JP2009249694A - 高周波焼入装置の監視装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】ワークの加熱環境を監視することによって焼入の品質を保ち、ワークと加熱コイルの位置関係を監視することができる高周波焼入装置の監視装置を提供する。
【解決手段】カムシャフト3の複数のカム11〜14を同時に焼入する高周波焼入装置であって、焼入時には各カム11〜14に環状の加熱コイル5が配置され、加熱コイル5の中心C2はカムシャフト3の回転中心C1とは一致しておらず、さらに加熱コイル5が所定の円軌道Aに沿って回転するように加熱コイル5を移動させると共にカムシャフト3を回転させる高周波焼入装置において、加熱コイル5が前記円軌道Aに沿って回転する際の回転角度と、カムシャフト3の回転角度とを監視する監視手段を設ける。
【選択図】図1
【解決手段】カムシャフト3の複数のカム11〜14を同時に焼入する高周波焼入装置であって、焼入時には各カム11〜14に環状の加熱コイル5が配置され、加熱コイル5の中心C2はカムシャフト3の回転中心C1とは一致しておらず、さらに加熱コイル5が所定の円軌道Aに沿って回転するように加熱コイル5を移動させると共にカムシャフト3を回転させる高周波焼入装置において、加熱コイル5が前記円軌道Aに沿って回転する際の回転角度と、カムシャフト3の回転角度とを監視する監視手段を設ける。
【選択図】図1
Description
本発明は、カムやクランクシャフト等のワークの周面を焼入することができる高周波焼入装置に関するものである。
カムシャフトのカムを焼入する際に、カムの周面を均一に加熱し、焼入深さを略均一化するための技術が、特許文献1や特許文献2に開示されている。
特許第3499486号公報
特許第3522636号公報
特許文献1及び特許文献2に開示されている構成は、いずれも環状の加熱コイルの中にカムを配置し、カムシャフトの回転軸(カムの中心)と加熱コイルの中心とをずらし、焼入時に加熱コイルを移動させてカムから加熱コイルまでの距離を一定に保ち、カムの特定の箇所が他の箇所よりも深く焼入されることを回避することができるものである。
すなわち、加熱コイルの中心が所定の円軌道上を公転移動するように、加熱コイルは駆動装置によって駆動されるが、特許文献1に開示されている構成と特許文献2に開示されている構成とでは、駆動装置が相違するだけである。
これら特許文献1及び特許文献2に開示されている構成を採用すると、ワークであるカムの周面を略均一に加熱することができる。
これら特許文献1及び特許文献2に開示されている構成を採用すると、ワークであるカムの周面を略均一に加熱することができる。
また、特許文献1又は特許文献2に開示されている構成では、複数のカムを備えたカムシャフトであっても、カムシャフトの回転軸に対するカムの角度位置のずれ(位相差)を勘案し、各カム毎に加熱コイルとの位置関係が同様に変化するように加熱コイルを配置することにより、各カムの周面を同時に焼入することができる。これにより、カムを個々に焼入するよりも、カムシャフトを極めて短時間で焼入を完了することができるようになる。
ところで、上述のように加熱コイルとカムを駆動すると、焼入するうちに、何らかの事情によってカムと加熱コイルとの想定した位置関係が崩れる可能性があることが判明した。特に、複数のカムを同時に焼入する際には、各カム毎にその影響が出る。
仮に、同一のカムシャフト上の複数のカムを同時に焼入する際に、いずれか一つでもカムと加熱コイルとの位置関係が崩れると、焼入が不均一になり、カムシャフトの所定の品質を保つことが難しくなる。また、クランクシャフト等の他のワークを焼入する場合においても、事情は同じである。
そこで本発明は、カム等のワークを焼入する高周波焼入装置において、ワークの加熱環境を監視することによって焼入の品質を保つことを課題とし、そのためにワークと加熱コイルの位置関係を監視することができる高周波焼入装置の監視装置を提供することを目的とする。
