトリックス)実測値MH”2187.
理論値(C11)HzuNO1* S t sH+)極
性のより大きい生成物N−(9−フルオレニルメトキシ
カルボニル) −3,5,8,9,11゜15.35.
2’ 4’−ノナ−0−トリエチルシリル−13,1
4−アンヒドロアンホテリシンBは次の通りであった: Rfo、40(シリカ)−25%酢酸エチA/ / n
−ヘキサン。
δH400MHz ((CDsンzco): 7.88
(2H,d、 J7.5H2)、7.70(2H,d
、J 7.5Hz)、7.43(2H。
(2H,d、 J7.5H2)、7.70(2H,d
、J 7.5Hz)、7.43(2H。
t、J7.4Hz)、7.34(2H,t、J 7.4
Hz)、656−6.11 (12)I、連続m)、
5.99(IH,dd、 J 6.0゜15.4Hz
)、5.55(IH,dd、J 9.4,14.9H
z)。
Hz)、656−6.11 (12)I、連続m)、
5.99(IH,dd、 J 6.0゜15.4Hz
)、5.55(IH,dd、J 9.4,14.9H
z)。
5.34(IH,d、 J 9.9Hz)、 4
.80(IH,d、 J8.7Hz几 4.73−4
.60(2H,m)、4.63(IH,s)。
.80(IH,d、 J8.7Hz几 4.73−4
.60(2H,m)、4.63(IH,s)。
4.59(IH,s)、4.50(IH,dd、J
6.5,10.4Hz)。
6.5,10.4Hz)。
4.35(IH,dd、J 6.5,10.4Hz)
、4.32−4.17(3H,m)、4.12(IH,
m)、4.01(IH,m)。
、4.32−4.17(3H,m)、4.12(IH,
m)、4.01(IH,m)。
3.90(IH,d、J 2.7Hz)3.85(I
H,dd、J2.8. 8.7H1)、 3.80−
3.66(2H,m)、3.61(IH,dt、 J
2.7. 9.7HzJ、 3.45(IH,t
、 J9、IHz)、3.34(IH,m)、2.6
4 (IH,dd、J8.7,10.8Hz)、2.6
1−2.50(2H,m)、2.43(IH,mハ 2
.40−2.28(IH,m)、2.24−2.15(
IH,m)、2.08−1.88(5H,連gm)、1
.83−1.47(6H,連Rm)、1.25(3H,
tJ、J6.IHz)。
H,dd、J2.8. 8.7H1)、 3.80−
3.66(2H,m)、3.61(IH,dt、 J
2.7. 9.7HzJ、 3.45(IH,t
、 J9、IHz)、3.34(IH,m)、2.6
4 (IH,dd、J8.7,10.8Hz)、2.6
1−2.50(2H,m)、2.43(IH,mハ 2
.40−2.28(IH,m)、2.24−2.15(
IH,m)、2.08−1.88(5H,連gm)、1
.83−1.47(6H,連Rm)、1.25(3H,
tJ、J6.IHz)。
1.18(3H,d、 J 6.0Hz)、1.1
0−0.88(87H。
0−0.88(87H。
連続m)、0.77−0.56(54H,連続m)pp
m。
m。
カルボン酸プロトンは観察されなかった。
IRυmax(薄膜): 3445,3500−250
0(巾広、弱いハ 1737(1720に肩)、168
0゜1510.1461,1416,1380,131
0,1240゜1192.1169,1080.100
?、977.740゜672cm−’ 質量スペクトル: FAB (3−NOBAマトリック
スリ実測値MH2155,5,理論値(Coo Hto
rN OtsSt・H) 2155゜ 方法B N−(9−フルオレニルメトキシカルボニル)−13−
0−メチルアンホテリシンB (D5J4.97t(4
,3ミリモル)を窒素下O℃にて乾燥n−ヘキサン15
0−中に懸濁し、2.6−ルチジン8.3tC8,9d
、77ミリモル)次いでトリフルオロメタンスルホン酸
トリエチルシリル15.8F(13,6+d、60ミリ
モル)で処理した。0℃で2時間攪拌後、2.6−ルチ
ジン4.5−とトリフルオロメタンスルホン酸トリエチ
ルシリル6.8−の追加バッチを2回に分けて15分間
あいだを置いて加えた。攪拌をさらに1時間続け、この
混合物を濾過して減圧下で濃縮した。シリカゲルによる
クロマトグラフィーにかけ、酢酸エチル/n−ヘキサン
混合溶剤で溶出して、橙黄色の泡状物として単一の主生
成物を得、これは方法Aの極性の小きい方の生成物であ
ると同定された。
0(巾広、弱いハ 1737(1720に肩)、168
0゜1510.1461,1416,1380,131
0,1240゜1192.1169,1080.100
?、977.740゜672cm−’ 質量スペクトル: FAB (3−NOBAマトリック
スリ実測値MH2155,5,理論値(Coo Hto
rN OtsSt・H) 2155゜ 方法B N−(9−フルオレニルメトキシカルボニル)−13−
0−メチルアンホテリシンB (D5J4.97t(4
,3ミリモル)を窒素下O℃にて乾燥n−ヘキサン15
0−中に懸濁し、2.6−ルチジン8.3tC8,9d
、77ミリモル)次いでトリフルオロメタンスルホン酸
トリエチルシリル15.8F(13,6+d、60ミリ
モル)で処理した。0℃で2時間攪拌後、2.6−ルチ
ジン4.5−とトリフルオロメタンスルホン酸トリエチ
ルシリル6.8−の追加バッチを2回に分けて15分間
あいだを置いて加えた。攪拌をさらに1時間続け、この
混合物を濾過して減圧下で濃縮した。シリカゲルによる
クロマトグラフィーにかけ、酢酸エチル/n−ヘキサン
混合溶剤で溶出して、橙黄色の泡状物として単一の主生
成物を得、これは方法Aの極性の小きい方の生成物であ
ると同定された。
製造例7
(2−ピリジルチオ)エステル(D7)製造例6の13
−〇−メチル生成物823rrf(0,38ミリモル)
を乾燥ジエチルエーテル15−中θ℃で攪拌し、トリエ
チルアミン50■(0,07m、 0.49ミリモル
)次いで2−チオピリジルクロロホルメート105y(
ジクロロメタン中の35岬/−溶液3−)で処理した。
−〇−メチル生成物823rrf(0,38ミリモル)
を乾燥ジエチルエーテル15−中θ℃で攪拌し、トリエ
チルアミン50■(0,07m、 0.49ミリモル
)次いで2−チオピリジルクロロホルメート105y(
ジクロロメタン中の35岬/−溶液3−)で処理した。
0℃で30分攪拌後、この混合物をジエチルエーテル8
0−で希釈し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、−過し
、真空蒸発式せた。シリカゲルによるフラッシュクロマ
トグラフィーにかけ、1Oq6酢酸エチル/n−ヘキサ
ンで溶出して表題化合物を橙黄色の泡状物として得た。
0−で希釈し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、−過し
、真空蒸発式せた。シリカゲルによるフラッシュクロマ
トグラフィーにかけ、1Oq6酢酸エチル/n−ヘキサ
ンで溶出して表題化合物を橙黄色の泡状物として得た。
Rf:0.45(シリカク、15チ酢酸エチル/n−ヘ
キサン。
キサン。
δH270MHz C(CDs〕雪C0)8.73(I
H,d、 J5Hz)、7.95(IH,dt、J7
.5.2Hz)、7.88(2H,d、J 7.2H
z)、7.73(IH,d、J 7.5Hz)。
H,d、 J5Hz)、7.95(IH,dt、J7
.5.2Hz)、7.88(2H,d、J 7.2H
z)、7.73(IH,d、J 7.5Hz)。
7.71 (2H,d、 J 7Hz)、 7
.50−7.25(5H,m)。
.50−7.25(5H,m)。
6.70−6.08(12H,連続m)、5.97(I
H,dd。
H,dd。
J5.5. 15Hz)、5.50(IH,dd、J9
.6゜15Hz)、5.30(IH,d、J 9.6
Hz)、4.78(IH,m)、4.65 (IH,m
、)、4.62 (IH。
.6゜15Hz)、5.30(IH,d、J 9.6
Hz)、4.78(IH,m)、4.65 (IH,m
、)、4.62 (IH。
s )、 4.56−4.42 (2H,m)、
4.38−3.96(6H1連続m)、3.92(IH
,d、J 3Hz)。
4.38−3.96(6H1連続m)、3.92(IH
,d、J 3Hz)。
3.87(IH,dd、J 9,3H1)、3.77
−3.55(3H。
−3.55(3H。
m)、3.50−3.35(2H,m)、3.13(3
H,s)。
H,s)。
2.77(IH,t、J9Hz)、2.59(2H,d
、J 6.4Hz)2.44(IH,m)、2.32
(IH,dd、J 6.4. 14Ht、)。
、J 6.4Hz)2.44(IH,m)、2.32
(IH,dd、J 6.4. 14Ht、)。
2.15−1.40(14H,連続m)、 1.23
(3H,s、 J5Hz)、1.18(3H,s、J
6Hz)、1.15−0.86(87H,m)、0.
85−0.45(54H,連続m ) ppm。
(3H,s、 J5Hz)、1.18(3H,s、J
6Hz)、1.15−0.86(87H,m)、0.
