JP2001131637A - 歪形ワークの加熱装置 - Google Patents
歪形ワークの加熱装置Info
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- JP2001131637A JP2001131637A JP31987999A JP31987999A JP2001131637A JP 2001131637 A JP2001131637 A JP 2001131637A JP 31987999 A JP31987999 A JP 31987999A JP 31987999 A JP31987999 A JP 31987999A JP 2001131637 A JP2001131637 A JP 2001131637A
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- center
- circular coil
- work
- cam
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P10/00—Technologies related to metal processing
- Y02P10/25—Process efficiency
Abstract
(57)【要約】
【目的】 歪形ワークの外周面を均一に加熱できるよう
にする。 【構成】 円形コイル１の略中心位置に配置された歪形
ワークとしての平板カム２を回転させ、この回転過程で
円形コイル１により平板カム２の外周面を誘導加熱して
焼入れする。平板カム２の外周面が均一に加熱されるよ
うに移動機構４が備えられており、円形コイル１の中心
Ｑと平板カム２の中心Ｐとの位置をずらせて、平板カム
２を円形コイル１を中心Ｑを基点とした公転運動させ
る。
にする。 【構成】 円形コイル１の略中心位置に配置された歪形
ワークとしての平板カム２を回転させ、この回転過程で
円形コイル１により平板カム２の外周面を誘導加熱して
焼入れする。平板カム２の外周面が均一に加熱されるよ
うに移動機構４が備えられており、円形コイル１の中心
Ｑと平板カム２の中心Ｐとの位置をずらせて、平板カム
２を円形コイル１を中心Ｑを基点とした公転運動させ
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は平板カム等の外周面
を均一に高周波加熱する高周波加熱装置等に利用される
歪形ワークの加熱装置に関する。
を均一に高周波加熱する高周波加熱装置等に利用される
歪形ワークの加熱装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】この種の装置の代表例として高周波加熱
装置がある。同装置は、図４に示すように円形コイル１
の中心位置に配置された平板カム６を連続的に回転さ
せ、この回転過程で円形コイル１により平板カム６の外
周面を高周波加熱して焼入する基本構成となっている。
装置がある。同装置は、図４に示すように円形コイル１
の中心位置に配置された平板カム６を連続的に回転さ
せ、この回転過程で円形コイル１により平板カム６の外
周面を高周波加熱して焼入する基本構成となっている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来例による場合、平板カム６のうち図中示すＡ部分が円
形コイル１に近接していることから集中的に誘導加熱さ
れ、他の部分に比べて深く焼入れが行われるという本質
的な欠点がある。図４(A) 中に示す斜線は焼入れにより
形成された硬化層を示している。即ち、平板カム６のＡ
部分に形成された硬化層が他の部分のそれに比べて厚
く、この焼きムラにより歪みや焼き割れを生じるおそれ
がある。これはワークが平板カムであるときの特有の問
題ではなく、ワークが歪形であるときに共通して言える
事項である。また、高周波誘導加熱だけでなく、一般の
抵抗加熱でも同様の問題が指摘されている。
来例による場合、平板カム６のうち図中示すＡ部分が円
形コイル１に近接していることから集中的に誘導加熱さ
れ、他の部分に比べて深く焼入れが行われるという本質
的な欠点がある。図４(A) 中に示す斜線は焼入れにより
形成された硬化層を示している。即ち、平板カム６のＡ