上記課題を解決するための請求項1の発明は、焼入時にはワークの周囲に環状の加熱コイルが配置され、前記加熱コイルの中心はワークの回転中心とは一致しておらず、さらに加熱コイルを所定の円軌道に沿って回転移動させると共にワークを回転させる高周波焼入装置において、加熱コイルが前記円軌道に沿って回転移動する際の回転位置と、ワークの回転角度とを監視する監視手段を設けたことを特徴とする高周波焼入装置の監視装置。
請求項1の発明では、加熱コイルが円軌道に沿って回転移動する際の回転位置と、ワークの回転角度とを監視する監視手段を設けたので、ワークの加熱環境(焼入環境)を監視することができるようになる。よって、カムの加熱環境が変化したことを速やかに検出することができる。
請求項2の発明は、カムを焼入する高周波焼入装置であって、焼入時にはカムの周囲に環状の加熱コイルが配置され、前記加熱コイルの中心はカムの回転中心とは一致しておらず、さらに加熱コイルを所定の円軌道に沿って回転移動させると共にカムを回転させる高周波焼入装置において、加熱コイルが前記円軌道に沿って回転移動する際の回転位置と、カムの回転角度とを監視する監視手段を設けたことを特徴とする高周波焼入装置の監視装置である。
請求項2の発明では、加熱コイルが円軌道に沿って回転移動する際の回転位置と、カムの回転角度とを監視する監視手段を設けたので、カムの加熱環境(焼入環境)を監視することができるようになる。よって、カムの加熱環境が変化したことを速やかに検出することができる。
請求項3の発明は、カムシャフトの複数のカムを同時に焼入する高周波焼入装置であって、焼入時には各カムに環状の加熱コイルが配置され、加熱コイルの中心はカムシャフトの回転中心とは一致しておらず、さらに加熱コイルを所定の円軌道に沿って回転移動させると共にカムシャフトを回転させる高周波焼入装置において、加熱コイルが前記円軌道に沿って回転移動する際の回転位置と、カムシャフトの回転角度とを監視する監視手段を設けたことを特徴とする高周波焼入装置の監視装置である。
請求項3の発明では、加熱コイルが円軌道に沿って回転する際の回転位置と、カムシャフトの回転角度とを監視する監視手段を設けたので、カムシャフトの加熱環境(焼入環境)を監視することができるようになる。よってカムシャフトの加熱環境が変化したことを速やかに検出することができる。
請求項4の発明は、加熱コイルの回転位置は、予め設定されたワーク,カム又はカムシャフトの回転角度範囲に対応していることを特徴とする請求項1乃至請求項3のうちのいずれかに記載の高周波焼入装置の監視装置である。
請求項4の発明では、加熱コイルの回転位置が、予め設定されたワーク,カム又はカムシャフトの回転角度範囲に対応しているので、焼入の品質を所定以上に確保することができる。
請求項5の発明は、加熱コイルの回転位置が、前記予め設定されたワーク,カム又はカムシャフトの回転角度範囲から外れると焼入を中断することを特徴とする請求項4に記載の高周波焼入装置の監視装置である。
請求項5の発明では、加熱コイルの回転位置が、前記予め設定されたワーク,カム又はカムシャフトの回転角度範囲から外れると焼入を中断するようにしたので、ワーク,カム又はカムシャフトの加熱環境が変化したことを速やかに検出し、不均一に焼入されたワーク,カム又はカムシャフトを量産することを回避することができる。
請求項6の発明は、前記監視手段は、加熱コイルの回転位置を検出する第一検出手段と、ワーク,カム又はカムシャフトの回転角度を検出する第二検出手段とを有していることを特徴とする請求項1乃至請求項5のうちのいずれかに記載の高周波焼入装置の監視装置である。
請求項6の発明では、監視手段が、加熱コイルの回転位置を検出する第一検出手段と、ワーク,カム又はカムシャフトの回転角度を検出する第二検出手段とを有しているので、加熱コイルの回転位置とワーク,カム又はカムシャフトの回転角度とを確実に検出することができる。
請求項7の発明は、加熱コイルの回転角度とワーク,カム又はカムシャフトの回転角度の差が、予め設定した所定角度に達すると、加熱コイルの移動速度とワーク,カム又はカムシャフトの回転速度のうちの少なくともいずれか一方を前記差が小さくなるように制御する制御手段を備えたことを特徴とする請求項1乃至請求項6のうちのいずれかに記載の高周波焼入装置の監視装置である。
