JP2001131110A - ラジカルスカベンジャーとして酸素を使用することにより高純度の２−フルオロ−１，３−ジカルボニル化合物を製造する直接弗素化方法 - Google Patents
ラジカルスカベンジャーとして酸素を使用することにより高純度の２−フルオロ−１，３−ジカルボニル化合物を製造する直接弗素化方法Info
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- C07C67/30—Preparation of carboxylic acid esters by modifying the acid moiety of the ester, such modification not being an introduction of an ester group
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 β−ジカルボニルを弗素化して対応するα−
弗素化−β−ジカルボニル化合物を生成する方法の提
供。 【解決手段】 以下の反応スキーム 【化１】 （式中、Ｒ1はＨ、アルキルまたはアルコキシであり、
Ｒ2はＨ、アルキルまたはペルフルオロアルキルであ
り、Ｒ3はＨ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉまたはアルキルである）
によって表される方法による。弗素流中に酸素を使用す
ると、純度が９０〜９６％であり、酸素を使用しないと
きより１０〜２０％低い水準のラジカル弗素化の不純物
を含有する生成物が得られる。
弗素化−β−ジカルボニル化合物を生成する方法の提
供。 【解決手段】 以下の反応スキーム 【化１】 （式中、Ｒ1はＨ、アルキルまたはアルコキシであり、
Ｒ2はＨ、アルキルまたはペルフルオロアルキルであ
り、Ｒ3はＨ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉまたはアルキルである）
によって表される方法による。弗素流中に酸素を使用す
ると、純度が９０〜９６％であり、酸素を使用しないと
きより１０〜２０％低い水準のラジカル弗素化の不純物
を含有する生成物が得られる。
Description
【０００１】
【発明の背景】本発明はβ−ジカルボニルを弗素化して
対応するα−弗素化−β−ジカルボニル化合物を生成す
る方法に関する。
対応するα−弗素化−β−ジカルボニル化合物を生成す
る方法に関する。
【０００２】従来、式
【化２】 （式中、Ｒ1はＨ、アルキルまたはアルコキシであり、
Ｒ2はＨ、アルキルまたはペルフルオロアルキルであ
り、Ｒ3はＨ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉまたはアルキルである）
を有するβ−ジケトンおよびβ−ケトエステルのような
β−ジカルボニルは、酸性の溶媒中でまたは、酸性のま
たは弱塩基性の極性添加剤を含有する極性の溶媒中で弗
素によって直接弗素化されてきた。例えば、米国特許第
５,５６９,７７８号（Ｕmemotoら）およびＷＯ９５／１
４６４６（Ｃhambersら）参照。この技術は、選んだ溶
媒条件下でエノール型に安定化されているジケトンおよ
びケトエステルについてほどよく選択的であることが明
らかになっている。しかしながら、基質の装填率がわず
か５〜１０重量％であってさえ、所望の一弗素化生成物
はラジカル弗素化不純物（「ラジカル弗素化不純物」と
いう用語は上記の式のＲ1および／またはＲ2での弗素化
から得られる生成物をさす）をまだ１０〜１５％含む。
Ｒ2はＨ、アルキルまたはペルフルオロアルキルであ
り、Ｒ3はＨ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉまたはアルキルである）
を有するβ−ジケトンおよびβ−ケトエステルのような
β−ジカルボニルは、酸性の溶媒中でまたは、酸性のま
たは弱塩基性の極性添加剤を含有する極性の溶媒中で弗
素によって直接弗素化されてきた。例えば、米国特許第
５,５６９,７７８号（Ｕmemotoら）およびＷＯ９５／１
４６４６（Ｃhambersら）参照。この技術は、選んだ溶
媒条件下でエノール型に安定化されているジケトンおよ
びケトエステルについてほどよく選択的であることが明
らかになっている。しかしながら、基質の装填率がわず
か５〜１０重量％であってさえ、所望の一弗素化生成物
はラジカル弗素化不純物（「ラジカル弗素化不純物」と
いう用語は上記の式のＲ1および／またはＲ2での弗素化
から得られる生成物をさす）をまだ１０〜１５％含む。
【０００３】ＥＰ ０８９１９６２（Ｎukuiら）には、
溶媒をなんら用いずに、トリフルオロメタンスルホン酸
（つまりトリフリック酸）、メタンスルホン酸、弗化水
素酸、硫酸、トリフルオロ酢酸、三弗化ホウ素およびス
ルホン化ポリマーからなる群から選択される少なくとも
１つの酸の存在下でジカルボニル化合物と弗素ガスとを
反応させることからなる弗素化ジカルボニル化合物を製
造する方法が開示されている。Ｎukuiらは実施例１で、
２,２−二弗素化不純物を含む弗素化不純物を１６％し
か生成しないように溶媒の不存在下でトリフリック酸を
添加剤としてメチル−３−オキソペンタノエートを弗素
化できることを開示している。２.５当量の弗素を添加
するときだけ収率が高いことが報告された。
溶媒をなんら用いずに、トリフルオロメタンスルホン酸
（つまりトリフリック酸）、メタンスルホン酸、弗化水
素酸、硫酸、トリフルオロ酢酸、三弗化ホウ素およびス
ルホン化ポリマーからなる群から選択される少なくとも
１つの酸の存在下でジカルボニル化合物と弗素ガスとを
反応させることからなる弗素化ジカルボニル化合物を製
造する方法が開示されている。Ｎukuiらは実施例１で、
２,２−二弗素化不純物を含む弗素化不純物を１６％し
か生成しないように溶媒の不存在下でトリフリック酸を
添加剤としてメチル−３−オキソペンタノエートを弗素
化できることを開示している。２.５当量の弗素を添加
するときだけ収率が高いことが報告された。
【０００４】ペルフルオロアルキル基を含むケトエステ
ルは非極性溶媒中でのみ効率的に弗素化される。この条
件下ではラジカル弗素化が３０％認められる。ジカルボ
ニル基質のすべてについて、弗素化不純物を分離するこ
とはしばしば困難であり、多くの不純物が後続する化学
的工程へと繰り越される。
ルは非極性溶媒中でのみ効率的に弗素化される。この条
件下ではラジカル弗素化が３０％認められる。ジカルボ
ニル基質のすべてについて、弗素化不純物を分離するこ
とはしばしば困難であり、多くの不純物が後続する化学
的工程へと繰り越される。
【０００５】蟻酸、トリフルオロ酢酸および／またはト
リフリック酸での直接弗素化で別な問題は弗素の使用が
非効率的であることであった。これらの酸添加剤によっ
て大きな転化率を得るには化学量論的な量の１.６〜４
倍の弗素が必要になっている。従って、上記した技術的
欠陥のない方法でβ−ジカルボニル化合物を直接弗素化
するのが好ましい。ここに引用したすべての文献は参照
によって全体が本記載に加入されている。
リフリック酸での直接弗素化で別な問題は弗素の使用が
非効率的であることであった。これらの酸添加剤によっ
て大きな転化率を得るには化学量論的な量の１.６〜４