部分に形成された硬化層が他の部分のそれに比べて厚
く、この焼きムラにより歪みや焼き割れを生じるおそれ
がある。これはワークが平板カムであるときの特有の問
題ではなく、ワークが歪形であるときに共通して言える
事項である。また、高周波誘導加熱だけでなく、一般の
抵抗加熱でも同様の問題が指摘されている。
【０００４】本発明は上記した背景の下で創作されたも
のであって、その目的とするところは、歪形ワークの外
周面を均一に加熱することができる歪形ワークの加熱装
置を提供することにある。
のであって、その目的とするところは、歪形ワークの外
周面を均一に加熱することができる歪形ワークの加熱装
置を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明に係る歪形ワーク
の加熱装置は、円形コイルの略中心位置に配置された歪
形ワークを回転させ、この回転過程で当該コイルにより
当該ワークの外周面を加熱する基本構成となっており、
前記歪形ワークの外周面が均一に加熱されるように、前
記円形コイルの中心と前記歪形ワークの中心との位置を
ずらせた状態で、前記歪形ワークを前記円形コイルを中
心とした公転運動又は前記円形コイルを前記歪形ワーク
を中心とした公転運動させる移動機構を備えたことを特
徴としている。
の加熱装置は、円形コイルの略中心位置に配置された歪
形ワークを回転させ、この回転過程で当該コイルにより
当該ワークの外周面を加熱する基本構成となっており、
前記歪形ワークの外周面が均一に加熱されるように、前
記円形コイルの中心と前記歪形ワークの中心との位置を
ずらせた状態で、前記歪形ワークを前記円形コイルを中
心とした公転運動又は前記円形コイルを前記歪形ワーク
を中心とした公転運動させる移動機構を備えたことを特
徴としている。
【０００６】このような構成による場合、歪形ワークが
回転すると同時に、円形コイルに対して相対的に公転運
動することから、歪形ワークの外周面と円形コイルとの
距離が歪形ワークの外周全面にわたって均一となり、結
果として、歪形ワークの外周面が円形コイルにより均一
に加熱される。
回転すると同時に、円形コイルに対して相対的に公転運
動することから、歪形ワークの外周面と円形コイルとの
距離が歪形ワークの外周全面にわたって均一となり、結
果として、歪形ワークの外周面が円形コイルにより均一
に加熱される。
【０００７】歪形ワークが平板カムである場合、平板カ
ムの中心から最も遠い位置の最外端部と当該平板カムの
中心との距離をｒ１、両者の間を結ぶ直線の延長線上の
位置の反対側端部と当該平板カムの中心との距離をｒ２
とするとき、平板カム又は円形コイルの公転運動の半径
ｒがｒ≒（ｒ１−ｒ２）／２に設定するようにすると良
い。
ムの中心から最も遠い位置の最外端部と当該平板カムの
中心との距離をｒ１、両者の間を結ぶ直線の延長線上の
位置の反対側端部と当該平板カムの中心との距離をｒ２
とするとき、平板カム又は円形コイルの公転運動の半径
ｒがｒ≒（ｒ１−ｒ２）／２に設定するようにすると良
い。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照して説明する。図１は歪形ワークの加熱装置の概
略構成を示す模式図、図２は同装置により加熱される平
板カムの運動を示す模式図、図３は同装置の移動機構の
構成図である（図３中の平板ワークと加熱コイルとの大
きさ等の関係は便宜上正確に描かれていない）。
を参照して説明する。図１は歪形ワークの加熱装置の概
略構成を示す模式図、図２は同装置により加熱される平
板カムの運動を示す模式図、図３は同装置の移動機構の
構成図である（図３中の平板ワークと加熱コイルとの大
きさ等の関係は便宜上正確に描かれていない）。
【０００９】ここに例として掲げる歪形ワークの加熱装
置は高周波加熱装置であり、図１に示すように円形コイ
ル１の略中心位置に配置された平板カム２（歪形ワーク
に相当する）をワーク自転モータ５（図３参照）により
回転させ、この回転過程で円形コイル１により平板カム
２の外周面を誘導加熱して焼入れする基本構成となって
いる。最も特徴的であるのは、平板カム２の外周面が均
一に加熱されるように、円形コイル１の中心Ｑと平板カ
ム２の中心Ｐとの位置をずらせて、平板カム２を円形コ