請求項7の発明では、加熱コイルの回転速度とワーク,カム又はカムシャフトの回転速度のうちの少なくともいずれか一方を制御する制御手段を設けた。これにより、加熱コイルの回転角度とワーク,カム又はカムシャフトの回転角度の差が予め設定した所定角度に達した際に、前記差が小さくなるようにすることができる。
よって、加熱コイルの回転角度とワーク,カム又はカムシャフトの回転角度の差が、焼入品質に深刻な悪影響を及ぼすほど大きくなる前に、加熱コイルの回転速度とワーク,カム又はカムシャフトの回転速度のうちの少なくともいずれか一方を制御することにより、ワーク,カム又はカムシャフトの所定の焼入品質を保つことができる。
ここで、加熱コイルの回転は所定の円軌道上を移動する公転であるが、ワーク,カム又はカムシャフトの回転は自転である。すなわち、加熱コイルの回転速度とは公転速度を意味し、ワーク,カム又はカムシャフトの回転速度とは自転速度を意味している。加熱コイルが公転する際には、所定の円軌道上を移動するので、請求項1〜請求項6では「加熱コイルの回転位置」と表現したが、請求項7では、公転速度と自転速度とを比較するので、「加熱コイルの回転速度」と表現した。
本発明では、加熱コイルが円軌道に沿って回転する際の回転位置とカム又はカムシャフトの回転角度とを監視する監視手段を設けることにより、加熱コイルの回転位置とカム又はカムシャフトの回転角度を把握することができる。よって、加熱コイルの回転位置と、カム又はカムシャフトの回転角度の相対的な変化をもって、焼入する際の加熱環境の変化を監視し、焼入が不均一になることを回避することができる。
図1は、本発明の監視装置を実装することができる高周波焼入装置を複数個並置した状態の斜視図であり、図2(a)〜図2(d)は、各々図1の一つの高周波焼入装置の斜視図である。高周波焼入装置1は、従来採用されている周知の構成を有しており、図1及び図2(a)〜図2(d)では、高周波焼入装置1のトランス6から加熱コイル5までを描写している。
加熱コイル5は、導体4の一部が湾曲及び屈曲して環状(輪形状)に形成されている。また、導体4の他の部分はトランス6内に収容されている。トランス6内には、図示しない高周波電源から延びる別の導体も収容されており、この別の導体によって導体4には電磁誘導によって高周波の誘導電流が生じるようになっている。さらに高周波の誘導電流によって導体4自体が過熱損耗することを防止するために、導体4の内部には冷却液を通すための通路が形成されている。
この加熱コイル5の輪の内部には、ワークであるカムシャフト3が貫通する。そして、カムシャフト3の各々のカム11〜14の半径方向外方に、ちょうど加熱コイル5がくるように各加熱コイル5とカムシャフト3との位置調整が行われる。カムシャフト3の回転中心C1と加熱コイル5の中心C2とは一致していない。すなわち、加熱コイル5の中心C2は、カムシャフト3の回転中心C1に対して距離Lだけ偏芯している。
図2(a)に示すように、トランス6には駆動装置7が設けられている。駆動装置7は、回転軸8,カム9,及び座10を有している。回転軸8は、カム9と一体固着されている。カム9は、図示しない軸受を介して座10と接続されている。
一方、回転軸8は、図示しない回転駆動装置によって回転駆動されるようになっている。よって、回転軸8が回転すると、カム9が座10をリフトアップ又はリフトダウンさせる。その結果、トランス6と加熱コイル5とが一体に回転移動(公転)し、加熱コイル5の中心C2は円(円軌道)Aを描く。すなわち、加熱コイル5は、円A(所定の円軌道)上を回転移動(公転移動)する。円Aの中心は、カムシャフト3の回転中心C1と一致している。
トランス6には、このように構成された駆動装置7が、上下に二つ設けられている。二つの駆動装置7の各々のカム9の位相は同じである。すなわち、上方の駆動装置7のカム9が座10をリフトさせる際には、下方の駆動装置7のカム9も同様に座10をリフトさせる。
図1では、上述した加熱コイル5の中心C2と円Aとを描写する都合上、カムシャフト3を輪切りにして表示している。図1に示すように、カムシャフト3の各カム11〜14は、互いに位相が90度間隔でずれている。