85−0.45(54H,連続m ) ppm。
IRLlmaz(薄膜ン: 3459,2965,29
20゜2888.1737(1710に肩ン、1578
..1510゜1460.1418,1382,131
2,1241,1115゜1080.1010.740
儒−1 質量スペクトル:FAB(3−NOBA/Naマトリッ
クス)、実測値MNa” 2302.理論値(Cs!x
H*1aN! Ots S l會SNa )2302゜
製造例8 N−(9−フルオレニルメトキシカルボニル)−3,5
,8,9,11,15,35,2’、 4’−ノナ−0
−)!Jエチルシリルー13.14−アンヒドロアンホ
テリシ/B460W(0,21ミリモル)は製造例7の
ようにジエチルエーテル12Wkt中でトリエチルアミ
ン24■(0,03d、 0.24ミリモル)および
2−チオピリジルクロロホルメート52■(ジクロロメ
タン中の35■/−溶液1.50tnt)により処理し
た。仕上は処理および精製後に表題化合物(D8)を黄
色のガラス質固体として得た。
20゜2888.1737(1710に肩ン、1578
..1510゜1460.1418,1382,131
2,1241,1115゜1080.1010.740
儒−1 質量スペクトル:FAB(3−NOBA/Naマトリッ
クス)、実測値MNa” 2302.理論値(Cs!x
H*1aN! Ots S l會SNa )2302゜
製造例8 N−(9−フルオレニルメトキシカルボニル)−3,5
,8,9,11,15,35,2’、 4’−ノナ−0
−)!Jエチルシリルー13.14−アンヒドロアンホ
テリシ/B460W(0,21ミリモル)は製造例7の
ようにジエチルエーテル12Wkt中でトリエチルアミ
ン24■(0,03d、 0.24ミリモル)および
2−チオピリジルクロロホルメート52■(ジクロロメ
タン中の35■/−溶液1.50tnt)により処理し
た。仕上は処理および精製後に表題化合物(D8)を黄
色のガラス質固体として得た。
Rf:o、2g(シリカ9.10%酢酸エチル/n−ヘ
キサン。
キサン。
δH270MHz((CDs)2CO): 8.73
(IH,d J4H1)、7.94(IH,dt、J
8,2Hz)、7.88(2H。
(IH,d J4H1)、7.94(IH,dt、J
8,2Hz)、7.88(2H。
d、 J 8Hz)、 7.74(IH,d、
J8Hz)、 7.71(2H,d J 8
Hz)、 7.50−7.27(5H,m)。
J8Hz)、 7.71(2H,d J 8
Hz)、 7.50−7.27(5H,m)。
6.65−6.15(12H,連続m)、 6.0(
II(、dd、 J15.7Hz)、5.65(IH,
dd、J 9,14Hz)、5.32(IH,d、
J 10Hz)、 4.90−4.60(2H,
m)。
II(、dd、 J15.7Hz)、5.65(IH,
dd、J 9,14Hz)、5.32(IH,d、
J 10Hz)、 4.90−4.60(2H,
m)。
4.74(LH,S)、4.66(IH,8)、4.5
1(IH,dd。
1(IH,dd。
J 10,7Hz)、4.40−3.65(IOH,連
続m)。
続m)。
3.93(IH,d、J 5Hz)、3.86(IH
,dd、J 8゜2Hz)、3.50−3.35(2
H,m)、3.03(IH,dd。
,dd、J 8゜2Hz)、3.50−3.35(2
H,m)、3.03(IH,dd。
J 11,9Hz)、2.65−1.40(16H,連
続m)、1.23(3H,d、J 6Hz)、1.1
8(3H,d、J 6Hz)。
続m)、1.23(3H,d、J 6Hz)、1.1
8(3H,d、J 6Hz)。
1.16−0.85(87H,連続m)、0.85−0
.45(54H。
.45(54H。
連続m)ppm。
IR’max(薄[): 3457,3020,296
2.#2920.2883,1736,1705,16
79,1577゜1508.1460,1420,13
83,1311,1240゜1192.1169,10
80,1007,836,730m ’質量スペクト
ル: FAB(3−NOBA/Na−yトリックス)実
測値MNa”2270.理論値(Ct*tH宜toNt
017 S is S Na+) 2270゜
製造例9 リシンB (D9) 方法人 N−(9−フルオレニルメトキシカルボニル)−13−
0−メチル−3,5,8,9,11,15゜35、2’
、 4’−ノナ−0−トリエチルシリルアンホテリシン
B(2−ピリジルチオ)エステル(D7)61岬(0,
03ミリモル)を乾燥テトラヒドロフラン2−中で一1
0℃ないし室温にて攪拌し、水素化ホワ素リチウム(テ
トラヒドロフラン中のo、s7M?I液)0.9d(0
,51ミリモル)を3回に分けて30分にわたって加え
た。室温で一晩攪拌後、追加の水素化ホウ素リチウム6
.0H1(0,28ミリモル)を加え、攪拌をさらに3
時間続けた。この混合物は一78℃に冷却し、飽和塩化
アンモニウム溶液で反応を止め、そして室温へ温めた。
2.#2920.2883,1736,1705,16
79,1577゜1508.1460,1420,13
83,1311,1240゜1192.1169,10
80,1007,836,730m ’質量スペクト
ル: FAB(3−NOBA/Na−yトリックス)実
測値MNa”2270.理論値(Ct*tH宜toNt
017 S is S Na+) 2270゜
製造例9 リシンB (D9) 方法人 N−(9−フルオレニルメトキシカルボニル)−13−
0−メチル−3,5,8,9,11,15゜35、2’
、 4’−ノナ−0−トリエチルシリルアンホテリシン
B(2−ピリジルチオ)エステル(D7)61岬(0,
03ミリモル)を乾燥テトラヒドロフラン2−中で一1
0℃ないし室温にて攪拌し、水素化ホワ素リチウム(テ
トラヒドロフラン中のo、s7M?I液)0.9d(0
,51ミリモル)を3回に分けて30分にわたって加え
た。室温で一晩攪拌後、追加の水素化ホウ素リチウム6
.0H1(0,28ミリモル)を加え、攪拌をさらに3
時間続けた。この混合物は一78℃に冷却し、飽和塩化
アンモニウム溶液で反応を止め、そして室温へ温めた。
生成物をジエチルエーテルに抽出し、有機抽出物を無水
硫酸マグネシウムで乾燥し、戸遇し、濃縮した。シリカ
ゲルによるフラッシュクロマトグラフィーKかけ、ジク
ロロメタン中の0−2%ジエチルエーテルで溶出して表
題化合物(D9)を黄色のガラスとして得た。
硫酸マグネシウムで乾燥し、戸遇し、濃縮した。シリカ
ゲルによるフラッシュクロマトグラフィーKかけ、ジク
ロロメタン中の0−2%ジエチルエーテルで溶出して表
題化合物(D9)を黄色のガラスとして得た。
方法B
N−(9−フルオレニルメトキシカルボニル)−13−
0−メチル−3,5,8,9,11,15゜35.2′
,4′−ノナ−0−)リエチルシリルアンホテリシンB
(2−ピリジルチオ)エステル(D7)3.2sf(1
,43ミリモル)をジエチルエーテル6〇−中で窒素雰
囲気下室部にて攪拌し、水素化ホウ素リチウム0.15
0f(6,89ミリモル)で処理した。2時間後、この
混合物を0℃に冷却し、飽和塩化アンモニウム溶液を加
えて激しり2.3分間攪拌した。生成物をジエチルエー
テルに抽出し、合わせた有機抽出物を無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、濾過し、その後真空濃縮した。シリカゲ
ル鈍よるフラッシュクロマトグラフィーにかけ、ジエチ
ルエーテル/ジクロロメタン混合溶剤で溶出して表題化
合物(D9)を黄色のガラス質固体として得た。
0−メチル−3,5,8,9,11,15゜35.2′
,4′−ノナ−0−)リエチルシリルアンホテリシンB
(2−ピリジルチオ)エステル(D7)3.2sf(1
,43ミリモル)をジエチルエーテル6〇−中で窒素雰
囲気下室部にて攪拌し、水素化ホウ素リチウム0.15
0f(6,89ミリモル)で処理した。2時間後、この
混合物を0℃に冷却し、飽和塩化アンモニウム溶液を加
えて激しり2.3分間攪拌した。生成物をジエチルエー
テルに抽出し、合わせた有機抽出物を無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、濾過し、その後真空濃縮した。シリカゲ
ル鈍よるフラッシュクロマトグラフィーにかけ、ジエチ
ルエーテル/ジクロロメタン混合溶剤で溶出して表題化
合物(D9)を黄色のガラス質固体として得た。
Rf:0.44(シリカ)、2チジエチルエーテル/ジ
クロロメダン。
クロロメダン。
δH400MHz((CDs)t Co) 7.87
(2H,d、 J 7.5Hz)。
(2H,d、 J 7.5Hz)。
7.69(2H,d、 J 7.4Hz)、 7.43
(2H,t、 J 7.4Hz)、 7.34((2H
,t、 J 7.4Hz)、 6.54−6.10(i
2H,連fJm)、 6.06(IH,dd、 J
15.4.6.1Hz )、 5.51 (IH,d
d、 J 14.8.9.7Hz)、 5.37(LH
,d、 J 9゜8Hz)、4.78(IH,s)、4
.78−4.62(2H,m)、4.48(IH,dd
、J 10.4,65Hz)。
(2H,t、 J 7.4Hz)、 7.34((2H
,t、 J 7.4Hz)、 6.54−6.10(i
2H,連fJm)、 6.06(IH,dd、 J
15.4.6.1Hz )、 5.51 (IH,d
d、 J 14.8.9.7Hz)、 5.37(LH
,d、 J 9゜8Hz)、4.78(IH,s)、4
.78−4.62(2H,m)、4.48(IH,dd
、J 10.4,65Hz)。
4.34(IH,dd、 J 10.4.6.5Hz)
、 4.30−4.08(4H,m)、4.05−3.
76(6H,m)、3.74−3.58(3H,m)、
3.47(IH,t、J 9.0H2)、3.35(I
H。
、 4.30−4.08(4H,m)、4.05−3.
76(6H,m)、3.74−3.58(3H,m)、
3.47(IH,t、J 9.0H2)、3.35(I
H。
m)、3.12(3H,s)、2.63−2.50(2
H,rn)、2.48−2.36 (2H6m)、
2.12 (IH,dd、 J 12.3. 4.4
H1)e 2.07−1.25 (14H,連続m)、
1.25(3H。
H,rn)、2.48−2.36 (2H6m)、
2.12 (IH,dd、 J 12.3. 4.4
H1)e 2.07−1.25 (14H,連続m)、
1.25(3H。
d、 J 6.IHz)、 1.18(3H,d
、 J 6.0Hz)、 1.14−0.85(
87H,!続m)、0.80−0.53(54H,連続
m ) PPm、 OHプロトンは観察されなかった。
、 J 6.0Hz)、 1.14−0.85(
87H,!続m)、0.80−0.53(54H,連続
m ) PPm、 OHプロトンは観察されなかった。
IR’maX(薄膜): 3600−3000(弱い、
巾広)3450.29b8,2915,2879,17
37,1510゜1461.1414,1380,13
09,1240,1193゜1110.1078,10
07,905,839,740゜725.674CM’ 質量スペクトル: FAB(3−NOBA/Na−rト
リックス)実測値MNa+2195.理論値(C117
HztsNOtsSi*Na+) 2195 。
巾広)3450.29b8,2915,2879,17
37,1510゜1461.1414,1380,13
09,1240,1193゜1110.1078,10
07,905,839,740゜725.674CM’ 質量スペクトル: FAB(3−NOBA/Na−rト
リックス)実測値MNa+2195.理論値(C117
HztsNOtsSi*Na+) 2195 。
製造例10
(DIO)
乾燥ジクロロメタン4−中の乾燥ジメチルスルホキシド
10911F(0,0(Jd、1.30ミリモル)およ
びテトラメチル尿素1511sp(0,16−。
10911F(0,0(Jd、1.30ミリモル)およ
びテトラメチル尿素1511sp(0,16−。
1、30 ミリモル)の混合物を窒素雰囲気下−78℃
で攪拌し、無水トリフルオロ酢酸136sv(0,09
z−、0,65ミリモル)をシリンジから滴下した。1
5分後ジクロロメタン4−中の製造例9のアルコール1
41v(0,07ミリモ、/L/)をカニユーレから加
えた。この混合物を一78℃〜−60℃で1.5時間攪
拌した後、トリエチルアミン132■(0,18m、
1.30ミリモル)を滴下した。−78℃でさらに1
5分間攪拌後、この混合物を室温へ温めて飽和炭酸水素
ナトリウム溶液で反応を止めた。生成物はジエチルエー
テルに抽出し、合わせた有機抽出物を無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、戸遇し、蒸発させた。シリカゲルによる
フラッシュクロマトグラフィーにかけ、1%ジエチルエ
ーテル/ジクロロメタンで溶出して表題化合物を橙黄色
のガラス質固体として得た。
で攪拌し、無水トリフルオロ酢酸136sv(0,09
z−、0,65ミリモル)をシリンジから滴下した。1
5分後ジクロロメタン4−中の製造例9のアルコール1
41v(0,07ミリモ、/L/)をカニユーレから加
えた。この混合物を一78℃〜−60℃で1.5時間攪
拌した後、トリエチルアミン132■(0,18m、
1.30ミリモル)を滴下した。−78℃でさらに1
5分間攪拌後、この混合物を室温へ温めて飽和炭酸水素
ナトリウム溶液で反応を止めた。生成物はジエチルエー
テルに抽出し、合わせた有機抽出物を無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、戸遇し、蒸発させた。シリカゲルによる
フラッシュクロマトグラフィーにかけ、1%ジエチルエ
ーテル/ジクロロメタンで溶出して表題化合物を橙黄色
のガラス質固体として得た。
Rf:o、72(シリカ)、2%ジエチルエーテル/ジ
クロロメタン。
クロロメタン。
δC67,8M〆Z ((CDs)*CO): 204
.2,170.5゜156.3.145.1.142.
2.139.3.135.6.135.4゜’!’;3
4.t、 134.2.133.6.132.5.13
2.4,132.2゜131.5.131.3.130
.6.128.5.127.8.125.8゜125.
7.120.8.101.4.9B、6.767、76
.3゜76.0.74.5.74.0.73.5.73
.2.71.1.67.4゜67.3.67.2.65
.2.62.9.58.1.48.3.48.0゜45
.8.44.3.43.4.42.3.41.4.40
.8.36.3゜35.6.27.5.20.0.19
.3.19.0.11.2.7.64゜7.61.7.
5.7.3.7.1.6.8.6.6.6.4.6.2
.5.9゜5.8,5.6,5.4ppm。
.2,170.5゜156.3.145.1.142.
2.139.3.135.6.135.4゜’!’;3
4.t、 134.2.133.6.132.5.13
2.4,132.2゜131.5.131.3.130
.6.128.5.127.8.125.8゜125.
7.120.8.101.4.9B、6.767、76
.3゜76.0.74.5.74.0.73.5.73
.2.71.1.67.4゜67.3.67.2.65
.2.62.9.58.1.48.3.48.0゜45
.8.44.3.43.4.42.3.41.4.40
.8.36.3゜35.6.27.5.20.0.19
.3.19.0.11.2.7.64゜7.61.7.