イル１を中心Ｑを基点とした公転運動させる移動機構４
を備えるようにした点である。なお、円形コイル１の周
辺には、焼入れ終了後の平板カム２を水冷する冷却ジャ
ケット等が備えられているが、これらは図示省略されて
いる。
置は高周波加熱装置であり、図１に示すように円形コイ
ル１の略中心位置に配置された平板カム２（歪形ワーク
に相当する）をワーク自転モータ５（図３参照）により
回転させ、この回転過程で円形コイル１により平板カム
２の外周面を誘導加熱して焼入れする基本構成となって
いる。最も特徴的であるのは、平板カム２の外周面が均
一に加熱されるように、円形コイル１の中心Ｑと平板カ
ム２の中心Ｐとの位置をずらせて、平板カム２を円形コ
イル１を中心Ｑを基点とした公転運動させる移動機構４
を備えるようにした点である。なお、円形コイル１の周
辺には、焼入れ終了後の平板カム２を水冷する冷却ジャ
ケット等が備えられているが、これらは図示省略されて
いる。
【００１０】歪形ワークとしての平板カム２は、ここで
はエンジンのクランクシャフトに取り付けられる部品で
ある。平板カム２の中心Ｐはそのシャフト３の軸芯と一
致している。図２(A) に示すように平板カム２の中心Ｐ
から最も遠い位置の最外端部２１と平板カム２の中心Ｐ
との距離をｒ１、両者の間を結ぶ直線の延長線上の位置
の反対側端部２２と平板カム２の中心Ｐとの距離をｒ２
としている。以下、図１及び図３を参照して同装置の各
構成部について説明する。
はエンジンのクランクシャフトに取り付けられる部品で
ある。平板カム２の中心Ｐはそのシャフト３の軸芯と一
致している。図２(A) に示すように平板カム２の中心Ｐ
から最も遠い位置の最外端部２１と平板カム２の中心Ｐ
との距離をｒ１、両者の間を結ぶ直線の延長線上の位置
の反対側端部２２と平板カム２の中心Ｐとの距離をｒ２
としている。以下、図１及び図３を参照して同装置の各
構成部について説明する。
【００１１】円形コイル１は図１に示すように銅等の中
空パイプを円状に曲げて作成されたものである。ここで
は固定式となっているので、円形コイル１の中心Ｑが動
くことはない。円形コイル１には図外の高周波電源及び
水冷タンクが接続されており、高周波電源で生成された
高周波大電流が円形コイル１に供給されると、平板カム
２を誘導加熱するための高周波磁界を発生する一方、水
冷タンクから供給された水が円形コイル１の内部を流通
すると、円形コイル１に発生するジュール熱等が吸収さ
れるようになっている。
空パイプを円状に曲げて作成されたものである。ここで
は固定式となっているので、円形コイル１の中心Ｑが動
くことはない。円形コイル１には図外の高周波電源及び
水冷タンクが接続されており、高周波電源で生成された
高周波大電流が円形コイル１に供給されると、平板カム
２を誘導加熱するための高周波磁界を発生する一方、水
冷タンクから供給された水が円形コイル１の内部を流通
すると、円形コイル１に発生するジュール熱等が吸収さ
れるようになっている。
【００１２】移動機構４は図３に示すように対向配置さ
れた公転モータ４１ａ、４１ｂと、公転モータ４１ａ、
４１ｂに連結されたアーム部４２ａ、４２ｂとを有して
おり、アーム部４２ａの先端部にはワーク自転モータ５
が取り付けられている一方、アーム部４２ｂの先端部に
は平板カム２のシャフト３の一方を軸支するセンター６
が取り付けられた基本構成となっている。ワーク自転モ
ータ５には平板カム２のシャフト３の他方を把持するチ
ャック７が連結されている。公転モータ４１ａ、ｂの軸
芯と円形コイル１の中心Ｑとは一致している。平板カム
２はチャック７及びセンター６により軸支されるように
なっている。平板カム２についてのチャック７等への着
脱を容易にするために、公転モータ４１ａは図外のガイ
ドによりその軸芯方向に移動自在にされている。
れた公転モータ４１ａ、４１ｂと、公転モータ４１ａ、
４１ｂに連結されたアーム部４２ａ、４２ｂとを有して
おり、アーム部４２ａの先端部にはワーク自転モータ５
が取り付けられている一方、アーム部４２ｂの先端部に
は平板カム２のシャフト３の一方を軸支するセンター６
が取り付けられた基本構成となっている。ワーク自転モ
ータ５には平板カム２のシャフト３の他方を把持するチ
