JP2001133160A - コンベア炉 - Google Patents
コンベア炉Info
- Publication number
- JP2001133160A JP2001133160A JP31189399A JP31189399A JP2001133160A JP 2001133160 A JP2001133160 A JP 2001133160A JP 31189399 A JP31189399 A JP 31189399A JP 31189399 A JP31189399 A JP 31189399A JP 2001133160 A JP2001133160 A JP 2001133160A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- belt
- conveyor
- transport belt
- transport
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
(57)【要約】
【課題】 基板被乾燥物や被焼成物の表面に欠陥を発生
させたり、連続して搬送される基板を誤検出して取り出
せなかったりする問題があった。 【解決手段】 基板３上に付着させた付着物を乾燥又は
焼成させるコンベア炉１において、基板３を搬送する搬
送ベルト２と、搬送ベルト２の搬送路上に設けられ、搬
送ベルト２上の基板３を加熱するチャンバー５と、搬送
ベルト２の上面に設けられ、搬送方向と直交する方向に
並置されると共に内側が低くなるように上端を傾斜させ
て、この傾斜した上端に基板３を載置させる一対の基板
保持手段１０とを備える。
させたり、連続して搬送される基板を誤検出して取り出
せなかったりする問題があった。 【解決手段】 基板３上に付着させた付着物を乾燥又は
焼成させるコンベア炉１において、基板３を搬送する搬
送ベルト２と、搬送ベルト２の搬送路上に設けられ、搬
送ベルト２上の基板３を加熱するチャンバー５と、搬送
ベルト２の上面に設けられ、搬送方向と直交する方向に
並置されると共に内側が低くなるように上端を傾斜させ
て、この傾斜した上端に基板３を載置させる一対の基板
保持手段１０とを備える。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、付着物を付着させ
た基板を乾燥もしくは焼成させるコンベア炉に関するも
ので、特に、基板を自動搬送させる際に傷が付き難いコ
ンベア炉に関する。
た基板を乾燥もしくは焼成させるコンベア炉に関するも
ので、特に、基板を自動搬送させる際に傷が付き難いコ
ンベア炉に関する。
【０００２】
【従来の技術】電気回路基板の半田付け工程や、太陽電
池、液晶パネルのペーストのスクリーン印刷電極形成工
程では、基板上の濡れた状態の半田やペーストを乾燥す
る際に、コンベア炉で大量の基板の乾燥や焼成を行って
いる。コンベア炉は、これ以外の産業分野でも広く用い
られている。
池、液晶パネルのペーストのスクリーン印刷電極形成工
程では、基板上の濡れた状態の半田やペーストを乾燥す
る際に、コンベア炉で大量の基板の乾燥や焼成を行って
いる。コンベア炉は、これ以外の産業分野でも広く用い
られている。
【０００３】以下、図１２〜図１８を参照して従来のコ
ンベア炉について説明する。図１２は従来のコンベア炉
１００を示す斜視図である。また、図１３は太陽電池の
基板１０１を示す斜視図である。図中、１０２は搬送ベ
ルト、１０３はベルト駆動ローラ、１０４はチャンバ
ー、１０５はランプヒータ、１０６は基板１０１の表
（おもて）面に形成された表電極、１０７は基板１０１
の裏面に形成された裏電極である。
ンベア炉について説明する。図１２は従来のコンベア炉
１００を示す斜視図である。また、図１３は太陽電池の
基板１０１を示す斜視図である。図中、１０２は搬送ベ
ルト、１０３はベルト駆動ローラ、１０４はチャンバ
ー、１０５はランプヒータ、１０６は基板１０１の表
（おもて）面に形成された表電極、１０７は基板１０１
の裏面に形成された裏電極である。
【０００４】次に、コンベア炉１００の動作について説
明する。ベルト駆動ローラ１０３の回転によって、搬送
ベルト１０２はチャンバー１０４内を移動する。搬送ベ
ルト１０２上には複数の基板１０１が載置されており、
ランプヒータ１０５の点灯によって、基板１０１はチャ
ンバー１０４内で加熱される。
明する。ベルト駆動ローラ１０３の回転によって、搬送
ベルト１０２はチャンバー１０４内を移動する。搬送ベ
ルト１０２上には複数の基板１０１が載置されており、
ランプヒータ１０５の点灯によって、基板１０１はチャ
ンバー１０４内で加熱される。
【０００５】太陽電池の基板１０１に表電極１０６や裏
電極１０７を形成する工程では、スクリーン印刷で金属
ペーストをパターニングし、続いて乾燥や焼成によって
電極を形成する方法が良く用いられる。この基板１０１
の裏電極１０７側を下にして、搬送ベルト１０２に直に
載せて乾燥や焼成を施すと、図１４に示すようなベルト
痕１０８や裏電極剥離痕１０９が発生し、不良品を多数
製造することになる。
電極１０７を形成する工程では、スクリーン印刷で金属
ペーストをパターニングし、続いて乾燥や焼成によって
電極を形成する方法が良く用いられる。この基板１０１
の裏電極１０７側を下にして、搬送ベルト１０２に直に
載せて乾燥や焼成を施すと、図１４に示すようなベルト
痕１０８や裏電極剥離痕１０９が発生し、不良品を多数
製造することになる。
【０００６】また、基板１０１を直接、搬送ベルト１０
２上に載せると、基板１０１と搬送ベルト１０２が焼成
による反応で合金化して密着する。さらに、乾燥コンベ
ア炉では基板１０１と搬送ベルト１０２に間隙がないた
め、炉出口での取り出しの自動化は困難であった。
２上に載せると、基板１０１と搬送ベルト１０２が焼成
による反応で合金化して密着する。さらに、乾燥コンベ
ア炉では基板１０１と搬送ベルト１０２に間隙がないた
め、炉出口での取り出しの自動化は困難であった。
【０００７】次に、図１５に示すように、台形状の基板
保持ワイヤ１１０ａを搬送ベルト１０２に装着すれば、
基板１０１を搬送ベルト１０２から浮かせることがで
き、炉出口での基板１０１の取り出しが容易になる。し
かし、基板１０１と基板保持ワイヤ１１０ａとは点接触
で不安定な状態になり、コンベア炉１００内における雰
囲気ガスの流速や装置の振動によって、搬送ベルト１０
２における基板１０１の相対位置のずれが顕著になる欠
点があった。また、基板保持ワイヤ１１０ｂのように上
面形状が斜めに変形すると、裏電極１０７に図１３に示
す裏電極剥離痕１０９を生じたり、基板保持ワイヤ１１
０ｂと基板１０１がペーストの合金反応で固着して取り
出せなくなるといった問題が生じた。
保持ワイヤ１１０ａを搬送ベルト１０２に装着すれば、
基板１０１を搬送ベルト１０２から浮かせることがで
き、炉出口での基板１０１の取り出しが容易になる。し
かし、基板１０１と基板保持ワイヤ１１０ａとは点接触
で不安定な状態になり、コンベア炉１００内における雰
囲気ガスの流速や装置の振動によって、搬送ベルト１０
２における基板１０１の相対位置のずれが顕著になる欠
点があった。また、基板保持ワイヤ１１０ｂのように上
面形状が斜めに変形すると、裏電極１０７に図１３に示
す裏電極剥離痕１０９を生じたり、基板保持ワイヤ１１
０ｂと基板１０１がペーストの合金反応で固着して取り
出せなくなるといった問題が生じた。
【０００８】さらに、炉出口の自動取り出しを行うため
には、搬送ベルト１０２上の基板１０１を検出してか
ら、基板１０１を取り出さなければならない。炉出口に
は、搬送ベルト１０２上の基板１０１を検出するための
基板検出器１１１が設けられている。図１６に示すよう
に、基板検出器１１１は、搬送ベルト１０２の下面に設
けられ検出光を投光する投光素子１１１ａと、搬送ベル
ト１０２の上面に設けられ検出光を受光する受光素子１
１１ｂとを備えている。
には、搬送ベルト１０２上の基板１０１を検出してか
ら、基板１０１を取り出さなければならない。炉出口に
は、搬送ベルト１０２上の基板１０１を検出するための
基板検出器１１１が設けられている。図１６に示すよう
に、基板検出器１１１は、搬送ベルト１０２の下面に設
けられ検出光を投光する投光素子１１１ａと、搬送ベル
ト１０２の上面に設けられ検出光を受光する受光素子１
１１ｂとを備えている。
【０００９】基板検出器１１１の投光経路１１２は、搬
送ベルト１０２上面とのなす角（φ）が９０゜になるよ
うに設定されている。そして、基板１０１の先端が投光
経路１１２を遮ると、基板検出器１１１から制御部（図
示せず）に検出信号が与えられ、制御部では基板取り出
しフォーク１１３に基板取り出しの指示を与える。この
指示に従って、基板取り出しフォーク１１３は基板１０
１を下から垂直に押し上げて、搬送ベルト１０２から基
板１０１を取り出す。
送ベルト１０２上面とのなす角（φ）が９０゜になるよ
うに設定されている。そして、基板１０１の先端が投光
経路１１２を遮ると、基板検出器１１１から制御部（図
示せず）に検出信号が与えられ、制御部では基板取り出
しフォーク１１３に基板取り出しの指示を与える。この
指示に従って、基板取り出しフォーク１１３は基板１０
１を下から垂直に押し上げて、搬送ベルト１０２から基
板１０１を取り出す。
【００１０】ところで、多数の基板１０１を同時処理す
るためには、基板１０１を複数列で炉内に投入する必要
がある。このため通常では、図１７に示すように複数列
の基板１０１を一体型基板取り出しフォーク１１４で取
り出し、基板収容フォーク１１５へ搭載する。
るためには、基板１０１を複数列で炉内に投入する必要
がある。このため通常では、図１７に示すように複数列
の基板１０１を一体型基板取り出しフォーク１１４で取
り出し、基板収容フォーク１１５へ搭載する。
【００１１】このような自動取り出し機構の場合、次の
ような課題がある。まず、従来のコンベア炉１００は、
図１６に示すような基板検出器１１１を用いているの
で、炉内で基板１０１が位置ずれを起こし、基板１０１
の前後の間隔が狭くなって炉から出てきた場合、基板検
出器１１１の投光経路１１２が遮断されたままになり、
基板検出が不可能になる。
ような課題がある。まず、従来のコンベア炉１００は、
図１６に示すような基板検出器１１１を用いているの
で、炉内で基板１０１が位置ずれを起こし、基板１０１
の前後の間隔が狭くなって炉から出てきた場合、基板検
出器１１１の投光経路１１２が遮断されたままになり、
基板検出が不可能になる。
【００１２】また、従来のコンベア炉１００は、図１７
に示すような一体型基板取り出しフォーク１１４を用い
ているので、搬送方向にずれて先に検出された基板１０
１は、一体型取り出しフォーク１１４上に真空吸着等で
固定される。ここで、基板保持ワイヤ１１０の高さに不