図2(b)において実線で示すトランス6(加熱コイル5)は、図2(a)の位置から、駆動装置7の回転軸8を矢印B1で示す方向に90度回転させた後の位置に配置されている。また、図2(c)において実線で示すトランス6(加熱コイル5)は、図2(a)の位置から、駆動装置7の回転軸8を矢印B2で示す方向に180度回転させた後の位置に配置されている。さらに、図1(d)において実線で示すトランス6(加熱コイル5)は、図2(a)の位置から、駆動装置7の回転軸8を矢印B3で示す方向に270度回転させた後の位置に配置されている。
その結果、加熱コイル5の中心C2は、円A上を移動する。すなわち、加熱コイル5は円Aを描きながら移動(公転移動)する。
その結果、加熱コイル5の中心C2は、円A上を移動する。すなわち、加熱コイル5は円Aを描きながら移動(公転移動)する。
また、カムシャフト3は、加熱コイル5の上記公転移動に連動して回転駆動され、加熱コイル5が1周する間にカムシャフト3が1回転(自転)するように設定されている。
ところで、カム11〜14の周面を焼入する際に、トップ部Tとベース部Eの焼入深さに差が生じないように、トップ部Tとベース部Eとを均一に加熱するのが好ましい。
そこで、上述のように加熱コイル5の公転の周期とカムシャフト3の自転速度とを設定すると、トップ部Tと、ベース部Eとを均一に加熱することができるようになる。
逆に、加熱コイル5の公転の周期に対するカムシャフト3の自転速度(一回転するのに要する時間)が変化すると、トップ部Tと、ベース部Eとを均一に加熱することができなくなり、カム11〜14のトップ部Tとベース部Eの焼入深さに差が生じてしまう。また、加熱コイル5の公転の周期とカムシャフト3の自転速度(一回転するのに要する時間)とが完全に一致していなくても、焼入深さに深刻な差が生じない許容範囲が存在する。この許容範囲は、予め実験によって求められており、詳しくは後述する。
以下、本発明の監視装置2の構成を詳述する。
加熱コイル5の中心C2とカムシャフト3の回転中心C1の位置関係を、図1に拡大して描写した。駆動装置7の回転軸8(カム9)が回転(自転)すると、座10を介してトランス6及び加熱コイル5がリフトアップ又はリフトダウンされ、その結果、加熱コイル5の中心C2が円(円軌道)Aを描きながら公転する。円Aの中心はカムシャフト3の回転中心C1と一致しており、回転中心C1は固定されている。
加熱コイル5の中心C2とカムシャフト3の回転中心C1の位置関係を、図1に拡大して描写した。駆動装置7の回転軸8(カム9)が回転(自転)すると、座10を介してトランス6及び加熱コイル5がリフトアップ又はリフトダウンされ、その結果、加熱コイル5の中心C2が円(円軌道)Aを描きながら公転する。円Aの中心はカムシャフト3の回転中心C1と一致しており、回転中心C1は固定されている。
以上のように構成された高周波焼入装置1に図3に示す監視装置2を設ける。図3は高周波焼入装置1と本発明の監視装置2の接続関係を示す系統図である。また、図6(a),図6(b)は、カムシャフトの回転(自転)角度と加熱コイルの回転(公転)角度とを対比させたグラフである。図6(a)及び図6(b)のグラフにおいて、縦軸はワーク及び加熱コイルの位置であり、横軸はゼロ度から360度までの角度である。
図3に示すように監視装置2は、制御装置15,第一検出器18,及び第二検出器19を備えている。制御装置15は、CPU16,メモリ17,ROM17aを備えている。ROM17aには、予め求められたワーク(カムシャフト3)の回転角度r1に対する加熱コイル5の回転角度r2の許容範囲が記憶されている。ここで許容範囲とは、カムのトップ部Tとベース部Eの焼入深さに深刻な差異が生じない範囲を予め実験によって求めたものである。
図6(a)に示すように、ワークの回転角度と加熱コイル5の回転角度は本来なら一致しているべきであり、これが何らかの理由によってずれると、例えば図6(b)に示すように、両者のグラフに角度差Sが生じる。制御装置15は、角度差Sが所定値Pを超えているか否かを判定する。
ここで「所定値P」について説明する。
