CN210763154U - 一种链式刻蚀机的下料装置及链式刻蚀机 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种链式刻蚀机的下料装置及链式刻蚀机，该下料装置包括第一运输机构、第二运输机构及缓存盒，第一运输机构被配置为沿第一方向输送硅片；第二运输机构，第二运输机构设在第一运输机构的一端，第二运输机构被配置为接收来自第一运输机构的硅片并且将硅片沿第二方向输送，第一方向和第二方向具有夹角，缓存盒上设有沿第一方向延伸设置的缓存槽，缓存槽为多个，且多个缓存槽竖直方向间隔分布，缓存盒配置为可相对第一运输机构沿竖直方向运动，以使第一运输机构运输的硅片插入多个缓存槽内。该下料装置能够给予工作人员较长时间进行异常处理，从而降低堵片导致返工片和碎片的几率。

Description

一种链式刻蚀机的下料装置及链式刻蚀机

技术领域

本实用新型涉及硅片加工设备技术领域，尤其涉及一种链式刻蚀机的下料装置及链式刻蚀机。

背景技术

链式刻蚀机的下料装置一般为连续性出料，在下料过程中可能出现堵片的现象，需要工作人员及时处理，如果工作人员处理不及时则会导致大批量的堵片、返工片以及碎片，降低了链式刻蚀机的生产效率及生产良品率。

实用新型内容

本实用新型的一个目的在于提出一种链式刻蚀机的下料装置，该下料装置能够给予工作人员较长时间进行异常处理，从而降低堵片导致返工片和碎片的几率。

本实用新型的另一个目的在于提出一种链式刻蚀机，该链式刻蚀机的生产效率较高，硅片良品率较高。

为实现上述技术效果，本实用新型的技术方案如下：

一种链式刻蚀机的下料装置，包括：第一运输机构，所述第一运输机构被配置为沿第一方向输送硅片；第二运输机构，所述第二运输机构设在所述第一运输机构的一端，所述第二运输机构被配置为接收来自所述第一运输机构的所述硅片并且将所述硅片沿第二方向输送，所述第一方向和所述第二方向具有夹角；缓存盒，所述缓存盒上设有沿所述第一方向延伸设置的缓存槽，所述缓存槽为多个，且多个所述缓存槽竖直方向间隔分布，所述缓存盒被配置为可相对所述第一运输机构沿竖直方向运动，以使所述第一运输机构运输的所述硅片插入多个所述缓存槽内。

在一些实施例中，所述链式刻蚀机的下料装置还包括支架，所述第一运输机构为多个，多个所述第一运输机构沿与所述第一方向垂直的方向依次设置在所述支架上，所述第二运输机构为多个，多个所述第二运输机构与多个所述第一运输机构一一对应设置。

在一些可选的实施例中，所述缓存盒包括：横向板，所述横向板位于所述第一运输机构的上方，且所述横向板沿与所述第一方向垂直的方向延伸设置与所述横向板的底部；纵向板，所述纵向板为多个，多个所述纵向板沿与所述第一方向垂直的方向间隔设置，相邻两个所述纵向板之间设有一个所述第一运输机构，每个所述纵向板的侧壁上均设有多个所述缓存槽，且相邻两个所述纵向板上的所述缓存槽一一对应设置。

在一些可选的实施例中，所述链式刻蚀机的下料装置还包括驱动机构，所述驱动机构包括：丝杠，所述丝杠设在所述支架上，且所述丝杠沿竖直方向延伸设置；螺母，所述螺母配合在所述丝杠上，且所述螺母与所述纵向板相连；驱动件，所述驱动件与所述丝杠相连，所述驱动件被配置为驱动所述丝杠旋转以使所述螺母沿竖直方向运动。