均一があると、図１８に示すように、後から遅れて検出
された基板１０１を待つ間に、一体型基板取り出しフォ
ーク１１４に固定された基板１０１が基板保持ワイヤ１
１０に衝突し、基板欠けや割れを生じることがあった。
に示すような一体型基板取り出しフォーク１１４を用い
ているので、搬送方向にずれて先に検出された基板１０
１は、一体型取り出しフォーク１１４上に真空吸着等で
固定される。ここで、基板保持ワイヤ１１０の高さに不
均一があると、図１８に示すように、後から遅れて検出
された基板１０１を待つ間に、一体型基板取り出しフォ
ーク１１４に固定された基板１０１が基板保持ワイヤ１
１０に衝突し、基板欠けや割れを生じることがあった。
【００１３】さらに、一体型取り出しフォーク１１４を
使わない場合でも、基板１０１を基板保持ワイヤ１１０
から持ち上げる時間が僅かだが必要であり、ベルト速度
がそれに比べて速い場合にも同じように破損する可能性
がある。また、一体型取り出しフォーク１１４から基板
収容フォーク１１５に基板１０１を移す際に、基板１０
１の位置ずれが生じることがあり、この場合には、収容
カセット１１６に収容する際に基板１０１が破損してし
まい問題であった。
使わない場合でも、基板１０１を基板保持ワイヤ１１０
から持ち上げる時間が僅かだが必要であり、ベルト速度
がそれに比べて速い場合にも同じように破損する可能性
がある。また、一体型取り出しフォーク１１４から基板
収容フォーク１１５に基板１０１を移す際に、基板１０
１の位置ずれが生じることがあり、この場合には、収容
カセット１１６に収容する際に基板１０１が破損してし
まい問題であった。
【００１４】なお、以上の従来技術は、太陽電池の基板
を用いて説明したが、これは濡れた半田を乾燥させたり
する電気回路基板等の製造ラインでも当てはまることで
ある。また、基板保持ワイヤ１１０の代わりに一定の幅
を有する板を用いても同様である。
を用いて説明したが、これは濡れた半田を乾燥させたり
する電気回路基板等の製造ラインでも当てはまることで
ある。また、基板保持ワイヤ１１０の代わりに一定の幅
を有する板を用いても同様である。
【００１５】
【発明が解決しようとする課題】以上のように、従来の
コンベア炉１００は、基板被乾燥物や被焼成物の表面に
欠陥を発生させたり、連続して搬送される基板１０１を
誤検出して取り出さなかったり、取り出しフォーク１１
３に取り付けられた基板１０１と基板保持ワイヤ１１０
が衝突し、基板１０１が破損したり、基板１０１を収容
カセット１１６に収容する際に基板１０１が破損したり
する問題があった。本発明は、このような問題を解決
し、基板１０１を自動搬送させる際に傷が付き難いコン
ベア炉を提供することを目的とする。
コンベア炉１００は、基板被乾燥物や被焼成物の表面に
欠陥を発生させたり、連続して搬送される基板１０１を
誤検出して取り出さなかったり、取り出しフォーク１１
３に取り付けられた基板１０１と基板保持ワイヤ１１０
が衝突し、基板１０１が破損したり、基板１０１を収容
カセット１１６に収容する際に基板１０１が破損したり
する問題があった。本発明は、このような問題を解決
し、基板１０１を自動搬送させる際に傷が付き難いコン
ベア炉を提供することを目的とする。
【００１６】
【課題を解決するための手段】請求項１は、基板上に付
着させた付着物を乾燥又は焼成させるコンベア炉におい
て、基板を搬送する搬送ベルトと、搬送ベルトの搬送路
上に設けられ、搬送ベルト上の基板を加熱するチャンバ
ーと、搬送ベルトの上面に設けられ、搬送方向と直交す
る方向に並置されると共に内側が低くなるように上端を
傾斜させて、この傾斜した上端に基板を載置させる一対
の基板保持手段とを備えることを特徴とする。
着させた付着物を乾燥又は焼成させるコンベア炉におい
て、基板を搬送する搬送ベルトと、搬送ベルトの搬送路
上に設けられ、搬送ベルト上の基板を加熱するチャンバ
ーと、搬送ベルトの上面に設けられ、搬送方向と直交す
る方向に並置されると共に内側が低くなるように上端を
傾斜させて、この傾斜した上端に基板を載置させる一対
の基板保持手段とを備えることを特徴とする。
【００１７】請求項２において、基板に付着させた付着
物の厚みをｔ、基板の端部から付着物までの距離をｓ、
基板の端部までの基板保持手段の仰角をθ１とした場合
に、基板保持手段は、ｔａｎθ１＞ｔ／ｓを満たす関係
を有することを特徴とする。
物の厚みをｔ、基板の端部から付着物までの距離をｓ、
基板の端部までの基板保持手段の仰角をθ１とした場合
に、基板保持手段は、ｔａｎθ１＞ｔ／ｓを満たす関係
を有することを特徴とする。
【００１８】請求項３において、基板の載置位置より外
側では、基板保持手段の傾斜を大きくしたことを特徴と
する。
側では、基板保持手段の傾斜を大きくしたことを特徴と
する。
【００１９】請求項４において、基板の載置位置より外
側では、基板保持手段の仰角をθ１からθ２に変化させ
た場合に、基板保持手段は、ｔａｎθ２＞ｔａｎθ１＞
ｔ／ｓを満たす関係を有することを特徴とする。
側では、基板保持手段の仰角をθ１からθ２に変化させ
た場合に、基板保持手段は、ｔａｎθ２＞ｔａｎθ１＞
ｔ／ｓを満たす関係を有することを特徴とする。
【００２０】請求項５において、基板保持手段は、略逆
Ｖ字状に形成されたワイヤ状の部材であることを特徴と
する。
Ｖ字状に形成されたワイヤ状の部材であることを特徴と
する。
【００２１】請求項６において、基板保持手段は、略逆
Ｖ字状に形成された板状の部材であることを特徴とす
る。
Ｖ字状に形成された板状の部材であることを特徴とす
る。
【００２２】請求項７は、基板上に付着させた付着物を
乾燥又は焼成させるコンベア炉において、基板を搬送す
る搬送ベルトと、搬送ベルトの搬送路上に設けられ、搬
送ベルト上の基板を加熱するチャンバーと、搬送ベルト
の上流端と下流端との少なくとも一方に設けられ、基板
を持ち上げる基板吸引手段とを備え、基板吸引手段は、
底面中央部に設けられたエアー吹出し口と、底面周辺部
に設けられ、底面中央部側が高くなるように下端を傾斜
させて、この傾斜した下端に基板を保持させる一対の基
板保持部とを備えることを特徴とする。
乾燥又は焼成させるコンベア炉において、基板を搬送す
る搬送ベルトと、搬送ベルトの搬送路上に設けられ、搬
送ベルト上の基板を加熱するチャンバーと、搬送ベルト
の上流端と下流端との少なくとも一方に設けられ、基板
を持ち上げる基板吸引手段とを備え、基板吸引手段は、
底面中央部に設けられたエアー吹出し口と、底面周辺部
に設けられ、底面中央部側が高くなるように下端を傾斜
させて、この傾斜した下端に基板を保持させる一対の基
板保持部とを備えることを特徴とする。
【００２３】請求項８は、基板上に付着させた付着物を
乾燥又は焼成させるコンベア炉において、基板を搬送す
る搬送ベルトと、搬送ベルトの搬送路上に設けられ、搬
送ベルト上の基板を加熱するチャンバーと、搬送ベルト
の上面に設けられ、基板の両端部を挟持する端部挟持手
段とを備え、端部挟持手段は、搬送ベルト上に基板の両
端部を固定する固定治具を有することを特徴とする。
乾燥又は焼成させるコンベア炉において、基板を搬送す
る搬送ベルトと、搬送ベルトの搬送路上に設けられ、搬
送ベルト上の基板を加熱するチャンバーと、搬送ベルト
の上面に設けられ、基板の両端部を挟持する端部挟持手
段とを備え、端部挟持手段は、搬送ベルト上に基板の両
端部を固定する固定治具を有することを特徴とする。
【００２４】請求項９は、基板上に付着させた付着物を
乾燥又は焼成させるコンベア炉において、基板を搬送す
る搬送ベルトと、搬送ベルトの搬送路上に設けられ、搬
送ベルト上の基板を加熱するチャンバーと、搬送ベルト
の搬送路上に設けられ、搬送ベルト上の基板を検出する
基板検出手段と、搬送ベルトの下流端に設けられ、基板
検出手段の検出信号に基づいて、搬送ベルト上の基板を
取り出す基板取出手段とを備え、基板検出手段は、搬送
ベルトに対して３０°以上１５０°以下に光軸を傾斜さ
せた検出光を投光する投光部と、検出光を受光する受光
部とを有することを特徴とする。
乾燥又は焼成させるコンベア炉において、基板を搬送す
る搬送ベルトと、搬送ベルトの搬送路上に設けられ、搬
送ベルト上の基板を加熱するチャンバーと、搬送ベルト
の搬送路上に設けられ、搬送ベルト上の基板を検出する
基板検出手段と、搬送ベルトの下流端に設けられ、基板
検出手段の検出信号に基づいて、搬送ベルト上の基板を
取り出す基板取出手段とを備え、基板検出手段は、搬送
ベルトに対して３０°以上１５０°以下に光軸を傾斜さ
せた検出光を投光する投光部と、検出光を受光する受光
部とを有することを特徴とする。
【００２５】請求項１０において、基板取出手段は、搬
送ベルト上の基板を取り出す際に、搬送ベルトの速度よ
りも速い速度で基板を搬送ベルトから上方に持ち上げる
ことを特徴とする。
送ベルト上の基板を取り出す際に、搬送ベルトの速度よ
りも速い速度で基板を搬送ベルトから上方に持ち上げる
ことを特徴とする。
【００２６】請求項１１は、基板上に付着させた付着物
を乾燥又は焼成させるコンベア炉において、基板を搬送
する搬送ベルトと、搬送ベルトの搬送路上に設けられ、
搬送ベルト上の基板を加熱するチャンバーと、搬送ベル
トの下流端に設けられ、搬送ベルト上の基板を取り出す
基板取出手段と、基板取出手段で取り出した基板を収容
する基板収容ケースと、基板取出手段と基板収容ケース
との間に設けられ、基板取出手段で取り出した基板を受
け取って基板収容ケースに収容させる基板収容フォーク
と、基板収容フォークの搬送路上に設けられ、基板を整
列させる基板整列手段とを備え、基板整列手段は、基板
収容フォークの搬送路に沿って並ベられ、基板を段階的
に整列させる複数の整列ピンを有することを特徴とす
る。
を乾燥又は焼成させるコンベア炉において、基板を搬送
する搬送ベルトと、搬送ベルトの搬送路上に設けられ、
搬送ベルト上の基板を加熱するチャンバーと、搬送ベル
トの下流端に設けられ、搬送ベルト上の基板を取り出す
基板取出手段と、基板取出手段で取り出した基板を収容
する基板収容ケースと、基板取出手段と基板収容ケース
との間に設けられ、基板取出手段で取り出した基板を受
け取って基板収容ケースに収容させる基板収容フォーク
と、基板収容フォークの搬送路上に設けられ、基板を整
列させる基板整列手段とを備え、基板整列手段は、基板
収容フォークの搬送路に沿って並ベられ、基板を段階的
に整列させる複数の整列ピンを有することを特徴とす
る。
【００２７】請求項１２は、基板上に付着させた付着物
を乾燥又は焼成させるコンベア炉において、基板を複数
列に並べて搬送する搬送ベルトと、搬送ベルトの搬送路
上に設けられ、搬送ベルト上の基板を加熱するチャンバ
ーと、搬送ベルトの下流端に設けられ、搬送ベルト上の
基板を取り出す基板取出手段とを備え、基板取出手段
は、搬送ベルト上に複数列に並ベられた基板を各列ごと