ャック７が連結されている。公転モータ４１ａ、ｂの軸
芯と円形コイル１の中心Ｑとは一致している。平板カム
２はチャック７及びセンター６により軸支されるように
なっている。平板カム２についてのチャック７等への着
脱を容易にするために、公転モータ４１ａは図外のガイ
ドによりその軸芯方向に移動自在にされている。
【００１３】公転モータ４１ａを図示よりも図中右側に
移動させて、平板カム２をチャック７に取り付け、その
後、公転モータ４１ａの位置を元の位置にまで戻すと、
図示のように平板カム２のシャフト３の端面がセンター
７６に当接する。このとき、平板カム２は円形コイル１
の略中心に位置している。
移動させて、平板カム２をチャック７に取り付け、その
後、公転モータ４１ａの位置を元の位置にまで戻すと、
図示のように平板カム２のシャフト３の端面がセンター
７６に当接する。このとき、平板カム２は円形コイル１
の略中心に位置している。
【００１４】この状態でワーク自転モータ５を動作させ
ると、円形コイル１が円形コイル１の略中心位置で回転
し、と同時に公転モータ４１ａ、４１ｂを動作させる
と、円形コイル１が円形コイル１の中心Ｑを基点として
公転運動する。このときの公転運動の半径ｒはｒ≒（ｒ
１−ｒ２）／２に設定されている。ただ、平板カム２の
公転運動の半径ｒと平板カム２の外周面に形成される硬
化層のパターンとは密接に関係することから、アーム部
４２ａ、４２ｂに対するワーク自転モータ５、センター
６の取り付け位置を変化させて、平板カム２の公転運動
の半径ｒを調整できるようにすることが望ましい。
ると、円形コイル１が円形コイル１の略中心位置で回転
し、と同時に公転モータ４１ａ、４１ｂを動作させる
と、円形コイル１が円形コイル１の中心Ｑを基点として
公転運動する。このときの公転運動の半径ｒはｒ≒（ｒ
１−ｒ２）／２に設定されている。ただ、平板カム２の
公転運動の半径ｒと平板カム２の外周面に形成される硬
化層のパターンとは密接に関係することから、アーム部
４２ａ、４２ｂに対するワーク自転モータ５、センター
６の取り付け位置を変化させて、平板カム２の公転運動
の半径ｒを調整できるようにすることが望ましい。
【００１５】以上のように構成された歪形ワークの加熱
装置による場合、円形コイル１の略中心位置に配置され
た平板カム２が回転しつつ公転運動することから、平板
カム２の外周面と円形コイル１との距離が平板カム２の
外周全面にわたって均一となり、結果として、従来例に
よる場合に比べて平板カム２の外周面が均一に加熱され
ることになる。図２(A) 中に示す斜線は焼入れにより形
成された硬化層を示している。即ち、図４(A) に示す従
来例による場合に比べると、平板カム２の最外端部２１
の硬化層が薄くなっている。
装置による場合、円形コイル１の略中心位置に配置され
た平板カム２が回転しつつ公転運動することから、平板
カム２の外周面と円形コイル１との距離が平板カム２の
外周全面にわたって均一となり、結果として、従来例に
よる場合に比べて平板カム２の外周面が均一に加熱され
ることになる。図２(A) 中に示す斜線は焼入れにより形
成された硬化層を示している。即ち、図４(A) に示す従
来例による場合に比べると、平板カム２の最外端部２１
の硬化層が薄くなっている。
【００１６】ここでは歪形ワークとして平板カム２を用
いているが、これとは異なる形状の歪形ワークの外周面
を均一に加熱する場合には、同ワークの形状、大きさ等
に合わせて、歪形ワークを円形コイル１の中心Ｑを基点
とした円、楕円又はこれらに近い形の公転運動させるよ
うに移動機構４を設計変更すると良い。即ち、平板カム
２の回転過程において、その外周面と円形コイル１との
距離が平板カム２の外周全面にわたって均一となるよう
に、平板カム２を公転運動させるようにすると、平板カ
ム２の場合と同様の効果が得られる。
いているが、これとは異なる形状の歪形ワークの外周面
を均一に加熱する場合には、同ワークの形状、大きさ等
に合わせて、歪形ワークを円形コイル１の中心Ｑを基点
とした円、楕円又はこれらに近い形の公転運動させるよ
うに移動機構４を設計変更すると良い。即ち、平板カム
２の回転過程において、その外周面と円形コイル１との
距離が平板カム２の外周全面にわたって均一となるよう
に、平板カム２を公転運動させるようにすると、平板カ