倍の弗素が必要になっている。従って、上記した技術的
欠陥のない方法でβ−ジカルボニル化合物を直接弗素化
するのが好ましい。ここに引用したすべての文献は参照
によって全体が本記載に加入されている。
【０００６】
【発明の概要】本発明は、β−ジカルボニル化合物を弗
素で直接的に弗素化してα−弗素化−β−ジカルボニル
化合物を生成することからなり、この直接弗素化が反応
性媒体中で実施されるα−弗素化−β−ジカルボニル化
合物の製造方法からなる。反応性媒体は弗素と酸添加剤
との副反応を防止する酸素のようなラジカルスカベンジ
ャーからなるのが好ましい。
素で直接的に弗素化してα−弗素化−β−ジカルボニル
化合物を生成することからなり、この直接弗素化が反応
性媒体中で実施されるα−弗素化−β−ジカルボニル化
合物の製造方法からなる。反応性媒体は弗素と酸添加剤
との副反応を防止する酸素のようなラジカルスカベンジ
ャーからなるのが好ましい。
【０００７】
【発明の詳述】本発明の態様は次の反応スキーム
【化３】 （式中、Ｒ1はＨ、アルキルまたはアルコキシであり、
Ｒ2はＨ、アルキルまたはペルフルオロアルキルであ
り、Ｒ3はＨ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉまたはアルキルである）
によって表されるように、β−ジカルボニル化合物を直
接的に弗素化するためのラジカルスカベンジャーとして
希薄な酸素を使用する方法からなる。本発明方法の生成
物（例えば、２−フルオロ−１,３−ジカルボニル）は
薬品工業で使用される弗素化複素環状化合物への重要な
前駆体である。
Ｒ2はＨ、アルキルまたはペルフルオロアルキルであ
り、Ｒ3はＨ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉまたはアルキルである）
によって表されるように、β−ジカルボニル化合物を直
接的に弗素化するためのラジカルスカベンジャーとして
希薄な酸素を使用する方法からなる。本発明方法の生成
物（例えば、２−フルオロ−１,３−ジカルボニル）は
薬品工業で使用される弗素化複素環状化合物への重要な
前駆体である。
【０００８】慣用の直接複素化方法は、典型的に純度が
７５〜８５％にすぎず、分離が困難なラジカル弗素化副
生物で汚染されている弗素化カルボニル生成物を与え
る。弗素流中で酸素を使用すると、単離物の全般的収率
を僅かに低下させる可能性があるが、水で洗浄した後、
純度が９０〜９６％であり、また酸素が使用されない場
合より５〜２０％低い水準のラジカル弗素化不純物を含
有する生成物が得られる。弗素流中に酸素を使用する
と、弗素と直接弗素化に使用される酸添加剤（例えば、
蟻酸、トリフルオロ酢酸、および／またはトリフリック
酸）との副反応を防止し、従って、高い基質の転化率を
得るのに必要な弗素がより少ない。
７５〜８５％にすぎず、分離が困難なラジカル弗素化副
生物で汚染されている弗素化カルボニル生成物を与え
る。弗素流中で酸素を使用すると、単離物の全般的収率
を僅かに低下させる可能性があるが、水で洗浄した後、
純度が９０〜９６％であり、また酸素が使用されない場
合より５〜２０％低い水準のラジカル弗素化不純物を含
有する生成物が得られる。弗素流中に酸素を使用する
と、弗素と直接弗素化に使用される酸添加剤（例えば、
蟻酸、トリフルオロ酢酸、および／またはトリフリック
酸）との副反応を防止し、従って、高い基質の転化率を
得るのに必要な弗素がより少ない。
【０００９】本方法の態様では、Ｆ2／Ｎ2混合物が空気
で希釈されて希薄なＦ2／Ｏ2／Ｎ2混合物が得られ、こ
れが酸性溶媒中の基質の溶液（ケトエステルでは、Ｒ2
はＲfであり、溶媒はＣＦＣｌ3である）中に吹き込まれ
る。ガス混合物は、約１〜約５０％のＦ2、約０.１〜約
５０％のＯ2、そして約０〜約９９％のＮ2、好ましくは
約５〜約２５％のＦ2、約１〜約２５％のＯ2、そして約
５０〜約９５％のＮ2、より好ましくは約１０〜約２０
％のＦ2、約１０〜約２０％のＯ2、そして約６０〜約８
０％のＮ2からなるのが好適である。高い転化率では、
５％より少ないラジカル弗素化副生物が認められる。
で希釈されて希薄なＦ2／Ｏ2／Ｎ2混合物が得られ、こ
れが酸性溶媒中の基質の溶液（ケトエステルでは、Ｒ2
はＲfであり、溶媒はＣＦＣｌ3である）中に吹き込まれ
る。ガス混合物は、約１〜約５０％のＦ2、約０.１〜約
５０％のＯ2、そして約０〜約９９％のＮ2、好ましくは
約５〜約２５％のＦ2、約１〜約２５％のＯ2、そして約
５０〜約９５％のＮ2、より好ましくは約１０〜約２０
％のＦ2、約１０〜約２０％のＯ2、そして約６０〜約８
０％のＮ2からなるのが好適である。高い転化率では、
５％より少ないラジカル弗素化副生物が認められる。
【００１０】驚くべきことに、弗素化に際して酸素が添
加される場合、ケトエステル（Ｒ2はＲfである）は溶媒
なしで選択的に弗素化されることができる。酸素不存在
下でニートで弗素化される場合、この化合物は炭化し、
所望の生成物は少量しか得られない。従って本方法は、
反応装填率が著しく高いと際立って高い生成物純度が得
られるという利点を提供する。本発明は以下の実施例を
参照してより詳細に例示されるが、本発明がこれに限定
されるものではないと理解すべきである。
加される場合、ケトエステル（Ｒ2はＲfである）は溶媒
なしで選択的に弗素化されることができる。酸素不存在
下でニートで弗素化される場合、この化合物は炭化し、
所望の生成物は少量しか得られない。従って本方法は、
反応装填率が著しく高いと際立って高い生成物純度が得
られるという利点を提供する。本発明は以下の実施例を
参照してより詳細に例示されるが、本発明がこれに限定
されるものではないと理解すべきである。
【００１１】
【実施例】実施例 １ メチル−３−オキソペンタノエートを以下の手順に従っ
て、１０％Ｆ2／１０％Ｏ2／８０％Ｎ2を使用すること
によりニートなＨＦ中で弗素化した。３００mlのＰａｒ
ｒ反応器に５５.１ｇ（４２４ミリモル）のメチル−３
−オキソペンタノエートを装入した。反応器を約−３５
℃まで外部的に冷却し、無水のＨＦ １５０mlを静的な
真空下で凝縮した。これは基質装填率２７重量％に相当
する。１０％Ｆ2／１０％Ｏ2／８０％Ｎ2流として約１.
０４当量（４４２ミリモル）のＦ2を毎分８００ml反応
器に−３０℃で吹き込み、流出物をソーダ石灰洗浄器に
通過させた。Ｆ2の添加後、ソーダ石灰洗浄器を通じて
ＨＦ溶媒を排出した。次に反応器を開放し、１００mlの
Ｈ2Ｏを添加した。次いで混合物をＮａＨＣＯ3で中和し
た。生成物をエーテルで抽出した。1ＨＮＭＲおよび19
ＦＮＭＲによって生成物を分析すると転化率１００％が
示された。単離物の収率は、純度９２％のメチル−２−
フルオロ−３−オキソペンタノエート８１重量％であっ
た。単離された生成物のラジカル弗素化不純物は全体で
５％であった。
て、１０％Ｆ2／１０％Ｏ2／８０％Ｎ2を使用すること
によりニートなＨＦ中で弗素化した。３００mlのＰａｒ
ｒ反応器に５５.１ｇ（４２４ミリモル）のメチル−３
−オキソペンタノエートを装入した。反応器を約−３５
℃まで外部的に冷却し、無水のＨＦ １５０mlを静的な
真空下で凝縮した。これは基質装填率２７重量％に相当
する。１０％Ｆ2／１０％Ｏ2／８０％Ｎ2流として約１.