に独立して取り出す基板取出フォークを有することを特
徴とする。
を乾燥又は焼成させるコンベア炉において、基板を複数
列に並べて搬送する搬送ベルトと、搬送ベルトの搬送路
上に設けられ、搬送ベルト上の基板を加熱するチャンバ
ーと、搬送ベルトの下流端に設けられ、搬送ベルト上の
基板を取り出す基板取出手段とを備え、基板取出手段
は、搬送ベルト上に複数列に並ベられた基板を各列ごと
に独立して取り出す基板取出フォークを有することを特
徴とする。
【００２８】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係るコンベア炉の
好適な実施形態について添付図面を参照して説明する。
好適な実施形態について添付図面を参照して説明する。
【００２９】実施の形態１．図１は、実施の形態１に係
るコンベア炉１を示す斜視図である。図１において、２
は基板３を搬送する搬送ベルト、４は搬送ベルト２の両
端に設けられ、搬送ベルト２を駆動させる一対のベルト
駆動ローラ、５は搬送ベルト２の中央部に設けられ、搬
送ベルト２上に載置された基板３を加熱するチャンバ
ー、６は搬送ベルト２の上流端に設けられ、搬送ベルト
２に基板３を投入する基板投入器、７は基板投入器６に
設けられた一対の基板投入フォーク、８は搬送ベルト２
の下流端に設けられ、搬送ベルト２から基板３を取り出
す基板取出器（基板取出手段）、９は基板取出器８に設
けられた一対の基板取出フォーク、１０は搬送ベルト２
上に設けられ、基板３が直接、搬送ベルト２に接触しな
いように基板３を保持する基板保持ワイヤ（基板保持手
段）である。
るコンベア炉１を示す斜視図である。図１において、２
は基板３を搬送する搬送ベルト、４は搬送ベルト２の両
端に設けられ、搬送ベルト２を駆動させる一対のベルト
駆動ローラ、５は搬送ベルト２の中央部に設けられ、搬
送ベルト２上に載置された基板３を加熱するチャンバ
ー、６は搬送ベルト２の上流端に設けられ、搬送ベルト
２に基板３を投入する基板投入器、７は基板投入器６に
設けられた一対の基板投入フォーク、８は搬送ベルト２
の下流端に設けられ、搬送ベルト２から基板３を取り出
す基板取出器（基板取出手段）、９は基板取出器８に設
けられた一対の基板取出フォーク、１０は搬送ベルト２
上に設けられ、基板３が直接、搬送ベルト２に接触しな
いように基板３を保持する基板保持ワイヤ（基板保持手
段）である。
【００３０】また、１１は搬送ベルト２上を搬送させて
乾燥または焼成された基板３を収容する収容カセット
（基板収容ケース）、１２は基板取出器８によって搬送
ベルト２から取り出された基板３を収容カセット１１ま
で搬送させる２本の搬送レール、１３は基板取出フォー
ク９上の基板３を受け取って搬送レール１２に沿ってリ
ニアに移動する基板収容フォーク、１４は基板収容フォ
ーク１３を螺合させて、基板収容フォーク１３を搬送レ
ール１２に沿って一定ピッチで送り出す送りネジ、１５
は搬送レール１２に設けられ、基板収容フォーク１３上
の基板３を整列させる基板整列器（基板整列手段）であ
る。ここで、基板整列器１５は、搬送レール１２に沿っ
て並ベられ、基板３を段階的に整列させる複数の整列ピ
ン１５ａ〜１５ｃを有している。
乾燥または焼成された基板３を収容する収容カセット
（基板収容ケース）、１２は基板取出器８によって搬送
ベルト２から取り出された基板３を収容カセット１１ま
で搬送させる２本の搬送レール、１３は基板取出フォー
ク９上の基板３を受け取って搬送レール１２に沿ってリ
ニアに移動する基板収容フォーク、１４は基板収容フォ
ーク１３を螺合させて、基板収容フォーク１３を搬送レ
ール１２に沿って一定ピッチで送り出す送りネジ、１５
は搬送レール１２に設けられ、基板収容フォーク１３上
の基板３を整列させる基板整列器（基板整列手段）であ
る。ここで、基板整列器１５は、搬送レール１２に沿っ
て並ベられ、基板３を段階的に整列させる複数の整列ピ
ン１５ａ〜１５ｃを有している。
【００３１】次に、実施の形態１に係るコンベア炉１の
動作を説明する。まず、ペーストが印刷されたり、半田
付けされた基板３が基板投入フォーク７により、連続し
てコンベア炉１に投入される。基板３は搬送ベルト２上
の基板保持ワイヤ１０に横２列に載置され、搬送ベルト
２の移動によりチャンバー５内を通過する。チャンバー
５内はランプヒータ（図示せず）によって加熱され、基
板３はチャンバー５内を通過する際に乾燥または焼成さ
れる。
動作を説明する。まず、ペーストが印刷されたり、半田
付けされた基板３が基板投入フォーク７により、連続し
てコンベア炉１に投入される。基板３は搬送ベルト２上
の基板保持ワイヤ１０に横２列に載置され、搬送ベルト
２の移動によりチャンバー５内を通過する。チャンバー
５内はランプヒータ（図示せず）によって加熱され、基
板３はチャンバー５内を通過する際に乾燥または焼成さ
れる。
【００３２】チャンバー５から出てきた基板３は基板取
出フォーク９で持ち上げられ、搬送ベルト２から取り出
される。基板取出フォーク９上の基板３は基板収容フォ
ーク１３に載せ替えられ、搬送レール１２に沿って移動
する。搬送レール１２を移動する途中で、基板３は整列
ピン１５ａ〜１５ｃによって順次整列させられる。整列
した基板３はさらに搬送されて、搬送レール１２の下流
端に設けられた収容カセット１１に順次収容される。
出フォーク９で持ち上げられ、搬送ベルト２から取り出
される。基板取出フォーク９上の基板３は基板収容フォ
ーク１３に載せ替えられ、搬送レール１２に沿って移動
する。搬送レール１２を移動する途中で、基板３は整列
ピン１５ａ〜１５ｃによって順次整列させられる。整列
した基板３はさらに搬送されて、搬送レール１２の下流
端に設けられた収容カセット１１に順次収容される。
【００３３】ここで、一対の基板取出フォーク９を独立
して動作させれば、横２列に搬送される基板３が前後方
向にずれていても、それぞれ最適なタイミングで基板３
をリフトアップすることができる。２列の基板２をリフ
トアップ後、２本の基板取出フォーク９は同時に基板収
容フォーク１３へ移動して、基板取出フォーク９上の基
板２を基板収容フォーク１３に移す。本実施の形態では
このような取り出し方式を採用しているので、基板３と
基板保持ワイヤ１０との衝突による基板３の損傷や基板
収容フォーク１３に移す際の位置ずれを防止することが
できる。
して動作させれば、横２列に搬送される基板３が前後方
向にずれていても、それぞれ最適なタイミングで基板３
をリフトアップすることができる。２列の基板２をリフ
トアップ後、２本の基板取出フォーク９は同時に基板収
容フォーク１３へ移動して、基板取出フォーク９上の基
板２を基板収容フォーク１３に移す。本実施の形態では
このような取り出し方式を採用しているので、基板３と
基板保持ワイヤ１０との衝突による基板３の損傷や基板
収容フォーク１３に移す際の位置ずれを防止することが
できる。
【００３４】次に、基板整列器１５について説明する。
図２は、基板整列器１５の構成を示す平面図である。基
板整列器１５は、搬送レール１２上に固定された３組の
整列ピン１５ａ〜１５ｃを備えている。各整列ピン１５
ａ〜１５ｃは、略Ｌ字形状を有しており、両先端に基板
押出し用のパットが装着されている。搬送レール１２に
は、搬送方向に沿って等間隔に配置された複数組の基板
保持ブロック１６が設けられている。基板保持ブロック
１６は、２本の搬送レール１２からそれぞれ対向する方
向に延在し、両先端が上方に屈曲している。
図２は、基板整列器１５の構成を示す平面図である。基
板整列器１５は、搬送レール１２上に固定された３組の
整列ピン１５ａ〜１５ｃを備えている。各整列ピン１５
ａ〜１５ｃは、略Ｌ字形状を有しており、両先端に基板
押出し用のパットが装着されている。搬送レール１２に
は、搬送方向に沿って等間隔に配置された複数組の基板
保持ブロック１６が設けられている。基板保持ブロック
１６は、２本の搬送レール１２からそれぞれ対向する方
向に延在し、両先端が上方に屈曲している。
【００３５】図２に示すように、基板収容フォーク１３
に載置された基板３は、毎回その位置がずれている。こ
の後、基板収容フォーク１３は一定ピッチずつ基板３を
収容カセット１１に向かって移動するが、１ピッチ送る
毎に基板保持ブロック１６上で一定時間静止待機する。
この静止時間に整列ピン１５ａ〜１５ｃが基板３を徐々
に整列させる。
に載置された基板３は、毎回その位置がずれている。こ
の後、基板収容フォーク１３は一定ピッチずつ基板３を
収容カセット１１に向かって移動するが、１ピッチ送る
毎に基板保持ブロック１６上で一定時間静止待機する。
この静止時間に整列ピン１５ａ〜１５ｃが基板３を徐々
に整列させる。
【００３６】即ち、図３（ａ）に示すように、基板収容
フォーク１３が収容カセット１１に向けて移動している
間は、基板収容フォーク１３が上昇しているため、基板
保持ブロック１６の先端と基板３とは遊離している。次
に、図３（ｂ）に示すように、１ピッチ送って各基板３
が整列ピン１５ａ〜１５ｃと対向する位置に来ると、基
板収容フォーク１３は収容カセット１１に向けた移動を
止めて降下する。その結果、各基板３は基板保持ブロッ
ク１６の先端で支持される。更に、図３（ｃ）に示すよ
うに、整列ピン１５ａ〜１５ｃが押出し方向に移動し
て、各基板３を整列させる。
フォーク１３が収容カセット１１に向けて移動している
間は、基板収容フォーク１３が上昇しているため、基板
保持ブロック１６の先端と基板３とは遊離している。次
に、図３（ｂ）に示すように、１ピッチ送って各基板３
が整列ピン１５ａ〜１５ｃと対向する位置に来ると、基
板収容フォーク１３は収容カセット１１に向けた移動を
止めて降下する。その結果、各基板３は基板保持ブロッ
ク１６の先端で支持される。更に、図３（ｃ）に示すよ
うに、整列ピン１５ａ〜１５ｃが押出し方向に移動し
て、各基板３を整列させる。
【００３７】図４に示すように、基板３の径をａ、整列
ピン１５ａの移動距離をｂ、基板３の可動範囲をｃとす
ると、静止待機中の基板３が（ｃ＋２ｂ）の範囲でずれ
て載置された場合、整列ピン１５ａで上下左右ｂだけ押
し込んで、基板３が基板３の径ａよりも大きな可動範囲
ｃ内になるように整列される。次にピッチ送りされて、
次の整列ピン１５ｂではさらに狭い基板可動範囲になる
ように設定し、次のピッチ送りでは整列ピン１５ｃで基
板可動範囲と基板が一致するようにする。つまり、整列
ピン１５ａ〜１５ｃの順に徐々に基板の位置ずれを修正
する。
ピン１５ａの移動距離をｂ、基板３の可動範囲をｃとす
ると、静止待機中の基板３が（ｃ＋２ｂ）の範囲でずれ
て載置された場合、整列ピン１５ａで上下左右ｂだけ押
し込んで、基板３が基板３の径ａよりも大きな可動範囲
ｃ内になるように整列される。次にピッチ送りされて、
次の整列ピン１５ｂではさらに狭い基板可動範囲になる