5.7.3.7.1.6.8.6.6.6.4.6.2
.5.9゜5.8,5.6,5.4ppm。
IRUma、lf膜): 3452,2957.291
2゜2879.2730(弱い)、1733,1503
,1459゜1412、 1378. 1309. 1
240. 1190゜1110.1079,1007,
977.903,862゜833.740,671z−
” 質量スペクトル: FAB(3−NOBAマトリックス
)実測値M”2170.理論値(CttyHztxNO
+sS 1s)2170゜ 製造例11 N−(9−フルオレニルメトキシカルボニル)−3,5
,8。 9. 11. 15. 35. 2
’、 4’ −ノ ブーー〇−トリエチルシリル−
13,14−アンヒドロアンホテリシンB(2−ピリジ
ルチオ)エステ#(D8)282wq(0,13ミリモ
ル)および水素化ホウ素リチウム16.40!(0,7
5ミリモル)の混合物を乾燥テトラヒドロフラン1o−
中で窒素雰囲気下室源にて攪拌した。18時間後この混
合物を一78℃に冷却し、飽和塩化アンモニウム溶液で
反応を止め、その後室温へ温めた。生成物はジエチルエ
ーテルに抽出し、合わせた抽出物を無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥し1濾過し1蒸発させた。シリカゲルによるフ
ラッシュクロマトグラフィーにかけ、1−3%ジエチル
エーテル/ジクロロメタンで溶出して表題化合物を黄色
のガラスとして得た。
2゜2879.2730(弱い)、1733,1503
,1459゜1412、 1378. 1309. 1
240. 1190゜1110.1079,1007,
977.903,862゜833.740,671z−
” 質量スペクトル: FAB(3−NOBAマトリックス
)実測値M”2170.理論値(CttyHztxNO
+sS 1s)2170゜ 製造例11 N−(9−フルオレニルメトキシカルボニル)−3,5
,8。 9. 11. 15. 35. 2
’、 4’ −ノ ブーー〇−トリエチルシリル−
13,14−アンヒドロアンホテリシンB(2−ピリジ
ルチオ)エステ#(D8)282wq(0,13ミリモ
ル)および水素化ホウ素リチウム16.40!(0,7
5ミリモル)の混合物を乾燥テトラヒドロフラン1o−
中で窒素雰囲気下室源にて攪拌した。18時間後この混
合物を一78℃に冷却し、飽和塩化アンモニウム溶液で
反応を止め、その後室温へ温めた。生成物はジエチルエ
ーテルに抽出し、合わせた抽出物を無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥し1濾過し1蒸発させた。シリカゲルによるフ
ラッシュクロマトグラフィーにかけ、1−3%ジエチル
エーテル/ジクロロメタンで溶出して表題化合物を黄色
のガラスとして得た。
Rt:o、4o(シリカ)、1%ジエチルエーテル/ジ
クロロメタン。
クロロメタン。
δH270MHz((CDs)zco)ニア、88(2
H,d、J7.4Hz)、7.70(2H,d、J
7.4Hz)、7.46−7.34(4H,m)、6.
60−6.05(13H,連続m)、5.55(IH,
dd、J 9,14Hz)、5.39(IH,d、J
l 0.6Hz )、 4.75−3.65 (18H
,連続m、4.73(IH,sを含む)、 4.65
(IH,d、 J 2Hz)。
H,d、J7.4Hz)、7.70(2H,d、J
7.4Hz)、7.46−7.34(4H,m)、6.
60−6.05(13H,連続m)、5.55(IH,
dd、J 9,14Hz)、5.39(IH,d、J
l 0.6Hz )、 4.75−3.65 (18H
,連続m、4.73(IH,sを含む)、 4.65
(IH,d、 J 2Hz)。
3.93(IH,d、 J 3Hz))、 3.6
0(IH,dt、 J 3.0゜9.5Hz)、3
.46(IH,t、J 9.0Hz)、3.31(I
H。
0(IH,dt、 J 3.0゜9.5Hz)、3
.46(IH,t、J 9.0Hz)、3.31(I
H。
m)、2.58(2H,m)、2.50−1.45(1
5H,連im)。
5H,連im)。
1.25(3H,d、 J 6.IHz)、 1.
18(3H,d、 J 6.7Hz)、1.15−
0.80(87H,連続m)、 0.75−0.45
(54H,連続m ) ppm 、 OHプロトンは観
察されなかった。
18(3H,d、 J 6.7Hz)、1.15−
0.80(87H,連続m)、 0.75−0.45
(54H,連続m ) ppm 、 OHプロトンは観
察されなかった。
IR’ma!(薄膜): 3600−3300(巾広1
弱い)、3440,2950,2902,2870,1
726゜1668.1505.1455,1408,1
372,1302゜1233.1187,1161.1
0?3,1000,898゜857.833,805,
732,720,667cm ’質量スペクトル:
FAB(3−NOBA/Na−rトリックス)実測値M
Na” 2163.理論値(C1tsHzosNOty
St@Nm”) 2163゜ 製造例12 N−トリフルオロアセチルアンホテリシンB(D12) 乾燥ジメチルホルムアミド100d/メタノール1Od
中のアンホテリシン82.20 f (2,38ミリモ
ル)、トリフルオロ酢酸エチル0.51F(0,43m
、 3.57ミリモル)およびジイソプロピルエチル
アミン0.46 t (0,62W#t、 3.57
ミリモル)の混合物を窒素雰囲気下に室温で攪拌した。
弱い)、3440,2950,2902,2870,1
726゜1668.1505.1455,1408,1
372,1302゜1233.1187,1161.1
0?3,1000,898゜857.833,805,
732,720,667cm ’質量スペクトル:
FAB(3−NOBA/Na−rトリックス)実測値M
Na” 2163.理論値(C1tsHzosNOty
St@Nm”) 2163゜ 製造例12 N−トリフルオロアセチルアンホテリシンB(D12) 乾燥ジメチルホルムアミド100d/メタノール1Od
中のアンホテリシン82.20 f (2,38ミリモ
ル)、トリフルオロ酢酸エチル0.51F(0,43m
、 3.57ミリモル)およびジイソプロピルエチル
アミン0.46 t (0,62W#t、 3.57
ミリモル)の混合物を窒素雰囲気下に室温で攪拌した。
−晩攪拌後この混合物は氷酢酸的1−を含むジエチルエ
ーテル4tに注いだ。沈殿した固体を戸取し、ジエチル
エーテルおよび酢酸エチルで洗い、乾燥して表題化合物
(D12)を褐色粉末として得た。
ーテル4tに注いだ。沈殿した固体を戸取し、ジエチル
エーテルおよび酢酸エチルで洗い、乾燥して表題化合物
(D12)を褐色粉末として得た。
HPLC:逆相ODS 5μ 250X4.6■カラ
ム;溶離剤78%メタノール−22チリン酸緩衝液(p
Ha)−1w/分;検出波長350nm;保持時間7.
9分。
ム;溶離剤78%メタノール−22チリン酸緩衝液(p
Ha)−1w/分;検出波長350nm;保持時間7.
9分。
δH270MHz(d4−メタノール/ d s −ピ
リジン1:1)675−6.23(13H,遅Ii9.
m)、 5.75−5.40(2H,m、溶媒ピークで
一部遮M)、 5.0−4.60(5H9連続m)、
4.49(IH,m)、4.37(IH。
リジン1:1)675−6.23(13H,遅Ii9.
m)、 5.75−5.40(2H,m、溶媒ピークで
一部遮M)、 5.0−4.60(5H9連続m)、
4.49(IH,m)、4.37(IH。
dd、 J 3.0.10.5Hz)、 4.27(I
H,d、 J 3.OHz )、 4.05−3.8
0 (3H,m)、 3.57 (IH,m)。
H,d、 J 3.OHz )、 4.05−3.8
0 (3H,m)、 3.57 (IH,m)。
3.45−3.30(2H,m)、2.70−2.30
(6H,連続m)。
(6H,連続m)。
2.28−1.30(13H,連Mm)、1.43(3
H,d、J6.3Hz)、1.36(3H,d、J
6.6Hz)、1.25(3H。
H,d、J6.3Hz)、1.36(3H,d、J
6.6Hz)、1.25(3H。
d、J 6.3H2)、1.18(3H,d、J 7
.2Hz)、ppm。
.2Hz)、ppm。
IR’max(KBr錠):3400(巾広)、292
0゜1720.1552,1379,1323,117
2,1063゜1010.883,847.7956R
−’B(D13) 0↑ES N−トリフルオロアセチルアンホテリシンB(Di2)
1.99F(1,96ミリモル)およびd−10−ショ
ウノウスルホン!18ONl(0,77ミリモル)を乾
燥テトラヒドロフラン10m/メタノール60−中で窒
素雰囲気下室温にて攪拌した。
0゜1720.1552,1379,1323,117
2,1063゜1010.883,847.7956R
−’B(D13) 0↑ES N−トリフルオロアセチルアンホテリシンB(Di2)
1.99F(1,96ミリモル)およびd−10−ショ
ウノウスルホン!18ONl(0,77ミリモル)を乾
燥テトラヒドロフラン10m/メタノール60−中で窒
素雰囲気下室温にて攪拌した。
15分抜上リエチルアミン118w1I(0,16m。
1.16ミリモル)を加え、この溶液を約10mになる
まで濃縮し、その後ジエチルエーテル2tに加えた。沈
殿した生成物はF取し、ジエチルエーテルおよび酢酸エ
チルで洗い、乾燥してN−トIJフルオロアセチル−1
3−〇−メチルアンホテリシンBを黄色の粉末として得
た。
まで濃縮し、その後ジエチルエーテル2tに加えた。沈
殿した生成物はF取し、ジエチルエーテルおよび酢酸エ
チルで洗い、乾燥してN−トIJフルオロアセチル−1
3−〇−メチルアンホテリシンBを黄色の粉末として得
た。
HPLC:製造例12と同一の条件;保持時間5.1分
。
。
黄色の粉末は窒素雰囲気下0℃で乾燥ジクロロメタン6
0Wt中に懸濁し、2.6−ルチジン2.51 ? (
2,72m、 23.40ミリモル)次いでトリフル
オロメタンスルホン酸トリエチルシリル4.77 t
(4,081It、 18.00ミリモル)をシリン
ジから加えた。0℃で30分攪拌後溶媒を蒸発させ、残
留物をバーヘキサンに培かし、濾過し、そして戸液を再
濃縮した。シリカゲルによるカラムクロマトグラフィー
にかけ、n−ヘキサン/酢酸エチル混合溶剤で溶出して
2種類の主生成物を得た。
0Wt中に懸濁し、2.6−ルチジン2.51 ? (
2,72m、 23.40ミリモル)次いでトリフル
オロメタンスルホン酸トリエチルシリル4.77 t
(4,081It、 18.00ミリモル)をシリン
ジから加えた。0℃で30分攪拌後溶媒を蒸発させ、残
留物をバーヘキサンに培かし、濾過し、そして戸液を再
濃縮した。シリカゲルによるカラムクロマトグラフィー
にかけ、n−ヘキサン/酢酸エチル混合溶剤で溶出して
2種類の主生成物を得た。
(a)13−Q−メチル誘導体Bfo、3s(シリカ)
−10%酢酸エチル/n−ヘキサン。
−10%酢酸エチル/n−ヘキサン。
(b)13.14−アンヒドロ銹導体Rf0.23(シ
リカ)−10%酢酸エチル/n−ヘキサン。
リカ)−10%酢酸エチル/n−ヘキサン。
製造例114
リジルチオ エステル(Di 4 ’)製造例13にお
いて製造した粗製のN−)リフルオロアセチル−13−
〇−メチルー3.5,8゜9、 11.15.35.2
’、 4’−ノナ−0−トリエチルシリルアンホテリシ
ンB 1.16 tを、製造例7に記載したように、ジ
エチルエーテル2〇−中でトリエチルアミン64HI(
0,09mg、 0.63ミリモル)および2−チオ
ピリジルクロロホルメート148q(0,86ミリモル
、ジクロロメタン中の35 W/1si溶液4.20
m ’)によυ処理した。仕上げ処理および精製後に表
題化合物(Di4)を黄色の泡状物として得た。
いて製造した粗製のN−)リフルオロアセチル−13−
〇−メチルー3.5,8゜9、 11.15.35.2
’、 4’−ノナ−0−トリエチルシリルアンホテリシ
ンB 1.16 tを、製造例7に記載したように、ジ
エチルエーテル2〇−中でトリエチルアミン64HI(
0,09mg、 0.63ミリモル)および2−チオ
ピリジルクロロホルメート148q(0,86ミリモル
、ジクロロメタン中の35 W/1si溶液4.20
m ’)によυ処理した。仕上げ処理および精製後に表
題化合物(Di4)を黄色の泡状物として得た。
Rfo、44(シリカ)−10%酢酸エチル/n−ヘキ
サン。
サン。
δH400MH!((CDs)*CO):8.73(I
H,dd、Jl、0,4.8Hz)、7.93(IH,
dt、Jl、9,7.8Hz)。
H,dd、Jl、0,4.8Hz)、7.93(IH,
dt、Jl、9,7.8Hz)。
7.73(IH,d、 J 7.9Hz)、 7
.41 (IH,ddd、 Jl、0.4.8.7.