０４当量（４４２ミリモル）のＦ2を毎分８００ml反応
器に−３０℃で吹き込み、流出物をソーダ石灰洗浄器に
通過させた。Ｆ2の添加後、ソーダ石灰洗浄器を通じて
ＨＦ溶媒を排出した。次に反応器を開放し、１００mlの
Ｈ2Ｏを添加した。次いで混合物をＮａＨＣＯ3で中和し
た。生成物をエーテルで抽出した。1ＨＮＭＲおよび19
ＦＮＭＲによって生成物を分析すると転化率１００％が
示された。単離物の収率は、純度９２％のメチル−２−
フルオロ−３−オキソペンタノエート８１重量％であっ
た。単離された生成物のラジカル弗素化不純物は全体で
５％であった。
【００１２】実施例 ２ 以下の手順に従って、２０％Ｆ2／２０％Ｏ2／６０％Ｎ
2を使用することにより、ニートなＨＦ中でメチル−３
−オキソペンタノエートを弗素化した。２リットルのＰ
ａｒｒ反応器に３２５ｇ（２.５０ミリモル）のメチル
−３−オキソペンタノエートを装入した。反応器を約−
５０℃まで外部的に冷却し、無水のＨＦ １.１５０リッ
トルを静的な真空下で凝縮した。これは基質装填率２２
重量％に相当する。２０％Ｆ2／２０％Ｏ2／６０％Ｎ2
流として約１.１当量（２.７５モル）のＦ2を毎分８０
０ml反応器に−３０℃で吹き込み、流出物をソーダ石灰
洗浄器に通過させた。Ｆ2の添加後、ソーダ石灰洗浄器
を通じてＨＦ溶媒を排出した。次に反応器を開放し、５
００mlのＨ2Ｏを添加した。次いで混合物をＮａＨＣＯ3
で中和した。生成物をエーテルで抽出した。1ＨＮＭＲ
および19ＦＮＭＲによって生成物を分析すると転化率１
００％が示された。単離物の収率は、純度９４％のメチ
ル−２−フルオロ−３−オキソペンタノエート９０重量
％であった。単離された生成物のラジカル弗素化不純物
は全体で４％であった。
2を使用することにより、ニートなＨＦ中でメチル−３
−オキソペンタノエートを弗素化した。２リットルのＰ
ａｒｒ反応器に３２５ｇ（２.５０ミリモル）のメチル
−３−オキソペンタノエートを装入した。反応器を約−
５０℃まで外部的に冷却し、無水のＨＦ １.１５０リッ
トルを静的な真空下で凝縮した。これは基質装填率２２
重量％に相当する。２０％Ｆ2／２０％Ｏ2／６０％Ｎ2
流として約１.１当量（２.７５モル）のＦ2を毎分８０
０ml反応器に−３０℃で吹き込み、流出物をソーダ石灰
洗浄器に通過させた。Ｆ2の添加後、ソーダ石灰洗浄器
を通じてＨＦ溶媒を排出した。次に反応器を開放し、５
００mlのＨ2Ｏを添加した。次いで混合物をＮａＨＣＯ3
で中和した。生成物をエーテルで抽出した。1ＨＮＭＲ
および19ＦＮＭＲによって生成物を分析すると転化率１
００％が示された。単離物の収率は、純度９４％のメチ
ル−２−フルオロ−３−オキソペンタノエート９０重量
％であった。単離された生成物のラジカル弗素化不純物
は全体で４％であった。
【００１３】実施例 ３ 以下の手順に従って、１０％Ｆ2／４０％Ｏ2／５０％Ｎ
2を使用することにより、ニートなＨＦ中でメチル−３
−オキソペンタノエートを弗素化した。３００mlのＰａ
ｒｒ反応器に５４.３ｇ（４１８ミリモル）のメチル−
３−オキソペンタノエートを装入した。反応器を約−３
５℃まで外部的に冷却し、無水のＨＦ １５５mlを静的
な真空下で凝縮した。これは基質装填率２６重量％に相
当する。１０％Ｆ2／４０％Ｏ2／５０％Ｎ2流として約
１.０７当量（４４９ミリモル）のＦ2を毎分８００ml反
応器に−３０℃で吹き込み、流出物をソーダ石灰洗浄器
に通過させた。Ｆ2の添加後、ソーダ石灰洗浄器を通じ
てＨＦ溶媒を排出した。次に反応器を開放し、１００ml
のＨ2Ｏを添加した。次いで混合物をＮａＨＣＯ3で中和
した。生成物をエーテルで抽出した。1ＨＮＭＲおよび
19ＦＮＭＲによって生成物を分析すると転化率１００％
が示された。単離物の収率は、純度９３％のメチル−２
−フルオロ−３−オキソペンタノエート７８重量％であ
った。単離された生成物のラジカル弗素化不純物は全体
で５％であった。
2を使用することにより、ニートなＨＦ中でメチル−３
−オキソペンタノエートを弗素化した。３００mlのＰａ
ｒｒ反応器に５４.３ｇ（４１８ミリモル）のメチル−
３−オキソペンタノエートを装入した。反応器を約−３
５℃まで外部的に冷却し、無水のＨＦ １５５mlを静的
な真空下で凝縮した。これは基質装填率２６重量％に相
当する。１０％Ｆ2／４０％Ｏ2／５０％Ｎ2流として約
１.０７当量（４４９ミリモル）のＦ2を毎分８００ml反
応器に−３０℃で吹き込み、流出物をソーダ石灰洗浄器
に通過させた。Ｆ2の添加後、ソーダ石灰洗浄器を通じ
てＨＦ溶媒を排出した。次に反応器を開放し、１００ml
のＨ2Ｏを添加した。次いで混合物をＮａＨＣＯ3で中和
した。生成物をエーテルで抽出した。1ＨＮＭＲおよび
19ＦＮＭＲによって生成物を分析すると転化率１００％
が示された。単離物の収率は、純度９３％のメチル−２
−フルオロ−３−オキソペンタノエート７８重量％であ
った。単離された生成物のラジカル弗素化不純物は全体
で５％であった。
【００１４】実施例 ４ 以下の比較例に従って、１０％Ｆ2／９０％Ｎ2を使用す
ることにより、ニートなＨＦ中でメチル−３−オキソペ
ンタノエートを弗素化した。３００mlのＰａｒｒ反応器
に５９.５ｇ（４５８ミリモル）のメチル−３−オキソ
ペンタノエートを装入した。反応器を約−３５℃まで外
部的に冷却し、無水のＨＦ １５５mlを静的な真空下で
凝縮した。これは基質装填率２８重量％に相当する。１
０％Ｆ2／９０％Ｎ2流として約１.０６当量（４８４ミ
リモル）のＦ2を毎分８００ml反応器に−３０℃で吹き
込み、流出物をソーダ石灰洗浄器に通過させた。Ｆ2の
添加後、ソーダ石灰洗浄器を通じてＨＦ溶媒を排出し
た。次に反応器を開放し、１００mlのＨ2Ｏを添加し
た。次いで混合物をＮａＨＣＯ3で中和した。生成物を
エーテルで抽出した。1ＨＮＭＲおよび19ＦＮＭＲによ
って生成物を分析すると転化率９９％が示された。単離
物の収率は、純度８１％のメチル−２−フルオロ−３−
オキソペンタノエート９１重量％であった。単離された
生成物のラジカル弗素化不純物は全体で１５％であっ
た。
ることにより、ニートなＨＦ中でメチル−３−オキソペ
ンタノエートを弗素化した。３００mlのＰａｒｒ反応器
に５９.５ｇ（４５８ミリモル）のメチル−３−オキソ
ペンタノエートを装入した。反応器を約−３５℃まで外
部的に冷却し、無水のＨＦ １５５mlを静的な真空下で
凝縮した。これは基質装填率２８重量％に相当する。１
０％Ｆ2／９０％Ｎ2流として約１.０６当量（４８４ミ
リモル）のＦ2を毎分８００ml反応器に−３０℃で吹き
込み、流出物をソーダ石灰洗浄器に通過させた。Ｆ2の
添加後、ソーダ石灰洗浄器を通じてＨＦ溶媒を排出し
た。次に反応器を開放し、１００mlのＨ2Ｏを添加し
た。次いで混合物をＮａＨＣＯ3で中和した。生成物を
エーテルで抽出した。1ＨＮＭＲおよび19ＦＮＭＲによ
って生成物を分析すると転化率９９％が示された。単離
物の収率は、純度８１％のメチル−２−フルオロ−３−
オキソペンタノエート９１重量％であった。単離された
生成物のラジカル弗素化不純物は全体で１５％であっ
た。
【００１５】実施例 ５ 以下の比較例に従って、１０％Ｆ2／９０％Ｎ2を使用す
ることにより、ニートなＨＦ中でメチル−３−オキソペ
ンタノエートを弗素化した。６０mlのＰａｒｒ反応器に
５.１７ｇ（３９.８ミリモル）のメチル−３−オキソペ
ンタノエートを装入した。反応器を約−３５℃まで外部
的に冷却し、無水のＨＦ ２０mlを静的な真空下で凝縮
した。これは基質装填率２０重量％に相当する。１０％
Ｆ2／９０％Ｎ2流として約１.１１当量（４８４ミリモ
ル）のＦ2を毎分２００ml反応器に−３０℃で吹き込
み、流出物をソーダ石灰洗浄器に通過させた。Ｆ2の添
加後、ソーダ石灰洗浄器を通じてＨＦ溶媒を排出した。