ム２の場合と同様の効果が得られる。
【００１７】なお、平板カム２を公転運動させる代わり
に、平板カム２の中心Ｐを固定にして、円形コイル１を
平板カム２の中心Ｐを基点とした公転運動させるように
してもかまわない。ただ、円形コイル１を公転運動させ
るに当たり、円形コイル１の中心Ｑと平板カム２の中心
Ｑとの位置をずらせた状態にすることは上記例と同様で
ある。
に、平板カム２の中心Ｐを固定にして、円形コイル１を
平板カム２の中心Ｐを基点とした公転運動させるように
してもかまわない。ただ、円形コイル１を公転運動させ
るに当たり、円形コイル１の中心Ｑと平板カム２の中心
Ｑとの位置をずらせた状態にすることは上記例と同様で
ある。
【００１８】本発明の歪形ワークの加熱装置は上記実施
の形態に限定されず、歪形ワークの加熱方式について
は、高周波加熱ではなく一般の抵抗加熱でも適用可能で
ある。また、円形コイルについては、歪形ワークの種類
に応じたものを使用すると良い。例えば、断面が歪形で
あるものの、軸状になっているものの外周面を加熱する
であれば、その長さに合った円形コイルを使用すると良
い。移動機構については、歪形ワーク又は円形ワークを
公転運動させる構成である限り、どのようなものを用い
てもかまわない。
の形態に限定されず、歪形ワークの加熱方式について
は、高周波加熱ではなく一般の抵抗加熱でも適用可能で
ある。また、円形コイルについては、歪形ワークの種類
に応じたものを使用すると良い。例えば、断面が歪形で
あるものの、軸状になっているものの外周面を加熱する
であれば、その長さに合った円形コイルを使用すると良
い。移動機構については、歪形ワーク又は円形ワークを
公転運動させる構成である限り、どのようなものを用い
てもかまわない。
【００１９】
【発明の効果】以上、本発明に係る歪形ワークの加熱装
置による場合、歪形ワークが回転すると同時に、円形コ
イルに対して相対的に公転運動する構成となっているの
で、歪形ワークの外周面と円形コイルとの距離が歪形ワ
ークの外周全面にわたって均一となり、結果として、歪
形ワークの外周面が均一に加熱されることになる。それ
故、従来例による場合とは異なり、焼きムラによる歪み
や焼き割れを生じず、高品位な加熱処理を行うことが可
能になる。
置による場合、歪形ワークが回転すると同時に、円形コ
イルに対して相対的に公転運動する構成となっているの
で、歪形ワークの外周面と円形コイルとの距離が歪形ワ
ークの外周全面にわたって均一となり、結果として、歪
形ワークの外周面が均一に加熱されることになる。それ
故、従来例による場合とは異なり、焼きムラによる歪み
や焼き割れを生じず、高品位な加熱処理を行うことが可
能になる。
【図１】本発明の実施の形態を説明するための図であっ
て、歪形ワークの加熱装置の概略構成を示す模式図であ
る。
て、歪形ワークの加熱装置の概略構成を示す模式図であ
る。
【図２】同装置により加熱される平板カムの運動を示す
模式図である。
模式図である。
【図３】同装置の移動機構の構成図である。
【図４】従来の歪形ワークの加熱装置を説明するための
図であって、その代表的な高周波加熱装により加熱され
る平板カムの運動を示す模式図である。
図であって、その代表的な高周波加熱装により加熱され
る平板カムの運動を示す模式図である。
１ 円形コイル ２ 平板カム（歪形ワーク） ２１ 最外端部 ４ 移動機構 Ｐ 平板カムの中心 Ｑ 円形コイルの中心
Claims (2)
- 【請求項１】 円形コイルの略中心位置に配置された歪
形ワークを回転させ、この回転過程で当該コイルにより
当該ワークの外周面を加熱する歪形ワークの加熱装置に
おいて、前記歪形ワークの外周面が均一に加熱されるよ
うに、前記円形コイルの中心と前記歪形ワークの中心と
の位置をずらせた状態で、前記歪形ワークを前記円形コ
イルを中心とした公転運動又は前記円形コイルを前記歪
形ワークを中心とした公転運動させる移動機構を備えた
ことを特徴とする歪形ワークの加熱装置。 - 【請求項２】 請求項１記載の歪形ワークの加熱装置に
おいて、前記歪形ワークが平板カムであり、当該平板カ
ムの中心から最も遠い位置の最外端部と当該平板カムの
中心との距離をｒ１、両者の間を結ぶ直線の延長線上の