6Hz)、 7.21 (IH,d、 J 9.IHz
−一部重水素化きれた)s 6.61−6.11(1
2H,連続m)。
.41 (IH,ddd、 Jl、0.4.8.7.
6Hz)、 7.21 (IH,d、 J 9.IHz
−一部重水素化きれた)s 6.61−6.11(1
2H,連続m)。
5.98(IH,dd、J 5.6,15.7Hz)
、5.50(IH。
、5.50(IH。
dd、J9.6,14.7Hz)、4.82(IH,m
)、4.71(IH,s)、4.69(IH,m)、4
.48(IH,dt、J4.5゜10.3Hz )、
4.24 (IH,m)、 4.14 (IH,m)。
)、4.71(IH,s)、4.69(IH,m)、4
.48(IH,dt、J4.5゜10.3Hz )、
4.24 (IH,m)、 4.14 (IH,m)。
4.10−3.95(4H,m)、3.84(IH,d
d、J 2.6,8.8Hzλ3.73−3.60 (
3H,m、 3.67にt、 J 8.8Hzを含
む)。
d、J 2.6,8.8Hzλ3.73−3.60 (
3H,m、 3.67にt、 J 8.8Hzを含
む)。
3、52 (I H= d q−J 6J* 8.5
Hz ) −3,15(3H−a )e2.73(IH
,t、J 10.IHz)、2.57(2H,d、J6
.8)IZ)、 2.44(IH,m)、 2.3
2(IH,dd、 J 6.8゜14.9Hz )
、 2.17−1.60 (13H,連続m)、1.5
1(IH,m)、1.28(3H,d、J 6.2Hz
)、1.18(3H。
Hz ) −3,15(3H−a )e2.73(IH
,t、J 10.IHz)、2.57(2H,d、J6
.8)IZ)、 2.44(IH,m)、 2.3
2(IH,dd、 J 6.8゜14.9Hz )
、 2.17−1.60 (13H,連続m)、1.5
1(IH,m)、1.28(3H,d、J 6.2Hz
)、1.18(3H。
d、J 6.0Hz)、1.14−0.90(87H
,連続m)。
,連続m)。
0.83−0.57(54H,連続m)ppm。
質量スヘクトに: FAB(3−NOBA/Na?トリ
ックス)実測値MNa”2175±1.理論値(Cto
sHzosN*0+ySieSFsNa”)2176゜
製造例15 TES 製造例13の粗製のN −) 1jフルオロアセチル−
3,5,8,9,11,15,35,2′,4′−ノナ
−0−トリエチルクリル−13,14−アンヒドロアゾ
ホテリシンB697jlFを乾燥ジエチルエーテル10
−中で0℃にて攪拌し、トリエチルアミン33■(0,
05m、 0.33ミリモル)次いで2−チオピリジ
ルクロロホルメート77sp(o、44ミリモル、ジク
ロロメタン中の35 q/ltt溶液2.2m1)で処
理した。0℃で30分攪拌後、追加のトリエチルアミン
0、Olmおよび2−チオピリジルクロロホルメート溶
液0.5dを加え、さらに20分間攪拌を続けた。この
混合物はジエチルエーテル100ばて希釈し、無水硫酸
マグネシウムで乾燥し、濾過し、熟発させた。シリカゲ
ルによるフラッシュクロマトグラフィーにかけ、10%
酢酸エチル/n−ヘキサンで砂出して表題化合物(D1
5 ) を黄色のガラス質固体として得た。
ックス)実測値MNa”2175±1.理論値(Cto
sHzosN*0+ySieSFsNa”)2176゜
製造例15 TES 製造例13の粗製のN −) 1jフルオロアセチル−
3,5,8,9,11,15,35,2′,4′−ノナ
−0−トリエチルクリル−13,14−アンヒドロアゾ
ホテリシンB697jlFを乾燥ジエチルエーテル10
−中で0℃にて攪拌し、トリエチルアミン33■(0,
05m、 0.33ミリモル)次いで2−チオピリジ
ルクロロホルメート77sp(o、44ミリモル、ジク
ロロメタン中の35 q/ltt溶液2.2m1)で処
理した。0℃で30分攪拌後、追加のトリエチルアミン
0、Olmおよび2−チオピリジルクロロホルメート溶
液0.5dを加え、さらに20分間攪拌を続けた。この
混合物はジエチルエーテル100ばて希釈し、無水硫酸
マグネシウムで乾燥し、濾過し、熟発させた。シリカゲ
ルによるフラッシュクロマトグラフィーにかけ、10%
酢酸エチル/n−ヘキサンで砂出して表題化合物(D1
5 ) を黄色のガラス質固体として得た。
Rf:0.89(シリカ)−15チ酢酸エチル/n−ヘ
キサン。
キサン。
δH400MHz((CDs):CO):8.72(I
H,ddd。
H,ddd。
J O,9,1,9,4,8Hz)、 7.94(
IH,dt、 J 1.9゜7.7Hz)、7.7
4(IH,dt、J O,9,7,9Hz)、7.4
5(IH,ddd、 J 1.1. 4.8. 7.
6Hz)、 7.27(IH。
IH,dt、 J 1.9゜7.7Hz)、7.7
4(IH,dt、J O,9,7,9Hz)、7.4
5(IH,ddd、 J 1.1. 4.8. 7.
6Hz)、 7.27(IH。
d= J 9.2 )(z )* 6.55 6.11
(12H一連続m)。
(12H一連続m)。
6.01 (IH,dd、 J6.4. 15.4H
z)、 5.56 (IH。
z)、 5.56 (IH。
dd、J9.3,14.8Hz)、4.83−4.79
(IH,m)。
(IH,m)。
4.82(IH,s)、4.77(IH,m)、4.6
9(IH。
9(IH。
m)、4.67(IH,s)、4.35(IH,ddd
、J 2.1゜7.4,10.5Hz)、4.22(I
H,m)、4.16−4.06(2H,m)、4.05
(IH,d、J3.IHz)、4.01(114m’+
QQFxrIM dd 、T98 只6Mt、
)3.80−3.69(2H,m)、3.68(IH,
t、J 8.9Hz)。
、J 2.1゜7.4,10.5Hz)、4.22(I
H,m)、4.16−4.06(2H,m)、4.05
(IH,d、J3.IHz)、4.01(114m’+
QQFxrIM dd 、T98 只6Mt、
)3.80−3.69(2H,m)、3.68(IH,
t、J 8.9Hz)。
3.52(IH,dqe J 6.2. 8.6Hz
)、 3.04 (IH,dd。
)、 3.04 (IH,dd。
J 8J、10.7Hz)、2.58(IH,dd、J
5.8.17.1Hz。
5.8.17.1Hz。
ABX、系のA)、2.52(IH,dd、J 7,
17.1Hz。
17.1Hz。
ABX系のB)、2.43(IH,m)、2.40−2
.30(2H。
.30(2H。
m)、 2.12−1.88 (5H,連続m)、1.
82−1.58(5H,連続m)、1.51(IH,m
)、1.27(3H。
82−1.58(5H,連続m)、1.51(IH,m
)、1.27(3H。
d、J 6.2Hz)、1.19(3H,d、J 6.
0Hz)。
0Hz)。
1.10−0.92(87H,連続m)、0.77−0
.59(54H。
.59(54H。
連続m)ppm。
IR’flBLX(薄膜): 3430,2958,2
916゜2880.1737,1703,1676.1
574,1529゜1460.1416,1379,1
298. 1239,1187゜1167.1075,
1006,837,740,672ctIK ’質量ス
ヘクトk : FAB(3−NOBA/Na−vトリッ
クス)実測値2144.理論値(CtesHt曾s N
*0tsSts 5FsNa+)zx44゜ 製造例16 N−) IJフルオロアセチル−16−アセチル−16
−ゾカルポキシー13−〇−メチル−3,5,8゜9、
11.15.35.2’、 4’−ノナ−0−トリエ
チルシリルアンホテリシンB (D16)製造例14の
ピリジルチオエステル626’Q(0,31ミリモル)
を乾燥テトラヒドロフラン1〇−中で窒素雰囲気下0℃
で攪拌し、臭化メチルマグネシウム(ジエチルエーテル
中の3MI液)1.02m(3,1ミ!7モル)で処理
した。臭化メチルマグネシウムの追加バッチ2.0−を
3回に分けて4.5時間にわたって加え、この混合物を
3時間後室温へ温めた。合計5時間抜水を加え、生成物
をジエチルエーテルに抽出した。合わせた抽出物は飽和
ブラインで洗い、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過
し、濃縮した。シリカゲルによるフラッシュクロマトグ
ラフィーにかけ、ジクロロメタンで溶出して表題化合物
(D16)を黄色のガラスとして得た。
916゜2880.1737,1703,1676.1
574,1529゜1460.1416,1379,1
298. 1239,1187゜1167.1075,
1006,837,740,672ctIK ’質量ス
ヘクトk : FAB(3−NOBA/Na−vトリッ
クス)実測値2144.理論値(CtesHt曾s N
*0tsSts 5FsNa+)zx44゜ 製造例16 N−) IJフルオロアセチル−16−アセチル−16
−ゾカルポキシー13−〇−メチル−3,5,8゜9、
11.15.35.2’、 4’−ノナ−0−トリエ
チルシリルアンホテリシンB (D16)製造例14の
ピリジルチオエステル626’Q(0,31ミリモル)
を乾燥テトラヒドロフラン1〇−中で窒素雰囲気下0℃
で攪拌し、臭化メチルマグネシウム(ジエチルエーテル
中の3MI液)1.02m(3,1ミ!7モル)で処理
した。臭化メチルマグネシウムの追加バッチ2.0−を
3回に分けて4.5時間にわたって加え、この混合物を
3時間後室温へ温めた。合計5時間抜水を加え、生成物
をジエチルエーテルに抽出した。合わせた抽出物は飽和
ブラインで洗い、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過
し、濃縮した。シリカゲルによるフラッシュクロマトグ
ラフィーにかけ、ジクロロメタンで溶出して表題化合物
(D16)を黄色のガラスとして得た。
uf:o、46(シリカ)、ジクロロメタン。
δH270MHz ((CDs)雪Co) : 7.4
0 (IH,d、 J9、I Hz )、 6.50−
6.07 (12H,連続m)、6.0(IH。
0 (IH,d、 J9、I Hz )、 6.50−
6.07 (12H,連続m)、6.0(IH。
dd、 J 6.3.15.4Hz)、 5.51(I
H,dd、 J 9゜14Hz )t 4.76−4
.55 (3H,m、 4.63にSを含む)。
H,dd、 J 9゜14Hz )t 4.76−4
.55 (3H,m、 4.63にSを含む)。
4.33(IH,dt、J 5,9.6Hz)、4.