次に反応器を開放し、１００mlのＨ2Ｏを添加した。次
いで混合物をＮａＨＣＯ3で中和した。生成物をエーテ
ルで抽出した。1ＨＮＭＲおよび19ＦＮＭＲによって生
成物を分析すると転化率９６％が示された。単離物の収
率は、純度８６％のメチル−２−フルオロ−３−オキソ
ペンタノエート８７重量％であった。単離された生成物
のラジカル弗素化不純物は全体で９.４％であった。
ることにより、ニートなＨＦ中でメチル−３−オキソペ
ンタノエートを弗素化した。６０mlのＰａｒｒ反応器に
５.１７ｇ（３９.８ミリモル）のメチル−３−オキソペ
ンタノエートを装入した。反応器を約−３５℃まで外部
的に冷却し、無水のＨＦ ２０mlを静的な真空下で凝縮
した。これは基質装填率２０重量％に相当する。１０％
Ｆ2／９０％Ｎ2流として約１.１１当量（４８４ミリモ
ル）のＦ2を毎分２００ml反応器に−３０℃で吹き込
み、流出物をソーダ石灰洗浄器に通過させた。Ｆ2の添
加後、ソーダ石灰洗浄器を通じてＨＦ溶媒を排出した。
次に反応器を開放し、１００mlのＨ2Ｏを添加した。次
いで混合物をＮａＨＣＯ3で中和した。生成物をエーテ
ルで抽出した。1ＨＮＭＲおよび19ＦＮＭＲによって生
成物を分析すると転化率９６％が示された。単離物の収
率は、純度８６％のメチル−２−フルオロ−３−オキソ
ペンタノエート８７重量％であった。単離された生成物
のラジカル弗素化不純物は全体で９.４％であった。
【００１６】実施例 ６ 以下の手順に従って、１０％Ｆ2／１％Ｏ2／８９％Ｎ2
を使用することにより、ニートなＨＦ中でメチル−３−
オキソペンタノエートを弗素化した。６０mlのＦＥＰ反
応器に４.６４ｇ（３５.６ミリモル）のメチル−３−オ
キソペンタノエートを装入した。反応器を約−５０℃ま
で外部的に冷却し、無水のＨＦ ２０mlを静的な真空下
で凝縮した。これは基質装填率１９重量％に相当する。
１０％Ｆ2／１％Ｏ2／８９％Ｎ2流として約１.１３当量
（４０.２ミリモル）のＦ2を毎分２００ml反応器に−３
０℃で吹き込み、流出物をソーダ石灰洗浄器に通過させ
た。Ｆ2の添加後、ソーダ石灰洗浄器を通じてＨＦ溶媒
を排出した。次に反応器を開放し、３０mlのＨ2Ｏを添
加した。次いで混合物をＮａＨＣＯ3で中和した。生成
物をエーテルで抽出した。1ＨＮＭＲおよび19ＦＮＭＲ
によって生成物を分析すると転化率１００％が示され
た。単離物の収率は、純度９５％のメチル−２−フルオ
ロ−３−オキソペンタノエート８０重量％であった。単
離された生成物のラジカル弗素化不純物は全体で３％で
あった。
を使用することにより、ニートなＨＦ中でメチル−３−
オキソペンタノエートを弗素化した。６０mlのＦＥＰ反
応器に４.６４ｇ（３５.６ミリモル）のメチル−３−オ
キソペンタノエートを装入した。反応器を約−５０℃ま
で外部的に冷却し、無水のＨＦ ２０mlを静的な真空下
で凝縮した。これは基質装填率１９重量％に相当する。
１０％Ｆ2／１％Ｏ2／８９％Ｎ2流として約１.１３当量
（４０.２ミリモル）のＦ2を毎分２００ml反応器に−３
０℃で吹き込み、流出物をソーダ石灰洗浄器に通過させ
た。Ｆ2の添加後、ソーダ石灰洗浄器を通じてＨＦ溶媒
を排出した。次に反応器を開放し、３０mlのＨ2Ｏを添
加した。次いで混合物をＮａＨＣＯ3で中和した。生成
物をエーテルで抽出した。1ＨＮＭＲおよび19ＦＮＭＲ
によって生成物を分析すると転化率１００％が示され
た。単離物の収率は、純度９５％のメチル−２−フルオ
ロ−３−オキソペンタノエート８０重量％であった。単
離された生成物のラジカル弗素化不純物は全体で３％で
あった。
【００１７】実施例 ７ 以下の手順に従って、１０％Ｆ2／０.１％Ｏ2／８９.９
％Ｎ2を使用することにより、ニートなＨＦ中でメチル
−３−オキソペンタノエートを弗素化した。６０mlのＦ
ＥＰ反応器に４.０８ｇ（３１.４ミリモル）のメチル−
３−オキソペンタノエートを装入した。反応器を約−５
０℃まで外部的に冷却し、無水のＨＦ２０mlを静的な真
空下で凝縮した。これは基質装填率１７重量％に相当す
る。１０％Ｆ2／０.１％Ｏ2／８９.９％Ｎ2流として約
１.１３当量（４０.２ミリモル）のＦ2を毎分２００ml
反応器に−３０℃で吹き込み、流出物をソーダ石灰洗浄
器に通過させた。Ｆ2の添加後、ソーダ石灰洗浄器を通
じてＨＦ溶媒を排出した。次に反応器を開放し、３０ml
のＨ2Ｏを添加した。次いで混合物をＮａＨＣＯ3で中和
した。生成物をエーテルで抽出した。1ＨＮＭＲおよび
19ＦＮＭＲによって生成物を分析すると転化率１００％
が示された。単離物の収率は、純度９５％のメチル−２
−フルオロ−３−オキソペンタノエート８０重量％であ
った。単離された生成物のラジカル弗素化不純物は全体
で３％であった。
％Ｎ2を使用することにより、ニートなＨＦ中でメチル
−３−オキソペンタノエートを弗素化した。６０mlのＦ
ＥＰ反応器に４.０８ｇ（３１.４ミリモル）のメチル−
３−オキソペンタノエートを装入した。反応器を約−５
０℃まで外部的に冷却し、無水のＨＦ２０mlを静的な真
空下で凝縮した。これは基質装填率１７重量％に相当す
る。１０％Ｆ2／０.１％Ｏ2／８９.９％Ｎ2流として約
１.１３当量（４０.２ミリモル）のＦ2を毎分２００ml
反応器に−３０℃で吹き込み、流出物をソーダ石灰洗浄
器に通過させた。Ｆ2の添加後、ソーダ石灰洗浄器を通
じてＨＦ溶媒を排出した。次に反応器を開放し、３０ml
のＨ2Ｏを添加した。次いで混合物をＮａＨＣＯ3で中和
した。生成物をエーテルで抽出した。1ＨＮＭＲおよび
19ＦＮＭＲによって生成物を分析すると転化率１００％
が示された。単離物の収率は、純度９５％のメチル−２
−フルオロ−３−オキソペンタノエート８０重量％であ
った。単離された生成物のラジカル弗素化不純物は全体
で３％であった。
【００１８】実施例 ８ 以下の手順に従って、１０％Ｆ2／１０％Ｏ2／８０％Ｎ
2を使用することにより、ニートなＨＦ中でメチル−３
−オキソペンタノエートを弗素化した。１００mlのＦＥ
Ｐ反応器に２５.６ｇ（１９７ミリモル）のメチル−３
−オキソペンタノエートを装入した。反応器を約−５０
℃まで外部的に冷却し、無水のＨＦ ４２mlを静的な真
空下で凝縮した。これは基質装填率３８重量％に相当す
る。１０％Ｆ2／１０％Ｏ2／８０％Ｎ2流として約１.１
０当量（２１７ミリモル）のＦ2を毎分３００ml反応器
に−３０℃で吹き込み、流出物をソーダ石灰洗浄器に通
過させた。Ｆ2の添加後、ソーダ石灰洗浄器を通じてＨ
Ｆ溶媒を排出した。次に反応器を開放し、３０mlのＨ2
Ｏを添加した。次いで混合物をＮａＨＣＯ3で中和し
た。生成物をエーテルで抽出した。1ＨＮＭＲおよび19
ＦＮＭＲによって生成物を分析すると転化率１００％が
示された。単離物の収率は、純度８５％のメチル−２−
フルオロ−３−オキソペンタノエート８０重量％であっ
た。単離された生成物のラジカル弗素化不純物は全体で
１１％であった。
2を使用することにより、ニートなＨＦ中でメチル−３
−オキソペンタノエートを弗素化した。１００mlのＦＥ
Ｐ反応器に２５.６ｇ（１９７ミリモル）のメチル−３
−オキソペンタノエートを装入した。反応器を約−５０
℃まで外部的に冷却し、無水のＨＦ ４２mlを静的な真
空下で凝縮した。これは基質装填率３８重量％に相当す
る。１０％Ｆ2／１０％Ｏ2／８０％Ｎ2流として約１.１
０当量（２１７ミリモル）のＦ2を毎分３００ml反応器
に−３０℃で吹き込み、流出物をソーダ石灰洗浄器に通
過させた。Ｆ2の添加後、ソーダ石灰洗浄器を通じてＨ
Ｆ溶媒を排出した。次に反応器を開放し、３０mlのＨ2
Ｏを添加した。次いで混合物をＮａＨＣＯ3で中和し
た。生成物をエーテルで抽出した。1ＨＮＭＲおよび19
ＦＮＭＲによって生成物を分析すると転化率１００％が