位置の反対側端部と当該平板カムの中心との距離をｒ２
とするとき、前記平板カム又は前記円形コイルの公転運
動の半径ｒがｒ≒（ｒ１−ｒ２）／２に設定されている
ことを特徴とする歪形ワークの加熱装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31987999A JP2001131637A (ja) | 1999-11-10 | 1999-11-10 | 歪形ワークの加熱装置 |
| US09/709,157 US6514455B1 (en) | 1999-11-10 | 2000-11-09 | Heating apparatus of a workpiece of distorted shape, and a quenching apparatus for simultaneous operation of multiple cams and a quenching method for the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31987999A JP2001131637A (ja) | 1999-11-10 | 1999-11-10 | 歪形ワークの加熱装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001131637A true JP2001131637A (ja) | 2001-05-15 |
Family
ID=18115267
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31987999A Pending JP2001131637A (ja) | 1999-11-10 | 1999-11-10 | 歪形ワークの加熱装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001131637A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002356719A (ja) * | 2001-05-31 | 2002-12-13 | Denki Kogyo Co Ltd | カムシャフトの高周波焼入方法 |
| JP2009249694A (ja) * | 2008-04-08 | 2009-10-29 | Fuji Electronics Industry Co Ltd | 高周波焼入装置の監視装置 |
| CN103261449A (zh) * | 2010-12-15 | 2013-08-21 | 马勒国际有限公司 | 加热设备 |
| CN111034806A (zh) * | 2019-12-26 | 2020-04-21 | 盐城顶益食品有限公司 | 一种用于稀奶油的提纯装置 |
-
1999
- 1999-11-10 JP JP31987999A patent/JP2001131637A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002356719A (ja) * | 2001-05-31 | 2002-12-13 | Denki Kogyo Co Ltd | カムシャフトの高周波焼入方法 |
| JP4508473B2 (ja) * | 2001-05-31 | 2010-07-21 | 電気興業株式会社 | カムシャフトの高周波焼入方法 |
| JP2009249694A (ja) * | 2008-04-08 | 2009-10-29 | Fuji Electronics Industry Co Ltd | 高周波焼入装置の監視装置 |
| CN103261449A (zh) * | 2010-12-15 | 2013-08-21 | 马勒国际有限公司 | 加热设备 |
| CN103261449B (zh) * | 2010-12-15 | 2015-03-04 | 马勒国际有限公司 | 加热设备 |
| CN111034806A (zh) * | 2019-12-26 | 2020-04-21 | 盐城顶益食品有限公司 | 一种用于稀奶油的提纯装置 |
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