25(IH,m)。
25(IH,m)。
4.20−3.90(5H,連続m)、3.85(IH
,dd、J3、8.8Hz)、 3.80−3.57
(3H,m)、 3.42(IH,dq。
,dd、J3、8.8Hz)、 3.80−3.57
(3H,m)、 3.42(IH,dq。
J 6.3.3.2Hz)、 3.14(3H,s)、
2.69(IH,t。
2.69(IH,t。
J IQ、3)(Z)、 2゜58(2H,d、 J
6.3H1)、 2.44(IH,m)、2.28(3
H,s)、2.14−1.44(15H。
6.3H1)、 2.44(IH,m)、2.28(3
H,s)、2.14−1.44(15H。
連続rn)、1.28(3H,d、J 6.IHz)
e 1.18(3H。
e 1.18(3H。
d、 J 6.IHz)、 1.14−0.86(87
H,連続m)。
H,連続m)。
0.83−0.50(54H,連続m ) ppm。
IR’max(薄膜): 3425,2955,291
0゜2875.1731,1710,1525,145
8,1411゜1376.1305,1236,116
0.1oso(巾ム)。
0゜2875.1731,1710,1525,145
8,1411゜1376.1305,1236,116
0.1oso(巾ム)。
1001.899,864,830,739,669閏
−X製造例17 0ひ8 、C−CF。
−X製造例17 0ひ8 、C−CF。
0/
製造例15のピリジルチオエステル529′1q(0,
24ミリモル)を乾燥テトラヒドロフラン15Wt中で
窒素雰囲気下O℃にて攪拌し、臭化フェニルマグネシウ
ム(ジエチルエーテル中の3M溶液)0.79m(2,
35ミリモル)をシリンジから加えた。30分後、追加
の臭化フェニルマグネシウム溶液0.30mを加えてさ
らに1.5時間攪拌した。水を加え、生成物をジエチル
エーテルに抽出した。合わせた抽出物は飽和ブラインで
洗い、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過し、蒸発さ
せた。シリカゲルによるカラムクロマトグラフィーにか
け、n−ヘキサン/酢酸エチルおよびn−ヘキサン/ジ
クロロメタン混合溶剤で溶出して2種類の主生成物を得
た。
24ミリモル)を乾燥テトラヒドロフラン15Wt中で
窒素雰囲気下O℃にて攪拌し、臭化フェニルマグネシウ
ム(ジエチルエーテル中の3M溶液)0.79m(2,
35ミリモル)をシリンジから加えた。30分後、追加
の臭化フェニルマグネシウム溶液0.30mを加えてさ
らに1.5時間攪拌した。水を加え、生成物をジエチル
エーテルに抽出した。合わせた抽出物は飽和ブラインで
洗い、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過し、蒸発さ
せた。シリカゲルによるカラムクロマトグラフィーにか
け、n−ヘキサン/酢酸エチルおよびn−ヘキサン/ジ
クロロメタン混合溶剤で溶出して2種類の主生成物を得
た。
極性の小さいN−1フルオロアセチル誘導体は次の通シ
であった:Rf:0.71(シリカ)。
であった:Rf:0.71(シリカ)。
15%酢酸エチル/n−ヘキサン。
δH270MHz((CDs)xCo):8.12(2
H,d、 J 6.9az)、7.74−7.56(3
H,m)、7.37(IH,d、J9、IHz )、
6.57−6.09 (12H,連続m)、5.90(
IH,dd、 J 6−6、15.7Hz)、 5.5
4(IH,dd。
H,d、 J 6.9az)、7.74−7.56(3
H,m)、7.37(IH,d、J9、IHz )、
6.57−6.09 (12H,連続m)、5.90(
IH,dd、 J 6−6、15.7Hz)、 5.5
4(IH,dd。
J 10.15Hz)、 4.83(IH,d、 J
8.2H2)。
8.2H2)。
4.73(IH,s)、4.66(IH,m)、4.4
2(2H,m)。
2(2H,m)。
4.27−3.66(IOH,連続m)、 3.60
(II(、t、 J8゜9H2)、3゜05(IH,m
)、2.66−2.33(4H,m)。
(II(、t、 J8゜9H2)、3゜05(IH,m
)、2.66−2.33(4H,m)。
2.10−1.43(12H,連続m)、1.23−0
.88(93H。
.88(93H。
連続m)、0.88−0.35(54H,連続m >
ppm。
ppm。
IR’max(薄膜): 3435,2957,291
5゜2.880,1737,1675,1599,15
28,1460゜1413.1379,1296,12
40,1166.1071゜1005.897,857
,839,730,670cm−”質量スペクトル:
FAB(3−NOBA/Na −rトリックス)実測値
MNa” 2112±1.理論値(Cto會HtoaN
OxsSisFsNa)2111゜極性のよシ大きい遊
離アミノ誘導体は次の通シである: )Lf:0.38(”/リカ)、15%酢酸エテル/n
−ヘキサン。
5゜2.880,1737,1675,1599,15
28,1460゜1413.1379,1296,12
40,1166.1071゜1005.897,857
,839,730,670cm−”質量スペクトル:
FAB(3−NOBA/Na −rトリックス)実測値
MNa” 2112±1.理論値(Cto會HtoaN
OxsSisFsNa)2111゜極性のよシ大きい遊
離アミノ誘導体は次の通シである: )Lf:0.38(”/リカ)、15%酢酸エテル/n
−ヘキサン。
IR’rfl&z: 2955,2910,2879
,1736゜1672.1599.1580,1460
,1412,1366゜1306.1237,1205
,1165.1075(巾広)。
,1736゜1672.1599.1580,1460
,1412,1366゜1306.1237,1205
,1165.1075(巾広)。
1003.974,862,837,809.7363
’質量スペクトル: FAB(3−NOBA/Na
−rトリックス)実測値MNa”2016±1.理論値
(CI07Hzox?’D tssisNa+) 20
15.3゜製造例18 −16−ジカルボキシ−3,5,8,9,11,15゜
35、2’、 4’−ノナー〇−トリエチルシリル−T
ES 製造例15のピリジルチオエステル344岬(0,16
2ミリモル)を乾燥テトラヒドロフラン1〇−中で窒素
雰囲気下0℃にて攪拌し、臭化ビニルマグネシウム(テ
トラヒドロフラン中の1M溶液)2.43m(2,43
ミリモル)で処理した。
’質量スペクトル: FAB(3−NOBA/Na
−rトリックス)実測値MNa”2016±1.理論値
(CI07Hzox?’D tssisNa+) 20
15.3゜製造例18 −16−ジカルボキシ−3,5,8,9,11,15゜
35、2’、 4’−ノナー〇−トリエチルシリル−T
ES 製造例15のピリジルチオエステル344岬(0,16
2ミリモル)を乾燥テトラヒドロフラン1〇−中で窒素
雰囲気下0℃にて攪拌し、臭化ビニルマグネシウム(テ
トラヒドロフラン中の1M溶液)2.43m(2,43
ミリモル)で処理した。
0℃で0.5時間攪拌後、飽和塩化アンモニウム溶液を
加え、生成物をジエチルエーテルに抽出した。
加え、生成物をジエチルエーテルに抽出した。
合わせた有機抽出物は無水硫酸マグネシウムで乾燥し、
濾過し、F液を蒸発させた。シリカゲルによるカラムク
ロマトグラフィーにかけ、n−ヘキサン/酢酸エチル混
合溶剤で溶出して2種類の主生成物を得た。
濾過し、F液を蒸発させた。シリカゲルによるカラムク
ロマトグラフィーにかけ、n−ヘキサン/酢酸エチル混
合溶剤で溶出して2種類の主生成物を得た。
極性の小さいN−)リフルオロアセチル誘導体は次の通
シであった: Rf:0.82(シリカ)、10%酢fpxチル/n−
ヘキサン。
シであった: Rf:0.82(シリカ)、10%酢fpxチル/n−
ヘキサン。
δH400MHz((CDs)xCo): 7.34
(IH,d、J8.9Hz)、5.8(IH,m)、5
.08(IH,m)、4.98(IH,m)、4.64
(2H,8)、2.94(IH,dd、Jlo、5およ
び8.9Hz ) ppm−IRumax(薄膜):3
425(弱い)、2955゜2910.2875,17
35,1710,1670,1525゜1460.14
10,1375,1240,1165,1075゜10
05.740,725efR−’ 質量スペクトル: FAB(3−NOBA/Na)実測
値MNIL”2089.理論値(CtatH意@鵞N0
tsS tsFsNa”)2089゜ 極性のよシ大きいアミノ誘導体は次の通りであった: Rf : 0.36 (シリカ)、10%酢酸エチル/
n−ヘキサン0 δH400MHz ((CDs)z Co): 5.8
7 (IH,m)。
(IH,d、J8.9Hz)、5.8(IH,m)、5
.08(IH,m)、4.98(IH,m)、4.64
(2H,8)、2.94(IH,dd、Jlo、5およ
び8.9Hz ) ppm−IRumax(薄膜):3
425(弱い)、2955゜2910.2875,17
35,1710,1670,1525゜1460.14
10,1375,1240,1165,1075゜10
05.740,725efR−’ 質量スペクトル: FAB(3−NOBA/Na)実測
値MNIL”2089.理論値(CtatH意@鵞N0
tsS tsFsNa”)2089゜ 極性のよシ大きいアミノ誘導体は次の通りであった: Rf : 0.36 (シリカ)、10%酢酸エチル/
n−ヘキサン0 δH400MHz ((CDs)z Co): 5.8
7 (IH,m)。
5.08(IH,dd、 J 17.1および1.6H
z )e 4.98(IH,d、Jlo、2Hz)、4
.63(IH,s)、2.94(IH,dd、Jlo、
7およびs、sHz)ppm−IRumax(薄膜):
2950,2905.2875゜1735.1710
,1670,1640,1460,1410゜1375
.1240,1190,1165,1090,1005
゜865.740備−! 質量スペクトル: FAB(3−NOBA/Na)実測
値MNa+1993.理論値(CtosHxosNO1
sSisNa+)1993゜ 製造例19 臭化ピロリルマグネシウムの溶液は、窒素雰囲気下O℃
にて、乾燥テトラヒドロフラン5d中のビロール3 s
4 W (0,366mg、 5.30ミリモル)を
臭化エチルマグネシウム(ジエチルエーテル中の3M溶
液)1.26d(3,77ミリモル)で処理することに
よシ調製した。0℃で5分間および室温で5分間攪拌し
た後、このグリニヤール溶液を乾燥テトラヒドロフラン
5−中の製造例15のピリジルチオエステル+o2sv
(0,189ミリモル)の水冷溶液にカニユーレから加
えた。この混合物は0℃で20分間攪拌後、飽和塩化ア
ンモニウム溶液で反応を止めた。生成物をジエチルエー
テルに抽出し、合わせた抽田物は無水硫酸マグネジタム
で乾燥し、濾過し、FDを真空蒸発させた。シリカゲル
によるフラッシュクロマトグラフィーにかけ、酢酸エチ
ル/n−ヘキサン混合溶剤で溶出して表題化合物(DI
9 ’)を黄色のガラスとして得た。
z )e 4.98(IH,d、Jlo、2Hz)、4
.63(IH,s)、2.94(IH,dd、Jlo、
7およびs、sHz)ppm−IRumax(薄膜):
2950,2905.2875゜1735.1710
,1670,1640,1460,1410゜1375
.1240,1190,1165,1090,1005
゜865.740備−! 質量スペクトル: FAB(3−NOBA/Na)実測
値MNa+1993.理論値(CtosHxosNO1
sSisNa+)1993゜ 製造例19 臭化ピロリルマグネシウムの溶液は、窒素雰囲気下O℃
にて、乾燥テトラヒドロフラン5d中のビロール3 s
4 W (0,366mg、 5.30ミリモル)を
臭化エチルマグネシウム(ジエチルエーテル中の3M溶
液)1.26d(3,77ミリモル)で処理することに
よシ調製した。0℃で5分間および室温で5分間攪拌し
た後、このグリニヤール溶液を乾燥テトラヒドロフラン
5−中の製造例15のピリジルチオエステル+o2sv
(0,189ミリモル)の水冷溶液にカニユーレから加
えた。この混合物は0℃で20分間攪拌後、飽和塩化ア
ンモニウム溶液で反応を止めた。生成物をジエチルエー
テルに抽出し、合わせた抽田物は無水硫酸マグネジタム
で乾燥し、濾過し、FDを真空蒸発させた。シリカゲル
によるフラッシュクロマトグラフィーにかけ、酢酸エチ
ル/n−ヘキサン混合溶剤で溶出して表題化合物(DI
9 ’)を黄色のガラスとして得た。
δH400MHz((CDs)z Co): 11.
09 (IH,s )e /。
09 (IH,s )e /。
7.46(IH,d、J 9.2Hz)、7.24(
IH,m)。
IH,m)。
7−08 (I H= m ) −4,68(I H−
s ) −3−45(I He d d *J11.O
および8.6Hz ) ppm−IRumax(薄膜)
: 3415,3370,2950.2f42905.