在一些实施例中，所述第一运输机构包括多个沿所述第一方向分布的第一运输单元，每个所述第一运输单元均包括：第一固定板，所述第一固定板为两个，两个所述第一固定板沿与所述第一方向垂直的方向间隔分布；第一传动轮组，所述第一传动轮组为两个，每个所述第一传动轮组可转动地设在一个所述第一固定板上；第一驱动源，所述第一驱动源与所述第一传动轮组中的一个传动轮相连；第一传送带，所述第一传送带为两个，每个所述第一传送带沿第一方向延伸，每个所述第一传送带与一个所述第一传动轮组配合；其中：所述第一驱动源驱动所述第一传动轮组转动时，所述第一传送带可沿所述第一方向运输所述硅片。

在一些可选的实施例中，所述缓存盒设置相邻的两个所述第一运输单元的所述第一固定板之间，或者，所述第一固定板上设有沿竖直方向贯穿所述第一固定板的贯穿槽，所述缓存盒配合在所述贯穿槽内。

在一些可选的实施例中，所述第二运输机构包括多个升降运输单元，每个所述升降运输单元位于一个所述第一运输单元的两个所述第一固定板之间，每个所述升降运输单元均包括：第二固定板，所述第二固定板为两个，两个所述第二固定板沿所述第一方向间隔分布；第二传动轮组，所述第二传动轮组为两个，每个所述第二传动轮组可转动地设在一个所述第二固定板上；第二驱动源，所述第二驱动源与所述第二传动轮组中的一个传动轮相连；运输带，所述运输带为两个，每个所述运输带沿第二方向延伸，每个所述运输带与一个所述第二传动轮组配合；升降源，所述升降源与所述第二固定板相连，所述升降源被配置为驱动所述第二固定板沿竖直方向运动；其中：所述第一运输机构将所述硅片运输至所述运输带的上方时，所述升降源驱动所述第二固定板上升，以使所述运输带止抵在所述硅片上并且带动所述硅片脱离所述第一传送带。

在一些可选的实施例中，所述第二运输机构还包括两个第二运输单元，两个所述第二运输单元分别设在所述第一运输机构的两侧，所述第二运输单元包括第二传送带，所述第二传送带与所述运输带对应设置。

在一些可选的实施例中，所述链式刻蚀机的下料装置还包括挡板，所述挡板位于所述第一运输机构的末端，所述挡板被配置为阻挡所述硅片。

一种链式刻蚀机，包括所述的链式刻蚀机的下料装置。

本实用新型实施例的链式刻蚀机的下料装置，由于设有可以缓存第一运输机构承载的硅片的缓存盒，从而使得工作人员可以在缓存盒缓存硅片的时间内进行处理异常，降低了堵片导致返工片和碎片的几率。并且，由于缓存过程中工作人员并不会直接触碰缓存的硅片，避免了因工作人员触摸导致硅片脏污影响产品品质的现象，从而保证了硅片的良品率。

本实用新型实施例的链式刻蚀机，由于具有前文所述的链式刻蚀机的下料装置，提升了链式刻蚀机的生产效率及硅片良品率。

本实用新型的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本实用新型的实践了解到。

附图说明

图1是本实用新型具体实施方式提供的链式刻蚀机的下料装置的结构示意图。

图2是图1圈示A处的放大示意图。

图3是图1圈示B处的放大示意图。

图4是图1圈示C处的放大示意图。

附图标记：

1、第一运输机构；

11、第一运输单元；111、第一固定板；112、第一传动轮组；113、第一驱动源；114、第一传送带；

2、第二运输机构；

21、升降运输单元；211、第二固定板；212、第二传动轮组；213、运输带；

22、第二运输单元；221、第二传送带；

3、缓存盒；31、横向板；32、纵向板；321、缓存槽；

4、支架；

5、驱动机构；51、丝杠；52、螺母；53、驱动件；

6、挡板。

具体实施方式

为使本实用新型解决的技术问题、采用的技术方案和达到的技术效果更加清楚，下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本实用新型的技术方案。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

此外，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征，用于区别描述特征，无顺序之分，无轻重之分。在本实用新型的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