示された。単離物の収率は、純度８５％のメチル−２−
フルオロ−３−オキソペンタノエート８０重量％であっ
た。単離された生成物のラジカル弗素化不純物は全体で
１１％であった。
【００１９】実施例 ９ 以下の手順に従って、１０％Ｆ2／１０％Ｏ2／８０％Ｎ
2を使用することにより、ニートなＨＦ中でメチル−３
−オキソペンタノエートを弗素化した。１００mlのＦＥ
Ｐ反応器に１５.３ｇ（１１８ミリモル）のメチル−３
−オキソペンタノエートを装入した。反応器を約−５０
℃まで外部的に冷却し、無水のＨＦ２３mlを静的な真空
下で凝縮した。これは基質装填率４０重量％に相当す
る。１０％Ｆ2／１０％Ｏ2／８０％Ｎ2流として約１.０
２当量（１２０ミリモル）のＦ2を毎分３００ml反応器
に−４５℃で吹き込み、流出物をソーダ石灰洗浄器に通
過させた。Ｆ2の添加後、ソーダ石灰洗浄器を通じてＨ
Ｆ溶媒を排出した。次に反応器を開放し、３０mlのＨ2
Ｏを添加した。次いで混合物をＮａＨＣＯ3で中和し
た。生成物をエーテルで抽出した。1ＨＮＭＲおよび19
ＦＮＭＲによって生成物を分析すると転化率９６％が示
された。単離物の収率は、純度９０％のメチル−２−フ
ルオロ−３−オキソペンタノエート８７重量％であっ
た。単離された生成物のラジカル弗素化不純物は全体で
６％であった。
2を使用することにより、ニートなＨＦ中でメチル−３
−オキソペンタノエートを弗素化した。１００mlのＦＥ
Ｐ反応器に１５.３ｇ（１１８ミリモル）のメチル−３
−オキソペンタノエートを装入した。反応器を約−５０
℃まで外部的に冷却し、無水のＨＦ２３mlを静的な真空
下で凝縮した。これは基質装填率４０重量％に相当す
る。１０％Ｆ2／１０％Ｏ2／８０％Ｎ2流として約１.０
２当量（１２０ミリモル）のＦ2を毎分３００ml反応器
に−４５℃で吹き込み、流出物をソーダ石灰洗浄器に通
過させた。Ｆ2の添加後、ソーダ石灰洗浄器を通じてＨ
Ｆ溶媒を排出した。次に反応器を開放し、３０mlのＨ2
Ｏを添加した。次いで混合物をＮａＨＣＯ3で中和し
た。生成物をエーテルで抽出した。1ＨＮＭＲおよび19
ＦＮＭＲによって生成物を分析すると転化率９６％が示
された。単離物の収率は、純度９０％のメチル−２−フ
ルオロ−３−オキソペンタノエート８７重量％であっ
た。単離された生成物のラジカル弗素化不純物は全体で
６％であった。
【００２０】実施例 １０ 以下の手順に従って、１０％Ｆ2／１０％Ｏ2／８０％Ｎ
2を使用することにより、トリフルオロ酢酸（ＴＦＡ）
中でメチル−３−オキソペンタノエートを弗素化した。
１００mlのＦＥＰ反応器に５.２ｇ（４０ミリモル）の
メチル−３−オキソペンタノエートと２９ｇのＴＦＡを
装入した。これは基質装填率１８重量％に相当する。１
０％Ｆ2／１０％Ｏ2／８０％Ｎ2流として約１.２当量
（４８ミリモル）のＦ2を毎分３００ml反応器に−１５
℃で吹き込み、流出物をソーダ石灰洗浄器に通過させ
た。Ｆ2の添加後、ソーダ石灰洗浄器を通じてＴＦＡ溶
媒を排出した。次に反応器を開放し、３０mlのＨ2Ｏを
添加した。次いで混合物をＮａＨＣＯ3で中和した。生
成物をエーテルで抽出した。1ＨＮＭＲおよび19ＦＮＭ
Ｒによって生成物を分析すると転化率９５％が示され
た。単離された生成物は、純度８４％のメチル−２−フ
ルオロ−３−オキソペンタノエートであった。単離され
た生成物のラジカル弗素化不純物は全体で７％であっ
た。
2を使用することにより、トリフルオロ酢酸（ＴＦＡ）
中でメチル−３−オキソペンタノエートを弗素化した。
１００mlのＦＥＰ反応器に５.２ｇ（４０ミリモル）の
メチル−３−オキソペンタノエートと２９ｇのＴＦＡを
装入した。これは基質装填率１８重量％に相当する。１
０％Ｆ2／１０％Ｏ2／８０％Ｎ2流として約１.２当量
（４８ミリモル）のＦ2を毎分３００ml反応器に−１５
℃で吹き込み、流出物をソーダ石灰洗浄器に通過させ
た。Ｆ2の添加後、ソーダ石灰洗浄器を通じてＴＦＡ溶
媒を排出した。次に反応器を開放し、３０mlのＨ2Ｏを
添加した。次いで混合物をＮａＨＣＯ3で中和した。生
成物をエーテルで抽出した。1ＨＮＭＲおよび19ＦＮＭ
Ｒによって生成物を分析すると転化率９５％が示され
た。単離された生成物は、純度８４％のメチル−２−フ
ルオロ−３−オキソペンタノエートであった。単離され
た生成物のラジカル弗素化不純物は全体で７％であっ
た。
【００２１】実施例 １１ 以下の比較例に従って、１０％Ｆ2／９０％Ｎ2を使用す
ることにより、ＴＦＡ中でメチル−３−オキソペンタノ
エートを弗素化した。１００mlのＦＥＰ反応器に５.２
ｇ（４０ミリモル）のメチル−３−オキソペンタノエー
トと２６ｇのＴＦＡを装入した。これは基質装填率２０
重量％に相当する。１０％Ｆ2／９０％Ｎ2流として約
１.５当量（６０ミリモル）のＦ2を毎分３００ml反応器
に−２０℃で吹き込み、流出物をソーダ石灰洗浄器に通
過させた。Ｆ2の添加後、ソーダ石灰洗浄器を通じてＴ
ＦＡ溶媒を排出した。次に反応器を開放し、３０mlのＨ
2Ｏを添加した。次いで混合物をＮａＨＣＯ3で中和し
た。生成物をエーテルで抽出した。1ＨＮＭＲおよび19
ＦＮＭＲによって生成物を分析すると転化率８５％が示
された。単離された生成物は、純度６０％のメチル−２
−フルオロ−３−オキソペンタノエートであった。単離
された生成物のラジカル弗素化不純物は全体で１２％で
あった。
ることにより、ＴＦＡ中でメチル−３−オキソペンタノ
エートを弗素化した。１００mlのＦＥＰ反応器に５.２
ｇ（４０ミリモル）のメチル−３−オキソペンタノエー
トと２６ｇのＴＦＡを装入した。これは基質装填率２０
重量％に相当する。１０％Ｆ2／９０％Ｎ2流として約
１.５当量（６０ミリモル）のＦ2を毎分３００ml反応器
に−２０℃で吹き込み、流出物をソーダ石灰洗浄器に通
過させた。Ｆ2の添加後、ソーダ石灰洗浄器を通じてＴ
ＦＡ溶媒を排出した。次に反応器を開放し、３０mlのＨ
2Ｏを添加した。次いで混合物をＮａＨＣＯ3で中和し
た。生成物をエーテルで抽出した。1ＨＮＭＲおよび19
ＦＮＭＲによって生成物を分析すると転化率８５％が示
された。単離された生成物は、純度６０％のメチル−２
−フルオロ−３−オキソペンタノエートであった。単離
された生成物のラジカル弗素化不純物は全体で１２％で
あった。
【００２２】実施例 １２ 以下の手順に従って、１０％Ｆ2／１０％Ｏ2／８０％Ｎ
2を使用することにより、蟻酸中でメチル−３−オキソ
ペンタノエートを弗素化した。１００mlのＦＥＰ反応器
に７.２ｇ（５５ミリモル）のメチル−３−オキソペン
タノエートと２６ｇの蟻酸を装入した。これは基質装填
率２２重量％に相当する。１０％Ｆ2／１０％Ｏ2／８０
％Ｎ2流として約１.０６当量（５９ミリモル）のＦ2を
毎分３００ml反応器に５℃で吹き込み、流出物をソーダ
石灰洗浄器に通過させた。Ｆ2の添加後、反応器を開放
し、３０mlのＨ2Ｏを添加した。次いで混合物をＮａＨ
ＣＯ3で中和した。生成物をエーテルで抽出した。1ＨＮ
ＭＲおよび19ＦＮＭＲによって生成物を分析すると転化
率９８％が示された。単離された生成物は、純度８８％
のメチル−２−フルオロ−３−オキソペンタノエート７
５％であった。単離された生成物のラジカル弗素化不純
物は全体で７％であった。
2を使用することにより、蟻酸中でメチル−３−オキソ
ペンタノエートを弗素化した。１００mlのＦＥＰ反応器
に７.２ｇ（５５ミリモル）のメチル−３−オキソペン
タノエートと２６ｇの蟻酸を装入した。これは基質装填
率２２重量％に相当する。１０％Ｆ2／１０％Ｏ2／８０
％Ｎ2流として約１.０６当量（５９ミリモル）のＦ2を
毎分３００ml反応器に５℃で吹き込み、流出物をソーダ
石灰洗浄器に通過させた。Ｆ2の添加後、反応器を開放
し、３０mlのＨ2Ｏを添加した。次いで混合物をＮａＨ
ＣＯ3で中和した。生成物をエーテルで抽出した。1ＨＮ