カム又は加熱コイルのいずれかの回転速度が変化し、設定よりも回転角度が小さくなる場合と、設定よりも回転角度が大きくなる場合とがあり得る。回転速度が遅くなると、設定よりも回転角度が小さくなるが、上述した「所定値Pを超える」とは、設定値から回転角度がP/2(所定値Pの半分)を超えて外れるということである。すなわち、設定値を挟んで所定値Pが設定されており、角度が進む方向と遅れる方向のいずれにも許容範囲は存在する。
カム又は加熱コイルのいずれかの回転速度が変化し、設定よりも回転角度が小さくなる場合と、設定よりも回転角度が大きくなる場合とがあり得る。回転速度が遅くなると、設定よりも回転角度が小さくなるが、上述した「所定値Pを超える」とは、設定値から回転角度がP/2(所定値Pの半分)を超えて外れるということである。すなわち、設定値を挟んで所定値Pが設定されており、角度が進む方向と遅れる方向のいずれにも許容範囲は存在する。
加熱コイル5の回転角度r2は、第一検出器18によって駆動装置7による回転軸8の回転角度として検出され、その検出値がメモリ17に記憶される。また、カムシャフト3の回転角度r1は、第二検出器19によってワーク回転駆動装置20による回転角度として検出され、その検出値がメモリ17に記憶される。
制御装置15内では、CPU16が第一検出器18によって検出された検出値と第二検出器19によって検出された検出値とを比較し、両者の差がROM17aに記憶されている所定値Pを超えているか否かを判定する。
仮に、両者の差が所定値Pを超えている場合には、前述の加熱コイル5の公転の周期とカムシャフト3の自転速度(一回転するのに要する時間)の差が焼入に悪影響を及ぼす程に開いており、CPU16は、直ちに高周波焼入装置1に停止信号を送り、ワーク(カムシャフト3)の焼入作業を中止する。逆に両者の差が所定値Pの範囲内の場合には、加熱コイル5の公転の周期とカムシャフト3の自転速度の差が焼入に悪影響を及ぼすほどに開いておらず、カム11〜14の焼入作業は良好に行われており、焼入作業は続行可能である。
カムの焼入状況を監視する手順を、図5を参照しながら説明する。図5は、本発明の監視装置を実施する際の流れ図である。
図5に示す流れ図では、焼入を開始してから焼入の監視を完了するまでの各段階をステップ0からステップ9に分けている。まずステップ0に至る前に、焼入するカムシャフト3のカム11〜14に対応した駆動装置7を高周波焼入装置1に装着する。駆動装置7が高周波焼入装置1に対して取り外し可能であると、焼入するカムシャフト3のカムの大きさ,形状に応じた偏心量のカム9(駆動装置7)を採用することができるようになる。すなわち、同じ高周波焼入装置1で複数種類のワークを焼き入れすることができるようになる。
図5に示す流れ図では、焼入を開始してから焼入の監視を完了するまでの各段階をステップ0からステップ9に分けている。まずステップ0に至る前に、焼入するカムシャフト3のカム11〜14に対応した駆動装置7を高周波焼入装置1に装着する。駆動装置7が高周波焼入装置1に対して取り外し可能であると、焼入するカムシャフト3のカムの大きさ,形状に応じた偏心量のカム9(駆動装置7)を採用することができるようになる。すなわち、同じ高周波焼入装置1で複数種類のワークを焼き入れすることができるようになる。
次に、高周波焼入装置1にワーク(カムシャフト3)を設置する。すなわち、高周波焼入装置1(加熱コイル5)とワークとを相対的に位置調整して設置し、さらに、加熱コイル5の公転の周期とカムシャフト3の自転速度(一回転するのに要する時間)とを、上述の許容範囲内(所定値Pの範囲内)で一致させる。
そして、ステップ0において焼入を開始すると共に監視装置2による監視をステップ1(ステップ0と実質的に同時であってもよい)で開始する。
具体的には、ステップ2において図3に示す第一検出器18が加熱コイル5を駆動する駆動装置7の回転角度r2を検出し、また、第二検出器19がカムシャフト3の回転駆動装置20の回転角度r1を検出する。
具体的には、ステップ2において図3に示す第一検出器18が加熱コイル5を駆動する駆動装置7の回転角度r2を検出し、また、第二検出器19がカムシャフト3の回転駆動装置20の回転角度r1を検出する。