下面参考图1-图4描述本实用新型实施例的链式刻蚀机的下料装置的具体结构。

如图1所示，本实用新型实施例的一种链式刻蚀机的下料装置包括第一运输机构1、第二运输机构2及缓存盒3，第一运输机构1被配置为沿第一方向输送硅片，第二运输机构2设在第一运输机构1的一端，第二运输机构2被配置为接收来自第一运输机构1的硅片并且将硅片沿第二方向输送，第一方向和第二方向具有夹角，缓存盒3上设有沿第一方向延伸设置的缓存槽321，缓存槽321为多个，且多个缓存槽321竖直方向间隔分布，缓存盒3被配置为可相对第一运输机构1沿竖直方向运动，以使第一运输机构1运输的硅片插入多个缓存槽321内。

可以理解的是，在实际生产过程中，第一运输机构1将硅片沿第一方向运输至第二运输机构2上后，第二运输机构2再将硅片沿第二方向运输至刻蚀工序。当下料侧发生堵片的现象时，缓存盒3沿竖直方向向下运动，对第一运输机构1运输的硅片进行收片、缓存。工作人员可以在缓存时间内进行处理异常，由于缓存盒3内有多个缓存槽321，工作人员可以有充足的时间进行异常处理，从而降低了堵片导致返工片和碎片的几率。与此同时，缓存的硅片不经过人员触摸，避免了因工作人员触摸导致硅片脏污影响产品品质的现象。此外，在缓存盒3下降的过程中，每个缓存槽321都可以存放一片硅片，这样保证了缓存盒3内的硅片是分开的，确保在异常接触时，硅片能够一片一片地单独回到第一运输机构1，从而保证下料装置的正常下料。

本实用新型实施例的链式刻蚀机的下料装置，由于设有可以缓存第一运输机构1承载的硅片的缓存盒3，从而使得工作人员可以在缓存盒3缓存硅片的时间内进行处理异常，降低了堵片导致返工片和碎片的几率。并且，由于缓存过程中工作人员并不会直接触碰缓存的硅片，避免了因工作人员触摸导致硅片脏污影响产品品质的现象，从而保证了硅片的良品率。

在一些实施例中，链式刻蚀机的下料装置还包括支架4，第一运输机构1为多个，多个第一运输机构1沿与第一方向垂直的方向依次设置在支架4上，第二运输机构2为多个，多个第二运输机构2与多个第一运输机构1一一对应设置。

可以理解的是，第一运输机构1和第二运输机构2均为多个，能够提升下料装置的下料效率，从而间接提升刻蚀机的刻蚀效率。与此同时，第一运输机构1和第二运输机构2设在支架4上，可以根据实际需要选择支架4的高度，使得第一运输机构1和第二运输机构2能够更好的适配后续刻蚀机构高度。这里需要说明的是，支架4仅仅是起到支撑第一运输机构1及第二运输机构2的作用，在此并不对支架4的具体形状、尺寸和材质做出限定，支架4的形状、尺寸和材质可以根据实际需要选择。

在一些可选的实施例中，如图2所示，缓存盒3包括横向板31和纵向板32，横向板31位于第一运输机构1的上方，且横向板31沿与第一方向垂直的方向延伸设置与横向板31的底部，纵向板32为多个，多个纵向板32沿与第一方向垂直的方向间隔设置，相邻两个纵向板32之间设有一个第一运输机构1，每个纵向板32的侧壁上均设有多个缓存槽321，且相邻两个纵向板32上的缓存槽321一一对应设置。可以理解的是，两个纵向板32之间设有一个第一运输机构1，这样能够保证在发生堵片时，每个第一运输机构1上的硅片均可以进入缓存盒3的缓存槽321，从而使得发生堵片时每个硅片都不会在第二运输机构2的作用下沿第二方向运动。此外，每个纵向板32的侧壁上均设有多个缓存槽321，且相邻两个纵向板32上的缓存槽321一一对应设置能够保证存入缓存盒3的硅片是间隔开分布的，从而保证异常处理完毕后硅片能够一片一片的进入第一运输机构1，从而避免异常处理完毕后硅片堆叠在第一运输机构1上的现象发生。