ＭＲおよび19ＦＮＭＲによって生成物を分析すると転化
率９８％が示された。単離された生成物は、純度８８％
のメチル−２−フルオロ−３−オキソペンタノエート７
５％であった。単離された生成物のラジカル弗素化不純
物は全体で７％であった。
【００２３】実施例 １３ 以下の比較例に従って、１０％Ｆ2／９０％Ｎ2を使用す
ることにより、蟻酸中でメチル−３−オキソペンタノエ
ートを弗素化した。１００mlのＦＥＰ反応器に７.０ｇ
（５４ミリモル）のメチル−３−オキソペンタノエート
と２５ｇの蟻酸を装入した。これは基質装填率２２重量
％に相当する。１０％Ｆ2／１０％Ｏ2／８０％Ｎ2流と
して約１.０４当量（５６ミリモル）のＦ2を毎分３００
ml反応器に５℃で吹き込み、流出物をソーダ石灰洗浄器
に通過させた。Ｆ2の添加後、反応器を開放し、３０ml
のＨ2Ｏを添加した。次いで混合物をＮａＨＣＯ3で中和
した。生成物をエーテルで抽出した。1ＨＮＭＲおよび
19ＦＮＭＲによって生成物を分析すると転化率６９％が
示された。単離された生成物は、純度５５％のメチル−
２−フルオロ−３−オキソペンタノエート７７％であっ
た。単離された生成物のラジカル弗素化不純物は全体で
８％であった。
ることにより、蟻酸中でメチル−３−オキソペンタノエ
ートを弗素化した。１００mlのＦＥＰ反応器に７.０ｇ
（５４ミリモル）のメチル−３−オキソペンタノエート
と２５ｇの蟻酸を装入した。これは基質装填率２２重量
％に相当する。１０％Ｆ2／１０％Ｏ2／８０％Ｎ2流と
して約１.０４当量（５６ミリモル）のＦ2を毎分３００
ml反応器に５℃で吹き込み、流出物をソーダ石灰洗浄器
に通過させた。Ｆ2の添加後、反応器を開放し、３０ml
のＨ2Ｏを添加した。次いで混合物をＮａＨＣＯ3で中和
した。生成物をエーテルで抽出した。1ＨＮＭＲおよび
19ＦＮＭＲによって生成物を分析すると転化率６９％が
示された。単離された生成物は、純度５５％のメチル−
２−フルオロ−３−オキソペンタノエート７７％であっ
た。単離された生成物のラジカル弗素化不純物は全体で
８％であった。
【００２４】実施例 １４ 以下の手順に従って、１０％Ｆ2／１０％Ｏ2／８０％Ｎ
2を使用することにより、トリフリック酸中でメチル−
３−オキソペンタノエートを弗素化した。６０mlのＦＥ
Ｐ反応器に８.２７ｇ（６３.６ミリモル）のメチル−３
−オキソペンタノエートと１.０８ｇのトリフリック酸
を装入した。これは基質装填率８８重量％に相当する。
１０％Ｆ2／１０％Ｏ2／８０％Ｎ2流として約１.２１当
量（７７ミリモル）のＦ2を毎分１００ml反応器に０℃
で吹き込み、流出物をソーダ石灰洗浄器に通過させた。
Ｆ2の添加後、ソーダ石灰洗浄器を通じてトリフリック
酸溶媒を排出した。次に反応器を開放し、３０mlのＨ2
Ｏを添加した。次いで混合物をＮａＨＣＯ3で中和し
た。生成物をエーテルで抽出した。1ＨＮＭＲおよび19
ＦＮＭＲによって生成物を分析すると転化率８６％が示
された。単離された生成物は、純度７２％のメチル−２
−フルオロ−３−オキソペンタノエートであった。単離
された生成物のラジカル弗素化不純物は全体で１３％で
あった。
2を使用することにより、トリフリック酸中でメチル−
３−オキソペンタノエートを弗素化した。６０mlのＦＥ
Ｐ反応器に８.２７ｇ（６３.６ミリモル）のメチル−３
−オキソペンタノエートと１.０８ｇのトリフリック酸
を装入した。これは基質装填率８８重量％に相当する。
１０％Ｆ2／１０％Ｏ2／８０％Ｎ2流として約１.２１当
量（７７ミリモル）のＦ2を毎分１００ml反応器に０℃
で吹き込み、流出物をソーダ石灰洗浄器に通過させた。
Ｆ2の添加後、ソーダ石灰洗浄器を通じてトリフリック
酸溶媒を排出した。次に反応器を開放し、３０mlのＨ2
Ｏを添加した。次いで混合物をＮａＨＣＯ3で中和し
た。生成物をエーテルで抽出した。1ＨＮＭＲおよび19
ＦＮＭＲによって生成物を分析すると転化率８６％が示
された。単離された生成物は、純度７２％のメチル−２
−フルオロ−３−オキソペンタノエートであった。単離
された生成物のラジカル弗素化不純物は全体で１３％で
あった。
【００２５】実施例 １５ 以下の手順に従って、１０％Ｆ2／１０％Ｏ2／８０％Ｎ
2を使用することにより、ＨＦ中でエチルアセトアセテ
ートを弗素化した。１００mlのＦＥＰ反応器にエチルア
セトアセテート（８０ミリモル）を装入した。反応器を
約−５０℃まで外部的に冷却し、無水のＨＦ ４０mlを
静的な真空下で凝縮した。これは基質装填率２０重量％
に相当する。１０％Ｆ2／１０％Ｏ2／８０％Ｎ2流とし
て約１．１当量のＦ2を毎分３００ml反応器に−３０℃
で吹き込み、流出物をソーダ石灰洗浄器に通過させた。
Ｆ2の添加後、ソーダ石灰洗浄器を通じてＨＦ溶媒を排
出した。次に反応器を開放し、３０mlのＨ2Ｏを添加し
た。次いで混合物をＮａＨＣＯ3で中和した。生成物を
エーテルで抽出した。1ＨＮＭＲおよび19ＦＮＭＲによ
って生成物を分析すると転化率９６％が示された。単離
された生成物は、純度９１％のエチル−２−フルオロア
セトアセテートであった。単離された生成物のラジカル
弗素化不純物は全体で４％であった。
2を使用することにより、ＨＦ中でエチルアセトアセテ
ートを弗素化した。１００mlのＦＥＰ反応器にエチルア
セトアセテート（８０ミリモル）を装入した。反応器を
約−５０℃まで外部的に冷却し、無水のＨＦ ４０mlを
静的な真空下で凝縮した。これは基質装填率２０重量％
に相当する。１０％Ｆ2／１０％Ｏ2／８０％Ｎ2流とし
て約１．１当量のＦ2を毎分３００ml反応器に−３０℃
で吹き込み、流出物をソーダ石灰洗浄器に通過させた。
Ｆ2の添加後、ソーダ石灰洗浄器を通じてＨＦ溶媒を排
出した。次に反応器を開放し、３０mlのＨ2Ｏを添加し
た。次いで混合物をＮａＨＣＯ3で中和した。生成物を
エーテルで抽出した。1ＨＮＭＲおよび19ＦＮＭＲによ
って生成物を分析すると転化率９６％が示された。単離
された生成物は、純度９１％のエチル−２−フルオロア
セトアセテートであった。単離された生成物のラジカル
弗素化不純物は全体で４％であった。
【００２６】実施例 １６ 以下の比較例に従って、１０％Ｆ2／９０％Ｎ2を使用す
ることにより、ＨＦ中でエチルアセトアセテートを弗素
化した。６０mlのＦＥＰ反応器にエチルアセトアセテー
ト（４０ミリモル）を装入した。反応器を約−５０℃ま
で外部的に冷却し、無水のＨＦ ２０mlを静的な真空下
で凝縮した。これは基質装填率２０重量％に相当する。
１０％Ｆ2／９０％Ｎ2流として約１.１当量のＦ2を毎分
３００ml反応器に−３０℃で吹き込み、流出物をソーダ
石灰洗浄器に通過させた。Ｆ2の添加後、ソーダ石灰洗
浄器を通じてＨＦ溶媒を排出した。次に反応器を開放
し、３０mlのＨ2Ｏを添加した。次いで混合物をＮａＨ
ＣＯ3で中和した。生成物をエーテルで抽出した。1ＨＮ
ＭＲおよび19ＦＮＭＲによって生成物を分析すると転化
率９０％が示された。単離された生成物は、純度７３％
のエチル−２−フルオロアセトアセテートであった。単
離された生成物のラジカル弗素化不純物は全体で１６％
であった。
ることにより、ＨＦ中でエチルアセトアセテートを弗素
化した。６０mlのＦＥＰ反応器にエチルアセトアセテー
ト（４０ミリモル）を装入した。反応器を約−５０℃ま
で外部的に冷却し、無水のＨＦ ２０mlを静的な真空下
で凝縮した。これは基質装填率２０重量％に相当する。
１０％Ｆ2／９０％Ｎ2流として約１.１当量のＦ2を毎分
３００ml反応器に−３０℃で吹き込み、流出物をソーダ
石灰洗浄器に通過させた。Ｆ2の添加後、ソーダ石灰洗
浄器を通じてＨＦ溶媒を排出した。次に反応器を開放
し、３０mlのＨ2Ｏを添加した。次いで混合物をＮａＨ
ＣＯ3で中和した。生成物をエーテルで抽出した。1ＨＮ