そして監視装置2の制御装置15が、r1とr2の差を演算し、さらにステップ3において演算値「r1−r2」の絶対値が、ROM17aに記憶されている所定値Pを超えているか否かを判定する。
仮に、演算値「r1−r2」の絶対値が、ROM17aに記憶されている所定値Pを超えている場合には、加熱コイル5の公転の周期と、カムシャフト3の自転速度(一回転するのに要する時間)の差が、焼入が不均一になる程に開いており、この場合には制御装置15(CPU16)はステップ8で焼入停止準備に入り、焼入を停止するべく指令信号を高周波焼入装置1へ送信し、所定時間が経過した後のステップ9において焼入を停止する。図示していないが、ステップ8では異常警報を発し、作業者に焼入が正常に行われていないことを報知するのが好ましい。また、ステップ8からステップ9に至るまでの所定時間が経過する間に、ワーク(カムシャフト3)の温度を低下させる。
仮に、演算値「r1−r2」の絶対値が、ROM17aに記憶されている所定値Pを超えている場合には、加熱コイル5の公転の周期と、カムシャフト3の自転速度(一回転するのに要する時間)の差が、焼入が不均一になる程に開いており、この場合には制御装置15(CPU16)はステップ8で焼入停止準備に入り、焼入を停止するべく指令信号を高周波焼入装置1へ送信し、所定時間が経過した後のステップ9において焼入を停止する。図示していないが、ステップ8では異常警報を発し、作業者に焼入が正常に行われていないことを報知するのが好ましい。また、ステップ8からステップ9に至るまでの所定時間が経過する間に、ワーク(カムシャフト3)の温度を低下させる。
逆に、ステップ3で演算値「r1−r2」の絶対値が、ROM17aに記憶されている所定値Pより小さいと制御装置15が判定した場合には、加熱コイル5の公転の周期と、カムシャフト3の自転速度(一回転するのに要する時間)の差が小さい又はゼロであり、カムの焼入は良好に行われており、ステップ4へ進み焼入作業を続行する。
次に、制御装置15は、ステップ5において、当該カムシャフト3の焼入を開始してから所定時間が経過したか否かを判定する。未だ所定時間(焼入に必要な時間)が経過していなければ、ステップ2へ戻り、上述の動作を繰り返す。
ステップ5で所定時間(焼入に必要な時間)が経過すると、焼入作業を終了し、カムの焼入は完了し(ステップ6)、ステップ7で監視装置2による監視も終了する。ここでは、焼入時における加熱後の急冷工程の説明は割愛した。その後、カムシャフト3を高周波焼入装置1から取り外し、別のカムシャフトを高周波焼入装置1に設置する。
ステップ5で所定時間(焼入に必要な時間)が経過すると、焼入作業を終了し、カムの焼入は完了し(ステップ6)、ステップ7で監視装置2による監視も終了する。ここでは、焼入時における加熱後の急冷工程の説明は割愛した。その後、カムシャフト3を高周波焼入装置1から取り外し、別のカムシャフトを高周波焼入装置1に設置する。
図5に示す流れ図の代わりに、図8に示す流れ図に沿って監視装置を実施することもできる。図8は、本発明の監視装置を実施する際の図5とは別の流れ図である。図8の流れ図は、ステップ3以降にステップ10とステップ11とが設けられている点で図5の流れ図と相違しているが、それ以外は図5の流れ図と同じである。よって、ここでは重複する説明は省略し、相違するステップのみを説明する。
図8のステップ3において、ワーク回転角度r1と加熱コイル回転角度r2との差が所定の範囲を逸脱している場合には、ステップ10へ進む。ステップ10では、制御装置15(図3)が、ワークの回転速度と加熱コイルの回転速度のうちの少なくともいずれか一方を制御し、ワーク回転角度r1と加熱コイル回転角度r2の差を小さくする制御を実施する。
そしてステップ11において、制御装置15は、両者の回転角度差が所定の範囲内に収まっているか否かを判定する。両者の差が所定の範囲内であればステップ4へ進み、その後の流れは図5に示す流れと同じである。また、両者の差が所定の範囲内でなければ、ステップ8からステップ9を経て制御装置15は焼入作業を停止するべく高周波焼入装置1を制御する。
図8のステップ11で、両者の回転角度差が広がることを阻止すれば、高周波焼入装置1の運転を停止する事態を回避することができる。