ように設定し、次のピッチ送りでは整列ピン１５ｃで基
板可動範囲と基板が一致するようにする。つまり、整列
ピン１５ａ〜１５ｃの順に徐々に基板の位置ずれを修正
する。
【００３８】このように、各整列ピン１５ａ〜１５ｃの
移動距離は、整列ピン１５ａ、整列ピン１５ｂ、整列ピ
ン１５ｃの順番に段階的に増加しているので、各整列ピ
ン１５ａ〜１５ｃが基板３に与える一回当たりの衝撃は
少ない。その結果、整列ピン１５ａ〜１５ｃが基板３に
与える衝撃が緩和され、基板３の割れや欠けが抑制され
る。また、各整列ピン１５ａ〜１５ｃによって基板３を
整列させる際には、接触面積の大きい基板収容フォーク
１３を離隔して、代わりに接触面積の小さい基板保持ブ
ロック１６の先端で基板３を支持している。その結果、
基板３を整列させる際の基板３の破損が減少し、基板３
加工の歩留まりが向上する。
移動距離は、整列ピン１５ａ、整列ピン１５ｂ、整列ピ
ン１５ｃの順番に段階的に増加しているので、各整列ピ
ン１５ａ〜１５ｃが基板３に与える一回当たりの衝撃は
少ない。その結果、整列ピン１５ａ〜１５ｃが基板３に
与える衝撃が緩和され、基板３の割れや欠けが抑制され
る。また、各整列ピン１５ａ〜１５ｃによって基板３を
整列させる際には、接触面積の大きい基板収容フォーク
１３を離隔して、代わりに接触面積の小さい基板保持ブ
ロック１６の先端で基板３を支持している。その結果、
基板３を整列させる際の基板３の破損が減少し、基板３
加工の歩留まりが向上する。
【００３９】次に、基板保持ワイヤ１０について説明す
る。図５は、図１に示す搬送ベルト２をＡ−Ａ線に沿っ
て切断した断面図である。図５において、１７は基板３
の裏面に付着したペースト（付着物）である。基板保持
ワイヤ１０は、搬送方向と直交する方向に並置されてお
り、略逆Ｖ字状に形成されている。このため、基板保持
ワイヤ１０は内側が低くなるように上端１０ａを傾斜さ
せて、この傾斜した上端１０ａに基板３が載置されてい
る。その結果、基板３の端部３ａのみが基板保持ワイヤ
１０に接触することとなり、基板３の裏面に、ワイヤ痕
や裏電極剥離痕が生じることはない。よって、不良品の
発生が減少し、基板３加工の歩留まりが向上する。
る。図５は、図１に示す搬送ベルト２をＡ−Ａ線に沿っ
て切断した断面図である。図５において、１７は基板３
の裏面に付着したペースト（付着物）である。基板保持
ワイヤ１０は、搬送方向と直交する方向に並置されてお
り、略逆Ｖ字状に形成されている。このため、基板保持
ワイヤ１０は内側が低くなるように上端１０ａを傾斜さ
せて、この傾斜した上端１０ａに基板３が載置されてい
る。その結果、基板３の端部３ａのみが基板保持ワイヤ
１０に接触することとなり、基板３の裏面に、ワイヤ痕
や裏電極剥離痕が生じることはない。よって、不良品の
発生が減少し、基板３加工の歩留まりが向上する。
【００４０】図５では、一定仰角θ１を持たせた基板保
持ワイヤ１０が基板３の端部３ａを保持する機構になっ
ている。さらに、基板３を基板保持ワイヤ１０に戴置し
てもペースト１７と基板保持ワイヤ１０が接触しないよ
うに、基板保持ワイヤ１０の仰角θ１を決定している。
持ワイヤ１０が基板３の端部３ａを保持する機構になっ
ている。さらに、基板３を基板保持ワイヤ１０に戴置し
てもペースト１７と基板保持ワイヤ１０が接触しないよ
うに、基板保持ワイヤ１０の仰角θ１を決定している。
【００４１】即ち、基板３の端部３ａとペースト１７の
端部との距離をｓ、ペースト１７の厚みをｔ、基板保持
ワイヤ１０とペースト１７の端部とが接触する角度をθ
０（ｔａｎθ０＝ｔ／ｓ）、基板３の端部３ａまでの基
板保持ワイヤ１０のワイヤ仰角をθ１とすると、限界仰
角θ０に比べて、基板保持ワイヤ１０の仰角θ１が大き
ければ、ペースト１７が基板保持ワイヤ１０に接触する
ことはない。従って、次式を満足すればよい。
端部との距離をｓ、ペースト１７の厚みをｔ、基板保持
ワイヤ１０とペースト１７の端部とが接触する角度をθ
０（ｔａｎθ０＝ｔ／ｓ）、基板３の端部３ａまでの基
板保持ワイヤ１０のワイヤ仰角をθ１とすると、限界仰
角θ０に比べて、基板保持ワイヤ１０の仰角θ１が大き
ければ、ペースト１７が基板保持ワイヤ１０に接触する
ことはない。従って、次式を満足すればよい。
【００４２】ｔａｎθ１＞ｔａｎθ０＝ｔ／ｓ
【００４３】また、基板保持ワイヤ１０の上端１０ａが
直線でない場合は、基板保持ワイヤ１０の接触限界仰角
θ０はワイヤ形状から決定されるべきものである。この
ように、ｔａｎθ１＞ｔ／ｓの関係を満たすように、基
板保持ワイヤ１０の上端１０ａを調整することにより、
基板３の裏面に付着したペースト１７が基板保持ワイヤ
１０および搬送ベルト２と接触することはないので、ペ
ースト１７の裏面にワイヤ痕やベルト痕が生じることは
ない。よって、不良品の発生が減少し、基板３の加工処
理における歩留まりが向上する。
直線でない場合は、基板保持ワイヤ１０の接触限界仰角
θ０はワイヤ形状から決定されるべきものである。この
ように、ｔａｎθ１＞ｔ／ｓの関係を満たすように、基
板保持ワイヤ１０の上端１０ａを調整することにより、
基板３の裏面に付着したペースト１７が基板保持ワイヤ
１０および搬送ベルト２と接触することはないので、ペ
ースト１７の裏面にワイヤ痕やベルト痕が生じることは
ない。よって、不良品の発生が減少し、基板３の加工処
理における歩留まりが向上する。
【００４４】なお、基板保持ワイヤ１０の代わりに、基
板保持ワイヤ１０と同様の外観を有し、図５の紙面に対
して奥行き方向に厚みのある板状の部材であってもよ
い。この場合にも、基板保持ワイヤ１０と同様に不良品
の発生が減少し、基板３の加工処理における歩留まりが
向上する。
板保持ワイヤ１０と同様の外観を有し、図５の紙面に対
して奥行き方向に厚みのある板状の部材であってもよ
い。この場合にも、基板保持ワイヤ１０と同様に不良品
の発生が減少し、基板３の加工処理における歩留まりが
向上する。
【００４５】実施の形態２．次に、実施の形態２に係る
コンベア炉を説明する。図６は、実施の形態２のコンベ
ア炉に設けられた基板保持ワイヤ１８を示す断面図であ
る。この実施の形態２が図５に示す実施の形態１と異な
るのは、基板保持ワイヤ１０の代わりに、基板保持ワイ
ヤ１８を備えている点である。その他の構成については
実施の形態１と同一又は同等である。なお、実施の形態
１と同一又は同等な構成部分については同一符号を付
し、その説明は省略する。
コンベア炉を説明する。図６は、実施の形態２のコンベ
ア炉に設けられた基板保持ワイヤ１８を示す断面図であ
る。この実施の形態２が図５に示す実施の形態１と異な
るのは、基板保持ワイヤ１０の代わりに、基板保持ワイ
ヤ１８を備えている点である。その他の構成については
実施の形態１と同一又は同等である。なお、実施の形態
１と同一又は同等な構成部分については同一符号を付
し、その説明は省略する。
【００４６】図６に示すように、基板保持ワイヤ１８
は、基板３の端部３ａを保持する基部１８ａと、台形状
に突出し基板３の乗り越えを防止する頂部１８ｂとを備
えている。そして、基部１８ａの仰角をθ１、頂部１８
ｂの仰角をθ２とすると、θ２＞θ１の関係が成り立
つ。このように、基部１８ａの仰角θ１に比べて頂部１
８ｂの仰角θ２が大きいので、チャンバー５内での搬送
ベルト２に対する基板３の位置ずれを一定範囲以内に抑
制でき、濡れたペーストや半田が付着した基板３を大量
に連続して搬送することができる。
は、基板３の端部３ａを保持する基部１８ａと、台形状
に突出し基板３の乗り越えを防止する頂部１８ｂとを備
えている。そして、基部１８ａの仰角をθ１、頂部１８
ｂの仰角をθ２とすると、θ２＞θ１の関係が成り立
つ。このように、基部１８ａの仰角θ１に比べて頂部１
８ｂの仰角θ２が大きいので、チャンバー５内での搬送
ベルト２に対する基板３の位置ずれを一定範囲以内に抑
制でき、濡れたペーストや半田が付着した基板３を大量
に連続して搬送することができる。
【００４７】その結果、位置ずれによる基板３の破損が
防止でき、基板３の加工処理における歩留まりが向上す
る。また、基板３の端部３ａのみが基板保持ワイヤ１８
に接触するので、基板３の裏面にワイヤ痕や裏電極剥離
痕が生じることはない。
防止でき、基板３の加工処理における歩留まりが向上す
る。また、基板３の端部３ａのみが基板保持ワイヤ１８
に接触するので、基板３の裏面にワイヤ痕や裏電極剥離
痕が生じることはない。
【００４８】なお、基板保持ワイヤ１８の代わりに、基
板保持ワイヤ１８と同様の外観を有し、図６の紙面に対
して奥行き方向に厚みのある板状の部材であってもよ
い。この場合にも、基板保持ワイヤ１８と同様に位置ず
れによる基板３の破損が防止でき、基板３の加工処理に
おける歩留まりが向上する。
板保持ワイヤ１８と同様の外観を有し、図６の紙面に対
して奥行き方向に厚みのある板状の部材であってもよ
い。この場合にも、基板保持ワイヤ１８と同様に位置ず
れによる基板３の破損が防止でき、基板３の加工処理に
おける歩留まりが向上する。
【００４９】実施の形態３．次に、実施の形態３に係る
コンベア炉を説明する。図７は、実施の形態３のコンベ
ア炉に設けられた基板保持ワイヤ１９を示す断面図であ
る。この実施の形態３が図５に示す実施の形態１と異な
るのは、基板保持ワイヤ１０の代わりに、基板保持ワイ
ヤ１９を備えている点である。その他の構成については
実施の形態１と同一又は同等である。なお、実施の形態
１と同一又は同等な構成部分については同一符号を付
し、その説明は省略する。
コンベア炉を説明する。図７は、実施の形態３のコンベ
ア炉に設けられた基板保持ワイヤ１９を示す断面図であ
る。この実施の形態３が図５に示す実施の形態１と異な
るのは、基板保持ワイヤ１０の代わりに、基板保持ワイ
ヤ１９を備えている点である。その他の構成については
実施の形態１と同一又は同等である。なお、実施の形態
１と同一又は同等な構成部分については同一符号を付
し、その説明は省略する。
【００５０】図７に示すように、基板保持ワイヤ１９
は、基部１９ａから頂部１９ｂに向けて仰角が徐々に大
きくなるような滑らかな曲線状に形成されている。従っ
て、基部１９ａの仰角をθ１、頂部１９ｂの仰角をθ２
とすると、θ２＞θ１の関係が成り立つ。このように、
基部１９ａの仰角θ１に比べて頂部１９ｂの仰角θ２が
大きいので、チャンバー５内での搬送ベルト２に対する
基板３の位置ずれを一定範囲以内に抑制でき、濡れたペ
ーストや半田が付着した基板３を大量に連続して搬送す
ることができる。
は、基部１９ａから頂部１９ｂに向けて仰角が徐々に大
きくなるような滑らかな曲線状に形成されている。従っ
て、基部１９ａの仰角をθ１、頂部１９ｂの仰角をθ２
とすると、θ２＞θ１の関係が成り立つ。このように、
基部１９ａの仰角θ１に比べて頂部１９ｂの仰角θ２が
大きいので、チャンバー５内での搬送ベルト２に対する