2875,1730,1670,1620,1525゜
1455.1410,1375,1235,1165,
1070゜1005.870,835,760備−!質
量スペクトル: FAB(3−NOBA/Na)実測値
MNa”2100.4.理論値(CtuHnsNzot
s St s F3Na)2100.3゜ 実施例1 製造例3の生成物の混合物はプラスチック製のん びオに入れた乾燥テトラヒドロフラン3−中で室温にて
攪拌し、フッ化水素−ピリジンの溶液(テトラヒドロフ
ラン5〇−中のフッ化水素自ピリジン1.93Fおよび
ピリジン12.80−の溶液)7.00−で処理した。
s ) −3−45(I He d d *J11.O
および8.6Hz ) ppm−IRumax(薄膜)
: 3415,3370,2950.2f42905.
2875,1730,1670,1620,1525゜
1455.1410,1375,1235,1165,
1070゜1005.870,835,760備−!質
量スペクトル: FAB(3−NOBA/Na)実測値
MNa”2100.4.理論値(CtuHnsNzot
s St s F3Na)2100.3゜ 実施例1 製造例3の生成物の混合物はプラスチック製のん びオに入れた乾燥テトラヒドロフラン3−中で室温にて
攪拌し、フッ化水素−ピリジンの溶液(テトラヒドロフ
ラン5〇−中のフッ化水素自ピリジン1.93Fおよび
ピリジン12.80−の溶液)7.00−で処理した。
18時間攪拌後、この混合物をジエチルエーテル600
a7に注ぎ、沈殿した固体を遠心分離によシ回収した。
a7に注ぎ、沈殿した固体を遠心分離によシ回収した。
固体をジエチルエーテルで洗い、乾燥して黄色の粉末を
得た。
得た。
この粉末をテトラヒドロフラン10d/水3−中でショ
ウノウスルホン酸0.014Fと共Kflt拌した。1
.25時間後、追加のショウノウスルホン酸0.012
Fを加え、この混合物をさらに0.75時間攪拌した。
ウノウスルホン酸0.014Fと共Kflt拌した。1
.25時間後、追加のショウノウスルホン酸0.012
Fを加え、この混合物をさらに0.75時間攪拌した。
トリエチルアミン0.025w1tを加え、テトラヒド
ロフランを真空除去し、固体の生成物を水性残留物から
遠心により分離した。乾燥し、酢酸エチルでこすって淡
黄色粉末を得た。逆相シリカによるカラムクロマトグラ
フィーにかけ、テトラヒドロフラン/水混合溶剤で溶出
してN−アセチル−16−アセチル−16−ゾカルボキ
シアンホテリシンBを得た。
ロフランを真空除去し、固体の生成物を水性残留物から
遠心により分離した。乾燥し、酢酸エチルでこすって淡
黄色粉末を得た。逆相シリカによるカラムクロマトグラ
フィーにかけ、テトラヒドロフラン/水混合溶剤で溶出
してN−アセチル−16−アセチル−16−ゾカルボキ
シアンホテリシンBを得た。
IRumax(KBr錠): 3400(巾広)、29
25゜1720.1700,1658,1375,13
10,1180゜1108.1065,1010,85
0eM−”δH(270MHz)、 (d−6DMSO
) ニア、63 (IH,d、 J8.3Hz)、6.
55−6.05(12H;連続m)、5.95(IH,
dd、J 15および9Hz)、5.94(IH* s
。
25゜1720.1700,1658,1375,13
10,1180゜1108.1065,1010,85
0eM−”δH(270MHz)、 (d−6DMSO
) ニア、63 (IH,d、 J8.3Hz)、6.
55−6.05(12H;連続m)、5.95(IH,
dd、J 15および9Hz)、5.94(IH* s
。
D鵞Oと交換)、5.43(IH,dd、J 13.
5および9.9Hz )e 5.39 (IH,s、
DsOと交換)t 5.22(IH。
5および9.9Hz )e 5.39 (IH,s、
DsOと交換)t 5.22(IH。
m)、 4.90 (LH,d、 J 6Hz、
DIOと交換)、4.85−4.55(6H,多重線
、D20と交換)、 4.45(IH,d、 J6
[z 、D* 0と交換) −4−32(I H−s
) e 4−35−4.17(3H,m)、 4
.09−3.88 (2H,m)、 3.70−3.
35(4H,m)、 3.20−2.95(4H,m
)、 2.50−2.05(5H1連続m)、2.1
5(3H,@)、1.95−1.0(14H,連続m)
、1.85(3H,8)、1.14(3H。
DIOと交換)、4.85−4.55(6H,多重線
、D20と交換)、 4.45(IH,d、 J6
[z 、D* 0と交換) −4−32(I H−s
) e 4−35−4.17(3H,m)、 4
.09−3.88 (2H,m)、 3.70−3.
35(4H,m)、 3.20−2.95(4H,m
)、 2.50−2.05(5H1連続m)、2.1
5(3H,@)、1.95−1.0(14H,連続m)
、1.85(3H,8)、1.14(3H。
d、 J 5.2Hz)、 1.11 (3H,
d、 J 6.6Hz)、 1.03(3H,d、
J 6.3Hz)、0.91(3H,d、6.9Hz
)ppm。
d、 J 6.6Hz)、 1.03(3H,d、
J 6.3Hz)、0.91(3H,d、6.9Hz
)ppm。
質量スペクトル: FAB(3−NOBA/Naマトリ
ックス)実測値MNa”986.理論値(Cl1OH7
7NO17Na”)986. s。
ックス)実測値MNa”986.理論値(Cl1OH7
7NO17Na”)986. s。
HPLC:逆相ODS 5p 250X4.6mカ
ラム; p離削78%メタノール/221Jン酸緩衝液
(pH3)−1Mt/分;検出波長350 nm ;保
持時間8.0分。
ラム; p離削78%メタノール/221Jン酸緩衝液
(pH3)−1Mt/分;検出波長350 nm ;保
持時間8.0分。
実施例2
H
製造例16の生成物154wq(0,08ミリモル)お
よびフッ化水素−ビリジン溶液(フッ化水素・ピリジン
2.36tとピリジン14−をテトラヒドロフラン中に
加えて63−とじた溶液)4.6−をプラスチック製び
んの中で室温にて一晩攪拌した。
よびフッ化水素−ビリジン溶液(フッ化水素・ピリジン
2.36tとピリジン14−をテトラヒドロフラン中に
加えて63−とじた溶液)4.6−をプラスチック製び
んの中で室温にて一晩攪拌した。
この混合物をジエチルエーテル/n−ヘキサン(1:1
)600−中に注ぎ、沈殿した固体を遠心分離によシ回
収し、ジエチルエーテルで洗い、メタノールに溶解し、
濾過し、濃縮して黄色の粉末を得た。
)600−中に注ぎ、沈殿した固体を遠心分離によシ回
収し、ジエチルエーテルで洗い、メタノールに溶解し、
濾過し、濃縮して黄色の粉末を得た。
この黄色粉末はd−10−ショウノウスルホンW! 8
.0 mgを含むテトラヒドロフラン3−/水1−中で
室温において攪拌した。3.5時間攪拌後、トリエチル
アミン0.01−を加えて、この混合物を回転蒸発器で
濃縮した。粗生成物をジエチルエーテル/酢酸エチルで
とすシ、表題化合物のN−)リフルオロアセチル誘導体
を黄色の粉末として得た。この生成物はテトラヒドロフ
ラン5−、メタノール2,5−および0.880アンモ
ニア溶液2.5d中で室温において攪拌した。4時間後
、追加の0.880アンモニア溶液allI1gを加え
、攪拌をさらに4時間続け、その後この混合物を冷凍庫
に一晩貯蔵した。追加の0.880アンモニア溶液2−
を加え、攪拌を室温でさらに6時間続けた。溶媒を回転
蒸発器で除き、残留物をジエチルエーテルで洗い、乾燥
して褐色の固体を得た。シリカゲルによるクロマトグラ
フィーにかけ、クロロホルム/メタノール10.880
アンモニア混合物の下相で溶出して表題化合物を黄色粉
末として得た。
.0 mgを含むテトラヒドロフラン3−/水1−中で
室温において攪拌した。3.5時間攪拌後、トリエチル
アミン0.01−を加えて、この混合物を回転蒸発器で
濃縮した。粗生成物をジエチルエーテル/酢酸エチルで
とすシ、表題化合物のN−)リフルオロアセチル誘導体
を黄色の粉末として得た。この生成物はテトラヒドロフ
ラン5−、メタノール2,5−および0.880アンモ
ニア溶液2.5d中で室温において攪拌した。4時間後
、追加の0.880アンモニア溶液allI1gを加え
、攪拌をさらに4時間続け、その後この混合物を冷凍庫
に一晩貯蔵した。追加の0.880アンモニア溶液2−
を加え、攪拌を室温でさらに6時間続けた。溶媒を回転
蒸発器で除き、残留物をジエチルエーテルで洗い、乾燥
して褐色の固体を得た。シリカゲルによるクロマトグラ
フィーにかけ、クロロホルム/メタノール10.880
アンモニア混合物の下相で溶出して表題化合物を黄色粉
末として得た。
Rf o、az(シリカ)、2:1:1クロロホルム/
メタノール10.880アンモニア(下相)・。
メタノール10.880アンモニア(下相)・。
δH400MH2(d4−メタノール/d5−ビリジy
t:i):6.69−6.27 (131(、連続m
) 、 5.65 (I He m )C5,50(
IH,dd、J 10.2,14.8Hz)、4.85
(IH。
t:i):6.69−6.27 (131(、連続m
) 、 5.65 (I He m )C5,50(
IH,dd、J 10.2,14.8Hz)、4.85
(IH。
m)、4.71(IH,s)、4.70−4.62(2
H,m)。
H,m)。
4.58(IH,ddd、J 4.6,10.5,1
0.8Hz)。
0.8Hz)。
4.46(IH,tt、 J 3.0. 9.7H
,Z)、 4.23(IH。
,Z)、 4.23(IH。
d、 J 3.0Hz)、 3.97(IH,m
)、 3.87.(IH,m)。
)、 3.87.(IH,m)。
3.52(IH,t、 J 9.3.Hz)、 3.
49−3.36(3H,m)。
49−3.36(3H,m)。
2.92(IH,dd、J 3.1,9.4H2)、
2.73(IH。
2.73(IH。
t、Jlo、5Hz)、2.57(IH,m)、2.5
0(IH。
0(IH。
dd、J 9.7,16.8Hz)、2.40(3H
,a)、2.36(IH,dd、 J 2.8.
16.8Hz)、2.30(IH,J4.6,12.1
Hz)、2.20−2.08(2H,m)、2.06−
1.97<2H,m)、1.90−1.48(IOH,
連続m)。
,a)、2.36(IH,dd、 J 2.8.