しかし、制御装置15の制御が効かず、ステップ11で両者の差が縮まらない場合には、高周波焼入装置1の運転を停止し、適切なメンテナンスを実施するのが好ましい。
しかし、制御装置15の制御が効かず、ステップ11で両者の差が縮まらない場合には、高周波焼入装置1の運転を停止し、適切なメンテナンスを実施するのが好ましい。
以上、説明した監視装置2では、加熱コイル5を回転駆動する駆動装置7の駆動源は、1台のサーボモータを備えたものであったが、2台のサーボモータを備えた駆動装置で加熱コイル5を回転駆動することもできる。その際における監視方法も、基本的には上述した方法で可能である。
加熱コイル5を2台のサーボモータで平面方向(X−Y軸方向)と鉛直方向(Z軸方向)に各々移動させる場合には、図7(a)に示すようにグラフは3つになる。図7(a),図7(b)は、カムシャフトの回転角度r1と、加熱コイルの水平方向の移動変位量r3と、上下方向の移動変位量r4とを示すグラフである。
水平方向と鉛直方向(上下方向)の変位量には90度の位相差が生じる。水平方向と鉛直方向の変位量は、各々のサーボモータの回転角度によって検出する。3つのグラフを図7(a)に示すように初期設定した場合、仮に何らかの理由によっていずれかのグラフが初期値から外れると、3つのグラフの相関関係は例えば図7(b)に示すようになる。図7(b)に示す例では、カムの回転速度が落ち、回転角度r1が設定値よりも所定値Pの半分を超えて逸脱する角度差Sが生じている。
いずれかのグラフが設定値から所定値Pの半分以上逸脱したことを検出することにより、加熱コイル5の公転の周期とカムシャフト3の自転速度(一回転するのに要する時間)の差が、焼入が不均一になる程度まで開いたことを検出することができるようになる。よって、焼入を停止して高周波焼入装置1のメンテナンスを行うことにより、焼入が不均一になることを最小限(焼入が不均一になったその1つのカムシャフトのみ)に押さえることができる。
すなわち、焼入が不均一になることに気付かなければ、不均一に焼入されたカムシャフトを量産してしまう恐れがあるが、本発明を実施することによって、焼入の良否を判定することができるようになり、検出値が設定値から所定値P(所定値Pの半分)を超えて外れている場合には、それ以降に焼入を行うカムシャフトは、メンテナンス後の良好な状態の高周波焼入装置1によって焼入を行うことができる。不均一に焼入されたカムシャフトが量産されてしまうと莫大な損害が生じるが、本発明の監視装置2を実施することにより、損害をただ一つのカムシャフトに限定することができ、しかも、当該カムシャフトの焼入が不均一になったことを直ちに検出することができるので、高周波焼入装置1のメンテナンスを早期に実施することが可能になる。
図3に示す監視装置2の代わりに、図4に示すPLC21とサーボ機構22,23とで構成される監視装置2aを採用することもできる。PLC21は、CPU16と位置決めユニット24,25とを備えている。位置決めユニット24は、加熱コイル6(トランス)を駆動するサーボ機構22と接続されており、位置決めユニット25は、ワーク3を回転駆動するサーボ機構23と接続されている。
サーボ機構22,23の構成は図示していないが、サーボ機構22,23は、検出部と、増幅部と、サーボモータとを備えた周知のものである。検出部は、現在のサーボモータの回転位置を検出して位置決めユニット24,25によって決定されたサーボモータの基準回転位置と比較し、増幅部は、検出位置と基準回転位置の差を増幅し、サーボモータは、増幅信号を駆動力に変換し回転位置を修正する機能を有している。そして図4に示すように、サーボ機構22は加熱コイル5(トランス6に装着された駆動装置7の回転軸8)を回転駆動し、サーボ機構23はカムシャフト3を回転駆動する。
サーボ機構22,23によって、位置修正ができない程度まで加熱コイル5とカムシャフト3の回転位置がずれた場合には、CPU16は図示しない警報装置によって異常警報を発すると共に、冷却液を噴射したり、所定時間が経過するのを待つことにより、カムシャフト3の温度を低下させてから高周波焼入装置1による焼入作業を停止させる。図4に示す監視装置2aは、周知のPLC21とサーボ機構22,23とを採用することによって容易に構成することができる。