基板３の位置ずれを一定範囲以内に抑制でき、濡れたペ
ーストや半田が付着した基板３を大量に連続して搬送す
ることができる。
【００５１】その結果、位置ずれによる基板３の破損が
防止でき、基板３の加工処理における歩留まりが向上す
る。また、基板３の端部３ａのみが基板保持ワイヤ１９
に接触するので、基板３の裏面にワイヤ痕や裏電極剥離
痕が生じることはない。
防止でき、基板３の加工処理における歩留まりが向上す
る。また、基板３の端部３ａのみが基板保持ワイヤ１９
に接触するので、基板３の裏面にワイヤ痕や裏電極剥離
痕が生じることはない。
【００５２】なお、基板保持ワイヤ１９の代わりに、基
板保持ワイヤ１９と同様の外観を有し、図７の紙面に対
して奥行き方向に厚みのある板状の部材であってもよ
い。この場合にも、基板保持ワイヤ１９と同様の効果が
得られる。
板保持ワイヤ１９と同様の外観を有し、図７の紙面に対
して奥行き方向に厚みのある板状の部材であってもよ
い。この場合にも、基板保持ワイヤ１９と同様の効果が
得られる。
【００５３】実施の形態４．次に、実施の形態４に係る
コンベア炉を説明する。図８は、実施の形態４のコンベ
ア炉に設けられたベルヌーチャック（基板吸引手段）２
０を示す断面図である。この実施の形態４が図１に示す
実施の形態１と異なるのは、基板投入フォーク７と基板
取出フォーク９との少なくとも一方の代わりに、ベルヌ
ーチャック２０を備えている点である。その他の構成に
ついては実施の形態１と同一又は同等である。なお、実
施の形態１と同一又は同等な構成部分については同一符
号を付し、その説明は省略する。
コンベア炉を説明する。図８は、実施の形態４のコンベ
ア炉に設けられたベルヌーチャック（基板吸引手段）２
０を示す断面図である。この実施の形態４が図１に示す
実施の形態１と異なるのは、基板投入フォーク７と基板
取出フォーク９との少なくとも一方の代わりに、ベルヌ
ーチャック２０を備えている点である。その他の構成に
ついては実施の形態１と同一又は同等である。なお、実
施の形態１と同一又は同等な構成部分については同一符
号を付し、その説明は省略する。
【００５４】図８に示すように、ベルヌーチャック２０
は、断面逆Ｔ字形状を有しており、底面２０ａで基板３
を吸着する。この底面２０ａの中央部にはエアー吹き出
し口２１が設けられ、周辺部には逆Ｖ字状の基板保持ワ
イヤ（基板保持部）２２が設けられている。ベルヌーイ
チャック２０は、ペースト１７が付着した基板３に対し
てエアー吹き出し口２１からエアーを吹き付けて、エア
ー圧と大気圧の差圧で基板３を重力に逆らって吸引させ
るチャックである。
は、断面逆Ｔ字形状を有しており、底面２０ａで基板３
を吸着する。この底面２０ａの中央部にはエアー吹き出
し口２１が設けられ、周辺部には逆Ｖ字状の基板保持ワ
イヤ（基板保持部）２２が設けられている。ベルヌーイ
チャック２０は、ペースト１７が付着した基板３に対し
てエアー吹き出し口２１からエアーを吹き付けて、エア
ー圧と大気圧の差圧で基板３を重力に逆らって吸引させ
るチャックである。
【００５５】基板３の端部を基板保持ワイヤ２２で保持
することにより、基板３のペースト１７がベルヌーイチ
ャック２０の底面２０ａに直接接触するのを防止してい
る。即ち、基板３の端部３ａとペースト１７の端部との
距離をｓ、ペースト１７の厚みをｔ、基板保持ワイヤ２
２とペースト１７の端部とが接触する角度をθ０（ｔａ
ｎθ０＝ｔ／ｓ）、基板３の端部３ａまでの基板保持ワ
イヤ２２のワイヤ仰角をθ１とすると、限界仰角θ０に
比べて、基板保持ワイヤ２２の仰角θ１が大きければ、
ペースト１７が基板保持ワイヤ２２に接触することはな
い。従って、次式を満足すればよい。
することにより、基板３のペースト１７がベルヌーイチ
ャック２０の底面２０ａに直接接触するのを防止してい
る。即ち、基板３の端部３ａとペースト１７の端部との
距離をｓ、ペースト１７の厚みをｔ、基板保持ワイヤ２
２とペースト１７の端部とが接触する角度をθ０（ｔａ
ｎθ０＝ｔ／ｓ）、基板３の端部３ａまでの基板保持ワ
イヤ２２のワイヤ仰角をθ１とすると、限界仰角θ０に
比べて、基板保持ワイヤ２２の仰角θ１が大きければ、
ペースト１７が基板保持ワイヤ２２に接触することはな
い。従って、次式を満足すればよい。
【００５６】ｔａｎθ１＞ｔａｎθ０＝ｔ／ｓ
【００５７】また、基板保持ワイヤ２２が直線でない場
合は、基板保持ワイヤ２２の接触限界仰角θ０はワイヤ
形状から決定されるべきものである。このように、ｔａ
ｎθ１＞ｔ／ｓの関係を満たすように、基板保持ワイヤ
２２を調整することにより、基板３の裏面に付着したペ
ースト１７が基板保持ワイヤ２２およびベルヌーイチャ
ック２０の底面２０ａと接触することはないので、ペー
スト１７の裏面にワイヤ痕などが生じることはない。よ
って、不良品の発生が減少し、基板３の加工処理におけ
る歩留まりが向上する。
合は、基板保持ワイヤ２２の接触限界仰角θ０はワイヤ
形状から決定されるべきものである。このように、ｔａ
ｎθ１＞ｔ／ｓの関係を満たすように、基板保持ワイヤ
２２を調整することにより、基板３の裏面に付着したペ
ースト１７が基板保持ワイヤ２２およびベルヌーイチャ
ック２０の底面２０ａと接触することはないので、ペー
スト１７の裏面にワイヤ痕などが生じることはない。よ
って、不良品の発生が減少し、基板３の加工処理におけ
る歩留まりが向上する。
【００５８】実施の形態５．次に、実施の形態５に係る
コンベア炉を説明する。図９は、実施の形態５のコンベ
ア炉に設けられた端部挟持器（端部挟持手段）２３を示
す断面図である。この実施の形態５が図５に示す実施の
形態１と異なるのは、基板保持ワイヤ１０の代わりに、
端部挟持器２３を備えている点である。その他の構成に
ついては実施の形態１と同一又は同等である。なお、実
施の形態１と同一又は同等な構成部分については同一符
号を付し、その説明は省略する。
コンベア炉を説明する。図９は、実施の形態５のコンベ
ア炉に設けられた端部挟持器（端部挟持手段）２３を示
す断面図である。この実施の形態５が図５に示す実施の
形態１と異なるのは、基板保持ワイヤ１０の代わりに、
端部挟持器２３を備えている点である。その他の構成に
ついては実施の形態１と同一又は同等である。なお、実
施の形態１と同一又は同等な構成部分については同一符
号を付し、その説明は省略する。
【００５９】図９に示すように、端部挟持器２３は、搬
送ベルト２上に固定された断面Ｌ字形状の一対のベルト
固定治具２４と、ベルト固定治具２４上を摺動し、基板
３の両端部を挟持する断面Ｌ字形状の一対の基板押え治
具２５と、ベルト固定治具２４と基板押え治具２５とを
連結する連結棒２６と、連結棒２６に巻き付けられ、基
板押え治具２５を基板３方向に押圧するバネ２７とを備
えている。
送ベルト２上に固定された断面Ｌ字形状の一対のベルト
固定治具２４と、ベルト固定治具２４上を摺動し、基板
３の両端部を挟持する断面Ｌ字形状の一対の基板押え治
具２５と、ベルト固定治具２４と基板押え治具２５とを
連結する連結棒２６と、連結棒２６に巻き付けられ、基
板押え治具２５を基板３方向に押圧するバネ２７とを備
えている。
【００６０】ベルト固定治具２４と基板押え治具２５と
を連結する連結棒２６は伸縮自在であり、バネ２７に圧
縮力をかけて、ペースト１７が付着した基板３を挟持し
て固定している。基板３をチャンバー５へ投入したり、
取り出す際に基板押え治具２５を開閉して基板３を出し
入れするようにすると、濡れたペーストや半田が付着し
た基板３のベルト上での相対的な位置ずれが生じない。
その結果、位置ずれによる基板３の破損が防止でき、基
板３の加工処理における歩留まりが向上する。
を連結する連結棒２６は伸縮自在であり、バネ２７に圧
縮力をかけて、ペースト１７が付着した基板３を挟持し
て固定している。基板３をチャンバー５へ投入したり、
取り出す際に基板押え治具２５を開閉して基板３を出し
入れするようにすると、濡れたペーストや半田が付着し
た基板３のベルト上での相対的な位置ずれが生じない。
その結果、位置ずれによる基板３の破損が防止でき、基
板３の加工処理における歩留まりが向上する。
【００６１】実施の形態６．次に、実施の形態６に係る
コンベア炉を説明する。図１０及び図１１は、実施の形
態６のコンベア炉に設けられた基板検出器（基板検出手
段）２８を示す図である。この実施の形態６が図１に示
す実施の形態１と異なるのは、搬送ベルト２の搬送路上
に基板検出器２８を備えている点である。その他の構成
については実施の形態１と同一又は同等である。なお、
実施の形態１と同一又は同等な構成部分については同一
符号を付し、その説明は省略する。
コンベア炉を説明する。図１０及び図１１は、実施の形
態６のコンベア炉に設けられた基板検出器（基板検出手
段）２８を示す図である。この実施の形態６が図１に示
す実施の形態１と異なるのは、搬送ベルト２の搬送路上
に基板検出器２８を備えている点である。その他の構成
については実施の形態１と同一又は同等である。なお、
実施の形態１と同一又は同等な構成部分については同一
符号を付し、その説明は省略する。
【００６２】図１０に示すように、基板検出器２８は、
搬送ベルト２の下方に設けられ、斜め上方に向けて検出
光を投光する投光部２９と、搬送ベルト２の上方に設け
られ、検出光を受光する受光部３０とを備えている。基
板保持ワイヤ１０に載置された先行基板３ａと後続基板
３ｂとが接触した状態で搬送されている場合、先行基板
３ａを基板取出フォーク９でリフトアップすると、先行
基板３ａと後続基板３ｂとの間に斜め方向に隙間ができ
る。この隙間に基板検出器２８の検出光を通すように、
投光部２９から投光される検出光の光軸３１を傾斜させ
る。
搬送ベルト２の下方に設けられ、斜め上方に向けて検出
光を投光する投光部２９と、搬送ベルト２の上方に設け
られ、検出光を受光する受光部３０とを備えている。基
板保持ワイヤ１０に載置された先行基板３ａと後続基板
３ｂとが接触した状態で搬送されている場合、先行基板
３ａを基板取出フォーク９でリフトアップすると、先行
基板３ａと後続基板３ｂとの間に斜め方向に隙間ができ
る。この隙間に基板検出器２８の検出光を通すように、
投光部２９から投光される検出光の光軸３１を傾斜させ
る。
【００６３】このように、基板検出器２８を配置する
と、先行基板３ａと後続基板３ｂとが搬送ベルト２上で
接触していても、リフトアップ時に隙間ができて、検出
光をオン・オフすることができる。その結果、基板３
ａ，３ｂの検出が可能となり、チャンバー５内で基板３
ａ，３ｂの配列がずれた場合でも、チャンバー５出口で
基板３ａ，３ｂを容易に取り出すことができる。
と、先行基板３ａと後続基板３ｂとが搬送ベルト２上で
接触していても、リフトアップ時に隙間ができて、検出
光をオン・オフすることができる。その結果、基板３