在一些可选的实施例中，如图2所示，链式刻蚀机的下料装置还包括驱动机构5，驱动机构5包括丝杠51、螺母52驱动件53，丝杠51设在支架4上，且丝杠51沿竖直方向延伸设置，螺母52配合在丝杠51上，且螺母52与纵向板32相连，驱动件53与丝杠51相连，驱动件53被配置为驱动丝杠51旋转以使螺母52沿竖直方向运动。可以理解的是，根据前文所述硅片在进入缓存盒3内时是单片进入的，采用丝杠51配合螺母52的驱动形式能够保证纵向板32的运动精度，从而保证第一运输机构1运输的硅片能够一片一片地进入缓存盒3内。当然，这里需要说明的是，在本实用新型的其他实施例中，驱动机构5还可以形成为其他形式，并不限于本实施例的丝杠51配合螺母52的形式。

在一些实施例中，如图3所示，第一运输机构1包括多个沿第一方向分布的第一运输单元11，每个第一运输单元11均包括第一固定板111、第一传动轮组112、第一驱动源113和第一传送带114，第一固定板111为两个，两个第一固定板111沿与第一方向垂直的方向间隔分布，第一传动轮组112为两个，每个第一传动轮组112可转动地设在一个第一固定板111上，第一驱动源113与第一传动轮组112中的一个传动轮相连，第一传送带114为两个，每个第一传送带114沿第一方向延伸，每个第一传送带114与一个第一传动轮组112配合。第一驱动源113驱动第一传动轮组112转动时，第一传送带114可沿第一方向运输硅片。可以理解的是，采用第一传送带114作为硅片的运输载体，能够较好地保证硅片的平稳运输，避免运输过程中硅片发生损坏的现象。而第一传送带114与包含有多个第一传动轮的第一传动轮组112配合，能够较好地保证第一传送带114在运输硅片的过程中始终处于张紧状态，较好地避免了第一传送带114打滑从而导致硅片堵片的现象。

当然，这里需要说明的是，相邻的两个第一运输单元11可以共用一个第一固定板111。也就是说，相邻的两个第一运输单元11包括三个固定板，其中一个固定板的两侧均设有第一传动轮组112。这样能够极大地简化第一运输单元11的结构，从而简化整个链式刻蚀机的结构，降低了链式刻蚀机的生产成本。此外，在本实用新型的实施例中，第一驱动源113可以是电机还可以是旋转气缸，在此不对第一驱动源113的具体类型做出限定，第一驱动源113的具体类型可以根据实际情况做出选择。

在一些可选的实施例中，缓存盒3设置相邻的两个第一运输单元11的第一固定板111之间，或者，第一固定板111上设有沿竖直方向贯穿第一固定板111的贯穿槽，缓存盒3配合在贯穿槽内。由此，可以较好地保证缓存盒3上下运动过程中，第一运输单元11运输的硅片能够稳定地进入缓存盒3中，从而保证了缓存盒3能够稳定地实现硅片缓存。这里需要说明的是，在本实用新型的其他实施例中，缓存盒3的位置可以根据实际需要设置，缓存盒3只需能够稳定地缓存硅片及不影响第一运输机构1的正常运输即可。

在一些可选的实施例中，如图1、图4所示，第二运输机构2包括多个升降运输单元21，每个升降运输单元21位于一个第一运输单元11的两个第一固定板111之间，每个升降运输单元21均包括第二固定板211、第二传动轮组212212、第二驱动源、运输带213和升降源，第二固定板211为两个，两个第二固定板211沿第一方向间隔分布，第二传动轮组212为两个，每个第二传动轮组212可转动地设在一个第二固定板211上，第二驱动源与第二传动轮组212中的一个传动轮相连，运输带213为两个，每个运输带213沿第二方向延伸，每个运输带213与一个第二传动轮组212配合，升降源与第二固定板211相连，升降源被配置为驱动第二固定板211沿竖直方向运动，第一运输机构1将硅片运输至运输带213的上方时，升降源驱动第二固定板211上升，以使运输带213止抵在硅片上并且带动硅片脱离第一传送带114。