本発明の監視装置は、上述のようなカムシャフト以外のワークに対しても実施することができる。図9は、本発明の監視装置を実装することができる複数の高周波焼入装置をクランクシャフトに設置した状態の斜視略図である。
クランクシャフト30は、6つのピン部P1〜P6を備えている。各ピン部の周囲には高周波焼入装置31の加熱コイルQ1〜Q6が各々配置されている。前述のカムシャフト3の場合と同様に、これらの加熱コイルQ1〜Q6は、各ピン部P1〜P6の回転移動位置に応じて公転移動する。このようなクランクシャフト30(各ピン部P1〜P6)の自転動作と、複数の高周波焼入装置31(加熱コイルQ1〜Q6)の公転動作とが、前述の監視装置によって監視されている。監視装置が、両者の動作に所定以上の差を認めたときには、その差が小さくなるようにクランクシャフト30の自転速度、及び/又は、高周波焼入装置31の公転速度を調整する。
1 高周波焼入装置
2、2a 監視装置
3 カムシャフト(ワーク)
5 加熱コイル
6 トランス
7 駆動装置
8 回転軸
9 カム
11〜14 カムシャフトのカム
15 制御装置
18 第一検出器
19 第二検出器
20 ワーク回転駆動装置
A 円軌道(所定の円軌道)
2、2a 監視装置
3 カムシャフト(ワーク)
5 加熱コイル
6 トランス
7 駆動装置
8 回転軸
9 カム
11〜14 カムシャフトのカム
15 制御装置
18 第一検出器
19 第二検出器
20 ワーク回転駆動装置
A 円軌道(所定の円軌道)
Claims (7)
- 焼入時にはワークの周囲に環状の加熱コイルが配置され、前記加熱コイルの中心はワークの回転中心とは一致しておらず、さらに加熱コイルを所定の円軌道に沿って回転移動させると共にワークを回転させる高周波焼入装置において、加熱コイルが前記円軌道に沿って回転移動する際の回転位置と、ワークの回転角度とを監視する監視手段を設けたことを特徴とする高周波焼入装置の監視装置。
- カムを焼入する高周波焼入装置であって、焼入時にはカムの周囲に環状の加熱コイルが配置され、前記加熱コイルの中心はカムの回転中心とは一致しておらず、さらに加熱コイルを所定の円軌道に沿って回転移動させると共にカムを回転させる高周波焼入装置において、加熱コイルが前記円軌道に沿って回転移動する際の回転位置と、カムの回転角度とを監視する監視手段を設けたことを特徴とする高周波焼入装置の監視装置。
- カムシャフトの複数のカムを同時に焼入する高周波焼入装置であって、焼入時には各カムに環状の加熱コイルが配置され、加熱コイルの中心はカムシャフトの回転中心とは一致しておらず、さらに加熱コイルを所定の円軌道に沿って回転移動させると共にカムシャフトを回転させる高周波焼入装置において、加熱コイルが前記円軌道に沿って回転移動する際の回転位置と、カムシャフトの回転角度とを監視する監視手段を設けたことを特徴とする高周波焼入装置の監視装置。
- 加熱コイルの回転位置は、予め設定されたワーク,カム又はカムシャフトの回転角度範囲に対応していることを特徴とする請求項1乃至請求項3のうちのいずれかに記載の高周波焼入装置の監視装置。
- 加熱コイルの回転位置が、前記予め設定されたワーク,カム又はカムシャフトの回転角度範囲から外れると焼入を中断することを特徴とする請求項4に記載の高周波焼入装置の監視装置。
- 前記監視手段は、加熱コイルの回転位置を検出する第一検出手段と、ワーク,カム又はカムシャフトの回転角度を検出する第二検出手段とを有していることを特徴とする請求項1乃至請求項5のうちのいずれかに記載の高周波焼入装置の監視装置。
- 加熱コイルの回転角度とワーク,カム又はカムシャフトの回転角度の差が、予め設定した所定角度に達すると、加熱コイルの移動速度とワーク,カム又はカムシャフトの回転速度のうちの少なくともいずれか一方を前記差が小さくなるように制御する制御手段を備えたことを特徴とする請求項1乃至請求項6のうちのいずれかに記載の高周波焼入装置の監視装置。
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