ａ，３ｂの検出が可能となり、チャンバー５内で基板３
ａ，３ｂの配列がずれた場合でも、チャンバー５出口で
基板３ａ，３ｂを容易に取り出すことができる。
【００６４】ここで、搬送ベルト２の上面と検出光の光
軸３１との為す角度を搬送方向から測ってφ１とする
と、φ１が小さな角度の場合には搬送ベルト２が検出光
を遮蔽して、基板３ａ，３ｂの検出ができなくなる。こ
のため、φ１の実用的な範囲は９０〜１５０゜である。
軸３１との為す角度を搬送方向から測ってφ１とする
と、φ１が小さな角度の場合には搬送ベルト２が検出光
を遮蔽して、基板３ａ，３ｂの検出ができなくなる。こ
のため、φ１の実用的な範囲は９０〜１５０゜である。
【００６５】また、図１１に示すように、先行基板３ａ
を基板取出フォーク９でリフトアップし、引き続いて搬
送方向に搬送ベルト２よりも速い速度で先行基板３ａを
基板取出フォーク９で待避させる場合、先行基板３ａと
後続基板３ｂとの間に斜め方向に隙間ができる。この隙
間に基板検出器２８の検出光を通すように、投光部２９
から投光される検出光の光軸３１を傾斜させる。
を基板取出フォーク９でリフトアップし、引き続いて搬
送方向に搬送ベルト２よりも速い速度で先行基板３ａを
基板取出フォーク９で待避させる場合、先行基板３ａと
後続基板３ｂとの間に斜め方向に隙間ができる。この隙
間に基板検出器２８の検出光を通すように、投光部２９
から投光される検出光の光軸３１を傾斜させる。
【００６６】このように、基板検出器２８を配置する
と、先行基板３ａと後続基板３ｂとが搬送ベルト２上で
接触していても、リフトアップ時に隙間ができて、検出
光をオン・オフさせることができる。その結果、基板３
ａ，３ｂの検出が可能となり、チャンバー５内で基板３
ａ，３ｂの配列がずれた場合でも、チャンバー５出口で
基板３ａ，３ｂを容易に取り出すことができる。
と、先行基板３ａと後続基板３ｂとが搬送ベルト２上で
接触していても、リフトアップ時に隙間ができて、検出
光をオン・オフさせることができる。その結果、基板３
ａ，３ｂの検出が可能となり、チャンバー５内で基板３
ａ，３ｂの配列がずれた場合でも、チャンバー５出口で
基板３ａ，３ｂを容易に取り出すことができる。
【００６７】ここで、搬送ベルト２の上面と検出光の光
軸３１との為す角度を搬送方向から測ってφ２とする
と、φ２が小さな角度の場合には搬送ベルト２が検出光
を遮蔽して、基板３ａ，３ｂの検出ができなくなる。こ
のため、φ２の実用的な範囲は３０〜９０゜である。
軸３１との為す角度を搬送方向から測ってφ２とする
と、φ２が小さな角度の場合には搬送ベルト２が検出光
を遮蔽して、基板３ａ，３ｂの検出ができなくなる。こ
のため、φ２の実用的な範囲は３０〜９０゜である。
【００６８】このように、φ１の実用的な範囲は９０〜
１５０゜であり、φ２の実用的な範囲は３０〜９０゜で
ある。従って、基板検出器２８の検出光の光軸３１を、
搬送ベルト２に対して３０以上１５０゜以下になるよう
に調整すれば、先行基板３ａと、後続基板３ｂとが重な
って搬送されても容易に検出できる。その結果、基板取
出フォーク９で確実に基板３ａ，３ｂをリフトアップす
ることができ、基板３ａ，３ｂの検出ミスによる基板３
ａ，３ｂの破損等を未然に防止することができる。よっ
て、基板３ａ，３ｂの加工処理における歩留まりが向上
する。
１５０゜であり、φ２の実用的な範囲は３０〜９０゜で
ある。従って、基板検出器２８の検出光の光軸３１を、
搬送ベルト２に対して３０以上１５０゜以下になるよう
に調整すれば、先行基板３ａと、後続基板３ｂとが重な
って搬送されても容易に検出できる。その結果、基板取
出フォーク９で確実に基板３ａ，３ｂをリフトアップす
ることができ、基板３ａ，３ｂの検出ミスによる基板３
ａ，３ｂの破損等を未然に防止することができる。よっ
て、基板３ａ，３ｂの加工処理における歩留まりが向上
する。
【００６９】実施の形態７．図１７に示した一体型基板
取り出しフォーク１１４は、リフトアップ前に基板１０
１を吸着してそのまま待機しているので、基板１０１が
基板保持ワイヤ１１０と衝突して基板１０１が破損した
り、位置ずれを起こしたりしていた。図１に示した実施
の形態１では、基板取り出しフォーク９を独立して駆動
させているので、リフトアップ前に基板３を吸着してそ
のまま待機させる必要がなく、上述の問題は発生しな
い。
取り出しフォーク１１４は、リフトアップ前に基板１０
１を吸着してそのまま待機しているので、基板１０１が
基板保持ワイヤ１１０と衝突して基板１０１が破損した
り、位置ずれを起こしたりしていた。図１に示した実施
の形態１では、基板取り出しフォーク９を独立して駆動
させているので、リフトアップ前に基板３を吸着してそ
のまま待機させる必要がなく、上述の問題は発生しな
い。
【００７０】一体型基板取り出しフォーク１１４を用い
ても、上述の問題を発生させない方法がある。即ち、実
施の形態７では、一体型基板取り出しフォーク１１４で
基板３を吸着する際には、一体型基板取り出しフォーク
１１４の速度をベルト２の速度以上に設定している。そ
の結果、一体型基板取り出しフォーク１１４に基板３を
吸引させた状態で待機させている間に、基板３が基板保
持ワイヤ１０と衝突することはない。よって、基板３の
破損を未然に防止することができ、基板３の加工処理に
おける歩留まりが向上する。また、この方法を採用する
ことにより、図１０、図１１に示した基板検出器２８の
光路の確保が容易になる。
ても、上述の問題を発生させない方法がある。即ち、実
施の形態７では、一体型基板取り出しフォーク１１４で
基板３を吸着する際には、一体型基板取り出しフォーク
１１４の速度をベルト２の速度以上に設定している。そ
の結果、一体型基板取り出しフォーク１１４に基板３を
吸引させた状態で待機させている間に、基板３が基板保
持ワイヤ１０と衝突することはない。よって、基板３の
破損を未然に防止することができ、基板３の加工処理に
おける歩留まりが向上する。また、この方法を採用する
ことにより、図１０、図１１に示した基板検出器２８の
光路の確保が容易になる。
【００７１】
【発明の効果】本発明に係るコンベア炉は、以上のよう
に構成されているため、次のような効果を得ることがで
きる。即ち、基板整列手段では、複数の整列ピンを用い
て段階的に基板を整列させている。その結果、各整列ピ
ンが基板に与える衝撃が緩和され、基板の割れや欠けが
抑制される。
に構成されているため、次のような効果を得ることがで
きる。即ち、基板整列手段では、複数の整列ピンを用い
て段階的に基板を整列させている。その結果、各整列ピ
ンが基板に与える衝撃が緩和され、基板の割れや欠けが
抑制される。
【００７２】また、基板保持手段では、内側が低くなる
ように上端を傾斜させて、この傾斜した上端に基板を搭
載している。このため、基板の端部のみが基板保持手段
に接触することとなり、基板の裏面に、ワイヤ痕や裏電
極剥離痕が生じることはない。その結果、不良品の発生
が減少し、基板加工の歩留まりが向上する。
ように上端を傾斜させて、この傾斜した上端に基板を搭
載している。このため、基板の端部のみが基板保持手段
に接触することとなり、基板の裏面に、ワイヤ痕や裏電
極剥離痕が生じることはない。その結果、不良品の発生
が減少し、基板加工の歩留まりが向上する。
【００７３】さらに、基板検出手段では、投光部から投
光される検出光の光軸を傾斜させている。このため、先
行基板と後続基板とが搬送ベルト上で接触していても、
リフトアップ時にできた隙間に、検出光を通すことがで
きる。その結果、基板の検出が可能となり、チャンバー
内で基板の配列がずれた場合でも、チャンバー出口で基
板を容易に取り出すことができる。
光される検出光の光軸を傾斜させている。このため、先
行基板と後続基板とが搬送ベルト上で接触していても、
リフトアップ時にできた隙間に、検出光を通すことがで
きる。その結果、基板の検出が可能となり、チャンバー
内で基板の配列がずれた場合でも、チャンバー出口で基
板を容易に取り出すことができる。
【図１】実施の形態１に係るコンベア炉を示す斜視図で
ある。
ある。
【図２】基板整列器の構成を示す平面図である。
【図３】（ａ）〜（ｃ）は、基板整列器の動作を示す図
である。
である。
【図４】整列ピンによる基板の整列範囲を示す図であ
る。
る。
【図５】搬送ベルトをＡ−Ａ線に沿って切断した断面図
である。
である。
【図６】実施の形態２に係るコンベア炉に設けられた基
板保持ワイヤを示す断面図である。
板保持ワイヤを示す断面図である。
【図７】実施の形態３に係るコンベア炉に設けられた基
板保持ワイヤを示す断面図である。
板保持ワイヤを示す断面図である。
【図８】実施の形態４に係るコンベア炉に設けられたベ
ルヌーチャックを示す断面図である。
ルヌーチャックを示す断面図である。
【図９】実施の形態５に係るコンベア炉に設けられた端
部挟持器を示す断面図である。
部挟持器を示す断面図である。
【図１０】実施の形態６に係るコンベア炉に設けられた
基板検出器を示す図である。
基板検出器を示す図である。
【図１１】実施の形態６に係るコンベア炉に設けられた
基板検出器を示す図である。
基板検出器を示す図である。
【図１２】従来のコンベア炉を示す斜視図である。
【図１３】太陽電池の基板を示す斜視図である。
【図１４】基板に発生したベルト痕や裏電極剥離痕を示
す底面図である。
す底面図である。
【図１５】台形状の基板保持ワイヤを示す図である。
【図１６】搬送ベルトと９０°の角度に検出光を照射さ
せる基板検出器を示す側面図である。
せる基板検出器を示す側面図である。
【図１７】一体型基板取り出しフォークを示す平面図で
ある。
ある。
【図１８】一体型基板取り出しフォークと基板保持ワイ
ヤとを示す側面図である。
ヤとを示す側面図である。
１…コンベア炉、２…搬送ベルト、３…基板、５…チャ
ンバー、８…基板取出器（基板取出手段）、９…基板取
出フォーク、１０，１８，１９…基板保持ワイヤ（基板
保持手段）、１１…収容カセット（基板収容ケース）、
１３…基板収容フォーク、１５…基板整列器（基板整列
手段）、１５ａ〜１５ｃ…整列ピン、２０…ベルヌーチ
ャック（基板吸引手段）、２１…エアー吹き出し口、２
２…基板保持ワイヤ（基板保持部）、２３…端部挟持器
（端部挟持手段）、２８…基板検出器（基板検出手
段）、２９…投光部、３０…受光部。
ンバー、８…基板取出器（基板取出手段）、９…基板取
出フォーク、１０，１８，１９…基板保持ワイヤ（基板
保持手段）、１１…収容カセット（基板収容ケース）、
１３…基板収容フォーク、１５…基板整列器（基板整列
手段）、１５ａ〜１５ｃ…整列ピン、２０…ベルヌーチ
ャック（基板吸引手段）、２１…エアー吹き出し口、２
２…基板保持ワイヤ（基板保持部）、２３…端部挟持器
（端部挟持手段）、２８…基板検出器（基板検出手