可以理解的是，在实际下料过程中，第一运输机构1将硅片运输至升降运输单元21时，如果第一传送带114和运输带213齐平设置就会使得硅片同时受到第一传送带114和运输带213两个结构的驱动，这样就会导致硅片在运输带213上发生歪斜，并且有可能导致硅片不能顺利地到达运输带213上。而在本实用新型中，升降运输单元21包括升降源，当第一运输机构1将硅片运输至升降运输单元21时，运输带213位于第一传送带114的下方。此时，第二固定板211在升降源的驱动下上升，从而使得运输带213止抵在硅片上并且带动硅片脱离第一传送带114，然后第二驱动源驱动第二传动轮组212转动，使得运输带213沿第二方向运输硅片。这样，在硅片运输过程中，不会出现第一传送带114和运输带213同时与硅片接触的现象，从而保证了硅片能够稳定的运输。

这里需要补充说明的是，在本实用新型中，第二驱动源和升降源的具体形式可以根据实际需要选择，电机、气缸、电动推杆等结构，在此不对第二驱动源和升降源的具体形式作出限定。

在一些可选的实施例中，如图1所示，第二运输机构2还包括两个第二运输单元22，两个第二运输单元22分别设在第一运输机构1的两侧，第二运输单元22包括第二传送带221，第二传送带221与运输带213对应设置。由此，运输带213将硅片传送至第二传送带221，再由第二传送带221运输至刻蚀工位。此外，为了方便制造和装配，第二运输单元22的结构可以与第一运输单元11结构相似。

在一些可选的实施例中，如图1所示，链式刻蚀机的下料装置还包括挡板6，挡板6位于第一运输机构1的末端，挡板6被配置为阻挡硅片。可以理解的是，在实际下料过程中，第一运输机构1沿第一方向运输硅片，当第一运输机构1将挡片运输至第一运输机构1的另一端时，挡板6能够避免硅片从第一运输机构1上脱离，从而保证了硅片能够从第一运输机构1上转移到第二运输机构2上。

实施例：

下面参考图1-图4描述本实用新型一个具体实施例的链式刻蚀机的下料装置。

本实施例的链式刻蚀机的下料装置包括第一运输机构1、第二运输机构2、缓存盒3、支架4、驱动机构5及挡板6，第一运输机构1被配置为沿第一方向输送硅片。第二运输机构2，第二运输机构2设在第一运输机构1的一端，第二运输机构2被配置为接收来自第一运输机构1的硅片并且将硅片沿第二方向输送，第一方向和第二方向具有夹角，缓存盒3包括横向板31和纵向板32，横向板31位于第一运输机构1的上方，且横向板31沿与第一方向垂直的方向延伸设置，纵向板32为六个，六个纵向板32沿与第一方向垂直的方向间隔设置，相邻两个纵向板32之间设有一个第一运输机构1，每个纵向板32的侧壁上均设有多个缓存槽321，且相邻两个纵向板32上的缓存槽321一一对应设置。驱动机构5可驱动缓存盒3沿竖直方向运动，以使第一运输机构1运输的硅片依次插入多个缓存槽321内。

驱动机构5包括丝杠51、螺母52驱动件53，丝杠51设在支架4上，且丝杠51沿竖直方向延伸设置，螺母52配合在丝杠51上，且螺母52与纵向板32相连，驱动件53与丝杠51相连，驱动件53被配置为驱动丝杠51旋转以使螺母52沿竖直方向运动。