16.8Hz)、2.30(IH,J4.6,12.1
Hz)、2.20−2.08(2H,m)、2.06−
1.97<2H,m)、1.90−1.48(IOH,
連続m)。
t、44(3H,d、 J 5.9Hz)、 1.36
(3H,d、 J 6.4Hz)。
(3H,d、 J 6.4Hz)。
1.25(3H,d、 J 6.4Hz)、 1
.17(3H,d、 J7.2Hz)ppm・ IR’max(KBr 錠): 3380(巾広)、2
920゜1700(1721に肩)、1445,136
6.1307゜1268.1180,1104,106
3,1009,883゜845cIR’ 質量スペクトル:FAB(チオグリセロールマトリック
ス)実測値Mu” 922.理論値(C45HysNO
xsH’)922.5゜ 実施例3 製造例17の遊離アミノ生成物248111P (0,
12ミリモル)およびフッ化水素−ビリジン溶液(フッ
化水素・ピリジン2.36fとピリジン14−をテトラ
ヒドロフランに加えて63mとした溶液)7.60−を
プラスチック製びんの中で室温において18時間攪拌し
た。この混合物をジエチルエーテル/n−ヘキサン(1
:1)1 tに注ぎ、固体の生成物を遠心分離によシ回
収し、ジエチルエーテルで洗い、メタノールに溶解し、
濾過し、濃縮して表題化合物の13.14−アンヒドロ
誘導体を得た。
.17(3H,d、 J7.2Hz)ppm・ IR’max(KBr 錠): 3380(巾広)、2
920゜1700(1721に肩)、1445,136
6.1307゜1268.1180,1104,106
3,1009,883゜845cIR’ 質量スペクトル:FAB(チオグリセロールマトリック
ス)実測値Mu” 922.理論値(C45HysNO
xsH’)922.5゜ 実施例3 製造例17の遊離アミノ生成物248111P (0,
12ミリモル)およびフッ化水素−ビリジン溶液(フッ
化水素・ピリジン2.36fとピリジン14−をテトラ
ヒドロフランに加えて63mとした溶液)7.60−を
プラスチック製びんの中で室温において18時間攪拌し
た。この混合物をジエチルエーテル/n−ヘキサン(1
:1)1 tに注ぎ、固体の生成物を遠心分離によシ回
収し、ジエチルエーテルで洗い、メタノールに溶解し、
濾過し、濃縮して表題化合物の13.14−アンヒドロ
誘導体を得た。
この生成物はd−10−ショウツクスルホン酸48qを
含むテトラヒドロ7ラン6−/水2+d中で室温におい
て攪拌した。反応の2時間後と3時間後に追加のd−1
0−ショウツクスルホン酸をそれぞれ20vと、32w
q加えた。合計5.5時間攪拌した後、トリエチルアミ
ン0.08−を加え、この混合物を回転蒸発器で濃縮し
た。粗生成物は最少量のテトラヒドロフラン/ジメチル
スルホキシド中に溶かし、ジエチルエーテル400−に
加えた。沈殿した固体を遠心分峠により回収し、シリカ
ゲルによるクロマトグラフィーにかけ、5:2:2クロ
ロホルム/メタノール10.880アンモニア溶液(下
相)で溶出して表題化合物を黄色の固体として得た。
含むテトラヒドロ7ラン6−/水2+d中で室温におい
て攪拌した。反応の2時間後と3時間後に追加のd−1
0−ショウツクスルホン酸をそれぞれ20vと、32w
q加えた。合計5.5時間攪拌した後、トリエチルアミ
ン0.08−を加え、この混合物を回転蒸発器で濃縮し
た。粗生成物は最少量のテトラヒドロフラン/ジメチル
スルホキシド中に溶かし、ジエチルエーテル400−に
加えた。沈殿した固体を遠心分峠により回収し、シリカ
ゲルによるクロマトグラフィーにかけ、5:2:2クロ
ロホルム/メタノール10.880アンモニア溶液(下
相)で溶出して表題化合物を黄色の固体として得た。
Rf:o、32(シリカ)、2:1:1クロロホルム/
メタメール10.88(、アンモニア溶液(下相)。
メタメール10.88(、アンモニア溶液(下相)。
δH400M)iZ(d4−メタノール/d5−ピリジ
ン1;1):8.30(2H,m)、 7.64(I
H。
ン1;1):8.30(2H,m)、 7.64(I
H。
m)、 7.56 (2H,m)、 6.69−6
.24(13H,連続m)、5.66(IH,m)、5
.50(IH,dd。
.24(13H,連続m)、5.66(IH,m)、5
.50(IH,dd。
J 14.9. 10.2Hz)、 5.01 (
IH,t、 J4.7. 9.5Hz)。
IH,t、 J4.7. 9.5Hz)。
4.87(LH,ddd、 J 4.7. 10.
1. 11.1Hz)、 4.70(IH,m)、4
.61 (IH,m)、4.47 (IH,m)。
1. 11.1Hz)、 4.70(IH,m)、4
.61 (IH,m)、4.47 (IH,m)。
4.46(IH,8)、4.31 (IH,d、J3.
IHz)、3.98(IH,m)、3.89(IH,m
)、3.80(IH,t、Jlo、1Hz)、3.55
(IH,J 9.5Hz)、3.47(IH。
IHz)、3.98(IH,m)、3.89(IH,m
)、3.80(IH,t、Jlo、1Hz)、3.55
(IH,J 9.5Hz)、3.47(IH。
m)、3.38(IH,dd、J 2,9.5Hz)
、3.25(IH。
、3.25(IH。
dq、 J 6.1. 9.1Hz)、 2.9
7 (IH,dd、 J 3.0゜9.8H1)、
2.58(IH,m)、2.50(IH,ABX系のd
d J 9.6. 16.8Hz)、2.40(I
H,dd、J 4.7゜IL7I(z)、2.36(
IH,ABX系のdd、 J 2.8゜16.8Hz
)、2.22−1.97(4H,連続m)、1.92(
IH,dd、 J 11.0. 13.9Hz)、
1.86−1.47(9H1連続m)、 1.3
7(3H,d、 J 6.IHz)。
7 (IH,dd、 J 3.0゜9.8H1)、
2.58(IH,m)、2.50(IH,ABX系のd
d J 9.6. 16.8Hz)、2.40(I
H,dd、J 4.7゜IL7I(z)、2.36(
IH,ABX系のdd、 J 2.8゜16.8Hz
)、2.22−1.97(4H,連続m)、1.92(
IH,dd、 J 11.0. 13.9Hz)、
1.86−1.47(9H1連続m)、 1.3
7(3H,d、 J 6.IHz)。
1.36(3H,d、 J 6.4Hz)、 1
.25(3H,d、 J6.4Hz )、 1.1
7 (3H,d、 J 7.2Hz ) ppm。
.25(3H,d、 J6.4Hz )、 1.1
7 (3H,d、 J 7.2Hz ) ppm。
質量スペクトル:FAB(チオグリセロールマトリック
ス)実測値MH” 984.理論値(CHH77NO1
sH+)984.5゜ 実施例4 製造例18の遊離アミノ生成物109 NIP(0,0
55ミリモル)およびフッ化水素−ピリジン(フッ化水
素・ピリジン11.4fおよびピリジン80wtをテト
ラヒドロフランに加えて200−とじた溶液)2.2−
をプラスチック族びんの中で窒素雰囲気下室温にて18
時間攪拌した。この混合物をジエチルエーテル/ n
−ヘキサy (1:1)200g1tに注ぎ、沈殿した
生成物をP遍によシ回収し、ジエチルエーテルで洗い、
メタノールに溶解し、そしてこの溶液を真空濃縮した。
ス)実測値MH” 984.理論値(CHH77NO1
sH+)984.5゜ 実施例4 製造例18の遊離アミノ生成物109 NIP(0,0
55ミリモル)およびフッ化水素−ピリジン(フッ化水
素・ピリジン11.4fおよびピリジン80wtをテト
ラヒドロフランに加えて200−とじた溶液)2.2−
をプラスチック族びんの中で窒素雰囲気下室温にて18
時間攪拌した。この混合物をジエチルエーテル/ n
−ヘキサy (1:1)200g1tに注ぎ、沈殿した
生成物をP遍によシ回収し、ジエチルエーテルで洗い、
メタノールに溶解し、そしてこの溶液を真空濃縮した。
シリカゲルによるフラッシュクロマトグラフィーにかけ
、5:2:2クロロホルム/メタノール10.880ア
ンモニア溶液(下相)で溶出して黄色の粉末を得た。
、5:2:2クロロホルム/メタノール10.880ア
ンモニア溶液(下相)で溶出して黄色の粉末を得た。
この生成物はテトラヒドロフラン3d/水1−中で室温
にて攪拌し% p−)ルエンスルホン酸ピリジニウム3
0IIFで処理した。2時間後、追加のp−)ルエンス
ルホン酸ビ!7ジニウム23wq&加え、この混合物を
室温で6時間攪拌し、冷凍庫に一晩貯蔵し、その後室温
でさらに8時間攪拌した。
にて攪拌し% p−)ルエンスルホン酸ピリジニウム3
0IIFで処理した。2時間後、追加のp−)ルエンス
ルホン酸ビ!7ジニウム23wq&加え、この混合物を
室温で6時間攪拌し、冷凍庫に一晩貯蔵し、その後室温
でさらに8時間攪拌した。
2.3滴のトリエチルアミンを加え、テトラヒドロフラ
ンを回転蒸発器で除去した。残留物は水200−に加え
、沈殿した生成物を戸数し、水で洗い、減圧下で乾燥し
た。シリカゲルによるフラッシュクロマトグラフィーに
かけ、5:2:2クロロホルム/メタノール10.88
0アンモニア溶液(下相)で溶出して表題化合物(E4
)を黄色の粉末として得た。
ンを回転蒸発器で除去した。残留物は水200−に加え
、沈殿した生成物を戸数し、水で洗い、減圧下で乾燥し
た。シリカゲルによるフラッシュクロマトグラフィーに
かけ、5:2:2クロロホルム/メタノール10.88
0アンモニア溶液(下相)で溶出して表題化合物(E4
)を黄色の粉末として得た。
δH400MHz(d4−メタノール/d、−ピリジン
1 : 1 ): 5.93(IH,m)、5.1
2(IH,m)、5.02(IH,m)および2.75
(I H,t、 J 10.4H1) PPm。
1 : 1 ): 5.93(IH,m)、5.1
2(IH,m)、5.02(IH,m)および2.75
(I H,t、 J 10.4H1) PPm。
質量スペクトル:FAB(チオジェタノール/Na)実
測値MNa” 984.理論値(Cs’tHysNOt
sN a+)984.5゜ 実施例5 ボニル アンホテ シンB (E5 製造例19の生成物320w1I(0,154ミリモル
)およびフッ化水素−ピリジン(フッ化水素・ピリジン
15.5Fおよびピリジン92−をテトラヒドロフラン
に加えて250−とじた溶液)5.7−を、プラスチッ
ク族びんに入れた乾燥テトラヒドロフラン5d中で窒素
雰囲気下室温にて攪拌した。
測値MNa” 984.理論値(Cs’tHysNOt
sN a+)984.5゜ 実施例5 ボニル アンホテ シンB (E5 製造例19の生成物320w1I(0,154ミリモル
)およびフッ化水素−ピリジン(フッ化水素・ピリジン
15.5Fおよびピリジン92−をテトラヒドロフラン
に加えて250−とじた溶液)5.7−を、プラスチッ
ク族びんに入れた乾燥テトラヒドロフラン5d中で窒素
雰囲気下室温にて攪拌した。
18時間後、この混合物をジエチルエーテル/n−ヘキ
サン(1:1)400−に注ぎ、沈殿した生成物を戸数
し、ジエチルエーテルで洗った。生成物はテトラヒドロ
フランに溶解し、短いシリカゲルカラムを通してF、過
し、溶離剤を真空濃縮して黄色の粉末を得た。この生成
物はショウノウスルホン酸15.6Wgを含むテトラヒ
ドロフラン4ゴ/水2−中で室温にて攪拌した。0.2
5時間後、追加のショウノウスルホン酸19.0111
Pを加え、攪拌をさらに3.25時間続けた。トリエチ
ルアミン23W(0,031gIt)を加え、テトラヒ
ドロフランを回転蒸発器で除去した。水性残留物を水4
00Wdに加え、沈殿した生成物を濾過によシ回収し、
水で洗い、乾燥して黄褐色の粉末を得た。
サン(1:1)400−に注ぎ、沈殿した生成物を戸数
し、ジエチルエーテルで洗った。生成物はテトラヒドロ
フランに溶解し、短いシリカゲルカラムを通してF、過
し、溶離剤を真空濃縮して黄色の粉末を得た。この生成
物はショウノウスルホン酸15.6Wgを含むテトラヒ
ドロフラン4ゴ/水2−中で室温にて攪拌した。0.2
5時間後、追加のショウノウスルホン酸19.0111
Pを加え、攪拌をさらに3.25時間続けた。トリエチ
ルアミン23W(0,031gIt)を加え、テトラヒ
ドロフランを回転蒸発器で除去した。水性残留物を水4
00Wdに加え、沈殿した生成物を濾過によシ回収し、
水で洗い、乾燥して黄褐色の粉末を得た。
この生成物はテトラヒドロフラン5−、メタノ−/l/
5−および0.880アンモニア溶液5d中で室温に
て攪拌した。3時間後、この混合物を冷凍庫に一晩貯蔵
し、その後室温でさらに8時間攪拌した。溶媒を回転蒸
発器で除去し、粗生成物はシリカによるカラムクロマト
グラフィーと分離用TLCにカケ、クロロホルム/メタ
ノール10.880アンモニア混合物の下相で溶出して
表題化合物(E5)を黄褐色の粉末として得た〇 δH400MHz (d4−メタノール/d5−ヒリシ
ン1 :1) ; 7.36(IH,m、溶媒によシ一
部遮蔽)。
5−および0.880アンモニア溶液5d中で室温に
て攪拌した。3時間後、この混合物を冷凍庫に一晩貯蔵
し、その後室温でさらに8時間攪拌した。溶媒を回転蒸
発器で除去し、粗生成物はシリカによるカラムクロマト
グラフィーと分離用TLCにカケ、クロロホルム/メタ
ノール10.880アンモニア混合物の下相で溶出して
表題化合物(E5)を黄褐色の粉末として得た〇 δH400MHz (d4−メタノール/d5−ヒリシ
ン1 :1) ; 7.36(IH,m、溶媒によシ一
部遮蔽)。
7.27 (IH,dd、 J 2.4および1.3H
z)、6.69−/6.24 (14H,連続m)、
3.38(IH,t、 J 10.3Hz)ppm
・ IRumax(KBr錠):3350(巾広)、291
0゜1705.1,610,1395,1320,11
75,1100゜1045.1005,880,845
,810,755yf1−’質量スペクトル:FAB(
チオジェタノール/Na)実測値MNa+995.理論
値(C5tHye歯01sNa”)995.5UV(メ
タノール)λmaz406,382゜363.345n
m。
z)、6.69−/6.24 (14H,連続m)、
3.38(IH,t、 J 10.3Hz)ppm
・ IRumax(KBr錠):3350(巾広)、291
0゜1705.1,610,1395,1320,11
75,1100゜1045.1005,880,845
,810,755yf1−’質量スペクトル:FAB(
チオジェタノール/Na)実測値MNa+995.理論