段）、２９…投光部、３０…受光部。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｆ２７Ｂ 9/40 Ｆ２７Ｂ 9/40 Ｆ２７Ｄ 3/06 Ｆ２７Ｄ 3/06 Ｂ 3/12 3/12 Ｚ Ｈ０１Ｌ 21/68 Ｈ０１Ｌ 21/68 Ａ (72)発明者 松尾 哲 東京都千代田区丸の内二丁目２番３号 三 菱電機株式会社内 Ｆターム(参考） 3F024 AA10 CA04 CA08 DA07 4K050 AA01 AA04 BA17 CF15 CG09 DA01 DA02 EA02 4K055 AA05 AA06 EA01 HA01 HA07 HA15 HA16 HA29 5F031 CA04 GA51 MA30 PA20
Claims (12)
- 【請求項１】 基板上に付着させた付着物を乾燥又は焼
成させるコンベア炉において、 前記基板を搬送する搬送ベルトと、 前記搬送ベルトの搬送路上に設けられ、前記搬送ベルト
上の前記基板を加熱するチャンバーと、 前記搬送ベルトの上面に設けられ、搬送方向と直交する
方向に並置されると共に内側が低くなるように上端を傾
斜させて、この傾斜した上端に前記基板を載置させる一
対の基板保持手段とを備えることを特徴とするコンベア
炉。 - 【請求項２】 前記基板に付着させた付着物の厚みを
ｔ、前記基板の端部から付着物までの距離をｓ、前記基
板の端部までの前記基板保持手段の仰角をθ１とした場
合に、 前記基板保持手段は、ｔａｎθ１＞ｔ／ｓを満たす関係
を有することを特徴とする請求項１記載のコンベア炉。 - 【請求項３】 前記基板の載置位置より外側では、前記
基板保持手段の傾斜を大きくしたことを特徴とする請求
項１記載のコンベア炉。 - 【請求項４】 前記基板の載置位置より外側では、前記
基板保持手段の仰角をθ１からθ２に変化させた場合
に、 前記基板保持手段は、ｔａｎθ２＞ｔａｎθ１＞ｔ／ｓ
を満たす関係を有することを特徴とする請求項１記載の
コンベア炉。 - 【請求項５】 前記基板保持手段は、略逆Ｖ字状に形成
されたワイヤ状の部材であることを特徴とする請求項１
〜請求項４のいずれか一項記載のコンベア炉。 - 【請求項６】 前記基板保持手段は、略逆Ｖ字状に形成
された板状の部材であることを特徴とする請求項１〜請
求項４のいずれか一項記載のコンベア炉。 - 【請求項７】 基板上に付着させた付着物を乾燥又は焼
成させるコンベア炉において、 前記基板を搬送する搬送ベルトと、 前記搬送ベルトの搬送路上に設けられ、前記搬送ベルト
上の前記基板を加熱するチャンバーと、 前記搬送ベルトの上流端と下流端との少なくとも一方に
設けられ、前記基板を持ち上げる基板吸引手段とを備
え、 前記基板吸引手段は、底面中央部に設けられたエアー吹
出し口と、底面周辺部に設けられ、前記底面中央部側が
高くなるように下端を傾斜させて、この傾斜した下端に
前記基板を保持させる一対の基板保持部とを備えること
を特徴とするコンベア炉。 - 【請求項８】 基板上に付着させた付着物を乾燥又は焼
成させるコンベア炉において、 前記基板を搬送する搬送ベルトと、 前記搬送ベルトの搬送路上に設けられ、前記搬送ベルト
上の前記基板を加熱するチャンバーと、 前記搬送ベルトの上面に設けられ、前記基板の両端部を
挟持する端部挟持手段とを備え、 前記端部挟持手段は、前記搬送ベルト上に前記基板の両
端部を固定する固定治具を有することを特徴とするコン
ベア炉。 - 【請求項９】 基板上に付着させた付着物を乾燥又は焼
成させるコンベア炉において、 前記基板を搬送する搬送ベルトと、 前記搬送ベルトの搬送路上に設けられ、前記搬送ベルト
上の前記基板を加熱するチャンバーと、 前記搬送ベルトの搬送路上に設けられ、前記搬送ベルト
上の前記基板を検出する基板検出手段と、 前記搬送ベルトの下流端に設けられ、前記基板検出手段
の検出信号に基づいて、前記搬送ベルト上の前記基板を
取り出す基板取出手段とを備え、 前記基板検出手段は、前記搬送ベルトに対して３０°以
上１５０°以下に光軸を傾斜させた検出光を投光する投
光部と、前記検出光を受光する受光部とを有することを
特徴とするコンベア炉。 - 【請求項１０】 前記基板取出手段は、前記搬送ベルト
上の前記基板を取り出す際に、前記搬送ベルトの速度よ
りも速い速度で前記基板を前記搬送ベルトから上方に持
ち上げることを特徴とする請求項９記載のコンベア炉。 - 【請求項１１】 基板上に付着させた付着物を乾燥又は
焼成させるコンベア炉において、 前記基板を搬送する搬送ベルトと、 前記搬送ベルトの搬送路上に設けられ、前記搬送ベルト
上の前記基板を加熱するチャンバーと、 前記搬送ベルトの下流端に設けられ、前記搬送ベルト上
の前記基板を取り出す基板取出手段と、 前記基板取出手段で取り出した前記基板を収容する基板
収容ケースと、 前記基板取出手段と前記基板収容ケースとの間に設けら
れ、前記基板取出手段で取り出した前記基板を受け取っ
て前記基板収容ケースに収容させる基板収容フォーク
と、 前記基板収容フォークの搬送路上に設けられ、前記基板
を整列させる基板整列手段とを備え、 前記基板整列手段は、前記基板収容フォークの搬送路に
沿って並ベられ、前記基板を段階的に整列させる複数の
整列ピンを有することを特徴とするコンベア炉。 - 【請求項１２】 基板上に付着させた付着物を乾燥又は
焼成させるコンベア炉において、 前記基板を複数列に並べて搬送する搬送ベルトと、 前記搬送ベルトの搬送路上に設けられ、前記搬送ベルト
上の前記基板を加熱するチャンバーと、 前記搬送ベルトの下流端に設けられ、前記搬送ベルト上
の前記基板を取り出す基板取出手段とを備え、 前記基板取出手段は、前記搬送ベルト上に複数列に並ベ
られた前記基板を各列ごとに独立して取り出す基板取出
フォークを有することを特徴とするコンベア炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31189399A JP2001133160A (ja) | 1999-11-02 | 1999-11-02 | コンベア炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31189399A JP2001133160A (ja) | 1999-11-02 | 1999-11-02 | コンベア炉 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2006352294A Division JP4615509B2 (ja) | 2006-12-27 | 2006-12-27 | コンベア炉 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001133160A true JP2001133160A (ja) | 2001-05-18 |
Family
ID=18022691
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31189399A Pending JP2001133160A (ja) | 1999-11-02 | 1999-11-02 | コンベア炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001133160A (ja) |
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004286434A (ja) * | 2003-03-06 | 2004-10-14 | Ngk Insulators Ltd | 線材を用いた搬送機構並びにそれを使用した熱処理炉及び熱処理方法 |
| EP1647789A1 (en) * | 2004-10-04 | 2006-04-19 | Ngk Insulators, Ltd. | Continuous heat treatment furnace and heat treatment method |
| JP2006132921A (ja) * | 2004-10-04 | 2006-05-25 | Ngk Insulators Ltd | 連続式熱処理炉 |
| JP2006183968A (ja) * | 2004-12-28 | 2006-07-13 | Ngk Insulators Ltd | 線材を用いた搬送機構並びにそれを使用した熱処理炉及び熱処理方法 |
| EP1691424A2 (de) * | 2005-02-09 | 2006-08-16 | Centrotherm Elektrische Anlagen GMBH + CO. KG | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Siliziumsolarzellen |
| US7182201B2 (en) | 2003-03-12 | 2007-02-27 | Seiko Epson Corporation | Wafer carrying apparatus and wafer carrying method |
| CN100413020C (zh) * | 2004-10-04 | 2008-08-20 | 日本碍子株式会社 | 连续式热处理炉 |
| WO2009053785A1 (en) * | 2007-10-24 | 2009-04-30 | Baccini Spa | Drying apparatus for plate elements for electronics and the like, and relative method |
| JP4628496B1 (ja) * | 2010-02-10 | 2011-02-09 | 智雄 松下 | 薄板搬送装置 |
| WO2011155398A1 (ja) * | 2010-06-10 | 2011-12-15 | 信越化学工業株式会社 | 太陽電池素子の電極焼成用焼成炉、太陽電池素子の製造方法及び太陽電池素子 |
| KR101243127B1 (ko) | 2010-11-25 | 2013-03-12 | 주식회사 포스코 | 산화마그네슘 코팅층 건조용 건조로 |
| KR101739934B1 (ko) | 2015-05-28 | 2017-05-26 | 주식회사 테라세미콘 | 인라인 열처리 장치 |
| CN107062894A (zh) * | 2017-03-31 | 2017-08-18 | 东莞市科隆威自动化设备有限公司 | 一种双线烘干烧结炉 |
| CN109573597A (zh) * | 2019-02-18 | 2019-04-05 | 南通金牛机械制造有限公司 | 隧道窑用下料装置 |
| EP3617100A1 (en) * | 2018-08-29 | 2020-03-04 | Lips Corporation | Production apparatus with depth image detection and conveying device thereof |