第一运输机构1包括五个沿第一方向分布的第一运输单元11，每个第一运输单元11均包括第一固定板111、第一传动轮组112、第一驱动源113和第一传送带114，第一固定板111为两个，两个第一固定板111沿与第一方向垂直的方向间隔分布，相邻两个第一运输单元11共用一个第一固定板111。第一传动轮组112为两个，每个第一传动轮组112可转动地设在一个第一固定板111上，第一驱动源113与第一传动轮组112中的一个传动轮相连，第一传送带114为两个，每个第一传送带114沿第一方向延伸，每个第一传送带114与一个第一传动轮组112配合。第一驱动源113驱动第一传动轮组112转动时，第一传送带114可沿第一方向运输硅片。

第二运输机构2包括五个升降运输单元21和两个第二运输单元22，每个升降运输单元21位于两个第一固定板111之间，每个升降运输单元21均包括第二固定板211、第二传动轮组212、运输带213、第二驱动源和升降源，第二固定板211为两个，两个第二固定板211沿第一方向间隔分布，第二传动轮组212为两个，每个第二传动轮组212可转动地设在一个第二固定板211上，第二驱动源与第二传动轮组212中的一个传动轮相连，运输带213为两个，每个运输带213沿第二方向延伸，每个运输带213与一个第二传动轮组212配合，升降源与第二固定板211相连，升降源被配置为驱动第二固定板211沿竖直方向运动，第一运输机构1将硅片运输至运输带213的上方时，升降源驱动第二固定板211上升，以使运输带213止抵在硅片上并且带动硅片脱离第一传送带114。两个第二运输单元22分别设在第一运输机构1的两侧，第二运输单元22包括第二传送带221，第二传送带221与运输带213对应设置。挡板6位于第一运输机构1的一端，挡板6被配置为阻挡硅片。

一种链式刻蚀机，包括的链式刻蚀机的下料装置。

本实用新型实施例的链式刻蚀机，由于具有前文所述的链式刻蚀机的下料装置，提升了链式刻蚀机的生产效率及硅片良品率。

在本说明书的描述中，参考术语“有些实施例”、“其他实施例”、等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本实用新型的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。

以上内容仅为本实用新型的较佳实施例，对于本领域的普通技术人员，依据本实用新型的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，本说明书内容不应理解为对本实用新型的限制。

Claims (10)

1.一种链式刻蚀机的下料装置，其特征在于，包括：

第一运输机构(1)，所述第一运输机构(1)被配置为沿第一方向输送硅片；

第二运输机构(2)，所述第二运输机构(2)设在所述第一运输机构(1)的一端，所述第二运输机构(2)被配置为接收来自所述第一运输机构(1)的所述硅片并且将所述硅片沿第二方向输送，所述第一方向和所述第二方向之间具有夹角；

缓存盒(3)，所述缓存盒(3)上设有沿所述第一方向延伸的缓存槽(321)，所述缓存槽(321)为多个，且多个所述缓存槽(321)沿竖直方向间隔分布，所述缓存盒(3)被配置为可相对所述第一运输机构(1)沿竖直方向运动，以使所述第一运输机构(1)运输的所述硅片插入多个所述缓存槽(321)内。

2.根据权利要求1所述的链式刻蚀机的下料装置，其特征在于，所述链式刻蚀机的下料装置还包括支架(4)，所述第一运输机构(1)为多个，多个所述第一运输机构(1)沿与所述第一方向垂直的方向依次设置在所述支架(4)上，所述第二运输机构(2)为多个，多个所述第二运输机构(2)与多个所述第一运输机构(1)一一对应设置。

3.根据权利要求2所述的链式刻蚀机的下料装置，其特征在于，所述缓存盒(3)包括：

横向板(31)，所述横向板(31)位于所述第一运输机构(1)的上方，且所述横向板(31)沿与所述第一方向垂直的方向延伸设置；

纵向板(32)，所述纵向板(32)为多个，多个所述纵向板(32)沿与所述第一方向垂直的方向间隔设置于所述横向板(31)的底部，相邻两个所述纵向板(32)之间设有一个所述第一运输机构(1)，每个所述纵向板(32)的侧壁上均设有多个所述缓存槽(321)，且相邻两个所述纵向板(32)上的所述缓存槽(321)一一对应设置。