ＭＲおよび19ＦＮＭＲによって生成物を分析すると転化
率９０％が示された。単離された生成物は、純度７３％
のエチル−２−フルオロアセトアセテートであった。単
離された生成物のラジカル弗素化不純物は全体で１６％
であった。
【００２７】実施例 １７ 以下の手順に従って、１０％Ｆ2／１０％Ｏ2／８０％Ｎ
2を使用することにより、ＨＦ中で２,４−ペンタンジオ
ンを弗素化した。６０mlのＦＥＰ反応器に２,４−ペン
タンジオン（２５ミリモル）を装入した。反応器を約−
５０℃まで外部的に冷却し、無水のＨＦ １５mlを静的
な真空下で凝縮した。これは基質装填率２０重量％に相
当する。１０％Ｆ2／１０％Ｏ2／８０％Ｎ2流として約
１.１当量のＦ2を毎分３００ml反応器に−６５℃で吹き
込み、流出物をソーダ石灰洗浄器に通過させた。Ｆ2の
添加後、ソーダ石灰洗浄器を通じてＨＦ溶媒を排出し
た。次に反応器を開放し、３０mlのＨ2Ｏを添加した。
次いで混合物をＮａＨＣＯ3で中和した。生成物をエー
テルで抽出した。1ＨＮＭＲおよび19ＦＮＭＲによって
生成物を分析すると転化率９８％が示された。単離され
た生成物は、純度９５％の３−フルオロ−２.４−ペン
タンジオンであった。単離された生成物のラジカル弗素
化不純物は全体で３％であった。
2を使用することにより、ＨＦ中で２,４−ペンタンジオ
ンを弗素化した。６０mlのＦＥＰ反応器に２,４−ペン
タンジオン（２５ミリモル）を装入した。反応器を約−
５０℃まで外部的に冷却し、無水のＨＦ １５mlを静的
な真空下で凝縮した。これは基質装填率２０重量％に相
当する。１０％Ｆ2／１０％Ｏ2／８０％Ｎ2流として約
１.１当量のＦ2を毎分３００ml反応器に−６５℃で吹き
込み、流出物をソーダ石灰洗浄器に通過させた。Ｆ2の
添加後、ソーダ石灰洗浄器を通じてＨＦ溶媒を排出し
た。次に反応器を開放し、３０mlのＨ2Ｏを添加した。
次いで混合物をＮａＨＣＯ3で中和した。生成物をエー
テルで抽出した。1ＨＮＭＲおよび19ＦＮＭＲによって
生成物を分析すると転化率９８％が示された。単離され
た生成物は、純度９５％の３−フルオロ−２.４−ペン
タンジオンであった。単離された生成物のラジカル弗素
化不純物は全体で３％であった。
【００２８】実施例 １８ 以下の比較例に従って、１０％Ｆ2／９０％Ｎ2を使用す
ることにより、ＨＦ中で２,４−ペンタンジオンを弗素
化した。６０mlのＦＥＰ反応器に２,４−ペンタンジオ
ン（２５ミリモル）を装入した。反応器を約−５０℃ま
で外部的に冷却し、無水のＨＦ １５mlを静的な真空下
で凝縮した。これは基質装填率２０重量％に相当する。
１０％Ｆ2／９０％Ｎ2流として約１.１当量のＦ2を毎分
３００ml反応器に−６５℃で吹き込み、流出物をソーダ
石灰洗浄器に通過させた。Ｆ2の添加後、ソーダ石灰洗
浄器を通じてＨＦ溶媒を排出した。次に反応器を開放
し、３０mlのＨ2Ｏを添加した。次いで混合物をＮａＨ
ＣＯ3で中和した。生成物をエーテルで抽出した。1ＨＮ
ＭＲおよび19ＦＮＭＲによって生成物を分析すると転化
率９６％が示された。単離された生成物は、純度９３％
の３−フルオロ−２,４−ペンタンジオンであった。単
離された生成物のラジカル弗素化不純物は全体で３％で
あった。
ることにより、ＨＦ中で２,４−ペンタンジオンを弗素
化した。６０mlのＦＥＰ反応器に２,４−ペンタンジオ
ン（２５ミリモル）を装入した。反応器を約−５０℃ま
で外部的に冷却し、無水のＨＦ １５mlを静的な真空下
で凝縮した。これは基質装填率２０重量％に相当する。
１０％Ｆ2／９０％Ｎ2流として約１.１当量のＦ2を毎分
３００ml反応器に−６５℃で吹き込み、流出物をソーダ
石灰洗浄器に通過させた。Ｆ2の添加後、ソーダ石灰洗
浄器を通じてＨＦ溶媒を排出した。次に反応器を開放
し、３０mlのＨ2Ｏを添加した。次いで混合物をＮａＨ
ＣＯ3で中和した。生成物をエーテルで抽出した。1ＨＮ
ＭＲおよび19ＦＮＭＲによって生成物を分析すると転化
率９６％が示された。単離された生成物は、純度９３％
の３−フルオロ−２,４−ペンタンジオンであった。単
離された生成物のラジカル弗素化不純物は全体で３％で
あった。
【００２９】実施例 １９ 以下の手順に従って、１０％Ｆ2／１０％Ｏ2／８０％Ｎ
2を使用することにより、ＣＦＣｌ3中でエチル−４,４,
４−トリフルオロアセトアセテートを弗素化した。６０
mlのＦＥＰ反応器にエチル−４,４,４−トリフルオロア
セトアセテート（２０ミリモル）と１５ｇのＣＦＣｌ3
を装入した。これは基質装填率１５重量％に相当する。
１０％Ｆ2／１０％Ｏ2／８０％Ｎ2流として約１.０当量
のＦ2を毎分３００ml反応器に−２５℃で吹き込み、流
出物をソーダ石灰洗浄器に通過させた。Ｆ2の添加後、
ソーダ石灰洗浄器を通じてＣＦＣｌ3溶媒を排出した。
次に反応器を開放し、３０mlのＨ2Ｏを添加した。次い
で混合物をＮａＨＣＯ3で中和した。生成物をエーテル
で抽出した。1ＨＮＭＲおよび19ＦＮＭＲによって生成
物を分析すると転化率８５％が示された。単離された生
成物は、純度８０％のエチル−２,４,４,４−テトラフ
ルオロアセトアセテートであった。単離された生成物の
ラジカル弗素化不純物は全体で３％であった。
2を使用することにより、ＣＦＣｌ3中でエチル−４,４,
４−トリフルオロアセトアセテートを弗素化した。６０
mlのＦＥＰ反応器にエチル−４,４,４−トリフルオロア
セトアセテート（２０ミリモル）と１５ｇのＣＦＣｌ3
を装入した。これは基質装填率１５重量％に相当する。
１０％Ｆ2／１０％Ｏ2／８０％Ｎ2流として約１.０当量
のＦ2を毎分３００ml反応器に−２５℃で吹き込み、流
出物をソーダ石灰洗浄器に通過させた。Ｆ2の添加後、
ソーダ石灰洗浄器を通じてＣＦＣｌ3溶媒を排出した。
次に反応器を開放し、３０mlのＨ2Ｏを添加した。次い
で混合物をＮａＨＣＯ3で中和した。生成物をエーテル
で抽出した。1ＨＮＭＲおよび19ＦＮＭＲによって生成
物を分析すると転化率８５％が示された。単離された生
成物は、純度８０％のエチル−２,４,４,４−テトラフ
ルオロアセトアセテートであった。単離された生成物の
ラジカル弗素化不純物は全体で３％であった。
【００３０】実施例 ２０ 以下の比較例に従って、１０％Ｆ2／９０％Ｎ2を使用す
ることにより、ＣＦＣｌ3中でエチル−４,４,４−トリ
フルオロアセトアセテートを弗素化した。６０mlのＦＥ
Ｐ反応器にエチル−４,４,４−トリフルオロアセトアセ
テート（２０ミリモル）と１５ｇのＣＦＣｌ3を装入し
た。これは基質装填率１５重量％に相当する。１０％Ｆ
2／９０％Ｎ2流として約１.０当量のＦ2を毎分３００ml
反応器に−２５℃で吹き込み、流出物をソーダ石灰洗浄
器に通過させた。Ｆ2の添加後、ソーダ石灰洗浄器を通
じてＣＦＣｌ3溶媒を排出した。次に反応器を開放し、
３０mlのＨ2Ｏを添加した。次いで混合物をＮａＨＣＯ3
で中和した。生成物をエーテルで抽出した。1ＨＮＭＲ
および19ＦＮＭＲによって生成物を分析すると転化率８
０％が示された。単離された生成物は、純度４５％のエ
チル−２,４,４,４−テトラフルオロアセトアセテート
であった。単離された生成物のラジカル弗素化不純物は
全体で３０％であった。
ることにより、ＣＦＣｌ3中でエチル−４,４,４−トリ
フルオロアセトアセテートを弗素化した。６０mlのＦＥ
Ｐ反応器にエチル−４,４,４−トリフルオロアセトアセ
テート（２０ミリモル）と１５ｇのＣＦＣｌ3を装入し
た。これは基質装填率１５重量％に相当する。１０％Ｆ
2／９０％Ｎ2流として約１.０当量のＦ2を毎分３００ml
反応器に−２５℃で吹き込み、流出物をソーダ石灰洗浄
器に通過させた。Ｆ2の添加後、ソーダ石灰洗浄器を通
じてＣＦＣｌ3溶媒を排出した。次に反応器を開放し、
３０mlのＨ2Ｏを添加した。次いで混合物をＮａＨＣＯ3