-
1999
- 1999-11-02 JP JP31189399A patent/JP2001133160A/ja active Pending
Cited By (24)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4515117B2 (ja) * | 2003-03-06 | 2010-07-28 | 日本碍子株式会社 | 線材を用いた搬送機構並びにそれを使用した熱処理炉及び熱処理方法 |
| JP2004286434A (ja) * | 2003-03-06 | 2004-10-14 | Ngk Insulators Ltd | 線材を用いた搬送機構並びにそれを使用した熱処理炉及び熱処理方法 |
| US7182201B2 (en) | 2003-03-12 | 2007-02-27 | Seiko Epson Corporation | Wafer carrying apparatus and wafer carrying method |
| EP1647789A1 (en) * | 2004-10-04 | 2006-04-19 | Ngk Insulators, Ltd. | Continuous heat treatment furnace and heat treatment method |
| JP2006132921A (ja) * | 2004-10-04 | 2006-05-25 | Ngk Insulators Ltd | 連続式熱処理炉 |
| CN100413020C (zh) * | 2004-10-04 | 2008-08-20 | 日本碍子株式会社 | 连续式热处理炉 |
| US7645136B2 (en) | 2004-10-04 | 2010-01-12 | Ngk Insulators, Ltd. | Continuous heat treatment furnace and heat treatment method |
| JP2006183968A (ja) * | 2004-12-28 | 2006-07-13 | Ngk Insulators Ltd | 線材を用いた搬送機構並びにそれを使用した熱処理炉及び熱処理方法 |
| JP4567435B2 (ja) * | 2004-12-28 | 2010-10-20 | 日本碍子株式会社 | 線材を用いた搬送機構並びにそれを使用した熱処理炉及び熱処理方法 |
| EP1691424A3 (de) * | 2005-02-09 | 2011-06-22 | centrotherm photovoltaics AG | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Siliziumsolarzellen |
| EP1691424A2 (de) * | 2005-02-09 | 2006-08-16 | Centrotherm Elektrische Anlagen GMBH + CO. KG | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Siliziumsolarzellen |
| WO2009053785A1 (en) * | 2007-10-24 | 2009-04-30 | Baccini Spa | Drying apparatus for plate elements for electronics and the like, and relative method |
| JP4628496B1 (ja) * | 2010-02-10 | 2011-02-09 | 智雄 松下 | 薄板搬送装置 |
| JP2011184196A (ja) * | 2010-02-10 | 2011-09-22 | Tomoo Matsushita | 薄板搬送装置 |
| CN103026480A (zh) * | 2010-06-10 | 2013-04-03 | 信越化学工业株式会社 | 用于烧制太阳能电池元件电极的燃烧炉、制造太阳能电池元件的方法和太阳能电池元件 |
| WO2011155398A1 (ja) * | 2010-06-10 | 2011-12-15 | 信越化学工業株式会社 | 太陽電池素子の電極焼成用焼成炉、太陽電池素子の製造方法及び太陽電池素子 |
| US11616163B2 (en) | 2010-06-10 | 2023-03-28 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Firing furnace for firing electrode of solar cell element, method for manufacturing solar cell element, and solar cell element |
| KR101243127B1 (ko) | 2010-11-25 | 2013-03-12 | 주식회사 포스코 | 산화마그네슘 코팅층 건조용 건조로 |
| KR101739934B1 (ko) | 2015-05-28 | 2017-05-26 | 주식회사 테라세미콘 | 인라인 열처리 장치 |
| CN107062894A (zh) * | 2017-03-31 | 2017-08-18 | 东莞市科隆威自动化设备有限公司 | 一种双线烘干烧结炉 |
| WO2018177241A1 (zh) * | 2017-03-31 | 2018-10-04 | 东莞市科隆威自动化设备有限公司 | 一种双线烘干烧结炉 |
| EP3617100A1 (en) * | 2018-08-29 | 2020-03-04 | Lips Corporation | Production apparatus with depth image detection and conveying device thereof |
| US10607354B2 (en) | 2018-08-29 | 2020-03-31 | Lips Corporation | Production apparatus with depth image detection |
| CN109573597A (zh) * | 2019-02-18 | 2019-04-05 | 南通金牛机械制造有限公司 | 隧道窑用下料装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2001133160A (ja) | コンベア炉 | |
| JP4997292B2 (ja) | 一方の面にドーピングされるウエハ、特にソーラウエハのスタックの形成方法、及びプロセスボートに複数のウエハバッチを積み込むハンドリングシステム | |
| TWI668786B (zh) | 基板搬送裝置及基板搬送方法 | |
| JP7164319B2 (ja) | 搬送装置、実装装置、搬送方法 | |
| JP3114692B2 (ja) | 被処理物取扱方法及び被処理物取扱装置 | |
| KR20090117785A (ko) | 진공 장치, 기판 반송 방법 | |
| JP4615509B2 (ja) | コンベア炉 | |
| JP2007266393A (ja) | 基板の位置決め方法、基板の位置決め装置、プラズマディスプレイ用背面板の製造装置。 | |
| JP2009091075A (ja) | 基板移載方法及び基板移載装置 | |
| JP3792868B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
| JPH11163093A (ja) | 基板搬送ロボット | |
| JP7406306B2 (ja) | 基板搬送装置 | |
| JP2012254876A (ja) | 基板の仕分け装置 | |
| KR101093983B1 (ko) | 디스플레이 패널용 글래스 이송장치 | |
| JP4635350B2 (ja) | 搬送装置 | |
| JPH09272095A (ja) | 板状物搬送用ロボット | |
| US6651461B2 (en) | Conveyor belt | |
| JP3654205B2 (ja) | 真空処理装置及び真空処理装置における基板搬送方法 | |
| JPH03256965A (ja) | 薄物基板受取装置 | |
| CN210763154U (zh) | 一种链式刻蚀机的下料装置及链式刻蚀机 | |
| JPS63154551A (ja) | 板材の送り装置 | |
| JPH0430549A (ja) | 基板搬送装置 | |
| JP2004262529A (ja) | チップテープのチップ装填装置 | |
| CN210824124U (zh) | 基板承载框体的输送设备及基板烘烤设备 | |
| KR20150106179A (ko) | 웨이퍼 적재 간격 변경장치 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Effective date: 20040330 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
|
| RD01 | Notification of change of attorney |
Effective date: 20040625 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20051108 |
|
| RD01 | Notification of change of attorney |
Effective date: 20051121 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 |
|
| A521 | Written amendment |
Effective date: 20051221 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20061031 |
|
| A521 | Written amendment |
Effective date: 20061227 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 |
|
| A911 | Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20070115 |
|
| A912 | Removal of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20070316 |