値(C5tHye歯01sNa”)995.5UV(メ
タノール)λmaz406,382゜363.345n
m。
方法
最小阻止濃度(MIC)は、マイクロタイタートレーに
おいて被検化合物を培養基で希釈することにより測定し
た。あらかじめ培養基で増殖させておいた微生物を希釈
して、約108コロニー形成単位/ウェルの最終接種物
を与えるようにウェルに加えた。トレーは37℃でイン
キュベートし、各ウェルの混濁度を間隔をおいて記録し
た。MICは有意な増殖を阻止する最低濃度(μt /
vt )として表した。
おいて被検化合物を培養基で希釈することにより測定し
た。あらかじめ培養基で増殖させておいた微生物を希釈
して、約108コロニー形成単位/ウェルの最終接種物
を与えるようにウェルに加えた。トレーは37℃でイン
キュベートし、各ウェルの混濁度を間隔をおいて記録し
た。MICは有意な増殖を阻止する最低濃度(μt /
vt )として表した。
結果
来接穏物 108細胞/−
Claims (17)
- (1)式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、R_1は基−X−Y(ここでXはカルボニル基
であり、Yは水素原子、C_1_−_8アルキル、C_
2_−_8アルケニル、または場合により置換されてい
てもよいアリールもしくはヘテロアリールである)であ
り;R_2はヒドロキシまたはC_1_−_8アルコキ
シであり;R_3は水素原子またはアミン保護基であり
;そしてR_4はそれぞれ水素原子である〕で表される
化合物またはその薬学的に許容しうる塩。 - (2)R_1はホルミル、アセチル、ペント−4−エノ
イル、ベンゾイルまたは2−ピロリルカルボニルである
、請求項1記載の化合物。 - (3)R_2はヒドロキシまたはメトキシである、請求
項1または2記載の化合物。 - (4)R_3は水素原子、アセチル、トリフルオロアセ
チルまたは9−フルオレニルメトキシカルボニルである
、請求項1〜3のいずれか1項記載の化合物。 - (5)R_1はホルミル、アセチル、ペント−4−エノ
イル、ベンゾイルまたは2−ピロリルカルボニルであり
;R_2はヒドロキシまたはメトキシであり;R_3は
水素原子、アセチル、トリフルオロアセチルまたは9−
フルオレニルメトキシカルボニルであり;そしてR_4
はそれぞれ水素原子である、請求項1〜4のいずれか1
項記載の化合物。 - (6)N−アセチル−16−アセチル−16−デカルボ
キシアンホテリシンB; 16−アセチル−16−デカルボキシアンホテリシンB
; 16−ベンゾイル−16−デカルボキシアンホテリシン
B; 16−(3−ブテニルカルボニル)−16−デカルボキ
シアンホテリシンB;または 16−デカルボキシ−16−(2−ピロリルカルボニル
)アンホテリシンB。 - (7)請求項1で定義した通りの式( I )の化合物の
製造方法であつて: 式(II): ▲数式、化学式、表等があります▼(II) 〔式中、R_1′は活性化されたカルボン酸誘導体であ
り;R_2′はC_1_−_8アルコキシであり且つR
_2″は水素原子であるか、またはR_2′およびR_
2″は一緒になつて単結合を形成し;R_3′はアミン
保護基であり;そしてR_4′はそれぞれシリル保護基
である〕の化合物を、 (a)有機金属試薬Y−M(ここでYはC_1_−_8
アルキル、C_2_−_8アルケニル、または場合によ
り置換されていてもよいアリールもしくはヘテロアリー
ルであり、そしてMは金属残基である)と反応させて式
(III): ▲数式、化学式、表等があります▼(III) 〔式中、R_1″は基−X−Y(ここでXはカルボニル
基であり、YはC_1_−_8アルキル、C_2_−_
8アルケニル、または場合により置換されていてもよい
アリールもしくはヘテロアリールである)であり;そし
てR_2′、R_2″、R_3′およびR_4′は式(
II)において定義した通りである〕の化合物を得る;か
、あるいは (b)還元剤と反応させて式(III)の化合物〔ただし
R_1″は−CH_2OHであり;R_2′、R_2″
、R_3′およびR_4′は式(II)において定義した
通りである〕を形成し、次にR_1″−CH_2OH基
を酸化して式(III)の化合物〔ただしR_1″は−C
HOであり;R_2′、R_2″、R_3′およびR_
4′は式(II)において定義した通りである〕を得; その後、場合により又は必要に応じて、適当な順序で、
R_1″をR_1へ転換し、R_2″が水素原子である
場合はR_2′をR_2へ転換し、あるいはR_2′と
R_2″が一緒になつて単結合を形成する場合はR_2
′をR_2へ及びR_2″を水素原子へ転換し、R_3
′をR_3へ転換し、R_4′シリル保護基を除去し、
R_2を相互転換し、R_3を相互転換しそして薬学的
に許容しうる塩を形成することから成る上記方法。 - (8)R_1′はアルキル、アリールまたはヘテロアリ
ールエステルもしくはチオエステル、酸ハロゲン化物、
酸無水物、またはアミドである、請求項7記載の方法。 - (9)方法(a)における有機金属試薬はグリニヤール
試薬(GrignardReagent)である、請求
項7または8記載の方法。 - (10)方法(b)における還元剤はホウ水素化物還元
剤である、請求項7または8記載の方法。 - (11)式(II): ▲数式、化学式、表等があります▼(II) 〔式中、R_1′は2−ピリジルチオカルボニルであり
;R_2′はC_1_−_8アルコキシであり;R_2
″は水素原子であり;R_3′はアミン保護基であり;
そしてR_4′はそれぞれシリル保護基である〕 で表される化合物。 - (12)式(III): ▲数式、化学式、表等があります▼(III) 〔式中、R_1″は基−X−Y(ここでXはカルボニル
基であり、Yは水素原子、C_1_−_8アルキル、C
_2_−_8アルケニル、または場合により置換されて
いてもよいアリールもしくはヘテロアリールである)で
あるか、またはR_1″は−CH_2OHであり;R_
2′はC_1_−_8アルコキシであり;R_2″は水
素原子であり;R_3′はアミン保護基であり;そして
R_4′はシリル保護基である〕 で表される化合物。 - (13)N−(9−フルオレニルメトキシカルボニル)
−13−¥O¥−メチル−アンホテリシンB;N−(9
−フルオレニルメトキシカルボニル)−13−O−メチ
ル−3,5,8,9,11,15,35,2′,4′−
ノナ−¥O¥−トリエチルシリルアンホテリシンB; N−トリフルオロアセチルアンホテリシンB;または N−トリフルオロアセチル−13−¥O¥−メチル−3
,5,8,9,11,15,35,2′,4′−ノナ−
¥O¥−トリエチルシリルアンホテリシンB。 - (14)請求項1で定義した通りの式( I )の化合物
またはその薬学的に許容しうる塩を、製剤学的に許容し
うる希釈剤または担体と共に含有してなる薬剤組成物。 - (15)活性治療物質として用いるための、請求項1で
定義した通りの式( I )の化合物またはその薬学的に
許容しうる塩。 - (16)真菌感染症の治療に用いるための、請求項1で
定義した通りの式( I )の化合物またはその薬学的に
許容しうる塩。 - (17)ヒトを含む動物における真菌感染症の治療用医
薬を製造するための、請求項1で定義した通りの式(
I )の化合物またはその薬学的に許容しうる塩の使用。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB8829592.8 | 1988-12-19 | ||
GB888829592A GB8829592D0 (en) | 1988-12-19 | 1988-12-19 | Novel compounds |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02207094A true JPH02207094A (ja) | 1990-08-16 |
Family
ID=10648736
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1320750A Pending JPH02207094A (ja) | 1988-12-19 | 1989-12-12 | 新規化合物、その製法及びそれを含む医薬組成物 |
Country Status (11)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5066646A (ja) |
EP (1) | EP0375223A3 (ja) |
JP (1) | JPH02207094A (ja) |
KR (1) | KR900009678A (ja) |
AU (1) | AU614205B2 (ja) |
CA (1) | CA2005133A1 (ja) |
DK (1) | DK625389A (ja) |
GB (1) | GB8829592D0 (ja) |
NZ (1) | NZ231723A (ja) |
PT (1) | PT92539B (ja) |
ZA (1) | ZA899505B (ja) |
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---|---|---|---|---|
EP0350164A3 (en) * | 1988-06-13 | 1991-07-24 | Beecham Group Plc | Amphotericin derivatives |
GB8829593D0 (en) * | 1988-12-19 | 1989-02-08 | Beecham Group Plc | Novel compounds |
WO1991009047A1 (en) * | 1989-12-08 | 1991-06-27 | Beecham Group Plc | Amphotericin b derivatives, their production and use |
GB9114949D0 (en) * | 1991-07-11 | 1991-08-28 | Smithkline Beecham Plc | Novel compounds |
FR2683723B1 (fr) * | 1991-11-14 | 1995-05-19 | Mayoly Spindler Laboratoires | Nouveaux medicaments antiviraux actifs sur le virus vih. |
GB9200713D0 (en) * | 1992-01-14 | 1992-03-11 | Smithkline Beecham Plc | Novel compounds |
GB9203476D0 (en) * | 1992-02-19 | 1992-04-08 | Smithkline Beecham Plc | Novel compounds |
JP2003519662A (ja) | 2000-01-14 | 2003-06-24 | イントラバイオティクス ファーマシューティカルズ,インコーポレイテッド | ポリエン・マクロライド誘導体並びにその製法及び使用 |
CN102115484B (zh) * | 2009-12-31 | 2013-03-13 | 中国药品生物制品检定所 | 一种两性霉素b降解产物、其制备方法及其应用 |
EP2852601A1 (en) | 2012-03-09 | 2015-04-01 | Blirt S.A. | Semisynthetic derivatives of nystatin a1 |
CA2876074A1 (en) | 2012-06-15 | 2013-12-19 | Blirt S.A. | N-substituted second generation derivatives of antifungal antibiotic amphotericin b and methods of their preparation and application |
EP3283171B1 (en) * | 2015-04-15 | 2021-05-26 | Sfunga Therapeutics, Inc. | Derivatives of amphotericin b |
TWI637980B (zh) * | 2017-01-11 | 2018-10-11 | 長興材料工業股份有限公司 | 聚醯亞胺前驅物及其應用 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2173632A1 (en) * | 1971-02-04 | 1973-10-12 | Le N Iss | Purificn of amfotericin b - in dmf soln by adding water acidifying filtering adding water,making alkaline and washing |
US4041232A (en) * | 1976-02-23 | 1977-08-09 | E. R. Squibb & Sons, Inc. | Amphotericin B methyl ester salts |
US4235993A (en) * | 1979-02-21 | 1980-11-25 | E. R. Squibb & Sons, Inc. | N-Benzylideneamphotericin B, its methyl ester and process for making water-soluble salts thereof |
EP0350164A3 (en) * | 1988-06-13 | 1991-07-24 | Beecham Group Plc | Amphotericin derivatives |
GB8829593D0 (en) * | 1988-12-19 | 1989-02-08 | Beecham Group Plc | Novel compounds |
-
1988
- 1988-12-19 GB GB888829592A patent/GB8829592D0/en active Pending
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1989
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