4.根据权利要求3所述的链式刻蚀机的下料装置，其特征在于，所述链式刻蚀机的下料装置还包括驱动机构(5)，所述驱动机构(5)包括：

丝杠(51)，所述丝杠(51)设在所述支架(4)上，且所述丝杠(51)沿竖直方向延伸设置；

螺母(52)，所述螺母(52)配合在所述丝杠(51)上，且所述螺母(52)与所述纵向板(32)相连；

驱动件(53)，所述驱动件(53)与所述丝杠(51)相连，所述驱动件(53)被配置为驱动所述丝杠(51)旋转以使所述螺母(52)沿竖直方向运动。

5.根据权利要求2所述的链式刻蚀机的下料装置，其特征在于，所述第一运输机构(1)包括多个沿所述第一方向分布的第一运输单元(11)，每个所述第一运输单元(11)均包括：

第一固定板(111)，所述第一固定板(111)为两个，两个所述第一固定板(111)沿与所述第一方向垂直的方向间隔分布；

第一传动轮组(112)，所述第一传动轮组(112)为两个，每个所述第一传动轮组(112)可转动地设在一个所述第一固定板(111)上；

第一驱动源(113)，所述第一驱动源(113)与所述第一传动轮组(112)中的一个传动轮相连；

第一传送带(114)，所述第一传送带(114)为两个，每个所述第一传送带(114)沿第一方向延伸，每个所述第一传送带(114)与一个所述第一传动轮组(112)配合；其中：

所述第一驱动源(113)驱动所述第一传动轮组(112)转动时，所述第一传送带(114)可沿所述第一方向运输所述硅片。

6.根据权利要求5所述的链式刻蚀机的下料装置，其特征在于，所述缓存盒(3)设置相邻的两个所述第一运输单元(11)的所述第一固定板(111)之间，或者，所述第一固定板(111)上设有沿竖直方向贯穿所述第一固定板(111)的贯穿槽，所述缓存盒(3)配合在所述贯穿槽内。

7.根据权利要求5所述的链式刻蚀机的下料装置，其特征在于，所述第二运输机构(2)包括多个升降运输单元(21)，每个所述升降运输单元(21)位于一个所述第一运输单元(11)的两个所述第一固定板(111)之间，每个所述升降运输单元(21)均包括：

第二固定板(211)，所述第二固定板(211)为两个，两个所述第二固定板(211)沿所述第一方向间隔分布；

第二传动轮组(212)，所述第二传动轮组(212)为两个，每个所述第二传动轮组(212)可转动地设在一个所述第二固定板(211)上；

第二驱动源，所述第二驱动源与所述第二传动轮组(212)中的一个传动轮相连；

运输带(213)，所述运输带(213)为两个，每个所述运输带(213)沿第二方向延伸，每个所述运输带(213)与一个所述第二传动轮组(212)配合；

升降源，所述升降源与所述第二固定板(211)相连，所述升降源被配置为驱动所述第二固定板(211)沿竖直方向运动；其中：

所述第一运输机构(1)将所述硅片运输至所述运输带(213)的上方时，所述升降源驱动所述第二固定板(211)上升，以使所述运输带(213)止抵在所述硅片上并且带动所述硅片脱离所述第一传送带(114)。

8.根据权利要求7所述的链式刻蚀机的下料装置，其特征在于，所述第二运输机构(2)还包括两个第二运输单元(22)，两个所述第二运输单元(22)分别设在所述第一运输机构(1)的两侧，所述第二运输单元(22)包括第二传送带(221)，所述第二传送带(221)与所述运输带(213)对应设置。

9.根据权利要求1所述的链式刻蚀机的下料装置，其特征在于，所述链式刻蚀机的下料装置还包括挡板(6)，所述挡板(6)位于所述第一运输机构(1)的末端，所述挡板(6)被配置为阻挡所述硅片。

10.一种链式刻蚀机，其特征在于，包括如权利要求1-9中任一项所述的链式刻蚀机的下料装置。

Images