で中和した。生成物をエーテルで抽出した。1ＨＮＭＲ
および19ＦＮＭＲによって生成物を分析すると転化率８
０％が示された。単離された生成物は、純度４５％のエ
チル−２,４,４,４−テトラフルオロアセトアセテート
であった。単離された生成物のラジカル弗素化不純物は
全体で３０％であった。
【００３１】実施例 ２１ 以下の手順に従って、２％Ｆ2／１８％Ｏ2／８０％Ｎ2
を使用することにより、エチル−４,４,４−トリフルオ
ロアセトアセテートを弗素化した。６０mlのＦＥＰ反応
器にエチル−４,４,４−トリフルオロアセトアセテート
（２０ミリモル）を装入した。２％Ｆ2／１８％Ｏ2／８
０％Ｎ2流として約１.０当量のＦ2を毎分３００ml反応
器に−３０℃で吹き込み、流出物をソーダ石灰洗浄器に
通過させた。次に反応器を開放し、３０mlのＨ2Ｏを添
加した。次いで混合物をＮａＨＣＯ3で中和した。生成
物をエーテルで抽出した。1ＨＮＭＲおよび19ＦＮＭＲ
によって生成物を分析すると転化率７５％が示された。
単離された生成物は、純度６５％のエチル−２,４,４,
４−テトラフルオロアセトアセテートであった。単離さ
れた生成物のラジカル弗素化不純物は全体で５％であっ
た。
を使用することにより、エチル−４,４,４−トリフルオ
ロアセトアセテートを弗素化した。６０mlのＦＥＰ反応
器にエチル−４,４,４−トリフルオロアセトアセテート
（２０ミリモル）を装入した。２％Ｆ2／１８％Ｏ2／８
０％Ｎ2流として約１.０当量のＦ2を毎分３００ml反応
器に−３０℃で吹き込み、流出物をソーダ石灰洗浄器に
通過させた。次に反応器を開放し、３０mlのＨ2Ｏを添
加した。次いで混合物をＮａＨＣＯ3で中和した。生成
物をエーテルで抽出した。1ＨＮＭＲおよび19ＦＮＭＲ
によって生成物を分析すると転化率７５％が示された。
単離された生成物は、純度６５％のエチル−２,４,４,
４−テトラフルオロアセトアセテートであった。単離さ
れた生成物のラジカル弗素化不純物は全体で５％であっ
た。
【００３２】実施例 ２２ 以下の比較例に従って、２％Ｆ2／９８％Ｎ2を使用する
ことにより、エチル−４,４,４−トリフルオロアセトア
セテートを弗素化した。６０mlのＦＥＰ反応器にエチル
−４,４,４−トリフルオロアセトアセテート（２０ミリ
モル）を装入した。２％Ｆ2／９８％Ｎ2流として約１.
０当量のＦ2を毎分３００ml反応器に−４０℃で吹き込
み、流出物をソーダ石灰洗浄器に通過させた。次に反応
器を開放し、３０mlのＨ2Ｏを添加した。次いで混合物
をＮａＨＣＯ3で中和した。生成物をエーテルで抽出し
た。1ＨＮＭＲおよび19ＦＮＭＲによって生成物を分析
すると転化率８０％が示された。単離された生成物は、
純度５％未満のエチル−２,４,４,４−テトラフルオロ
アセトアセテートであった。単離された生成物のラジカ
ル弗素化不純物は全体で８０％であった。
ことにより、エチル−４,４,４−トリフルオロアセトア
セテートを弗素化した。６０mlのＦＥＰ反応器にエチル
−４,４,４−トリフルオロアセトアセテート（２０ミリ
モル）を装入した。２％Ｆ2／９８％Ｎ2流として約１.
０当量のＦ2を毎分３００ml反応器に−４０℃で吹き込
み、流出物をソーダ石灰洗浄器に通過させた。次に反応
器を開放し、３０mlのＨ2Ｏを添加した。次いで混合物
をＮａＨＣＯ3で中和した。生成物をエーテルで抽出し
た。1ＨＮＭＲおよび19ＦＮＭＲによって生成物を分析
すると転化率８０％が示された。単離された生成物は、
純度５％未満のエチル−２,４,４,４−テトラフルオロ
アセトアセテートであった。単離された生成物のラジカ
ル弗素化不純物は全体で８０％であった。
【００３３】以上の実施例の結果を、Ｎukuiらの実施例
とともに以下の表に要約した。
とともに以下の表に要約した。
【表１】
【００３４】本発明を詳細に、またその特定の実施例を
引用して説明してきたが、本発明の趣意および範囲から
逸脱することなく本発明でいろいろな変更および修正が
なされうることは当業者にとって明らかである。
引用して説明してきたが、本発明の趣意および範囲から
逸脱することなく本発明でいろいろな変更および修正が
なされうることは当業者にとって明らかである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ウィリアム・ジャック・カスティール・ジ ュニア アメリカ合衆国ペンシルベニア州18049. エマウス．コールドストリームサークル 1080．アパートメント・エル (72)発明者 ウェイド・エイチ・ベイリー・ザサード アメリカ合衆国ペンシルベニア州18062. マキュンジー．ウェストチェスナットスト リート70
Claims (18)
- 【請求項１】 β−ジカルボニル化合物を弗素で直接に
弗素化してα−弗素化−β−ジカルボニル化合物を生成
することからなり、この直接弗素化が反応性媒体中で実
施されるα−弗素化−β−ジカルボニル化合物の製造方
法。 - 【請求項２】 反応性媒体が、弗素と酸添加剤との副反
応を防止するラジカルスカベンジャーを含む請求項１記
載の方法。 - 【請求項３】 反応媒体が酸素を含む請求項１記載の方
法。 - 【請求項４】 β−ジカルボニル化合物１当量あたり弗
素を２.５当量未満添加する請求項１記載の方法。 - 【請求項５】 β−ジカルボニル化合物１当量あたり弗
素を１.６当量未満添加する請求項１記載の方法。 - 【請求項６】 β−ジカルボニル化合物１当量あたり弗
素を１.３当量未満添加する請求項１記載の方法。 - 【請求項７】 １５％未満の弗素化不純物をさらに生成
する請求項１記載の方法。 - 【請求項８】 １０％未満の弗素化不純物をさらに生成
する請求項１記載の方法。 - 【請求項９】 ５％未満のラジカル弗素化不純物をさら
に生成する請求項１記載の方法。 - 【請求項１０】 α−弗素化−β−ジカルボニル化合物
の純度が少なくとも９０％である請求項１記載の方法。 - 【請求項１１】 α−弗素化−β−ジカルボニル化合物
の純度が約９０〜約９６％である請求項１の方法。 - 【請求項１２】 約１〜約５０％のＦ2、約０.１〜約５
０％のＯ2および約０〜９９％のＮ2からなるガス混合物
にα−弗素化−β−ジカルボニル化合物を接触すること
をさらに含む請求項１記載の方法。 - 【請求項１３】 約５〜約２５％のＦ2、約１〜約２５
％のＯ2および約５０〜９５％のＮ2からなるガス混合物
にα−弗素化−β−ジカルボニル化合物を接触すること
をさらに含む請求項１記載の方法。 - 【請求項１４】 約１０〜約２０％のＦ2、約１０〜約
２０％のＯ2および約６０〜約８０％のＮ2からなるガス
混合物にα−弗素化−β−ジカルボニル化合物を接触す
ることをさらに含む請求項１記載の方法。 - 【請求項１５】 β−ジカルボニル化合物が、Ｒf基を
含むケトエステルであり、溶媒または酸添加剤なしで実
施される請求項１の方法。 - 【請求項１６】 β−ジカルボニル化合物が１,３−ジ
ケトンであり、α−弗素化−β−ジカルボニル化合物が
２−フルオロ−１,３−ジケトンである請求項１記載の
方法。 - 【請求項１７】 β−ジカルボニル化合物がメチル−３
−オキソペンタノエートではない請求項１記載の方法。 - 【請求項１８】 以下の反応スキーム 【化１】 （式中、Ｒ1はＨ、アルキルまたはアルコキシであり、
Ｒ2はＨ、アルキルまたはペルフルオロアルキルであ
り、Ｒ3はＨ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉまたはアルキルである）
によって表される弗素化方法。
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-
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